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JP2006332568A - Conductive pattern generation method - Google Patents

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JP2006332568A
JP2006332568A JP2005158214A JP2005158214A JP2006332568A JP 2006332568 A JP2006332568 A JP 2006332568A JP 2005158214 A JP2005158214 A JP 2005158214A JP 2005158214 A JP2005158214 A JP 2005158214A JP 2006332568 A JP2006332568 A JP 2006332568A
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JP
Japan
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conductive
conductive pattern
generation method
pattern
conductive paste
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Application number
JP2005158214A
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Japanese (ja)
Inventor
Masatoshi Kato
正利 加藤
Akio Harada
昭雄 原田
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Daiken Kagaku Kogyo KK
Original Assignee
Daiken Kagaku Kogyo KK
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Publication date
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Abstract

【課題】パターニングのための印刷装置を用いず、またそれによる複雑な処理工程を必要とすることなく、導電パターンの生成を簡易に行え、導電パターンの微細化を実現できる導電パターンの生成方法を提供する。
【解決手段】基板3の表面には、導電性粉体と熱硬化性樹脂を均一に分散した導電性ペーストによって、導電性ペースト膜4が塗着されている。基板3は導電性ペースト膜4を上方に向けて基台1の所定位置に載置されている。基台1の上方に配置されたレーザー描画装置10による熱線レーザービームが導電性ペースト膜4に入射してペースト成分中の熱硬化性樹脂が熱硬化され、かつ導電性粉体も焼結される。レーザー未照射の部分では熱硬化及び焼結が生じない。この焼結と未焼結がドット状に形成され、焼結された回路パターン2が形成される。
【選択図】 図1
A method of generating a conductive pattern that can easily generate a conductive pattern without using a printing apparatus for patterning, and does not require complicated processing steps, thereby realizing miniaturization of the conductive pattern. provide.
A conductive paste film is coated on a surface of a substrate with a conductive paste in which conductive powder and a thermosetting resin are uniformly dispersed. The substrate 3 is placed at a predetermined position on the base 1 with the conductive paste film 4 facing upward. The heat ray laser beam from the laser drawing device 10 disposed above the base 1 is incident on the conductive paste film 4 to thermally cure the thermosetting resin in the paste component, and the conductive powder is also sintered. . Thermosetting and sintering do not occur in the laser unirradiated portion. The sintered and unsintered are formed in a dot shape, and the sintered circuit pattern 2 is formed.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、例えば電子部品や回路基板等における電極、配線等を形成するために、導電性ペーストを用いて物体表面に導電パターンを生成する導電パターン生成方法に関する。   The present invention relates to a conductive pattern generation method for generating a conductive pattern on an object surface using a conductive paste, for example, in order to form electrodes, wirings, and the like in electronic components and circuit boards.

各種電気機器の回路基板に用いられる印刷配線基板においては、一般にエポキシなどの絶縁基板上あるいは、多層基板の場合には内部に、導電性材料により所定の導電パターンが形成される。
従来の導電パターン生成方法には、例えば、エッチング方法やメッキ方法によるものがよく知られている。前者のエッチング方法によれば、銅箔を表面に形成した絶縁基板の銅箔面にレジストを塗布し、パターニングの露光、現像を施した後、パターン以外の金属箔を薬品で溶解除去することにより、銅箔の導電パターンを残存させて形成する。後者のメッキ方法では、例えば特許文献1に開示されているように、無電界銅メッキ処理により所望の導電パターン個所にだけ銅メッキを基板上に付着させて所望の導電パターンを形成する。
特開平5−90209号公報
In a printed wiring board used for circuit boards of various electric devices, a predetermined conductive pattern is generally formed of a conductive material on an insulating substrate such as epoxy or in the case of a multilayer substrate.
As a conventional conductive pattern generation method, for example, an etching method or a plating method is well known. According to the former etching method, by applying a resist to the copper foil surface of the insulating substrate having a copper foil formed on the surface, patterning exposure and development, and then dissolving and removing the metal foil other than the pattern with chemicals The copper foil conductive pattern is left to form. In the latter plating method, for example, as disclosed in Patent Document 1, a desired conductive pattern is formed by depositing copper plating only on a desired conductive pattern portion by electroless copper plating.
JP-A-5-90209

エッチング方法はパターニングのためのマスク工程等を必要とするため、製造工程が複雑化し、またレジスト塗布等のパターニングのための設備を必要とする問題があった。メッキ方法でも、導電パターンを施すところ以外がメッキされないようにパターニング処理を行う必要があるため、エッチング方法と同様に、製造工程が複雑化し、パターニング装置を別途用意する必要があった。殊に、これらの方法においては、パターニングにスクリーン印刷技術などを使用するため、導電パターンの配線幅を印刷限度を超えて小さくすることができず、最近強く求められている配線寸法の微細化に適応できない問題があった。   Since the etching method requires a masking process for patterning, the manufacturing process is complicated, and there is a problem that equipment for patterning such as resist coating is required. Even in the plating method, since it is necessary to perform the patterning process so that the portions other than the portion where the conductive pattern is applied are not plated, the manufacturing process is complicated as in the etching method, and it is necessary to prepare a patterning apparatus separately. In particular, in these methods, since screen printing technology or the like is used for patterning, it is impossible to reduce the wiring width of the conductive pattern beyond the printing limit. There was a problem that could not be adapted.

従って、本発明は、上記の問題に鑑み、パターニングのための印刷装置を用いず、またそれによる複雑な処理工程を必要とすることなく、導電パターンの生成を簡易に行え、各種電子機器、電子部品の小型化などに応じて、配線基板等に形成される導電パターンの微細化をより一層可能にする導電パターンの生成方法を提供することを目的とする。   Therefore, in view of the above-described problems, the present invention can easily generate a conductive pattern without using a printing apparatus for patterning and without requiring a complicated processing process. It is an object of the present invention to provide a method for generating a conductive pattern that enables further miniaturization of a conductive pattern formed on a wiring board or the like in accordance with miniaturization of components.

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の第1の形態は、導電性粉体と熱硬化性樹脂を均一に分散した導電性ペーストを用意し、この導電性ペーストを物体の表面に塗着して導電性ペースト膜を形成し、この導電性ペースト膜に対して熱線レーザー光を所望パターンに照射して前記導電性ペーストを熱硬化させた描画パターンを形成し、この描画パターンにより前記物体表面に導電パターンを生成する導電パターン生成方法である。   The present invention has been made to solve the above problems, and a first embodiment of the present invention provides a conductive paste in which conductive powder and a thermosetting resin are uniformly dispersed, and this conductive paste. Is applied to the surface of the object to form a conductive paste film, and the conductive paste film is irradiated with a heat ray laser beam to a desired pattern to form a drawing pattern in which the conductive paste is thermally cured, In this conductive pattern generation method, a conductive pattern is generated on the surface of the object by using the drawing pattern.

本発明の第2の形態は、前記第1の形態において、前記導電性粉体はその平均粒径が1nmから数μmの金属粒子からなる導電パターン生成方法である。   A second aspect of the present invention is the conductive pattern generation method according to the first aspect, wherein the conductive powder is made of metal particles having an average particle diameter of 1 nm to several μm.

本発明の第3の形態は、前記第1又は第2の形態において、前記金属粒子が前記熱硬化性樹脂中で単分散している導電パターン生成方法である。   A third aspect of the present invention is a conductive pattern generation method according to the first or second aspect, wherein the metal particles are monodispersed in the thermosetting resin.

本発明の第4の形態は、前記第2又は第3の形態において、前記金属粒子は金属粒子核の周囲に有機基を被覆して構成され、前記有機基により単分散化された導電パターン生成方法である。   According to a fourth aspect of the present invention, in the second or third aspect, the metal particle is formed by coating an organic group around a metal particle nucleus, and the conductive pattern is monodispersed by the organic group. Is the method.

本発明の第5の形態は、前記第1〜第4のいずれかの形態において、前記熱線レーザー光のビーム径が1nmから数10nmに絞られ、前記導電性粉体の平均粒径が1nmから数10nmに調整されることにより、前記描画パターンの線幅が100nm以下に形成される導電パターン生成方法である。   According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, a beam diameter of the heat ray laser light is reduced from 1 nm to several tens of nm, and an average particle diameter of the conductive powder is from 1 nm. In the conductive pattern generation method, the line width of the drawing pattern is formed to be 100 nm or less by being adjusted to several tens of nm.

本発明の第6の形態は、前記第2、第3又は第4の形態において、前記金属粒子が貴金属元素からなる導電パターン生成方法である。   A sixth aspect of the present invention is the conductive pattern generation method according to the second, third, or fourth aspect, wherein the metal particles are made of a noble metal element.

本発明の第7の形態は、前記第2、第3又は第4の形態において、前記金属粒子が卑金属元素からなる導電パターン生成方法である。   A seventh aspect of the present invention is the conductive pattern generation method according to the second, third, or fourth aspect, wherein the metal particles are made of a base metal element.

本発明の第8の形態は、前記第1の形態において、前記熱硬化性樹脂が、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂及びウレア樹脂のいずれかからなる請求項1に記載の導電パターン生成方法である。   According to an eighth aspect of the present invention, in the first aspect, the thermosetting resin is any one of a phenol resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a melamine resin, and a urea resin. This is a conductive pattern generation method.

本発明の第9の形態は、前記第1〜第8のいずれかの形態において、前記導電性ペーストが有機溶剤を含む請求項1〜8のいずれかに記載の導電パターン生成方法である。   A ninth aspect of the present invention is the conductive pattern generation method according to any one of claims 1 to 8, wherein the conductive paste contains an organic solvent in any one of the first to eighth aspects.

本発明の第1の形態にかかる導電パターン生成方法によれば、導電性粉体と熱硬化性樹脂を均一に分散した導電性ペーストを用意し、この導電性ペーストを物体の表面に塗着して導電性ペースト膜を形成し、この導電性ペースト膜に対して熱線レーザー光を所望パターンに照射して前記導電性ペーストを熱硬化させた描画パターンを形成し、この描画パターンにより前記物体表面に導電パターンを生成するので、従来の導電パターン生成方法において必要としているパターン印刷装置を用いず、またパターニングのためのマスク処理等の印刷工程も必要でなく、導電パターンを簡易に生成することができる。しかも、パターン描画に用いる熱線レーザー光は、より細密な照射形状に絞り込むことが可能であるため、前記導電性ペーストを熱硬化させた描画パターンの微細化を行え、各種電子機器、電子部品の小型化などに応じて、配線基板等に形成される導電パターンの微細化を実現することができる。   According to the conductive pattern generation method of the first aspect of the present invention, a conductive paste in which conductive powder and a thermosetting resin are uniformly dispersed is prepared, and this conductive paste is applied to the surface of an object. A conductive paste film is formed, and a heat-beam laser beam is irradiated onto the conductive paste film to a desired pattern to form a drawing pattern obtained by thermosetting the conductive paste. Since the conductive pattern is generated, the conductive pattern can be easily generated without using a pattern printing apparatus required in the conventional conductive pattern generation method and without requiring a printing process such as masking for patterning. . Moreover, since the heat ray laser beam used for pattern drawing can be narrowed down to a finer irradiation shape, the drawing pattern obtained by thermosetting the conductive paste can be miniaturized, and various electronic devices and electronic parts can be miniaturized. The conductive pattern formed on the wiring board or the like can be miniaturized in accordance with the miniaturization.

本発明の第2の形態によれば、前記第1の形態において、前記導電性粉体はその平均粒径が1nmから数μmの金属粒子からなるので、前記導電性粉体の平均粒径に応じて前記熱線レーザー光のビーム径を絞って照射することにより、前記導電性ペーストを熱硬化させて線幅の細密な描画パターンを形成することができる。   According to the second aspect of the present invention, in the first aspect, the conductive powder is composed of metal particles having an average particle diameter of 1 nm to several μm. Accordingly, by irradiating the heat ray laser beam with a reduced beam diameter, the conductive paste can be thermally cured to form a fine line width drawing pattern.

本発明の第3の形態によれば、前記第1又は第2の形態において、前記金属粒子が前記熱硬化性樹脂中で単分散しているので、前記熱線レーザー光の照射の際に、前記導電性ペーストに含有する前記金属粒子どうしが凝結せず、線幅の細密な描画パターンを形成することができる。   According to the third aspect of the present invention, in the first or second aspect, since the metal particles are monodispersed in the thermosetting resin, when the heat ray laser light is irradiated, The metal particles contained in the conductive paste do not condense, and a fine line drawing pattern can be formed.

本発明の第4の形態によれば、前記第2又は第3の形態において、前記金属粒子は金属粒子核の周囲に有機基を被覆して構成され、前記有機基により単分散化された構造を有している。この有機基被覆構造の金属粒子は分散安定性に優れ、かつ溶剤に分散させることにより可溶化状態となるため、前記導電性ペーストにこれを含有させることにより、前記熱線レーザー光の照射により焼結するペースト特性を具備させることができ、前記熱線レーザー光による描画パターン形成を円滑に行うことができる。   According to a fourth aspect of the present invention, in the second or third aspect, the metal particles are formed by coating an organic group around a metal particle nucleus and are monodispersed by the organic group. have. Since the metal particles having an organic group coating structure are excellent in dispersion stability and are in a solubilized state by being dispersed in a solvent, by adding this to the conductive paste, sintering is performed by irradiation with the heat ray laser light. The paste characteristic to perform can be comprised, and the drawing pattern formation by the said heat ray laser beam can be performed smoothly.

本発明の第5の形態によれば、前記第1〜第4のいずれかの形態において、前記熱線レーザー光のビーム径が1nmから数10nmに絞られ、前記導電性粉体の平均粒径が1nmから数10nmに調整されることにより、前記描画パターンの線幅が100nm以下に形成されるので、各種電子機器、電子部品の小型化などに応じて、配線基板等に形成される導電パターンの微細化を実現することができ、基板の縮小化や搭載部品の高密度実装に寄与する。   According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, a beam diameter of the heat ray laser light is reduced from 1 nm to several tens of nm, and an average particle diameter of the conductive powder is set. By adjusting from 1 nm to several tens of nm, the line width of the drawing pattern is formed to be 100 nm or less. Therefore, according to the downsizing of various electronic devices and electronic components, the conductive pattern formed on the wiring board or the like Miniaturization can be realized, which contributes to the reduction of the substrate and the high-density mounting of the mounted components.

本発明の第6の形態によれば、前記第2、第3又は第4のいずれかの形態において、前記金属粒子が貴金属元素、例えば、金、銀、パラジウム等からなる、導電性ペーストの導電性材を使用することにより、配線基板等に形成される導電パターンの微細化を実現することができる。   According to a sixth aspect of the present invention, in any one of the second, third, and fourth aspects, the conductive particles of the conductive paste are made of a noble metal element such as gold, silver, palladium, or the like. By using a property material, it is possible to realize miniaturization of a conductive pattern formed on a wiring board or the like.

本発明の第7の形態によれば、前記第2、第3又は第4のいずれかの形態において、前記金属粒子が卑金属元素、例えば、銅、ニッケル等からなる、導電性ペーストの導電性材を使用することにより、配線基板等に形成される導電パターンの微細化を実現することができる。   According to a seventh aspect of the present invention, in any one of the second, third and fourth aspects, the conductive material of the conductive paste, wherein the metal particles are made of a base metal element, for example, copper, nickel or the like. By using, it is possible to realize miniaturization of the conductive pattern formed on the wiring board or the like.

本発明の第8の形態によれば、前記第1の形態において、前記熱硬化性樹脂が、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂及びウレア樹脂のいずれかからなるので、熱線レーザー光の照射により、前記熱硬化性樹脂が前記導電性ペースト含有成分として熱硬化して描画パターンの形成を円滑に行わせ、導電パターンの微細化を実現することができる。   According to an eighth aspect of the present invention, in the first aspect, the thermosetting resin is made of any one of a phenol resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a melamine resin, and a urea resin. By irradiation with laser light, the thermosetting resin is thermoset as the conductive paste-containing component to smoothly form a drawing pattern, thereby realizing miniaturization of the conductive pattern.

本発明の第9の形態によれば、前記第1〜第8のいずれかの形態において、前記導電性ペーストが有機溶剤を含むので、例えば、前記熱線レーザー光のビーム強度に応じて微妙に異なる焼結温度等の硬化条件に、前記有機溶剤を適宜加えることによって適応させた導電性ペーストを用いることにより導電パターンの微細化を円滑に行うことができる。   According to the ninth aspect of the present invention, in any one of the first to eighth aspects, since the conductive paste contains an organic solvent, it differs slightly depending on, for example, the beam intensity of the heat ray laser light. By using a conductive paste adapted by appropriately adding the organic solvent to the curing conditions such as the sintering temperature, it is possible to smoothly refine the conductive pattern.

本発明における前記有機溶剤には、例えば、アルコール、アセトン、プロパノール、エーテル、石油エーテル、ベンゼン、酢酸エチル、その他の石油系溶剤、テルピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピネオールアセテート、ブチルカルビトール、セロソルブ類、芳香族類、ジエチルフタレートなどを使用する。   Examples of the organic solvent in the present invention include alcohol, acetone, propanol, ether, petroleum ether, benzene, ethyl acetate, other petroleum solvents, terpineol, dihydroterpineol, dihydroterpineol acetate, butyl carbitol, cellosolves, aromatics. Use family, diethyl phthalate, etc.

以下に、本発明にかかる導電パターンの生成方法の実施形態を、添付する図面を参照して詳細に説明する。   Embodiments of a method for generating a conductive pattern according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

本実施形態に用いるレーザー描画装置10の概略構成を図1に示す。導電パターンが生成される基板3の表面には、導電性粉体と熱硬化性樹脂を均一に分散した導電性ペーストによって、導電性ペースト膜4が塗着されている。導電性ペースト膜4の塗着は基板3表面上に、ペースト塗膜の厚みが20μmになるように塗布され、乾燥処理を経て形成される。基板3は導電性ペースト膜4を上方に向けて基台1の所定位置に載置されている。基台1の上方位置にレーザー描画装置10が配置されている。基台1は等速で矢印c方向に1軸ステージ移動装置(図示せず)により前進移動する。基台1を2次元的に移動させるXYステージ移動装置を使用してもよい。
半導体などの熱線レーザー光源5から射出されたレーザービーム8は、コリメーターレンズ30により集束されて断面直径がビーム径1μm以下の微細レーザービームに成形される。レーザー描画装置10は、熱線レーザーのビーム径が1nmから数nmまで絞ることが可能なものを使用することができる。
A schematic configuration of a laser drawing apparatus 10 used in the present embodiment is shown in FIG. A conductive paste film 4 is applied to the surface of the substrate 3 on which the conductive pattern is generated with a conductive paste in which conductive powder and a thermosetting resin are uniformly dispersed. The conductive paste film 4 is applied on the surface of the substrate 3 so that the thickness of the paste coating film is 20 μm and is dried. The substrate 3 is placed at a predetermined position on the base 1 with the conductive paste film 4 facing upward. A laser drawing device 10 is disposed above the base 1. The base 1 moves forward at a constant speed in the direction of arrow c by a single axis stage moving device (not shown). An XY stage moving device that moves the base 1 two-dimensionally may be used.
A laser beam 8 emitted from a heat ray laser light source 5 such as a semiconductor is focused by a collimator lens 30 and shaped into a fine laser beam having a cross-sectional diameter of 1 μm or less. As the laser drawing apparatus 10, an apparatus capable of narrowing the beam diameter of the heat ray laser from 1 nm to several nm can be used.

レーザービーム8は波形成形ユニット32に入射し、コンピュータ31からのコピュータ信号によってビームのオンオフ制御が行なわれる。コンピュータ31には導電性ペースト膜4に形成されるべき回路パターン2のデータがオン・オフの二値化データとして格納されている。
このオン・オフの二値データのコンピュータ信号が波形成形ユニット32に送信される。コンピュータ信号がオンのときにレーザービーム8はそのまま通過し、オフのときには遮断される。オンはビーム照射信号であり、オフは非照射信号である。この信号形態は、形成されるべき回路パターンに応じて設定される。図1では、回路パターン2の直線部分が示されているが、図2に模式的に示すように、同図(2A)に示すように、配線の一部が屈曲した配線パターン20や、同図(2B)のような電極部分21を含む配線パターンがコンピュータ信号の二値化データとして予め設定される。
The laser beam 8 is incident on the waveform shaping unit 32, and on / off control of the beam is performed by a computer signal from the computer 31. The computer 31 stores data of the circuit pattern 2 to be formed on the conductive paste film 4 as on / off binary data.
The computer signal of the binary data on / off is transmitted to the waveform shaping unit 32. The laser beam 8 passes as it is when the computer signal is on, and is blocked when the computer signal is off. On is a beam irradiation signal, and off is a non-irradiation signal. This signal form is set according to the circuit pattern to be formed. In FIG. 1, a straight line portion of the circuit pattern 2 is shown, but as schematically shown in FIG. 2, as shown in FIG. A wiring pattern including the electrode portion 21 as shown in FIG. 2B is preset as binarized data of a computer signal.

レーザービーム8は反射ミラー34により反射されてポリゴンミラー36の反射面36aに到達する。ポリゴンミラー36の周面は正多角形に配置された多数の反射面36a、36a・・を有し、モーター37により矢印a方向に回転する。反射したレーザービーム8は、反射面36aの回転に連れて矢印b方向に偏移し、次の反射面36aにより元の位置に帰還して再び偏移する。1回の偏移によって、レーザービーム8はfθレンズ38を通して照射ミラー9の全幅を移動する。照射ミラー9により下方に反射されたレーザービーム8は、回路パターンデータ2に対応して移動し描画パターンを形成する。   The laser beam 8 is reflected by the reflecting mirror 34 and reaches the reflecting surface 36 a of the polygon mirror 36. The peripheral surface of the polygon mirror 36 has a large number of reflecting surfaces 36a, 36a,... Arranged in a regular polygon, and is rotated in the direction of arrow a by a motor 37. The reflected laser beam 8 shifts in the direction of arrow b as the reflecting surface 36a rotates, and returns to the original position by the next reflecting surface 36a and shifts again. With one shift, the laser beam 8 moves through the fθ lens 38 over the entire width of the irradiation mirror 9. The laser beam 8 reflected downward by the irradiation mirror 9 moves corresponding to the circuit pattern data 2 to form a drawing pattern.

熱線レーザー照射オンのときにレーザービームが導電性ペースト膜4に入射して導電性ペースト膜4のペースト成分中の熱硬化性樹脂が熱硬化され、かつ導電性粉体も焼結される。オフではレーザービームが遮断されるため熱硬化及び焼結が生じない。この焼結と未焼結がドット状に形成され、焼結された回路パターン2が形成されてゆく。レーザービーム8の断面直径が小さいほどドット直径が小さくなり、レーザービームを走査しながら高精度に回路パターンが形成されてゆく。焼結パターンの形成後は、基板3をエタノール、イソプロパノール等の有機溶剤の浸漬させると、レーザー光照射を受けた導電性ペースト膜4の金属は基板3上に固着しており、レーザー光の未照射部分だけが除去される。ついで、その除去済みの基板3を乾燥処理することにより、所望パターンで生成された導電パターンが得られる。なお、基板3には基準孔6、7が穿設されており、図示しない光学的検知手段により基準孔6、7を検知することにより、レーザービーム8を走査する基準位置が認識される。   When the heat ray laser irradiation is on, a laser beam is incident on the conductive paste film 4, the thermosetting resin in the paste component of the conductive paste film 4 is thermoset, and the conductive powder is also sintered. When it is off, the laser beam is cut off, so no thermal curing or sintering occurs. This sintering and unsintering are formed in a dot shape, and the sintered circuit pattern 2 is formed. The smaller the cross-sectional diameter of the laser beam 8, the smaller the dot diameter, and the circuit pattern is formed with high accuracy while scanning the laser beam. After the formation of the sintered pattern, when the substrate 3 is immersed in an organic solvent such as ethanol or isopropanol, the metal of the conductive paste film 4 that has been irradiated with the laser beam is fixed on the substrate 3, and the laser beam is not yet irradiated. Only the irradiated part is removed. Next, the removed substrate 3 is dried to obtain a conductive pattern generated in a desired pattern. Reference holes 6 and 7 are formed in the substrate 3, and the reference positions for scanning the laser beam 8 are recognized by detecting the reference holes 6 and 7 by optical detection means (not shown).

本発明では、熱線レーザービーム8を用いて導電性ペースト膜4の熱硬化と焼結を行うので、フォトマスク処理などを行うことなく導電パターン形成を高精度に、かつ高速に行なうことができ、しかも他の描画手段、例えば電子ビーム装置などと比較しても格段に安価なレーザー描画装置10を使用でき、導電パターン生成の低コスト化を図ることができる。例えば、スクリーン印刷方法ではパターンごとにマスク材を用意する必要があるが、回路パターンなどが変われば、コンピュータ31に格納する回路パターンデータを変更するだけでよく、所望の回路パターンをコンピュータ制御により簡単かつ安価に形成することが可能となる。なお、本発明のレーザー光には、紫外光レーザー、可視光レーザー、近赤外光レーザー、赤外光レーザーなどを使用でき、また、レーザー光源には半導体レーザーの他にガスレーザーなどを使用できる。   In the present invention, since the conductive paste film 4 is thermally cured and sintered using the heat ray laser beam 8, the conductive pattern can be formed with high accuracy and high speed without performing photomask processing, Moreover, the laser drawing apparatus 10 that is much less expensive than other drawing means, such as an electron beam apparatus, can be used, and the cost for generating the conductive pattern can be reduced. For example, in the screen printing method, it is necessary to prepare a mask material for each pattern. If the circuit pattern or the like changes, it is only necessary to change the circuit pattern data stored in the computer 31, and the desired circuit pattern can be easily controlled by computer control. In addition, it can be formed at low cost. For the laser light of the present invention, an ultraviolet light laser, a visible light laser, a near infrared light laser, an infrared light laser, or the like can be used, and a gas laser or the like can be used as a laser light source in addition to a semiconductor laser. .

導電性ペースト膜4に用いる導電性ペーストには、導電性粉体と熱硬化性樹脂を均一に分散したものを用意する。導電性粉体の導電性材Aには例えば、金、銀、パラジウム等の貴金属元素、又は例えば、銅、ニッケル等の卑金属元素である。導電性粉体はその平均粒径が1nmから数μmの金属粒子からなる導電性材を使用することができる。特に、平均粒径が1nmから数10nmに調整された導電性粉体を使用し、ビーム径を1nmから数10nmに絞られた熱線レーザー光の照射により、描画パターンの線幅が100nm以下に形成された超微細な導電パターンを生成することができる。例えば、平均粒径が5nmのとき、10nmのビーム径を照射することにより約18nm以下の線幅の導電線を生成でき、あるいは平均粒径が30nmのとき、40nmのビーム径を照射することにより約90nm以下の線幅の導電線を生成できる。   The conductive paste used for the conductive paste film 4 is prepared by uniformly dispersing conductive powder and a thermosetting resin. The conductive material A of the conductive powder is, for example, a noble metal element such as gold, silver or palladium, or a base metal element such as copper or nickel. As the conductive powder, a conductive material made of metal particles having an average particle diameter of 1 nm to several μm can be used. In particular, a conductive powder having an average particle diameter adjusted from 1 nm to several tens of nm is used, and a line width of a drawing pattern is formed to 100 nm or less by irradiation with a heat ray laser beam with a beam diameter reduced from 1 nm to several tens of nm. The formed ultrafine conductive pattern can be generated. For example, when an average particle diameter is 5 nm, a conductive line having a line width of about 18 nm or less can be generated by irradiating a beam diameter of 10 nm, or when an average particle diameter is 30 nm, by irradiating a beam diameter of 40 nm. Conductive lines having a line width of about 90 nm or less can be generated.

本発明においては、レーザー照射時に金属粒子どうしが凝結すると、線幅が太くなったり不均一になるのを防ぐために、熱硬化性樹脂中で金属粒子が単分散している導電性粉体を使用するのが好ましい。殊に、金属粒子核の周囲に有機基を被覆して構成された金属粒子からなる導電性材を使用することができる。例えば、特開平10−183207に開示されているように、金属核の周囲を金属有機化合物(ナフテン酸塩、オクチル酸塩、ステアリン酸塩、安息香酸塩、n−デカン酸塩、金属エトキシド、金属アセチルアセトネート等)で取り囲むように被覆した構造の有機被覆金属微粒子は分散安定性に優れ、低温焼結条件下で使用可能な導電性ペーストを得ることができる。熱硬化性樹脂中で金属粒子が単分散化された導電性ペーストを用いれば、熱線レーザー光の照射によりペースト成分中の
金属粒子どうしが凝結せず、しかもレーザー光による局所加熱を有効利用して、熱伝導が効率的に行われて金属粒子の溶解も促進され、レーザー光による比較的低温条件下で焼結が円滑に行われ、安定した線幅を備えた導電パターンの微細化を確実に行うことができる。
In the present invention, in order to prevent the line width from becoming thick or non-uniform when the metal particles condense during laser irradiation, conductive powder in which metal particles are monodispersed in a thermosetting resin is used. It is preferable to do this. In particular, a conductive material composed of metal particles formed by coating organic groups around the metal particle core can be used. For example, as disclosed in JP-A-10-183207, a metal organic compound (naphthenate, octylate, stearate, benzoate, n-decanoate, metal ethoxide, metal Organic coated metal fine particles having a structure coated with acetylacetonate or the like are excellent in dispersion stability and can provide a conductive paste that can be used under low-temperature sintering conditions. If a conductive paste in which metal particles are monodispersed in a thermosetting resin is used, the metal particles in the paste components do not condense due to the irradiation of heat ray laser light, and the local heating by laser light is effectively used. , Heat conduction is efficiently performed and dissolution of metal particles is promoted, and sintering is performed smoothly under a relatively low temperature condition by laser light, and a conductive pattern with a stable line width is surely miniaturized. It can be carried out.

熱硬化性樹脂Bには、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂及びウレア樹脂などを用いることができる。導電性材A及び熱硬化性樹脂Bの組み合わせ(A,B)としては、(銀,フェノール樹脂)、(金,エポキシ樹脂)、(銅,アクリル樹脂)、(ニッケル,ポリイミド樹脂)、(鉄,メラミン樹脂)、(炭素,ウレア樹脂)などである。   As the thermosetting resin B, a phenol resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a melamine resin, a urea resin, or the like can be used. As a combination (A, B) of the conductive material A and the thermosetting resin B, (silver, phenol resin), (gold, epoxy resin), (copper, acrylic resin), (nickel, polyimide resin), (iron) , Melamine resin), (carbon, urea resin) and the like.

導電性ペーストには有機溶剤を適宜加えることによって、熱線レーザー光のビーム強度に応じて微妙に異なる焼結温度等の硬化条件に適応させるようにすることができる。有機溶剤には、導電性粉体を均一に分散できる溶剤が好ましく、例えば、アルコール、アセトン、プロパノール、エーテル、石油エーテル、ベンゼン、酢酸エチル、その他の石油系溶剤、テルピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピネオールアセテート、ブチルカルビトール、セロソルブ類、芳香族類、ジエチルフタレートなどを使用する。   By appropriately adding an organic solvent to the conductive paste, it can be adapted to curing conditions such as slightly different sintering temperatures depending on the beam intensity of the heat ray laser beam. The organic solvent is preferably a solvent that can uniformly disperse the conductive powder. For example, alcohol, acetone, propanol, ether, petroleum ether, benzene, ethyl acetate, other petroleum solvents, terpineol, dihydroterpineol, dihydroterpineol acetate , Butyl carbitol, cellosolves, aromatics, diethyl phthalate, etc. are used.

上記実施形態において、基板3の移動速度が変化すると、導電パターン生成状態にどのように影響するかについての実験を行った。図3は、導電性材に平均粒径1μの銀紛とフェノール樹脂を含有した導電性ペーストを用いて実験を行ったときの導電線パターンのSEM(走査型電子顕微鏡)写真を示す。この実験では、波長810nm、被照射面の面光量300mWで発振させた半導体レーザー光を使用した。ビーム径が約100μmのレーザービームを基板3の導電性ペースト塗膜面の試験個所に照射しながら、基板3を一定方向に移動させたときの、基板3の移動速度と、ビーム照射により生成された導電線(線幅:約200μm)の状態をSEM写真で確認した。図3の(3A)、(3B)、(3C)及び(3D)はそれぞれ、移動速度が8mm/s、4mm/s、2mm/s、1mm/sの場合である。これらの写真から、移動速度を早くしてもレーザービームの局所加熱による短時間焼結効果により、導電線はほぼ同じ生成状態で得られており、高速生成が可能なことが分かった。   In the above embodiment, an experiment was conducted on how the conductive pattern generation state is affected when the moving speed of the substrate 3 changes. FIG. 3 shows an SEM (scanning electron microscope) photograph of a conductive line pattern when an experiment was conducted using a conductive paste containing silver powder having an average particle diameter of 1 μm and a phenol resin as a conductive material. In this experiment, a semiconductor laser beam oscillated with a wavelength of 810 nm and a surface light amount of 300 mW on the irradiated surface was used. It is generated by the movement speed of the substrate 3 and the beam irradiation when the substrate 3 is moved in a certain direction while irradiating a test spot on the conductive paste coating surface of the substrate 3 with a laser beam having a beam diameter of about 100 μm. The state of the conductive wire (line width: about 200 μm) was confirmed by SEM photography. (3A), (3B), (3C), and (3D) in FIG. 3 are cases where the moving speed is 8 mm / s, 4 mm / s, 2 mm / s, and 1 mm / s, respectively. From these photographs, it was found that even if the moving speed was increased, the conductive wire was obtained in almost the same generation state due to the short-time sintering effect by local heating of the laser beam, and high-speed generation was possible.

次に、上記実施形態において、照射レーザー光の適正波長領域の確認測定を行った。図4は、導電性材に平均粒径1μの金紛とエポキシ樹脂を含有した導電性ペーストを基板面に塗布して形成したペースト塗膜と、エポキシ樹脂だけを基板面に塗布して形成した樹脂塗膜とを用いて反射率比較測定実験を行ったときのUV波長(nm)と反射率R(%)との関係を示す。この反射率測定には、測定装置としてのUV3150(島津製作所製)及び積分球を用いた。図4の(4A)、(4B)はそれぞれ、ペースト塗膜、樹脂塗膜の反射率変化を示す。この測定結果から、樹脂塗膜では反射率が700nm領域を越えると大きいが、ペースト塗膜の場合、780nm付近から1800nm程度まで変化せず安定していることが分かる。従って、本発明におけるレーザー光には780〜1800nmの波長領域のものを使用するのが好ましいといえる。   Next, in the said embodiment, confirmation measurement of the appropriate wavelength area | region of irradiation laser light was performed. FIG. 4 shows a paste coating film formed by applying a conductive paste containing gold powder having an average particle diameter of 1 μm and an epoxy resin to a conductive material on the substrate surface, and only the epoxy resin is applied to the substrate surface. The relationship between the UV wavelength (nm) and the reflectance R (%) when a reflectance comparison measurement experiment is performed using a resin coating film is shown. For this reflectance measurement, UV3150 (manufactured by Shimadzu Corporation) and an integrating sphere were used as a measuring device. (4A) and (4B) in FIG. 4 show changes in reflectance of the paste coating film and the resin coating film, respectively. From this measurement result, it can be seen that the resin coating film has a large reflectance when the region exceeds 700 nm, but the paste coating film is stable without changing from around 780 nm to about 1800 nm. Therefore, it can be said that it is preferable to use a laser beam having a wavelength region of 780 to 1800 nm in the present invention.

本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲における種々の変形例、設計変更などをその技術的範囲内に包含することは云うまでもない。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and it is needless to say that various modifications, design changes, and the like are included in the technical scope without departing from the technical idea of the present invention.

本発明の第1の形態によれば、パターン印刷装置を用いることなく、またパターニングのためのマスク処理等の印刷工程も必要とせず、導電パターンを簡易に生成することができ、また各種電子機器、電子部品の小型化などに応じて、配線基板等に形成される導電パターンの微細化を実現することができる導電パターンの生成方法の提供が可能となる。   According to the first aspect of the present invention, it is possible to easily generate a conductive pattern without using a pattern printing apparatus and without requiring a printing process such as a mask process for patterning, and various electronic devices. In addition, it is possible to provide a method for generating a conductive pattern that can realize miniaturization of a conductive pattern formed on a wiring board or the like in accordance with miniaturization of an electronic component.

本発明の第2の形態によれば、前記導電性粉体の平均粒径に応じて前記熱線レーザー光のビーム径を絞って照射することにより、前記導電性ペーストを熱硬化させて線幅の細密な描画パターンを形成することができる導電パターンの生成方法の提供が可能となる。   According to the second aspect of the present invention, the conductive paste is thermally cured by irradiating with a reduced beam diameter of the heat ray laser light in accordance with the average particle diameter of the conductive powder, thereby reducing the line width. It is possible to provide a method for generating a conductive pattern capable of forming a fine drawing pattern.

本発明の第3の形態によれば、前記熱線レーザー光の照射の際に、前記導電性ペーストに含有する前記金属粒子どうしが凝結せず、線幅の細密な描画パターンを形成することができる導電パターンの生成方法の提供が可能となる。   According to the third aspect of the present invention, the metal particles contained in the conductive paste do not condense during the irradiation with the heat ray laser beam, and a fine drawing pattern with a line width can be formed. A method for generating a conductive pattern can be provided.

本発明の第4の形態によれば、前記熱線レーザー光の照射により焼結するペースト特性を具備させた導電性ペーストを用いて、前記熱線レーザー光による描画パターン形成を円滑に行うことができる導電パターンの生成方法の提供が可能となる。   According to the 4th form of this invention, the electroconductivity which can perform the drawing pattern formation by the said heat ray laser beam smoothly using the electrically conductive paste provided with the paste characteristic sintered by irradiation of the said heat ray laser beam. A pattern generation method can be provided.

本発明の第5の形態によれば、100nm以下に描画パターンの線幅を形成して導電パターンの微細化を実現することができ、基板の縮小化や搭載部品の高密度実装に寄与する導電パターンの生成方法の提供が可能となる。   According to the fifth aspect of the present invention, it is possible to reduce the size of the conductive pattern by forming the line width of the drawing pattern to 100 nm or less, and to contribute to the reduction of the substrate and the high-density mounting of the mounted components. A pattern generation method can be provided.

本発明の第6又は第7の形態によれば、前記金属粒子が貴金属元素又は卑金属元素からなる、導電性ペーストの導電性材を使用することにより、配線基板等に形成される導電パターンの微細化を実現することができる導電パターンの生成方法の提供が可能となる。   According to the sixth or seventh aspect of the present invention, a fine conductive pattern formed on a wiring board or the like by using a conductive material of a conductive paste in which the metal particles are made of a noble metal element or a base metal element. It is possible to provide a method for generating a conductive pattern that can be realized.

本発明の第8の形態によれば、熱線レーザー光の照射により、前記熱硬化性樹脂が前記導電性ペースト含有成分として熱硬化して描画パターンの形成を円滑に行わせ、導電パターンの微細化を実現することができる導電パターンの生成方法の提供が可能となる。   According to the eighth aspect of the present invention, the thermosetting resin is thermally cured as the conductive paste-containing component by irradiation with heat ray laser light, and the drawing pattern is smoothly formed, and the conductive pattern is refined. It is possible to provide a method for generating a conductive pattern that can realize the above.

本発明の第9の形態によれば、例えば、前記熱線レーザー光のビーム強度に応じて微妙に異なる焼結温度等の硬化条件に、前記有機溶剤を適宜加えることによって適応させた導電性ペーストを用いることにより導電パターンの微細化を円滑に行うことができる導電パターンの生成方法の提供が可能となる。   According to the ninth aspect of the present invention, for example, a conductive paste adapted by appropriately adding the organic solvent to curing conditions such as slightly different sintering temperatures depending on the beam intensity of the heat ray laser light. By using the conductive pattern, it is possible to provide a method for generating a conductive pattern that can smoothly miniaturize the conductive pattern.

本発明の実施形態に用いるレーザー描画装置10の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the laser drawing apparatus 10 used for embodiment of this invention. 前記実施形態において生成される配線パターン例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the example of a wiring pattern produced | generated in the said embodiment. 前記実施形態において行った基板移動速度の影響実験を示す導電線パターンのSEM写真である。It is a SEM photograph of a conductive line pattern showing an influence experiment of a substrate moving speed performed in the embodiment. 前記実施形態において行ったペースト塗膜及び樹脂塗膜の反射率比較測定実験の結果を示す、UV波長(nm)に対する反射率R(%)変化の測定グラフである。It is a measurement graph of the reflectance R (%) change with respect to UV wavelength (nm) which shows the result of the reflectance comparative measurement experiment of the paste coating film and resin coating film which were performed in the said embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 基台
2 回路パターン
3 基板
4 導電性ペースト膜
5 熱線レーザー光源
6 基準孔
7 基準孔
8 レーザービーム
9 照射ミラー
10 レーザー描画装置
20 配線パターン
21 電極部分
30 コリメーターレンズ
32 波形成形ユニット
31 コンピュータ
32 波形成形ユニット
34 反射ミラー
36 ポリゴンミラー
36a 反射面
37 モーター
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base 2 Circuit pattern 3 Substrate 4 Conductive paste film 5 Heat ray laser light source 6 Reference hole 7 Reference hole 8 Laser beam 9 Irradiation mirror 10 Laser drawing apparatus 20 Wiring pattern 21 Electrode part 30 Collimator lens 32 Waveform shaping unit 31 Computer 32 Waveform forming unit 34 Reflecting mirror 36 Polygon mirror 36a Reflecting surface 37 Motor

Claims (9)

導電性粉体と熱硬化性樹脂を均一に分散した導電性ペーストを用意し、この導電性ペーストを物体の表面に塗着して導電性ペースト膜を形成し、この導電性ペースト膜に対して熱線レーザー光を所望パターンに照射して前記導電性ペーストを熱硬化させた描画パターンを形成し、この描画パターンにより前記物体表面に導電パターンを生成することを特徴とする導電パターン生成方法。   Prepare a conductive paste in which conductive powder and thermosetting resin are uniformly dispersed, and apply this conductive paste to the surface of the object to form a conductive paste film. A conductive pattern generation method comprising: forming a drawing pattern obtained by irradiating a desired pattern with heat ray laser light to thermally cure the conductive paste, and generating a conductive pattern on the surface of the object using the drawing pattern. 前記導電性粉体はその平均粒径が1nmから数μmの金属粒子からなる請求項1に記載の導電パターン生成方法。   The conductive pattern generation method according to claim 1, wherein the conductive powder is made of metal particles having an average particle diameter of 1 nm to several μm. 前記金属粒子が前記熱硬化性樹脂中で単分散している請求項1又は2に記載の導電パターン生成方法。   The conductive pattern generation method according to claim 1, wherein the metal particles are monodispersed in the thermosetting resin. 前記金属粒子は金属粒子核の周囲に有機基を被覆して構成され、前記有機基により単分散化された請求項2又は3に記載の導電パターン生成方法。   4. The conductive pattern generation method according to claim 2, wherein the metal particle is configured by coating an organic group around a metal particle nucleus and is monodispersed by the organic group. 前記熱線レーザー光のビーム径が1nmから数10nmに絞られ、前記導電性粉体の平均粒径が1nmから数10nmに調整されることにより、前記描画パターンの線幅が100nm以下に形成される請求項1〜4のいずれかに記載の導電パターン生成方法。   By reducing the beam diameter of the heat ray laser light from 1 nm to several tens of nm and adjusting the average particle diameter of the conductive powder from 1 nm to several tens of nm, the line width of the drawing pattern is formed to 100 nm or less. The conductive pattern production | generation method in any one of Claims 1-4. 前記金属粒子が貴金属元素からなる請求項2、3又は4に記載の導電パターン生成方法。   The conductive pattern generation method according to claim 2, 3 or 4, wherein the metal particles are made of a noble metal element. 前記金属粒子が卑金属元素からなる請求項2、3又は4に記載の導電パターン生成方法。   The conductive pattern generation method according to claim 2, 3 or 4, wherein the metal particles are made of a base metal element. 前記熱硬化性樹脂が、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂及びウレア樹脂のいずれかからなる請求項1に記載の導電パターン生成方法。   The conductive pattern generation method according to claim 1, wherein the thermosetting resin is one of a phenol resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a melamine resin, and a urea resin. 前記導電性ペーストが有機溶剤を含む請求項1〜8のいずれかに記載の導電パターン生成方法。   The conductive pattern generation method according to claim 1, wherein the conductive paste contains an organic solvent.
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