JP2007182388A

JP2007182388A - 日焼け止め化粧料

Info

Publication number: JP2007182388A
Application number: JP2005380697A
Authority: JP
Inventors: Hidefumi Araki; 秀文荒木; Koji Abe; 公司阿部; Isao Yajima; 勲矢島; Hiroyuki Kaneki; 宏之鹿子木; Mare Oguchi; 希小口
Original assignee: Shiseido Co Ltd
Current assignee: Shiseido Co Ltd
Priority date: 2005-12-30
Filing date: 2005-12-30
Publication date: 2007-07-19

Abstract

【課題】衣服への２次付着による染着を防止する日焼け止め化粧料を提供すること。
【解決手段】ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルと、下記一般式（Ｉ）で示されるベンゾトリアゾール誘導体とを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料。
一般式（Ｉ）

（式中、Ｒ’＝Ｃ１〜Ｃ６の直鎖のアルキル基、Ｒ”＝Ｃ１〜Ｃ３の直鎖のアルキル基である。）
【選択図】なし

Description

本発明は日焼け止め化粧料に関するものである。さらに詳しくは、衣服への２次付着による染着を防止する日焼け止め化粧料に関する。

日焼け止め化粧料による重要な紫外線吸収波長領域は、ＵＶ−Ａ領域（３２０〜４００ｎｍ）とＵＶ−Ｂ領域（２９０〜３２０ｎｍ）である。そして、UV−A領域の紫外線は皮膚を黒化させるが、UV−B領域の紫外線のようにサンバーンを起こし、皮膚の老化を促進させるものではないと考えられていた。

ところが近年になって、ＵＶ−Ｂ領域の紫外線が比較的、皮膚の表面部分にとどまるのに対して、ＵＶ−Ａ領域の紫外線が、皮膚の深部にまで達し、皮膚の老化はもとより皮膚癌を誘発する原因となることが分かってきた。このように、日焼け止め化粧料には特にＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収への要求が高まっている。

日焼け止め化粧料に配合される紫外線吸収剤には多くの種類が存在するが、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤の一つとして、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルが使用されている。

一方、ＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤であるｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルを配合した皮膚外用剤に、一般式（Ｉ）で示されるベンゾトリアゾール誘導体を配合すると、ＵＶ−Ａ領域においても優れた紫外線吸収を有し、かつｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルの着色性を防いで紫外線吸収効果の持続性を向上させた皮膚外用剤が開発されている（特許文献１）。

特開２００５―２０６４７３号公報

ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルは有用なＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤ではあるが、これを日焼け止め化粧料に配合すると、衣服に二次付着した際に染着しやすいという問題点がある。したがって、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルは日焼け止め化粧料に高配合することが出来ない。

本発明者らは、上記問題点に鑑み鋭意研究を重ねた結果、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルと特定構造のベンゾトリアゾール誘導体とを日焼け止め化粧料に配合すると、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルの衣服に対する染着性が低減することを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明の目的は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルの衣服に対する染着性が低減し、ＵＶ−Ａ領域に特に優れた日焼け止め化粧料を提供することである。

すなわち、本発明は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルと、下記一般式（Ｉ）で示されるベンゾトリアゾール誘導体とを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。

一般式（Ｉ）

（式中、Ｒ’＝Ｃ１〜Ｃ６の直鎖のアルキル基、Ｒ”＝Ｃ１〜Ｃ３の直鎖のアルキル基である。）

また、本発明は、前記ベンゾトリアゾール誘導体が、２−［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−イソブトキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールから選ばれる１種または２種以上であることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。

さらに、本発明は、さらに２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシルを含有することを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。

（１）本発明の日焼け止め化粧料は、４−（１，１−ジメチルエチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンの衣服に対する染着性を低減する。したがって、日焼け止め化粧料に高配合することが可能となる。
（２）本発明の日焼け止め化粧料は、ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂに至る幅広い領域にて高い紫外線吸収能を発揮する。

以下、本発明について詳述する。

「ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル」
本発明に用いるジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルは、下記式で示されるＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤である。本発明においては、市販品（ユビナールＡ plus：ＢＡＳＦ製）を利用できる。

「一般式（Ｉ）で示されるベンゾトリアゾール誘導体」
一般式（Ｉ）のベンゾトリアゾール誘導体は公知の化合物であり、以下のようにして合成する。すなわち、o−ニトロアニリンを亜硝酸ソーダ等でジアゾニウム塩とし、フェノールとカップリングしてモノアゾ化合物を合成した後、還元してベンゾトリアゾールとする方法が一般的である。

（Ａ法）
第１工程

第２工程

第３工程

第４工程

（式中、２，３−ＤＣＮは２，３−ジクロロ−１，４−ナフトキノンを表す。）
第５工程

（式中、Ｒ＝ＨもしくはＣＨ３、Ｒ’＝Ｃ１〜Ｃ６の直鎖のアルキル基、Ｒ”＝Ｃ１〜Ｃ３の直鎖のアルキル基である。）
（Ｂ法）
第１工程

第２工程

第３工程

第４工程

第５工程

（式中、Ｒ’＝Ｃ１〜Ｃ６の直鎖のアルキル基、Ｒ”＝Ｃ１〜Ｃ３の直鎖のアルキル基である。なお、２，３−ＤＣＮは２，３−ジクロロ−１，４−ナフトキノンを表す。）

また、対応するベンゾトリアゾールと、ハロゲン化アルキルとをメチルイソブチルケトンとジメチルホルムアミドとの混合溶媒中にて還流すると、特に高い収率で一般式（Ｉ）の化合物が製造できる。
より具体的に説明すれば、６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）レゾルシノールを、温度計と還流冷却器を備えた四つ口フラスコに入れ、メチルイソブチルケトンとジメチルホルムアミドとを加えて撹拌する。この中に炭酸ソーダと２−エチルヘキシルブロマイドとを加えて撹拌しながら還流温度まで加熱する。還流温度を保持しながら所定時間撹拌した後、メチルイソブチルケトンを常圧で回収して残留したオイルを水洗にて過剰の炭酸ソーダと生成した無機物を除去し、液状の２−［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが高い収率で得られる。

「２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル」
２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシルは、下記式で示される公知のＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤である。この紫外線吸収剤をさらに配合することにより、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収能に特に優れ、かつＵＶ−Ｂに至る幅広い領域にて高い紫外線吸収能を発揮する日焼け止め化粧料を提供できる。本発明においては、市販品（オクトクリレン:DSMニュートリション（株）製）を利用できる。

ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルの配合量は、目的の製品に応じて適宜決定されるが、日焼け止め化粧料全量に対して０．５〜５質量％が好ましく、１〜３質量％がさらに好ましい。特に２質量％以上の高配合の場合に本発明の意義が大きい。

一般式（Ｉ）で示されるベンゾトリアゾール誘導体の配合量は、目的の製品に応じて適宜決定されるが、日焼け止め化粧料全量に対して０．５〜１０質量％が好ましく、１〜５質量％がさらに好ましい。

２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシルの配合量は、目的の製品に応じて適宜決定されるが、日焼け止め化粧料全量に対して０．５〜１０質量％が好ましく、１〜５質量％がさらに好ましい。

本発明の日焼け止め化粧料は、上記必須成分以外に、通常化粧料に用いられる成分、例えば、美白剤、保湿剤、酸化防止剤、油性成分、その他の紫外線吸収剤、界面活性剤、増粘剤、アルコール類、粉末成分、色剤、水性成分、水、各種皮膚栄養剤等を必要に応じて適宜配合して常法により製造することができる。具体的には次のような配合成分が挙げられる。

アボカド油、マカデミアナッツ油、トウモロコシ油、オリーブ油、ナタネ油、月見草油、ヒマシ油、ヒマワリ油、茶実油、コメヌカ油、ホホバ油、カカオ脂、ヤシ油、スクワレン、牛脂、モクロウ、ミツロウ、キャンデリラロウ、カルナバロウ、鯨ロウ、ラノリン、流動パラフィン、ポリオキシエチレン（８モル）オレイルアルコールエーテル、モノオレイン酸グリセリル、シクロメチコン、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサンなどの油分。
カプリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、コレステロール、フィトステロールなどの高級アルコール。
カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、ラノリン脂肪酸、リノール酸、リノレン酸などの高級脂肪酸。
ポリエチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、キシリトール、マルチトール、ムコ多糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサンなどの保湿剤。
メチルセルロース、エチルセルロース、アラビアガム、ポリビニルアルコールなどの増粘剤。
エタノール、１，３−ブチレングリコールなどの有機溶剤。
ブチルヒドロキシトルエン、トコフェロール、フィチン酸などの酸化防止剤。
安息香酸、サリチル酸、ソルビン酸、パラオキシ安息香酸エステル（エチルパラベン、ブチルパラベンなど）、ヘキサクロロフェンなどの抗菌防腐剤。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、チロシン、アスパラギン酸、アスパラギン、グルタミン、タウリン、アルギニン、ヒスチジンなどのアミノ酸と塩酸塩。
アシルサルコシン酸（例えばラウロイルサルコシンナトリウム）、グルタチオン、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸などの有機酸。
ビタミンＡ及びその誘導体、ビタミンＢ６塩酸塩、ビタミンＢ６トリパルミテート、ビタミンＢ６ジオクタノエート、ビタミンＢ２及びその誘導体、ビタミンＢ１２、ビタミンＢ１５及びその誘導体などのビタミンＢ類、アスコルビン酸、アスコルビン酸リン酸エステル（塩）、アスコルビン酸ジパルミテートなどのビタミンＣ類、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、ビタミンＥアセテート、ビタミンＥニコチネートなどのビタミンＥ類、ビタミンＤ類、ビタミンＨ、パントテン酸、パンテチンなどのビタミン類。
ニコチン酸アミド、ニコチン酸ベンジル、γ−オリザノール、アラントイン、グリチルリチン酸（塩）、グリチルレチン酸及びその誘導体、ヒノキチオール、ムシジン、ビサボロール、ユーカリプトール、チモール、イノシトール、サポニン類（サイコサポニン、ニンジンサポニン、ヘチマサポニン、ムクロジサポニンなど）、パントテニルエチルエーテル、エチニルエストラジオール、トラネキサム酸、セファランチン、プラセンタエキスなどの各種薬剤。
ギシギシ、クララ、コウホネ、オレンジ、セージ、タイム、ノコギリソウ、ゼニアオイ、センキュウ、センブリ、トウキ、トウヒ、バーチ、スギナ、ヘチマ、マロニエ、ユキノシタ、アルニカ、ユリ、ヨモギ、シャクヤク、アロエ、クチナシ、サワラなどの有機溶剤、アルコール、多価アルコール、水、水性アルコールなどで抽出した天然エキス。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ラウリルアミンオキサイドなどのカチオン界面活性剤。
エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸等の金属封鎖剤。
香料、スクラブ剤、精製水など。

本発明の日焼け止め化粧料の特に好ましい基剤は、デカメチルシクロペンタシロキサン、イソノナン酸イソノニル、ジメチルポリシロキサン、ヘプタメチルオクチルトリシロキサン、トリメチルシロキシケイ酸、流動パラフィン、スクワラン、イソオクタン酸セチル、イソオクタン酸トリグリセライド、コハク酸ジ２−エチルヘキシルの油分である。本発明は特にデカメチルシクロペンタシロキサンを主成分基剤とする日焼け止め化粧料に好ましく利用される。

本発明の日焼け止め化粧料は、例えば、軟膏、クリーム、乳液、ローション等の製品形態が挙げられる。またその剤型も特に問わない。

以下に実施例により本発明を具体的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されない。

＜一般式（Ｉ）で示されるベンゾトリアゾール誘導体の合成例＞
「合成例１：２−［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの合成」
常法により合成した６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）レゾルシノール４５．４ｇ（０．２０モル）を温度計、還流冷却器を備えた５００ｍｌ四つ口フラスコに入れ、メチルイソブチルケトン５０ｍｌ、ジメチルホルムアミド４．０ｇを加えて撹拌した。この中に炭酸ソーダ２５．４ｇ（０．２４モル）、および２−エチルヘキシルブロマイド７７．２ｇ（０．４０モル）を加えて撹拌しながら還流温度まで加熱した。還流温度を保持しながら１５時間撹拌した後、メチルイソブチルケトンを常圧で回収して残留したオイルを水洗にて、過剰の炭酸ソーダと生成した無機物を除去した。このオイルから減圧蒸留して２２０〜２２５℃／０．２〜０．３ｍｍＨｇの黄色透明の留分５２．１ｇを得た。この化合物は、常温域で液状であり、収率は、７６．７％、ＨＰＬＣ純度９９．０％であった。

「合成例２：２−（２−ヒドロキシ−４−イソブトキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの合成」
２−エチルヘキシルブロマイドの替わりに臭化イソブチルを同モル量使用して合成例１と同様に行った。微黄灰白色の粉末状結晶を収率７２．５％で得た。ｍ．ｐ．１２０．０から１２０．８℃、λｍａｘ＝３４５．６ｎｍ、ε＝２１７５０であった。

「表１」に示すＷ／Ｏサンスクリーンを常法により製造し、２次付着による染着性を調べた。

＊１：２−［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール

「染着性の測定方法」
図１に示すように、サンプルを腕に厚めに塗布し、ブロード綿の中央に転写にし（転写量約０．０６ｇ）、一日室内に放置した後、通常の衣類用洗剤を使用して洗濯し、分光測色計（ミノルタ（株）：現コニカミノルタセンシング（株）製CM-2002）で、ΔＥ及びΔＹＩを測定した。結果を図２に示す。

図２から、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルの染着性は、一般式（Ｉ）のベンゾトリアゾール誘導体を配合することで低減する。また高配合した場合でも、その染着性は配合しない場合と比較して低減する。

以下に本願発明の日焼け止め化粧料の処方例を挙げる。いずれも、衣服に対する染着性が低減し、優れた紫外線吸収能を発揮する日焼け止め化粧料である。

「実施例４：日焼け止め化粧料Ｗ／Ｏ乳液」
質量％
１．ジメチルポリシロキサン１
２．デカメチルシクロペンタシロキサン２５
３．トリメチルシロキシケイ酸５
４．ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体１
５．ラウリルＰＥＧ−９ポリジメチルシロキシエチルジメチコン１
６．イソノナン酸イソノニル５
７．ジプロピレングリコール５
８．グリチルリチン酸ジカリウム０．０２
９．グルタチオン１
１０．チオタウリン０．０５
１１．クララエキス１
１２．パラベン適量
１３．フェノキシエタノール適量
１４．パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル７．５
１５．ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト０．５
１６．球状ポリアクリル酸アルキル粉体５
１７．ブチルエチルプロパンジオール０．５
１８．ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル２
１９．合成例２のベンゾトリアゾール誘導体５
２０．疎水化処理酸化亜鉛または疎水処理酸化チタン１５
２１．精製水残余
製造方法
油相に水相を徐々に添加し添加終了後、攪拌機を用いて乳化粒子が均一になるように調製した。

「実施例５：日焼け止め化粧料Ｏ／Ｗ乳液」
質量％
１．ポリオキシエチレン硬化ひまし油１
２．ジメチコンコポリオール０．５
３．デカメチルシクロペンタシロキサン１５
４．イソステアリン酸０．５
５．フェニルトリメチコン１
６．疎水化処理酸化チタン５
７．ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル３
８．パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル５
９．合成例１のベンゾトリアゾール誘導体２
１０．シリカ１
１１．クエン酸０．０１
１２．クエン酸ナトリウム０．０９
１３．パラベン適量
１４．フェノキシエタノール適量
１５．エタノール５
１６．ダイナマイトグリセリン１
１７．サクシノグルカン０．２
１８．セルロースガム１
１９．イオン交換水残余
製造方法
１０〜１９の水相を調製後、１〜９の油相に徐々に添加し、最後にホモミキサーを用いて攪拌した。

「実施例６：日焼け止め化粧料Ｏ／Ｗ／Ｏ乳液」
質量％
１．ポリオキシエチレン(50)ポリオキシプロピレン(40)
ブロック共重合体ジメチルエチル０．５
２．イソステアリン酸０．２
３．パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル７．５
４．合成例２のベンゾトリアゾール誘導体２．０
５．ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル２．０
６．デカメチルシクロペンタシロキサン３５
７．ポリオキシブチレンポリオキシプロピレングリコール２．０
８．ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト０．５
９．疎水化処理酸化チタン１２．０
１０．クエン酸０．０４
１１．クエン酸ナトリウム０．０６
１２．ジプロピレングリコール２．０
１３．メチルグルコース１．０
１４．ダイナマイトグリセリン１．０
１５．食塩０．１
１６．メチルパラベン適量
１７．フェノキシエタノール適量
１８．イオン交換水残余
製造方法
１〜５の油相を１０〜１８の水相に徐々に添加してＯ／Ｗ製剤を得た。この製剤を６〜９の油相中に徐々に添加後、ホモミキサーで攪拌を行い目的の乳液を得た。

「実施例７：セルフタンニング化粧料」
質量％
Ａ部
１．１，３−ブチレングリコール 5
２．グリセリン 2
３．ジヒドロキシアセトン 5
４．エデト酸二ナトリウム 0.05
５．パラベン適量
６．イオン交換水残余
Ｂ部
７．ステアリン酸グリセリル 4
８．ベヘニルアルコール 3
９．ステアリルアルコール 2
１０．シリコーン油 1
１１．パーム硬化油 2
１２．流動パラフィン 7
１３．合成例２のベンゾトリアゾール誘導体 2
１４．ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル 2
１５．香料適量
製造方法
Ａ部のイオン交換水にエデト酸二ナトリウム、ジヒドロキシアセトン、グリセリン、１，３−ブチレングリコールに加熱溶解したパラベンを添加し溶解する。Ｂ部の各成分を十分に溶解し加熱し、Ａ部に添加して乳化する。これを冷却してセルフタンニングクリームを得た。

「実施例８：日焼け止め化粧料Ｗ／Ｏ乳液」
質量％
１．ジメチルポリシロキサン１
２．デカメチルシクロペンタシロキサン２５
３．トリメチルシロキシケイ酸５
４．ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体１
５．ラウリルＰＥＧ−９ポリジメチルシロキシエチルジメチコン１
６．イソノナン酸イソノニル５
７．ジプロピレングリコール５
８．グリチルリチン酸ジカリウム０．０２
９．グルタチオン１
１０．チオタウリン０．０５
１１．クララエキス１
１２．パラベン適量
１３．フェノキシエタノール適量
１４．パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル７．５
１５．ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト０．５
１６．球状ポリアクリル酸アルキル粉体５
１７．ブチルエチルプロパンジオール０．５
１８．ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル２
１９．２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル５
２０．合成例２のベンゾトリアゾール誘導体５
２１．疎水化処理酸化亜鉛または疎水処理酸化チタン１５
２２．精製水残余
製造方法
油相に水相を徐々に添加し添加終了後、攪拌機を用いて乳化粒子が均一になるように調製した。

「実施例９：日焼け止め化粧料Ｏ／Ｗ乳液」
質量％
１．ポリオキシエチレン硬化ひまし油１
２．ジメチコンコポリオール０．５
３．デカメチルシクロペンタシロキサン１５
４．イソステアリン酸０．５
５．フェニルトリメチコン１
６．疎水化処理酸化チタン５
７．ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル３
８．２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル５
９．パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル５
１０．合成例１のベンゾトリアゾール誘導体２
１１．シリカ１
１２．クエン酸０．０１
１３．クエン酸ナトリウム０．０９
１４．パラベン適量
１５．フェノキシエタノール適量
１６．エタノール５
１７．ダイナマイトグリセリン１
１８．サクシノグルカン０．２
１９．セルロースガム１
２０．イオン交換水残余
製造方法
１１〜２０の水相を調製後、１〜１０の油相に徐々に添加し、最後にホモミキサーを用いて攪拌した。

「実施例１０：日焼け止め化粧料Ｏ／Ｗ／Ｏ乳液」
質量％
１．ポリオキシエチレン(50)ポリオキシプロピレン(40)
ブロック共重合体ジメチルエチル０．５
２．イソステアリン酸０．２
３．パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル７．５
４．合成例２のベンゾトリアゾール誘導体２．０
５．ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル２．０
６．２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル５．０
７．デカメチルシクロペンタシロキサン３５
８．ポリオキシブチレンポリオキシプロピレングリコール２．０
９．ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト０．５
１０．疎水化処理酸化チタン１２．０
１１．クエン酸０．０４
１２．クエン酸ナトリウム０．０６
１３．ジプロピレングリコール２．０
１４．メチルグルコース１．０
１５．ダイナマイトグリセリン１．０
１６．食塩０．１
１７．メチルパラベン適量
１８．フェノキシエタノール適量
１９．イオン交換水残余
製造方法
１〜６の油相を１１〜１９の水相に徐々に添加してＯ／Ｗ製剤を得た。この製剤を７〜１０の油相中に徐々に添加後、ホモミキサーで攪拌を行い目的の乳液を得た。

本発明によれば、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシルの衣服に対する染着性が低減し、かつＵＶ-Ａ領域若しくはＵＶ−Ａ〜Ｂ領域の紫外線吸収に特に優れた日焼け止め化粧料を提供できる。衣服に対する染着性が低減するので、４−（１，１−ジメチルエチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンを高配合することが可能となり、ＰＡ（Protection Grade of UVA：UVA防御能）を向上させることが出来る。

染着性の測定方法の説明図である。染着性の測定結果を示す図である。

Claims

ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルと、下記一般式（Ｉ）で示されるベンゾトリアゾール誘導体とを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料。
一般式（Ｉ）

（式中、Ｒ’＝Ｃ１〜Ｃ６の直鎖のアルキル基、Ｒ”＝Ｃ１〜Ｃ３の直鎖のアルキル基である。）
前記ベンゾトリアゾール誘導体が、２−［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−イソブトキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールから選ばれる１種または２種以上であることを特徴とする請求項１記載の日焼け止め化粧料。
さらに２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシルを含有することを特徴とする請求項１又は２記載の日焼け止め化粧料。