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JP2007090644A - Multilayer mold-releasing film - Google Patents

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JP2007090644A
JP2007090644A JP2005282477A JP2005282477A JP2007090644A JP 2007090644 A JP2007090644 A JP 2007090644A JP 2005282477 A JP2005282477 A JP 2005282477A JP 2005282477 A JP2005282477 A JP 2005282477A JP 2007090644 A JP2007090644 A JP 2007090644A
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JP
Japan
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film
resin
release
layer
multilayer
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Pending
Application number
JP2005282477A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Tsuchiya
雅弘 土谷
Yasushi Goto
靖志 五藤
Hirotake Matsumoto
弘丈 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
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Abstract

【課題】耐熱性、離型性、基板表面への追従性を有しつつ、熱プレス成形時におけるボイドの発生、接着剤の流れ出し及びフィルム端面でのクッション層樹脂の染み出しを抑制することが可能であり、更には、使用後の廃棄が容易な多層離型フィルムを提供する。
【解決手段】少なくとも、示差走査熱量計を用いて測定した融点が200℃以上である結晶性芳香族ポリエステル樹脂からなる離型層と、示差走査熱量計を用いて測定した融点が70〜130℃であり、かつ、メルトフローレートが7g/10分以下であるポリオレフィン系樹脂からなるクッション層とを有する多層離型フィルムであって、前記離型層は、厚さが5〜50μmである多層離型フィルム。
【選択図】なし
[PROBLEMS] To suppress void generation, adhesive flow-out and cushion layer resin exudation at the end face of a film during heat press molding while having heat resistance, releasability and followability to a substrate surface. Furthermore, the present invention provides a multilayer release film that can be easily discarded after use.
At least a release layer composed of a crystalline aromatic polyester resin having a melting point of 200 ° C. or higher measured using a differential scanning calorimeter and a melting point of 70 to 130 ° C. measured using a differential scanning calorimeter. And a multilayer release film having a cushion layer made of a polyolefin resin having a melt flow rate of 7 g / 10 min or less, wherein the release layer has a thickness of 5 to 50 μm. Mold film.
[Selection figure] None

Description

本発明は、耐熱性、離型性、基板表面への追従性を有しつつ、熱プレス成形時におけるボイドの発生、接着剤の流れ出し及びフィルム端面でのクッション層樹脂の染み出しを抑制することが可能であり、更には、使用後の廃棄が容易な多層離型フィルムに関する。 The present invention suppresses the generation of voids during hot press molding, the flow of adhesive, and the seepage of the cushion layer resin on the film end face while having heat resistance, mold release properties, and followability to the substrate surface. Further, the present invention relates to a multilayer release film that can be easily discarded after use.

プリント基板、フレキシブルプリント配線基板、多層プリント配線板等の製造工程において、プリプレグ又は耐熱フィルムを介して銅張積層板又は銅箔を熱プレスする際に離型フィルムが使用されている。また、フレキシブルプリント基板の製造工程において、電気回路を形成したフレキシブルプリント基板本体に、熱硬化型接着剤又は熱硬化性接着シートによってカバーレイフィルム又は補強板を熱プレス接着する際に、カバーレイフィルムとプレス熱板とが接着するのを防止するために、離型フィルムが広く使用されている。 In the manufacturing process of a printed board, a flexible printed wiring board, a multilayer printed wiring board, etc., a release film is used when a copper-clad laminate or a copper foil is hot-pressed through a prepreg or a heat-resistant film. Further, in the manufacturing process of the flexible printed circuit board, when the cover lay film or the reinforcing plate is hot press bonded to the flexible printed circuit board body on which the electric circuit is formed by the thermosetting adhesive or the thermosetting adhesive sheet, the cover lay film is used. In order to prevent the hot plate and the press plate from adhering to each other, a release film is widely used.

近年、離型フィルムに対しては、熱プレス成形に耐え得る耐熱性、プリント配線基板や熱プレス板に対する離型性といった機能に加えて、環境問題や安全性に対する社会的要請の高まりから、廃棄処理の容易性が求められるようになってきた。また、熱プレス成形時の製品歩留り向上のため、銅回路に対する非汚染性も重要となってきている。 In recent years, for release films, in addition to functions such as heat resistance that can withstand hot press molding and releasability for printed wiring boards and hot press plates, environmental issues and increased social demands for safety have led to disposal. The ease of processing has been demanded. In addition, non-contamination for copper circuits has become important in order to improve product yield during hot press molding.

従来、離型フィルムとしては、特許文献1や特許文献2に開示されているような、フッ素系フィルム、シリコーン塗布ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム等が用いられてきた。 Conventionally, as a release film, a fluorine-based film, a silicone-coated polyethylene terephthalate film, a polypropylene film, or the like as disclosed in Patent Document 1 or Patent Document 2 has been used.

しかし、フッ素系フィルムは、耐熱性、離型性、非汚染性には優れているが、高価であるうえ、使用後の廃棄焼却処理において燃焼しにくく、かつ、有毒ガスを発生するという問題があった。
また、シリコーン塗布ポリエチレンテレフタレートフィルムは、シリコーンに含まれる低分子量体の移行によってプリント配線基板、とりわけ銅回路の汚染を引き起こし、品質を損なうおそれがあった。また、ポリプロピレンフィルムは、耐熱性に劣り、離型性が不充分であるという問題があった。
However, although the fluorine-based film is excellent in heat resistance, releasability and non-contamination, it is expensive and has a problem that it is difficult to burn in waste incineration after use and generates toxic gas. there were.
In addition, the silicone-coated polyethylene terephthalate film may cause contamination of a printed wiring board, particularly a copper circuit, due to the migration of a low molecular weight substance contained in silicone, and may impair quality. In addition, the polypropylene film has a problem that it has poor heat resistance and insufficient releasability.

また、熱プレス成形工程においては、基板表面の凹凸に対して離型フィルムが追従することが必要とされるが、従来の離型フィルムは追従性に劣ることから、熱プレス成形時にフレキシブルプリント基板中にボイドが発生したり、電極部にカバーレイフィルムの接着剤が染み出し、電極部のめっき処理の障害となったりする等の問題があった。 Also, in the hot press molding process, it is necessary for the release film to follow the unevenness of the substrate surface, but since conventional release films are inferior in followability, a flexible printed circuit board during hot press molding There was a problem that voids were generated inside, or the adhesive of the cover lay film oozed out to the electrode part, which hindered the plating process of the electrode part.

このような問題に対し、特許文献3には、ポリメチルペンテンを含有する離型層とクッション層とからなる多層離型フィルムが開示されている。このような多層離型フィルムは、離型性、追従性がよく、また、使用後の廃棄焼却処理が容易であるが、ポリメチルペンテンも同様に構成成分に含まれる低分子量体の移行による基板等の汚染や、カバーレイの接着剤の流れ出しによる基板等の汚染が問題となっていた。また、クッション層を形成する樹脂のメルトフローレートが高いために、フィルム端面から樹脂が染み出してくるという問題もあった。 For such problems, Patent Document 3 discloses a multilayer release film comprising a release layer containing polymethylpentene and a cushion layer. Such a multilayer release film has good releasability and followability and is easy to dispose of after incineration. Polymethylpentene is also a substrate due to migration of low molecular weight substances contained in its constituent components. Contamination of the substrate and the like due to the flow-out of the coverlay adhesive have become problems. Further, since the melt flow rate of the resin forming the cushion layer is high, there is also a problem that the resin oozes out from the end face of the film.

そこで、クッション層を形成する樹脂のメルトフローレートを低くすることにより樹脂の染み出しを防ぐことも考えられたが、追従性が悪くなるという問題があった。
従って、耐熱性、離型性、基板表面への追従性といった離型フィルムに必要とされる性能を有しつつ、熱プレス成形時におけるボイドの発生、接着剤の流れ出し及びフィルム端面でのクッション層樹脂の染み出しを抑制することが可能な離型フィルムが求められているのが現状である。
特開平2−175247号公報 特開平5−283862号公報 特開2003−246019号公報
Therefore, it has been considered to prevent the resin from exuding by lowering the melt flow rate of the resin forming the cushion layer, but there is a problem that the follow-up property is deteriorated.
Therefore, while having the performance required for a release film such as heat resistance, release property, and followability to the substrate surface, generation of voids during hot press molding, flow of adhesive, and cushion layer at the film end face At present, there is a demand for a release film that can suppress the seepage of resin.
JP-A-2-175247 Japanese Patent Laid-Open No. 5-283862 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-246019

本発明は、上記現状に鑑み、耐熱性、離型性、基板表面への追従性を有しつつ、熱プレス成形時におけるボイドの発生、接着剤の流れ出し及びフィルム端面でのクッション層樹脂の染み出しを抑制することが可能であり、更には、使用後の廃棄が容易な多層離型フィルムを提供することを目的とする。 In view of the above situation, the present invention has heat resistance, releasability, followability to the substrate surface, generation of voids during hot press molding, flow of adhesive, and stain of the cushion layer resin on the film end face. It is another object of the present invention to provide a multilayer release film that can suppress sticking and can be easily discarded after use.

本発明は、少なくとも、示差走査熱量計を用いて測定した融点が200℃以上である結晶性芳香族ポリエステル樹脂からなる離型層と、示差走査熱量計を用いて測定した融点が70〜130℃であり、かつ、メルトフローレートが7g/10分以下であるポリオレフィン系樹脂からなるクッション層とを有する多層離型フィルムであって、前記離型層は、厚さが5〜50μmである多層離型フィルムである。
以下に本発明を詳述する。
The present invention has at least a release layer composed of a crystalline aromatic polyester resin having a melting point of 200 ° C. or higher measured using a differential scanning calorimeter, and a melting point of 70 to 130 ° C. measured using a differential scanning calorimeter. And a multilayer release film having a cushion layer made of a polyolefin resin having a melt flow rate of 7 g / 10 min or less, wherein the release layer has a thickness of 5 to 50 μm. Type film.
The present invention is described in detail below.

本発明者らは、鋭意検討の結果、少なくとも離型層とクッション層とを有する多層離型フィルムにおいて、クッション層を形成する樹脂の融点及びメルトフローレートを所定の範囲に規定し、離型層を形成する樹脂の融点及び厚さを所定の範囲に規定することにより、耐熱性、離型性、基板表面への追従性を有しつつ、熱プレス成形時におけるボイドの発生、接着剤の流れ出し及びフィルム端面でのクッション層樹脂の染み出しを抑制することが可能であり、更には、使用後の廃棄が容易な多層離型フィルムを製造することができるということを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have determined the melting point and melt flow rate of the resin forming the cushion layer within a predetermined range in a multilayer release film having at least a release layer and a cushion layer, By defining the melting point and thickness of the resin forming the resin within a predetermined range, it has heat resistance, releasability, and followability to the substrate surface, while generating voids during hot press molding and flowing out adhesive. And it is possible to suppress the seepage of the cushion layer resin on the film end face, and furthermore, it is found that a multilayer release film that can be easily discarded after use can be manufactured, and the present invention is completed. It came to.

本発明の多層離型フィルムは、示差走査熱量計を用いて測定した融点が200℃以上である結晶性芳香族ポリエステル樹脂からなる離型層を有する。
上記離型層にこのような融点の高い樹脂を用いることにより、上記離型層は、熱プレス成形工程においても、溶融することなく離型性を有するとともに、上記離型層が破壊されるのを防止することができる。
The multilayer release film of this invention has a release layer which consists of crystalline aromatic polyester resin whose melting | fusing point measured using the differential scanning calorimeter is 200 degreeC or more.
By using such a resin having a high melting point for the release layer, the release layer has a release property without melting even in the hot press molding step, and the release layer is destroyed. Can be prevented.

上記結晶性芳香族ポリエステル樹脂は、示差走査熱量計を用いて測定した融点の下限が200℃である。熱プレス成形工程は、通常200℃未満で行われることから、融点が200℃未満であると、上記熱プレス成形工程において、離型層が溶融し、多層離型フィルムの耐熱性が低下する。好ましい下限は220℃である。融点の上限は特に限定されないが、溶融成型する場合は加熱設備のコストの理由から、好ましい上限は400℃である。
なお、上記示差走査熱量計としては特に限定されず、例えば、DSC 2920(TAインスツルメント社製)等を用いることができる。
The lower limit of the melting point of the crystalline aromatic polyester resin measured using a differential scanning calorimeter is 200 ° C. Since the hot press molding step is usually performed at less than 200 ° C., if the melting point is less than 200 ° C., the release layer melts in the hot press molding step, and the heat resistance of the multilayer release film is lowered. A preferred lower limit is 220 ° C. Although the upper limit of melting | fusing point is not specifically limited, When carrying out melt molding, a preferable upper limit is 400 degreeC from the reason of the cost of heating equipment.
In addition, it does not specifically limit as said differential scanning calorimeter, For example, DSC 2920 (made by TA Instruments) etc. can be used.

上記示差走査熱量計を用いて測定した融点が200℃以上である結晶性芳香族ポリエステル樹脂としては特に限定されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリヘキサメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。なかでも、非汚染性及び結晶性に優れることから、ポリブチレンテレフタレートが好適に用いられる。 The crystalline aromatic polyester resin having a melting point of 200 ° C. or higher measured using the differential scanning calorimeter is not particularly limited. For example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyhexamethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene. Naphthalate, butanediol terephthalate polytetramethylene glycol copolymer, and the like. These may be used independently and 2 or more types may be used together. Of these, polybutylene terephthalate is preferably used because it is excellent in non-contamination and crystallinity.

上記離型層には、安定剤を含有させてもよい。上記安定剤としては特に限定されず、例えば、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−プロピオニロキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等のヒンダードフェノール系酸化防止剤;トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、2−t−ブチル−α−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−p−クメニルビス(p−ノニルフェニル)ホスファイト、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスチリルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ジトリデシル3,3’−チオジプロピオネート等の熱安定剤等が挙げられる。 The release layer may contain a stabilizer. The stabilizer is not particularly limited, and examples thereof include 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 3,9-bis. {2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl} -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5 5] hindered phenol antioxidants such as undecane; tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, trilauryl phosphite, 2-t-butyl-α- (3-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) -p-cumenylbis (p-nonylphenyl) phosphite, dimyristyl 3,3'-thiodipropionate, distearyl 3,3'-thiodipropionate, pentaerythryl Tetrakis (3-laurylthiopropionate), thermal stabilizers such as ditridecyl 3,3'-thiodipropionate and the like.

上記離型層は、本発明の効果を損なわない範囲で、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有してもよい。 The said release layer may contain additives, such as a fiber, an inorganic filler, a flame retardant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, an inorganic substance, a higher fatty acid salt, in the range which does not impair the effect of this invention.

上記繊維としては特に限定されず、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、炭化珪素繊維、アルミナ繊維、アモルファス繊維、シリコン・チタン・炭素系繊維等の無機繊維;アラミド繊維等の有機繊維等が挙げられる。 The fibers are not particularly limited, and examples thereof include glass fibers, carbon fibers, boron fibers, silicon carbide fibers, alumina fibers, amorphous fibers, inorganic fibers such as silicon / titanium / carbon fibers, and organic fibers such as aramid fibers. Can be mentioned.

上記無機充填剤としては特に限定されず、例えば、炭酸カルシウム、酸化チタン、マイカ、タルク等が挙げられる。
上記難燃剤としては特に限定されず、例えば、ヘキサブロモシクロドデカン、トリス−(2,3−ジクロロプロピル)ホスフェート、ペンタブロモフェニルアリルエーテル等が挙げられる。
The inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include calcium carbonate, titanium oxide, mica and talc.
The flame retardant is not particularly limited, and examples thereof include hexabromocyclododecane, tris- (2,3-dichloropropyl) phosphate, pentabromophenyl allyl ether, and the like.

上記紫外線吸収剤としては特に限定されず、例えば、p−t−ブチルフェニルサリシレート、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2,4,5−トリヒドロキシブチロフェノン等が挙げられる。
上記帯電防止剤としては特に限定されず、例えば、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アルキルアミン、アルキルアリルスルホネート、アルキルスルファネート等が挙げられる。
The ultraviolet absorber is not particularly limited, and examples thereof include pt-butylphenyl salicylate, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2′-carboxybenzophenone, 2,4,5- And trihydroxybutyrophenone.
The antistatic agent is not particularly limited, and examples thereof include N, N-bis (hydroxyethyl) alkylamine, alkylallyl sulfonate, and alkyl sulfonate.

上記無機物としては特に限定されず、例えば、硫酸バリウム、アルミナ、酸化珪素等が挙げられる。
上記高級脂肪酸塩としては特に限定されず、例えば、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸バリウム、パルミチン酸ナトリウム等が挙げられる。
It does not specifically limit as said inorganic substance, For example, barium sulfate, an alumina, a silicon oxide etc. are mentioned.
The higher fatty acid salt is not particularly limited, and examples thereof include sodium stearate, barium stearate, and sodium palmitate.

上記離型層は、その性質を改質するために、熱可塑性樹脂、ゴム成分を含有してもよい。上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエステル等が挙げられる。
上記ゴム成分としては特に限定されず、例えば、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体(EPM、EPDM)、ポリクロロプレン、ブチルゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム、オレフィン系熱可塑性エラストマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
The release layer may contain a thermoplastic resin and a rubber component in order to modify its properties. The thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include polyolefin, modified polyolefin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyamide, polycarbonate, polysulfone, and polyester.
The rubber component is not particularly limited. For example, natural rubber, styrene-butadiene copolymer, polybutadiene, polyisoprene, acrylonitrile-butadiene copolymer, ethylene-propylene copolymer (EPM, EPDM), polychloroprene, Examples include butyl rubber, acrylic rubber, silicon rubber, urethane rubber, olefin-based thermoplastic elastomer, styrene-based thermoplastic elastomer, vinyl chloride-based thermoplastic elastomer, ester-based thermoplastic elastomer, and amide-based thermoplastic elastomer.

また、上記離型層は、アスペクト比の大きい無機化合物を含有してもよい。アスペクト比の大きい無機化合物を含有することにより、得られる本発明の多層離型フィルムは、高温での離型性が向上し、更にフィルムに含まれる添加剤や低分子量物がフィルム表面へブリードアウトすることを抑制することができ、熱プレス成形時のクリーン性が向上する。
上記アスペクト比の大きい無機化合物としては特に限定されず、例えば、クレイ等の層状ケイ酸塩;ハイドロタルサイト等の層状複水和物等が挙げられる。
The release layer may contain an inorganic compound having a large aspect ratio. By including an inorganic compound having a large aspect ratio, the resulting multilayer release film of the present invention has improved release properties at high temperatures, and additives and low molecular weight substances contained in the film bleed out to the film surface. That can be suppressed, and cleanliness during hot press molding is improved.
The inorganic compound having a large aspect ratio is not particularly limited, and examples thereof include layered silicates such as clay; layered double hydrates such as hydrotalcite.

上記離型層は、厚さの下限が5μm、上限が50μmである。5μm未満であると、厚さが薄すぎ、離型層の強度が損なわれることから、熱プレス成形工程や多層離型フィルムの剥離工程において、離型層が破壊されることがあり、50μmを超えると、多層離型フィルムのコシが強くなりすぎ、柔軟性が損なわれるため、追従性が低下する。
更に、本発明においては、離型層の厚さを30μm以下とすることにより、後述するような0.3g/10分以下というメルトフローレートの低い樹脂を用いたクッション層と離型層とを組み合わせても、充分な追従性を保ちつつ、クッション層の染み出しを抑制することが可能となる。
The release layer has a thickness lower limit of 5 μm and an upper limit of 50 μm. If the thickness is less than 5 μm, the thickness is too thin and the strength of the release layer is impaired. Therefore, the release layer may be destroyed in the hot press molding step or the release step of the multilayer release film. If it exceeds, the stiffness of the multilayer release film becomes too strong and the flexibility is impaired, so the followability is lowered.
Furthermore, in the present invention, by setting the thickness of the release layer to 30 μm or less, a cushion layer and a release layer using a resin having a low melt flow rate of 0.3 g / 10 minutes or less as described later are provided. Even if combined, it is possible to suppress the bleeding of the cushion layer while maintaining sufficient followability.

上記離型層の表面は、平滑性を有することが好ましいが、ハンドリングに必要なスリップ性、アンチブロッキング性、熱プレス成形時の空気抜けを目的として、少なくとも片面に適度のエンボス模様や微細な凹凸が設けられてもよい。
上記処理の方法としては特に限定されず、例えば、エンボス模様が施された金属ロール等やガーゼ等の布やブラシ等を用いて上記離型層の表面を摩擦する方法が挙げられる。
The surface of the release layer preferably has smoothness, but for the purpose of slipping necessary for handling, anti-blocking properties, and air release during hot press molding, at least one side has an appropriate embossed pattern and fine irregularities. May be provided.
The method of the treatment is not particularly limited, and examples thereof include a method of rubbing the surface of the release layer using a metal roll or the like having an embossed pattern, a cloth such as gauze, a brush, or the like.

上記離型層は、耐熱性、寸法安定性、離型性を向上させるために、熱処理や摩擦処理を行ってもよい。
上記熱処理の方法としては特に限定されないが、例えば、一定の処理温度に加熱したロールの間を通過させる方法やヒーターによる加熱等が好ましい。
上記熱処理の温度としては、上記離型層を構成する樹脂のガラス転移温度以上かつ融点以下であれば特に限定されないが、好ましい下限は120℃、好ましい上限は200℃である。120℃未満であると、熱処理による離型性の向上効果がほとんど得られないことがあり、200℃を超えると、熱処理時に離型層が変形しやすくなり、製造できないことがある。より好ましい下限は170℃、より好ましい上限は190℃である。
The release layer may be subjected to heat treatment or friction treatment in order to improve heat resistance, dimensional stability, and release properties.
Although it does not specifically limit as the method of the said heat processing, For example, the method of passing between the rolls heated to the fixed process temperature, the heating with a heater, etc. are preferable.
The temperature of the heat treatment is not particularly limited as long as it is not lower than the glass transition temperature of the resin constituting the release layer and not higher than the melting point, but a preferable lower limit is 120 ° C. and a preferable upper limit is 200 ° C. When the temperature is lower than 120 ° C., the effect of improving the releasability by heat treatment may be hardly obtained. When the temperature exceeds 200 ° C., the release layer is likely to be deformed during the heat treatment and may not be manufactured. A more preferable lower limit is 170 ° C., and a more preferable upper limit is 190 ° C.

上記摩擦処理の方法としては特に限定されず、例えば、金属ロール等やガーゼ等の布やブラシ等を用いて上記離型層の表面を摩擦する方法が挙げられる。 The friction treatment method is not particularly limited, and examples thereof include a method of rubbing the surface of the release layer using a cloth such as a metal roll or gauze, a brush, or the like.

本発明の多層離型フィルムは、示差走査熱量計を用いて測定した融点が70〜130℃であり、かつ、メルトフローレートが7g/10分以下であるポリオレフィン系樹脂からなるクッション層を有する。
上記クッション層に融点及びメルトフローレートが上記範囲内の樹脂を用いることにより、上記クッション層は、接着剤が溶融する温度付近で軟化を開始し、フレキシブルプリント基板表面の凹凸に対する追従性を向上させたり、カバーレイの接着剤の流れ出しを防止したりすることが可能となる。
The multilayer release film of the present invention has a cushion layer made of a polyolefin resin having a melting point of 70 to 130 ° C. measured using a differential scanning calorimeter and a melt flow rate of 7 g / 10 min or less.
By using a resin having a melting point and a melt flow rate within the above range for the cushion layer, the cushion layer starts to soften near the temperature at which the adhesive melts, and improves the followability to the irregularities on the surface of the flexible printed circuit board. Or the coverlay adhesive can be prevented from flowing out.

上記ポリオレフィン系樹脂は、示差走査熱量計を用いて測定した融点の下限が70℃、上限が130℃である。70℃未満であると、熱プレス成形工程において、プレス圧力をフレキシブルプリント基板に均一に荷重するというクッション層の機能を充分に果たせなくなり、また、フィルムを保管中の雰囲気温度が、状況によっては50〜60℃となることがあるが、その場合にクッション層樹脂が、その雰囲気温度によって溶融して染み出し、ブロッキングを起こしてしまうことがある。130℃を超えると、接着剤が溶融する温度領域において、上記クッション層が充分に軟化せず、接着剤の流れ出しの問題が起こる。 The polyolefin resin has a lower limit of melting point of 70 ° C. and an upper limit of 130 ° C. measured using a differential scanning calorimeter. If it is less than 70 ° C., the function of the cushion layer for uniformly applying the pressing pressure to the flexible printed circuit board in the hot press molding process cannot be performed sufficiently, and the ambient temperature during storage of the film is 50 depending on the situation. Although it may be ˜60 ° C., in that case, the cushion layer resin may melt and ooze out depending on the ambient temperature and cause blocking. When the temperature exceeds 130 ° C., the cushion layer is not sufficiently softened in a temperature region where the adhesive melts, and the problem of the adhesive flowing out occurs.

上記ポリオレフィン系樹脂は、メルトフローレートの上限が7g/10分である。7g/10分を超えると、多層離型フィルムの端面から樹脂の染み出しが多くなり作業性が悪くなる。メルトフローレートの下限としては特に限定されないが、現在一般的に入手可能な樹脂の下限として0.1g/10分を挙げることができる。
また、上述したように、30μm以下の厚さの離型層とクッション層とを組み合わせることにより、メルトフローレートを従来不可能であった0.3g/10分以下としても充分な追従性を保ちつつ、クッション層の染み出しを抑制することが可能となる。
The polyolefin resin has a melt flow rate upper limit of 7 g / 10 min. If it exceeds 7 g / 10 minutes, the resin oozes out from the end face of the multilayer release film, resulting in poor workability. Although it does not specifically limit as a minimum of a melt flow rate, 0.1 g / 10min can be mentioned as a minimum of the resin now generally available.
In addition, as described above, by combining a release layer having a thickness of 30 μm or less and a cushion layer, sufficient followability can be maintained even when the melt flow rate is 0.3 g / 10 min or less, which has been impossible in the past. Meanwhile, it is possible to suppress the seepage of the cushion layer.

上記示差走査熱量計を用いて測定した融点が70〜130℃であり、かつ、メルトフローレートが7g/10分以下であるポリオレフィン系樹脂としては特に限定されないが、例えば、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体等のエチレン−アクリル系モノマーの共重合体等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。 Although it does not specifically limit as polyolefin resin whose melting | fusing point measured using the said differential scanning calorimeter is 70-130 degreeC and a melt flow rate is 7 g / 10min or less, For example, polyethylene, ethylene-vinyl acetate Examples thereof include copolymers of ethylene-acrylic monomers such as copolymers, ethylene-methyl methacrylate copolymers, ethylene-ethyl acrylate copolymers, and ethylene-acrylic acid copolymers. These may be used independently and 2 or more types may be used together.

また、上記クッション層には、上記離型層の場合と同様に、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有させてもよい。 Further, the cushion layer may contain additives such as fibers, inorganic fillers, flame retardants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, inorganic substances, higher fatty acid salts, etc., as in the case of the release layer. .

上記クッション層の厚さとしては特に限定されないが、好ましい下限は30μm、好ましい上限は150μmである。30μm未満であると、厚さが薄すぎ、熱プレス成形時においてクッション層を構成する樹脂が軟化した場合に、部分的にクッション層が存在しない箇所が発生し、プレス圧力をフレキシブルプリント基板に均一に荷重することができないことがある。150μmを超えると、多層離型フィルムのコシが強くなりすぎ、柔軟性が損なわれるため、追従性が低下することがある。更には必要以上に厚いため、余分な部分がフィルム端面から染み出してしまい不具合を生じることがある。より好ましい下限は60μm、より好ましい上限は100μmである。 Although it does not specifically limit as thickness of the said cushion layer, A preferable minimum is 30 micrometers and a preferable upper limit is 150 micrometers. When the thickness is less than 30 μm, the thickness is too thin, and when the resin constituting the cushion layer is softened during hot press molding, a portion where the cushion layer does not exist partially occurs, and the press pressure is uniformly applied to the flexible printed circuit board. May not be able to load. If it exceeds 150 μm, the stiffness of the multilayer release film becomes too strong and the flexibility is impaired, and the followability may be lowered. Furthermore, since it is thicker than necessary, the excess part may ooze out from the end face of the film, causing problems. A more preferable lower limit is 60 μm, and a more preferable upper limit is 100 μm.

本発明の多層離型フィルムの全体の厚さとしては特に限定されないが、好ましい下限は50μm、好ましい上限は200μmである。50μm未満であると、多層離型フィルムの強度が不足し、200μmを超えると、柔軟性が損なわれ、ハンドリング性が低下する。また、製造コストが上昇してしまう。 Although it does not specifically limit as the whole thickness of the multilayer release film of this invention, A preferable minimum is 50 micrometers and a preferable upper limit is 200 micrometers. When it is less than 50 μm, the strength of the multilayer release film is insufficient, and when it exceeds 200 μm, flexibility is impaired and handling properties are deteriorated. In addition, the manufacturing cost increases.

本発明の多層離型フィルムは、170℃において荷重3MPaで60分間加圧した場合の寸法変化率が1.5%以下であることが好ましい。1.5%を超えると、熱プレス成形時に回路パターンを損なうおそれがある。より好ましくは1.0%以下である。更には、フィルムの巾方向(以下、TDともいう)と長さ方向(以下、MDともいう)との寸法変化率が同方向・同等程度であることが好ましい。一方(例えば、MD)が収縮、他方(例えば、TD)が伸長という縦横の寸法変化が異なるような場合、熱プレス成形時に回路パターンを損なうおそれがある。 The multilayer release film of the present invention preferably has a dimensional change rate of 1.5% or less when pressed at 170 ° C. with a load of 3 MPa for 60 minutes. If it exceeds 1.5%, the circuit pattern may be damaged during hot press molding. More preferably, it is 1.0% or less. Furthermore, it is preferable that the dimensional change rate in the width direction (hereinafter also referred to as TD) and the length direction (hereinafter also referred to as MD) of the film is in the same direction and in the same order. When the vertical and horizontal dimensional changes such that one (for example, MD) contracts and the other (for example, TD) expands are different, the circuit pattern may be damaged during hot press molding.

本発明の多層離型フィルムを製造する方法としては特に限定されず、例えば、水冷式又は空冷式共押出インフレーション法、共押出Tダイ法で製膜する方法、離型層となるフィルムを作製した後、このフィルムにクッション層を押出ラミネート法にて積層する方法、離型層となるフィルムとクッション層となるフィルムとをドライラミネーションする方法、溶剤キャスティング法、熱プレス成形法等が挙げられる。なかでも、共押出Tダイ法で製膜する方法が各層の厚み制御に優れる点から好適である。 The method for producing the multilayer release film of the present invention is not particularly limited. For example, a water-cooled or air-cooled coextrusion inflation method, a method of forming a film by a coextrusion T-die method, and a film to be a release layer were produced. Thereafter, a method of laminating a cushion layer on this film by an extrusion laminating method, a method of dry lamination of a film to be a release layer and a film to be a cushion layer, a solvent casting method, a hot press molding method and the like can be mentioned. Especially, the method of forming into a film by the coextrusion T die method is suitable from the point which is excellent in the thickness control of each layer.

上記溶剤キャスティング法では、例えば、クッション層となるフィルム上にアンカー層を下塗り処理した後、アンカー層上に溶剤に溶解した上記樹脂組成物を塗工し、塗膜を均一に加熱し乾燥させて離型層を形成させることにより、多層離型フィルムを製造する。
また、上記熱プレス成形では、例えば、離型層となるフィルムとクッション層となるフィルムとを重ね合わせて熱プレス成形する。
In the solvent casting method, for example, after the anchor layer is undercoated on the film to be the cushion layer, the resin composition dissolved in the solvent is applied on the anchor layer, and the coating film is uniformly heated and dried. A multilayer release film is produced by forming a release layer.
Moreover, in the said hot press molding, the film used as a mold release layer and the film used as a cushion layer are overlap | superposed and hot press molded, for example.

本発明によれば、耐熱性、離型性、基板表面への追従性を有しつつ、熱プレス成形時におけるボイドの発生、接着剤の流れ出し及びフィルム端面でのクッション層樹脂の染み出しを抑制することが可能であり、更には、使用後の廃棄が容易な多層離型フィルムを提供することができる。 According to the present invention, while having heat resistance, releasability and followability to the substrate surface, it suppresses generation of voids during hot press molding, flow of adhesive and exudation of cushion layer resin at the film end face. Furthermore, it is possible to provide a multilayer release film that can be easily discarded after use.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(1)離型層Aに用いる樹脂材料
離型層Aには、結晶性芳香族ポリエステル樹脂としてポリブチレンテレフタレート(三菱エンジニアリングプラスチック社製、ノバデユラン5010R5)を用いた。
(1) Resin material used for release layer A For the release layer A, polybutylene terephthalate (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Novadejuran 5010R5) was used as the crystalline aromatic polyester resin.

(2)離型層Bに用いる樹脂材料
離型層Bには、結晶性芳香族ポリエステル樹脂としてポリブチレンテレフタレート(三菱エンジニアリングプラスチック社製、ノバデユラン5010R5)を用いた。
(2) Resin material used for release layer B For the release layer B, polybutylene terephthalate (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Novadejuran 5010R5) was used as the crystalline aromatic polyester resin.

(3)離型層Cに用いる樹脂材料
離型層Cには、結晶性芳香族ポリエステル樹脂としてポリブチレンテレフタレート(三菱エンジニアリングプラスチック社製、ノバデユラン5010R5)を用いた。
(3) Resin material used for release layer C For the release layer C, polybutylene terephthalate (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Novadejuran 5010R5) was used as the crystalline aromatic polyester resin.

(4)クッション層1に用いる樹脂材料
クッション層1には、メルトフローレートが0.2g/10分のポリオレフィン系樹脂として、低密度ポリエチレン(宇部興産社製、UBEC150:MFR=0.23)を用いた。
(4) Resin material used for cushion layer 1 For the cushion layer 1, a low density polyethylene (UBE150: MFR = 0.23 manufactured by Ube Industries, Ltd.) is used as a polyolefin resin having a melt flow rate of 0.2 g / 10 min. Using.

(5)クッション層2に用いる樹脂材料
クッション層2には、メルトフローレートが1g/10分のポリオレフィン系樹脂として、低密度ポリエチレン(住友化学社製、CX1001:MFR=1.0)を用いた。
(5) Resin material used for the cushion layer 2 For the cushion layer 2, low density polyethylene (CX1001: MFR = 1.0, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was used as a polyolefin resin having a melt flow rate of 1 g / 10 min. .

(6)クッション層3に用いる樹脂材料
クッション層3には、メルトフローレートが7g/10分のポリオレフィン系樹脂として、エチレン−メチルメタクリレート共重合体(住友化学社製、アクリフトWD301:MFR=7.0)を用いた。
(6) Resin material used for the cushion layer 3 The cushion layer 3 has an ethylene-methylmethacrylate copolymer (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., ACRIFT WD301: MFR = 7.15) as a polyolefin resin having a melt flow rate of 7 g / 10 min. 0) was used.

(7)クッション層4に用いる樹脂材料
クッション層4には、メルトフローレートが8g/10分のポリオレフィン系樹脂として、低密度ポリエチレン(住友化学社製、CX4002:MFR=8.0)を用いた。
(7) Resin material used for the cushion layer 4 For the cushion layer 4, low density polyethylene (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., CX4002: MFR = 8.0) was used as a polyolefin resin having a melt flow rate of 8 g / 10 min. .

(実施例1)
(1)多層離型フィルムの作製
離型層A用の樹脂と、クッション層1用の樹脂とを、各々の押出機(ジーエムエンジニアリング社製押出機GM30−28(スクリュー径30mm、L/D28))に投入して溶融し、Tダイ幅400mmの多層Tダイにて共押出することにより多層離型フィルムを作製した。その際、離型層Aとクッション層1の膜厚がそれぞれ20μm、80μmとなるように2層離型フィルムを作製した。
Example 1
(1) Production of multi-layer release film Resin for release layer A and resin for cushion layer 1 are respectively extruded into extruders (GM 30-28, screw diameter 30 mm, L / D28). ) And melted, and co-extruded with a multilayer T die having a T die width of 400 mm to produce a multilayer release film. At that time, a two-layer release film was prepared so that the film thicknesses of the release layer A and the cushion layer 1 were 20 μm and 80 μm, respectively.

(2)フレキシブルプリント基板の作製
400mm×400mmに切断した銅張り積層板、400mm×400mmに切断したカバーレイフィルム、420mm×420mmに切断した得られた多層離型フィルムをこの順に重ね合わせたものを1セットとして、32セットを熱プレスに載置し、プレス温度170℃、プレス圧300N/cm、プレス時間60分間の条件で熱プレス成形した後、プレス圧を開放し、多層離型フィルムを引き剥がして、フレキシブルプリント基板を得た。
なお、カバーレイフィルムはエポキシ接着剤側を銅張り積層板側にし、多層離型フィルムは離型層側をカバーレイフィルム側にして設置した。
銅張り積層板としては、厚さ25μmのポリイミドフィルム(デュポン社製、カプトン)をベースフィルムとし、その上に硬化後に20μm相当のエポキシ系接着剤を塗布し、厚さ35μm、幅50μmの銅箔が50μm間隔で接着されたものを用いた。
カバーレイフィルムとしては、厚さ25μmのポリイミドフィルム(デュポン社製、カプトン)上に、流動開始温度80℃のエポキシ系接着剤を厚さ20μmで塗布したものを用いた。
(2) Production of flexible printed circuit board A laminate of copper-clad laminate cut to 400 mm × 400 mm, a coverlay film cut to 400 mm × 400 mm, and a multilayer release film obtained by cutting to 420 mm × 420 mm in this order. As one set, 32 sets were placed on a hot press and subjected to hot press molding under the conditions of a press temperature of 170 ° C., a press pressure of 300 N / cm 2 , and a press time of 60 minutes, then the press pressure was released, and a multilayer release film was formed. The flexible printed circuit board was obtained by peeling off.
The coverlay film was installed with the epoxy adhesive side on the copper-clad laminate side, and the multilayer release film was installed with the release layer side on the coverlay film side.
As the copper-clad laminate, a 25 μm thick polyimide film (manufactured by DuPont, Kapton) is used as a base film, and after curing, an epoxy adhesive equivalent to 20 μm is applied, and a copper foil having a thickness of 35 μm and a width of 50 μm. Used were bonded at intervals of 50 μm.
As the coverlay film, a polyimide film having a thickness of 20 μm applied on a 25 μm-thick polyimide film (manufactured by DuPont, Kapton) was used.

(実施例2)
離型層A用の樹脂とクッション層2用の樹脂とを実施例1と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Example 2)
A multilayer release film was prepared by coextruding the resin for the release layer A and the resin for the cushion layer 2 in the same manner as in Example 1.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(実施例3)
離型層A用の樹脂とクッション層3用の樹脂とを実施例1と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Example 3)
A multilayer release film was prepared by coextruding the resin for the release layer A and the resin for the cushion layer 3 in the same manner as in Example 1.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(実施例4)
離型層B用の樹脂とクッション層1用の樹脂とを実施例1と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
その際、離型層Aとクッション層1の膜厚がそれぞれ40μm、80μmとなるように多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
Example 4
A multilayer release film was prepared by coextruding the resin for the release layer B and the resin for the cushion layer 1 in the same manner as in Example 1.
In that case, the multilayer release film was produced so that the film thickness of the release layer A and the cushion layer 1 might be 40 micrometers and 80 micrometers, respectively.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(実施例5)
離型層B用の樹脂とクッション層2用の樹脂とを実施例4と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Example 5)
A multilayer release film was prepared by coextruding the resin for the release layer B and the resin for the cushion layer 2 in the same manner as in Example 4.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(実施例6)
離型層B用の樹脂、クッション層3用の樹脂、離型層B用の樹脂を、各々の押出機(ジーエムエンジニアリング社製押出機GM30−28(スクリュー径30mm、L/D28))に投入して溶融し、Tダイ幅400mmの多層Tダイにて、離型層B/クッション層3/離型層Bの構成となるように共押出することにより3層離型フィルムを作製した。その際、離型層Bとクッション層3の膜厚はそれぞれ40μm、80μmとなるように3層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Example 6)
The resin for the release layer B, the resin for the cushion layer 3 and the resin for the release layer B are put into each extruder (extruder GM30-28 (screw diameter 30 mm, L / D28) manufactured by GM Engineering). A three-layer release film was prepared by coextrusion with a multilayer T die having a T die width of 400 mm so as to have a release layer B / cushion layer 3 / release layer B. At that time, a three-layer release film was prepared so that the film thickness of the release layer B and the cushion layer 3 was 40 μm and 80 μm, respectively.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(比較例1)
離型層A用の樹脂とクッション層4用の樹脂とを実施例1と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Comparative Example 1)
A multilayer release film was prepared by coextruding the resin for release layer A and the resin for cushion layer 4 in the same manner as in Example 1.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(比較例2)
離型層B用の樹脂とクッション層4用の樹脂とを実施例4と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Comparative Example 2)
A multilayer release film was prepared by coextruding the resin for release layer B and the resin for cushion layer 4 in the same manner as in Example 4.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(比較例3)
離型層C用の樹脂とクッション層1用の樹脂とを用い、離型層の膜厚は3μmとしたこと以外は実施例1と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Comparative Example 3)
A multilayer release film was prepared by coextrusion in the same manner as in Example 1 except that the resin for the release layer C and the resin for the cushion layer 1 were used, and the thickness of the release layer was 3 μm.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(比較例4)
離型層C用の樹脂とクッション層2用の樹脂とを比較例3と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Comparative Example 4)
A multilayer release film was prepared by coextruding the resin for the release layer C and the resin for the cushion layer 2 in the same manner as in Comparative Example 3.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(比較例5)
離型層C用の樹脂とクッション層3用の樹脂とを比較例3と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Comparative Example 5)
A multilayer release film was prepared by coextruding the resin for the release layer C and the resin for the cushion layer 3 in the same manner as in Comparative Example 3.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(比較例6)
離型層C用の樹脂とクッション層4用の樹脂とを用い、離型層の膜厚は3μmとしたこと以外は実施例6と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Comparative Example 6)
A multilayer release film was prepared by coextrusion in the same manner as in Example 6 except that the resin for the release layer C and the resin for the cushion layer 4 were used, and the thickness of the release layer was 3 μm.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

<評価>
実施例1〜6及び比較例1〜6で得られた多層離型フィルム、及び、フレキシブルプリント基板について、以下の評価を行った。結果を表1に示した。
<Evaluation>
The following evaluation was performed about the multilayer release film obtained in Examples 1-6 and Comparative Examples 1-6, and the flexible printed circuit board. The results are shown in Table 1.

(1)追従性の評価(ボイド発生の有無)
得られたフレキシブルプリント基板の空気の残存部分(ボイド)の有無を顕微鏡にて確認し、以下の基準により評価した。
○:ボイドが見られなかった。
×:ボイドが見られた。
(1) Follow-up evaluation (existence of void generation)
The obtained flexible printed circuit board was checked for the presence or absence of air remaining portions (voids) with a microscope and evaluated according to the following criteria.
○: No void was seen.
X: A void was observed.

(2)離型層の強度の評価
剥離した多層離型フィルムの離型層の損傷の有無を目視にて確認し、以下の基準により評価した。
○:離型層に損傷は見られなかった。
×:離型層が破壊されていた。
(2) Evaluation of strength of release layer The presence or absence of damage to the release layer of the peeled multilayer release film was visually confirmed and evaluated according to the following criteria.
○: No damage was observed in the release layer.
X: The release layer was destroyed.

(3)接着剤の流れ出し量
得られたフレキシブルプリント基板の電極部分を目視(顕微鏡観察)にて確認し、以下の基準により評価した。
○:100μm未満
△:100〜120μm
×:120μm以上
(3) Amount of flow-out of adhesive The electrode part of the obtained flexible printed circuit board was visually confirmed (observed with a microscope) and evaluated according to the following criteria.
○: Less than 100 μm Δ: 100 to 120 μm
×: 120 μm or more

(4)フィルム端面の染み出し量
フレキシブルプリント基板作製時におけるフィルム端面からの樹脂の染み出しの長さを測定し、以下の基準により評価した。
○:5mm未満
△:5〜15mm
×:15mm以上
(4) Exuding amount of film end face The length of resin exuding from the film end face during the production of the flexible printed circuit board was measured and evaluated according to the following criteria.
○: Less than 5 mm Δ: 5 to 15 mm
×: 15 mm or more

Figure 2007090644
Figure 2007090644

本発明によれば、耐熱性、離型性、基板表面への追従性を有しつつ、熱プレス成形時におけるボイドの発生、接着剤の流れ出し及びフィルム端面でのクッション層樹脂の染み出しを抑制することが可能であり、更には、使用後の廃棄が容易な多層離型フィルムを提供することができる。
According to the present invention, while having heat resistance, releasability and followability to the substrate surface, it suppresses generation of voids during hot press molding, flow of adhesive and exudation of cushion layer resin at the film end face. Furthermore, it is possible to provide a multilayer release film that can be easily discarded after use.

Claims (2)

少なくとも、示差走査熱量計を用いて測定した融点が200℃以上である結晶性芳香族ポリエステル樹脂からなる離型層と、示差走査熱量計を用いて測定した融点が70〜130℃であり、かつ、メルトフローレートが7g/10分以下であるポリオレフィン系樹脂からなるクッション層とを有する多層離型フィルムであって、
前記離型層は、厚さが5〜50μmである
ことを特徴とする多層離型フィルム。
At least a release layer composed of a crystalline aromatic polyester resin having a melting point of 200 ° C. or higher measured using a differential scanning calorimeter, a melting point of 70 to 130 ° C. measured using a differential scanning calorimeter, and A multilayer release film having a cushion layer made of a polyolefin resin having a melt flow rate of 7 g / 10 min or less,
The release layer is a multilayer release film having a thickness of 5 to 50 μm.
離型層は、厚さが5〜30μmであり、クッション層は、メルトフローレートが0.3g/10分以下であるポリオレフィン系樹脂からなることを特徴とする請求項1記載の多層離型フィルム。
2. The multilayer release film according to claim 1, wherein the release layer has a thickness of 5 to 30 [mu] m, and the cushion layer is made of a polyolefin resin having a melt flow rate of 0.3 g / 10 min or less. .
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JP2015214028A (en) * 2014-04-21 2015-12-03 三井化学東セロ株式会社 Multi-layer release film

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