JP2007062074A - Display panel, laser scribing method for display panel, and electronic device - Google Patents
Display panel, laser scribing method for display panel, and electronic device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007062074A JP2007062074A JP2005249071A JP2005249071A JP2007062074A JP 2007062074 A JP2007062074 A JP 2007062074A JP 2005249071 A JP2005249071 A JP 2005249071A JP 2005249071 A JP2005249071 A JP 2005249071A JP 2007062074 A JP2007062074 A JP 2007062074A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- display panel
- substrate
- pattern
- pattern formation
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 94
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 122
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims abstract description 41
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 27
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 26
- 230000001629 suppression Effects 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 56
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 53
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 16
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 9
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/362—Laser etching
- B23K26/364—Laser etching for making a groove or trench, e.g. for scribing a break initiation groove
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
Abstract
【課題】 集光点を超えて進行するレーザ光を抑制することができる表示パネル、表示パネルの製造方法及びレーザスクライブ方法を提供する。
【解決手段】 第1パターン形成面110及び第2パターン形成面120が互いに対向するように配置され、第2基板12に当該第2基板12の一部を切断するための切断予定ライン30が設けられ、第2パターン形成面120と垂直な方向に沿い、かつ切断予定ライン30を通過する仮想面と、第2パターン形成面120とが交差する線の位置に、反射機能を有する抑止部としての金属膜16aが設けられた表示パネルを製造する製造工程と、第2パターン形成面120の反対面に向けて、第2パターン形成面120と垂直な方向に、かつ、切断予定ライン30に沿って、第2基板12の内部にレーザ光35の集光点Pが位置するようにレーザ光35を照射する照射工程とを備える。
【選択図】 図3
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display panel, a display panel manufacturing method and a laser scribing method capable of suppressing laser light traveling beyond a condensing point.
A first pattern forming surface (110) and a second pattern forming surface (120) are arranged to face each other, and a second substrate (12) is provided with a scheduled cutting line (30) for cutting a part of the second substrate (12). As a deterrence part having a reflection function, a virtual plane that passes along the direction perpendicular to the second pattern formation surface 120 and passes through the planned cutting line 30 intersects the second pattern formation surface 120. A manufacturing process for manufacturing a display panel provided with the metal film 16a and a direction perpendicular to the second pattern formation surface 120 toward the opposite surface of the second pattern formation surface 120 and along the planned cutting line 30 And an irradiation step of irradiating the laser beam 35 so that the condensing point P of the laser beam 35 is located inside the second substrate 12.
[Selection] Figure 3
Description
本発明は、表示パネル、表示パネルのレーザスクライブ方法及び電子機器に関する。 The present invention relates to a display panel, a laser scribing method for the display panel, and an electronic apparatus.
従来、表示パネルのガラス基板等の切断方法として、レーザ光を用いて切断するレーザスクライブ方法が知られている。例えば、特許文献1に記載のレーザスクライブ方法では、切断しようとするガラス基板の内部にレーザ光の集光点を合わせて、即ち、集光点でレーザ光のパワー密度が最大となるようにレーザ光を照射し、多光子吸収という現象を利用することにより、集光点部に改質領域を形成させる。そして、改質領域を起点にしてガラス基板が切断される。 Conventionally, a laser scribing method of cutting using a laser beam is known as a method of cutting a glass substrate or the like of a display panel. For example, in the laser scribing method described in Patent Document 1, the laser beam is focused on the inside of the glass substrate to be cut, that is, the laser beam power density is maximized at the focusing point. A modified region is formed at the condensing point portion by irradiating light and utilizing the phenomenon of multiphoton absorption. Then, the glass substrate is cut starting from the modified region.
しかしながら、上記の方法では、レーザ光は、集光点の位置までに留まらず、集光点を超えて基板中を進行してしまうという問題があった。例えば、上下基板を貼り合わせた液晶表示パネルの上基板の内部にレーザ光の集光点を合わせてレーザ光を照射すると、上記のように、レーザ光の一部が上基板を表側から裏側まで進行して、即ち、貫通して、下基板上に形成されたパターン形成部にレーザ光が照射され、パターン焼けやパターン切断による電気的接続不具合を引き起こしやすくなるという問題があった。 However, in the above method, there is a problem that the laser beam does not stay at the position of the condensing point but travels through the substrate beyond the condensing point. For example, when the laser beam is focused on the upper substrate of the liquid crystal display panel with the upper and lower substrates bonded together and irradiated with the laser beam, as described above, a part of the laser beam moves from the front side to the back side. Progressing, that is, penetrating, the pattern forming portion formed on the lower substrate is irradiated with laser light, and there is a problem that electrical connection failure due to pattern burning or pattern cutting is likely to occur.
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、レーザ光が集光点を超えて進行することを抑制することができる表示パネル、表示パネルのレーザスクライブ方法及び電子機器を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and its object is to provide a display panel capable of suppressing laser light from traveling beyond a condensing point, a laser scribing method for the display panel, and To provide electronic equipment.
上記課題を解決するために、本発明では、第1パターンが形成された基板面である第1パターン形成面を有する第1基板と、第2パターンが形成された基板面である第2パターン形成面を有する第2基板とが、当該第1パターン形成面及び当該第2パターン形成面が互いに対向するように配置され、第2基板に当該第2基板の一部を切断するための切断予定ラインが設けられ、第2パターン形成面と垂直な方向に沿い、かつ切断予定ラインを通過する仮想面と、第1パターン形成面と第2パターン形成面とのうち少なくとも一方の面とが交差する線の位置に、反射、吸収、散乱のうち少なくとも一つの機能を有する抑止部が設けられた表示パネルを製造する製造工程と、第2パターン形成面の反対面に向けて、第2パターン形成面と垂直な方向に、かつ、切断予定ラインに沿って、第2基板の内部にレーザ光の集光点が位置するようにレーザ光を照射する照射工程とを備えることを要旨とする。 In order to solve the above problems, in the present invention, a first substrate having a first pattern forming surface which is a substrate surface on which a first pattern is formed, and a second pattern forming which is a substrate surface on which a second pattern is formed. A second substrate having a surface is arranged so that the first pattern formation surface and the second pattern formation surface face each other, and a planned cutting line for cutting a part of the second substrate on the second substrate Is a line that intersects at least one of the first pattern formation surface and the second pattern formation surface with a virtual surface that passes along the line to be cut along the direction perpendicular to the second pattern formation surface A manufacturing process for manufacturing a display panel provided with a deterring part having at least one function of reflection, absorption, and scattering at the position of the second pattern forming surface, Vertical one To and along the line to cut, the laser beam converging point within the second substrate is summarized as further comprising an irradiation step of irradiating a laser beam to be positioned.
これによれば、製造工程では、切断予定ラインを通過する仮想面と、第1パターン形成面と第2パターン形成面とのうち少なくとも一方の面とが交差する線の位置に、反射、吸収、散乱のうち少なくとも一つの機能を有する抑止部が形成される。そして、照射工程で、切断予定ラインに沿って照射されたレーザ光のうち第2基板の内部に設定された集光点を超えて、更に進行したレーザ光は、抑止部に達する。当該抑止部に達したレーザ光は、抑止部によって進行力が減衰される。従って、レーザ光の照射方向に対して、抑止部を超える個所に形成された第1パターンの焼けや切断によるパターン欠陥等の不具合を抑えることができる。 According to this, in the manufacturing process, reflection, absorption, at the position of the line where the virtual plane passing through the planned cutting line intersects at least one of the first pattern formation surface and the second pattern formation surface, A suppression unit having at least one function of scattering is formed. Then, in the irradiation process, the laser beam that has further traveled beyond the condensing point set inside the second substrate among the laser beams irradiated along the scheduled cutting line reaches the suppression unit. The traveling force of the laser light that has reached the suppression unit is attenuated by the suppression unit. Accordingly, it is possible to suppress problems such as pattern defects due to burning or cutting of the first pattern formed at locations exceeding the suppression portion with respect to the laser light irradiation direction.
本発明の表示パネルのレーザスクライブ方法の製造工程では、抑止部は、金属膜で形成してもよい。 In the manufacturing process of the laser scribing method for a display panel of the present invention, the suppression portion may be formed of a metal film.
これによれば、金属膜によって、照射されたレーザ光を反射させることができる。 According to this, the irradiated laser beam can be reflected by the metal film.
本発明の表示パネルのレーザスクライブ方法の製造工程では、金属膜は、第2パターン形成面に、第2パターンの形成で使用されるブラックマトリクスと同じ材料で形成してもよい。 In the manufacturing process of the laser scribing method of the display panel of the present invention, the metal film may be formed on the second pattern forming surface with the same material as the black matrix used for forming the second pattern.
これによれば、第1パターンの形成に使用されるブラックマトリクスと同じ材料を用いるので、形成されたブラックマトリクスにより、レーザ光を反射させることができ、さらに、材料選定等の工数を省き、作業効率を向上させることができる。 According to this, since the same material as the black matrix used for forming the first pattern is used, the laser beam can be reflected by the formed black matrix, and further, man-hours such as material selection can be omitted and the work can be performed. Efficiency can be improved.
本発明の表示パネルのレーザスクライブ方法の製造工程では、金属膜とブラックマトリクスを同時期に形成してもよい。 In the manufacturing process of the laser scribing method of the display panel of the present invention, the metal film and the black matrix may be formed at the same time.
これによれば、金属膜とブラックマトリクスを同時期に形成することにより、作業効率を向上させることができる。 According to this, the working efficiency can be improved by forming the metal film and the black matrix at the same time.
本発明の表示パネルのレーザスクライブ方法の製造工程では、抑止部は、樹脂膜で形成してもよい。 In the manufacturing process of the laser scribing method for a display panel according to the present invention, the suppressing portion may be formed of a resin film.
これによれば、樹脂膜によって、照射されたレーザ光を吸収させることができる。 According to this, the irradiated laser beam can be absorbed by the resin film.
本発明の表示パネルのレーザスクライブ方法の製造工程では、第2パターン形成面に、凹凸部を形成することにより抑止部を形成してもよい。 In the manufacturing process of the laser scribing method of the display panel of the present invention, the suppressing portion may be formed by forming an uneven portion on the second pattern forming surface.
これによれば、形成された凸凹部により、照射されたレーザ光を散乱させることができる。 According to this, the irradiated laser beam can be scattered by the formed convex and concave portions.
本発明の表示パネルは、上記の表示パネルのレーザスクライブ方法によって製造されたことを要旨とする。 The gist of the display panel of the present invention is that it is manufactured by the laser scribing method of the display panel.
これによれば、レーザ光を照射して、第2基板の一部を切断するとき、レーザ光の照射方向に対して抑止部を超える個所にあたる第1基板に形成された第1パターンの焼けや切断によるパターン欠陥等の不具合を抑え、信頼性の高い表示パネルを提供することができる。 According to this, when a part of the second substrate is cut by irradiating the laser beam, the burnout of the first pattern formed on the first substrate corresponding to the portion exceeding the suppressing portion with respect to the irradiation direction of the laser beam A display panel with high reliability can be provided by suppressing defects such as pattern defects caused by cutting.
本発明の電子機器は、上記の表示パネルを搭載したことを要旨とする。 The gist of the electronic device of the present invention is that the display panel is mounted.
これによれば、信頼性の高い電子機器を提供することができる。 According to this, a highly reliable electronic device can be provided.
以下、本発明を具体化した第1〜第3実施形態について図面に従って説明する。 Hereinafter, first to third embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[第1実施形態]
(表示パネルの構成)
まず、第1実施形態に係る表示パネルの構成について説明する。図1は、マザー基板の概略を示し、図1(a)は、平面図を示し、同図(b)は、同図(a)のA−A線の断面図を示す。
[First embodiment]
(Configuration of display panel)
First, the configuration of the display panel according to the first embodiment will be described. 1 shows an outline of a mother substrate, FIG. 1 (a) shows a plan view, and FIG. 1 (b) shows a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 1 (a).
図1(a)において、マザー基板1は、複数個の表示パネルとしての液晶表示パネル10が区画形成して構成されている。そして、図1(b)に示すように、第1基板11と第2基板12が対向して接着されている。1つの液晶表示パネル10は、それぞれの区画領域の周縁部を切断することによりマザー基板1から切り出される。
In FIG. 1A, a mother substrate 1 is configured by partitioning a liquid
図2は、図1に示したマザー基板1から切り出された液晶パネルの構成を示し、図2(a)は、平面図を示し、同図(b)は、同図(a)のB−B線の断面図を示す。また、同図(c)は、第2基板12の一部が切断された後の断面図を示す。
2 shows a configuration of the liquid crystal panel cut out from the mother substrate 1 shown in FIG. 1, FIG. 2 (a) shows a plan view, and FIG. 2 (b) shows a B- in FIG. Sectional drawing of a B line is shown. FIG. 2C shows a cross-sectional view after a part of the
図2(a)および(b)において、液晶表示パネル10は、第1基板11と、第2基板12と、シール材14によって接着された第1,第2基板11,12の隙間に充填された液晶15等で構成されている。
2A and 2B, the liquid
第1基板11は、透明性を有するガラス基板の第1パターン形成面110に第1パターンが形成されている。具体的には、TFT(Thin Film Transistor)素子13と、TFT素子13の3端子のうち一つに接続された画素を構成する画素電極(図示せず)と、TFT素子13の残りの2端子に接続されたデータ線(図示せず)と走査線(図示せず)が形成されている。データ線は、Y軸方向に引き出されてデータ線駆動回路部22に接続されている。走査線は、X軸方向に引き出され、左右の額縁領域にそれぞれ形成された走査線駆動回路部21に接続されている。各データ線駆動回路部22および走査線駆動回路部21の入力側配線は、第1基板11のY軸方向の端部に形成された実装配線20にそれぞれ接続されている。実装配線20とは反対側の額縁領域には、2つの走査線駆動回路部21を繋ぐ配線23が設けられている。
As for the 1st board |
第2基板12は、透明性を有するガラス基板の第2パターン形成面120に第2パターンが形成されている。具体的には、ブラックマトリクス16と、ブラックマトリクス16によって区画された領域に形成された色要素17とブラックマトリクス16および色要素17の上面に形成された共通電極18が形成されている。共通電極18は、第2基板12の四ヶ所に設けられた上下導通部24を介して第1基板11側に設けられた配線と導通しており、該配線も実装配線20に接続されている。
As for the 2nd board |
また、液晶15に面する第1基板11の表面および第2基板12の表面には、それぞれ配向膜19が形成されている。
An
液晶表示パネル10は、外部駆動回路と電気的に繋がる中継基板が実装配線20に接続される。そして、外部駆動回路からの入力信号が各データ線駆動回路部22および走査線駆動回路部21に入力されることにより、TFT素子13が画素電極ごとにスイッチングされ、画素電極と共通電極18との間に駆動電圧が印加されて表示が行われる。
In the liquid
液晶表示パネル10は、上記のように、実装配線20に外部の中継基板との接続を行うスペースを確保するため、実装配線20と対向する位置にあたる第2基板12の一部(切断部12a)を切断する必要がある。
As described above, the liquid
このため、第2基板12には、第2基板12の一部の切断部12aを切断する位置を設定する切断予定ライン30が設けられている。切断予定ライン30は、第2基板12の面に対して垂直な方向において、第1基板11の実装配線20に重なるように設けられている。第2パターン形成面120と垂直な方向に沿い、かつ、切断予定ライン30を通過する仮想面と、第2パターン形成面120とが交差する線の位置に、抑止部としての金属膜16aが形成されている。金属膜16aは、レーザ光を反射させる機能を有し、本実施形態では、クロムを材料とするブラックマトリクス16と同じ材料を用いている。
For this reason, the
切断部12aの切断には、レーザ光が用いられ、第2基板12の第2パターン形成面120の反対面から、切断予定ライン30に沿ってレーザ光を照射することにより、図2(c)に示すように、第2基板12の一部の切断部12aが第2基板12から切り離され、液晶表示パネル10aが形成される。
Laser light is used for cutting the cutting
(表示パネルのレーザスクライブ方法)
次に、第1実施形態に係る表示パネルのレーザスクライブ方法について説明する。図3及び図4は、表示パネルとしての液晶表示パネルのスクライブ方法を示す工程図である。詳細には、図3(a)〜(g)は、表示パネルを製造する製造工程を示し、図4(h),(i)は、レーザ光を照射する照射工程を示す。
(Laser scribing method for display panel)
Next, a laser scribing method for the display panel according to the first embodiment will be described. 3 and 4 are process diagrams showing a scribing method of a liquid crystal display panel as a display panel. Specifically, FIGS. 3A to 3G show a manufacturing process for manufacturing a display panel, and FIGS. 4H and 4I show an irradiation process for irradiating laser light.
図3(a)では、第2基板12の第2パターン形成面120にブラックマトリクス16と、切断予定ライン30に沿った個所に抑止部としての金属膜16aを形成する。金属膜16aは、第2パターン形成面120と垂直な方向に沿い、かつ、切断予定ライン30を通過する仮想面と、第2パターン形成面120とが交差する線の位置に形成されている。本実施形態において、金属膜16aは、ブラックマトリクス16と同じ材料を用いている。ブラックマトリクス16と金属膜16aの形成方法は、クロム膜をスパッタ法などにより第2パターン形成面120に成膜され、その後、フォトリソグラフィ法によりクロム膜パターンを施すことにより形成される。
In FIG. 3A, the
図3(b)では、ブラックマトリクス16の形成によって区画された領域に色要素17を付着させる。色要素17の付着方法は、印刷法、フォトリソグラフィ法、インクジェット法等といった適宜の手法により形成される。
In FIG. 3B, the
図3(c)では、ブラックマトリクス16および色要素17の表面に共通電極18を形成する。共通電極18の形成方法は、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等といった適宜の手法により形成される。
In FIG. 3C, the
図3(d)では、共通電極18の表面に配向膜19を形成する。配向膜19の形成方法は、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等といった適宜の手法により形成される。
In FIG. 3D, an
図3(e)では、第2パターン形成面120にシール材14を形成する。シール材14は、熱硬化性樹脂やUV硬化性樹脂を用いることができ、印刷法、ディスペンサ法、インクジェット法等を採用することができる。
In FIG. 3E, the sealing
図3(f)では、第2基板12と、TFT素子13等の第1パターンが形成された第1基板11とをシール材14の接着力によって接着させる。
In FIG. 3F, the
図3(g)では、シール材14によって規制された両基板11,12の間に液晶15を注入させる。
In FIG. 3G, the
以上の工程を経て、液晶表示パネル10が形成される。
The liquid
図4(h)では、レーザ照射装置を用いて、レーザ光源から出射されたレーザ光を集光する集光レンズ33から、液晶表示パネル10の第2基板12の第2パターン形成面120の反対面となるレーザ光照射面130に向けて、第2パターン形成面120と垂直な方向に、かつ、切断予定ライン30に沿って、第2基板12の内部にレーザ光35の集光点Pが位置するようにレーザ光35を照射する。
In FIG. 4 (h), the laser beam emitted from the laser light source is used to condense the laser beam emitted from the laser light source to the opposite side of the second
レーザ照射装置のレーザ光源は、例えばチタンサファイアを固体光源とするレーザ光をフェムト秒のパルス幅で出射するフェムト秒レーザである。この場合、波長:800nm、パルス幅:300fs(フェムト秒)、繰り返し周波数:1kHz、出力:700mWである。集光レンズ33は、倍率:100倍、開口数(NA):0.8の対物レンズである。
The laser light source of the laser irradiation apparatus is a femtosecond laser that emits laser light having, for example, titanium sapphire as a solid light source with a femtosecond pulse width. In this case, wavelength: 800 nm, pulse width: 300 fs (femtosecond), repetition frequency: 1 kHz, output: 700 mW. The
レーザ光35は、レーザ光照射面130から第2基板12の厚さ方向に8割程の位置に集光点Pが設定され、切断予定ライン30に沿って走査する。さらに、集光点Pをレーザ光照射面130に近づく方向に位置設定し、レーザ光35を照射しながら切断予定ライン30に沿って走査する。これを複数回走査することにより、切断予定ライン30に沿って改質領域が形成される。
The
そして、図4(i)に示すように、改質領域を起点として、第2基板12の一部の切断部12aが第2基板12から切り離され、液晶表示パネル10aが形成される。
Then, as shown in FIG. 4I, a part of the
(電子機器の構成)
次に、電子機器の構成について説明する。図5は、電子機器としてのプロジェクタの構成を示す斜視図である。図5において、プロジェクタ60を構成する光学系に液晶表示パネル10aが複数個搭載されている。
(Configuration of electronic equipment)
Next, the configuration of the electronic device will be described. FIG. 5 is a perspective view showing a configuration of a projector as an electronic apparatus. In FIG. 5, a plurality of liquid
従って、上記の第1実施形態によれば、以下に示す効果がある。 Therefore, according to the first embodiment, there are the following effects.
(1)レーザ光照射面130から切断予定ライン30に沿ってレーザ光35を照射したとき、集光点Pを超えて進行したレーザ光35は、第2基板12の第2パターン形成面120に、切断予定ライン30に沿った個所に対応して形成された金属膜16aに達すると、金属膜16aによって反射されるので、レーザ光35の進行がほぼ抑制され、実装配線20への照射をほぼ抑えることができる。従って、実装配線20等のパターンの焼け、パターン欠陥等の不具合を低減することができる。
(1) When the
(2)金属膜16aは、ブラックマトリクス16と同じ材料を用いるので、材料選定等の管理を省いて、作業効率を向上させることができる。
(2) Since the same material as that of the
(3)金属膜16aは、ブラックマトリクス16の形成と同時期に形成されるので、作業効率を向上させることができる。
(3) Since the
[第2実施形態]
(表示パネルの構成)
次に、第2実施形態に係る表示パネルについて説明する。図6は、表示パネルとしての液晶表示パネルの構成を示し、図6(a)は、断面図を示し、同図(b)は、第2基板12の一部が切断された後の断面図を示す。なお、上記の液晶表示パネルは、第1実施形態で説明した同様のマザー基板1から切り出された個片の液晶表示パネルである(図1参照)。
[Second Embodiment]
(Configuration of display panel)
Next, a display panel according to the second embodiment will be described. 6 shows a configuration of a liquid crystal display panel as a display panel, FIG. 6A shows a cross-sectional view, and FIG. 6B shows a cross-sectional view after a part of the
図6(a)において、液晶表示パネル10は、第1基板11と、第2基板12と、シール材14によって接着された第1,第2基板11,12の隙間に充填された液晶15等で構成されている。なお、液晶表示パネル10の基本構成は、第1実施形態における液晶表示パネル10の構成と同じなので、説明を省略し、異なる部分について説明する。
6A, the liquid
第2基板12には、第2基板12の一部の切断部12aを切断する位置を設定する切断予定ライン30が設けられている。切断予定ライン30は、第2基板12の面に対して垂直な方向において、第1基板11の実装配線20に重なるように設けられている。第2パターン形成面120と垂直な方向に沿い、かつ、切断予定ライン30を通過する仮想面と、第2パターン形成面120とが交差する線の位置に、抑止部としての樹脂膜40が形成されている。樹脂膜40は、レーザ光を吸収させる機能を有し、例えば、エポキシ樹脂や塩化ビニル樹脂等が用いられる。また、樹脂膜40の色彩は、黒色を採用することが好ましいが、半透明の樹脂膜40を用いてもよい。
The
切断部12aの切断には、レーザ光が用いられ、第2基板12の第2パターン形成面120の反対面から、切断予定ライン30に沿ってレーザ光を照射することにより、図6(b)に示すように、第2基板12の一部の切断部12aが第2基板12から切り離され、液晶表示パネル10aが形成される。
Laser light is used for the cutting of the cutting
(表示パネルのレーザスクライブ方法)
次に、第2実施形態に係る表示パネルのレーザスクライブ方法について説明する。図7及び図8は、表示パネルとしての液晶表示パネルのスクライブ方法を示す工程図である。詳細には、図7(a)〜(h)は、表示パネルを製造する製造工程を示し、図8(i),(j)は、レーザ光を照射する照射工程を示す。
(Laser scribing method for display panel)
Next, a laser scribing method for a display panel according to the second embodiment will be described. 7 and 8 are process diagrams showing a scribing method of a liquid crystal display panel as a display panel. Specifically, FIGS. 7A to 7H show a manufacturing process for manufacturing a display panel, and FIGS. 8I and 8J show an irradiation process for irradiating a laser beam.
図7(a)では、第2基板12の第2パターン形成面120の切断予定ライン30に沿った個所に抑止部としての樹脂膜40を形成する。樹脂膜40は、第2パターン形成面120と垂直な方向に沿い、かつ、切断予定ライン30を通過する仮想面と、第2パターン形成面120とが交差する線の位置に形成されている。樹脂膜40は、例えば、エポキシ樹脂が用いられ、ディスペンサ法、インクジェット法等により形成される。また、必要に応じて、乾燥処理を行い、固化した樹脂膜40が形成される。
In FIG. 7A, a
図7(b)では、第2基板12の第2パターン形成面120にブラックマトリクス16を形成する。ブラックマトリクス16は、クロム膜をスパッタ法などにより成膜され、その後、フォトリソグラフィ法によりクロム膜パターンを施すことにより形成される。
In FIG. 7B, the
図7(c)では、ブラックマトリクス16の形成によって区画された領域に色要素17を付着させる。色要素17の付着方法は、印刷法、フォトリソグラフィ法、インクジェット法等といった適宜の手法により形成される。
In FIG. 7C, the
図7(d)では、ブラックマトリクス16および色要素17の表面に共通電極18を形成する。共通電極18の形成方法は、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等といった適宜の手法により形成される。
In FIG. 7D, the
図7(e)では、共通電極18の表面に配向膜19を形成する。配向膜19の形成方法は、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等といった適宜の手法により形成される。
In FIG. 7E, an
図7(f)では、第2パターン形成面120にシール材14を形成する。シール材は、熱硬化性樹脂やUV硬化性樹脂を用いることができ、印刷法、ディスペンサ法、インクジェット法等を採用することができる。
In FIG. 7F, the sealing
図7(g)では、第2基板12と、TFT素子13等の第1パターンが形成された第1基板11とをシール材14の接着力によって接着させる。
In FIG. 7G, the
図7(h)では、シール材14によって規制された両基板11,12の間に液晶15を注入させる。
In FIG. 7H, the
以上の工程を経て、液晶表示パネル10が形成される。
The liquid
図8(i)では、レーザ照射装置を用いて、レーザ光源から出射されたレーザ光を集光する集光レンズ33から、液晶表示パネル10の第2基板12の第2パターン形成面120の反対面となるレーザ光照射面130に向けて、第2パターン形成面120と垂直な方向に、かつ、切断予定ライン30に沿って、第2基板12の内部にレーザ光35の集光点Pが位置するようにレーザ光35を照射する。
In FIG. 8 (i), the condensing
レーザ照射装置のレーザ光源は、例えばチタンサファイアを固体光源とするレーザ光をフェムト秒のパルス幅で出射するフェムト秒レーザである。この場合、波長:800nm、パルス幅:300fs(フェムト秒)、繰り返し周波数:1kHz、出力:700mWである。集光レンズ33は、倍率:100倍、開口数(NA):0.8の対物レンズである。
The laser light source of the laser irradiation apparatus is a femtosecond laser that emits laser light having, for example, titanium sapphire as a solid light source with a femtosecond pulse width. In this case, wavelength: 800 nm, pulse width: 300 fs (femtosecond), repetition frequency: 1 kHz, output: 700 mW. The
レーザ光35は、レーザ光照射面130から第2基板12の厚さ方向に8割程の位置に集光点Pが設定され、切断予定ライン30に沿って走査する。さらに、集光点Pをレーザ光照射面130に近づく方向に位置設定し、レーザ光35を照射しながら切断予定ライン30に沿って走査する。これを複数回走査することにより、切断予定ライン30に沿って改質領域が形成される。
The
そして、図8(j)に示すように、改質領域を起点として、第2基板12の一部の切断部12aが第2基板12から切り離され、液晶表示パネル10aが形成される。
Then, as shown in FIG. 8J, a part of the
(電子機器の構成)
電子機器の構成については、第1実施形態の電子機器としてのプロジェクタ60の構成と同様なので説明を省略する(図5参照)。
(Configuration of electronic equipment)
Since the configuration of the electronic device is the same as the configuration of the
従って、上記の第2実施形態によれば、第1実施形態の効果に加え、以下に示す効果がある。 Therefore, according to said 2nd Embodiment, in addition to the effect of 1st Embodiment, there exists an effect shown below.
(1)レーザ光照射面130から切断予定ライン30に沿ってレーザ光35を照射したとき、集光点Pを超えて進行したレーザ光35は、第2基板12の第2パターン形成面120に、切断予定ライン30に沿った個所に対応して形成された樹脂膜40に達すると、樹脂膜40によって吸収されるので、レーザ光35の進行がほぼ抑制され、実装配線20への照射をほぼ抑えることができる。従って、実装配線20等のパターンの焼け、パターン欠陥等の不具合を低減することができる。
(1) When the
[第3実施形態]
(表示パネルの構成)
次に、第3実施形態に係る表示パネルについて説明する。図9は、表示パネルとしての液晶表示パネルの構成を示し、図9(a)は、断面図を示し、同図(b)は、第2基板12の一部が切断された後の断面図を示す。なお、液晶表示パネル10は、第1実施形態で説明した同様のマザー基板1から切り出された個片の液晶表示パネルである(図1参照)。
[Third embodiment]
(Configuration of display panel)
Next, a display panel according to the third embodiment will be described. 9 shows a configuration of a liquid crystal display panel as a display panel, FIG. 9A shows a cross-sectional view, and FIG. 9B shows a cross-sectional view after a part of the
図9(a)において、液晶表示パネル10は、第1基板11と、第2基板12と、シール材14によって接着された第1,第2基板11,12の隙間に充填された液晶15等で構成されている。なお、液晶表示パネル10の基本構成は、第1実施形態における液晶表示パネル10の構成と同じなので、説明を省略し、異なる部分について説明する。
9A, the liquid
第2基板12には、第2基板12の一部の切断部12aを切断する位置を設定する切断予定ライン30が設けられている。切断予定ライン30は、第2基板12面の面に対して垂直な方向において、第1基板11の実装配線20に重なるように設けられている。第2パターン形成面120と垂直な方向に沿い、かつ、切断予定ライン30を通過する仮想面と、第2パターン形成面120とが交差する線の位置に、抑止部としての凹凸部50が形成されている。
The
切断部12aの切断には、レーザ光が用いられ、第2基板12の第2パターン形成面120の反対面から、切断予定ライン30に沿ってレーザ光を照射することにより、図9(b)に示すように、第2基板12の一部の切断部12aが第2基板12から切り離され、液晶表示パネル10aが形成される。
Laser light is used for cutting the cutting
(表示パネルのレーザスクライブ方法)
次に、第3実施形態に係る表示パネルのレーザスクライブ方法について説明する。図10及び図11は、表示パネルとしての液晶表示パネルのスクライブ方法を示す工程図である。詳細には、図10(a)〜(h)は、表示パネルを製造する製造工程を示し、図11(i),(j)は、レーザ光を照射する照射工程を示す。
(Laser scribing method for display panel)
Next, a laser scribing method for a display panel according to the third embodiment will be described. 10 and 11 are process diagrams showing a scribing method of a liquid crystal display panel as a display panel. Specifically, FIGS. 10A to 10H show a manufacturing process for manufacturing a display panel, and FIGS. 11I and 11J show an irradiation process for irradiating a laser beam.
図10(a)では、第2基板12の第2パターン形成面120の切断予定ライン30に沿った個所に抑止部としての凹凸部50を形成する。凹凸部50は、第2パターン形成面120と垂直な方向に沿い、かつ、切断予定ライン30を通過する仮想面と、第2パターン形成面120とが交差する線の位置に形成されている。凹凸部50は、例えば、第2基板12の第2パターン形成面120にレーザ光55を照射することにより形成される。
In FIG. 10A, the concavo-
図10(b)では、第2基板12の第2パターン形成面120にブラックマトリクス16を形成する。ブラックマトリクス16は、クロム膜をスパッタ法などにより成膜され、その後、フォトリソグラフィ法によりクロム膜パターンを施すことにより形成される。
In FIG. 10B, the
図10(c)では、ブラックマトリクス16の形成によって区画された領域に色要素17を付着させる。色要素17の付着方法は、印刷法、フォトリソグラフィ法、インクジェット法等といった適宜の手法により形成される。
In FIG. 10C, the
図10(d)では、ブラックマトリクス16および色要素17の表面に共通電極18を形成する。共通電極18の形成方法は、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等といった適宜の手法により形成される。
In FIG. 10D, the
図10(e)では、共通電極18の表面に配向膜19を形成する。配向膜19の形成方法は、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等といった適宜の手法により形成される。
In FIG. 10E, an
図10(f)では、第2パターン形成面120にシール材14を形成する。シール材は、熱硬化性樹脂やUV硬化性樹脂を用いることができ、印刷法、ディスペンサ法、インクジェット法等を採用することができる。
In FIG. 10 (f), the sealing
図10(g)では、第2基板12と、TFT素子13等の第1パターンが形成された第1基板11とをシール材14の接着力によって接着させる。
In FIG. 10G, the
図10(h)では、シール材14によって規制された両基板11,12の間に液晶15を注入させる。
In FIG. 10H, the
以上の工程を経て、液晶表示パネル10が形成される。
The liquid
図11(i)では、レーザ照射装置を用いて、レーザ光源から出射されたレーザ光を集光する集光レンズ33から、液晶表示パネル10の第2基板12の第2パターン形成面120の反対面となるレーザ光照射面130に向けて、第2パターン形成面120と垂直な方向に、かつ、切断予定ライン30に沿って、第2基板12の内部にレーザ光35の集光点Pが位置するようにレーザ光35を照射する。
In FIG. 11 (i), the condensing
レーザ照射装置のレーザ光源は、例えばチタンサファイアを固体光源とするレーザ光をフェムト秒のパルス幅で出射するフェムト秒レーザである。この場合、波長:800nm、パルス幅:300fs(フェムト秒)、繰り返し周波数:1kHz、出力:700mWである。集光レンズ33は、倍率:100倍、開口数(NA):0.8の対物レンズである。
The laser light source of the laser irradiation apparatus is a femtosecond laser that emits laser light having, for example, titanium sapphire as a solid light source with a femtosecond pulse width. In this case, wavelength: 800 nm, pulse width: 300 fs (femtosecond), repetition frequency: 1 kHz, output: 700 mW. The
レーザ光35は、レーザ光照射面130から第2基板12の厚さ方向に8割程の位置に集光点Pが設定され、切断予定ライン30に沿って走査する。さらに、集光点Pをレーザ光照射面130に近づく方向に位置設定し、レーザ光35を照射しながら切断予定ライン30に沿って走査する。これを複数回走査することにより、切断予定ライン30に沿って改質領域が形成される。
The
そして、図11(j)に示すように、改質領域を起点として、切断部12aが第2基板12から切り離され、液晶表示パネル10aが形成される。
Then, as shown in FIG. 11 (j), the
(電子機器の構成)
電子機器の構成については、第1実施形態の電子機器としてのプロジェクタ60の構成と同様なので説明を省略する(図5参照)。
(Configuration of electronic equipment)
Since the configuration of the electronic device is the same as the configuration of the
従って、上記の第3実施形態によれば、第1及び第2実施形態の効果に加え、以下に示す効果がある。 Therefore, according to the third embodiment, in addition to the effects of the first and second embodiments, there are the following effects.
(1)レーザ光照射面130から切断予定ライン30に沿ってレーザ光35を照射したとき、集光点Pを超えて進行したレーザ光35は、第2基板12の第2パターン形成面120の切断予定ライン30に沿った個所に対応して形成された凹凸部50に達すると、凹凸部50によって散乱されるので、レーザ光35の進行がほぼ抑制され、実装配線20への照射をほぼ抑えることができる。従って、実装配線20等のパターンの焼け、パターン欠陥等の不具合を低減することができる。
(1) When the
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and the following modifications are given.
(変形例1)第1及び第2実施形態において、金属膜16aおよび樹脂膜40は、第2基板12の第2パターン形成面120に形成したが、これに限定されない。例えば、第2基板12の面に対して垂直な方向において、切断予定ライン30に重なる第1基板11に形成された実装配線20の上に形成してもよい。このようにしても、レーザ光35は、金属膜16aまたは樹脂膜40によって、反射または吸収されるので、実装配線20の焼けや切断の発生を低減させることができる。
(Modification 1) In the first and second embodiments, the
(変形例2)第1及び第2実施形態において、金属膜16aおよび樹脂膜40は、第2基板12に形成したが、これに限定されない。例えば、切断予定ライン30の線上における第2基板12と第1基板11の実装配線20の上の両方に形成してもよい。このようにすれば、実装配線20の焼けや切断に対して、さらに安全性を確保することができる。
(Modification 2) In the first and second embodiments, the
(変形例3)第1及び第2実施形態において、金属膜16aおよび樹脂膜40は、一面に隙間のない膜形状としたが、これに限定されない。例えば、スリット形状であってもよい。この場合でも、レーザ光の進行を抑制することができる。
(Modification 3) In the first and second embodiments, the
(変形例4)第1及び第2実施形態において、金属膜16aおよび樹脂膜40は、均一な膜厚で形成したが、これに限定されない。例えば、切断予定ライン30にあたる局所部分は、他の膜厚より厚くしてもよい。このようにすれば、さらに、レーザ光35の進行を抑えることができる。
(Modification 4) In the first and second embodiments, the
1…マザー基板、10,10a…表示パネルとしての液晶表示パネル、11…第1基板、12…第2基板、12a…切断部、13…TFT素子、14…シール材、15…液晶、16…ブラックマトリクス、16a…抑止部としての金属膜、17…色要素、18…共通電極、19…配向膜、20…第1パターンの実装配線、21…走査線駆動回路部、22…データ線駆動回路部、24…上下導通部、30…切断予定ライン、33…集光レンズ、35,55…レーザ光、40…抑止部としての樹脂膜、50…抑止部としての凹凸部、60…電子機器としてのプロジェクタ、110…第1パターン形成面、120…第2パターン形成面、130…レーザ光照射面。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Mother board | substrate, 10, 10a ... Liquid crystal display panel as a display panel, 11 ... 1st board | substrate, 12 ... 2nd board | substrate, 12a ... Cutting part, 13 ... TFT element, 14 ... Sealing material, 15 ... Liquid crystal, 16 ... Black matrix, 16a ... Metal film as suppression part, 17 ... Color element, 18 ... Common electrode, 19 ... Alignment film, 20 ... First pattern mounting wiring, 21 ... Scanning line driving circuit part, 22 ... Data line driving circuit , 24 ... vertical conduction part, 30 ... planned cutting line, 33 ... condensing lens, 35, 55 ... laser light, 40 ... resin film as suppression part, 50 ... uneven part as suppression part, 60 ... as
Claims (8)
前記第2パターン形成面の反対面に向けて、前記第2パターン形成面と垂直な方向に、かつ、前記切断予定ラインに沿って、前記第2基板の内部にレーザ光の集光点が位置するように前記レーザ光を照射する照射工程と、を備えることを特徴とする表示パネルのレーザスクライブ方法。 A first substrate having a first pattern formation surface that is a substrate surface on which a first pattern is formed, and a second substrate having a second pattern formation surface that is a substrate surface on which a second pattern is formed are the first substrate. A pattern forming surface and the second pattern forming surface are arranged to face each other, a cutting line for cutting a part of the second substrate is provided on the second substrate, and the second pattern forming surface and Reflection and absorption at the position of a line along a vertical direction and intersecting at least one of the first pattern formation surface and the second pattern formation surface with a virtual surface passing through the scheduled cutting line , A manufacturing process for manufacturing a display panel provided with a suppression unit having at least one function among scattering,
A condensing point of laser light is located inside the second substrate in a direction perpendicular to the second pattern formation surface and along the planned cutting line toward the opposite surface of the second pattern formation surface. An irradiation step of irradiating the laser light as described above, and a laser scribing method for a display panel.
前記製造工程では、前記抑止部は、金属膜で形成されたことを特徴とする表示パネルのレーザスクライブ方法。 The laser scribing method for a display panel according to claim 1,
In the manufacturing process, the suppression unit is formed of a metal film.
前記製造工程では、前記金属膜は、前記第2パターン形成面に、前記第2パターンの形成で使用されるブラックマトリクスと同じ材料で形成されたことを特徴とする表示パネルのレーザスクライブ方法。 The laser scribing method for a display panel according to claim 2,
In the manufacturing process, the metal film is formed on the second pattern formation surface with the same material as the black matrix used for forming the second pattern.
前記製造工程では、前記金属膜と前記ブラックマトリクスを同時期に形成することを特徴とする表示パネルのレーザスクライブ方法。 In the laser scribing method of the display panel according to claim 2 or 3,
In the manufacturing process, the metal film and the black matrix are formed at the same time.
前記製造工程では、抑止部は、樹脂膜で形成されたことを特徴とする表示パネルのレーザスクライブ方法。 The laser scribing method for a display panel according to claim 1,
In the manufacturing process, the suppression unit is formed of a resin film.
前記製造工程では、前記第2パターン形成面に、凹凸部を形成することにより前記抑止部を形成することを特徴とする表示パネルのレーザスクライブ方法。 The laser scribing method for a display panel according to claim 1,
In the manufacturing process, the suppressing portion is formed by forming an uneven portion on the second pattern forming surface, and the laser scribing method for a display panel.
An electronic apparatus comprising the display panel according to claim 7.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005249071A JP4742751B2 (en) | 2005-08-30 | 2005-08-30 | Display panel, laser scribing method for display panel, and electronic device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005249071A JP4742751B2 (en) | 2005-08-30 | 2005-08-30 | Display panel, laser scribing method for display panel, and electronic device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007062074A true JP2007062074A (en) | 2007-03-15 |
| JP4742751B2 JP4742751B2 (en) | 2011-08-10 |
Family
ID=37924856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005249071A Expired - Fee Related JP4742751B2 (en) | 2005-08-30 | 2005-08-30 | Display panel, laser scribing method for display panel, and electronic device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4742751B2 (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2147899A1 (en) | 2008-07-18 | 2010-01-27 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Method for processing terminal in bonded substrate |
| US20110155705A1 (en) * | 2009-12-29 | 2011-06-30 | Won-Kyu Lim | Laser cutting method and method of manufacturing organic light-emitting device |
| JP2013152995A (en) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method for processing wafer |
| US8957582B2 (en) | 2010-01-05 | 2015-02-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same |
| JP2017502901A (en) * | 2013-12-17 | 2017-01-26 | コーニング インコーポレイテッド | Cutting stack transparent materials using ultrafast laser beam optics, destructive layers and other layers |
| CN114156305A (en) * | 2021-11-30 | 2022-03-08 | Tcl华星光电技术有限公司 | Display panel and preparation method thereof |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109116612A (en) * | 2018-09-30 | 2019-01-01 | 上海天马微电子有限公司 | Display panel and display device |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53117010A (en) * | 1977-03-23 | 1978-10-13 | Sharp Kk | Method of cutting glass |
| JPS5994436A (en) * | 1982-11-19 | 1984-05-31 | Nec Home Electronics Ltd | Manufacture of semiconductor pellet |
| JP2002011589A (en) * | 2000-06-28 | 2002-01-15 | Hitachi Ltd | Laser processing mask, method of manufacturing the same, manufacturing apparatus, laser ablation processing apparatus, and image display apparatus manufactured using the mask |
| JP2002224870A (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-13 | Seiko Epson Corp | Laser cutting method, manufacturing method of electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
| WO2003076120A1 (en) * | 2002-03-12 | 2003-09-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser processing method |
| JP2004111606A (en) * | 2002-09-18 | 2004-04-08 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Method of processing wafer |
| JP2005081715A (en) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Sony Corp | Laser processing apparatus and laser processing method |
| JP2005099709A (en) * | 2003-08-21 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | Method for manufacturing electrooptical device, method for parting a plurality of substrates, substrate for electrooptical device, and electrooptical device |
-
2005
- 2005-08-30 JP JP2005249071A patent/JP4742751B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53117010A (en) * | 1977-03-23 | 1978-10-13 | Sharp Kk | Method of cutting glass |
| JPS5994436A (en) * | 1982-11-19 | 1984-05-31 | Nec Home Electronics Ltd | Manufacture of semiconductor pellet |
| JP2002011589A (en) * | 2000-06-28 | 2002-01-15 | Hitachi Ltd | Laser processing mask, method of manufacturing the same, manufacturing apparatus, laser ablation processing apparatus, and image display apparatus manufactured using the mask |
| JP2002224870A (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-13 | Seiko Epson Corp | Laser cutting method, manufacturing method of electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
| WO2003076120A1 (en) * | 2002-03-12 | 2003-09-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser processing method |
| JP2004111606A (en) * | 2002-09-18 | 2004-04-08 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Method of processing wafer |
| JP2005099709A (en) * | 2003-08-21 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | Method for manufacturing electrooptical device, method for parting a plurality of substrates, substrate for electrooptical device, and electrooptical device |
| JP2005081715A (en) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Sony Corp | Laser processing apparatus and laser processing method |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2147899A1 (en) | 2008-07-18 | 2010-01-27 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Method for processing terminal in bonded substrate |
| US20110155705A1 (en) * | 2009-12-29 | 2011-06-30 | Won-Kyu Lim | Laser cutting method and method of manufacturing organic light-emitting device |
| US8835803B2 (en) * | 2009-12-29 | 2014-09-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser cutting method and method of manufacturing organic light-emitting device |
| US8957582B2 (en) | 2010-01-05 | 2015-02-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same |
| JP2013152995A (en) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method for processing wafer |
| JP2017502901A (en) * | 2013-12-17 | 2017-01-26 | コーニング インコーポレイテッド | Cutting stack transparent materials using ultrafast laser beam optics, destructive layers and other layers |
| CN114156305A (en) * | 2021-11-30 | 2022-03-08 | Tcl华星光电技术有限公司 | Display panel and preparation method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4742751B2 (en) | 2011-08-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102744666B1 (en) | Method of dividing composite materials | |
| TWI413565B (en) | Method of cutting substrate | |
| US20170197868A1 (en) | Laser Processing of Electronic Device Structures | |
| US7566636B2 (en) | Method of scribing stuck mother substrate and method of dividing stuck mother substrate | |
| KR20220035332A (en) | How to divide composites | |
| JP4742751B2 (en) | Display panel, laser scribing method for display panel, and electronic device | |
| WO2014126140A1 (en) | Laser irradiation device and manufacturing method of laminate optical member | |
| JP7561735B2 (en) | How to cut composite materials | |
| WO2014126137A1 (en) | Laser irradiation device and manufacturing method of laminate optical member | |
| JP7550866B2 (en) | Composite material dividing method and composite material | |
| TWI631695B (en) | Manufacturing method of display panel | |
| JP2007118009A (en) | Laminate processing method | |
| JP2007021514A (en) | Scribe formation method, substrate with planned dividing lines | |
| JP6512221B2 (en) | Panel manufacturing method | |
| KR102630873B1 (en) | Manufacturing method for the window | |
| JP2007283318A (en) | Substrate manufacturing method, laser processing device, display device, electro-optical device, electronic device | |
| KR102633196B1 (en) | Scribing apparatus and scribing method | |
| JP2007275920A (en) | SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, DISPLAY DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ELECTRONIC DEVICE | |
| JP2009190943A (en) | Substrate cutting apparatus, substrate cutting method, and substrate manufactured using the method | |
| JP2007275902A (en) | Laser scribing method, electro-optical device, electronic equipment | |
| JP2007015169A (en) | Scribe forming method, scribe forming apparatus, multilayer substrate | |
| KR20080052571A (en) | Substrate manufacturing method including process of removing protrusion, color filter protrusion modification method and apparatus | |
| JP2007229793A (en) | Laser scribing method, electro-optical device, electronic equipment | |
| JP2009195944A (en) | Method of dividing substrate and method of manufacturing indicator | |
| JP2008023579A (en) | Substrate cutting method, electro-optical device manufacturing method, and laser scribing device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070404 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080424 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110113 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110118 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110221 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110412 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110425 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4742751 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |