JP2006339290A - ヒューズ切断テスト回路及びヒューズ切断テスト方法並びに半導体回路 - Google Patents
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Abstract
【課題】
不完全な切断状態の検出まで含めたヒューズの切断判定を高速且つ高精度に行うこと
【解決手段】
本発明に係るヒューズ切断テスト方法は、ヒューズの状態をテストするヒューズ切断テスト方法であって、当該ヒューズに流れる電流の値に基づいて、当該ヒューズの切断、非切断及びその中間の状態のいずれかを判断するヒューズ切断テスト方法。これにより、不完全な切断状態の検出まで含めたヒューズの切断判定を高速且つ高精度に行うことができる。
【選択図】 図2
不完全な切断状態の検出まで含めたヒューズの切断判定を高速且つ高精度に行うこと
【解決手段】
本発明に係るヒューズ切断テスト方法は、ヒューズの状態をテストするヒューズ切断テスト方法であって、当該ヒューズに流れる電流の値に基づいて、当該ヒューズの切断、非切断及びその中間の状態のいずれかを判断するヒューズ切断テスト方法。これにより、不完全な切断状態の検出まで含めたヒューズの切断判定を高速且つ高精度に行うことができる。
【選択図】 図2
Description
本発明はヒューズ切断テスト回路及びヒューズ切断テスト方法並びに半導体回路に関し、特に冗長メモリセルを備えた半導体記憶装置におけるヒューズの切断状態を詳細に確認するテスト回路及びテスト方法に関する。
半導体記憶装置の製造工程において、不良が発生したメモリセルを冗長メモリセルに置換する技術が必須となってきている。置換する方法としては、ヒューズを切断することにより置換を行うのが一般的である。ヒューズには外部よりレーザービームを照射して配線を切断するレーザービーム溶断型ヒューズや、高電圧を印加して配線の切断もしくは絶縁膜の破壊を行う電圧印加型ヒューズがある。また、プロセスの微細化及び半導体記憶装置の大容量化に伴い、このような技術は重要性を増しており、半導体記憶装置に限らず様々な態様でヒューズを用いた回路状態の切換、調整が行われている。
上記の様な技術においては、切断対象であるヒューズを切断する際に、誤って他の切断対象でないヒューズをも切断してしまう場合や、切断対象であるヒューズが完全に切断されない場合などがある。従って、切断対象であるヒューズが切断処理によって適正に切断されているか否か、更には切断対象でないヒューズが適正に存在しているかのテストを行う技術も、上記の技術と同時に重要性を増している。従来のヒューズ回路およびそのテスト方法は例えば特許文献1に開示されている。
特許文献1に記載されているように、ヒューズの切断不良の検査において、例えば高速SRAM製品では、電源を緩やかに立ち上げないと検出できない不良(スローライズ不良)モードが存在する。この不良モードは、本来切断したはずのヒューズが、完全に切断されていないことにより起こる。具体的には、ヒューズが完全に切断されていない場合、当該ヒューズは回路としては高抵抗状態で接続されているように機能し、ヒューズの切断/非切断により論理を作成している回路において、当該ヒューズの次段の信号が不安定になる。
上記のスローライズ不良の態様を図7及び図8を用いて詳述する。図7、図8は従来のヒューズ回路の構成を示す回路図である。図7に示す回路は、電源VCCと接地点との間に、ヒューズ1と抵抗2とが直列に接続され、ヒューズ1と抵抗2との接続点の電位をインバータ3で反転させて出力している。NMOS4はフローティング防止用のトランジスタであり、容量5、6は電源立ち上げが急峻に行なわれた場合に、インバータ3出力の過渡的な動作によって誤った信号が出力されることを防止する容量であり、夫々の容量はCv、Cgである。
図8は図7におけるヒューズ1を切断した状態を示す回路図である。ヒューズ1が完全に切断されておらず、不完全に切断された場合のヒューズ1の切れ残り抵抗値をRfcut、抵抗2における切れ残り補償抵抗値をRgとする。寄生容量をCvi、Cgoとする。
図7に示すような回路において、ヒューズ1が完全に切断されていない場合、ヒューズ1が高抵抗とみなされ、ヒューズ1と抵抗2とで生成される信号が"H"と"L"とのどちらの電位に選択されるかが不明である。例えば、図9に示すように電源を急峻に立ち上げた場合は、電源投入直後のプログラム・回路接点(OUT)が、容量分割電位となりNMOS4がONすることで、信号が安定する。
更に詳述すると、ヒューズ1が完全に切断されていない場合、上記の通りヒューズ1は高抵抗状態となり、ヒューズ1を介してヒューズ1と抵抗2との間の電位が上昇する。しかしながら、電源を急峻に立ち上げた場合は、ヒューズ1と抵抗2との間の電位が"H"として認識される閾値を越える前に、即ち電位が"L"の状態においてインバータ3が動作するため、インバータ3の出力が"H"となり、NMOS4がONする。すると図8に示す電位INは接地されるため、インバータ3の出力は"H"で安定し、ヒューズ1は切断されていることを示す信号が出力される。
他方、時間をかけて電源を立ち上げた場合は、図10に示すようにプログラム・回路接点は、ほぼ抵抗分割電位となるINが閾値を超えると安定する。この場合、出力はヒューズが切断されていることを示す期待値である"H"と逆の電位、即ちヒューズが切断されていないことを示す"L"が得られることとなる。
更に詳述すると、ヒューズ1が完全に切断されておらず、高抵抗状態となっている場合、ヒューズ1を介してヒューズ1と抵抗2との間の電位が上昇することは電源を急峻に立ち上げた場合と同様である。しかしながら、時間をかけて電源を立ち上げた場合は、インバータ3が動作するまでに時間がかかり、インバータ3が動作する前に図8に示す電位INが"H"として認識される閾値を超えてしまう場合がある。この場合、インバータ3の出力は"L"で安定することとなり、ヒューズ1は切断されていないことを示す信号が出力される。
特開平5−242691号公報
この様に、ヒューズ1の不完全な切断を検出するためには、時間をかけて電源を立ち上げる(スローライズ)テストパターンが必要となる。スローライズテストパターンを使用する場合、電源の立ち上げをミリオーダーの時間で実施する必要があり、テスト時間が長くなる。また、スローライズテストパターンを用いた場合においても、電位INが"H"として認識される閾値を越える前にインバータ3が動作してしまった場合は、電位INは接地されるためヒューズ1が切断されたことを示す信号が出力され、安定した試験結果が得られない。
本発明に係るヒューズ切断テスト方法は、ヒューズの状態をテストするヒューズ切断テスト方法であって、当該ヒューズに流れる電流の値に基づいて、当該ヒューズの切断、非切断及びその中間の状態のいずれかを判断するヒューズ切断テスト方法。これにより、不完全な切断状態の検出まで含めたヒューズの切断判定を高速且つ高精度に行うことができる。
本発明に係るヒューズ切断テスト回路は、ヒューズの状態をテストするヒューズ切断テスト回路であって、前記ヒューズを含むヒューズ回路と、前記ヒューズに流れる電流値において当該ヒューズが未切換状態であることを示す第1の電流値を供給可能である電流源と、前記ヒューズに流れる電流値と前記第1の電流値とを比較する電流比較回路と、前記電流比較回路の比較結果に基づいて前記ヒューズの状態を示す信号を出力する電流比較結果演算回路とを有し、前記電流比較結果演算回路は、前記ヒューズに電流が流れていない場合は当該ヒューズが切換状態であることを示す信号を出力し、前記ヒューズに流れる電流値が前記第1の電流値以上である場合は当該ヒューズが未切換状態であることを示す信号を出力し、前記ヒューズに流れる電流値が上記のいずれでもない場合は、前記ヒューズが不完全な状態であることを示す信号を出力する。これにより、不完全な切断まで含めたヒューズの切断判定を高速且つ高精度に行うことができる。
本発明に係る他のヒューズ切断テスト回路は、ヒューズの状態をテストするヒューズ切断テスト回路であって、前記ヒューズを含むヒューズ回路と、前記ヒューズに流れる電流値において当該ヒューズが未切換状態であることを示す第1の電流値及び前記ヒューズに流れる電流値において当該ヒューズが切換状態であることを示す第2の電流値を供給可能である電流源と、前記ヒューズに流れる電流値と前記第1の電流値及び前記第2の電流値とを比較する電流比較回路と、前記電流比較回路の比較結果に基づいて前記ヒューズの状態を示す信号を出力する電流比較結果演算回路とを有し、前記電流比較結果演算回路は、前記ヒューズに流れる電流値が前記第1の電流値以上である場合は当該ヒューズが未切換状態であることを示す信号を出力し、前記ヒューズに流れる電流値が前記第2の電流値以下である場合は当該ヒューズが切換状態であることを示す信号を出力し、前記ヒューズに流れる電流値が上記のいずれでもない場合は、前記ヒューズが不完全な状態であることを示す信号を出力する。これにより、不完全な切断まで含めたヒューズの切断判定を高速且つ高精度に行うことができる。
本発明に係る半導体回路は、ヒューズを切断することによって回路の状態を調整する半導体回路であって、前記ヒューズが通常接続される第1のパスと、前記ヒューズの状態をテストするための第2のパスとを有する。これにより、半導体回路中のヒューズ以外の素子の影響を受けることなくヒューズの状態をテストすることができる。
本発明により、不完全な切断状態の検出まで含めたヒューズの切断判定を高速且つ高精度に行うことができる。
実施の形態1.
以下に、本発明を適用可能な実施の形態が説明される。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載は、適宜、省略及び簡略化がなされている。又、当業者であれば、以下の実施形態の各要素を、本発明の範囲において容易に変更、追加、変換することが可能である。
以下に、本発明を適用可能な実施の形態が説明される。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載は、適宜、省略及び簡略化がなされている。又、当業者であれば、以下の実施形態の各要素を、本発明の範囲において容易に変更、追加、変換することが可能である。
本発明は、回路状態の切換のためのヒューズ切断において、所望のヒューズが適正に切断され、回路状態が適正に切り換えられているか否かを検査するものであり、当該ヒューズに流れる電流の値を検査することによって、切換/未切換のみならず、その中間の不完全な状態をも検出可能とするものである。その1態様として半導体記憶装置の不良メモリセルを冗長メモリセルに置換するためのヒューズ切断について説明する。以下、ヒューズが適正に切断され、対応するメモリセルが切り換えられた状態を切換状態、ヒューズが未切断であり対応するメモリセルが切り換えられていない状態を未切換状態、ヒューズが不完全に切断された状態を不完全状態とする。
図1は、本実施形態に係るヒューズ回路100を示す回路図である。従来と同様に、電源VCCと接地点GNDとの間に、ヒューズ101と抵抗102とが直列に接続され、ヒューズ101と抵抗102との接続点の電位をインバータ103で反転させてOutput端子に出力している。NMOS104はフローティング防止用のトランジスタである。また、ヒューズ101の電源VCC側にはPMOS105が、ヒューズ101の接地点GND側にはNMOS106が夫々接続されており、PMOS105のゲートにはTest signal信号が、NMOS106のゲートにはインバータ107によって反転されたTest signal信号が入力される。
他方、ヒューズ101は検査用電源VCC_FUSEと検査用接地点GND_FUSEとの間(パスA)にも位置している。即ち、ヒューズ101に対して、電源VCCと検査用電源VCC_FUSEとは並列に接続され、接地点GNDと検査用接地点GND_FUSEとは並列に接続されている。そして、ヒューズ101の検査用電源VCC_FUSE側にはPMOS109が、ヒューズ101の検査用接地点GND_FUSE側にはNMOS110が夫々接続されており、PMOS109のゲートにはインバータ108によって反転されたTest signal信号が、NMOS110のゲートにはインバータ108によって反転され、インバータ111によって再反転されたTest signal信号が入力される。
Test Signal信号は図1に示す回路が通常状態の場合には"L"が入力され、ヒューズ切断テスト状態の場合には"H"が入力される。即ち、図1に示す回路は通常状態においては、電源VCC、接地点GND間で動作し、ヒューズの切断、非切断に応じてOutput端子に"H"、"L"いずれかの信号が出力される。他方、回路がヒューズ切断テスト状態においては、検査用電源VCC_FUSE、検査用接地点GND_FUSE間(図1に示すパスA)で動作する。
ヒューズ切断テスト状態においては、パスAに流れる電流を測定することにより、ヒューズ101の切断状態を判定することができる。即ち、ヒューズ101が切断されていない状態において、パスAに流れる電流は最大となり、ヒューズ101が完全に切断された状態においては、パスAには電流は流れない若しくは最小となる。通常はこれらのどちらかであるが、ヒューズ101が不完全に切断された状態においては、ヒューズ101は高抵抗として機能するため、パスAに上記の最小電流よりも高い値であり、最大電流よりも低い値の電流が流れる。
従って、予めヒューズ101の未切換状態及びヒューズ101の切換状態におけるパスAの電流を測定して記憶しておき、ヒューズ切断テスト時におけるパスAの電流値と比較することにより、ヒューズ101が切換状態として適正に切断されているか、ヒューズ101が未切換状態として適正に残っているか若しくは完全に切断されているかだけではなく、ヒューズ101が不完全に切断された状態をも検出することができる。この様に、ヒューズ101が回路上で通常用いられるパスと、ヒューズ101の状態をテストするためのパスとを別々に設けることにより、他の素子の影響を受けることなく若しくは他の素子から受ける影響を最小限としてヒューズ101の状態をテストすることが可能となる。以下、図2、3を用いてヒューズ切断テストについて詳述する。
図2は、本実施形態に係るヒューズ切断テスト回路を示す図である。図2に示されるように、本実施形態に係るヒューズ切断テスト回路は、図1に示すヒューズ回路100、電流比較回路201、微弱電流源202、最大電流源203及び電流比較結果演算回路204を有する。電流比較回路201は、図1に示す検査用電源VCC_FUSEの端子と接続されており、電流比較回路201に接続された端子からヒューズ回路100に対して検査用電源VCC_FUSEが供給される。
電流比較回路201は、微弱電流源202、最大電流源203と選択的に接続されており、微弱電流源202若しくは最大電流源203の電流値とヒューズ回路100のパスAに流れる電流値とを比較し、比較結果を電流比較結果演算回路204に出力する。ここで、必ずしも電流源は2つある必要はなく、一つの電流源が電流値を可変的に出力可能であれば本実施形態と同様の効果を得ることができる。電流比較結果演算回路204は、電流比較回路201の出力信号に応じて比較結果を演算し、ヒューズ101の状態を示す信号を出力する。
微弱電流源202の電流値は極めて微弱な電流値であり、ヒューズ101に対応するメモリセルが切換状態であるか否かを判断する電流値である。電流比較回路201及び電流比較結果演算回路204は、パスAに流れる電流値が微弱電流源202の電流値以下であることを以てヒューズ101が切断状態であることを判断する。即ち、パスAに流れる電流値が微弱電流源202の電流値よりも高い場合、ヒューズ101は少なくとも完全には切断されておらず、残存状態若しくは不完全状態のどちらかであると判断することができる。
ここで、通常ヒューズ101に対応するメモリセルを切換状態とする場合にはヒューズ101を切断するため、ヒューズ101には電流は流れないため、微弱電流源202は0とすることができる。しかしながら、必ずしもヒューズ101を完全に切断する必要はなく、少なくとも図10に示すスローライズテストにおいて、図1に示すインバータ103の入力側電位がインバータ103の動作開始よりも先に"H"として認識される閾値を超えなければ、ヒューズ101が不完全に切断されていることによる不具合は発生しない。
従って、微弱電流源202の電流値は、図1の回路におけるヒューズ101に流れる電流値であって、当該回路の電源をゆるやかに立ち上げた場合においても、インバータ103が動作開始する前にインバータ103の入力側電位が"H"として認識される閾値を超えない程度の電流値とすることもできる。
最大電流源203が示す電流値は、ヒューズ101が切断されておらず、ヒューズ101に対応するメモリセルが未切換状態であることを示す電流値である。詳細には、VCC_FUSEからGND_FUSEの電位差においてパスAに流れる最大の電流値若しくは当該電流値よりもわずかに低い値である。電流比較回路201及び電流比較結果演算回路204は、パスAを流れる電流値が最大電流源203の電流値以上であることを以てヒューズ101が切断されず、残存状態であることを判断する。即ち、パスAに流れる電流値が最大電流源203の電流値よりも低い場合、ヒューズ101は完全には残っておらず、完全に切断状態若しくは不完全状態のどちらかであると判断することができる。
ここで、ヒューズ101に対応するメモリセルを未切換状態とする場合にはヒューズ101を切断しないため、最大電流源203は上記に説明したような電流値である。しかしながら、少なくとも図9に示すような電源を急峻に立ち上げた場合においても、図1に示すインバータ103の入力側電位がインバータ103の動作開始よりも先に"H"として認識される閾値を超えれば、ヒューズ101に対応するメモリセルは未切換状態として認識される。
従って、最大電流源203の電流値は、図1の回路におけるヒューズ101に流れる電流値であって、当該回路の電源を急峻に立ち上げた場合においても、インバータ103が動作開始する前にインバータ103の入力側電位が"H"として認識される閾値を超える程度の電流値とすることもできる。
次に、図3を用いてヒューズ切断テストの動作について説明する。図3はヒューズ切断テストの動作を示すフローチャートである。まず、電流比較回路201がヒューズ回路100のパスAの電流値を測定する(S301)。そして、微弱電流源202を選択し、微弱電流源202の電流値とパスAの電流値とを比較する(S302)。パスAの電流値が微弱電流源202の電流値よりも低かった場合、電流比較回路201はその旨の信号を電流比較結果演算回路204に出力し、電流比較結果演算回路204はヒューズ101が切換状態であると判断する(S303)。
パスAの電流値が微弱電流源202の電流値よりも高かった場合、電流比較回路201は最大電流源203を選択し、最大電流源203の電流値とパスAの電流値とを比較する(S304)。パスAの電流値が最大電流源203の電流値よりも低い場合、電流比較回路201はその旨の信号を電流比較結果演算回路に出力し、電流比較結果演算回路204はヒューズ101が不完全状態であると判断する(S305)。
他方、パスAの電流値が微弱電流源202、最大電流源203いずれの電流値よりも高い場合、電流比較回路201はその旨の信号を電流比較結果演算回路に出力し、電流比較結果演算回路204はヒューズ101が未切換状態であると判断する(S306)。
上記の説明においては、S301において電流比較回路201がパスAの電流値を測定した後に各電流源との電流値の比較を行っているが、パスAの電流源を測定することなく、直接各電流源との電流値の比較を行なっても良い。
この様に、ヒューズ101に流れる電流を測定し、予め定められた電流値と比較することにより、ヒューズ101の切断/残存又はヒューズ101に対応するメモリセルの切換/未切換のいずれかの状態のみならず、ヒューズ101の不完全な状態をも検出することができる。従って、従来技術におけるスローライズテストパターンを用いたテストのように、テスト時間が長くなるようなことがない。
また、スローライズテストパターンを用いる場合、印加する電圧や温度条件により試験結果は不安定であるが、上記説明したようにヒューズ101に流れる電流値を測定することによって、より高精度にヒューズ101の状態を検出し、ヒューズの不完全状態による不良を排除することが可能となる。
更に、図2に示すテスト回路を図4に示すような内部判定回路とすることもできる。図4は、ヒューズ回路100を複数有する半導体回路において、図2に示すヒューズ切断テスト回路をその内部に組み込んだ状態の一例を示している。図4に示すように、複数のヒューズ回路100がセレクタ207を介して電流比較回路201に接続されている。微弱電流源202と最大電流源203とはセレクタ206を介して電流比較回路201に接続されている。そして、電流比較回路201の出力は電流比較結果演算回路204に代えて電流比較結果格納回路(レジスタ)205に出力される。
電流比較結果格納回路205、セレクタ206及びセレクタ207は、シーケンスコントローラ208と接続されており、シーケンスコントローラ208が制御信号を出力する。即ち、セレクタ206、セレクタ207の切換及び電流比較結果格納回路205による電流比較結果の記憶はシーケンスコントローラ208によって制御される。また、シーケンスコントローラ208には自動テストエントリーを示すテストモード信号が入力される。
テストモード信号には、複数のヒューズ回路100の夫々において、通常パスにおけるヒューズ101の情報を用いているか否かの情報、即ち、ヒューズ101の接続を通常パスからパスAに切換可能であるか否かの情報が含まれる。シーケンスコントローラ208はテストモード信号に含まれる情報を元にセレクタ207を切り換えて、テストするヒューズ回路100を決定する。また、シーケンスコントローラ208は電流比較結果格納回路205を制御し、例えばテストしているヒューズ回路100に応じて電流比較結果格納回路205内で電流比較結果を記憶する領域を変更する。
この様な内部判定回路を構成することにより、図3で説明したような判定動作をヒューズ101の情報が必要でない動作のバックグランド処理として行なうことが可能となる。これにより、ヒューズ101の切れ残り検査の時間を外見上は見えなくすることができ、実質的なテスト時間の短縮を図ることができる。また、テスト結果を電流比較結果格納回路205に記憶することにより、バックグラウンドで行った処理の結果をいつでも確認することができる。
以上説明したように、本発明により、ヒューズに流れる電流を測定することによってヒューズの状態を判断し、ヒューズの切断判定を高速且つ高精度に行うことができる。本実施形態においては、本発明を半導体記憶装置のメモリセルの置換に適用した場合について説明したが、本実施形態において説明した半導体記憶装置のメモリセルの置換以外にも、回路の基準電圧のトリミング等、ヒューズの切断によって回路状態を切換、調整する技術であれば適用可能である。
尚、本実施形態においては、微弱電流源202及び最大電流源203を用い、ヒューズ101の3つの状態、即ち、切換状態、未切換状態及び不完全状態を検出可能としたが、ヒューズ101を切断する前提であれば、最大電流源203は必ずしも必要ではない。例えば、パスAに流れる電流値が微弱電流源202の電流値以上であれば、ヒューズ101が適正に切断されていないと判断し、再度ヒューズ101を切断する動作を行なえば良い。
また、ヒューズ101の切換状態において、パスAには電流が流れないことが明らかであれば、必ずしも微弱電流源202は必要ない。例えば、パスAに電流が流れているか否かをまず判断し、流れていなければヒューズ101が切換状態であると判断することができる。他方、ヒューズ101に電流が流れている場合には、その電流値と最大電流源203の電流値とを比較し、どちらの電流値が高いかを判断することによって、ヒューズ101が未切換状態か不完全状態かを判断することができる。
更に、図1において説明したように、本発明においてはヒューズ101が回路上で通常用いられるパスと、ヒューズ101に流れる電流を測定するためのパス、即ちヒューズ101の状態をテストするためのパスとを別々に設けている。これは、本実施の形態で説明したような、ヒューズ101に流れる電流値を測定することによってヒューズの状態をテストする態様のみならず、図7、8で説明したような従来技術においても適用することができる。更には、ヒューズを切断することによって回路の状態を調整する半導体回路であれば適用可能である。これにより、例えば図7であれば、ヒューズ1以外の素子の影響を受けることなく、ヒューズ1の状態をテストすることができる。
その他の実施形態.
図5は図1に示すヒューズ回路100の他の態様を示す回路図である。図1に示すヒューズ回路100においては、Test signal信号をパスAをアクティブとするための信号及び通常パスを一時的に切断するための信号として用いていた。しかしながら、図5に示すように、Test signal信号をパスAをアクティブにするための信号として用い、通常パスを一時的に切断するための信号としてTest signal信号とは異なる信号であるtentative cut信号を用いても良い。これにより、ヒューズ101の切断判定とは無関係に、ヒューズ101を擬似的にカットすることができる。
図5は図1に示すヒューズ回路100の他の態様を示す回路図である。図1に示すヒューズ回路100においては、Test signal信号をパスAをアクティブとするための信号及び通常パスを一時的に切断するための信号として用いていた。しかしながら、図5に示すように、Test signal信号をパスAをアクティブにするための信号として用い、通常パスを一時的に切断するための信号としてTest signal信号とは異なる信号であるtentative cut信号を用いても良い。これにより、ヒューズ101の切断判定とは無関係に、ヒューズ101を擬似的にカットすることができる。
また、図5に示すように、NMOS105b、PMOS106b及びインバータ107bを用いて、図1に示すヒューズ回路100においては、PMOS105又はNMOS106のみであった切換スイッチを二重化することもできる。これにより、より安定してスイッチのオンオフを制御することができる。尚、この様な二重化スイッチは、PMOS105及びNMOS106のみではなく、PMOS109及びNMOS110にも適用することが可能である。
図1及び図5に示す回路では、検査用電源VCC_FUSE及び検査用接地点GND_FUSEのような、パスAの電流値を測定するための専用電源が必要となる。しかしながら、図6に示すように、検査用電源VCC_FUSE及び検査用接地点GND_FUSE間において、パスAと並列にパスBを設けることにより、パスAを使用しない場合はパスBを用いて検査用電源VCC_FUSE及び検査用接地点GND_FUSEを有効に利用することができる。
詳細には、パスBにはPMOS113及びNMOS114が直列に接続されており、PMOS113とNMOS114との間に、電源を使用する構成が接続される。PMOS113のゲートにはTest signal信号が、NMOS114のゲートにはインバータ112を介して反転されたTest signal信号が入力され、パスAとパスBとが切換可能となっている。
1 ヒューズ、2 抵抗、3 インバータ、4 NMOS、5、6 容量、
100 ヒューズ回路、101 ヒューズ、102 抵抗、103 インバータ、
104 NMOS、105 PMOS、105b NMOS、106 NMOS、
106b PMOS、107、107b、108 インバータ、109 PMOS、
110 NMOS、111、112 インバータ、113 PMOS、
114 NMOS、201 電流比較回路、202 微弱電流源、203 最大電流源、
204 電流比較結果演算回路、A、B パス、GND 接地点、
GND_FUSE 検査用接地点、VCC 電源、VCC_FUSE 検査用電源
100 ヒューズ回路、101 ヒューズ、102 抵抗、103 インバータ、
104 NMOS、105 PMOS、105b NMOS、106 NMOS、
106b PMOS、107、107b、108 インバータ、109 PMOS、
110 NMOS、111、112 インバータ、113 PMOS、
114 NMOS、201 電流比較回路、202 微弱電流源、203 最大電流源、
204 電流比較結果演算回路、A、B パス、GND 接地点、
GND_FUSE 検査用接地点、VCC 電源、VCC_FUSE 検査用電源
Claims (9)
- ヒューズの状態をテストするヒューズ切断テスト方法であって、
当該ヒューズに流れる電流の値に基づいて、当該ヒューズの切断、非切断及びその中間の状態のいずれかを判断するヒューズ切断テスト方法。 - 前記ヒューズに電流が流れない場合は、前記ヒューズが切換状態であると判断し、
前記ヒューズに流れる電流値が、当該ヒューズが未切換状態であることを示す第1の電流値以上である場合は、当該ヒューズが未切換状態であると判断し、
前記ヒューズに流れる電流値が上記のいずれでもない場合は、前記ヒューズが不完全な状態であると判断する請求項1に記載のヒューズ切断テスト方法。 - 前記ヒューズに流れる電流値が、当該ヒューズが未切換状態であることを示す第1の電流値以上である場合は、前記ヒューズが未切換状態であると判断し、
前記ヒューズに流れる電流値が、当該ヒューズが切換状態であることを示す第2の電流値以下である場合は、当該ヒューズが切換状態であると判断し、
前記ヒューズに流れる電流値が上記のいずれでもない場合は、前記ヒューズが不完全な状態であると判断する請求項1に記載のヒューズ切断テスト方法。 - 前記第1の電流値は、前記ヒューズが未切換状態において、前記ヒューズの両端に前記所定電圧をかけたときに前記ヒューズに流れる電流値と略等しいことを特徴とする請求項2又は3に記載のヒューズ切断テスト方法。
- 前記第2の電流値は、前記ヒューズが切換状態において、前記ヒューズの両端に前記所定電圧をかけたときに前記ヒューズに流れる電流値と略等しいことを特徴とする請求項3に記載のヒューズ切断テスト方法。
- ヒューズの状態をテストするヒューズ切断テスト回路であって、
前記ヒューズに流れる電流値において当該ヒューズが未切換状態であることを示す第1の電流値を供給可能である電流源と、
前記ヒューズに流れる電流値と前記第1の電流値とを比較する電流比較回路と、
前記電流比較回路の比較結果に基づいて前記ヒューズの状態を示す信号を出力する電流比較結果演算回路とを有し、
前記電流比較結果演算回路は、
前記ヒューズに電流が流れていない場合は当該ヒューズが切換状態であることを示す信号を出力し、
前記ヒューズに流れる電流値が前記第1の電流値以上である場合は当該ヒューズが未切換状態であることを示す信号を出力し、
前記ヒューズに流れる電流値が上記のいずれでもない場合は、前記ヒューズが不完全な状態であることを示す信号を出力するヒューズ切断テスト回路。 - ヒューズの状態をテストするヒューズ切断テスト回路であって、
前記ヒューズに流れる電流値において当該ヒューズが未切換状態であることを示す第1の電流値及び前記ヒューズに流れる電流値において当該ヒューズが切換状態であることを示す第2の電流値を供給可能である電流源と、
前記ヒューズに流れる電流値と前記第1の電流値及び前記第2の電流値とを比較する電流比較回路と、
前記電流比較回路の比較結果に基づいて前記ヒューズの状態を示す信号を出力する電流比較結果演算回路とを有し、
前記電流比較結果演算回路は、
前記ヒューズに流れる電流値が前記第1の電流値以上である場合は当該ヒューズが未切換状態であることを示す信号を出力し、
前記ヒューズに流れる電流値が前記第2の電流値以下である場合は当該ヒューズが切換状態であることを示す信号を出力し、
前記ヒューズに流れる電流値が上記のいずれでもない場合は、前記ヒューズが不完全な状態であることを示す信号を出力するヒューズ切断テスト回路。 - ヒューズを切断することによって回路の状態を調整する半導体回路であって、
前記ヒューズが通常接続される第1のパスと、
前記ヒューズの状態をテストするための第2のパスとを有するヒューズ回路。 - 前記ヒューズは、前記第1のパス若しくは前記第2のパスのいずれか一方に選択的に接続され、前記第1のパスと前記第2のパスとは、当該ヒューズが試験中であることを示す信号によって切り換えられることを特徴とする請求項8に記載の半導体回路。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4959267B2 (ja) * | 2006-03-07 | 2012-06-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置および電気ヒューズの抵抗値の増加方法 |
| US7733096B2 (en) * | 2007-04-02 | 2010-06-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Methods of testing fuse elements for memory devices |
| KR100949264B1 (ko) * | 2008-06-10 | 2010-03-25 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 모니터링 회로 |
| US8143902B2 (en) | 2010-01-06 | 2012-03-27 | Mediatek Inc. | eFuse macro |
| US9159453B2 (en) * | 2012-07-11 | 2015-10-13 | SK Hynix Inc. | Memory device and method for measuring resistance of memory cell |
| CN103018650B (zh) * | 2012-12-04 | 2016-05-25 | 无锡圆方半导体测试有限公司 | 一种晶圆检测系统 |
| CN105989208B (zh) * | 2015-02-17 | 2019-06-04 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 熔丝单元工作区间的确定方法和装置 |
| CN104901266B (zh) * | 2015-05-06 | 2018-01-19 | 深圳市明微电子股份有限公司 | 保险丝修调电路 |
| US10598703B2 (en) | 2015-07-20 | 2020-03-24 | Eaton Intelligent Power Limited | Electric fuse current sensing systems and monitoring methods |
| US10304645B2 (en) * | 2015-12-09 | 2019-05-28 | Fuji Electric Co., Ltd. | Trimming apparatus |
| US11143718B2 (en) | 2018-05-31 | 2021-10-12 | Eaton Intelligent Power Limited | Monitoring systems and methods for estimating thermal-mechanical fatigue in an electrical fuse |
| US11289298B2 (en) | 2018-05-31 | 2022-03-29 | Eaton Intelligent Power Limited | Monitoring systems and methods for estimating thermal-mechanical fatigue in an electrical fuse |
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| JP7368198B2 (ja) * | 2019-11-22 | 2023-10-24 | ローム株式会社 | 半導体装置、メモリ異常判定システム |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09500971A (ja) * | 1994-05-24 | 1997-01-28 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | 有効クローズ、有効オープン又は無効のようなヒューズリンク状態をクラス分けするための確認回路を持つプログラム可能な論理装置 |
| JP2002033452A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-31 | Nec Microsystems Ltd | ヒューズ抵抗測定機能付き半導体集積回路 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4969124A (en) * | 1989-03-07 | 1990-11-06 | National Semiconductor Corporation | Method for vertical fuse testing |
| US5095274A (en) * | 1989-09-22 | 1992-03-10 | Analog Devices, Inc. | Temperature-compensated apparatus for monitoring current having controlled sensitivity to supply voltage |
| JPH05242691A (ja) | 1992-02-27 | 1993-09-21 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | プログラム回路 |
| US5414364A (en) * | 1993-09-08 | 1995-05-09 | Actel Corporation | Apparatus and method for measuring programmed antifuse resistance |
| US5952833A (en) * | 1997-03-07 | 1999-09-14 | Micron Technology, Inc. | Programmable voltage divider and method for testing the impedance of a programmable element |
| DE19757026A1 (de) * | 1997-12-20 | 1999-07-01 | Leonische Drahtwerke Ag | Elektrische Sicherung |
| JP2003152087A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-23 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路のレーザトリミングヒューズ検出装置およびその方法 |
| JP4364515B2 (ja) * | 2003-01-09 | 2009-11-18 | Okiセミコンダクタ株式会社 | ヒューズレイアウト,及びトリミング方法 |
-
2005
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-
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09500971A (ja) * | 1994-05-24 | 1997-01-28 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | 有効クローズ、有効オープン又は無効のようなヒューズリンク状態をクラス分けするための確認回路を持つプログラム可能な論理装置 |
| JP2002033452A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-31 | Nec Microsystems Ltd | ヒューズ抵抗測定機能付き半導体集積回路 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009177044A (ja) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Panasonic Corp | 電気ヒューズ回路 |
Also Published As
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