JP2006341394A - 熱可塑性樹脂フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶表示素子にフィルムを組み込んだ際、高温、高湿経時後でも色ムラの発生を抑制できる熱可塑性樹脂フィルムを製造できる。
【解決手段】熱可塑性樹脂フィルムを、２Ｎ／ｃｍ² 以上１２０Ｎ／ｃｍ² 以下の張力で搬送しながら、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Ｔｇ−３０°Ｃ以上Ｔｇ＋２０°Ｃ以下の温度で１０秒以上６００秒以下の時間、熱処理を行なう。
【選択図】 図３

Description

本発明は熱可塑性樹脂フィルムの製造方法に係り、特に、液晶表示装置に使用される飽和ノルボルネン系樹脂等の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法に関する。

熱可塑性樹脂フィルムの製造は大きく分けて、溶液製膜法と溶融製膜法とに分類される。溶液製膜法は熱可塑性樹脂を溶剤に溶解したドープをダイから支持体、例えば冷却ドラム上に流延してフィルム状にする方法であり、溶融製膜法は熱可塑性樹脂を押出機で溶融した後、ダイから支持体、例えば冷却ドラム上に押し出してフィルム状にする方法である。これらの方法により製膜された熱可塑性樹脂フィルムは、通常、縦（長手）方向、横（幅）方向に延伸することによって、面内レターデーション（Ｒｅ）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を発現させ、液晶表示素子の位相差膜として使用し、視野角拡大を図ることが実施されている（例えば特許文献１、及び特許文献２参照）。
特表平６−５０１０４０号公報 特開２００１−４２１３０号公報

ところで、溶液製膜法及び溶融製膜法のいずれの場合にも、従来の製造方法で製膜された熱可塑性樹脂フィルムは、高温多湿の条件下に置かれると収縮（以下、熱収縮という）が起きやすいという問題がある。そして、フィルムを液晶表示素子に組み込んだ際、この熱収縮によって液晶表示画面のコーナーより光が漏れたり、変色したりする色ムラと呼ばれる現象が発生しやすい。特に、光学用途の高機能性フィルムとして使用する場合には、このような額縁故障や色ムラが発生するフィルムは問題となる。

熱収縮の発生を抑制する方法としては、熱収縮し難い熱可塑性樹脂を選んだり、熱可塑性樹脂を溶融する温度条件や冷却する温度条件の最適化等を行なうことが考えられる。しかしながら、これらの方法では、光学フィルムに悪影響を及ぼすような熱収縮の発生を効果的に抑制することができないという問題があった。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、額縁故障や色ムラの原因となる熱収縮が発生し難い熱可塑性樹脂フィルムを製造することのできる熱可塑性樹脂フィルムの製造方法及びその方法で製造された熱可塑性樹脂フィルムを提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、熱可塑性樹脂フィルムを、２Ｎ／ｃｍ² 以上１２０Ｎ／ｃｍ² 以下の張力で搬送しながら、前記飽和ノルボルネン系樹脂のガラス転移温度Ｔｇ−３０°Ｃ以上Ｔｇ＋２０°Ｃ以下の温度で１０秒以上６００秒以下の時間、熱処理を行なうことを特徴とする熱可塑性樹脂フィルムの製造方法を提供する。

本発明の発明者は、上記課題に鑑みて鋭意検討した結果、熱処理炉内を低張力で熱可塑性樹脂フィルムを搬送しながら、所定温度で所定時間熱処理してフィルム搬送方向（以下ＭＤ方向という）にフィルムを熱処理させることで、フィルムの熱収縮率を低減させることができるという知見を得た。すなわち、熱可塑性樹脂フィルムを熱緩和させることで、面内のレターデーションＲｅ、厚み方向のレターデーションＲｔｈの値をほとんど変化させずに、熱収縮率だけを低減させることを見出した。

請求項１の発明によれば、２Ｎ／ｃｍ² 以上１２０Ｎ／ｃｍ² 以下の張力で搬送しながら、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Ｔｇ−３０°Ｃ以上Ｔｇ＋２０°Ｃ以下の温度で１０秒以上６００秒以下の時間熱処理を行なうようにしたので、額縁故障や色ムラの原因となる熱収縮が発生し難い熱可塑性樹脂フィルムを製造することができる。すなわち、熱可塑性樹脂フィルムを、２Ｎ／ｃｍ² 以上１２０Ｎ／ｃｍ² 以下の張力で搬送するので、搬送中にフィルムが弛んでしまうことを防止しながらＭＤ方向に熱緩和させることができる。搬送するための張力は、フィルムを搬送中に弛ませることなく、ＭＤ方向に緩和できる範囲である必要があり、２〜１２０Ｎ／ｃｍ² の範囲内であれば問題なく、好ましくは５〜１００Ｎ／ｃｍ² の範囲内、より好ましくは８〜８０Ｎ／ｃｍ² の範囲内、更に好ましくは１０〜４０Ｎ／ｃｍ² の範囲内である。また、熱処理の温度は、低すぎると緩和させることができず、高すぎるとＲｅ、Ｒｔｈの値が動いてしまうため、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Ｔｇ−３０°Ｃ〜Ｔｇ＋２０°Ｃの範囲内が好ましい。より好ましくはＴｇ−２０°Ｃ〜Ｔｇ＋１５°Ｃの範囲内、更に好ましくはＴｇ−１０°Ｃ〜Ｔｇ＋１０°Ｃの範囲内、最も好ましくはＴｇ−５°Ｃ〜Ｔｇ＋５°Ｃの範囲内である。そして、熱処理の時間であるが、短すぎると熱処理の効果がなく、また長すぎるとＲｅ、Ｒｔｈの値も低下してしまうことから、１０秒〜６００秒の範囲内が好ましい。より好ましくは２０秒〜４５０秒の範囲内、更に好ましくは３０秒〜３００秒の範囲内、最も好ましくは４０秒〜２００秒の範囲内である。尚、本発明は、溶液製膜法又は溶融製膜法のいずれで製造された熱可塑性樹脂フィルムにも適用できる。

請求項２に記載の発明は請求項１の発明において、前記熱可塑性樹脂フィルムは、湿熱寸法変化（δＬ（ｗ））、及び乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））のいずれもが０％以上０．５％以下であることを特徴とする。

本発明で製造される熱可塑性樹脂フィルムは、湿熱寸法変化（δＬ（ｗ））、及び乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））のいずれもが０％以上０．３％以下の範囲内にすることができる。ここで、湿熱寸法変化とは、８０°Ｃドライで５００時間経時前後の長手（ＭＤ）方向の寸法変化（δＭＤ（ｄ））、幅（ＴＤ）方向の寸法変化（δＴＤ（ｄ））のうち大きい方の値をいう。なお、ドライとは相対湿度が１０％以下の状態を指す。また、乾熱寸法変化とは、６０°Ｃ９０％ｒｈで５００時間経時前後の寸法変化であり、下記式で示される長手（ＭＤ）方向の寸法変化（δＭＤ（ｗ））、幅（ＴＤ）方向の寸法変化（δＴＤ（ｗ））のうち大きい方の値をいう。

請求項３に記載の発明は請求項１又は２の発明において、前記熱可塑性樹脂フィルムは、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ（ｗ））、乾熱変化（δＲｅ（ｄ））、及び、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））、乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））、のいずれもが０％以上１０％以下であることを特徴とする。

本発明で製造される熱可塑性樹脂フィルムは、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ（ｗ））、乾熱変化（δＲｅ（ｄ））、及び、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））、乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））、のいずれもが０％以上１０％以下の範囲内にすることができる。ここで、レタデーションの湿熱変化、及び乾熱変化とは、上述した試験条件におけるレタデーションの変化をいう。

請求項４に記載の発明は請求項１〜３のいずれか１の発明において、前記熱可塑性樹脂フィルムは、配向角が０°±５°以内、又は９０°±５°以内、ボーイング歪みの大きさが１０％以下、面内のレターデーション（Ｒｅ）が０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、であることを特徴とする。

本発明で製造される熱可塑性樹脂フィルムは、配向角が０°±５°以内、又は９０°±５°以内、ボーイング歪みの大きさが１０％以下、面内のレターデーション（Ｒｅ）が０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、の範囲内にすることができる。

請求項５に記載の発明は請求項１〜４のいずれか１の発明において、前記熱可塑性樹脂フィルムは、微細レターデーションむらが０％以上１０％以下であることを特徴とする。

本発明で製造される熱可塑性樹脂フィルムは、微細レターデーションむらが０％以上１０％以下の範囲内にすることができる。ここで、微細レターデーションむらとは１ｍｍ以内の微小領域で発生するレターデーションの変化をいう。

請求項６に記載の発明は請求項１〜５のいずれか１の発明において、前記熱可塑性樹脂は、飽和ノルボルネン系樹脂であることを特徴とする。

本発明は、熱可塑性樹脂が飽和ノルボルネン系樹脂である場合に特に有効である。

請求項７に記載の発明は請求項６の発明において、熱可塑性樹脂フィルムは、平均粒子径が０．１μｍ以上３．０μｍ以下の微粒子を１ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下含むことを特徴とする。

本発明は、熱可塑性樹脂フィルムの製造において、特に、微細レターデーションむらを防止するのに有効である。

請求項８に記載の発明は請求項１〜７のいずれか１において、前記熱処理を、未延伸の熱可塑性樹脂フィルムについて行うことを特徴とする。

請求項９に記載の発明は請求項１〜７のいずれか１において、前記熱処理を、延伸した後の延伸の熱可塑性樹脂フィルムについて行うことを特徴とする。

本発明は熱可塑性樹脂フィルムを延伸しない前の未延伸フィルム及び延伸後の延伸フィルムのいずれにも適用できるが、延伸することにより熱収縮が発生しやすくなるので、延伸フィルムに適用することで本発明の効果を一層発揮できる。

請求項１０は、請求項８に記載の製造方法で製造された未延伸の熱可塑性樹脂フィルムを少なくとも１層積層した偏光板であり、請求項１１は、請求項８に記載の製造方法で製造された未延伸の熱可塑性樹脂を基材に用いたことを特徴とする液晶表示板用光学補償フィルムであり、請求項１２は請求項８に記載の製造方法で製造された未延伸の熱可塑性樹脂フィルムを基材に用いた反射防止フィルムある。

また、請求項１３は請求項９に記載の製造方法で製造された延伸熱可塑性樹脂フィルムを少なくとも１層積層した偏光板であり、請求項１４は請求項９に記載の製造方法で製造された延伸熱可塑性樹脂フィルムを基材に用いた液晶表示板用光学補償フィルムであり、請求項１５は請求項１０に記載の製造方法で製造された延伸熱可塑性樹脂フィルムを基材に用いた反射防止フィルムである。

本発明によれば、色ムラの原因となる熱収縮が発生し難い熱可塑性樹脂フィルムを製造することができる。従って、本発明によって製造された熱可塑性樹脂を使用した偏光板、液晶表示板用光学補償フィルム、及び反射防止フィルムの品質を向上させることができる。

以下添付図面に従って本発明に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法の好ましい実施の形態について説明する。なお、本実施の形態では、飽和ノルボルネン系樹脂フィルムを製造する例を示すが、本発明はこれに限定するものではなく、ポリカーボネート樹脂フィルムなどの熱可塑性樹脂フィルムの製造にも適用することができる。

図１は、本発明の熱可塑性樹脂フィルムの製造装置の概略構成の一例を示したものであり、延伸熱可塑性樹脂フィルムを溶融製膜法により製造する場合で説明する。

図１に示すように製造装置１０は主として、延伸前の飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２を製膜する製膜工程部２０と、製膜工程部２０で製膜された飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２をそれぞれ縦延伸、横延伸する縦延伸工程部３０、横延伸工程部４０と、延伸された飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’を熱処理する熱処理工程部７０と、熱処理された飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’’を巻き取る巻取工程部５０とで構成される。尚、本実施の形態では、熱処理工程部を製造装置１０の工程中に組み入れたオンライン熱処理で説明するが、巻取工程部５０で一旦巻き取った後に別の熱処理ラインで熱処理するオフライン熱処理で行ってもよい。また、本実施の形態では延伸した後に熱処理を行うようにしたが、延伸を行わない未延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルムについて熱処理を行ってもよい。

製膜工程部２０では、押出機１４で溶融された飽和ノルボルネン系樹脂がダイ１６からシート状に押し出され、回転するドラム１７上にキャストされる。そして、ドラム１７、１８、１９の表面で溶融樹脂が冷却固化されて飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２が得られる。この飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２はドラム１９から剥離された後、縦延伸工程部３０、横延伸工程部４０に順に送られて延伸され、巻取工程部５０でロール状に巻き取られる。これにより、延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’が製造される。

以下、各工程部の詳細について説明する。

図２は、製膜工程部２０の押出機１４の構成を示している。同図に示すように、押出機１４のシリンダ５２内には、スクリュー軸５４にフライト５６を取りつけた単軸スクリュー３８が設けられており、この単軸スクリュー５８が不図示のモータによって回転するようになっている。

シリンダ５２の供給口６０には不図示のホッパーが取りつけられており、このホッパーから飽和ノルボルネン系樹脂が供給口６０を介してシリンダ５２内に供給される。

シリンダ５２内は供給口６０側から順に、供給口６０から供給された飽和ノルボルネン系樹脂を定量輸送する供給部（Ａで示す領域）と、飽和ノルボルネン系樹脂を混練・圧縮する圧縮部（Ｂで示す領域）と、混練・圧縮された飽和ノルボルネン系樹脂を計量する計量部（Ｃで示す領域）とで構成される。押出機１４で溶融された飽和ノルボルネン系樹脂は、吐出口６２からダイ１６に連続的に送られる。

押出機１４のスクリュー圧縮比は、２．５〜４．５に設定され、Ｌ／Ｄは２０〜７０に設定されている。ここで、スクリュー圧縮比とは、供給部Ａと計量部Ｃとの容積比、即ち供給部Ａの単位長さ当たりの容積÷計量部Ｃの単位長さ当たりの容積で表され、供給部Ａのスクリュー軸３４の外径ｄ１、計量部Ｃのスクリュー軸３４の外径ｄ２、供給部Ａの溝部径ａ１、及び計量部Ｃの溝部径ａ２とを使用して算出される。また、Ｌ／Ｄとは、図２のシリンダ内径（Ｄ）に対するシリンダ長さ（Ｌ）の比である。また、押出温度は１９０〜２４０°Ｃに設定される。押出機１４内での温度が２４０°Ｃを超える場合には、押出機１４とダイ１６との間に冷却機（図示せず）を設けるようにするとよい。

尚、押出機１４は、１軸押出機でも２軸押出機でもよいが、スクリュー圧縮比が２．５を下回って小さすぎると、十分に混練されず、未溶解部分が発生したり、剪断発熱が小さく結晶の融解が不十分となり、製造後の飽和ノルボルネン系樹脂フィルムに微細な結晶が残存し易くなったり、気泡が混入し易くなる。これにより、飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２を延伸したときに、残存した結晶が延伸性を阻害し、配向を十分に上げることができなくなる。逆に、スクリュー圧縮比が４．５を上回って大きすぎると、剪断応力がかかり過ぎて発熱により樹脂が劣化し易くなるので、製造後の飽和ノルボルネン系樹脂フィルムに黄色みが出易くなる。また、剪断応力がかかり過ぎると分子の切断が起こり分子量が低下してフィルムの機械的強度が低下する。従って、製造後の飽和ノルボルネン系樹脂フィルムに黄色みが出にくく且つ延伸破断しにくくするためには、スクリュー圧縮比は２．５〜４．５の範囲が良く、より好ましくは２．８〜４．２の範囲、特に好ましくは３．０〜４．０の範囲である。

また、Ｌ／Ｄが２０を下回って小さすぎると、溶融不足や混練不足となり、圧縮比が小さい場合と同様に製造後の飽和ノルボルネン系樹脂フィルムに微細な結晶が残存し易くなる。逆に、Ｌ／Ｄが７０を上回って大きすぎると、押出機１４内での飽和ノルボルネン系樹脂の滞留時間が長くなり過ぎ、樹脂の劣化を起こし易くなる。また、滞留時間が長くなると分子の切断が起こり分子量が低下してフィルムの機械的強度が低下する。従って、製造後の飽和ノルボルネン系樹脂フィルムに黄色みが出にくく且つ延伸破断しにくくするためには、Ｌ／Ｄは２０〜７０の範囲が良く、好ましくは２２〜４５の範囲、特に好ましくは２４〜４０の範囲である。

また、押出温度が１９０°Ｃを下回って低すぎると、結晶の融解が不十分となり、製造後の飽和ノルボルネン系樹脂フィルムに微細な結晶が残存し易くなり、飽和ノルボルネン系樹脂フィルムを延伸したときに、延伸性を阻害し、配向を十分に上げることができなくなる。逆に、押出温度が２４０°Ｃを超えて高すぎると、飽和ノルボルネン系樹脂が劣化し、黄色み（ＹＩ値）の程度が悪化してしまう。従って、製造後の飽和ノルボルネン系樹脂フィルムに黄色みが出にくく且つ延伸破断しにくくするためには、押出温度は１９０°Ｃ〜２４０°Ｃが良く、好ましくは１９５°Ｃ〜２３５°Ｃの範囲、特に好ましくは２００°Ｃ〜２３０°Ｃの範囲である。

溶融樹脂は、図１のダイ１６に連続的に供給される。供給された溶融樹脂はダイ１６の先端（下端）からシート状に吐出され、吐出された溶融樹脂は、ドラム１７上にキャストされ、ドラム１７、１８、１９の表面で冷却固化された後、ドラム１９の表面から剥離され、飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２が製膜される。

製膜工程部２０で製膜された飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２は、縦延伸工程部３０、横延伸工程部４０に順に送られる。以下に、製膜工程部２０で製造した飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２を延伸し、延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’を製造するまでの延伸工程について説明する。

飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２の延伸は、飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２中の分子を配向させ、面内のレターデーション（Ｒｅ）と厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を発現させるために行われる。ここで、レターデーションＲｅ、Ｒｔｈは、以下の式で求められる。

Ｒｅ（ｎｍ）＝｜ｎ（MD）−ｎ(TD)｜×Ｔ（ｎｍ）
Ｒth（ｎｍ）＝｜｛（ｎ（MD）＋ｎ(TD)）／２｝−ｎ（TH）｜×Ｔ（ｎｍ）
式中のｎ（MD）、ｎ(TD)、ｎ（TH）は長手方向、幅方向、厚み方向の屈折率を示し、Ｔはｎｍ単位で表した厚みを示す。

図１に示すように、飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２は、先ず、縦延伸工程部３０で長手方向に縦延伸される。縦延伸工程部３０では、飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２が予熱された後、飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２が加熱された状態で、二つのニップロール２８、３０に巻き掛けられる。出口側のニップロール３４は、入口側のニップロール３２よりも早い搬送速度で飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２を搬送しており、これによって、飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２が縦方向に延伸される。

縦延伸された飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２は、横延伸工程部４０に送られ、幅方向に横延伸される。横延伸工程部４０では例えばテンターを好適に用いることができ、このテンターによって飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２の幅方向の両端部をクリップで把持し、横方向（幅方向）に延伸する。この横延伸によって、レターデーションＲｔｈを一層大きくすることができる。

上述した縦、横の延伸処理を施すことによって、レターデーションＲｅ、Ｒｔｈを発現させた延伸飽和ノルボルネン系樹脂１２が得られる。延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２は、Ｒｅが０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上４００ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下、Ｒｔｈが３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下、さらに好ましくは７０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下である。このうちＲｅ≦Ｒｔｈを満足するものがより好ましく、さらに好ましくはＲｅ×２≦Ｒｔｈを満足するものがさらに好ましい。このような高Ｒｔｈ、低Ｒｅを実現するためには、上述のように縦延伸したものを、横（幅）方向に延伸するのが好ましい。即ち、縦方向と横方向の配向の差が面内のレターデーションの差（Ｒｅ）となるが、縦方向に加えその直交方向である横方向にも延伸することで、縦横の配向の差を小さくし面配向（Ｒｅ）を小さくできる。一方、縦に加え横にも延伸することで面積倍率は増加するため、厚みの減少に伴い厚み方向の配向は増加し、Ｒｔｈを増加させることができるためである。

さらに、Ｒｅ，Ｒｔｈの幅方向、長手方向の場所による変動をいずれも５％以下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは３％以下にすることが好ましい。さらに配向角を９０°±５°以下または０°±５°以下とすることが好ましく、より好ましくは９０°±３°以下または０°±３°以下、さらに好ましくは９０°±１°以下または０°±１°以下とすることが好ましい。これらは、本発明のような延伸処理を行うことでボーイングを低減することができ、テンターに入る前の飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２の面上に幅方向に沿って描いた直線が延伸終了後には凹部に変形したセンター部のずれを幅で割ったボーイング歪みが１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下とすることが好ましい。

次に、本発明に係る熱緩和工程部７０について説明する。図３は、本発明に用いる熱緩和装置６０の構成の一例を示したものである。熱緩和工程部７０は、図１において、縦延伸工程３０、および横延伸工程４０において延伸された延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’に対して行なうため、横延伸工程４０の後、巻取工程部５０の前で行なっても良い。また、縦横の延伸後、巻取工程部５０で一度巻き取った延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’を、熱緩和工程のみからなる装置に搬送することで行なっても良い。また、当然のことではあるが、延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’は、本発明に係る装置で製造されたものではなく、市販品として流通している延伸済みのフィルムを使用しても良い。

熱緩和装置７０は、温度を調節するための炉７１の内部に、延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’を搬送するためのパスローラ７２、７２、…が備えられている。延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’を低い張力を維持しながら搬送を行なうため、炉７１への搬送、及び炉からの引き抜きにはニップロール７４を用いることが好ましい。このようにすることで、テンション測定ロール７６によって張力を測定したうえで、ニップロール７４のローラの回転速度を変えることで、低い張力を維持することができる。尚、この際、テンションカットを行うのに、ニップロール７４のかわりにサクションドラムを使用しても良い。

延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’は、２Ｎ／ｃｍ² 以上１２０Ｎ／ｃｍ² 以下の張力で搬送されながら、Ｔｇ−３０°Ｃ以上Ｔｇ＋２０°Ｃ以下の温度で１０秒以上６０秒以下の時間、熱処理が行なわれる。２Ｎ／ｃｍ² 以上であるのは、これよりも小さいと延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’が弛んでしまうためであり、１２０Ｎ／ｃｍ² 以下であるのは、これを超えて大きいと延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’を更に延伸してしまい、熱収縮を低下させることが出来ないからである。また、Ｔｇ−３０°Ｃ以上であるのは、これよりも小さいと熱処理の効果が出ないからであり、Ｔｇ＋２０°Ｃ以下であるのは、これを超えて大きいと延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’のＲｅ、Ｒｔｈ等の光学物性が変化してしまうからである。そして、１０秒以上であるのは、これよりも短いと熱処理としての時間が短すぎて効果が出ないからであり、６００秒以下であるのは、これを超えて長いと延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’のＲｅ、Ｒｔｈ等の光学物性が変化してしまうからである。尚、張力は２〜１２０Ｎ／ｃｍ² の範囲内であれば問題なく、好ましくは５〜１００Ｎ／ｃｍ² の範囲内、より好ましくは８〜８０Ｎ／ｃｍ²の範囲内、更に好ましくは１０〜４０Ｎ／ｃｍ² の範囲内である。また、温度はＴｇ−３０°Ｃ〜Ｔｇ＋２０°Ｃの範囲内が好ましく、より好ましくはＴｇ−２０°Ｃ〜Ｔｇ＋１５°Ｃの範囲内、更に好ましくはＴｇ−１０°Ｃ〜Ｔｇ＋１０°Ｃの範囲内、最も好ましくはＴｇ−５°Ｃ〜Ｔｇ＋５°Ｃの範囲内である。

このようにして得られた熱緩和処理後の延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム１２’’は、湿熱寸法変化（δＬ（ｗ））、及び乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））のいずれもが０％以上０．３％以下の範囲内にすることができる。また、面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ（ｗ））、乾熱変化（δＲｅ（ｄ））、及び、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））、乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））、のいずれもが０％以上１０％以下の範囲内にすることができる。尚、ここで湿熱とは、６０°Ｃ、９０％ＲＨの雰囲気で５００時間放置した状態を言い、乾熱とは、８０°Ｃ、１０％ＲＨ以下の雰囲気で５００時間放置した状態を言う。変化の測定は、フィルムを温度２５°Ｃ、６０％ＲＨの雰囲気に５時間以上調湿した状態を基準として求める。また、レターデーションは、フィルムを温度２５°Ｃ、６０％ＲＨの雰囲気に５時間以上調湿後、同条件の雰囲気下でフィルム表面に対し垂直方向から波長５５０ｎｍの光に対するレターデーション値であり、例えば、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ／ＰＲ：王子計測器(株)製）により測定することができる。

δＬ（ｄ）は、下記式で示される長手（ＭＤ）方向の寸法変化（δＭＤ（ｄ））、幅（ＴＤ）方向の寸法変化（δＴＤ（ｄ））のうち大きい方の値を指す。なお、ドライとは相対湿度が１０％以下の状態を指す。

δＴＤ（ｄ）（％）＝１００×｜ＴＤ（Ｆ）−ＴＤ（Ｔ）｜／ＴＤ（Ｆ）
δＭＤ（ｄ）（％）＝１００×｜ＭＤ（Ｆ）−ＭＤ（Ｔ）｜／ＭＤ（Ｆ）
（ＴＤ（Ｆ）、ＭＤ（Ｆ）は２５°Ｃ６０％ｒｈで５時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ前の寸法を指し、ＴＤ（Ｔ）、ＭＤ（Ｔ）はサーモ（８０°Ｃドライで５００時間経時）後に２５°Ｃ６０％ｒｈで５時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す）
δＴＤ（ｗ）、δＭＤ（ｗ）は、下記式で示される長手（ＭＤ）方向の寸法変化（δＭＤ（ｗ））、幅（ＴＤ）方向の寸法変化（δＴＤ（ｗ））のうち大きい方の値を指す。

δＴＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＴＤ（Ｆ）−ＴＤ（ｔ）｜／ＴＤ（Ｆ）
δＭＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＭＤ（Ｆ）−ＭＤ（ｔ）｜／ＭＤ（Ｆ）
（ＴＤ（Ｆ）、ＭＤ（Ｆ）は２５°Ｃ６０％ｒｈで５時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ前の寸法を指し、ＴＤ（ｔ）、ＭＤ（ｔ）はサーモ（６０°Ｃ９０％ｒｈで５００時間経時）後に２５°Ｃ６０％ｒｈで５時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す）
好ましいδＬ(ｗ)、δＬ（ｄ）は０％以上０．３％以下が好ましく、より好ましくは０％以上０．２％以下、さらに好ましくは０％以上０．１５％以下である。

本発明でいうδＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｄ）とは、８０°Ｃドライで５００時間経時前後のＲｅ，Ｒｔｈ変化であり、下記式で示される。なお、ドライとは相対湿度が１０％以下の状態を指す。

δＲｅ（ｄ）（％）＝１００×｜Ｒｅ（Ｆ）−Ｒｅ（Ｔ）｜／Ｒｅ（Ｆ）
δＲｔｈ（ｄ）（％）＝１００×｜Ｒth（Ｆ）−Ｒth（Ｔ）｜／Ｒth（Ｆ）
（Ｒｅ（Ｆ）、Ｒth（Ｆ）は８０°Ｃドライで５００時間経時前のＲｅ、Ｒthを指し、Ｒｅ（Ｔ）、Ｒth（Ｔ）は８０°Ｃドライで５００時間経時後のＲｅ、Ｒthを指す）
本発明でいうδＲｅ（ｗ）、δＲｔｈ（ｗ）とは、６０°Ｃ９０％ｒｈで５００時間経時前後のＲｅ，Ｒｔｈ変化であり、下記式で示される。

δＲｅ（ｗ）（％）＝１００×｜Ｒｅ（Ｆ）−Ｒｅ（ｔ）｜／Ｒｅ（Ｆ）
δＲｔｈ（ｗ）（％）＝１００×｜Ｒth（Ｆ）−Ｒth（ｔ）｜／Ｒth（Ｆ）
（Ｒｅ（Ｆ）、Ｒth（Ｆ）は６０°Ｃ９０％ｒｈで５００時間経時前のＲｅ、Ｒthを指し、Ｒｅ（ｔ）、Ｒth（ｔ）は６０°Ｃ９０％ｒｈで５００時間経時後のＲｅ、Ｒthを指す）
さらに、微細レターデーションむらが０％以上１０％以下、より好ましくは０％以上８％以下、さらに好ましくは０％以上５％以下であることが好ましく、これにより色むらを低減できる。尚、このような微細レターデーションむらは、液晶表示装置の高解像度化に伴い問題となってきている。

ここで云う微細レターデーションむらとは、１ｍｍ以内の微小領域で発生するレターデーションの変化を指し、以下の方法で測定される。

サンプルフィルムを幅方向（ＴＤ）、長手方向（ＭＤ）に１ｍｍの間を０．１ｍｍピッチで面内のレターデーション（Ｒｅ）で測定し、その最大値と最小値の差を求めその平均値で割り百分率で示す。そして、ＭＤ，ＴＤで求めた上記百分率のうち大きいものを微細レターデーションむらとする。

また、飽和ノルボルネンフィルム中に微粒子を１ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下含有させることが好ましい。

易滑剤として微粒子を加えることにより、縦延伸中にニップロールとのステッキング（粘着）を防止でき、これに起因する微細レターデーションむらを防止できる。これは縦延伸ではＴｇを上回りフィルムが軟化する温度でニップロール上で引っ張られるが、易滑剤無いと局部的に粘着を引き起こしやすく、そこで延伸むらを発生し易いためである。即ち剤によりニップロールとフィルムとを滑らせ局所的に応力が掛かるのを防止している。

マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。また架橋高分子からなる微粒子なども用いることができる。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。

好ましい微粒子の量は飽和ノルボルネン樹脂に対し重量比で１ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下が好ましく、より好ましくは５ｐｐｍ以上７０００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１０ｐｐｍ以上５０００ｐｐｍ以下である。

微粒子はケイ素を含むものが濁度を低くでき好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

以下に、本発明に適した飽和ノルボルネン樹脂、飽和ノルボルネン樹脂フィルムの加工方法について手順にそって詳細に説明する。

《飽和ノルボルネン樹脂》
本発明においては、本発明の目的を損なわない範囲内において、開環重合可能な他のシクロオレフィン類を併用することができる。このようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエンなどのごとき反応性の二重結合を１個有する化合物が例示される。

このような延伸は下記のような飽和ノルボルネン系フィルムに対して実施するのが好ましい。これらは、延伸により適度なＲｅ、Ｒｔｈ発現性を有している上、高温、高湿経時後でもＲｅ、Ｒｔｈが変動しにくく、微細Ｒｅむらが発現しにくく優れているためである。

これらの飽和ノルボルネン樹脂として、下記、飽和ノルボルネン樹脂−Ａ、飽和ノルボルネン樹脂−Ｂいずれも好ましく用いることができ、両者とも後述の溶液製膜法、溶融製膜法を適用できるが、飽和ノルボルネン樹脂−Ａは溶融製膜法に用いるのがより好ましく、飽和ノルボルネン樹脂−Ｂは溶液製膜法に用いるのがより好ましい。

（飽和ノルボルネン樹脂−Ａ）
本発明で使用する飽和ノルボルネン系樹脂としては、例えば、（１）ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体を、必要に応じてマレイン酸付加、シクロペンタジエン付加のごときポリマー変性を行なった後に、水素添加した樹脂、（２）ノルボルネン系モノマーを付加型重合させた樹脂、（３）ノルボルネン系モノマーとエチレンやα−オレフィンなどのオレフィン系モノマーと付加型共重合させた樹脂などが挙げることができる。重合方法および水素添加方法は、常法により行なうことができる。

ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、例えば、５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等、これらのハロゲン等の極性基置換体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体、例えば、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチリデン−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−クロロ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−シアノ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−ピリジル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−メトキシカルボニル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン等；シクロペンタジエンとテトラヒドロインデン等との付加物；シクロペンタジエンの３〜４量体、例えば、４，９：５，８−ジメタノ−３ａ，４，４ａ，５，８，８ａ，９，９ａ−オクタヒドロ−１Ｈ−ベンゾインデン、４，１１：５，１０：６，９−トリメタノ−３ａ，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ，１１，１１ａ−ドデカヒドロ−１Ｈ−シクロペンタアントラセン；等が挙げられる。

（飽和ノルボルネン樹脂−Ｂ）
また、飽和ノルボルネン樹脂として、下記一般式（１）〜（４）で表わされるものを挙げることができ、これらのうち、下記一般式（１）で表されるものが特に好ましい。

〔一般式（１）〜（４）中、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、水素原子または１価の有機基を示し、これらのうち少なくとも１つは極性基である。〕
これらの飽和ノルボルネン樹脂の重量平均分子量としては、通常５，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは８，０００〜２００，０００である。

本発明の飽和ノルボルネン系樹脂としては、例えば、特開昭６０−１６８７０８号公報、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特公昭５７−８８１５号公報などに記載されている樹脂などを挙げることができる。

これらの樹脂の中でも、ノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加して得られる水添重合体が特に好ましい。

これらの飽和ノルボルネン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は１２０°Ｃ以上であることが好ましく、更に好ましくは１４０°Ｃ以上であり、飽和吸水率は１重量％以下であることが好ましく、更に好ましくは０．８重量％以下とされる。上記一般式（１）〜（４）で表わされる飽和ノルボルネン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）および飽和吸水率は、置換基Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの種類を選択することにより制御することができる。

本発明の飽和ノルボルネン樹脂としては、下記一般式（５）で表わされる少なくとも１種のテトラシクロドデセン誘導体を単独で、あるいは、当該テトラシクロドデセン誘導体と、これと共重合体可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体を用いても良い。

（式中、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、水素原子または１価の有機基を示し、これらのうち少なくとも１つは極性基である。）
上記一般式（５）で表わされるテトラシクロドデセン誘導体において、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤのうち少なくとも１つが極性基であることにより、他の材料との密着性、耐熱性などに優れた偏光フィルムを得ることができる。さらに、この極性基が−（ＣＨ₂ ）_n ＣＯＯＲ（ここで、Ｒは炭素数１〜２０の炭化水素基、ｎは０〜１０の整数を示す。）で表わされる基であることが、最終的に得られる水添重合体（偏光フィルムの基材）が高いガラス転移温度を有するものとなるので好ましい。特に、この−（ＣＨ₂ ）_n ＣＯＯＲで表わされる極性置換基は、一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体の１分子あたりに１個含有されることが吸水率を低下させる点から好ましい。上記極性置換基において、Ｒで示される炭化水素基の炭素数が多くなるほど得られる水添重合体の吸湿性が小さくなる点では好ましいが、得られる水添重合体のガラス転移温度とのバランスの点から、当該炭化水素基は、炭素数１〜４の鎖状アルキル基または炭素数５以上の（多）環状アルキル基であることが好ましく、特にメチル基、エチル基、シクロヘキシル基であることが好ましい。

さらに、−（ＣＨ₂ ）_n ＣＯＯＲで表わされる基が結合した炭素原子に、炭素数１〜１０の炭化水素基が置換基として結合されている一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体は、得られる水添重合体の吸湿性が低いものとなるので好ましい。特に、この置換基がメチル基またはエチル基である一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体は、その合成が容易な点で好ましい。具体的には、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４，４，０，１2.5 ，１7.10〕ドデカ−３−エンが好ましい。これらのテトラシクロドデセン誘導体、およびこれと共重合可能な不飽和環状化合物の混合物は、例えば特開平４−７７５２０号公報第４頁右上欄１２行〜第６頁右下欄第６行に記載された方法によってメタセシス重合、水素添加することができる。

これらのノルボルネン系樹脂は、クロロホルム中、３０°Ｃで測定される固有粘度（ηinh ）が、０．１〜１．５ｄｌ／ｇであることが好ましく、更に好ましくは０．４〜１．２ｄｌ／ｇである。また、水添重合体の水素添加率としては、６０ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲで測定した値が５０％以上とされ、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以上である。水素添加率が高いほど、得られる飽和ノルボルネンフィルムは、熱や光に対する安定性が優れたものとなる。該水添重合体中に含まれるゲル含有量が５重量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１重量％以下である。

本発明の飽和ノルボルネン系樹脂には、公知の酸化防止剤、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２′−ジオキシ−３，３′−ジ−ｔ−ブチル−５，５′−ジメチルフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２′−ジオキシ−３，３′−ジ−ｔ−ブチル−５，５′−ジエチルフェニルメタン、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］、２，４，８，１０−テトラオキスピロ［５，５］ウンデカン、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト；紫外線吸収剤、例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどを添加することによって安定化することができる。また、加工性を向上させる目的で滑剤などの添加剤を添加することもできる。

これらの酸化防止剤の添加量は、飽和ノルボルネン系樹脂１００重量部に対して、通常０．１〜３重量部、好ましくは０．２〜２重量部である。

さらに飽和ノルボルネン系樹脂には、所望により、フェノール系やリン系などの老化防止剤、耐電防止剤、紫外線吸収剤、上述の易滑剤などの各種添加剤を添加してもよい。特に、液晶は、通常、紫外線により劣化するので、ほかに紫外線防護フィルターを積層するなどの防護手段を取らない場合は、紫外線吸収剤を添加することが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾル系紫外線吸収剤、アクリルニトリル系紫外線吸収剤などを用いることができ、それらの中でもベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、添加量は、通常１０〜１００，０００ｐｐｍ、好ましくは１００〜１０，０００ｐｐｍである。また、溶液流延法によりシートを作製する場合は、表面粗さを小さくするため、レベリング剤の添加が好ましい。レベリング剤としては、例えば、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤など塗料用レベリング剤を用いることができ、それらの中でも溶媒との相溶性の良いものが好ましく、添加量は、通常５〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜２０，０００ｐｐｍである。

（溶融製膜）
(i)溶融
溶融製膜の前に飽和ノルボルネン樹脂をペレット状にすることが好ましく、これにより溶融押し出し機のホッパーでのサージングを抑制し、安定供給が可能となる。好ましいペレットの大きさは断面積が１ｍｍ² 以上３００mm² 以下、長さが１ｍｍ以上３０ｍｍ以下がこのましく、より好ましくは断面積が２ｍｍ² 以上１００ｍｍ² 以下、長さが１．５ｍｍ以上１０ｍｍ以下である。

この飽和ノルボルネン樹脂のペレットを溶融押出し機に入れ、１００°Ｃ以上２００°Ｃ以下で１分以上１０時間以下脱水した後、混練押出しする。混練は１軸あるいは２軸の押出し機を使用できる。

この飽和ノルボルネン樹脂は押出機の供給口を介してシリンダー内に供給される。シリンダー内は供給口側から順に、供給口から供給した飽和ノルボルネン樹脂を定量輸送する供給部（領域Ａ）と、溶融混練・圧縮する圧縮部（領域Ｂ）と計量する計量部（領域Ｃ）とで構成される。残存する酸素による溶融樹脂の酸化を防止するために、押出機内を不活性（窒素等）気流中、あるいはベント付き押出し機を用い真空排気しながら実施するのがより好ましい。押出機のスクリュー圧縮比は２．５〜４．５に設定され、Ｌ／Ｄは２０〜７０に設定されている。ここでスクリュー圧縮比とは供給部Ａと計量部Ｃとの容積比、即ち供給部Ａの単位長さあたりの容積÷計量部Ｃの単位長さあたりの容積で表され、供給部Ａのスクリュー軸の外径ｄ１、計量部Ｃのスクリュー軸の外径ｄ２、供給部Ａの溝部径ａ１、及び計量部Ｃの溝部径ａ２とを使用して算出される。また、Ｌ／Ｄとはシリンダー内径に対するシリンダー長さの比である。また、押出温度は２４０〜３２０°Ｃ、より好ましくは２５０〜３１０°Ｃ、さらに好ましくは２６０°Ｃ〜３００°Ｃ 設定される。

押し出し機の種類として、一般的には設備コストの比較的安い単軸押し出し機が用いられることが多く、フルフライト、マドック、ダルメージ等のスクリュータイプがあるが、フルフライトタイプが好ましい。また、設備コストは効果であるが、スクリューセグメントを変更することにより、途中でベント口を設けて不要な揮発成分を脱揮させながら押出が出来る二軸押出機を用いることが可能である、二軸押し出し機には大きく分類して同方向と異方向のタイプがありどちらも用いることが可能であるが、滞留部分が発生し難くセルフクリーニング性能の高い同方向回転のタイプが好ましい。二軸押出機は設備が効果であるが、混練性が高く、樹脂の供給性能が高いため、低温での押出が可能となるため、飽和ノルボルネン樹脂の製膜に適している。ベント口を適正に配置することにより、未乾燥状態での飽和ノルボルネンペレットやパウダーをそのまま使用することも可能である。又、製膜途中で出たフィルムのミミ等も乾燥させることなしにそのまま再利用することも出来る。

なお、好ましいスクリューの直径は目標とする単位時間あたりの押出量によってことなるが、１０ｍｍ以上３００ｍｍ以下、より好ましくは２０ｍｍ以上２５０ｍｍ以下、更に好ましくは３０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下である。

（ii）濾過
樹脂中の異物濾過のためや異物によるギアポンプ損傷を避けるため押し出し機出口にフィルター濾材を設けるいわゆるブレーカープレート式の濾過を行うことが好ましい。またさらに精度高く異物濾過をするために、ギアポンプ通過後にいわゆるリーフ型ディスクフィルターを組み込んだ濾過装置を設けることが好ましい。濾過は、濾過部を１カ所設けて行うことができ、また複数カ所設けて行う多段濾過でも良い。フィルター濾材の濾過精度は高い方が好ましいが、濾材の耐圧や濾材の目詰まりによる濾圧上昇から、濾過精度は１５μｍｍ〜３μｍｍが好ましく更に好ましくは１０μｍｍ〜３μｍｍである。特に最終的に異物濾過を行うリーフ型ディスクフィルター装置を使用する場合では品質の上で濾過精度の高い濾材を使用することが好ましく、耐圧，フィルターライフの適性を確保するために装填枚数にて調整することが可能である。濾材の種類は、高温高圧下で使用される点から鉄鋼材料を用いることが好ましく、鉄鋼材料の中でも特にステンレス鋼，スチールなどを用いることが好ましく、腐食の点から特にステンレス鋼を用いることが望ましい。濾材の構成としては、線材を編んだものの他に、例えば金属長繊維あるいは金属粉末を焼結し形成する焼結濾材が使用でき、濾過精度，フィルターライフの点から焼結濾材が好ましい。

（iii）ギアポンプ
厚み精度を向上させるためには、吐出量の変動を減少させることが重要であり、押出機出機とダイスの間にギアポンプを設けて、ギアポンプから一定量の飽和ノルボルネン樹脂を供給することは効果がある。ギアポンプとは、ドライブギアとドリブンギアとからなる一対のギアが互いに噛み合った状態で収容され、ドライブギアを駆動して両ギアを噛み合い回転させることにより、ハウジングに形成された吸引口から溶融状態の樹脂をキャビティ内に吸引し、同じくハウジングに形成された吐出口からその樹脂を一定量吐出するものである。押出機先端部分の樹脂圧力が若干の変動があっても、ギアポンプを用いることにより変動を吸収し、製膜装置下流の樹脂圧力の変動は非常に小さなものとなり、厚み変動が改善される。ギアポンプを用いることにより、ダイ部分の樹脂圧力の変動巾を±1％以内にすることが可能である。

ギアポンプによる定量供給性能を向上させるために、スクリューの回転数を変化させて、ギアポンプ前の圧力を一定に制御する方法も用いることが出来る。又、ギアポンプのギアの変動を解消した３枚以上のギアを用いた高精度ギアポンプも有効である。

ギアポンプを用いるその他のメリットとしては、スクリュー先端部の圧力を下げて製膜できることから、エネルギー消費の軽減・樹脂温上昇の防止・輸送効率の向上・押出機内での滞留時間の短縮・押出機のＬ／Ｄを短縮が期待できる。又、異物除去のために、フィルターを用いる場合には、ギアポンプが無いと、ろ圧の上昇と共に、スクリューから供給される樹脂量が変動したりすることがあるが、ギアポンプを組み合わせて用いることにより解消が可能である。一方、ギアポンプのデメリットとしては、設備の選定方法によっては、設備の長さが長くなり、樹脂の滞留時間が長くなることと、ギアポンプ部のせん断応力によって分子鎖の切断を引き起こすことがあり、注意が必要である。

樹脂が供給口から押出機に入ってからダイスから出るまでの樹脂の好ましい滞留時間は２分以上６０分以下であり、より好ましくは３分以上４０分以下であり、さらに好ましくは４分以上３０分以下である。

ギアポンプの軸受循環用ポリマーの流れが悪くなることにより、駆動部と軸受部におけるポリマーによるシールが悪くなり、計量及び送液押し出し圧力の変動が大きくなったりする問題が発生するため、飽和ノルボルネン樹脂の溶融粘度に合わせたギアポンプの設計（特にクリアランス）が必要である。また、ギアポンプの滞留部分が飽和ノルボルネン樹脂の劣化の原因となるため、滞留の出来るだけ少ない構造が好ましい。押出機とギアポンプあるいはギアポンプとダイ等をつなぐポリマー管やアダプタについても、出来るだけ滞留の少ない設計が必要であり、押出圧力安定化のためには温度の変動を出来るだけ小さくすることが好ましい。一般的には、ポリマー管の加熱には設備コストの安価なバンドヒーターが用いられることが多いが、温度変動のより少ないアルミ鋳込みヒーターを用いることがより好ましい。

（iv）ダイ
上記の如く構成された押出機によって飽和ノルボルネン樹脂が溶融され、必要に応じ濾過機、ギアポンプを経由して溶融樹脂がダイに連続的に送られる。ダイはダイス内の溶融樹脂の滞留が少ない設計であれば、一般的に用いられるＴダイ、フィッシュテールダイ、ハンガーコートダイの何れのタイプでも構わない。又、Ｔダイの直前に樹脂温度の均一性アップのためのスタティックミキサーを入れることも問題ない。Ｔダイ出口部分のクリアランスは一般的にフィルム厚みの１．０〜５．０倍が良く、好ましくは１．２〜３倍、更に好ましくは１．３〜２倍である。リップクリアランスがフィルム厚みの１．０倍小さい場合には製膜により面状の良好なシートを得ることが困難である。また、リップクリアランスがフィルム厚みの５．０倍を超えて大きい場合にはシートの厚み精度が低下するため好ましくない。ダイはフィルムの厚み精度を決定する非常に重要な設備であり、厚み調整が厳密にコントロール出来るものが好ましい。通常厚み調整は４０〜５０ｍｍ間隔で調整可能であるが、好ましくは３５ｍｍ間隔以下、更に好ましくは２５ｍｍ間隔以下でフィルム厚み調整が可能なタイプが好ましい。また、ダイの温度ムラや巾方向の流速ムラの出来るだけ少ない設計が重要である。また、下流のフィルム厚みを計測して、厚み偏差を計算し、その結果をダイの厚み調整にフィードバックさせる自動厚み調整ダイも長期連続生産の厚み変動の低減に有効である。

フィルムの製造は設備コストの安い単層製膜装置が一般的に用いられるが、場合によっては機能層を外層に設けために多層製膜装置を用いて２種以上の構造を有するフィルムの製造も可能である。一般的には機能層を表層に薄く積層することが好ましいが、特に層比を限定するものではない。

（ｖ）キャスト
上記方法にて、ダイよりシート上に押し出された溶融樹脂をキャスティングドラム上で冷却固化し、フイルムを得る。この時、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等の方法を用い、キャスティングドラムと溶融押出ししたシートの密着を上げることが好ましい。このような密着向上法は、溶融押出しシートの全面に実施してもよく、一部に実施しても良い。特にエッジピニングと呼ばれる、フイルムの両端部にのみを密着させる方法が取られることも多いが、これに限定される物ではない。

キャスティングドラムは複数本用い、徐冷する法がより好ましい、特に一般的には３本の冷却ロールを用いることが比較的よく行われているが、この限りではない。ロールの直径は５０ｍｍ以上５０００ｍｍ以下が好ましくより好ましくは、１００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下、さらに好ましくは１５０ｍｍ以上１０００ｍｍ以下である。複数本あるロールの間隔は、面間で０．３ｍｍ以上３００ｍｍ以下が好ましく、より好ましくは、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下、さらに好ましくは３ｍｍ以上３０ｍｍ以下である。

キャスティングドラムは６０°Ｃ以上１６０°Ｃ以下が好ましく、より好ましくは７０°Ｃ以上１５０°Ｃ以下、さらに好ましくは８０°Ｃ以上１４０°Ｃ以下である。この後、キャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。巻き取り速度は１０ｍ／分以上１００ｍ／分以下が好ましく、より好ましくは１５ｍ／分以上８０ｍ／分以下、さらに好ましくは２０ｍ／分以上７０ｍ／分以下である。

製膜幅は０．７ｍ以上５ｍ以下、さらに好ましくは１ｍ以上４ｍ以下、さらに好ましくは１．３ｍ以上３ｍ以下が好ましい。このようにして得られた未延伸フィルムの厚みは３０μｍ以上４００μｍ以下が好ましく、より好ましくは４０μｍ以上３００μｍ以下、さらに好ましくは５０μｍ以上２００μｍ以下である。

製膜した飽和ノルボルネンフィルムの厚みむらは長手方向、幅方向いずれも０％以上２％以下が好ましく、より好ましくは０％以上１．５％以下、さらに好ましくは０％以上１％以下であり、これらを上記方法で延伸し、本発明の飽和ノルボルネンフィルムを得る。
また、いわゆるタッチロール法を用いる場合、タッチロール表面は、ゴム、テフロン等の樹脂でもよく、金属ロールでも良い。さらに、金属ロールの厚みを薄くすることでタッチしたときの圧力によりロール表面が若干くぼみ、圧着面積が広くなりフレキシブルロールと呼ばれる様なロールを用いることも可能である。

タッチロール温度は６０°Ｃ以上１６０°Ｃ以下が好ましく、より好ましくは７０°Ｃ以上１５０°Ｃ以下、さらに好ましくは８０°Ｃ以上１４０°Ｃ以下である。

（vi）巻き取り
このようにして得たシートは両端をトリミングし、巻き取ることが好ましい。トリミングされた部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料として又は異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。トリミングカッターはロータリーカッター、シャー刃、ナイフ等の何れのタイプの物を用いても構わない。材質についても、炭素鋼、ステンレス鋼何れを用いても構わない。一般的には、超硬刃、セラミック刃を用いると刃物の寿命が長く、また切り粉の発生が抑えられて好ましい。

また、巻き取り前に、少なくとも片面にラミフィルムを付けることも、傷防止の観点から好ましい。好ましい巻き取り張力は１ｋｇ/ｍ幅以上５０ｋｇ/幅以下、より好ましくは２ｋｇ/ｍ幅以上４０ｋｇ/幅以下、更に好ましくは３ｋｇ/ｍ幅以上２０ｋｇ/幅以下である。巻き取り張力が１ｋｇ/ｍ幅より小さい場合には、フィルムを均一に巻き取ることが困難である。逆に、巻き取り張力が５０ｋｇ/幅を超える場合には、フィルムが堅巻きになってしまい、巻き外観が悪化するのみでなく、フィルムのコブの部分がクリープ現象により延びてフィルムの波うちの原因になったり、あるいはフィルムの伸びによる残留複屈折が生じるため好ましくない。巻き取り張力は、ラインの途中のテンションコントロールにより検知し、一定の巻き取り張力になるようにコントロールされながら巻き取ることが好ましい。製膜ラインの場所により、フィルム温度に差がある場合には熱膨張により、フィルムの長さが僅かに異なる場合があるため、ニップロール間のドロー比率を調整し、ライン途中でフィルムに規定以上の張力がかからない様にすることが必要である。

巻き取り張力はテンションコントロールの制御により、一定張力で巻き取ることもできるが、巻き取った直径に応じてテーパーをつけ、適正な巻取り張力にすることがより好ましい。一般的には巻き径が大きくなるにつれて張力を少しずつ小さくするが、場合によっては、巻き径が大きくなるにしたがって張力を大きくする方が好ましい場合もある。

尚、上記巻き取り方法については一般的なものであり、本発明の熱処理をオフラインで行う場合である。オンラインで本発明の熱処理を行なう場合には、前述の通り制御しなければならない。

このような巻き取り方法は、下述の溶液製膜方にも同様に適用できる。

（溶液製膜）
本発明の飽和ノルボルネン樹脂を溶媒に溶解させる際の樹脂の濃度は３〜５０重量％が好ましく、より好ましくは５〜４０重量％、さらに好ましくは１０〜３５重量％である。このような室温での上記溶液の粘度は、通常は１〜１，０００，０００（ｍＰａ・ｓ）、好ましくは１０〜１００，０００（ｍＰａ・ｓ）、さらに好ましくは１００〜５０，０００（ｍＰａ・ｓ）、特に好ましくは１，０００〜４０，０００（ｍＰａ・ｓ）である。

使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１−メトキシ−２−プロパノール等のセロソルブ系溶媒、ジアセトンアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン、エチルシクロヘキサノン、１，２−ジメチルシクロヘキサン等のケトン系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル等のエステル系溶媒、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン含有溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、１−ペンタノール、１−ブタノール等のアルコール系溶媒を挙げることができる。

また、上記以外でも、ＳＰ値（溶解度パラメーター）が通常１０〜３０（ＭＰａ1／2）、好ましくは１０〜２５（ＭＰａ1／2）、さらに好ましくは１５〜２５（ＭＰａ1／2）、特に好ましくは１５〜２０（ＭＰａ1／2）の範囲の溶媒を使用するのが好ましい。上記溶媒は単独であるいは２種以上併用して使用することができる。溶媒を２種以上併用する場合には、混合物としてのＳＰ値の範囲を上記範囲内とすることが好ましい。このとき、混合物としてのＳＰ値の値は、その重量比から求めることができ、例えば二種の混合物の場合は、各溶媒の重量分率をＷ１，Ｗ２、また、ＳＰ値をＳＰ１，ＳＰ２とすると混合溶媒のＳＰ値は下記式：ＳＰ値＝Ｗ１・ＳＰ１＋Ｗ２・ＳＰ２により計算した値として求めることができる。

さらに飽和ノルボルネンフィルムの表面平滑性を向上させるためにレベリング剤を添加してもよい。一般的なレベリング剤であれば何れも使用できるが、例えば、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤などが使用できる。

本発明の飽和ノルボルネンフィルムを溶剤キャスト法により製造する方法としては、上記溶液をダイスやコーターを使用して金属ドラム、スチールベルト、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルム、ポリテトラフルオロエチレン製ベルトなどの基材の上に塗布し、その後溶剤を乾燥・除去して基材よりフィルムを剥離する方法が一般に挙げられる。

また、スプレー、ハケ、ロールスピンコート、ディッピングなどの手段を用いて，樹脂溶液を基材に塗布し、その後溶剤を乾燥・除去して基材よりフィルムを剥離することにより製造することもできる。なお、塗布の繰り返しにより厚みや表面平滑性等を制御してもよい。

また、基材としてポリエステルフィルムを使用する場合には、表面処理されたフィルムを使用してもよい。表面処理の方法としては、一般的に行われている親水化処理方法、例えばアクリル系樹脂やスルホン酸塩基含有樹脂をコーテイングやラミネートにより積層する方法、あるいは、コロナ放電処理等によりフィルム表面の親水性を向上させる方法等が挙げられる。

上記溶剤キャスト法の乾燥（溶剤除去）工程については、特に制限はなく一般的に用いられる方法、例えば多数のローラーを介して乾燥炉中を通過させる方法等で実施できるが、乾燥工程において溶媒の蒸発に伴い気泡が発生すると、フィルムの特性を著しく低下させるので、これを避けるために、乾燥工程を２段以上の複数工程とし、各工程での温度あるいは風量を制御することが好ましい。

また、光学用フィルム中の残留溶媒量は、通常は１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、さらに好ましくは１重量％以下、特に好ましくは０．５重量％以下である。このように残留溶剤を少なくすることで、より一層粘着跡故障を軽減でき好ましい。

本発明の飽和ノルボルネンフィルムの厚さは、１０〜３００μｍが好ましく、より好ましくは２０〜２５０μｍ 、さらに好ましくは３０〜２００μｍであり、厚み分布は、平均値に対して±８％以内が好ましく、より好ましくは±５％以内、さらに好ましくは±３％以内である。また、１ｃｍあたりの厚みの変動は、通常は５％以下、好ましくは３％以下、さらに好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。
（飽和ノルボルネンフィルムの加工）
上述の方法で１軸または２軸に延伸した飽和ノルボルネンフィルムは単独で使用してもよく、これらと偏光板組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層（低反射層）やハードコート層を設けて使用しても良い。これらは以下の工程により達成できる。
(i)表面処理
飽和ノルボルネンフィルムは表面処理を行うことによって、各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上させることができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3 〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００Ｋｅｖ下で２０〜５００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００Ｋｅｖ下で２０〜３００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられる。

これらの中でも特に好ましくは、グロー放電処理、コロナ処理、火炎処理である。

機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は上記表面処理をした後、塗設しても良く、表面処理なしで塗設しても良い。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁に記載されている。

これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。
（ii）機能層の付与
本発明の飽和ノルボルネンフィルムに、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光層の付与（偏光板）、光学補償層の付与（光学補償シート）、反射防止層の付与（反射防止フィルム）である。
（イ）偏光層の付与（偏光板の作成）
(イー1)使用素材
現在、市販の偏光層は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素を浸透させることで作製されるのが一般的である。偏光膜は、Optiva Inc.に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法、公技番号２００１−１７４５号、５８頁（発行日２００１年３月１５日）に記載の化合物が挙げられる。

偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。バインダーには、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号および同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。

バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よい。現在市販の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。

偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋性の官能基を有するポリマー、モノマーをバインダー中に混合しても良く、バインダーポリマー自身に架橋性官能基を付与しても良い。架橋は、光、熱あるいはｐＨ変化により行うことができ、架橋構造をもったバインダーを形成することができる。架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１乃至２０質量％が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。

架橋反応が終了後でも、未反応の架橋剤は１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、耐候性が向上する。

(イー2)偏光層の延伸
偏光膜は、偏光膜を延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。

延伸法の場合、延伸倍率は２．５乃至３０．０倍が好ましく、３．０乃至１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５乃至５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０乃至１０．０倍が好ましい。延伸はＭＤ方向に平行に行っても良く（平行延伸）、斜め方向におこなっても良い（斜め延伸）。これらの延伸は、１回で行っても、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。
a)平行延伸法
延伸に先立ち、ＰＶＡフィルムを膨潤させる。膨潤度は１．２〜２．０倍（膨潤前と膨潤後の重量比）である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で、１５〜５０°Ｃ、好ましくは１７〜４０°Ｃの浴温で延伸する。延伸は２対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくすることで達成できる。延伸倍率は、延伸後／初期状態の長さ比（以下同じ）に基づくが前記作用効果の点より好ましい延伸倍率は１．２〜３．５倍、好ましくは１．５〜３．０倍である。この後、５０°Ｃから９０°Ｃにおいて乾燥させて偏光膜を得る。
b)斜め延伸法
これには特開２００２−８６５５４に記載の斜め方向に傾斜め方向に張り出したテンターを用い延伸する方法を用いることができる。この延伸は空気中で延伸するため、事前に含水させて延伸しやすくすることが必用である。好ましい含水率は５％以上１００％以下、より好ましくは１０％以上１００％以下である。

延伸時の温度は４０°Ｃ以上９０°Ｃ以下が好ましく、より好ましくは５０°Ｃ以上８０°Ｃ以下である。湿度は５０％ｒｈ以上１００％ｒｈ以下が好ましく、より好ましくは７０％ｒｈ以上１００％ｒｈ以下、さらに好ましくは８０％ｒｈ以上１００％ｒｈ以下である。長手方向の進行速度は、１ｍ／分以上が好ましく、より好ましくは３ｍ／分以上である。
延伸の終了後、５０°Ｃ以上１００°Ｃ以下より好ましくは６０°Ｃ以上９０°Ｃ以下で、０．５分以上１０分以下乾燥する。より好ましくは１分以上５分以下である。

このようにして得られた偏光膜の吸収軸は１０度から８０度が好ましく、より好ましくは３０度から６０度であり、さらに好ましくは実質的に４５度（４０度から５０度）である。

(イー3)貼り合せ
上記表面処理後の飽和ノルボルネンフィルムと、延伸して調製した偏光層を貼り合わせ偏光板を調製する。張り合わせる方向は、飽和ノルボルネンフィルムの流延軸方向と偏光板の延伸軸方向が４５度になるように行うのが好ましい。

貼り合わせの接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液、エポキシ系接着剤等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂、エポキシ系接着剤が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後に０．０１乃至１０μｍが好ましく、０．０５乃至５μｍが特に好ましい。

このようにして得た偏光板の光線透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０乃至５０％の範囲にあることが好ましく、３５乃至５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０乃至５０％の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０乃至１００％の範囲にあることが好ましく、９５乃至１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９乃至１００％の範囲にあることが最も好ましい。

さらに、このようにして得た偏光板はλ／４板と積層し、円偏光を作成することができる。この場合λ／４の遅相軸と偏光板の吸収軸を４５度になるように積層する。この時、λ／4は特に限定されないが、より好ましくは低波長ほどレターデーションが小さくなるような波長依存性を有するものがより好ましい。さらには長手方向に対し２０度〜７０度傾いた吸収軸を有する偏光膜、および液晶性化合物からなる光学異方性層から成るλ/４板を用いることが好ましい。

（ロ）光学補償層の付与（光学補償シートの作成）
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、飽和ノルボルネンフィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。

(ロー1)配向膜
上記表面処理した飽和ノルボルネンフィルム上に配向膜を設ける。この膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。

配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。

配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。

本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。

配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。

液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類および必要とする配向状態に応じて決定する。

例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。

架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。

配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。

架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［０２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。が発生することがある。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行って良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。

配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１乃至１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０°Ｃ〜１１０°Ｃで行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０°Ｃ〜１００°Ｃが好ましく、特に８０°Ｃ〜１００°Ｃが好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。

配向膜は、透明支持体上又は上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。

前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

工業的に実施する場合、搬送している偏光層のついたフィルムに対し、回転するラビングロールを接触させることで達成するが、ラビングロールの真円度、円筒度、振れ（偏芯）はいずれも３０μｍ以下であることが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１乃至９０゜が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０゜以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。フィルムの搬送速度は１〜１００ｍ／ｍｉｎが好ましい。ラビング角は０〜６０゜の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０乃至５０゜が好ましい。４５゜が特に好ましい。
このようにして得た配向膜の膜厚は、０．１乃至１０μｍの範囲にあることが好ましい。

次に、配向膜の上に光学異方性層の液晶性分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。

光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
(ロー2)棒状液晶性分子
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。

なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。

棒状液晶性分子については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。

棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１乃至０．７の範囲にあることが好ましい。

棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基或はカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報明細書中の段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。
(ロー3)円盤状液晶性分子
円盤状（ディスコティック）液晶性分子には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

円盤状液晶性分子としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。円盤状液晶性分子の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。

円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことが出来る。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１５１］〜「０１６８」記載の化合物等が挙げられる。

ハイブリッド配向では、円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）と偏光膜の面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加または減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。さらに、角度は連続的に変化することが好ましい。

偏光膜側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。

(ロー4)光学異方性層の他の組成物
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することが出来る。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。

重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。

界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。

円盤状液晶性分子とともに使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。

ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。

円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００°Ｃが好ましく、７０〜１７０°Ｃがさらに好ましい。

(ロー5)光学異方性層の形成
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。

塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。

光学異方性層の厚さは、０．１乃至２０μｍであることが好ましく、０．５乃至１５μｍであることがさらに好ましく、１乃至１０μｍであることが最も好ましい。

(ロー6)液晶性分子の配向状態の固定
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。

光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５乃至５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。

照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ² 乃至５０Ｊ／ｃｍ² の範囲にあることが好ましく、２０乃至５０００ｍＪ／ｃｍ² の範囲にあることがより好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ² の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。

この光学補償フィルムと偏光層を組み合わせることも好ましい。具体的には、上記のような光学異方性層用塗布液を偏光膜の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光膜と光学異方性層との間にポリマーフイルムを使用することなく、偏光膜の寸度変化にともなう応力（歪み×断面積×弾性率）が小さい薄い偏光板が作成される。本発明に従う偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる。

偏光層と光学補償層の傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は４５゜である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５゜でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。

(ロー7)液晶表示装置
このような光学補償フィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。

（ＴＮモード液晶表示装置）
カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。

（ＯＣＢモード液晶表示装置）
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。

ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。

（ＶＡモード液晶表示装置）
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

（ＩＰＳモード液晶表示装置）
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には特開２００４−３６５９４１、特開２００４−１２７３１、特開２００４−２１５６２０、特開２００２−２２１７２６、特開２００２−５５３４１、特開２００３−１９５３３３に記載のものなどを使用できる。

（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモードおよびＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。

（ハ）反射防止層の付与（反射防止フィルム）
反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）とを透明基体上に設けて成る。

屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。

一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。

上述したような塗布による反射防止フィルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フィルムも挙げられる。

本発明の飽和ノルボルネンフィルムは上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。

(ハー1)塗布型反射防止フィルムの層構成
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。

高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
又、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。

例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。 又、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。

反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。又膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

(ハー2)高屈折率層および中屈折率層
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。

高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。

このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１1−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（：特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤併用（例、特開平１１−１５３７０３号公報、特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。

更に、ラジカル重合性及び/又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも2個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。

又、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。

高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。

(ハー3)低屈折率層
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。

耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。

含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。

例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１-４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。

シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。

架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。

又、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。

例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号[００２０]〜[００３８]に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。

低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

(ハー4)ハードコート層
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。

ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。 硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。

これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。

ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ０／４６６１７号公報等記載のものが挙げられる。

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。

ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。

ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。

ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。又、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

(ハー5)前方散乱層
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設ける。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。

例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等が挙げられる。

(ハー6)その他の層
上記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

(ハー7)塗布方法
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。

(ハー8)アンチグレア機能
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。

反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層）に比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。

以下に本発明で使用した測定法について記載する。

（１）湿熱寸法変化（δＬ（ｗ））
(i)サンプルフィルムをＭＤ，ＴＤ方向に切り出し、２５°Ｃ６０％ｒｈで５時間以上調湿後、２０ｃｍ基長のピンゲージを用い測長する（それぞれＭＤ（Ｆ）、ＴＤ（Ｆ）とする）。

（ii）これを６０°Ｃ９０％ｒｈの恒温恒湿槽に無張力で５００時間放置（サーモ処理）する。

（iii）恒温恒湿槽から取り出した後、２５°Ｃ６０％ｒｈで５時間以上調湿後、２０ｃｍ基長のピンゲージを用い測長する（それぞれＭＤ（ｔ）、ＴＤ（ｔ）とする）。

（iv）下記式でＭＤ、ＴＤ方向の湿熱寸法変化（δＭＤ（ｗ）、δＴＤ（ｗ））を求め、このうち大きい方の値を湿熱寸法変化（δＬ（ｗ））とする。

δＴＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＴＤ（Ｆ）−ＴＤ（ｔ）｜／ＴＤ（Ｆ）
δＭＤ（ｗ）（％）＝１００×｜ＭＤ（Ｆ）−ＭＤ（ｔ）｜／ＭＤ（Ｆ）
（２）乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））
上記湿熱寸法変化のサーモ処理を、８０°Ｃドライで５００時間に変えた以外は全て同様にして求める。

（３）Ｒｅ、Ｒｔｈ
サンプルフィルムを２５°Ｃ６０％ｒｈに５時間以上調湿後、自動複屈折計（KOBRA-21ADH：王子計測器（株）製）を用いて、２５°Ｃ６０％ｒｈにおいて、サンプルフィルム表面に対し垂直方向および、フィルム面法線から±４０°傾斜させて方向から波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値を測定する。垂直方向から面内のレターデーション（Ｒｅ）、垂直方向、±４０°方向の測定値から厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を算出する。これらをＲｅ，Ｒｔｈとする。

（４）Ｒｅ、Ｒｔｈの湿熱変化
(i)サンプルフィルムを２５°Ｃ６０％ｒｈで５時間以上調湿後、上記の方法でＲｅ，Ｒｔｈを測定する（Ｒｅ（ｆ）、Ｒｔｈ（ｆ）とする）。

（ii）これを６０°Ｃ９０％ｒｈの恒温恒湿槽に無張力で５００時間放置（サーモ処理）する。

（iii）恒温恒湿槽から取り出した後、２５°Ｃ６０％ｒｈで５時間以上調湿後、上記の方法でＲｅ，Ｒｔｈを測定する（Ｒｅ（ｔ）、Ｒｔｈ（ｔ）とする）。

（iv）下記式でＲｅ，Ｒｔｈの湿熱変化を求める。

Ｒｅの湿熱変化（％）＝１００×（Ｒｅ（ｆ）−Ｒｅ（ｔ））／Ｒｅ（ｆ）
Ｒｔｈの湿熱変化（％）＝１００×（Ｒｔｈ（ｆ）−Ｒｔｈ（ｔ））／Ｒｔｈ（ｆ）
（５）Ｒｅ、Ｒｔｈの乾熱変化
上記Ｒｅ、Ｒｔｈの湿熱変化のサーモ処理を、８０°Ｃドライで５００時間に変えた以外は全て同様にして求める。

（６）微細レターデーションむら
サンプルフィルムを２５°Ｃ６０％ｒｈに５時間以上調湿後、エリプソメーター（ＵＮＩＯＰＴ（株）製自動複屈折測定装置ＡＢＲ−１０Ａ−１０ＡＴ）を用い０．１ｍｍずつＭＤ方向にずらしながら１０点のＲｅを測定する。このときの最大値と最小値の差を、１０点の平均値で割った値（ＭＤの微細レターデーションむら）を求める。

ＴＤ方向にも同様に０．１ｍｍずつずらしながら測定し（ＴＤの微細レターデーションむら）を求める。

ＭＤの微細レターデーションむらとＴＤの微細レターデーションむらのうち大きいほうを微細レターデーションむらとする。

（７）縦／横比
延伸に用いるニップロールの間隔（Ｌ：２対のニップロールの芯間の距離）を延伸前の飽和ノルボルネンフィルムの幅（Ｗ）で割った値（Ｌ／Ｗ）。３対以上のニップロールがある場合は、もっとも大きいＬ／Ｗの値を縦横比とした。

（８）緩和率
緩和する長さを延伸前の寸法で割り百分率で示した値を指す。

以下に本発明の飽和ノルボルネンフィルムについての具体的な実施態様を記述するが、これらに限定されるものではない。

飽和ノルボルネン樹脂
（１）飽和ノルボル樹脂−Ａ
６−メチル−１，４，５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレンに、重合触媒としてトリエチルアルミニウムの１５％シクロヘキサン溶液１０部、トリエチルアミン５部、および四塩化チタンの２０％シクロヘキサン溶液１０部を添加して、シクロヘキサン中で開環重合し、得られた開環重合体をニッケル触媒で水素添加してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をイソプロピルアルコール中で凝固させ、乾燥し、粉末状の樹脂を得た。この樹脂の数平均分子量は４０，０００、水素添加率は９９．８％以上、Ｔｇは１３９°Ｃであった。

（２）飽和ノルボル樹脂−Ｂ
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2.5 ，１7.10］−３−ドデセン（特定単量体Ｂ）１００部と、５−（４−ビフェニルカルボニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（特定単量体Ａ）１５０部と、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエン７５０部とを窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を６０°Ｃに加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリエチルアルミニウム（１．５モル／ｌ）のトルエン溶液０．６２部と、ｔ−ブタノール及びメタノールで変性した六塩化タングステン（ｔ−ブタノール：メタノール：タングステン＝０．３５モル：０．３モル：１モル）のトルエン溶液（濃度０．０５モル／ｌ）３．７部とを添加し、この系を８０°Ｃで３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であり、得られた開環重合体について、３０°Ｃのクロロホルム中で測定した固有粘度（ηinh ）は０．６５ｄｌ／ｇであった。

このようにして得られた開環重合体溶液４，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ₆ Ｈ₅ ）₃ ］₃ ０．４８部を添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ² 、反応温度１６５°Ｃの条件下で、３時間加熱攪拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（特定の環状ポリオレフィン系樹脂）を得た。このようにして得られた水素添加重合体について４００ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲを用いてオレフィン性不飽和結合の水素添加率を測定したところ９９．９％であった。このＴｇは１１０°Ｃであり、ＧＰＣ法（溶媒：テトラヒドロフラン）によりポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は３９，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）は１２６，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．２３であった。

２．製膜
（１）溶融製膜
上記飽和ノルボルネン樹脂−Ａに表１記載の二酸化珪素から成る微粒子を添加し直径３ｍｍ長さ５ｍｍの円柱状のペレットに成形した。これを１１０°Ｃの真空乾燥機で乾燥し、含水率を０．１％以下とした後、Ｔｇ−１０°Ｃになるように調整したホッパーに投入した。なお二酸化珪素の代わりに、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ等を用いた場合も同様の結果を得た。

溶融粘度が５０００Ｐａ・ｓとなるように溶融温度を調整し、この温度で５分間かけて１軸混練機を用い溶融した後、溶融温度より１０°Ｃ高く設定したＴ−ダイからＴｇ−５°Ｃに設定したキャスティングドラム上に流延し固化しフィルムとした。この時、各水準静電印加法（１０ｋＶのワイヤーをメルトのキャスティングドラムへの着地点から１０ｃｍのところに設置）を用いた。固化したメルトを剥ぎ取り、巻き取った。なお、巻き取り直前に両端（全幅の各３％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ５０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた。各水準とも、幅は１．５ｍで３０ｍ／分で３０００ｍ巻き取った。

（２）溶液製膜
上記飽和ノルボルネン樹脂−Ｂと表１記載の二酸化珪素から成る微粒子を、トルエン中に３０％濃度になるように撹拌しながら投入した。なお二酸化珪素の代わりに、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ等を用いた場合も同様の結果を得た。

投入が終わると撹拌を停止し、２５°Ｃで３時間膨潤させスラリーを作成した。これを再度撹拌し、完全に溶解した（この溶液をドープと呼ぶ）。この溶液の室温での粘度は３０，０００ｍＰａ・ｓであった）。これを、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）でろ過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にて濾過した。

上述のドープを３５°Ｃに加温し、２５°Ｃに設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。使用したギーサーは、特開平１１−３１４２３３号に記載の形態に類似するものを用いた。なお流延スピードは６０ｍ／分でその流延幅は２５０ｃｍとした。

残留溶剤が１００ｗｔ％で剥ぎ取った後、１３０°Ｃで乾燥した後、表２に示す残留溶剤となったところで巻き取り、飽和ノルボルネンフィルムを得た。得られたフィルムは両端を３ｃｍトリミングした後、両端から２〜１０ｍｍの部分に高さ１００μｍのナーリングを付与し、３０００ｍロール状に巻き取った。

３．延伸
(i)．縦（ＭＤ）延伸
上記溶融製膜、溶液製膜で得たセルロースアシレートフィルム（いずれも残留溶剤は０．１重量％以下）を、２対のニップロールを用い、Ｔg＋１５°Ｃで縦延伸した。
（ii）．横（ＴＤ）延伸
縦延伸後にテンターを用いてＴg＋１０°Ｃで表１に記載の倍率で横方向に延伸した。

４．熱処理
その後、表１の熱処理条件（熱処理温度、熱処理時搬送張力、及び熱処理時間）で熱処理工程を行なった。

５．延伸フィルムの評価
このようにして得た延伸フィルムの湿熱寸法変化（δＬ(ｗ)）、乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））、湿熱、乾熱処理前（フレッシュ）のＲｅ、Ｒｔｈ、微細レターデーションむら、およびＲｅ、Ｒｔｈの湿熱変化（δＲｅ(ｗ) 、δＲｔｈ（ｗ））、Ｒｅ、Ｒｔｈの乾熱変化（δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｄ））を上記の方法で測定し表１に記載した。

図４の表１の実施例１〜８、及び比較例１〜４において、飽和ノルボルネン樹脂は同一のもの（上記の飽和ノルボル樹脂−Ａ）であり、平均粒子径０．６０μｍの微粒子を３０ｐｐｍ添加したものを、溶融製膜法で延伸飽和ノルボルネン樹脂フィルムを作成したものである。熱処理条件が本発明の条件、２Ｎ／ｃｍ² 以上１２０Ｎ／ｃｍ² 以下の張力、Ｔｇ−３０°Ｃ以上Ｔｇ＋２０°Ｃ以下の温度、及び１０秒以上６００秒以下の処理時間、を満たしている実施例１〜８は、満たしていない比較例１〜４（比較例４に関しては熱処理を行っていない）と比較すると、湿熱変化（δＬ(ｗ)、δＲｅ(ｗ) 、δＲｔｈ（ｗ））、乾熱変化（δＬ（ｄ）、δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｄ））が小さくなり、特に微細レターデーションむらが少なくなることが分かる。また、未延伸フィルムに関しても同様に、熱処理を行わない比較例５に比べ、本発明の条件で熱処理を行った実施例９は、湿熱変化、乾熱変化が小さくなる。また、延伸条件を変えた実施例９〜１１（実施例９に関しては未延伸フィルム）でも良好な結果が得られていることが分かる。

実施例１２〜１７は、上記の飽和ノルボル樹脂−Ａにおいて微粒子の粒子径及び添加量を変えて延伸飽和ノルボルネン樹脂フィルムを作成した場合である。実施例１６は微粒子を添加しなかったために、微細Ｒｅムラが他の実施例に比べ大きくなり、また実施例１７は微粒子の平均粒子径が０．１μｍ〜３．０μｍの範囲にはなく、１ｐｐｍ〜１００００ｐｐｍの添加の範囲を超えているので、湿熱変化、乾熱変化が若干大きくなる傾向があるが、全体的に良好な結果が得られた。

更に、実施例１８及び比較例６は同一の上記飽和ノルボル樹脂−Ｂで溶液製膜法によって延伸飽和ノルボルネン樹脂フィルムを作成した場合である。溶液製膜法で作成された延伸飽和ノルボルネン樹脂フィルムにおいても、熱処理条件が本発明の条件、２Ｎ／ｃｍ² 以上１２０Ｎ／ｃｍ² 以下の張力、Ｔｇ−３０°Ｃ以上Ｔｇ＋２０°Ｃ以下の温度、及び１０秒以上６００秒以下の処理時間、を満たすことで、湿熱変化（δＬ(ｗ)、δＲｅ(ｗ) 、δＲｔｈ（ｗ））、乾熱変化（δＬ（ｄ）、δＲｅ（ｄ）、δＲｔｈ（ｄ））が小さくなり、微細レターデーションむらが少なくなることが分かる（比較例６は熱処理温度Ｔｇ＋２０°Ｃ以下（この樹脂の場合、１６２°Ｃ以下）の条件を満たしていない）。

６．偏光板の作成
（１）表面処理
いずれの水準も、水との接触角が４５度になるように、フィルム表面にコロナ処理を行った。

（２）偏光層の作成
特開平２００１−１４１９２６の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸したで厚み２０μｍの偏光層を調製した。なお、特開平２００２−８６５５４の実施例１のように延伸軸が斜め４５度となるように延伸した偏光層も同様に作成したが、以降の評価結果は上述のものと同様な結果が得られた。

（３）貼り合わせ
このようにして得た偏光層を、上記鹸化処理した延伸飽和ノルボルネンフィルム（位相差板）と鹸化処理した偏光板保護フィルム（商品名：フジタック）の間に挟み込んだ。この際、位相差板と偏光層の接着は、位相差板がセルロースアシレートの場合はＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤とし、位相差板がこれ以外の場合はエポキシ系接着剤を用いて貼り合せた。またフジタックと偏光層の間は上述のＰＶＡ水溶液を接着剤として貼り合わせた。貼り合わせ方向は、偏光軸と位相差板の長手方向が４５度となるようした。

このようにして得た偏光板のフレッシュ品と、ウエットサーモ（６０°Ｃ９０％ｒｈ５００時間）、ドライサーモ（８０°Ｃドライ５００時間）後の偏光板を、飽和ノルボルネンフィルムを液晶側になるようにして、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置液晶表示装置に取り付けた。これをフレッシュ品の偏光板を用いたものと、ドライ、ウエットサーモ品の偏光板を用いたものを比較し、目視評価し色むらの発生領域の全面積に占める割合を表１に記載した。

図４の表１から分かるように、本発明を実施したものは良好な性能が得られた。

７．光学補償フィルムの作成
特開平１１−３１６３７８号の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを使用した。この時製膜、延伸直後のもの（フレッシュ品）を用いた場合と、ウエットサーモ（６０°Ｃ９０％ｒｈ５００時間）、ドライサーモ（８０°Ｃドライ５００時間）後のものを用いた場合で、両者比較し色むらの発生している領域を目視評価したが、本発明を用いたものは良好な光学補償フィルムを作成できた。

特開平７−３３３４３３の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムに代わって、本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムに変更し光学補償フィルターフィルムを作製したものでも同様に良好な光学補償フィルムを作成できた。

８．低反射フィルムの作成
本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）の実施例４７に従い本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを用いて低反射フィルムを作成したところ、良好な光学性能が得られた。

９．液晶表示素子の作成
上記本発明の偏光板を、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置、特開２００４−１２７３１の図１１に記載のＩＰＳ型液晶表示装置に用いた。さらに、本発明の低反射フィルムをこれらの液晶表示装置の最表層に貼り評価を行ったところ、高温、高湿経時後でも色むらの発生しない良好な液晶表示素子を得た。

本発明が適用されるフィルム製造装置の構成図 押出機の構成を示す概略図 濾過装置の構成を示す模式図 本発明の実施例の説明図

符号の説明

１０…フィルム製造装置、１２…飽和ノルボルネン系樹脂フィルム、１２’…延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム、１２’’…熱緩和処理後の延伸飽和ノルボルネン系樹脂フィルム、１４…押出機、１６…ダイ、１７，１８，１９…冷却ドラム、２０…製膜工程部、３０…縦延伸工程部、４０…横延伸工程部、５０，５０’…巻取工程部、７０…熱緩和装置、７１…炉、７２…パスローラ、７４…ニップロール、７６…テンション測定ロール

Claims (15)

1. 熱可塑性樹脂フィルムを、２Ｎ／ｃｍ² 以上１２０Ｎ／ｃｍ² 以下の張力で搬送しながら、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Ｔｇ−３０°Ｃ以上Ｔｇ＋２０°Ｃ以下の温度で１０秒以上６００秒以下の時間、熱処理を行なうことを特徴とする熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
2. 前記熱可塑性樹脂フィルムは、
   湿熱寸法変化（δＬ（ｗ））、及び乾熱寸法変化（δＬ（ｄ））のいずれもが０％以上０．３％以下であることを特徴とする請求項１に記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
3. 前記熱可塑性樹脂フィルムは、
   面内のレターデーション（Ｒｅ）の湿熱変化（δＲｅ（ｗ））、乾熱変化（δＲｅ（ｄ））、及び、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の湿熱変化（δＲｔｈ（ｗ））、乾熱変化（δＲｔｈ（ｄ））、のいずれもが０％以上１０％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
4. 前記熱可塑性樹脂フィルムは、
   配向角が０°±５°以内、又は９０°±５°以内、
   ボーイング歪みの大きさが１０％以下、
   面内のレターデーション（Ｒｅ）が０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、
   厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１に記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
5. 前記熱可塑性樹脂フィルムは、
   微細レターデーションむらが０％以上１０％以下であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１に記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
6. 前記熱可塑性樹脂は、飽和ノルボルネン系樹脂であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１に記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
7. 前記熱可塑性樹脂フィルムは、
   平均粒子径が０．１μｍ以上３．０μｍ以下の微粒子を１ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下含むことを特徴とする請求項６に記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
8. 前記熱処理を、未延伸の熱可塑性樹脂フィルムについて行うことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１に記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
9. 前記熱処理を、延伸した後の熱可塑性樹脂フィルムについて行うことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１に記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
10. 請求項８に記載の製造方法で製造された未延伸の熱可塑性樹脂フィルムを少なくとも１層積層したことを特徴とする偏光板。
11. 請求項８に記載の製造方法で製造された未延伸の熱可塑性樹脂フィルムを基材に用いたことを特徴とする液晶表示板用光学補償フィルム。
12. 請求項８に記載の製造方法で製造された未延伸の熱可塑性樹脂フィルムを基材に用いたことを特徴とする反射防止フィルム。
13. 請求項９に記載の製造方法で製造された延伸熱可塑性樹脂フィルムを少なくとも１層積層したことを特徴とする偏光板。
14. 請求項９に記載の製造方法で製造された延伸熱可塑性樹脂フィルムを基材に用いたことを特徴とする液晶表示板用光学補償フィルム。
15. 請求項９に記載の製造方法で製造された延伸熱可塑性樹脂フィルムを基材に用いたことを特徴とする反射防止フィルム。
    

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