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JP2008078898A - Variable attenuation circuit - Google Patents

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JP2008078898A JP2006254515A JP2006254515A JP2008078898A JP 2008078898 A JP2008078898 A JP 2008078898A JP 2006254515 A JP2006254515 A JP 2006254515A JP 2006254515 A JP2006254515 A JP 2006254515A JP 2008078898 A JP2008078898 A JP 2008078898A
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attenuation
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bias
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JP2006254515A
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Japanese (ja)
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Takahito Miyazaki
崇仁 宮崎
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • H03G1/00Details of arrangements for controlling amplification
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a variable attenuation circuit strong against variation having linear attenuation control characteristics and excellent noise characteristics on an Si substrate. <P>SOLUTION: The variable attenuation circuit has a signal attenuation part 400 having a MOSFET 411 for variable attenuation in serial with a signal line connecting a signal input terminal 404 with a signal output terminal 405, an attenuation amount control circuit part 401 which controls gate potential of the MOSFET 411 for variable attenuation to adjust an attenuation amount and a source bias circuit part 402 for providing the MOSFET 411 for variable attenuation with a source bias. The source bias circuit part 402 has a MOSFET for bias and source potential of the MOSFET for bias is provided to source potential of the MOSFET for attenuation. In addition, a resistor 424 is added between a back gate and a substrate of the MOSFET 411 for variable attenuation, capacity 403 is added between a gate and an earth terminal and capacity 425 and a switch 426 are added between the source bias circuit part and the earth terminal. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、可変減衰回路およびそれを用いた高周波無線回路システムに関するものである。特に、本発明の可変減衰回路は、各種の無線通信機器において高周波信号の減衰に用いられるものであって、線形な減衰制御特性の実現、ノイズ特性の向上、製造プロセスや温度による素子の電気特性のばらつき補正等を図ったものである。   The present invention relates to a variable attenuation circuit and a high-frequency radio circuit system using the same. In particular, the variable attenuation circuit of the present invention is used for attenuation of high-frequency signals in various wireless communication devices. It realizes linear attenuation control characteristics, improves noise characteristics, and electrical characteristics of elements depending on the manufacturing process and temperature. This is intended to correct the variation of the image.

電界効果トランジスタを用いた半導体集積回路は、近年、通信分野の高周波回路用に開発が進められている。この半導体集積回路ブロックの一つに減衰量制御(利得制御)の必要な減衰回路がある。   In recent years, semiconductor integrated circuits using field-effect transistors have been developed for high-frequency circuits in the communication field. One of the semiconductor integrated circuit blocks is an attenuation circuit that requires attenuation control (gain control).

図2は、GaAsFETを用いた従来の可変減衰回路の構成を示す回路図である。図2に示すように、従来の可変減衰回路は、信号入力端子(IN)231から入力された高周波信号が直列に挿入された信号減衰用GaAsFET240を含む信号減衰部260により減衰されて、信号出力端子(OUT)232より出力される。また、信号入力端子231から入力された高周波信号は、信号入力端子231と接地端子(GND)236との間に挿入された信号減衰用GaAsFET245を含む信号減衰部261、信号出力端子232と接地端子237との間に挿入された信号減衰用GaAsFET251を含む信号減衰部262によっても減衰されて、信号出力端子232より出力される。   FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional variable attenuation circuit using a GaAsFET. As shown in FIG. 2, the conventional variable attenuating circuit is attenuated by a signal attenuating unit 260 including a signal attenuating GaAsFET 240 into which a high-frequency signal inputted from a signal input terminal (IN) 231 is inserted in series. Output from the terminal (OUT) 232. The high-frequency signal input from the signal input terminal 231 includes a signal attenuation unit 261 including a signal attenuation GaAsFET 245 inserted between the signal input terminal 231 and the ground terminal (GND) 236, a signal output terminal 232, and a ground terminal. The signal is attenuated by the signal attenuating unit 262 including the signal attenuating GaAsFET 251 inserted between the signal output terminal 232 and the signal attenuating unit 262.

この際、減衰量制御端子(Vc)233から入力される減衰量制御信号によって信号減衰用GaAsFET240、245、251の減衰量を制御できる。減衰量制御端子233と信号減衰用GaAsFET240のゲートとの間にはゲートバイアス供給用抵抗255が、減衰量制御端子233と信号減衰用GaAsFET245のソースとの間にはドレインバイアス供給用抵抗259が、減衰量制御端子233と信号減衰用GaAsFET251のソースとの間にはドレインバイアス供給用抵抗256が設けられている。   At this time, the attenuation amount of the signal attenuation GaAsFETs 240, 245, and 251 can be controlled by the attenuation amount control signal input from the attenuation amount control terminal (Vc) 233. A gate bias supply resistor 255 is provided between the attenuation control terminal 233 and the signal attenuation GaAsFET 240, and a drain bias supply resistor 259 is provided between the attenuation control terminal 233 and the signal attenuation GaAsFET 245. A drain bias supply resistor 256 is provided between the attenuation control terminal 233 and the source of the signal attenuation GaAsFET 251.

また、信号減衰用GaAsFET240のソースバイアス供給端子(Vref1)234と信号減衰用GaAsFET240のソース間にはソースバイアス供給用抵抗239が、信号減衰用GaAsFET245、251のゲートバイアス供給端子(Vref2)235と信号減衰用GaAsFET245、251のゲート間にはそれぞれゲートバイアス供給用抵抗257、ゲートバイアス供給用抵抗258が設けられている。   A source bias supply resistor 239 is provided between the source bias supply terminal (Vref 1) 234 of the signal attenuation GaAsFET 240 and the source of the signal attenuation GaAsFET 240, and the gate bias supply terminal (Vref 2) 235 of the signal attenuation GaAsFETs 245 and 251 is connected to the signal. A gate bias supply resistor 257 and a gate bias supply resistor 258 are provided between the gates of the attenuation GaAsFETs 245 and 251, respectively.

信号減衰用GaAsFETの高減衰時の通過特性の周波数依存性を軽減するために、信号減衰用GaAsFET240、245、251のソースとドレイン間には、それぞれ、ドレインバイアス供給用抵抗241、ソース電位供給用抵抗246、ソース電位供給用抵抗252が設けられている。   In order to reduce the frequency dependence of the pass characteristic of the signal attenuation GaAsFET at the time of high attenuation, a drain bias supply resistor 241 and a source potential supply are provided between the source and drain of the signal attenuation GaAsFET 240, 245, 251 respectively. A resistor 246 and a source potential supply resistor 252 are provided.

符号238、242、243、248、249、254はDC遮断容量、符号244、247、250、253は入出力整合用抵抗である。   Reference numerals 238, 242, 243, 248, 249, and 254 are DC blocking capacitors, and reference numerals 244, 247, 250, and 253 are input / output matching resistors.

この可変減衰回路は、減衰量制御端子233から供給される減衰量制御信号を、直列に挿入された信号減衰用GaAsFET240のゲート端子、シャントに挿入された信号減衰用GaAsFET245、251のソース端子に接続することで、1種類の減衰量制御信号で3箇所の減衰用GaAsFET240、245、251を制御することを可能としている。   This variable attenuation circuit connects the attenuation amount control signal supplied from the attenuation amount control terminal 233 to the gate terminal of the signal attenuation GaAsFET 240 inserted in series and the source terminal of the signal attenuation GaAsFETs 245 and 251 inserted in the shunt. This makes it possible to control the three attenuation GaAs FETs 240, 245, and 251 with one type of attenuation control signal.

また、可変減衰回路の状態として、低インピーダンス状態と高インピーダンス状態の2つの状態のみならず、低インピーダンス状態から高インピーダンス状態まで連続的な状態をとることを可能としている。一般に、可変減衰回路は、高減衰状態から低減衰状態にわたって、その制御特性の線形性が要求されるが、減衰量制御端子233の電圧値を連続的に変えることで、信号減衰用GaAsFET240が低抵抗で、信号減衰用GaAsFET245、251が高抵抗の低減衰状態から、信号減衰用GaAsFET240が高抵抗で、信号減衰用GaAsFET245、251が低抵抗の高減衰状態まで所望の減衰量に制御可能であり、線形な制御特性を実現している。
特開2005−27062号公報
In addition, as a state of the variable attenuation circuit, not only two states of a low impedance state and a high impedance state but also a continuous state from a low impedance state to a high impedance state can be taken. In general, the variable attenuation circuit is required to have linear control characteristics from a high attenuation state to a low attenuation state. However, by continuously changing the voltage value of the attenuation amount control terminal 233, the signal attenuation GaAsFET 240 is low. The resistance can be controlled to a desired attenuation from the low attenuation state of the signal attenuation GaAsFETs 245 and 251 to the high attenuation state of the signal attenuation GaAsFETs 245 and 251 having the high resistance and the signal attenuation GaAsFETs 245 and 251 from the low attenuation state. Realizes linear control characteristics.
JP 2005-27062 A

しかしながら、近年、無線回路システムの規模は拡大の傾向をたどっており、従来は、GaAs基板など単独の基板上に構成されていた高周波可変減衰回路も、発振器や混合器等の他の半導体回路と同一のSi半導体基板上に作製されるようになってきた。その結果、GaAsプロセス等に比べると基板抵抗の低いSi基板上に高周波可変減衰回路を作製する必要がでてきた。   However, in recent years, the scale of wireless circuit systems has been on an increasing trend. Conventionally, a high-frequency variable attenuation circuit configured on a single substrate such as a GaAs substrate is also different from other semiconductor circuits such as an oscillator and a mixer. It has come to be produced on the same Si semiconductor substrate. As a result, it has become necessary to produce a high-frequency variable attenuation circuit on a Si substrate having a lower substrate resistance than a GaAs process or the like.

また、近年の無線回路システムの小型化・多機能化に伴い、出力可変範囲の広いUMTS(Universal Mobile Telecommunication System)通信方式と厳格なノイズ特性の要求されるGSM(Global System for Mobile Communications)通信方式のマルチ通信方式に対応した無線回路を作製する必要が出てきたりしてきた。   In addition, with recent miniaturization and multi-functionalization of wireless circuit systems, the UMTS (Universal Mobile Telecommunication System) communication system with a wide output variable range and the GSM (Global System for Mobile Communications) communication system requiring strict noise characteristics It has become necessary to fabricate a wireless circuit compatible with the multi-communication system.

上記のような無線回路システムに対応した可変減衰回路をSi半導体プロセスにて作製する場合、次の5つの課題がある。   When a variable attenuation circuit corresponding to the wireless circuit system as described above is manufactured by the Si semiconductor process, there are the following five problems.

一点目は、Si半導体基板で高周波回路を作製する場合、寄生容量の影響による信号の漏れが問題となっている。可変減衰回路に関しても、高減衰状態において、信号減衰用MOSFETのドレイン−ゲート間、およびゲート−ソース間に発生する寄生容量を介してドレインからソース側へ信号が漏れ、高減衰状態でのアイソレーション特性を悪化させ、減衰制御特性を悪化させている。   First, when a high-frequency circuit is manufactured using a Si semiconductor substrate, signal leakage due to the influence of parasitic capacitance is a problem. Also in the variable attenuation circuit, in the high attenuation state, the signal leaks from the drain to the source side through the parasitic capacitance generated between the drain and gate of the signal attenuation MOSFET and between the gate and the source, and the isolation in the high attenuation state is performed. The characteristic is deteriorated and the attenuation control characteristic is deteriorated.

二点目は、制御回路で発生したノイズが高周波回路に混入することによりノイズ特性が劣化することが問題となっている。可変減衰回路に関しても、制御回路で発生したノイズが信号減衰用MOSFETのゲートを介して高周波信号ラインに混入し、マルチ通信方式に対応した近年の厳しいノイズ特性に満足しないことがあげられる。   The second problem is that noise characteristics deteriorate due to noise generated in the control circuit being mixed into the high frequency circuit. Regarding the variable attenuation circuit, noise generated in the control circuit is mixed into the high-frequency signal line through the gate of the signal attenuation MOSFET, and the recent severe noise characteristics corresponding to the multi-communication system are not satisfied.

三点目は、Si半導体基板で作製する場合、基板抵抗成分が低いことの影響による信号の漏れが問題となっている。可変減衰回路に関しても、高減衰状態において、信号減衰用MOSFETのバックゲートを介して基板に信号が漏れ、減衰制御特性を悪化させている。   Thirdly, in the case of manufacturing with a Si semiconductor substrate, signal leakage due to the low substrate resistance component is a problem. Also in the variable attenuation circuit, in a high attenuation state, a signal leaks to the substrate through the back gate of the signal attenuation MOSFET, and the attenuation control characteristic is deteriorated.

四点目は、製造プロセスや温度変動によるばらつきの影響が挙げられる。可変減衰回路に関しても、より厳しい線形性が要求されるようになり、製造プロセスや温度変動による信号減衰用MOSFETのしきい値電圧ばらつきによって減衰制御特性に関して所望の線形性が満たさなくなるという問題がある。   The fourth point is the influence of variations due to manufacturing processes and temperature fluctuations. As for the variable attenuation circuit, more stringent linearity is required, and there is a problem that the desired linearity is not satisfied with respect to the attenuation control characteristic due to variations in the threshold voltage of the MOSFET for signal attenuation due to the manufacturing process and temperature fluctuation. .

五点目は、Si半導体基板で高周波回路を作製する場合、抵抗の影響による信号の漏れが問題となっている。可変減衰回路に関しても、ソースバイアス、ドレインバイアス供給のためと周波数特性の改善のためにソース−ドレイン間に抵抗を追加する必要があるが、高減衰状態において、この抵抗を介して信号がソース−ドレイン間を伝播し、減衰制御特性が悪化するという問題がある。   The fifth point is that when a high-frequency circuit is manufactured using a Si semiconductor substrate, signal leakage due to the influence of resistance is a problem. As for the variable attenuation circuit, it is necessary to add a resistance between the source and the drain in order to supply the source bias and the drain bias and to improve the frequency characteristics. There is a problem in that the attenuation control characteristics deteriorate due to propagation between the drains.

したがって、本発明の目的は、線形な減衰制御特性、優れたノイズ特性をもち、製造プロセスや温度によるMOSFETのしきい値ばらつきに強い可変減衰回路およびそれを用いた高周波無線回路システムを提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a variable attenuation circuit that has linear attenuation control characteristics and excellent noise characteristics, and that is resistant to variations in MOSFET thresholds due to manufacturing processes and temperature, and a high-frequency radio circuit system using the variable attenuation circuit. It is.

第1の発明の可変減衰回路は、上記課題の一点目、二点目、三点目、四点目を解決した可変減衰回路である。この可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部の間の信号経路に直列に挿入された信号減衰用素子を有する信号減衰部と、前記信号減衰用素子を制御する減衰量制御回路部と、前記信号減衰用素子の製造プロセスや温度ばらつきを補正したバイアスを与えるバイアス回路部とを有し、前記信号減衰用素子と減衰量制御回路の接続部と、接地端子との間に容量を有し、前記信号減衰用素子は、減衰量制御回路部で生成された減衰量制御信号に応じた減衰量で高周波信号の減衰を行う構成をしている。   The variable attenuation circuit of the first invention is a variable attenuation circuit that solves the first, second, third, and fourth points of the above-mentioned problem. The variable attenuation circuit includes a signal attenuation unit having a signal attenuation element inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit, an attenuation amount control circuit unit for controlling the signal attenuation element, A bias circuit unit that applies a bias that corrects the manufacturing process of the signal attenuating element and temperature variations, and a capacitor is provided between the connection part of the signal attenuating element and the attenuation amount control circuit, and a ground terminal. The signal attenuating element is configured to attenuate the high frequency signal with an attenuation amount corresponding to the attenuation amount control signal generated by the attenuation amount control circuit unit.

上記構成において、信号減衰用素子は一般にFET、特にMOSFETが好ましく、信号減衰用素子を制御する減衰量制御回路部は、FETのゲート端子に接続され、バイアス回路部は、信号減衰用FETと同じ製造プロセス・温度変動ばらつきを持つFETを用いて構成されてソースバイアス抵抗、ドレインバイアス抵抗を介して信号減衰用FETのソース端子、ドレイン端子に接続され、前記容量は信号減衰用FETのゲート端子と接地端子間に挿入されている。また、信号減衰用FETのウェルはトリプルウェル構造をしており、バックゲートと基板間に高抵抗が挿入されている。   In the above configuration, the signal attenuating element is generally an FET, in particular a MOSFET. The attenuation control circuit for controlling the signal attenuating element is connected to the gate terminal of the FET, and the bias circuit is the same as the signal attenuating FET. It is configured using a FET having a manufacturing process / temperature variation variation, and is connected to a source terminal and a drain terminal of the signal attenuation FET via a source bias resistor and a drain bias resistor, and the capacitor is connected to a gate terminal of the signal attenuation FET. Inserted between ground terminals. The well of the signal attenuating FET has a triple well structure, and a high resistance is inserted between the back gate and the substrate.

この構成によれば、前記信号減衰用FETのゲート端子と接地端子との間に容量を有したことで、ドレインーゲート間の容量、ゲートーソース間の容量を介して信号が漏れる経路を遮断し、高アイソレーション時の減衰特性を向上させることができる。また同構成をとることにより、抵抗等で構成される減衰量制御回路部で発生したノイズがゲートを介して高周波信号ラインに混入するのを防ぎ、ノイズ特性を向上させることができる。その結果、一点目、二点目の課題が解決できる。   According to this configuration, by having a capacitance between the gate terminal and the ground terminal of the signal attenuating FET, the signal-leakage path is blocked through the drain-gate capacitance, the gate-source capacitance, The attenuation characteristic at the time of high isolation can be improved. Further, by adopting the same configuration, it is possible to prevent noise generated in the attenuation amount control circuit unit constituted by resistors and the like from being mixed into the high-frequency signal line through the gate, and to improve noise characteristics. As a result, the first and second problems can be solved.

また、信号減衰用FETのウェルをトリプルウェル構造にし、バックゲートと基板間に高抵抗を挿入したことで、バックゲートを介して基板に信号が漏れる経路を遮断し、減衰制御特性を向上させることができる。その結果、三点目の課題が解決できる。   In addition, the well of the signal attenuation FET has a triple well structure, and a high resistance is inserted between the back gate and the substrate, so that the signal leakage path to the substrate through the back gate is blocked and the attenuation control characteristic is improved. Can do. As a result, the third problem can be solved.

さらに、信号減衰用FETと同じ製造プロセス・温度変動のしきい値ばらつきを持つFETを用いて構成されたバイアス回路部で信号減衰用FETのソースバイアスを与えることで、信号減衰用FETのしきい値の製造プロセスや温度ばらつきを補正することができる。その結果、四点目の課題が解決できる。この場合、(ソース)バイアス回路部で生成されるバイアス値は、信号減衰用FETのしきい値電圧が製造プロセス・温度変動によって増加したときには減少し、逆に信号減衰用FETのしきい値電圧が減少したときには増加するように制御されることが好ましい。   Furthermore, the threshold of the signal attenuating FET is provided by applying the source bias of the signal attenuating FET in a bias circuit unit configured using an FET having the same manufacturing process and temperature fluctuation threshold variation as the signal attenuating FET. Value manufacturing process and temperature variations can be corrected. As a result, the fourth problem can be solved. In this case, the bias value generated in the (source) bias circuit section decreases when the threshold voltage of the signal attenuating FET increases due to the manufacturing process and temperature fluctuation, and conversely, the threshold voltage of the signal attenuating FET. It is preferable to control to increase when the value decreases.

前記の四点の改善効果を組み合わせることで、信号やノイズの漏れ経路の遮断、およびしきい値電圧の安定化が達成でき、トランジスタの持つ本来の性能を生かすことが可能となる。その結果、連続的に変化する如何なる減衰状態においても線形な減衰制御特性が実現でき、優れたノイズ特性を持ったばらつきに強い可変減衰回路が実現できる。   By combining the four points of the improvement effects, it is possible to achieve the blocking of the signal and noise leakage paths and the stabilization of the threshold voltage, and the original performance of the transistor can be utilized. As a result, a linear attenuation control characteristic can be realized in any attenuation state that continuously changes, and a variable attenuation circuit having excellent noise characteristics and resistant to variations can be realized.

第2の発明の可変減衰回路は、上記課題の二点目、三点目、四点目を解決した可変減衰回路である。この可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部の間の信号経路から接地端子に挿入された信号減衰用素子を有する信号減衰部と、前記信号減衰用素子を制御する減衰量制御回路部と、前記信号減衰用素子の製造プロセスや温度ばらつきを補正したバイアスを与えるバイアス回路部とを有し、前記信号減衰用素子と減衰量制御回路部の接続部と、接地端子との間に容量を有し、前記信号減衰用素子は、減衰量制御回路部で生成された減衰量制御信号に応じた減衰量で高周波信号の減衰を行う構成をしている。   A variable attenuation circuit according to a second aspect of the invention is a variable attenuation circuit that solves the second, third, and fourth points of the above-described problem. The variable attenuation circuit includes a signal attenuation unit having a signal attenuation element inserted into a ground terminal from a signal path between the signal input unit and the signal output unit, and an attenuation amount control circuit unit that controls the signal attenuation element. A bias circuit unit that applies a bias that corrects the manufacturing process of the signal attenuating element and temperature variations, and a capacitor is connected between the connection part of the signal attenuating element and the attenuation control circuit unit, and a ground terminal. The signal attenuating element has a configuration for attenuating the high frequency signal with an attenuation amount corresponding to the attenuation amount control signal generated by the attenuation amount control circuit unit.

上記構成において、信号減衰用素子は一般にFETが好ましく、信号減衰用要素を制御する減衰量制御回路部は、FETのソース端子に接続され、バイアス回路部は、信号減衰用FETと同じ製造プロセス・温度変動ばらつきを持つFETを用いて構成されて信号減衰用FETのゲート端子に接続され、前記容量は信号減衰用FETのゲート端子と接地端子間に挿入されている。また、信号減衰用FETのウェルはトリプルウェル構造をしており、バックゲートと基板間に高抵抗が挿入されている。   In the above configuration, the signal attenuating element is generally an FET, the attenuation control circuit unit for controlling the signal attenuating element is connected to the source terminal of the FET, and the bias circuit unit is the same manufacturing process as the signal attenuating FET. The signal attenuating FET is configured by using an FET having temperature fluctuation variation, and the capacitor is inserted between the gate terminal of the signal attenuating FET and the ground terminal. The well of the signal attenuating FET has a triple well structure, and a high resistance is inserted between the back gate and the substrate.

この構成によれば、前記信号減衰用FETのゲート端子と接地端子との間に容量を有したことで、抵抗等で構成されるゲートバイアス回路部で発生したノイズがゲートを介して高周波信号ラインに混入するのを防ぎ、ノイズ特性を向上させることができる。その結果、二点目の課題が解決できる。   According to this configuration, since the capacitance is provided between the gate terminal and the ground terminal of the signal attenuating FET, noise generated in the gate bias circuit unit configured by a resistor or the like is transmitted through the gate to the high frequency signal line. Can be prevented, and noise characteristics can be improved. As a result, the second problem can be solved.

また、信号減衰用FETのウェルをトリプルウェル構造にし、バックゲートと基板間に高抵抗を挿入したことで、バックゲートを介して基板に信号が漏れる経路を遮断し、減衰制御特性を向上させることができる。その結果、三点目の課題が解決できる。   In addition, the well of the signal attenuation FET has a triple well structure, and a high resistance is inserted between the back gate and the substrate, so that the signal leakage path to the substrate through the back gate is blocked and the attenuation control characteristic is improved. Can do. As a result, the third problem can be solved.

さらに、信号減衰用FETと同じ製造プロセス・温度変動のしきい値ばらつきを持つFETを用いて構成されたバイアス回路部で信号減衰用FETのゲートバイアスを与えることで、信号減衰用FETのしきい値の製造プロセスや温度ばらつきを補正することができる。その結果、四点目の課題が解決できる。この場合、(ゲート)バイアス回路部で生成されるバイアス値は、信号減衰用FETのしきい値電圧が製造プロセス・温度変動によって増加したときには増加し、逆に信号減衰用FETのしきい値電圧が減少したときには減少するように制御されることが好ましい。   Furthermore, the threshold of the signal attenuating FET is provided by applying a gate bias of the signal attenuating FET in a bias circuit unit configured using an FET having the same manufacturing process and temperature fluctuation threshold variation as the signal attenuating FET. Value manufacturing process and temperature variations can be corrected. As a result, the fourth problem can be solved. In this case, the bias value generated in the (gate) bias circuit section increases when the threshold voltage of the signal attenuating FET increases due to the manufacturing process and temperature fluctuation, and conversely, the threshold voltage of the signal attenuating FET. It is preferable to control to decrease when the value decreases.

前記の三点の改善効果を組み合わせることで、信号やノイズの漏れ経路の遮断、およびしきい値電圧の安定化が達成でき、トランジスタの持つ本来の性能を生かすことが可能となる。その結果、連続的に変化する如何なる減衰状態においても線形な減衰制御特性が実現でき、優れたノイズ特性を持ったばらつきに強い可変減衰回路が実現できる。   By combining the above three improvements, signal and noise leakage paths and threshold voltage stabilization can be achieved, and the original performance of the transistor can be utilized. As a result, a linear attenuation control characteristic can be realized in any attenuation state that continuously changes, and a variable attenuation circuit having excellent noise characteristics and resistant to variations can be realized.

第3の発明の可変減衰回路は、上記課題の一点目、二点目、三点目、四点目、五点目を解決した可変減衰回路である。この可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部の間の信号経路に直列に挿入された信号減衰用素子を有する信号減衰部と、前記信号減衰用素子を制御する減衰量制御回路部と、前記信号減衰用素子の製造プロセスや温度ばらつきを補正したバイアスを与えるバイアス回路部とを有し、前記信号減衰用素子と減衰量制御回路の接続部と、接地端子との間に容量を有し、前記信号減衰用素子とバイアス回路部の接続部と、接地端子との間に容量とスイッチを有し、前記信号減衰用素子は、減衰量制御回路部で生成された減衰量制御信号に応じた減衰量で高周波信号の減衰を行う構成をしている。   A variable attenuation circuit according to a third aspect of the present invention is a variable attenuation circuit that solves the first, second, third, fourth, and fifth points of the above problem. The variable attenuation circuit includes a signal attenuation unit having a signal attenuation element inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit, an attenuation amount control circuit unit for controlling the signal attenuation element, A bias circuit unit that applies a bias that corrects the manufacturing process of the signal attenuating element and temperature variations, and a capacitor is provided between the connection part of the signal attenuating element and the attenuation amount control circuit, and a ground terminal. A capacitor and a switch between a connection portion of the signal attenuation element and the bias circuit section and a ground terminal, the signal attenuation element corresponding to the attenuation control signal generated by the attenuation control circuit section The high frequency signal is attenuated by the amount of attenuation.

上記構成において、信号減衰用素子は一般にFETが好ましく、信号減衰用素子を制御する減衰量制御回路部は、FETのゲート端子に接続され、バイアス回路部は、信号減衰用FETと同じ製造プロセス・温度変動ばらつきを持つFETを用いて構成されてソースバイアス抵抗、ドレインバイアス抵抗を介して信号減衰用FETのソース端子、ドレイン端子に接続される。前記信号減衰用素子と減衰量制御回路の接続部に付加された容量は信号減衰用FETのゲート端子と接地端子間に挿入されており、前記信号減衰用素子とバイアス回路部の接続部に付加された容量は信号減衰用FETのソースバイアス抵抗とドレインバイアス抵抗の接続部と接地端子間に挿入されている。また、信号減衰用FETのウェルはトリプルウェル構造をしており、バックゲートと基板間に高抵抗が挿入されている。   In the above configuration, the signal attenuating element is generally preferably an FET, the attenuation control circuit unit for controlling the signal attenuating element is connected to the gate terminal of the FET, and the bias circuit unit is the same manufacturing process as the signal attenuating FET. It is configured by using an FET having a variation in temperature, and is connected to the source terminal and the drain terminal of the signal attenuating FET through a source bias resistor and a drain bias resistor. The capacitance added to the connection part between the signal attenuation element and the attenuation control circuit is inserted between the gate terminal and the ground terminal of the signal attenuation FET and added to the connection part between the signal attenuation element and the bias circuit part. The capacitance thus inserted is inserted between the connection portion of the source bias resistor and the drain bias resistor of the signal attenuating FET and the ground terminal. The well of the signal attenuating FET has a triple well structure, and a high resistance is inserted between the back gate and the substrate.

この構成によれば、前記信号減衰用FETのゲート端子と接地端子との間に容量を有したことで、ドレインーゲート間の容量、ゲートーソース間の容量を介して信号が漏れる経路を遮断し、高アイソレーション時の減衰特性を向上させることができる。また同構成をとることにより、抵抗等で構成される減衰量制御回路部で発生したノイズがゲートを介して高周波信号ラインに混入するのを防ぎ、ノイズ特性を向上させることができる。その結果、一点目、二点目の課題が解決できる。   According to this configuration, by having a capacitance between the gate terminal and the ground terminal of the signal attenuating FET, the signal-leakage path is blocked through the drain-gate capacitance, the gate-source capacitance, The attenuation characteristic at the time of high isolation can be improved. Further, by adopting the same configuration, it is possible to prevent noise generated in the attenuation amount control circuit unit constituted by resistors and the like from being mixed into the high-frequency signal line through the gate, and to improve noise characteristics. As a result, the first and second problems can be solved.

また、信号減衰用FETのウェルをトリプルウェル構造にし、バックゲートと基板間に高抵抗を挿入したことで、バックゲートを介して基板に信号が漏れる経路を遮断し、減衰制御特性を向上させることができる。その結果、三点目の課題が解決できる。
さらに、信号減衰用FETと同じ製造プロセス・温度変動のしきい値ばらつきを持つFETを用いて構成されたバイアス回路部で信号減衰用FETのソースバイアスを与えることで、信号減衰用FETのしきい値の製造プロセスや温度ばらつきを補正することができる。その結果、四点目の課題が解決できる。この場合、(ソース)バイアス回路部で生成されるバイアス値は、信号減衰用FETのしきい値電圧が製造プロセス・温度変動によって増加したときには減少し、逆に信号減衰用FETのしきい値電圧が減少したときには増加するように制御されることが好ましい。
In addition, the well of the signal attenuation FET has a triple well structure, and a high resistance is inserted between the back gate and the substrate, so that the signal leakage path to the substrate through the back gate is blocked and the attenuation control characteristic is improved. Can do. As a result, the third problem can be solved.
Furthermore, the threshold of the signal attenuating FET is provided by applying the source bias of the signal attenuating FET in a bias circuit unit configured using an FET having the same manufacturing process and temperature fluctuation threshold variation as the signal attenuating FET. Value manufacturing process and temperature variations can be corrected. As a result, the fourth problem can be solved. In this case, the bias value generated in the (source) bias circuit section decreases when the threshold voltage of the signal attenuating FET increases due to the manufacturing process and temperature fluctuation, and conversely, the threshold voltage of the signal attenuating FET. It is preferable to control to increase when the value decreases.

またさらに、前記信号減衰用FETのソースバイアス抵抗とドレインバイアス抵抗の接続部と接地端子間に容量とスイッチを有したことで、ソースバイアス抵抗、ドレインバイアス抵抗を介して、入力端子から出力端子に信号が漏れる経路を遮断し、高アイソレーション時の減衰特性を向上させることができる。その結果、五点目の課題が解決できる。   Furthermore, by having a capacitor and a switch between the source bias resistor and drain bias resistor connection portion of the signal attenuating FET and the ground terminal, the input terminal is changed to the output terminal via the source bias resistor and the drain bias resistor. It is possible to block the signal leakage path and improve the attenuation characteristic at the time of high isolation. As a result, the fifth problem can be solved.

前記五点の改善効果を組み合わせることで、第1の発明の可変減衰回路よりもさらに信号の漏れ経路を遮断でき、第1の発明の回路同等ノイズの漏れ経路の遮断、しきい値電圧の安定化の達成が実現でき、減衰特性、ノイズ特性などトランジスタの持つ本来の性能を最大限生かすことが可能となる。その結果、連続的に変化する如何なる減衰状態においても線形な減衰制御特性が実現でき、優れたノイズ特性を持ったばらつきに強い可変減衰回路が実現できる。   By combining the improvement effects of the above five points, the signal leakage path can be cut off more than the variable attenuation circuit of the first invention, the leakage path of the circuit equivalent noise of the first invention is cut off, and the threshold voltage is stabilized. This makes it possible to achieve the maximum performance of the original characteristics of the transistor, such as attenuation characteristics and noise characteristics. As a result, a linear attenuation control characteristic can be realized in any attenuation state that continuously changes, and a variable attenuation circuit having excellent noise characteristics and resistant to variations can be realized.

第4の発明の高周波無線回路システムは、少なくとも一つの第1または第2または第3の発明の可変減衰回路と少なくとも一つの発振器と少なくとも一つの高周波増幅器とを備えた無線送信装置と、無線送信装置に接続されて無線周波数を送受信する少なくとも一つのアンテナとを備えている。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a radio transmission apparatus including at least one variable attenuation circuit according to the first, second, or third aspect, at least one oscillator, and at least one high-frequency amplifier, and radio transmission. And at least one antenna connected to the apparatus for transmitting and receiving radio frequencies.

この構成によれば、第1または第2または第3の発明と同様の効果を奏する。   According to this configuration, the same effects as those of the first, second, or third invention can be obtained.

以下、請求項毎に説明する。   Hereinafter, each claim will be described.

請求項1記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された信号減衰用素子を有する信号減衰部と、前記信号減衰用素子に減衰量制御信号を与える減衰量制御回路部と、前記信号減衰用素子にバイアスを与えるバイアス回路部と、前記信号減衰用素子と前記減衰量制御回路部との接続部と接地端子との間に接続された容量とを備えている。   The variable attenuating circuit according to claim 1 includes a signal attenuating unit having a signal attenuating element inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit, and an attenuation amount control signal in the signal attenuating element. Attenuation amount control circuit section for providing a bias, a bias circuit section for applying a bias to the signal attenuation element, a capacitance connected between a connection portion between the signal attenuation element and the attenuation amount control circuit section and a ground terminal And.

請求項2記載の可変減衰回路は、請求項1記載の可変減衰回路において、前記信号減衰用素子がFETからなり、前記減衰量制御回路部は前記FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記FETのON抵抗を制御し、前記バイアス回路部は前記FETのソース端子にバイアスを与え、前記容量は前記FETのゲート端子と前記接地端子との間に接続されている。   The variable attenuation circuit according to claim 2 is the variable attenuation circuit according to claim 1, wherein the signal attenuating element is an FET, and the attenuation amount control circuit unit applies an attenuation amount control signal to the gate terminal of the FET. The ON resistance of the FET is controlled, the bias circuit unit applies a bias to the source terminal of the FET, and the capacitor is connected between the gate terminal of the FET and the ground terminal.

請求項3記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された信号減衰用FETを有する信号減衰部と、前記信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記信号減衰用FETのON抵抗を制御する減衰量制御回路部と、前記信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与えるバイアス回路部とを備え、前記バイアス回路部は、前記信号減衰用FETのしきい値電圧ばらつきを補償するバイアス用FETを有する。   The variable attenuation circuit according to claim 3 is a signal attenuator having a signal attenuating FET inserted in series in a signal path between a signal input unit and a signal output unit, and attenuating the gate terminal of the signal attenuating FET. An attenuation amount control circuit unit that provides an amount control signal to control the ON resistance of the signal attenuation FET; and a bias circuit unit that applies a bias to the source terminal of the signal attenuation FET. It has a bias FET that compensates for variations in threshold voltage of the signal attenuating FET.

請求項4記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された信号減衰用FETを有する信号減衰部と、前記信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記信号減衰用FETのON抵抗を制御する減衰量制御回路部と、前記信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与えるバイアス回路部と、前記信号減衰用FETのバックゲート部と基板間に接続された抵抗とを備える。   5. The variable attenuation circuit according to claim 4, wherein a signal attenuation unit having a signal attenuation FET inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit and the gate terminal of the signal attenuation FET are attenuated. Attenuation amount control circuit unit for supplying an amount control signal to control the ON resistance of the signal attenuation FET, a bias circuit unit for applying a bias to the source terminal of the signal attenuation FET, and a back gate unit of the signal attenuation FET And a resistor connected between the substrates.

請求項5記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された信号減衰用FETを有する信号減衰部と、前記信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記信号減衰用FETのON抵抗を制御する減衰量制御回路部と、前記信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与えるバイアス回路部と、前記バイアス回路部と接地端子間に接続された容量もしくは容量とスイッチとを備える。   The variable attenuating circuit according to claim 5 is a signal attenuating unit having a signal attenuating FET inserted in series in a signal path between a signal input unit and a signal output unit, and attenuating the gate terminal of the signal attenuating FET. An attenuation amount control circuit unit that provides an amount control signal to control the ON resistance of the signal attenuation FET, a bias circuit unit that applies a bias to the source terminal of the signal attenuation FET, and between the bias circuit unit and the ground terminal It has a connected capacity or capacity and a switch.

請求項6記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路にFETが挿入接続されてこのFETのゲート端子に与えられる信号によって信号入力部に与えられた信号の減衰量を制御して出力する信号減衰部と、ゲート端子に信号を与えてFETのON抵抗値を異ならせる減衰量制御回路部と、FETのソース端子に一端を接続した抵抗素子の他端と接地端子間に第1の容量素子を接続し、この抵抗素子を介して直流電圧を与えるバイアス回路部と、FETのバックゲート部と接地端子間に接続された抵抗とを備え、ゲート端子と接地端子間に第2の容量素子を接続したことを特徴とする。   6. The variable attenuation circuit according to claim 6, wherein an FET is inserted and connected in a signal path between the signal input unit and the signal output unit, and the signal applied to the signal input unit is attenuated by a signal applied to the gate terminal of the FET. A signal attenuating unit that controls and outputs the amount, an attenuation amount control circuit unit that applies a signal to the gate terminal to vary the ON resistance value of the FET, and the other end of the resistance element having one end connected to the source terminal of the FET and the ground A first capacitive element is connected between the terminals, and a bias circuit section for applying a DC voltage via the resistance element and a resistor connected between the back gate section of the FET and the ground terminal are provided. The gate terminal and the ground terminal A second capacitor element is connected between them.

請求項7記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された信号減衰用素子を有する信号減衰部と、
前記信号減衰用素子に減衰量制御信号を与える減衰量制御回路部と、
前記信号減衰用素子にバイアスを与えるバイアス回路部と、
前記信号減衰用素子と前記バイアス回路部との接続部と前記接地端子との間に接続された容量とを備えている。
The variable attenuation circuit according to claim 7, wherein the signal attenuation unit includes a signal attenuation element inserted between the signal path between the signal input unit and the signal output unit and the ground terminal,
An attenuation control circuit unit for supplying an attenuation control signal to the signal attenuation element;
A bias circuit section for applying a bias to the signal attenuating element;
And a capacitor connected between a connection portion between the signal attenuating element and the bias circuit portion and the ground terminal.

請求項8記載の可変減衰回路は、請求項7記載の可変減衰回路において、前記信号減衰用素子がFETからなり、前記減衰量制御回路部は前記FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記FETのON抵抗を制御し、前記バイアス回路部は前記FETのゲート端子にバイアスを与え、前記容量は前記FETのゲート端子と前記接地端子との間に接続されている。   The variable attenuation circuit according to claim 8 is the variable attenuation circuit according to claim 7, wherein the signal attenuating element is an FET, and the attenuation amount control circuit unit applies an attenuation amount control signal to the drain terminal of the FET. The ON resistance of the FET is controlled, the bias circuit unit applies a bias to the gate terminal of the FET, and the capacitor is connected between the gate terminal of the FET and the ground terminal.

請求項9記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された信号減衰用FETを有する信号減衰部と、前記信号減衰用FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記信号減衰用FETのON抵抗を制御する減衰量制御回路部と、前記信号減衰用FETのゲート端子にバイアスを与えるバイアス回路部とを備え、前記バイアス回路部は、前記信号減衰用FETのしきい値電圧ばらつきを補償するバイアス用FETを有する。   The variable attenuating circuit according to claim 9 includes a signal attenuating unit having a signal attenuating FET inserted between a signal path between the signal input unit and the signal output unit and a ground terminal, and the signal attenuating FET. The bias circuit includes: an attenuation amount control circuit unit that applies an attenuation amount control signal to the drain terminal to control the ON resistance of the signal attenuation FET; and a bias circuit unit that applies a bias to the gate terminal of the signal attenuation FET. The unit includes a bias FET that compensates for variations in threshold voltage of the signal attenuating FET.

請求項10記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された信号減衰用FETを有する信号減衰部と、前記信号減衰用FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記信号減衰用FETのON抵抗を制御する減衰量制御回路部と、前記信号減衰用FETのゲート端子にバイアスを与えるバイアス回路部と、前記信号減衰用FETのバックゲート部と基板間に接続された抵抗とを備える。   The variable attenuation circuit according to claim 10 includes a signal attenuation unit having a signal attenuation FET inserted between a signal path between the signal input unit and the signal output unit and a ground terminal, and the signal attenuation FET. Attenuation amount control circuit unit for applying an attenuation amount control signal to the drain terminal to control the ON resistance of the signal attenuation FET, a bias circuit unit for applying a bias to the gate terminal of the signal attenuation FET, and the signal attenuation FET A back gate portion and a resistor connected between the substrate.

請求項11記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路と交流接地間に第1の容量素子とFETの電流経路端子対が直列に挿入接続されて第1の容量素子とFETの電流経路の一端との接続部に与えられる信号によって信号入力部に与えられた信号の減衰量を制御して出力する信号減衰部と、FETの一端に信号を与えてFETのON抵抗値を異ならせる減衰量制御回路部と、FETのゲート端子に抵抗素子を介して直流電圧を与えるバイアス回路部と、FETのバックゲート部と接地端子間に接続された抵抗とを備え、ゲート端子と接地端子間に第2の容量素子を接続したことを特徴とする。   The variable attenuation circuit according to claim 11 is configured such that a first capacitive element and a current path terminal pair of the FET are inserted and connected in series between the signal path between the signal input unit and the signal output unit and the AC ground. A signal attenuating unit for controlling and outputting the attenuation amount of the signal applied to the signal input unit by a signal applied to the connection part between the capacitive element and one end of the current path of the FET, and a signal applied to one end of the FET Attenuation amount control circuit section that varies the ON resistance value, a bias circuit section that applies a DC voltage to the gate terminal of the FET via a resistance element, and a resistor connected between the back gate section of the FET and the ground terminal, A second capacitor element is connected between the gate terminal and the ground terminal.

請求項12記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された第1の信号減衰用素子を有する第1の信号減衰部と、前記第1の信号減衰用素子に減衰量制御信号を与える第1の減衰量制御回路部と、前記第1の信号減衰用素子にバイアスを与える第1のバイアス回路部と、前記第1の信号減衰用素子と前記第1の減衰量制御回路部との接続部と接地端子との間に接続された第1の容量と、前記信号入力部と前記信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された第2の信号減衰用素子を有する第2の信号減衰部と、前記第2の信号減衰用素子に前記減衰量制御信号を与える第2の減衰量制御回路部と、前記第2の信号減衰用素子にバイアスを与える第2のバイアス回路部と、前記第2の信号減衰用素子と前記第2のバイアス回路部との接続部と前記接地端子との間に接続された第2の容量とを備えている。   The variable attenuation circuit according to claim 12 includes a first signal attenuation unit having a first signal attenuation element inserted in series in a signal path between a signal input unit and a signal output unit, and the first signal attenuation unit. A first attenuation control circuit that applies an attenuation control signal to the signal attenuating element; a first bias circuit that applies a bias to the first signal attenuating element; and the first signal attenuating element; A first capacitor connected between a connection portion to the first attenuation control circuit portion and a ground terminal, and a signal path between the signal input portion and the signal output portion and a ground terminal. A second signal attenuating section having a second signal attenuating element inserted into the second signal attenuating element, a second attenuation amount control circuit section for supplying the attenuation amount control signal to the second signal attenuating element, and the second A second bias circuit section for applying a bias to the signal attenuating element, and the second signal attenuating element And a second capacitor connected between a connection portion between the child second bias circuit section and the ground terminal.

請求項13記載の可変減衰回路は、請求項12記載の可変減衰回路において、前記第1の信号減衰用素子が第1のFETからなり、前記第1の減衰量制御回路部は前記第1のFETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記第1のFETのON抵抗を制御し、前記第1のバイアス回路部は前記第1のFETのソース端子にバイアスを与え、前記第1の容量は前記第1のFETのゲート端子と前記接地端子との間に接続され、前記第2の信号減衰用素子が第2のFETからなり、前記第2の減衰量制御回路部は前記第2のFETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記第2のFETのON抵抗を制御し、前記第2のバイアス回路部は前記第2のFETのゲート端子にバイアスを与え、前記第2の容量は前記第2のFETのゲート端子と前記接地端子との間に接続されている。   A variable attenuation circuit according to a thirteenth aspect is the variable attenuation circuit according to the twelfth aspect, wherein the first signal attenuation element includes a first FET, and the first attenuation amount control circuit unit includes the first attenuation amount control circuit unit. An attenuation control signal is supplied to the gate terminal of the FET to control the ON resistance of the first FET, the first bias circuit section applies a bias to the source terminal of the first FET, and the first capacitor Is connected between the gate terminal of the first FET and the ground terminal, the second signal attenuating element comprises a second FET, and the second attenuation control circuit unit An attenuation control signal is supplied to the drain terminal of the FET to control the ON resistance of the second FET, and the second bias circuit unit applies a bias to the gate terminal of the second FET, and the second capacitor Is the gate terminal of the second FET The serial is connected between the ground terminal.

請求項14記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された第1の信号減衰用FETを有する第1の信号減衰部と、前記第1の信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記第1の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第1の減衰量制御回路部と、前記第1の信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与える第1のバイアス回路部と、前記信号入力部と前記信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された第2の信号減衰用FETを有する第2の信号減衰部と、前記第2の信号減衰用FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記第2の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第2の減衰量制御回路部と、前記第2の信号減衰用FETのゲート端子にバイアスを与える第2のバイアス回路部とを備え、前記第1のバイアス回路部は、前記第1の信号減衰用FETのしきい値電圧ばらつきを補償する第1のバイアス用FETを有し、
前記第2のバイアス回路部は、前記第2の信号減衰用FETのしきい値電圧ばらつきを補償する第2のバイアス用FETを有する。
The variable attenuation circuit according to claim 14 includes a first signal attenuation unit having a first signal attenuation FET inserted in series in a signal path between a signal input unit and a signal output unit, and the first signal attenuation unit. A first attenuation amount control circuit for controlling an ON resistance of the first signal attenuation FET by applying an attenuation amount control signal to the gate terminal of the signal attenuation FET; and a source terminal of the first signal attenuation FET And a second signal attenuating FET inserted between a signal path between the signal input unit and the signal output unit and a ground terminal. An attenuating unit; a second attenuating amount control circuit unit that applies an attenuating amount control signal to the drain terminal of the second signal attenuating FET to control the ON resistance of the second signal attenuating FET; Apply a bias to the gate terminal of the signal attenuating FET And a second bias circuit portion, the first bias circuit portion includes a first bias FET to compensate for threshold voltage variation of the first signal attenuating FET,
The second bias circuit section includes a second bias FET that compensates for variations in threshold voltage of the second signal attenuating FET.

請求項15記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された第1の信号減衰用FETを有する第1の信号減衰部と、前記第1の信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記第1の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第1の減衰量制御回路部と、前記第1の信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与える第1のバイアス回路部と、前記信号入力部と前記信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された第2の信号減衰用FETを有する第2の信号減衰部と、前記第2の信号減衰用FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記第2の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第2の減衰量制御回路部と、前記第2の信号減衰用FETのゲート端子にバイアスを与える第2のバイアス回路部と、前記第1の信号減衰用FETのバックゲート部と基板間に接続された第1の抵抗と、前記第2の信号減衰用FETのバックゲート部と基板間に接続された第2の抵抗とを備える。   The variable attenuation circuit according to claim 15, wherein the first signal attenuation unit includes a first signal attenuation FET inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit, and the first signal attenuation unit. A first attenuation amount control circuit for controlling an ON resistance of the first signal attenuation FET by applying an attenuation amount control signal to the gate terminal of the signal attenuation FET; and a source terminal of the first signal attenuation FET And a second signal attenuating FET inserted between a signal path between the signal input unit and the signal output unit and a ground terminal. An attenuating unit; a second attenuating amount control circuit unit that applies an attenuating amount control signal to the drain terminal of the second signal attenuating FET to control the ON resistance of the second signal attenuating FET; Apply a bias to the gate terminal of the signal attenuating FET A second bias circuit section; a first resistor connected between the back gate section of the first signal attenuating FET and the substrate; and a connection between the back gate section of the second signal attenuating FET and the substrate. A second resistor.

請求項16記載の可変減衰回路は、信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された第1の信号減衰用FETを有する第1の信号減衰部と、前記第1の信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記第1の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第1の減衰量制御回路部と、前記第1の信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与える第1のバイアス回路部と、前記信号入力部と前記信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された第2の信号減衰用FETを有する第2の信号減衰部と、前記第2の信号減衰用FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記第2の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第2の減衰量制御回路部と、前記第2の信号減衰用FETのゲート端子にバイアスを与える第2のバイアス回路部と、第1のバイアス回路部と接地端子間に接続された容量もしくは容量とスイッチとを備える。   The variable attenuating circuit according to claim 16 includes a first signal attenuating unit having a first signal attenuating FET inserted in series in a signal path between a signal input unit and a signal output unit, and the first signal attenuating unit. A first attenuation amount control circuit for controlling an ON resistance of the first signal attenuation FET by applying an attenuation amount control signal to the gate terminal of the signal attenuation FET; and a source terminal of the first signal attenuation FET And a second signal attenuating FET inserted between a signal path between the signal input unit and the signal output unit and a ground terminal. An attenuating unit; a second attenuating amount control circuit unit that applies an attenuating amount control signal to the drain terminal of the second signal attenuating FET to control the ON resistance of the second signal attenuating FET; Apply a bias to the gate terminal of the signal attenuating FET Comprising a second bias circuit portion, and a capacitance or capacitor and a switch connected between the first bias circuit ground terminal.

請求項17記載の可変減衰回路は、請求項16記載の可変減衰回路において、第1の信号減衰用FETのバックゲート部と接地端子間に第1の抵抗を接続し、第2の信号減衰用FETのバックゲート部と接地端子間に第2の抵抗を接続したことを特徴とする。   The variable attenuation circuit according to claim 17 is the variable attenuation circuit according to claim 16, wherein a first resistor is connected between the back gate portion of the first signal attenuating FET and the ground terminal, and the second signal attenuating circuit is attenuated. A second resistor is connected between the back gate portion of the FET and the ground terminal.

請求項18記載の高周波無線回路システムは、請求項1から請求項17までの何れか1項記載の少なくとも一つの可変減衰回路と、少なくとも一つの高周波増幅回路と、少なくとも一つの発振器とを備えた無線送信装置と、前記無線送信装置に接続されて無線周波数を送信するアンテナとを備えている。   A high-frequency radio circuit system according to claim 18 includes at least one variable attenuation circuit according to any one of claims 1 to 17, at least one high-frequency amplifier circuit, and at least one oscillator. A wireless transmission device; and an antenna connected to the wireless transmission device for transmitting a radio frequency.

この発明の構成によれば、請求項1から17の可変減衰回路と同様の効果を奏する。   According to the structure of this invention, there exists an effect similar to the variable attenuation circuit of Claims 1-17.

本発明の可変減衰回路および高周波無線回路システムによれば、ドレイン−ゲート間、ゲート−ソース間に発生する寄生容量を介して信号が漏れる経路を遮断することで、高減衰時のアイソレーション特性を改善できる。同時に、減衰量制御回路部で発生するノイズ等がゲートを介して信号線に混入するのを阻止することができる。また、バックゲートと基板間に高抵抗を挿入したことで、バックゲートを介して基板に信号が漏れる経路を遮断し、減衰制御特性を向上させることができる。さらに、製造プロセスや温度変動による信号減衰用のFETのしきい値ばらつきの影響を受けにくくすることができる。そして、ソースバイアス抵抗とドレインバイアス抵抗の接続部と接地端子間に容量とスイッチを有したことで、ソースバイアス抵抗、ドレインバイアス抵抗を介して、入力端子から出力端子に信号が漏れる経路を遮断し、高アイソレーション時の減衰特性を向上させることができる。上記の全ての効果によって、高減衰状態から低減衰状態まで広範囲に渡って連続的に線形な減衰制御特性を実現することができる。結果的に、従来、信号の漏れやノイズ、プロセスばらつきの影響により困難だったマルチバンド・マルチ通信方式対応の可変減衰回路をSiプロセスにて作製することが可能となった。   According to the variable attenuation circuit and the high-frequency wireless circuit system of the present invention, the isolation characteristic at the time of high attenuation can be obtained by blocking the signal leakage path through the parasitic capacitance generated between the drain and gate and between the gate and source. Can improve. At the same time, it is possible to prevent noise or the like generated in the attenuation amount control circuit unit from entering the signal line via the gate. In addition, since a high resistance is inserted between the back gate and the substrate, a path through which a signal leaks to the substrate through the back gate can be blocked, and the attenuation control characteristic can be improved. Further, it can be made less susceptible to variations in the threshold value of the signal attenuating FET due to manufacturing processes and temperature fluctuations. And by having a capacitor and a switch between the connection point of the source bias resistor and drain bias resistor and the ground terminal, the path through which the signal leaks from the input terminal to the output terminal is cut off via the source bias resistor and drain bias resistor. In addition, the attenuation characteristic at the time of high isolation can be improved. With all the above effects, linear attenuation control characteristics can be realized continuously over a wide range from a high attenuation state to a low attenuation state. As a result, it has become possible to fabricate a variable attenuation circuit compatible with the multi-band / multi-communication method, which has been difficult due to signal leakage, noise, and process variations, by the Si process.

(第1の実施の形態)
本発明の第1の実施の形態は、課題の一点目、二点目、三点目、四点目に対応した可変減衰回路(集積回路)である。以下、図1を参照しながら説明する。
(First embodiment)
The first embodiment of the present invention is a variable attenuation circuit (integrated circuit) corresponding to the first, second, third, and fourth points of the problem. Hereinafter, a description will be given with reference to FIG.

図1に示す本発明の第1の実施の形態における可変減衰回路は、信号入力端子104から入力した高周波信号を減衰して信号出力端子105から出力する減衰回路であり、その減衰量が外部端子106より制御可能な可変減衰回路を想定する。また、この可変減衰回路は、例えばSi半導体基板上に作製されることを想定する。   The variable attenuation circuit according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 is an attenuation circuit that attenuates a high-frequency signal input from a signal input terminal 104 and outputs the attenuated signal from a signal output terminal 105. The attenuation amount is an external terminal. A variable attenuation circuit that can be controlled by 106 is assumed. Further, it is assumed that this variable attenuation circuit is manufactured on, for example, a Si semiconductor substrate.

具体的には、本発明における可変減衰回路は、信号入力端子104と信号出力端子105との間に直列に挿入された信号減衰用MOSFET(信号減衰用素子)111を有する信号減衰部100と、信号減衰用MOSFET111のON抵抗を制御する減衰量制御回路部101と、信号減衰用MOSFET111のソースにバイアスを与えるソースバイアス回路部102とを有し、信号減衰用MOSFET111は、減衰量制御回路部101で生成された減衰量制御信号に応じた減衰量で高周波信号の減衰を行う。   Specifically, the variable attenuation circuit according to the present invention includes a signal attenuation unit 100 having a signal attenuation MOSFET (signal attenuation element) 111 inserted in series between the signal input terminal 104 and the signal output terminal 105; The signal attenuation MOSFET 111 includes an attenuation amount control circuit unit 101 that controls the ON resistance of the signal attenuation MOSFET 111 and a source bias circuit unit 102 that applies a bias to the source of the signal attenuation MOSFET 111. The signal attenuation MOSFET 111 includes an attenuation amount control circuit unit 101. The high frequency signal is attenuated by an attenuation amount corresponding to the attenuation amount control signal generated in step (1).

また、この可変減衰回路は、信号減衰用MOSFET111のゲートと接地端子間に、容量103が追加されている。この容量103の効果は大きく二点ある。一点目が、減衰量制御回路部101で発生したノイズ成分が、信号減衰用MOSFET111のゲートを介して高周波信号ライン(信号入力端子104から信号出力端子105へ至るライン)に混入するのを防ぐことである。二点目が、信号減衰用MOSFET111のドレイン−ゲート間、ゲート−ソース間に発生する寄生容量の影響で、高減衰状態で高周波信号が信号入力端子104および信号出力端子105間に漏れるのを防ぐことである。   In this variable attenuation circuit, a capacitor 103 is added between the gate of the signal attenuation MOSFET 111 and the ground terminal. There are two major effects of this capacitor 103. The first point is to prevent the noise component generated in the attenuation control circuit unit 101 from entering the high frequency signal line (the line from the signal input terminal 104 to the signal output terminal 105) via the gate of the signal attenuation MOSFET 111. It is. The second point is that the high-frequency signal is prevented from leaking between the signal input terminal 104 and the signal output terminal 105 in a high attenuation state due to the influence of the parasitic capacitance generated between the drain and gate and the gate and source of the signal attenuation MOSFET 111. That is.

さらに、この可変減衰回路のソースバイアス回路部102は、信号減衰用MOSFET111と同じしきい値電圧変動(温度特性)を持つソースバイアス生成用MOSFET117を用いてバイアス電圧を作成することで、信号減衰用MOSFET111の製造プロセスや温度によるしきい値電圧のばらつきを補正する効果を有している。   Further, the source bias circuit section 102 of this variable attenuation circuit generates a bias voltage by using the source bias generation MOSFET 117 having the same threshold voltage fluctuation (temperature characteristic) as the signal attenuation MOSFET 111, thereby reducing the signal attenuation. This has the effect of correcting variations in threshold voltage due to the manufacturing process and temperature of the MOSFET 111.

その上、この可変減衰回路の信号減衰用MOSFET111のウェルはトリプルウェル構造となっており、バックゲート部と基板間に高抵抗124が追加されている。この高抵抗124の効果は、バックゲートを介して基板に信号が漏れるのを防ぐことである。なお、高抵抗とは、高い抵抗値を有する抵抗のことを意味する。   In addition, the well of the signal attenuation MOSFET 111 of this variable attenuation circuit has a triple well structure, and a high resistance 124 is added between the back gate portion and the substrate. The effect of the high resistance 124 is to prevent signals from leaking to the substrate through the back gate. High resistance means a resistance having a high resistance value.

以下、具体的に可変減衰回路の回路接続について説明する。   The circuit connection of the variable attenuation circuit will be specifically described below.

まず、信号減衰用素子としては、例えばトリプルウェル構造をしたNチャネルMOSFETが好適である。信号減衰用MOSFET111は、高周波可変減衰回路の信号入力端子104と信号出力端子105との間の信号経路に直列に挿入されており、信号入力端子104と信号減衰用MOSFET111との間には、DC成分を遮断して、高周波成分のみ通過するDC遮断容量112が挿入されており、信号減衰用MOSFET111と信号出力端子105との間には、同じくDC遮断容量113が挿入されている。信号減衰用MOSFET111のバックゲート部と基板との間には、信号の漏れを遮断する高抵抗124が挿入されている。   First, as the signal attenuating element, for example, an N-channel MOSFET having a triple well structure is suitable. The signal attenuating MOSFET 111 is inserted in series in the signal path between the signal input terminal 104 and the signal output terminal 105 of the high frequency variable attenuating circuit, and a DC is interposed between the signal input terminal 104 and the signal attenuating MOSFET 111. A DC blocking capacitor 112 that blocks components and passes only high-frequency components is inserted, and a DC blocking capacitor 113 is also inserted between the signal attenuation MOSFET 111 and the signal output terminal 105. A high resistance 124 for blocking signal leakage is inserted between the back gate portion of the signal attenuating MOSFET 111 and the substrate.

次に、信号減衰用MOSFET111のゲートには、減衰量制御回路部101が接続されている。減衰量制御回路部101の構成を説明する。減衰量制御用抵抗115と減衰量制御用抵抗116とが直列に接続され、抵抗115のもう片側の端子が利得制御端子(Vc)106に接続され、抵抗116のもう片側の端子が接地端子に接続されている。抵抗115と抵抗116との接続部と信号減衰用MOSFET111のゲートとの間には、高周波を遮断して、DCのみ通過させる高い抵抗値を有する抵抗114が接続されている。さらに、信号減衰用MOSFET111のゲートと接地端子間に、容量103が追加されている。   Next, the attenuation amount control circuit unit 101 is connected to the gate of the signal attenuation MOSFET 111. The configuration of the attenuation control circuit unit 101 will be described. The attenuation control resistor 115 and the attenuation control resistor 116 are connected in series, the other terminal of the resistor 115 is connected to the gain control terminal (Vc) 106, and the other terminal of the resistor 116 is connected to the ground terminal. It is connected. A resistor 114 having a high resistance value that cuts off the high frequency and allows only DC to pass is connected between the connection portion of the resistor 115 and the resistor 116 and the gate of the signal attenuating MOSFET 111. Further, a capacitor 103 is added between the gate of the signal attenuation MOSFET 111 and the ground terminal.

信号減衰用MOSFET111のソース端子に接続されているソースバイアス回路部102について説明する。抵抗120と抵抗121とが直列に接続され、抵抗120のもう片側の端子が電源電圧端子(Vdd)107に接続され、抵抗121のもう片側の端子が接地端子に接続されている。抵抗120と抵抗121との接続部には、ソースバイアス生成用MOSFET117のゲートが接続され、このソースバイアス生成用MOSFET117は、信号減衰用MOSFET111と同じ製造プロセス・温度変動ばらつきを有している。ソースバイアス生成用MOSFET117のドレインと電源電圧端子107との間には、抵抗118が接続され、ソースバイアス生成用MOSFET117のソースと接地端子との間には、抵抗119が接続されている。また、ソースバイアス生成用MOSFET117のソースと信号減衰用MOSFET111のソースの間には高周波を遮断してDCのみ通過させる高い抵抗値を有する抵抗122が接続され、ソースバイアス生成用MOSFET117のソースと信号減衰用MOSFET111のドレインとの間には高周波を遮断してDCのみ通過させる高い抵抗値を有する抵抗123が接続されている。   The source bias circuit unit 102 connected to the source terminal of the signal attenuation MOSFET 111 will be described. The resistor 120 and the resistor 121 are connected in series, the other terminal of the resistor 120 is connected to the power supply voltage terminal (Vdd) 107, and the other terminal of the resistor 121 is connected to the ground terminal. The gate of the source bias generation MOSFET 117 is connected to the connection portion between the resistor 120 and the resistor 121, and the source bias generation MOSFET 117 has the same manufacturing process and temperature variation variation as the signal attenuation MOSFET 111. A resistor 118 is connected between the drain of the source bias generating MOSFET 117 and the power supply voltage terminal 107, and a resistor 119 is connected between the source of the source bias generating MOSFET 117 and the ground terminal. Also, a resistor 122 having a high resistance value that cuts off the high frequency and passes only DC is connected between the source of the source bias generating MOSFET 117 and the source of the signal attenuating MOSFET 111, and the source of the source bias generating MOSFET 117 and the signal attenuation are connected. A resistor 123 having a high resistance value that cuts off the high frequency and passes only DC is connected between the drain of the MOSFET 111 for use.

近年、無線通信システムはマルチバンド化、マルチ通信方式化が進んでいる。その中でも例えばUMTS通信方式とGSM通信方式のマルチ通信方式がある。UMTS通信方式では、送信回路において、80dB以上の送信電力可変範囲が必要であり、高精度な送信電力制御の線形性が要求される。また、GSM通信方式では、高いノイズ特性が要求される。高周波無線送信回路ブロックに用いられる可変減衰回路においても、これら二つの通信方式の特性を満足する必要がある。その場合、プロセスばらつき、温度変動によらず高い線形性、ノイズ特性が要求される。それぞれの要求を満足する手法について説明する。   In recent years, wireless communication systems have become multiband and multicommunication systems. Among them, for example, there are multi-communication systems such as a UMTS communication system and a GSM communication system. In the UMTS communication system, the transmission circuit requires a transmission power variable range of 80 dB or more, and high-accuracy transmission power control linearity is required. Further, the GSM communication system requires high noise characteristics. The variable attenuation circuit used in the high-frequency wireless transmission circuit block must satisfy the characteristics of these two communication methods. In that case, high linearity and noise characteristics are required regardless of process variations and temperature fluctuations. A method for satisfying each requirement will be described.

まず、プロセスばらつき、温度変動によらず精度の高い線形性を実現する手法について説明する。図8は、図2に示すような可変減衰回路の温度に対する各電圧値の変動を表した図であり、図9は、制御電圧に対する利得特性を表した図である。図8は、横軸が温度であり、縦軸は電圧値を表す。図9は、横軸が減衰量制御電圧Vcを表し、縦軸が可変減衰回路の利得を表し、常温、低温、高温の場合の3本の制御特性を表している。   First, a method for realizing highly accurate linearity regardless of process variations and temperature variations will be described. FIG. 8 is a diagram showing the variation of each voltage value with respect to the temperature of the variable attenuation circuit as shown in FIG. 2, and FIG. 9 is a diagram showing the gain characteristic with respect to the control voltage. In FIG. 8, the horizontal axis represents temperature, and the vertical axis represents voltage value. In FIG. 9, the horizontal axis represents the attenuation control voltage Vc, the vertical axis represents the gain of the variable attenuation circuit, and represents three control characteristics at normal temperature, low temperature, and high temperature.

図8において、Vgは、図2の信号減衰用GaAsFET240のゲート電位を表し、Vrefは、図2のソースバイアス供給端子234に与えた電位、すなわち、信号減衰用GaAsFET240のソース電位を表し、Vthは、図2の信号減衰用GaAsFET240のしきい値電圧Vthを表している。Vg−Vref−Vthは、図8に記載のVg、Vref、Vthを用いて計算した計算結果である。Vg−Vref−Vth>0となると信号減衰用GaAsFET240は動作をし始め、ON抵抗が少しずつ下がり始めて、減衰量が少しずつ小さくなる。この点が、図9で言うA点であり、この時の電圧がVaである。ここで、温度が上昇した場合、信号減衰用GaAsFET240のしきい値電圧Vthは、温度の上昇に伴って大きくなる。したがって、Vg−Vref−Vth=0とするためには、常温よりもより大きなVgが必要となり、信号減衰用GaAsFET240が動作し始める電圧値は大きくなり、VaからVbに増加する。逆に温度が低下した場合、より小さなVgで信号減衰用GaAsFET240が動作し始め、VaからVcに減少する。その結果、制御特性は、図9に示すように温度によって大きく差を持ち、線形性が悪化する。   8, Vg represents the gate potential of the signal attenuating GaAsFET 240 of FIG. 2, Vref represents the potential applied to the source bias supply terminal 234 of FIG. 2, that is, the source potential of the signal attenuating GaAsFET 240, and Vth 2 represents the threshold voltage Vth of the signal attenuation GaAsFET 240 of FIG. Vg−Vref−Vth is a calculation result calculated using Vg, Vref, and Vth shown in FIG. When Vg−Vref−Vth> 0, the signal attenuating GaAsFET 240 starts to operate, the ON resistance begins to decrease gradually, and the attenuation decreases gradually. This point is point A in FIG. 9, and the voltage at this time is Va. Here, when the temperature rises, the threshold voltage Vth of the signal attenuation GaAsFET 240 increases as the temperature rises. Therefore, in order to set Vg−Vref−Vth = 0, a larger Vg than normal temperature is required, and the voltage value at which the signal attenuating GaAsFET 240 starts to operate increases and increases from Va to Vb. On the other hand, when the temperature decreases, the signal attenuating GaAsFET 240 starts to operate at a smaller Vg and decreases from Va to Vc. As a result, the control characteristics vary greatly depending on the temperature as shown in FIG. 9, and the linearity deteriorates.

図10は図1のようなソースバイアス回路部102を用いた場合の可変減衰回路の温度に対する各電圧値の変動を表した図であり、図11は、そのときの制御電圧に対する利得特性を表した図である。図10では、図8と違い、温度の上昇に伴って、Vrefを減少させる構成とする。その結果、温度が増加してしきい値電圧Vthが増加した場合も、温度が低下してしきい値電圧Vthが減少した場合もVg−Vref−Vthは常に一定となり、温度変動によらず、図11のように同じ制御特性を描くことが可能となる。   FIG. 10 is a diagram showing the variation of each voltage value with respect to the temperature of the variable attenuation circuit when the source bias circuit unit 102 as shown in FIG. 1 is used, and FIG. 11 shows the gain characteristic with respect to the control voltage at that time. FIG. In FIG. 10, unlike FIG. 8, the configuration is such that Vref decreases as the temperature rises. As a result, Vg−Vref−Vth is always constant regardless of temperature fluctuations even when the temperature increases and the threshold voltage Vth increases, or when the temperature decreases and the threshold voltage Vth decreases. It is possible to draw the same control characteristics as shown in FIG.

図11のようなばらつき補正を実現する回路動作について図1の可変減衰回路を用いて説明する。図1のソースバイアス回路部102のソースバイアス生成用MOSFET117のゲート電位は抵抗120と抵抗121との抵抗分割で決定される。ソースバイアス生成用MOSFET117は信号減衰用MOSFET111と同じく、温度が上昇するとしきい値電圧が増加する特性を持っているため、温度の上昇に伴い、しきい値電圧が増加し、一方ゲート電位は一定であるため、ソース電位の減少、ソースバイアス生成用MOSFET117に流れる電流の減少が起こる。その結果、信号減衰用MOSFET111のソースバイアス電位は減少し、しきい値電圧変動の補正が実現できる。   The circuit operation for realizing the variation correction as shown in FIG. 11 will be described using the variable attenuation circuit of FIG. The gate potential of the source bias generation MOSFET 117 of the source bias circuit unit 102 in FIG. 1 is determined by resistance division of the resistor 120 and the resistor 121. Like the signal attenuation MOSFET 111, the source bias generation MOSFET 117 has a characteristic that the threshold voltage increases as the temperature rises. Therefore, the threshold voltage increases as the temperature rises, while the gate potential is constant. Therefore, the source potential decreases and the current flowing through the source bias generation MOSFET 117 decreases. As a result, the source bias potential of the signal attenuating MOSFET 111 is reduced, and the threshold voltage fluctuation can be corrected.

次に線形な制御特性を実現する回路動作について図1の可変減衰回路を用いて説明する。図1の減衰量制御回路部101の制御端子(Vc)106には、0Vから電源電圧電位まで、連続的な制御電圧が入力される。この制御電圧を抵抗115と抵抗116とによって分圧して、信号減衰用MOSFET111のゲートに入力する。信号減衰用MOSFET111はドレイン−ソース間バイアスが0Vで用いられ、ゲート電位が0Vの時はON抵抗が最も大きく、ゲート電位の増加に伴って、徐々にON抵抗が減少し、ゲート電位が電源電圧となると、ON抵抗が最小となる。ON抵抗の変化に伴い、信号入力端子104から信号出力端子105への通過特性の減衰量も変動する。また、抵抗115と抵抗116とで分圧することで、任意の制御特性が実現可能である。   Next, circuit operation for realizing linear control characteristics will be described using the variable attenuation circuit of FIG. A continuous control voltage from 0 V to the power supply voltage potential is input to the control terminal (Vc) 106 of the attenuation control circuit unit 101 in FIG. This control voltage is divided by the resistors 115 and 116 and input to the gate of the signal attenuating MOSFET 111. The signal attenuating MOSFET 111 is used with a drain-source bias of 0 V. When the gate potential is 0 V, the ON resistance is the largest. As the gate potential increases, the ON resistance gradually decreases, and the gate potential becomes the power supply voltage. Then, the ON resistance is minimized. As the ON resistance changes, the attenuation of the pass characteristic from the signal input terminal 104 to the signal output terminal 105 also varies. Further, any control characteristic can be realized by dividing the voltage between the resistor 115 and the resistor 116.

しかし、ここで例えばSi基板で可変減衰回路を実現する場合、信号減衰用MOSFET111のドレイン−ゲート間、ゲート−ソース間に発生する寄生容量の影響で信号が漏れ、信号減衰用MOSFET111のON抵抗で決まる減衰量がとれず、線形性が確保できない。その影響をなくすために、容量103を信号減衰用MOSFET111のゲートと接地間に挿入する。容量を挿入することで、信号減衰用MOSFET111のドレイン−ゲート間、ゲート−ソース間を介して信号が漏れる経路を遮断し、線形性を確保している。   However, when a variable attenuation circuit is realized with, for example, a Si substrate, a signal leaks due to the parasitic capacitance generated between the drain and gate of the signal attenuating MOSFET 111 and between the gate and the source, and the ON resistance of the signal attenuating MOSFET 111 The determined amount of attenuation cannot be obtained, and linearity cannot be ensured. In order to eliminate the influence, the capacitor 103 is inserted between the gate of the signal attenuation MOSFET 111 and the ground. By inserting a capacitor, a signal leakage path is interrupted between the drain and gate of the signal attenuating MOSFET 111 and between the gate and source, thereby ensuring linearity.

また、ここで上記と同じく、例えばSi基板で可変減衰回路を実現する場合、基板抵抗が低いことの影響により、信号減衰用MOSFET111のバックゲートと基板間のインピーダンスが低く、この部分を通じて信号が基板に漏れ、信号減衰用MOSFET111のON抵抗で決まる減衰量がとれず、線形性が確保できない。その影響をなくすために、例えば、MOSFET111をトリプルウェル構造で作製し、MOSFET111のバックゲートと基板間に高抵抗を挿入することで、信号が漏れる経路を遮断し、線形性を確保している。   Also, as described above, for example, when a variable attenuation circuit is realized with a Si substrate, the impedance between the back gate of the signal attenuation MOSFET 111 and the substrate is low due to the low substrate resistance, and the signal is transmitted to the substrate through this portion. The amount of attenuation determined by the ON resistance of the signal attenuation MOSFET 111 cannot be obtained, and linearity cannot be ensured. In order to eliminate the influence, for example, the MOSFET 111 is manufactured in a triple well structure, and a high resistance is inserted between the back gate of the MOSFET 111 and the substrate, thereby blocking a signal leakage path and ensuring linearity.

また、本可変減衰回路は、容量103を追加したことによってノイズ特性も改善している。減衰量制御回路部101は通常抵抗で構成されている。したがって、この抵抗で発生したノイズが信号減衰用MOSFET111のゲートを介して混入し、信号入力端子104から入ってきた高周波信号にのり、ノイズ特性を悪化させ、例えばGSM通信方式の受信帯域ノイズなどの要求を満たさなくなる。   In addition, this variable attenuation circuit has improved noise characteristics due to the addition of the capacitor 103. The attenuation amount control circuit unit 101 is usually composed of a resistor. Therefore, the noise generated by this resistor is mixed through the gate of the signal attenuating MOSFET 111 and is applied to the high frequency signal input from the signal input terminal 104 to deteriorate the noise characteristics. For example, the reception band noise of the GSM communication system, etc. The requirement is not met.

しかし、容量103の追加によって、減衰量制御回路部101で発生したノイズを容量103と抵抗114のフィルタ効果によって遮断し、連続的に変化する可変減衰回路の如何なる状態においてもノイズ特性を向上させることができる。   However, by adding the capacitor 103, the noise generated in the attenuation control circuit unit 101 is cut off by the filter effect of the capacitor 103 and the resistor 114, and the noise characteristic is improved in any state of the continuously changing variable attenuation circuit. Can do.

以上のように、信号減衰用MOSFET111を持つ可変減衰回路に、ソースバイアス回路部102と容量103とバックゲート付加高抵抗124を追加することで、製造プロセス・温度変動ばらつきによる信号減衰用MOSFET111のしきい値ばらつきを補正することが可能となり、また如何なる減衰状態でも信号減衰用MOSFET111での信号の漏れをなくすことができ、線形性を向上させることができた。さらに減衰量制御回路部101で発生するノイズを落とすことができ、ノイズ特性を向上させることができた。結果として、マルチバンド・マルチ通信方式対応の可変減衰回路をSiプロセスにて実現でき、他の無線回路ブロックとの1チップ化も可能となった。   As described above, by adding the source bias circuit section 102, the capacitor 103, and the back gate additional high resistance 124 to the variable attenuation circuit having the signal attenuation MOSFET 111, the signal attenuation MOSFET 111 due to variations in manufacturing process and temperature variation can be reduced. Threshold variations can be corrected, and signal leakage in the signal attenuation MOSFET 111 can be eliminated in any attenuation state, thereby improving linearity. Furthermore, noise generated in the attenuation control circuit unit 101 can be reduced, and noise characteristics can be improved. As a result, a variable attenuation circuit compatible with the multi-band multi-communication system can be realized by the Si process, and can be made into one chip with other radio circuit blocks.

なお、上記のソースバイアス回路部102と容量103とバックゲート付加高抵抗124のどれか一つのみ、もしくはどれか二つのみ接続されている構成でもよい。また、MOSFETとしてはPチャネルMOSFETでもよい。また、トリプルウェル構造でなくとも同等の効果が発揮できればよい。   Note that only one or only two of the source bias circuit unit 102, the capacitor 103, and the back gate additional high resistance 124 may be connected. The MOSFET may be a P-channel MOSFET. Further, it is sufficient that the same effect can be exhibited even if the triple well structure is not used.

(第2の実施の形態)
本発明の第2の実施の形態は、課題の一点目、二点目、三点目、四点目に対応した可変減衰回路(集積回路)である。以下、図3を参照しながら説明する。
(Second Embodiment)
The second embodiment of the present invention is a variable attenuation circuit (integrated circuit) corresponding to the first, second, third, and fourth points of the problem. Hereinafter, a description will be given with reference to FIG.

図3に示す本発明の第2の実施の形態における可変減衰回路は、信号入力端子304から入力した高周波信号を減衰して信号出力端子305から出力する減衰回路であり、その減衰量が外部端子306より制御可能な可変減衰回路を想定する。また、この可変減衰回路は、例えばSi半導体基板上に作製されることを想定する。   The variable attenuation circuit according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 3 is an attenuation circuit that attenuates a high-frequency signal input from the signal input terminal 304 and outputs the attenuated signal from the signal output terminal 305. The attenuation amount is an external terminal. A variable attenuation circuit that can be controlled by 306 is assumed. Further, it is assumed that this variable attenuation circuit is manufactured on, for example, a Si semiconductor substrate.

具体的には、本発明における可変減衰回路は、信号入力端子304と信号出力端子305との間の信号経路と接地端子との間に挿入された信号減衰用MOSFET(信号減衰用素子)311を有する信号減衰部300と、信号減衰用MOSFET311のON抵抗を制御する減衰量制御回路部301と、信号減衰用MOSFET311のゲートにバイアスを与えるゲートバイアス回路部302とを有し、信号減衰用MOSFET311は、減衰量制御回路部301で生成された減衰量制御信号に応じた減衰量で高周波信号の減衰を行う。   Specifically, the variable attenuation circuit according to the present invention includes a signal attenuation MOSFET (signal attenuation element) 311 inserted between a signal path between the signal input terminal 304 and the signal output terminal 305 and the ground terminal. The signal attenuating unit 300, the attenuation control circuit unit 301 that controls the ON resistance of the signal attenuating MOSFET 311, and the gate bias circuit unit 302 that applies a bias to the gate of the signal attenuating MOSFET 311. Then, the high frequency signal is attenuated by an attenuation amount corresponding to the attenuation amount control signal generated by the attenuation amount control circuit unit 301.

また、この可変減衰回路は、信号減衰用MOSFET311のゲートと接地端子間に、容量303が追加されている。この容量303の効果はゲートバイアス回路部302で発生したノイズ成分が、信号減衰用MOSFET311のゲートを介して高周波信号ラインに混入するのを防ぐことである。   In this variable attenuation circuit, a capacitor 303 is added between the gate of the signal attenuation MOSFET 311 and the ground terminal. The effect of the capacitor 303 is to prevent a noise component generated in the gate bias circuit unit 302 from entering the high frequency signal line through the gate of the signal attenuating MOSFET 311.

さらに、この可変減衰回路のゲートバイアス回路部302は、信号減衰用MOSFET311と同じしきい値電圧変動を持つゲートバイアス生成用MOSFET318を用いてバイアスを作成することで、信号減衰用MOSFET311の製造プロセスや温度によるしきい値電圧のばらつきを補正する効果を有している。   Furthermore, the gate bias circuit section 302 of this variable attenuation circuit creates a bias using the gate bias generation MOSFET 318 having the same threshold voltage fluctuation as the signal attenuation MOSFET 311, thereby producing the signal attenuation MOSFET 311 manufacturing process, It has the effect of correcting variations in threshold voltage due to temperature.

その上、この可変減衰回路の信号減衰用MOSFET311のウェルはトリプルウェル構造となっており、バックゲート部と基板間に高抵抗325が追加されている。この高抵抗325の効果は、バックゲートを介して基板に信号が漏れるのを防ぐことである。   In addition, the well of the signal attenuation MOSFET 311 of this variable attenuation circuit has a triple well structure, and a high resistance 325 is added between the back gate portion and the substrate. The effect of the high resistance 325 is to prevent signals from leaking to the substrate through the back gate.

以下、具体的に可変減衰回路の回路接続について説明する。   The circuit connection of the variable attenuation circuit will be specifically described below.

まず、信号減衰用素子は、例えばトリプルウェル構造をしたNチャネルMOSFETが好適である。信号減衰用MOSFET311は、高周波可変減衰回路の信号入力端子304と信号出力端子305との間の信号経路と接地端子との間に挿入されており、信号入力端子304と信号減衰部300との間には、DC成分を遮断して、高周波成分のみ通過するDC遮断容量312が挿入されており、信号減衰部300と信号出力端子305との間には、同じくDC遮断容量313が挿入されている。314はインピーダンス調整用抵抗、315、316は同じくDC遮断容量である。324はソースバイアス生成用抵抗である。信号減衰用MOSFET311のバックゲート部と基板との間には、信号の漏れを遮断する高抵抗325が挿入されている。   First, the signal attenuating element is preferably an N-channel MOSFET having a triple well structure, for example. The signal attenuating MOSFET 311 is inserted between the signal path between the signal input terminal 304 and the signal output terminal 305 of the high frequency variable attenuation circuit and the ground terminal, and between the signal input terminal 304 and the signal attenuating unit 300. Includes a DC blocking capacitor 312 that blocks a DC component and passes only a high-frequency component, and a DC blocking capacitor 313 is also inserted between the signal attenuating unit 300 and the signal output terminal 305. . 314 is an impedance adjusting resistor, and 315 and 316 are DC blocking capacitors. Reference numeral 324 denotes a source bias generating resistor. A high resistance 325 for blocking signal leakage is inserted between the back gate portion of the signal attenuating MOSFET 311 and the substrate.

次に、信号減衰用MOSFET311のドレインには、減衰量制御回路部301が接続されている。減衰量制御回路部301は、利得制御端子(Vc)306と信号減衰用MOSFET311のドレインとの間に高周波を遮断して、DCのみ通過させる高い抵抗値を有する抵抗317が接続されている構成をしている。   Next, an attenuation amount control circuit unit 301 is connected to the drain of the signal attenuation MOSFET 311. The attenuation control circuit unit 301 has a configuration in which a resistor 317 having a high resistance value that blocks only a DC and passes only DC is connected between the gain control terminal (Vc) 306 and the drain of the signal attenuation MOSFET 311. is doing.

つぎに、信号減衰用MOSFET311のゲートに接続されているゲートバイアス回路部302について説明する。抵抗319と抵抗320とが直列に接続され、抵抗319のもう片側の端子が電源電圧端子(Vdd)307に接続され、抵抗320のもう片側の端子が接地端子に接続されている。抵抗319と抵抗320との接続部には、ゲートバイアス生成用MOSFET318のゲートが接続され、このゲートバイアス生成用MOSFET318は、信号減衰用MOSFET311と同じ製造プロセス・温度変動ばらつきを有している。ゲートバイアス生成用MOSFET318のドレインと電源電圧端子(Vdd)307との間には、抵抗321が接続され、ゲートバイアス生成用MOSFET318のソースと接地端子との間には、抵抗322が接続されている。また、ゲートバイアス生成用MOSFET318のドレインと信号減衰用MOSFET311のゲートとの間には高周波を遮断して、DCのみ通過させる高い抵抗値を有する抵抗323が接続されている。さらに、信号減衰用MOSFET311のゲートと接地端子間に、容量303が追加されている。   Next, the gate bias circuit unit 302 connected to the gate of the signal attenuation MOSFET 311 will be described. The resistor 319 and the resistor 320 are connected in series, the other terminal of the resistor 319 is connected to the power supply voltage terminal (Vdd) 307, and the other terminal of the resistor 320 is connected to the ground terminal. The gate of the gate bias generation MOSFET 318 is connected to the connection portion between the resistor 319 and the resistor 320, and the gate bias generation MOSFET 318 has the same manufacturing process and temperature variation variation as the signal attenuation MOSFET 311. A resistor 321 is connected between the drain of the gate bias generating MOSFET 318 and the power supply voltage terminal (Vdd) 307, and a resistor 322 is connected between the source of the gate bias generating MOSFET 318 and the ground terminal. . Further, a resistor 323 having a high resistance value that blocks high frequency and allows only DC to pass is connected between the drain of the gate bias generating MOSFET 318 and the gate of the signal attenuating MOSFET 311. Further, a capacitor 303 is added between the gate of the signal attenuation MOSFET 311 and the ground terminal.

第2の実施の形態において、プロセスばらつき、温度変動によらず精度の高い線形性を実現する手法について説明する。図3と図1の違いは、減衰量制御回路部がゲートにつながっているか、ドレインにつながっているかの違いであり、図3では減衰量制御回路部がドレインにつながっているため、バイアス回路部はゲートにつながっている。   In the second embodiment, a method for realizing highly accurate linearity regardless of process variations and temperature variations will be described. The difference between FIG. 3 and FIG. 1 is whether the attenuation control circuit unit is connected to the gate or the drain. In FIG. 3, the attenuation control circuit unit is connected to the drain. Is connected to the gate.

図12は、図3に示すような可変減衰回路の温度に対する各電圧値の変動を表した図であり、図13は、そのときの制御電圧に対する利得特性を表した図である。図12において、Vrefは、図3の信号減衰用MOSFET311のゲート電位を表し、Vcは、信号減衰用MOSFET311のドレイン電位を表し、Vthは、信号減衰用MOSFET311のしきい値電圧Vthを表している。   FIG. 12 is a diagram showing the variation of each voltage value with respect to the temperature of the variable attenuation circuit as shown in FIG. 3, and FIG. 13 is a diagram showing the gain characteristic with respect to the control voltage at that time. In FIG. 12, Vref represents the gate potential of the signal attenuation MOSFET 311 in FIG. 3, Vc represents the drain potential of the signal attenuation MOSFET 311, and Vth represents the threshold voltage Vth of the signal attenuation MOSFET 311. .

Vref−Vc−Vthは、図12に記載のVref、Vc、Vthを用いて計算した計算結果である。Vref−Vc−Vth>0となるとFETは動作をし始め、ON抵抗が少しずつ下がり始めて、減衰量が少しずつ小さくなる。図12では、温度の上昇に伴って、Vrefを減少させる構成とする。その結果、温度が増加してしきい値電圧Vthが増加した場合も、温度が低下してしきい値電圧Vthが減少した場合もVref−Vc−Vthは常に一定となり、温度変動によらず、図13のように同じ制御特性を描くことが可能となる。   Vref−Vc−Vth is a calculation result calculated using Vref, Vc, and Vth shown in FIG. When Vref−Vc−Vth> 0, the FET starts to operate, the ON resistance begins to decrease gradually, and the attenuation decreases gradually. In FIG. 12, Vref is decreased as the temperature rises. As a result, Vref−Vc−Vth is always constant regardless of temperature fluctuations even when the temperature increases and the threshold voltage Vth increases, or when the temperature decreases and the threshold voltage Vth decreases. It is possible to draw the same control characteristics as shown in FIG.

図13のようなばらつき補正を実現する回路動作について図3の可変減衰回路を用いて説明する。図3のゲートバイアス回路部302のゲートバイアス生成用MOSFET318のゲート電位は抵抗319と抵抗320との抵抗分割で決定される。ゲートバイアス生成用MOSFET318は信号減衰用MOSFET311と同じく温度が上昇するとしきい値電圧が増加する特性を持っているため、温度の上昇に伴い、しきい値電圧が増加し、一方ゲート電位は一定であるため、ソース電位の減少、ゲートバイアス生成用MOSFET318に流れる電流の減少が起こる。その結果、バイアス抵抗321による電圧降下も減少し、ゲートバイアス生成用MOSFET318のドレイン電位は増加し、信号減衰用MOSFET311のゲートバイアス電位は増加し、しきい値電圧変動の補正が実現できる。   A circuit operation for realizing the variation correction as shown in FIG. 13 will be described using the variable attenuation circuit of FIG. The gate potential of the gate bias generation MOSFET 318 of the gate bias circuit unit 302 in FIG. 3 is determined by resistance division between the resistor 319 and the resistor 320. Since the gate bias generation MOSFET 318 has the characteristic that the threshold voltage increases as the temperature rises, like the signal attenuation MOSFET 311, the threshold voltage increases as the temperature rises, while the gate potential remains constant. Therefore, the source potential decreases and the current flowing through the gate bias generation MOSFET 318 decreases. As a result, the voltage drop due to the bias resistor 321 is also reduced, the drain potential of the gate bias generating MOSFET 318 is increased, the gate bias potential of the signal attenuating MOSFET 311 is increased, and correction of threshold voltage fluctuation can be realized.

次に線形な制御特性を実現する回路動作について図3の可変減衰回路を用いて説明する。図3の減衰量制御回路部301の制御端子(Vc)306には、0Vから電源電圧電位まで、連続的な制御電圧が入力される。この制御電圧を減衰制御用MOSFET311のドレイン電位に入力する。信号減衰用MOSFET311は、ドレイン−ソース間バイアスが0V状態で用いられ、ドレイン電位が電源電圧の時はON抵抗が最も大きく、ドレイン電位の減少に伴って、徐々にON抵抗が減少し、ドレイン電位が0VでON抵抗が最小となる。ON抵抗の変化に伴い、信号入力端子304から信号出力端子305への通過特性の減衰量も変動する。   Next, circuit operation for realizing linear control characteristics will be described using the variable attenuation circuit of FIG. A continuous control voltage from 0 V to the power supply voltage potential is input to the control terminal (Vc) 306 of the attenuation control circuit unit 301 in FIG. This control voltage is input to the drain potential of the attenuation control MOSFET 311. The signal attenuating MOSFET 311 is used in a state where the drain-source bias is 0 V, and when the drain potential is the power supply voltage, the ON resistance is the largest. As the drain potential decreases, the ON resistance gradually decreases. Is 0V and the ON resistance is minimized. As the ON resistance changes, the attenuation amount of the pass characteristic from the signal input terminal 304 to the signal output terminal 305 also varies.

しかし、ここで例えばSi基板で可変減衰回路を実現する場合、基板抵抗が低いことの影響により、信号減衰用MOSFET111のバックゲートと基板間のインピーダンスが低く、この部分を通じて信号が基板に漏れ、信号減衰用MOSFET311のON抵抗で決まる減衰量がとれず、線形性が確保できない。その影響をなくすために、例えば、MOSFET311をトリプルウェル構造で作製し、MOSFET311のバックゲートと基板間に高抵抗を挿入することで、信号が漏れる経路を遮断し、線形性を確保している。   However, when a variable attenuation circuit is realized with, for example, a Si substrate, the impedance between the back gate and the substrate of the signal attenuation MOSFET 111 is low due to the low substrate resistance, and the signal leaks to the substrate through this portion. The attenuation determined by the ON resistance of the MOSFET 311 for attenuation cannot be obtained, and linearity cannot be ensured. In order to eliminate the influence, for example, the MOSFET 311 is manufactured in a triple well structure, and a high resistance is inserted between the back gate of the MOSFET 311 and the substrate, thereby blocking a signal leakage path and ensuring linearity.

また、本可変減衰回路は容量303を追加したことによってノイズ特性も改善している。   In addition, this variable attenuation circuit has improved noise characteristics due to the addition of the capacitor 303.

しきい値電圧補償ゲートバイアス回路部302は通常抵抗とトランジスタで構成されている。したがって、これらの抵抗やトランジスタで発生したノイズが信号減衰用MOSFET311のゲートを介して混入し、信号入力端子304から入ってきた高周波信号にのり、ノイズ特性を悪化させ、例えばGSM通信方式の受信帯域ノイズなどの要求を満たさなくなる。容量303の追加によって、しきい値電圧補償ゲートバイアス回路部302で発生したノイズを容量と抵抗のフィルタ効果によって遮断し、連続的に変化する可変減衰回路の如何なる状態においてもノイズ特性を向上させることができる。   The threshold voltage compensation gate bias circuit unit 302 is generally composed of a resistor and a transistor. Therefore, noise generated by these resistors and transistors is mixed through the gate of the signal attenuating MOSFET 311 and is applied to the high frequency signal input from the signal input terminal 304, thereby deteriorating noise characteristics. For example, the reception band of the GSM communication system It will not meet demands such as noise. By adding the capacitor 303, the noise generated in the threshold voltage compensation gate bias circuit unit 302 is cut off by the filter effect of the capacitor and the resistance, and the noise characteristic is improved in any state of the continuously changing variable attenuation circuit. Can do.

以上のように、減衰制御用MOSFET311を持つ可変減衰回路に、しきい値電圧補償ゲートバイアス回路部302と容量303とバックゲート付加高抵抗325を追加することで、製造プロセス・温度変動ばらつきによる信号減衰用MOSFET311のしきい値ばらつきを補正することが可能となり、また如何なる減衰状態でも信号減衰用MOSFET311での信号の漏れをなくすことができ、線形性を向上させることができた。さらにしきい値電圧補償ゲートバイアス回路部302で発生するノイズを落とすことができ、ノイズ特性を向上させることができた。結果として、マルチバンド・マルチ通信方式対応の可変減衰回路をSiプロセスにて実現でき、他の無線回路ブロックとの1チップ化も可能となった。   As described above, by adding the threshold voltage compensation gate bias circuit section 302, the capacitor 303, and the back gate additional high resistance 325 to the variable attenuation circuit having the attenuation control MOSFET 311, a signal caused by variations in the manufacturing process and temperature variation is obtained. It is possible to correct the threshold variation of the attenuating MOSFET 311 and to eliminate signal leakage in the signal attenuating MOSFET 311 in any attenuation state, thereby improving the linearity. Furthermore, noise generated in the threshold voltage compensation gate bias circuit unit 302 can be reduced, and noise characteristics can be improved. As a result, a variable attenuation circuit compatible with the multi-band multi-communication system can be realized by the Si process, and can be made into one chip with other radio circuit blocks.

なお、上記のゲートバイアス回路部302と容量303とバックゲート付加高抵抗325のどれか一つのみ、もしくはどれか二つのみ接続されている構成でもよい。また、MOSFETとしてはPチャネルMOSFETでもよい。また、トリプルウェル構造でなくとも同等の効果が発揮できればよい。   Note that the gate bias circuit unit 302, the capacitor 303, and the back gate additional high resistance 325 may be connected to one or only two of them. The MOSFET may be a P-channel MOSFET. Further, it is sufficient that the same effect can be exhibited even if the triple well structure is not used.

(第3の実施の形態)
本発明の第3の実施の形態は、課題の一点目、二点目、三点目、四点目、五点目に対応した可変減衰回路(集積回路)である。以下、図4を参照しながら説明する。
(Third embodiment)
The third embodiment of the present invention is a variable attenuation circuit (integrated circuit) corresponding to the first, second, third, fourth, and fifth points of the problem. Hereinafter, a description will be given with reference to FIG.

図4に示す本発明の第3の実施の形態における可変減衰回路は、信号入力端子404から入力した高周波信号を減衰して信号出力端子405から出力する減衰回路であり、その減衰量が外部端子406より制御可能な可変減衰回路を想定する。また、この可変減衰回路は、例えばSi半導体基板上に作製されることを想定する。   The variable attenuation circuit according to the third embodiment of the present invention shown in FIG. 4 is an attenuation circuit that attenuates a high-frequency signal input from the signal input terminal 404 and outputs the attenuated signal from the signal output terminal 405. The attenuation amount is an external terminal. A variable attenuation circuit that can be controlled from 406 is assumed. Further, it is assumed that this variable attenuation circuit is manufactured on, for example, a Si semiconductor substrate.

具体的には、本発明における可変減衰回路は、信号入力端子404と信号出力端子405との間に直列に挿入された信号減衰用MOSFET(信号減衰用素子)411を有する信号減衰部400と、信号減衰用MOSFET411のON抵抗を制御する減衰量制御回路部401と、信号減衰用MOSFET411のソースにバイアスを与えるソースバイアス回路部402とを有し、信号減衰用MOSFET411は、減衰量制御回路部401で生成された減衰量制御信号に応じた減衰量で高周波信号の減衰を行う。   Specifically, the variable attenuation circuit according to the present invention includes a signal attenuation unit 400 including a signal attenuation MOSFET (signal attenuation element) 411 inserted in series between the signal input terminal 404 and the signal output terminal 405, The signal attenuation MOSFET 411 includes an attenuation amount control circuit unit 401 that controls the ON resistance, and a source bias circuit unit 402 that applies a bias to the source of the signal attenuation MOSFET 411. The signal attenuation MOSFET 411 includes an attenuation amount control circuit unit 401. The high frequency signal is attenuated by an attenuation amount corresponding to the attenuation amount control signal generated in step (1).

また、この可変減衰回路は、信号減衰用MOSFET411のゲートと接地端子間に、容量403が追加されている。この容量403の効果は大きく二点ある。一点目が、減衰量制御回路部401で発生したノイズ成分が、信号減衰用MOSFET411のゲートを介して高周波信号ライン(信号入力端子404から信号出力端子405へ至るライン)に混入するのを防ぐことである。二点目が、信号減衰用MOSFET411のドレイン−ゲート間、ゲート−ソース間に発生する寄生容量の影響で、高減衰状態で高周波信号が信号入力端子404および信号出力端子405間に漏れるのを防ぐことである。   In the variable attenuation circuit, a capacitor 403 is added between the gate of the signal attenuation MOSFET 411 and the ground terminal. The effect of this capacitor 403 has two major points. The first point is to prevent noise components generated in the attenuation control circuit unit 401 from being mixed into a high-frequency signal line (a line extending from the signal input terminal 404 to the signal output terminal 405) via the gate of the signal attenuation MOSFET 411. It is. The second point is that the high-frequency signal is prevented from leaking between the signal input terminal 404 and the signal output terminal 405 in a high attenuation state due to the influence of the parasitic capacitance generated between the drain and gate of the signal attenuation MOSFET 411 and between the gate and source. That is.

さらに、この可変減衰回路のソースバイアス回路部402は、信号減衰用MOSFET411と同じしきい値電圧変動(温度特性)を持つソースバイアス生成用MOSFET417を用いてバイアス電圧を作成することで、信号減衰用MOSFET411の製造プロセスや温度によるしきい値電圧のばらつきを補正する効果を有している。   Further, the source bias circuit unit 402 of this variable attenuation circuit generates a bias voltage by using a source bias generation MOSFET 417 having the same threshold voltage fluctuation (temperature characteristic) as the signal attenuation MOSFET 411, thereby reducing the signal attenuation. This has the effect of correcting variations in threshold voltage due to the manufacturing process and temperature of the MOSFET 411.

その上、この可変減衰回路の信号減衰用MOSFET411のウェルはトリプルウェル構造となっており、バックゲート部と基板間に高抵抗424が追加されている。この高抵抗424の効果は、バックゲートを介して基板に信号が漏れるのを防ぐことである。   In addition, the well of the signal attenuation MOSFET 411 of this variable attenuation circuit has a triple well structure, and a high resistance 424 is added between the back gate portion and the substrate. The effect of the high resistance 424 is to prevent signals from leaking to the substrate via the back gate.

また、この可変減衰回路は、信号減衰用MOSFET411にソースバイアスを供給する抵抗422とドレインバイアスを供給する抵抗423の接続部と接地端子間に、容量425とスイッチ426が追加されている。この容量425とスイッチ426の効果としては、ソースバイアス、ドレインバイアスを供給するために信号減衰用MOSFET411のドレイン−ソース間に挿入されている抵抗を介して、高減衰状態で高周波信号が信号入力端子404から信号出力端子405に漏れるのを防ぐことである。抵抗を分割して、高周波接地することで、信号の漏れを防ぐ。信号が通過する低減衰状態での信号の漏れをなくすためにスイッチを挿入して、低減衰状態では容量が見えないようにする。   Further, in this variable attenuation circuit, a capacitor 425 and a switch 426 are added between a connection portion of a resistor 422 that supplies a source bias to the signal attenuation MOSFET 411 and a resistor 423 that supplies a drain bias and a ground terminal. The effect of the capacitor 425 and the switch 426 is that a high frequency signal is input to the signal input terminal in a high attenuation state via a resistor inserted between the drain and source of the signal attenuation MOSFET 411 to supply the source bias and the drain bias. This is to prevent leakage from 404 to the signal output terminal 405. Dividing the resistor and grounding at high frequency prevents signal leakage. A switch is inserted to eliminate signal leakage in the low attenuation state through which the signal passes so that the capacitance is not visible in the low attenuation state.

ここで、スイッチ426の制御の仕方について説明する。利得制御端子406の電圧Vcが低いときは、スイッチ426はオンとなり、電圧Vcが高いときは、スイッチ426はオフとなる。電圧Vcは連続的に変化するため、スイッチ426は正確には、オンまたはオフ動作ではなく、オン状態から徐々にオフ状態に変化することになる(連続的なオンオフ動作)。上記スイッチ426は、アナログ的なスイッチ、主にMOSFETで構成される。   Here, a method of controlling the switch 426 will be described. When the voltage Vc at the gain control terminal 406 is low, the switch 426 is turned on, and when the voltage Vc is high, the switch 426 is turned off. Since the voltage Vc changes continuously, the switch 426 does not accurately turn on or off, but gradually changes from the on state to the off state (continuous on / off operation). The switch 426 is an analog switch, mainly a MOSFET.

スイッチ(MOSFET)426の制御回路としては、例えば、MOSFETのゲート電位を固定して、MOSFETのソース/ドレイン端子を抵抗を介して利得制御端子426に接続することで、上記のような連続的なオンオフ動作を行う。   As a control circuit for the switch (MOSFET) 426, for example, by fixing the gate potential of the MOSFET and connecting the source / drain terminal of the MOSFET to the gain control terminal 426 through a resistor, Performs on / off operation.

以下、具体的に可変減衰回路の回路接続について説明する。   The circuit connection of the variable attenuation circuit will be specifically described below.

まず、信号減衰用素子としては、例えばトリプルウェル構造をしたNチャネルMOSFETが好適である。信号減衰用MOSFET411は、高周波可変減衰回路の信号入力端子404と信号出力端子405との間の信号経路に直列に挿入されており、信号入力端子404と信号減衰用MOSFET411との間には、DC成分を遮断して、高周波成分のみ通過するDC遮断容量412が挿入されており、信号減衰用MOSFET411と信号出力端子405との間には、同じくDC遮断容量413が挿入されている。信号減衰用MOSFET411のバックゲート部と基板との間には、信号の漏れを遮断する高抵抗424が挿入されている。   First, as the signal attenuating element, for example, an N-channel MOSFET having a triple well structure is suitable. The signal attenuating MOSFET 411 is inserted in series in the signal path between the signal input terminal 404 and the signal output terminal 405 of the high frequency variable attenuating circuit, and the DC between the signal input terminal 404 and the signal attenuating MOSFET 411 is a DC. A DC blocking capacitor 412 that blocks components and passes only high-frequency components is inserted, and a DC blocking capacitor 413 is also inserted between the signal attenuation MOSFET 411 and the signal output terminal 405. A high resistance 424 for blocking signal leakage is inserted between the back gate portion of the signal attenuating MOSFET 411 and the substrate.

次に、信号減衰用MOSFET411のゲートには、減衰量制御回路部401が接続されている。減衰量制御回路部401の構成を説明する。減衰量制御用抵抗415と減衰量制御用抵抗416とが直列に接続され、抵抗415のもう片側の端子が利得制御端子(Vc)406に接続され、抵抗416のもう片側の端子が接地端子に接続されている。抵抗415と抵抗416との接続部と信号減衰用MOSFET411のゲートとの間には、高周波を遮断して、DCのみ通過させる高い抵抗値を有する抵抗414が接続されている。さらに、信号減衰用MOSFET411のゲートと接地端子間に、容量403が追加されている。   Next, an attenuation control circuit unit 401 is connected to the gate of the signal attenuation MOSFET 411. The configuration of the attenuation control circuit unit 401 will be described. The attenuation control resistor 415 and the attenuation control resistor 416 are connected in series, the other terminal of the resistor 415 is connected to the gain control terminal (Vc) 406, and the other terminal of the resistor 416 is connected to the ground terminal. It is connected. A resistor 414 having a high resistance value that blocks high frequency and passes only DC is connected between a connection portion between the resistor 415 and the resistor 416 and the gate of the signal attenuation MOSFET 411. Further, a capacitor 403 is added between the gate of the signal attenuation MOSFET 411 and the ground terminal.

信号減衰用MOSFET411のソース端子に接続されているソースバイアス回路部402について説明する。抵抗420と抵抗421とが直列に接続され、抵抗420のもう片側の端子が電源電圧端子(Vdd)407に接続され、抵抗421のもう片側の端子が接地端子に接続されている。抵抗420と抵抗421との接続部には、ソースバイアス生成用MOSFET417のゲートが接続され、このソースバイアス生成用MOSFET417は、信号減衰用MOSFET411と同じ製造プロセス・温度変動ばらつきを有している。ソースバイアス生成用MOSFET417のドレインと電源電圧端子407との間には、抵抗418が接続され、ソースバイアス生成用MOSFET417のソースと接地端子との間には、抵抗419が接続されている。また、ソースバイアス生成用MOSFET417のソースと信号減衰用MOSFET411のソースの間には高周波を遮断してDCのみ通過させる高い抵抗値を有する抵抗422が接続され、ソースバイアス生成用MOSFET417のソースと信号減衰用MOSFET411のドレインとの間には高周波を遮断してDCのみ通過させる高い抵抗値を有する抵抗423が接続されている。信号減衰用MOSFET411にソースバイアスを供給する抵抗422とドレインバイアスを供給する抵抗423の接続部と接地端子間に、容量425とスイッチ426が追加されている。   The source bias circuit unit 402 connected to the source terminal of the signal attenuation MOSFET 411 will be described. The resistor 420 and the resistor 421 are connected in series, the other terminal of the resistor 420 is connected to the power supply voltage terminal (Vdd) 407, and the other terminal of the resistor 421 is connected to the ground terminal. A gate of a source bias generation MOSFET 417 is connected to a connection portion between the resistor 420 and the resistor 421, and the source bias generation MOSFET 417 has the same manufacturing process and temperature variation variation as the signal attenuation MOSFET 411. A resistor 418 is connected between the drain of the source bias generating MOSFET 417 and the power supply voltage terminal 407, and a resistor 419 is connected between the source of the source bias generating MOSFET 417 and the ground terminal. Also, a resistor 422 having a high resistance value that cuts off the high frequency and passes only DC is connected between the source of the source bias generating MOSFET 417 and the source of the signal attenuating MOSFET 411, and the signal attenuating with the source of the source bias generating MOSFET 417. A resistor 423 having a high resistance value that cuts off the high frequency and passes only DC is connected between the drain of the MOSFET 411 for use. A capacitor 425 and a switch 426 are added between the connection portion of the resistor 422 that supplies the source bias to the signal attenuating MOSFET 411 and the resistor 423 that supplies the drain bias and the ground terminal.

図10は図1のようなソースバイアス回路部402を用いた場合の可変減衰回路の温度に対する各電圧値の変動を表した図であり、図11は、そのときの制御電圧に対する利得特性を表した図である。図10では、図8と違い、温度の上昇に伴って、Vrefを減少させる構成とする。その結果、温度が増加してしきい値電圧Vthが増加した場合も、温度が低下してしきい値電圧Vthが減少した場合もVg−Vref−Vthは常に一定となり、温度変動によらず、図11のように同じ制御特性を描くことが可能となる。   FIG. 10 is a diagram showing the variation of each voltage value with respect to the temperature of the variable attenuation circuit when the source bias circuit unit 402 as shown in FIG. 1 is used, and FIG. 11 shows the gain characteristic with respect to the control voltage at that time. FIG. In FIG. 10, unlike FIG. 8, the configuration is such that Vref decreases as the temperature rises. As a result, Vg−Vref−Vth is always constant regardless of temperature fluctuations even when the temperature increases and the threshold voltage Vth increases, or when the temperature decreases and the threshold voltage Vth decreases. It is possible to draw the same control characteristics as shown in FIG.

図11のようなばらつき補正を実現する回路動作について図4の可変減衰回路を用いて説明する。図4のソースバイアス回路部402のソースバイアス生成用MOSFET417のゲート電位は抵抗420と抵抗421との抵抗分割で決定される。ソースバイアス生成用MOSFET417は信号減衰用MOSFET411と同じく、温度が上昇するとしきい値電圧が増加する特性を持っているため、温度の上昇に伴い、しきい値電圧が増加し、一方ゲート電位は一定であるため、ソース電位の減少、ソースバイアス生成用MOSFET417に流れる電流の減少が起こる。その結果、信号減衰用MOSFET411のソースバイアス電位は減少し、しきい値電圧変動の補正が実現できる。   The circuit operation for realizing the variation correction as shown in FIG. 11 will be described using the variable attenuation circuit of FIG. The gate potential of the source bias generation MOSFET 417 of the source bias circuit section 402 in FIG. Like the signal attenuation MOSFET 411, the source bias generation MOSFET 417 has a characteristic that the threshold voltage increases as the temperature rises. Therefore, the threshold voltage increases as the temperature rises, while the gate potential is constant. Therefore, the source potential decreases and the current flowing through the source bias generation MOSFET 417 decreases. As a result, the source bias potential of the signal attenuating MOSFET 411 is reduced, and correction of the threshold voltage fluctuation can be realized.

次に線形な制御特性を実現する回路動作について図4の可変減衰回路を用いて説明する。図4の減衰量制御回路部401の制御端子(Vc)406には、0Vから電源電圧電位まで、連続的な制御電圧が入力される。この制御電圧を抵抗415と抵抗416とによって分圧して、信号減衰用MOSFET411のゲートに入力する。信号減衰用MOSFET411はドレイン−ソース間バイアスが0Vで用いられ、ゲート電位が0Vの時はON抵抗が最も大きく、ゲート電位の増加に伴って、徐々にON抵抗が減少し、ゲート電位が電源電圧となると、ON抵抗が最小となる。ON抵抗の変化に伴い、信号入力端子404から信号出力端子405への通過特性の減衰量も変動する。また、抵抗415と抵抗416とで分圧することで、任意の制御特性が実現可能である。   Next, a circuit operation for realizing a linear control characteristic will be described using the variable attenuation circuit of FIG. A continuous control voltage from 0 V to the power supply voltage potential is input to the control terminal (Vc) 406 of the attenuation control circuit unit 401 in FIG. This control voltage is divided by the resistors 415 and 416 and input to the gate of the signal attenuation MOSFET 411. The signal attenuating MOSFET 411 is used with a drain-source bias of 0 V. When the gate potential is 0 V, the ON resistance is the largest. As the gate potential increases, the ON resistance gradually decreases, and the gate potential becomes the power supply voltage. Then, the ON resistance is minimized. As the ON resistance changes, the attenuation of the pass characteristic from the signal input terminal 404 to the signal output terminal 405 also varies. Further, by dividing the voltage with the resistor 415 and the resistor 416, an arbitrary control characteristic can be realized.

しかし、ここで例えばSi基板で可変減衰回路を実現する場合、信号減衰用MOSFET411のドレイン−ゲート間、ゲート−ソース間に発生する寄生容量の影響で信号が漏れ、信号減衰用MOSFET411のON抵抗で決まる減衰量がとれず、線形性が確保できない。その影響をなくすために、容量403を信号減衰用MOSFET411のゲートと接地間に挿入する。容量403を挿入することで、信号減衰用MOSFET411のドレイン−ゲート間、ゲート−ソース間を介して信号が漏れる経路を遮断し、線形性を確保している。   However, when a variable attenuation circuit is realized with a Si substrate, for example, a signal leaks due to the parasitic capacitance generated between the drain and gate of the signal attenuating MOSFET 411 and between the gate and the source, and the ON resistance of the signal attenuating MOSFET 411 The determined amount of attenuation cannot be obtained, and linearity cannot be ensured. In order to eliminate the influence, the capacitor 403 is inserted between the gate of the signal attenuation MOSFET 411 and the ground. By inserting the capacitor 403, the signal leakage path between the drain and gate of the signal attenuating MOSFET 411 and between the gate and source is cut off to ensure linearity.

また、ここで上記と同じく、例えばSi基板で可変減衰回路を実現する場合、基板抵抗が低いことの影響により、信号減衰用MOSFET411のバックゲートと基板間のインピーダンスが低く、この部分を通じて信号が基板に漏れ、信号減衰用MOSFET411のON抵抗で決まる減衰量がとれず、線形性が確保できない。その影響をなくすために、例えば、MOSFET411をトリプルウェル構造で作製し、MOSFET411のバックゲートと基板間に高抵抗を挿入することで、信号が漏れる経路を遮断し、線形性を確保している。   In the same way as described above, for example, when the variable attenuation circuit is realized with a Si substrate, the impedance between the back gate and the substrate of the signal attenuation MOSFET 411 is low due to the low substrate resistance. Leakage, the amount of attenuation determined by the ON resistance of the signal attenuation MOSFET 411 cannot be obtained, and linearity cannot be ensured. In order to eliminate the influence, for example, the MOSFET 411 is manufactured in a triple well structure, and a high resistance is inserted between the back gate of the MOSFET 411 and the substrate, thereby blocking a signal leakage path and ensuring linearity.

また、例えばSi基板でMOSFETを用いて可変減衰回路を実現する場合、MOSFET411のソースとドレインに同電位を与える必要がある。その際、ソースバイアス回路402で生成した電圧を高抵抗422を介してソースに供給し、高抵抗423を介してドレインに供給するという方法が一般に用いられる。しかしその場合、高減衰状態において、抵抗を介してドレインからソースに信号が漏れ、MOSFET411の遮断時の減衰特性ほど減衰量がとれないという問題がある。その影響をなくすために、例えば、MOSFET411のソースバイアス抵抗422とドレインバイアス抵抗423の接続部と接地端子間に容量425とスイッチ426を挿入し、高アイソレーション状態では、スイッチ426をONにすることで、ソースバイアス抵抗、ドレインバイアス抵抗を介して、入力端子から出力端子に信号が漏れる経路を遮断し、高アイソレーション時の減衰特性を向上させることができる。また、通過状態には、スイッチ426をOFFとすることで、容量425の影響で通過時に信号が漏れるのを防ぐ。   For example, when a variable attenuation circuit is realized using a MOSFET on a Si substrate, it is necessary to apply the same potential to the source and drain of the MOSFET 411. At that time, a method is generally used in which the voltage generated by the source bias circuit 402 is supplied to the source via the high resistance 422 and supplied to the drain via the high resistance 423. However, in that case, in a high attenuation state, there is a problem that a signal leaks from the drain to the source via the resistor, and the attenuation amount cannot be as much as the attenuation characteristic when the MOSFET 411 is cut off. In order to eliminate the influence, for example, the capacitor 425 and the switch 426 are inserted between the connection portion of the source bias resistor 422 and the drain bias resistor 423 of the MOSFET 411 and the ground terminal, and the switch 426 is turned on in the high isolation state. Thus, a path through which a signal leaks from the input terminal to the output terminal via the source bias resistor and the drain bias resistor can be cut off, and the attenuation characteristic at the time of high isolation can be improved. Further, in the passing state, the switch 426 is turned OFF to prevent the signal from leaking when passing due to the influence of the capacitor 425.

図14Aは、実際に図4と図2の可変減衰回路を用いて、回路シミュレーションを行った結果を示している。従来回路と本発明回路において、最大出力時(Vc=1.8V)のレベルに差異はないが、Vc=1.5V以下において、従来回路では信号の漏れが大きく、十分に減衰量が取れていないが、逆に実施の形態3を適用した本発明回路では、ゲート容量403、バックゲート付加高抵抗424、ソースバイアス回路に付加する容量425とスイッチ426を追加したことにより、MOSFET411の本来の性能に近い減衰量が得られ、減衰制御特性として大きく改善された。   FIG. 14A shows a result of circuit simulation actually using the variable attenuation circuit of FIGS. 4 and 2. There is no difference in the level at the maximum output (Vc = 1.8V) between the conventional circuit and the circuit according to the present invention. However, when Vc = 1.5V or less, the signal leakage is large in the conventional circuit and the attenuation is sufficiently obtained. In contrast, in the circuit of the present invention to which the third embodiment is applied, the original performance of the MOSFET 411 is obtained by adding the gate capacitor 403, the back gate added high resistance 424, the capacitor 425 added to the source bias circuit, and the switch 426. A damping amount close to is obtained, and the damping control characteristic is greatly improved.

また、本可変減衰回路は、容量403を追加したことによってノイズ特性も改善している。減衰量制御回路部401は通常抵抗で構成されている。したがって、この抵抗で発生したノイズが信号減衰用MOSFET411のゲートを介して混入し、信号入力端子404から入ってきた高周波信号にのり、ノイズ特性を悪化させ、例えばGSM通信方式の受信帯域ノイズなどの要求を満たさなくなる。   In addition, the variable attenuation circuit has improved noise characteristics due to the addition of the capacitor 403. The attenuation amount control circuit unit 401 is usually composed of a resistor. Therefore, noise generated by this resistor is mixed through the gate of the signal attenuating MOSFET 411 and is applied to the high-frequency signal that has entered from the signal input terminal 404, thereby deteriorating noise characteristics. For example, GSM communication system reception band noise, etc. The requirement is not met.

しかし、容量403の追加によって、減衰量制御回路部401で発生したノイズを容量403と抵抗414のフィルタ効果によって遮断し、連続的に変化する可変減衰回路の如何なる状態においてもノイズ特性を向上させることができる。図14Bは、実際に図4と図2の可変減衰回路を用いて、回路シミュレーションを行った結果を示している。実施の形態3では、容量403を追加したことにより、ノイズ特性が大きく改善された。   However, by adding the capacitor 403, the noise generated in the attenuation control circuit unit 401 is cut off by the filter effect of the capacitor 403 and the resistor 414, and the noise characteristic is improved in any state of the continuously changing variable attenuation circuit. Can do. FIG. 14B shows the result of circuit simulation using the variable attenuation circuit of FIGS. 4 and 2 in practice. In the third embodiment, the noise characteristics are greatly improved by adding the capacitor 403.

以上のように、信号減衰用MOSFET411を持つ可変減衰回路に、ソースバイアス回路部402と容量403とバックゲート付加高抵抗424とソースバイアス付加容量425+スイッチ426を追加することで、製造プロセス・温度変動ばらつきによる信号減衰用MOSFET411のしきい値ばらつきを補正することが可能となり、また如何なる減衰状態でも信号減衰用MOSFET411やその他抵抗の信号の漏れをなくすことができ、線形性を向上させることができた。さらに減衰量制御回路部401で発生するノイズを落とすことができ、ノイズ特性を向上させることができた。結果として、マルチバンド・マルチ通信方式対応の可変減衰回路をSiプロセスにて実現でき、他の無線回路ブロックとの1チップ化も可能となった。   As described above, by adding the source bias circuit unit 402, the capacitor 403, the back gate additional high resistance 424, the source bias additional capacitor 425 + the switch 426 to the variable attenuation circuit having the signal attenuation MOSFET 411, the manufacturing process and temperature variation It is possible to correct the threshold variation of the signal attenuation MOSFET 411 due to the variation, and it is possible to eliminate the signal leakage of the signal attenuation MOSFET 411 and other resistors in any attenuation state, thereby improving the linearity. . Furthermore, noise generated in the attenuation control circuit unit 401 can be reduced, and noise characteristics can be improved. As a result, a variable attenuation circuit compatible with the multi-band multi-communication system can be realized by the Si process, and can be made into one chip with other radio circuit blocks.

なお、上記のソースバイアス回路部402と容量403とバックゲート付加高抵抗424とソースバイアス回路付加容量425+スイッチ426、のどれか一つのみ、もしくはどれか二つのみ、もしくはどれか三つのみ、もしくはすべて接続されている構成でもよい。なお、MOSFETとしてはPチャネルMOSFETでもよい。また、トリプルウェル構造でなくとも同等の効果が発揮できればよい。また、ソースバイアス回路付加容量425とスイッチ425の直列回路ではなく、ソースバイアス回路付加容量425のみを設ける構成でもよい。   Note that only one of the source bias circuit unit 402, the capacitor 403, the back gate additional high resistance 424, the source bias circuit additional capacitor 425 and the switch 426, or only two, or only three, Alternatively, a configuration in which all are connected may be used. The MOSFET may be a P-channel MOSFET. Further, it is sufficient that the same effect can be exhibited even if the triple well structure is not used. Further, instead of the series circuit of the source bias circuit additional capacitor 425 and the switch 425, only the source bias circuit additional capacitor 425 may be provided.

(第4の実施の形態)
以下、本発明の第4の実施の形態に係る可変減衰回路(集積回路)について、図6を参照しながら説明する。
(Fourth embodiment)
Hereinafter, a variable attenuation circuit (integrated circuit) according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図6は、図1の可変減衰回路もしくは図3の可変減衰回路もしくは図4の可変減衰回路を少なくとも一つ用いた可変減衰回路である。回路構成、動作原理について説明する。   6 is a variable attenuation circuit using at least one of the variable attenuation circuit of FIG. 1, the variable attenuation circuit of FIG. 3, or the variable attenuation circuit of FIG. The circuit configuration and operation principle will be described.

GaAs等を用いた可変減衰回路は、一般に基板上に単独で作製する場合が多く、その場合、高周波においては入出力ともに50Ωで終端する必要があり、図16のように可変減衰回路を構成する。図16において、1601〜1604はそれぞれ可変抵抗(可変減衰回路)である。Vcは減衰量制御端子、Vref1〜Vref4はバイアス端子、INは入力端子、OUTは出力端子である。この回路構成においては、並列(シャント)に挿入した可変抵抗部分で、高減衰状態から低減衰状態まで、入出力ともに50Ωで終端されている。しかし、Si基板上で作製する場合、必ずしも入出力ともに終端する必要がない。例えば、入力側がインバータ等のデジタル回路の場合、可変減衰回路の入力インピーダンスは低く、初段の並列の可変抵抗を挿入しても効果がない。また、初段に可変抵抗を挿入することで、可変減衰回路の入力インピーダンスが低くなり、前段回路に大きな駆動力が必要となる。そのような場合、図5で示すようなはしご型の可変減衰回路が望ましい。図5において、501、502は図1もしくは図4に示したような可変減衰回路、503、504は図3に示したような可変減衰回路、505は信号入力端子、506は信号出力端子、507は利得制御端子である。   In general, a variable attenuation circuit using GaAs or the like is often produced independently on a substrate. In that case, both input and output must be terminated at 50Ω at a high frequency, and the variable attenuation circuit is configured as shown in FIG. . In FIG. 16, reference numerals 1601 to 1604 denote variable resistors (variable attenuation circuits). Vc is an attenuation control terminal, Vref1 to Vref4 are bias terminals, IN is an input terminal, and OUT is an output terminal. In this circuit configuration, a variable resistance portion inserted in parallel (shunt) is terminated at 50 Ω for both input and output from a high attenuation state to a low attenuation state. However, when manufacturing on a Si substrate, it is not always necessary to terminate both input and output. For example, when the input side is a digital circuit such as an inverter, the input impedance of the variable attenuation circuit is low, and inserting a first-stage parallel variable resistor has no effect. Also, by inserting a variable resistor in the first stage, the input impedance of the variable attenuation circuit is lowered, and a large driving force is required for the previous circuit. In such a case, a ladder-type variable attenuation circuit as shown in FIG. 5 is desirable. In FIG. 5, 501 and 502 are variable attenuation circuits as shown in FIG. 1 or FIG. 4, 503 and 504 are variable attenuation circuits as shown in FIG. 3, 505 is a signal input terminal, 506 is a signal output terminal, 507 Is a gain control terminal.

初段に挿入されていた可変抵抗を中段に挿入することで抵抗を挿入した効果を出し、減衰特性を改善させ、また、可変減衰回路の入力インピーダンスを常に高くすることができるため、前段回路の駆動力を小さくすることが可能となり、低消費化が実現できる。   By inserting the variable resistor inserted in the first stage into the middle stage, the effect of inserting the resistor is produced, the attenuation characteristic is improved, and the input impedance of the variable attenuation circuit can be constantly increased, so that the previous stage circuit is driven. The force can be reduced, and the consumption can be reduced.

図5の回路構成に図4と図3の可変減衰回路を用いた可変減衰回路が図6である。図6では、信号入力端子601から入ってきた高周波信号が、減衰動作部611、612、613、614で減衰されて、信号出力端子602より出力される。ここでいう減衰動作部611、612、613、614は、図4または図3における、信号減衰部と減衰量制御部とをまとめたものである。   FIG. 6 shows a variable attenuation circuit using the variable attenuation circuit of FIGS. 4 and 3 in the circuit configuration of FIG. In FIG. 6, the high-frequency signal that has entered from the signal input terminal 601 is attenuated by the attenuation operation units 611, 612, 613, and 614 and is output from the signal output terminal 602. The attenuation operation units 611, 612, 613, and 614 here are a collection of the signal attenuation unit and the attenuation amount control unit in FIG. 4 or FIG. 3.

減衰量は、減衰量制御端子(Vc)603によって、高減衰状態から低減衰状態まで連続的に制御される。この可変減衰回路において、減衰動作部611と減衰動作部613の信号減衰用MOSFETのしきい値電圧のばらつき補正回路として図4に示した共通のソースバイアス生成回路615が追加され、減衰動作部612の信号減衰用MOSFETのしきい値電圧のばらつき補正回路として図3に示したゲートバイアス生成回路616が追加され、減衰動作部614の信号減衰用MOSFETのしきい値電圧のばらつき補正回路として図3に示したゲートバイアス生成回路617が追加されている。また、線形性の確保、ノイズ特性の向上のために、各信号減衰用MOSFETのゲートと接地端子間には容量が追加されている。各MOSFETはトリプルウェル構造となっており、バックゲートと基板間には基板への信号の漏れを軽減するために高抵抗が挿入されている。減衰動作部611と減衰動作部613の信号減衰用MOSFETのソースバイアス抵抗とドレインバイアス抵抗の接続部と接地間には容量とスイッチが挿入されている。   The attenuation is continuously controlled from the high attenuation state to the low attenuation state by the attenuation amount control terminal (Vc) 603. In this variable attenuation circuit, a common source bias generation circuit 615 shown in FIG. 4 is added as a threshold voltage variation correction circuit for the signal attenuating MOSFETs of the attenuation operation unit 611 and the attenuation operation unit 613, and the attenuation operation unit 612. The gate bias generation circuit 616 shown in FIG. 3 is added as a variation correction circuit for the threshold voltage of the signal attenuating MOSFET, and the threshold voltage variation correction circuit for the signal attenuating MOSFET of the attenuation operation unit 614 is added as shown in FIG. The gate bias generation circuit 617 shown in FIG. Further, in order to ensure linearity and improve noise characteristics, a capacitance is added between the gate and ground terminal of each signal attenuating MOSFET. Each MOSFET has a triple well structure, and a high resistance is inserted between the back gate and the substrate in order to reduce signal leakage to the substrate. A capacitor and a switch are inserted between the connection portion of the source bias resistor and the drain bias resistor of the signal attenuating MOSFETs of the attenuation operation unit 611 and the attenuation operation unit 613 and the ground.

ここで、減衰動作部12、14を構成するコンデンサとMOSFETとの直列回路が、上記の容量とスイッチの役割を果たしている。   Here, a series circuit of a capacitor and a MOSFET constituting the attenuating operation units 12 and 14 plays the role of the capacitance and the switch.

図15A、図15Bは、実際に図6の可変減衰回路を用いて、回路シミュレーションを行った結果である。図15Aが制御特性を示し、図15Bがノイズ特性を示す。ゲート容量、バックゲート付加高抵抗、ソースバイアス回路に付加する容量とスイッチを追加した効果で、線形性が大きく改善され、直列の信号減衰部、並列の信号減衰部を交互に2段接続することで、図15Aのような制御特性を実現し、800MHz帯、2GHz帯ともに50dB以上の可変減衰範囲を実現した。また、図15Bより、ノイズ特性も大きく向上したことが分かる。結果として、ばらつき特性、線形性、ノイズ特性に優れた可変減衰回路の作製を可能とした。   15A and 15B show the results of circuit simulation using the variable attenuation circuit shown in FIG. FIG. 15A shows the control characteristics, and FIG. 15B shows the noise characteristics. The linearity is greatly improved by adding a capacitor and a switch added to the gate capacitance, back gate added high resistance, source bias circuit, and serial signal attenuator and parallel signal attenuator are connected in two stages alternately. Thus, the control characteristics as shown in FIG. 15A were realized, and a variable attenuation range of 50 dB or more was realized in both the 800 MHz band and the 2 GHz band. In addition, it can be seen from FIG. 15B that the noise characteristics are greatly improved. As a result, a variable attenuation circuit having excellent variation characteristics, linearity, and noise characteristics can be manufactured.

なお、図6の可変減衰回路において、各信号減衰用MOSFETのゲートと接地端子間に追加されている容量のうち少なくとも一つ、もしくは、バックゲートと基板間の高抵抗のうち少なくとも一つ、もしくは、信号減衰用MOSFETのしきい値電圧のばらつき補正回路のうち少なくとも一つ、もしくは、ソースバイアス、ドレインバイアス付加容量のうち少なくとも一つが追加されていればよく、全て接続されている必要はない。また、並列(シャント)の信号減衰部と直列の信号減衰部の接続は、この順でなくてもよく、段数も何段でも構わない。MOSFETとしてはPチャネルMOSFETでもよい。また、トリプルウェル構造でなくとも同等の効果が発揮できればよい。   In the variable attenuation circuit of FIG. 6, at least one of the capacitors added between the gate and the ground terminal of each signal attenuation MOSFET, or at least one of the high resistances between the back gate and the substrate, or It is sufficient that at least one of the threshold voltage variation correction circuits of the signal attenuating MOSFET or at least one of the source bias and drain bias additional capacitors is added, and all of them need not be connected. Further, the connection between the parallel (shunt) signal attenuating unit and the series signal attenuating unit may not be in this order, and the number of stages may be any number. The MOSFET may be a P-channel MOSFET. Further, it is sufficient that the same effect can be exhibited even if the triple well structure is not used.

(第5の実施の形態)
以下、本発明の第5の実施の形態に係る集積回路について、図7を参照しながら説明する。
(Fifth embodiment)
Hereinafter, an integrated circuit according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図7は、図1もしくは図3もしくは図4もしくは図6の可変減衰回路を用いた高周波無線送信回路システム(装置)の一例を示すブロック図である。回路構成、動作原理について説明する。   FIG. 7 is a block diagram showing an example of a high-frequency wireless transmission circuit system (apparatus) using the variable attenuation circuit of FIG. 1, FIG. 3, FIG. 4, or FIG. The circuit configuration and operation principle will be described.

この高周波無線送信回路システムは、図7に示すように、発振器(VCO)701の発振信号を分周器(Divider)702で分周し、インバータ等で構成されたバッファ(Buffer)703を通った後、可変減衰回路(Variable Attenuator)704で利得を制御して減衰し、ドライバアンプ(Driver)705で増幅した後、高周波増幅器(PA)706で更に増幅し、アンテナ707から送信する。   As shown in FIG. 7, the high-frequency radio transmission circuit system divides the oscillation signal of an oscillator (VCO) 701 by a divider 702 and passes through a buffer 703 constituted by an inverter or the like. Thereafter, the gain is controlled by a variable attenuation circuit (Variable Attenuator) 704 to be attenuated, amplified by a driver amplifier (Driver) 705, further amplified by a high frequency amplifier (PA) 706, and transmitted from an antenna 707.

図7の高周波無線送信回路システムの可変減衰回路704に本発明を適用することで、可変減衰回路を他の回路ブロックと同一Si半導体基板上にシステムを構築した場合においても、ばらつき特性、線形性、アイソレーション特性、ノイズ特性に優れた可変減衰回路を実現でき、通過特性の良好なシステムが得られる。   By applying the present invention to the variable attenuation circuit 704 of the high-frequency wireless transmission circuit system of FIG. 7, even when the variable attenuation circuit is constructed on the same Si semiconductor substrate as other circuit blocks, variation characteristics and linearity are achieved. Therefore, a variable attenuation circuit excellent in isolation characteristics and noise characteristics can be realized, and a system having good pass characteristics can be obtained.

なお、高周波無線送信回路システムの構成例としては、上記にとどまらず、少なくとも一つの可変減衰回路と少なくとも一つの発振器と少なくとも一つの増幅器とを備えた無線送信装置と無線送信装置に接続されて少なくとも一つの無線周波数を送受信することの可能なアンテナを備えた無線送信回路システムならばよい。   Note that the configuration example of the high-frequency wireless transmission circuit system is not limited to the above, and is connected to the wireless transmission device including at least one variable attenuation circuit, at least one oscillator, and at least one amplifier, and at least connected to the wireless transmission device. Any radio transmission circuit system including an antenna capable of transmitting and receiving one radio frequency may be used.

この実施の形態によれば、上記実施の形態と同様の効果が得られる。   According to this embodiment, the same effect as that of the above embodiment can be obtained.

本発明は、各種の無線通信機器において高周波信号の減衰に用いるのに有用である。   The present invention is useful for use in attenuation of high-frequency signals in various wireless communication devices.

本発明の第1の実施の形態における可変減衰回路の一回路構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows one circuit structure of the variable attenuation circuit in the 1st Embodiment of this invention. GaAsプロセスを用いて作製された可変減衰回路の従来例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the prior art example of the variable attenuation circuit produced using the GaAs process. 本発明の第2の実施の形態における可変減衰回路の一回路構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows one circuit structure of the variable attenuation circuit in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態における可変減衰回路の一回路構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows one circuit structure of the variable attenuation circuit in the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施の形態における可変減衰回路の一回路構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows one circuit structure of the variable attenuation circuit in the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施の形態における可変減衰回路の一回路構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows one circuit structure of the variable attenuation circuit in the 4th Embodiment of this invention. 本発明を適用した高周波無線送信回路システムの一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of the high frequency wireless transmission circuit system to which this invention is applied. 図2のような従来の可変減衰回路において、温度に対するMOSFETの各バイアス値の変動を表した模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing fluctuation of each bias value of a MOSFET with respect to temperature in the conventional variable attenuation circuit as shown in FIG. 2. 図2のような従来の可変減衰回路において、制御電圧に対する可変減衰回路の減衰量を表した模式図である。In the conventional variable attenuation circuit like FIG. 2, it is the schematic diagram showing the attenuation amount of the variable attenuation circuit with respect to the control voltage. 本発明の第1、第3の実施の形態における図1、図4の可変減衰回路において、温度に対するMOSFETの各バイアス値の変動を表した模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing fluctuation of each bias value of a MOSFET with respect to temperature in the variable attenuation circuit of FIGS. 1 and 4 in the first and third embodiments of the present invention. 本発明の第1、第3の実施の形態における図1、図4の可変減衰回路において、制御電圧に対する可変減衰回路の減衰量を表した模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing the attenuation amount of the variable attenuation circuit with respect to the control voltage in the variable attenuation circuit of FIGS. 1 and 4 in the first and third embodiments of the present invention. 本発明の第2の実施の形態における図3の可変減衰回路において、温度に対するMOSFETの各バイアス値の変動を表した模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing fluctuations of each bias value of a MOSFET with respect to temperature in the variable attenuation circuit of FIG. 3 in the second embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施の形態における図3の可変減衰回路において、制御電圧に対する可変減衰回路の減衰量を表した模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing the attenuation amount of the variable attenuation circuit with respect to the control voltage in the variable attenuation circuit of FIG. 3 in the second embodiment of the present invention. 本発明の第3の実施の形態における図4の可変減衰回路と従来の可変減衰回路において、制御電圧に対する減衰量のシミュレーション結果を示す図である。It is a figure which shows the simulation result of the attenuation amount with respect to a control voltage in the variable attenuation circuit of FIG. 4 in the 3rd Embodiment of this invention, and the conventional variable attenuation circuit. 本発明の第3の実施の形態における図4の可変減衰回路と従来の可変減衰回路において、制御電圧に対するノイズ特性のシミュレーション結果を示す図である。It is a figure which shows the simulation result of the noise characteristic with respect to a control voltage in the variable attenuation circuit of FIG. 4 in the 3rd Embodiment of this invention, and the conventional variable attenuation circuit. 本発明の第4の実施の形態における図6の可変減衰回路と従来の可変減衰回路において、制御電圧に対する減衰量のシミュレーション結果を示す図である。It is a figure which shows the simulation result of the attenuation amount with respect to a control voltage in the variable attenuation circuit of FIG. 6 in the 4th Embodiment of this invention, and the conventional variable attenuation circuit. 本発明の第4の実施の形態における図6の可変減衰回路と従来の可変減衰回路において、制御電圧に対するノイズ特性のシミュレーション結果を示す図である。It is a figure which shows the simulation result of the noise characteristic with respect to a control voltage in the variable attenuation circuit of FIG. 6 in the 4th Embodiment of this invention, and the conventional variable attenuation circuit. 従来の可変減衰回路の一回路構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows one circuit structure of the conventional variable attenuation circuit.

符号の説明Explanation of symbols

100 信号減衰部
101 減衰量制御部
102 しきい値バイアス補正機能付きソースバイアス回路部
103 ゲート付加容量
104 信号入力端子
105 信号出力端子
106 減衰量(利得)制御端子
107 電源電圧端子
111 信号減衰用MOSFET
112、113 DC遮断容量
114 ゲートバイアス供給用抵抗
115、116 減衰量制御用抵抗
117 ソースバイアス生成用MOSFET
118、119、120、121 ソースバイアス生成用抵抗
122 ソースバイアス生成用抵抗
123 ドレインバイアス生成用抵抗
124 バックゲート付加高抵抗
231 信号入力端子
232 信号出力端子
233 減衰量(利得)制御端子
234 ソースバイアス供給端子
235 ゲートバイアス供給端子
236、237 接地端子
238、242 DC遮断容量
239 ソースバイアス供給用抵抗
240 信号減衰用FET
241 ドレインバイアス供給用抵抗
243、248、249、254 DC遮断容量
244、247、250、253 入出力整合用抵抗
245、251 シャント側信号減衰用FET
246、252 ソース電位供給用抵抗
255、257、258 ゲートバイアス供給用抵抗
256、259 ドレインバイアス供給用抵抗
260 信号減衰部
261、262 シャント側信号減衰部
300 シャント側信号減衰部
301 減衰量制御部
302 しきい値バイアス補正機能付きゲートバイアス回路部
303 ゲート付加容量
304 信号入力端子
305 信号出力端子
306 利得制御端子
307 電源電圧端子
311 信号減衰用MOSFET
312、313 DC遮断容量
314 インピーダンス調整用抵抗
315、316 DC遮断容量
317 ドレインバイアス供給用抵抗
318 ゲートバイアス生成用MOSFET
319、320、321、322 ゲートバイアス生成用抵抗
323 ゲートバイアス生成用抵抗
324 ソースバイアス生成用抵抗
325 バックゲート付加高抵抗
400 信号減衰部
401 減衰量制御部
402 しきい値バイアス補正機能付きソースバイアス回路部
403 ゲート付加容量
404 信号入力端子
405 信号出力端子
406 減衰量(利得)制御端子
407 電源電圧端子
411 信号減衰用MOSFET
412、413 DC遮断容量
414 ゲートバイアス供給用抵抗
415、416 減衰量制御用抵抗
417 ソースバイアス生成用MOSFET
418、419、420、421 ソースバイアス生成用抵抗
422 ソースバイアス生成用抵抗
423 ドレインバイアス生成用抵抗
424 バックゲート付加高抵抗
425 ソースバイアス付加容量
426 ソースバイアス付加スイッチ
501、502 図4に示すような可変減衰回路
503、504 図3に示すような可変減衰回路
505 信号入力端子
506 信号出力端子
507 利得制御端子
601 信号入力端子
602 信号出力端子
603 利得制御端子
611、613 図4に示す可変減衰回路
612、614 図3に示す可変減衰回路
615 図4に示すソースバイアス生成回路
616、617 図3に示すゲートバイアス生成回路
701 発振器(VCO)
702 分周器(Divider)
703 バッファ(Buffer)
704 可変減衰回路(Variable Attenuator)
705 ドライバアンプ(Driver)
706 高周波増幅回路(PA)
707 アンテナ
1601、1602 図2の260に示すような可変減衰部
1603 図2の261に示すような可変減衰部
1604 図2の262に示すような可変減衰部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Signal attenuation part 101 Attenuation amount control part 102 Source bias circuit part with threshold bias correction function 103 Gate additional capacity 104 Signal input terminal 105 Signal output terminal 106 Attenuation (gain) control terminal 107 Power supply voltage terminal 111 Signal attenuation MOSFET
112, 113 DC blocking capacitance 114 Gate bias supply resistor 115, 116 Attenuation control resistor 117 Source bias generation MOSFET
118, 119, 120, 121 Source bias generation resistor 122 Source bias generation resistor 123 Drain bias generation resistor 124 Back gate additional high resistance 231 Signal input terminal 232 Signal output terminal 233 Attenuation (gain) control terminal 234 Source bias supply Terminal 235 Gate bias supply terminal 236, 237 Ground terminal 238, 242 DC blocking capacitor 239 Source bias supply resistor 240 Signal attenuation FET
241 Drain bias supply resistor 243, 248, 249, 254 DC blocking capacitor 244, 247, 250, 253 Input / output matching resistor 245, 251 Shunt side signal attenuating FET
246, 252 Source potential supply resistor 255, 257, 258 Gate bias supply resistor 256, 259 Drain bias supply resistor 260 Signal attenuation unit 261, 262 Shunt side signal attenuation unit 300 Shunt side signal attenuation unit 301 Attenuation amount control unit 302 Gate bias circuit section with threshold bias correction function 303 Additional gate capacitance 304 Signal input terminal 305 Signal output terminal 306 Gain control terminal 307 Power supply voltage terminal 311 Signal attenuation MOSFET
312 and 313 DC blocking capacitance 314 Impedance adjustment resistor 315 and 316 DC blocking capacitance 317 Drain bias supply resistor 318 Gate bias generation MOSFET
319, 320, 321, 322 Gate bias generation resistor 323 Gate bias generation resistor 324 Source bias generation resistor 325 Back gate additional high resistance 400 Signal attenuation unit 401 Attenuation amount control unit 402 Source bias circuit with threshold bias correction function Section 403 Additional gate capacitance 404 Signal input terminal 405 Signal output terminal 406 Attenuation (gain) control terminal 407 Power supply voltage terminal 411 Signal attenuation MOSFET
412 413 DC blocking capacitance 414 Gate bias supply resistor 415 416 Attenuation amount control resistor 417 Source bias generation MOSFET
418, 419, 420, 421 Source bias generating resistor 422 Source bias generating resistor 423 Drain bias generating resistor 424 Back gate additional high resistance 425 Source bias additional capacitance 426 Source bias additional switch 501 502 The variable as shown in FIG. Attenuation circuits 503 and 504 Variable attenuation circuits as shown in FIG. 3 505 Signal input terminal 506 Signal output terminal 507 Gain control terminal 601 Signal input terminal 602 Signal output terminal 603 Gain control terminals 611 and 613 Variable attenuation circuit 612 and FIG. 614 Variable attenuation circuit shown in FIG. 3 615 Source bias generation circuit shown in FIG. 4 616, 617 Gate bias generation circuit shown in FIG. 3 701 Oscillator (VCO)
702 Divider
703 Buffer
704 Variable Attenuator
705 Driver Amplifier
706 High frequency amplifier (PA)
707 Antenna 1601, 1602 Variable attenuating unit 1603 shown in FIG. 2 1603 Variable attenuating unit 1603 shown in FIG. 2 1604 Variable attenuating unit shown in 262 of FIG.

Claims (18)

信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された信号減衰用素子を有する信号減衰部と、
前記信号減衰用素子に減衰量制御信号を与える減衰量制御回路部と、
前記信号減衰用素子にバイアスを与えるバイアス回路部と、
前記信号減衰用素子と前記減衰量制御回路部との接続部と接地端子との間に接続された容量とを備えた可変減衰回路。
A signal attenuating unit having a signal attenuating element inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit;
An attenuation control circuit unit for supplying an attenuation control signal to the signal attenuation element;
A bias circuit section for applying a bias to the signal attenuating element;
A variable attenuation circuit including a capacitor connected between a connection portion between the signal attenuation element and the attenuation amount control circuit portion and a ground terminal.
前記信号減衰用素子がFETからなり、前記減衰量制御回路部は前記FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記FETのON抵抗を制御し、前記バイアス回路部は前記FETのソース端子にバイアスを与え、前記容量は前記FETのゲート端子と前記接地端子との間に接続されている請求項1記載の可変減衰回路。   The signal attenuating element is an FET, the attenuation control circuit unit applies an attenuation control signal to the gate terminal of the FET to control the ON resistance of the FET, and the bias circuit unit is connected to the source terminal of the FET. 2. The variable attenuation circuit according to claim 1, wherein a bias is applied, and the capacitor is connected between a gate terminal of the FET and the ground terminal. 信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された信号減衰用FETを有する信号減衰部と、
前記信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記信号減衰用FETのON抵抗を制御する減衰量制御回路部と、
前記信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与えるバイアス回路部とを備え、
前記バイアス回路部は、前記信号減衰用FETのしきい値電圧ばらつきを補償するバイアス用FETを有する可変減衰回路。
A signal attenuating unit having a signal attenuating FET inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit;
An attenuation amount control circuit unit that applies an attenuation amount control signal to the gate terminal of the signal attenuation FET to control the ON resistance of the signal attenuation FET;
A bias circuit section for applying a bias to the source terminal of the signal attenuation FET;
The bias circuit section is a variable attenuation circuit having a bias FET that compensates for variations in threshold voltage of the signal attenuation FET.
信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された信号減衰用FETを有する信号減衰部と、
前記信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記信号減衰用FETのON抵抗を制御する減衰量制御回路部と、
前記信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与えるバイアス回路部と、
前記信号減衰用FETのバックゲート部と基板間に接続された抵抗とを備えた可変減衰回路。
A signal attenuating unit having a signal attenuating FET inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit;
An attenuation amount control circuit unit that applies an attenuation amount control signal to the gate terminal of the signal attenuation FET to control the ON resistance of the signal attenuation FET;
A bias circuit section for applying a bias to the source terminal of the signal attenuation FET;
A variable attenuation circuit comprising a back gate portion of the signal attenuation FET and a resistor connected between the substrates.
信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された信号減衰用FETを有する信号減衰部と、
前記信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記信号減衰用FETのON抵抗を制御する減衰量制御回路部と、
前記信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与えるバイアス回路部と、
前記バイアス回路部と接地端子間に接続された容量もしくは容量とスイッチとを備えた可変減衰回路。
A signal attenuating unit having a signal attenuating FET inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit;
An attenuation amount control circuit unit that applies an attenuation amount control signal to the gate terminal of the signal attenuation FET to control the ON resistance of the signal attenuation FET;
A bias circuit section for applying a bias to the source terminal of the signal attenuation FET;
A variable attenuation circuit including a capacitor or a capacitor and a switch connected between the bias circuit section and a ground terminal.
信号入力部と信号出力部との間の信号経路にFETが挿入接続されてこのFETのゲート端子に与えられる信号によって前記信号入力部に与えられた信号の減衰量を制御して出力する信号減衰部と、
前記ゲート端子に信号を与えて前記FETのON抵抗値を異ならせる減衰量制御回路部と、
前記FETのソース端子に一端を接続した抵抗素子の他端と接地端子間に第1の容量素子を接続し、この抵抗素子を介して直流電圧を与えるバイアス回路部と、
前記FETのバックゲート部と前記接地端子間に接続された抵抗とを備え、
前記ゲート端子と前記接地端子間に第2の容量素子を接続したことを特徴とする可変減衰回路。
A signal attenuation that is output by controlling the amount of attenuation of the signal applied to the signal input unit by a signal applied to the gate terminal of the FET by inserting and connecting a FET to the signal path between the signal input unit and the signal output unit And
An attenuation amount control circuit unit that applies a signal to the gate terminal to vary the ON resistance value of the FET;
A bias circuit section for connecting a first capacitor element between the other end of the resistor element having one end connected to the source terminal of the FET and a ground terminal, and applying a DC voltage via the resistor element;
A resistor connected between the back gate portion of the FET and the ground terminal;
A variable attenuation circuit, wherein a second capacitor element is connected between the gate terminal and the ground terminal.
信号入力部と信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された信号減衰用素子を有する信号減衰部と、
前記信号減衰用素子に減衰量制御信号を与える減衰量制御回路部と、
前記信号減衰用素子にバイアスを与えるバイアス回路部と、
前記信号減衰用素子と前記バイアス回路部との接続部と前記接地端子との間に接続された容量とを備えた可変減衰回路。
A signal attenuating unit having a signal attenuating element inserted between the signal path between the signal input unit and the signal output unit and the ground terminal;
An attenuation control circuit unit for supplying an attenuation control signal to the signal attenuation element;
A bias circuit section for applying a bias to the signal attenuating element;
A variable attenuation circuit comprising a capacitor connected between a connection portion between the signal attenuating element and the bias circuit portion and the ground terminal.
前記信号減衰用素子がFETからなり、前記減衰量制御回路部は前記FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記FETのON抵抗を制御し、前記バイアス回路部は前記FETのゲート端子にバイアスを与え、前記容量は前記FETのゲート端子と前記接地端子との間に接続されている請求項7記載の可変減衰回路。   The signal attenuating element is an FET, the attenuation control circuit unit applies an attenuation control signal to the drain terminal of the FET to control the ON resistance of the FET, and the bias circuit unit is connected to the gate terminal of the FET. 8. The variable attenuation circuit according to claim 7, wherein a bias is applied, and the capacitor is connected between a gate terminal of the FET and the ground terminal. 信号入力部と信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された信号減衰用FETを有する信号減衰部と、
前記信号減衰用FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記信号減衰用FETのON抵抗を制御する減衰量制御回路部と、
前記信号減衰用FETのゲート端子にバイアスを与えるバイアス回路部とを備え、
前記バイアス回路部は、前記信号減衰用FETのしきい値電圧ばらつきを補償するバイアス用FETを有する可変減衰回路。
A signal attenuation unit having a signal attenuation FET inserted between the signal path between the signal input unit and the signal output unit and the ground terminal;
An attenuation control circuit unit that applies an attenuation control signal to the drain terminal of the signal attenuation FET to control the ON resistance of the signal attenuation FET;
A bias circuit section for applying a bias to the gate terminal of the signal attenuation FET,
The bias circuit section is a variable attenuation circuit having a bias FET that compensates for variations in threshold voltage of the signal attenuation FET.
信号入力部と信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された信号減衰用FETを有する信号減衰部と、
前記信号減衰用FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記信号減衰用FETのON抵抗を制御する減衰量制御回路部と、
前記信号減衰用FETのゲート端子にバイアスを与えるバイアス回路部と、
前記信号減衰用FETのバックゲート部と基板間に接続された抵抗とを備えた可変減衰回路。
A signal attenuation unit having a signal attenuation FET inserted between the signal path between the signal input unit and the signal output unit and the ground terminal;
An attenuation control circuit unit that applies an attenuation control signal to the drain terminal of the signal attenuation FET to control the ON resistance of the signal attenuation FET;
A bias circuit section for applying a bias to the gate terminal of the signal attenuation FET;
A variable attenuation circuit comprising a back gate portion of the signal attenuation FET and a resistor connected between the substrates.
信号入力部と信号出力部との間の信号経路と交流接地間に第1の容量素子とFETの電流経路端子対が直列に挿入接続されて前記第1の容量素子と前記FETの電流経路の一端との接続部に与えられる信号によって前記信号入力部に与えられた信号の減衰量を制御して出力する信号減衰部と、
前記FETの前記一端に信号を与えて前記FETのON抵抗値を異ならせる減衰量制御回路部と、
前記FETのゲート端子に抵抗素子を介して直流電圧を与えるバイアス回路部と、
前記FETのバックゲート部と前記接地端子間に接続された抵抗とを備え、
前記ゲート端子と前記接地端子間に第2の容量素子を接続したことを特徴とする可変減衰回路。
A current path terminal pair of the first capacitor element and the FET is inserted and connected in series between the signal path between the signal input unit and the signal output unit and the AC ground, and the current path of the first capacitor element and the FET is A signal attenuating unit for controlling and outputting the attenuation amount of the signal given to the signal input unit by a signal given to a connection part with one end;
An attenuation control circuit unit that applies a signal to the one end of the FET to vary the ON resistance value of the FET;
A bias circuit section for applying a DC voltage to the gate terminal of the FET via a resistance element;
A resistor connected between the back gate portion of the FET and the ground terminal;
A variable attenuation circuit, wherein a second capacitor element is connected between the gate terminal and the ground terminal.
信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された第1の信号減衰用素子を有する第1の信号減衰部と、
前記第1の信号減衰用素子に減衰量制御信号を与える第1の減衰量制御回路部と、
前記第1の信号減衰用素子にバイアスを与える第1のバイアス回路部と、
前記第1の信号減衰用素子と前記第1の減衰量制御回路部との接続部と接地端子との間に接続された第1の容量と、
前記信号入力部と前記信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された第2の信号減衰用素子を有する第2の信号減衰部と、
前記第2の信号減衰用素子に前記減衰量制御信号を与える第2の減衰量制御回路部と、
前記第2の信号減衰用素子にバイアスを与える第2のバイアス回路部と、
前記第2の信号減衰用素子と前記第2のバイアス回路部との接続部と前記接地端子との間に接続された第2の容量とを備えた可変減衰回路。
A first signal attenuating unit having a first signal attenuating element inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit;
A first attenuation control circuit unit for supplying an attenuation control signal to the first signal attenuating element;
A first bias circuit section for applying a bias to the first signal attenuating element;
A first capacitor connected between a connection portion between the first signal attenuating element and the first attenuation control circuit portion and a ground terminal;
A second signal attenuating unit having a second signal attenuating element inserted between a signal path between the signal input unit and the signal output unit and a ground terminal;
A second attenuation control circuit unit for supplying the attenuation control signal to the second signal attenuation element;
A second bias circuit section for applying a bias to the second signal attenuating element;
A variable attenuation circuit including a second capacitor connected between a connection portion between the second signal attenuating element and the second bias circuit portion and the ground terminal.
前記第1の信号減衰用素子が第1のFETからなり、前記第1の減衰量制御回路部は前記第1のFETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記第1のFETのON抵抗を制御し、前記第1のバイアス回路部は前記第1のFETのソース端子にバイアスを与え、前記第1の容量は前記第1のFETのゲート端子と前記接地端子との間に接続され、
前記第2の信号減衰用素子が第2のFETからなり、前記第2の減衰量制御回路部は前記第2のFETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記第2のFETのON抵抗を制御し、前記第2のバイアス回路部は前記第2のFETのゲート端子にバイアスを与え、前記第2の容量は前記第2のFETのゲート端子と前記接地端子との間に接続されている請求項12記載の可変減衰回路。
The first signal attenuating element is a first FET, and the first attenuation control circuit unit applies an attenuation control signal to the gate terminal of the first FET to turn on the ON resistance of the first FET. The first bias circuit unit applies a bias to the source terminal of the first FET, the first capacitor is connected between the gate terminal of the first FET and the ground terminal;
The second signal attenuating element is a second FET, and the second attenuation control circuit unit provides an attenuation control signal to the drain terminal of the second FET to turn on the ON resistance of the second FET. The second bias circuit unit applies a bias to the gate terminal of the second FET, and the second capacitor is connected between the gate terminal of the second FET and the ground terminal. The variable attenuation circuit according to claim 12.
信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された第1の信号減衰用FETを有する第1の信号減衰部と、
前記第1の信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記第1の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第1の減衰量制御回路部と、
前記第1の信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与える第1のバイアス回路部と、
前記信号入力部と前記信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された第2の信号減衰用FETを有する第2の信号減衰部と、
前記第2の信号減衰用FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記第2の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第2の減衰量制御回路部と、
前記第2の信号減衰用FETのゲート端子にバイアスを与える第2のバイアス回路部とを備え、
前記第1のバイアス回路部は、前記第1の信号減衰用FETのしきい値電圧ばらつきを補償する第1のバイアス用FETを有し、
前記第2のバイアス回路部は、前記第2の信号減衰用FETのしきい値電圧ばらつきを補償する第2のバイアス用FETを有する可変減衰回路。
A first signal attenuating unit having a first signal attenuating FET inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit;
A first attenuation control circuit unit that applies an attenuation control signal to the gate terminal of the first signal attenuation FET to control the ON resistance of the first signal attenuation FET;
A first bias circuit section for applying a bias to a source terminal of the first signal attenuating FET;
A second signal attenuating unit having a second signal attenuating FET inserted between a signal path between the signal input unit and the signal output unit and a ground terminal;
A second attenuation control circuit unit that applies an attenuation control signal to the drain terminal of the second signal attenuation FET to control the ON resistance of the second signal attenuation FET;
A second bias circuit section for applying a bias to the gate terminal of the second signal attenuating FET,
The first bias circuit section includes a first bias FET that compensates for variations in threshold voltage of the first signal attenuating FET,
The second bias circuit unit is a variable attenuation circuit having a second bias FET that compensates for variations in threshold voltage of the second signal attenuation FET.
信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された第1の信号減衰用FETを有する第1の信号減衰部と、
前記第1の信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記第1の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第1の減衰量制御回路部と、
前記第1の信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与える第1のバイアス回路部と、
前記信号入力部と前記信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された第2の信号減衰用FETを有する第2の信号減衰部と、
前記第2の信号減衰用FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記第2の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第2の減衰量制御回路部と、
前記第2の信号減衰用FETのゲート端子にバイアスを与える第2のバイアス回路部と、
前記第1の信号減衰用FETのバックゲート部と基板間に接続された第1の抵抗と、
前記第2の信号減衰用FETのバックゲート部と基板間に接続された第2の抵抗とを備えた可変減衰回路。
A first signal attenuating unit having a first signal attenuating FET inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit;
A first attenuation control circuit unit that applies an attenuation control signal to the gate terminal of the first signal attenuation FET to control the ON resistance of the first signal attenuation FET;
A first bias circuit section for applying a bias to a source terminal of the first signal attenuating FET;
A second signal attenuating unit having a second signal attenuating FET inserted between a signal path between the signal input unit and the signal output unit and a ground terminal;
A second attenuation control circuit unit that applies an attenuation control signal to the drain terminal of the second signal attenuation FET to control the ON resistance of the second signal attenuation FET;
A second bias circuit section for applying a bias to the gate terminal of the second signal attenuating FET;
A first resistor connected between the back gate portion of the first signal attenuating FET and the substrate;
A variable attenuation circuit comprising a back gate portion of the second signal attenuation FET and a second resistor connected between the substrates.
信号入力部と信号出力部との間の信号経路に直列に挿入された第1の信号減衰用FETを有する第1の信号減衰部と、
前記第1の信号減衰用FETのゲート端子に減衰量制御信号を与えて前記第1の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第1の減衰量制御回路部と、
前記第1の信号減衰用FETのソース端子にバイアスを与える第1のバイアス回路部と、
前記信号入力部と前記信号出力部との間の信号経路と接地端子との間に挿入された第2の信号減衰用FETを有する第2の信号減衰部と、
前記第2の信号減衰用FETのドレイン端子に減衰量制御信号を与えて前記第2の信号減衰用FETのON抵抗を制御する第2の減衰量制御回路部と、
前記第2の信号減衰用FETのゲート端子にバイアスを与える第2のバイアス回路部と、
前記第1のバイアス回路部と接地端子間に接続された容量もしくは容量とスイッチとを備えた可変減衰回路。
A first signal attenuating unit having a first signal attenuating FET inserted in series in a signal path between the signal input unit and the signal output unit;
A first attenuation control circuit unit that applies an attenuation control signal to the gate terminal of the first signal attenuation FET to control the ON resistance of the first signal attenuation FET;
A first bias circuit section for applying a bias to a source terminal of the first signal attenuating FET;
A second signal attenuating unit having a second signal attenuating FET inserted between a signal path between the signal input unit and the signal output unit and a ground terminal;
A second attenuation control circuit unit that applies an attenuation control signal to the drain terminal of the second signal attenuation FET to control the ON resistance of the second signal attenuation FET;
A second bias circuit section for applying a bias to the gate terminal of the second signal attenuating FET;
A variable attenuation circuit comprising a capacitor or a capacitor and a switch connected between the first bias circuit section and a ground terminal.
前記第1の信号減衰用FETのバックゲート部と前記接地端子間に第1の抵抗を接続し、
前記第2の信号減衰用FETのバックゲート部と前記接地端子間に第2の抵抗を接続したことを特徴とする請求項16記載の可変減衰回路。
A first resistor is connected between the back gate portion of the first signal attenuating FET and the ground terminal;
17. The variable attenuation circuit according to claim 16, wherein a second resistor is connected between the back gate portion of the second signal attenuating FET and the ground terminal.
請求項1から請求項17までの何れか1項記載の少なくとも一つの可変減衰回路と、少なくとも一つの高周波増幅回路と、少なくとも一つの発振器とを備えた無線送信装置と、前記無線送信装置に接続されて無線周波数を送信するアンテナとを備えた高周波無線回路システム。   A wireless transmission device comprising at least one variable attenuation circuit according to any one of claims 1 to 17, at least one high-frequency amplifier circuit, and at least one oscillator, and connected to the wireless transmission device And a high frequency radio circuit system including an antenna for transmitting radio frequency.
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