JP2007077033A - 電荷輸送性化合物およびその製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物並びに有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Abstract
Description
このような有機EL素子としては、陽極と陰極との間に有機材料よりなる発光層が形成された単層構造のもの、陽極と発光層との間に正孔輸送層を有する構造のもの、陰極と発光層との間に電子輸送層を有するものなどの多層構造のものが知られている。これらの有機EL素子は、いずれも、陰極から注入された電子と、陽極から注入された正孔とが、発光層において再結合することによって発光するものである。
具体的に、このような構成を有する有機EL素子によれば、従来から有機EL素子の外部量子効率の限界値と考えられていた5%を超え、8%の外部量子効率が得られることが報告されている(例えば、非特許文献1参照。)。
しかしながら、非特許文献2には、具体的に電子輸送性を有するホスト化合物としてオキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体およびフェナントロリン誘導体が挙げられているが、このようなホスト化合物を用いた有機EL素子は、ホスト化合物が薄膜形成能が小さく、また結晶化が生じやすいものであることに起因して発光層が破壊されてしまうという問題があることから、優れた実用性を有するものではない。
本発明の他の目的は、発光特性および耐久性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子が得られる有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物、および有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。
下記一般式(2)で表される化合物と、下記一般式(3)で表される化合物とを反応させることにより、カルバゾール基およびホウ素原子含有トリアジン化合物を得る工程を有することを特徴とする。
そして、本発明の電荷輸送性化合物の製造方法によれば、上記のカルバゾール基およびホウ素含有トリアジン化合物よりなる電荷輸送性化合物を得ることができる。
この本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、上記の電荷輸送性化合物を電子輸送層の材料として用いることができる。
本発明の電荷輸送性化合物は、上記一般式(1)で表されるカルバゾール基およびホウ素原子含有トリアジン化合物(以下、「特定トリアジン化合物」ともいう。)であって、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料として有用なものである。
また、一般式(1)における2個のカルバゾール基のうちの一方のカルバゾール基に係るR1 〜R8 のうちの互いに隣接するもの、具体的にはR1 とR2 、R2 とR3 、R3 とR4 、R5 とR6 、R6 とR7 、およびR7 とR8 は、それぞれ互いに結合して環構造を形成していてもよく、他方のカルバゾール基に係るR9 〜R16のうちの互いに隣接するもの、具体的にはR9 とR10、R10とR11、R11とR12、R13とR14、R14とR15、およびR15とR16は、それぞれ互いに結合して環構造を形成していてもよい。
また、一般式(1)におけるR17〜R20は、互いに隣接するもの、具体的には連続する位置番号の炭素原子に結合されたもの同士が互いに結合して環構造を形成していてもよい。
これらの化合物のうちでは、特に式(1−1)で表される化合物が好ましい。
ここに、原料トリアジン化合物を示す一般式(2)において、Xは、ハロゲン原子であるが、特に塩素原子であることが好ましい。
また、原料ボロン酸化合物を示す一般式(3)において、Yは、上記式(i)〜式(v)のいずれかで表される基であるが、特に式(i)〜式(iii)のいずれかで表される基であることが好ましい。
なお、このような合成工程は、Chem.Mater.15,p1080(2003)、Chem.Mater.16,p1285(2003)およびMacromolecules,36,9721(2003)に記載の方法に準じたものである。
触媒としては、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウムなどを用いることができ、その使用量は、例えば原料トリアジン化合物1molに対して0.01〜0.1molである。
また、原料トリアジン化合物および原料ボロン酸化合物の反応系においては、例えば炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属を用いることが好ましく、その使用量は、例えば原料トリアジン化合物1molに対して2〜5molである。
本発明の有機EL素子用組成物は、上記の特定トリアジン化合物よりなる成分(以下、「トリアジン成分」ともいう。)と、燐光発光性化合物よりなる成分(以下、「発光成分」ともいう。)とを含有してなるものである。
このようなイリジウム錯体化合物の具体例としては、例えば下記一般式(イ)〜一般式(ハ)で表される化合物を挙げることができる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基などを挙げることができる。
これらの中では、アニソール、クロロホルム、クロロベンゼン、1,2−ジクロロエタン、シクロヘキサノンが好ましい。
また、組成物溶液を塗布する手段としては、例えばスピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、インクジェット法、印刷法などを利用することができる。
図1は、本発明の有機EL素子の構成の一例を示す説明用断面図である。
この例の有機EL素子は、透明基板1上に、正孔を供給する電極である陽極2が例えば透明導電膜により設けられ、この陽極2上に正孔輸送層3が設けられ、この正孔輸送層3上に発光層4が設けられ、この発光層4上に電子輸送層5が設けられ、この電子輸送層5上に電子を供給する電極である陰極6が設けられている。そして、陽極2および陰極6は、直流電源7に電気的に接続される。
陽極2を構成する材料としては、好ましくは、仕事関数の大きい例えば4eV以上の透明性材料が用いられる。ここで、仕事関数とは、固体から真空中に電子を取り出すのに要する最小限の仕事の大きさをいう。陽極2としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)膜、酸化スズ(SnO2 )膜、酸化銅(CuO)膜、酸化亜鉛(ZnO)膜などを用いることができる。
この正孔輸送層3を構成する材料としては、例えばトリフェニルジアミン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホン酸塩などの電荷注入輸送材料を好適に用いることができる。また、正孔輸送層3の厚みは、例えば10〜200nmである。
陰極6の厚みは、材料の種類によって異なるが、通常、10〜1000nm、好ましくは50〜200nmである。
先ず、透明基板1上に、陽極2を形成する。
陽極2を形成する方法としては、真空蒸着法またはスパッタ法などを利用することができる。また、ガラス基板などの透明基板の表面に例えばITO膜などの透明導電膜が形成されてなる市販の材料を用いることもできる。
正孔輸送層3を形成する方法としては、例えば真空蒸着法などを利用することができる。
発光層4を形成する方法としては、真空蒸着法などを利用することができると共に、本発明の有機EL組成用組成物に係る組成物溶液を正孔輸送層3上に塗布し、得られた塗布膜を熱処理することにより、発光層4を形成する手法を利用することもできる。
このような構成の有機EL素子によれば、発光層4が上記の有機EL素子用組成物によって形成されているため、高い発光輝度および発光効率が得られる。
<電荷輸送性化合物の合成例1>
(原料ボロン酸化合物の合成)
先ず、窒素雰囲気下において、滴下ロートを備えた還流管付の容積1Lの三口フラスコに、p−ジブロモベンゼン35.6gと、脱水エーテル530mlとを仕込み、氷浴で冷却した後、滴下ロートで濃度1.6Mのn−ブチルリチウムヘキサン溶液95mlを滴下し、滴下終了後、氷浴状態のまま2時間撹拌し、その後、更にジメシチルボロンフルオライド30gのエーテル溶液を滴下した。そして、滴下終了後、反応系を室温に戻して12時間撹拌し、得られた反応溶液を水、飽和食塩水をこの順で用いて分液洗浄し、有機相を乾燥処理して濃縮し、その後、展開溶媒としてクロロホルムを用いたカラムによって精製処理を行うことにより、4−ブロモフェニル−ジメシチルボロン28g得た。
以上の合成工程を下記反応式(A)に示す。
以上の合成工程を下記反応式(B)に示す。
先ず、窒素雰囲気下において、滴下ロートを備えた還流管付の容積500mlの三口フラスコに、カルバゾール27gと、脱水エーテル180mlとを仕込み、氷浴で冷却した後、滴下ロートで濃度1.6Mのn−ブチルリチウムヘキサン溶液101mlを滴下し、滴下終了後、室温で2時間撹拌することによってN−リチオカルバゾールを調製した。
窒素雰囲気下において、容積200mlの三口フラスコに、原料トリアジン化合物(1)2gと、原料ボロン酸化合物(1)2.2gと、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.36gと、炭酸ナトリウム1.2gと、トルエン45mlと、水6mlとを仕込み、100℃で10時間加熱撹拌した。得られた反応溶液にクロロホルムを加えた後、水、飽和食塩水をこの順で用いて分液洗浄し、有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥処理した後、有機溶媒を留去することによって得られた固体をカラム精製することにより、反応生成物2.5gを得た。
得られた反応生成物は、 1H−NMR測定により、一般式(1)においてR1 〜R20が水素原子であってAr1 およびAr2 がメシチル基であり、ホウ素原子がトリアジン環と結合しているベンゼン環におけるp位に結合した化合物(以下、「特定トリアジン化合物(1)」ともいう。)であることが確認された。
以上の合成工程を下記反応式(D)に示す。
透明基板上にITO膜が形成されてなるITO基板を用意し、このITO基板を、中性洗剤、超純水、イソプロピルアルコール、超純水、アセトンをこの順に用いて超音波洗浄した後、更に紫外線−オゾン(UV/O3 )洗浄した。
洗浄を行ったITO基板を真空装置内に固定し、この真空装置内を1×10-4Pa以下にまで減圧し、その後、当該ITO基板上に、トリフェニルジアミン(TPD)を60nm蒸着することによって正孔輸送層を形成し、この正孔輸送層上に、特定トリアジン化合物(1)よりなるトリアジン成分およびトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy)3 )よりなる発光成分を共蒸着することにより、厚さ20nmの発光成分6質量%とトリアジン成分94質量%との混合層よりなる発光層を形成した。次いで、得られた発光層上に、トリス(8−ヒドロキシ−キノリン)アルミニウム(Alq3 )を40nm蒸着することによって電子輸送層を形成し、更に、この電子輸送層上に、マグネシウムと銀との合金(質量比10:1)100nmおよび銀20nmを、この順で蒸着することにより陰極を形成した。その後、ガラス材料によって封止することにより、有機EL素子(以下、「有機EL素子(1)」ともいう。)を製造した。
得られた有機EL素子(1)について、発光層を発光させて発光開始電圧および最高発光輝度を測定したところ、発光開始電圧は3.3Vであり、また最高発光輝度は10000cd/m2 であってこの最高発光輝度が測定された際の電圧は13Vであった。
(有機EL素子の作製例)
透明基板上にITO膜が形成されてなるITO基板を用意し、このITO基板を、中性洗剤、超純水、イソプロピルアルコール、超純水、アセトンをこの順に用いて超音波洗浄した後、更に紫外線−オゾン(UV/O3 )洗浄した。
洗浄を行ったITO基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホン酸塩水溶液をスピンコート法によって塗布し、その後、得られた厚さ65nmの塗布膜を窒素雰囲気下において250℃で30分間乾燥することにより、正孔輸送層を形成した。
次いで、得られた正孔輸送層の表面に、特定トリアジン化合物(1)よりなるトリアジン成分および当該トリアジン成分に対して3mol%のトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy)3 )よりなる発光成分をクロロベンゼン溶液に溶解することによって得られた濃度3質量%の組成物溶液をスピンコート法により塗布し、得られた厚さ50nmの塗膜を窒素雰囲気下において150℃で10分間乾燥することにより、発光層を形成した。
次いで、ITO基板上に正孔輸送層および発光層がこの順に積層されてなる積層体を真空装置内に固定し、その後、当該真空装置内を1×10-4Pa以下にまで減圧し、1,3,5−トリ(フェニル−2−ベンゾイミダゾリル)ベンゼン(TPBI)を30nmの厚さに蒸着してホールブロック層を形成した後、フッ化リチウムを0.5nmの厚さに蒸着することによって電子輸送層を形成し、更に、この電子輸送層上に、カルシウムを厚さ30nmおよびアルミニウムを厚さ100nmでこの順に蒸着することにより陰極を形成した。その後、ガラス材料によって封止することにより、有機EL素子(以下、「有機EL素子(2)」ともいう。)を製造した。
ここに、ホールブロック層とは、正孔輸送層を介して発光層に供給された正孔が電子輸送層に侵入することを抑制し、発光層における正孔と電子との再結合を促進させ、発光効率を向上させる機能を有するものである。
得られた有機EL素子(2)について、発光層を発光させて発光開始電圧および最高発光輝度を測定したところ、発光開始電圧は6.2Vであり、また最高発光輝度は4000cd/m2 であってこの最高発光輝度が測定された際の電圧は14Vであった。
(有機EL素子の作製例)
実施例1の有機EL素子の作製例において、発光層の材料として下記式(a)で表される化合物(以下、「比較用化合物(1)」ともいう。)を用いたこと以外は実施例1の有機EL素子の作製例と同様にして有機EL素子(以下、「比較用有機EL素子(1)」ともいう。)を製造した。
得られた比較用有機EL素子(1)について、発光層を発光させて発光開始電圧および最高発光輝度を測定したところ、発光開始電圧は4.4Vであり、また最高発光輝度は3800cd/m2 であってこの最高発光輝度が測定された際の電圧は14Vであった。
2 陽極
3 正孔輸送層
4 発光層
5 電子輸送層
6 陰極
7 直流電源
Claims (6)
- 下記一般式(1)で表されるカルバゾール基およびホウ素原子含有トリアジン化合物よりなることを特徴とする電荷輸送性化合物。
〔式中、R1 〜R16は、それぞれ独立に水素原子または1価の有機基を示し、R1 とR2 、R2 とR3 、R3 とR4 、R5 とR6 、R6 とR7 、R7 とR8 、R9 とR10、R10とR11、R11とR12、R13とR14、R14とR15、およびR15とR16は、それぞれ互いに結合して環構造を形成していてもよい。R17〜R20は、それぞれ独立に水素原子または1価の有機基を示し、これらのR17〜R20は、連続する位置番号の炭素原子に結合されたもの同士が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ar1 およびAr2 は、それぞれ独立にアリール基を示す。〕 - 請求項1に記載の電荷輸送性化合物の製造方法であって、
下記一般式(2)で表される化合物と、下記一般式(3)で表される化合物とを反応させることにより、カルバゾール基およびホウ素原子含有トリアジン化合物を得る工程を有することを特徴とする電荷輸送性化合物の製造方法。
〔式中、R1 〜R16は、それぞれ独立に水素原子または1価の有機基を示し、R1 とR2 、R2 とR3 、R3 とR4 、R5 とR6 、R6 とR7 、R7 とR8 、R9 とR10、R10とR11、R11とR12、R13とR14、R14とR15、およびR15とR16は、それぞれ互いに結合して環構造を形成していてもよい。Xはハロゲン原子を示す。〕
〔式中、R17〜R20は、それぞれ独立に水素原子または1価の有機基を示し、これらのR17〜R20は、連続する位置番号の炭素原子に結合されたもの同士が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ar1 およびAr2 は、それぞれ独立にアリール基を示す。Yは、下記式(i)〜式(v)のいずれかで表される基を示す。〕
- 請求項1に記載の電荷輸送性化合物よりなる成分と、燐光発光性化合物よりなる成分とを含有してなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物。
- 燐光発光性化合物が、イリジウム化合物、白金化合物またはオスミウム化合物であることを特徴とする請求項3に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物。
- 請求項3または請求項4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物により形成された発光層を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 請求項1に記載の電荷輸送性化合物により形成された電子輸送層を有することを特徴とする請求項5に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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