JP2006219660A - 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006219660A JP2006219660A JP2005367041A JP2005367041A JP2006219660A JP 2006219660 A JP2006219660 A JP 2006219660A JP 2005367041 A JP2005367041 A JP 2005367041A JP 2005367041 A JP2005367041 A JP 2005367041A JP 2006219660 A JP2006219660 A JP 2006219660A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inorganic powder
- containing resin
- resin layer
- film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
【課題】 保存安定性とパターニング性に優れ、パターン形状および膜厚均一性に優れたＰＤＰのパネル部材（例えば、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリクス）を好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびパターン形状および膜厚均一性に優れたＰＤＰのパネル部材を効率的に形成することができるＰＤＰの製造方法を提供すること。
【解決手段】 （ａ）無機粉体、（ｂ）結着樹脂、並びに（ｃ）特定構造を有するシランカップリング剤を含有することを特徴とする、無機粉体含有樹脂組成物、それから得られる転写フィルムおよびそれを用いるＰＤＰの製造方法を提供する。
【選択図】 なし
【解決手段】 （ａ）無機粉体、（ｂ）結着樹脂、並びに（ｃ）特定構造を有するシランカップリング剤を含有することを特徴とする、無機粉体含有樹脂組成物、それから得られる転写フィルムおよびそれを用いるＰＤＰの製造方法を提供する。
【選択図】 なし
Description
本発明は、無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルム、およびプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。詳しくは、プラズマディスプレイパネルを構成するパネル材料の形成に好適な無機粉体含有樹脂組成物および転写フィルムに関する。
プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう）は、大型パネルでありながら製造プロセスが容易であること、視野角が広いこと、自発光タイプで表示品位が高いこと等の理由から、フラットパネル表示技術の中で注目されており、特にカラープラズマディスプレイパネルは、２０インチ以上の壁掛けＴＶ用の表示デバイスとして将来主流になるものと期待されている。
カラーＰＤＰは、ガス放電により発生する紫外線を蛍光体に照射することによってカラー表示が可能になる。そして、一般に、カラーＰＤＰにおいては、赤色発光用の蛍光体部位、緑色発光用の蛍光体部位及び青色発光用の蛍光体部位が基板上に形成されることにより、各色の発光表示セルが全体に均一に混在した状態に構成されている。具体的には、ガラス等からなる基板の表面に、バリアリブと称される絶縁性材料からなる隔壁が設けられており、この隔壁によって多数の表示セルが区画され、当該表示セルの内部がプラズマ作用空間になる。そして、このプラズマ作用空間に蛍光体部位が設けられるとともに、この蛍光体部位にプラズマを作用させる電極が設けられることにより、各々の表示セルを表示単位とするプラズマディスプレイパネルが構成される。当該電極は、通常、銀等を含有する白色導電層と、当該白色導電層の下層に反射防止層（遮光層）の役割を有する暗色層（黒色層）を有する積層パターンで構成される。また、通常、ＰＤＰのコントラストを向上させるために、電極パターンの間にブラックマトリクスやカラーフィルターが設けられる。
カラーＰＤＰは、ガス放電により発生する紫外線を蛍光体に照射することによってカラー表示が可能になる。そして、一般に、カラーＰＤＰにおいては、赤色発光用の蛍光体部位、緑色発光用の蛍光体部位及び青色発光用の蛍光体部位が基板上に形成されることにより、各色の発光表示セルが全体に均一に混在した状態に構成されている。具体的には、ガラス等からなる基板の表面に、バリアリブと称される絶縁性材料からなる隔壁が設けられており、この隔壁によって多数の表示セルが区画され、当該表示セルの内部がプラズマ作用空間になる。そして、このプラズマ作用空間に蛍光体部位が設けられるとともに、この蛍光体部位にプラズマを作用させる電極が設けられることにより、各々の表示セルを表示単位とするプラズマディスプレイパネルが構成される。当該電極は、通常、銀等を含有する白色導電層と、当該白色導電層の下層に反射防止層（遮光層）の役割を有する暗色層（黒色層）を有する積層パターンで構成される。また、通常、ＰＤＰのコントラストを向上させるために、電極パターンの間にブラックマトリクスやカラーフィルターが設けられる。
このようなＰＤＰにおけるパネル材料の製造方法としては、（１）イオンスパッタ法や電子ビーム蒸着法などによる方法や（２）フォトリソグラフィー法やスクリーン印刷法等により形成した無機粉体含有樹脂層パターンを焼成し、有機物質を除去する方法などが知られている。中でもフォトリソグラフィー法により無機粉体含有樹脂層をパターニングする方法が、製造効率が高く、原理的にパターン精度に優れているため好適に用いられている。特に、可撓性を有する支持フィルム上に無機粉体含有樹脂層を形成した転写フィルムを用い、当該無機粉体含有樹脂層を基板上に転写してパターニングを行う方法が、膜厚の均一性、および表面の均一性に優れたパターンを形成することができるため、好ましく用いられている。
しかしながら、上記無機粉体含有樹脂層の形成に用いる無機粉体含有樹脂組成物は、有機材料と無機材料との混合物であるため、両材料の親和性が不十分になりやすいという問題がある。有機材料と無機材料の親和性とは、例えば、無機材料表面における有機材料のぬれ性や、無機材料と有機材料との相溶性などであり、上記無機粉体含有樹脂組成物の場合、特に、無機材料表面における有機材料のぬれ性が問題になりやすい。ぬれ性が悪いと、組成物中の無機粉体の沈降や、組成物のゲル化、分散不良、無機粉体同士の凝集を引き起こすだけでなく、塗布ムラ、膜表面の荒れ、転写フィルムの基板への転写性悪化、フォトリソグラフィー法におけるパターニング性異常などを引き起こす恐れもある。
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものである。
本発明の第１の目的は、保存安定性とパターニング性に優れ、パターン形状および膜厚均一性に優れたＰＤＰのパネル部材（例えば、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリクス）を好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物を提供することにある。
本発明の第２の目的は、パターニング性に優れ、パターン形状および膜厚均一性に優れたＰＤＰのパネル部材を効率的に形成することができる転写フィルムを提供することにある。
本発明の第３の目的は、パターン形状および膜厚均一性に優れたＰＤＰのパネル部材を効率的に形成することができるＰＤＰの製造方法を提供することにある。
本発明の第１の目的は、保存安定性とパターニング性に優れ、パターン形状および膜厚均一性に優れたＰＤＰのパネル部材（例えば、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリクス）を好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物を提供することにある。
本発明の第２の目的は、パターニング性に優れ、パターン形状および膜厚均一性に優れたＰＤＰのパネル部材を効率的に形成することができる転写フィルムを提供することにある。
本発明の第３の目的は、パターン形状および膜厚均一性に優れたＰＤＰのパネル部材を効率的に形成することができるＰＤＰの製造方法を提供することにある。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、
（ａ）無機粉体、
（ｂ）結着樹脂、並びに
（ｃ）下記式（１）で表される化合物、当該化合物の加水分解物および当該化合物の加水分解縮合物から選ばれる少なくとも一種（以下、「特定シランカップリング剤」ともいう）
を含有することを特徴とする。
（ａ）無機粉体、
（ｂ）結着樹脂、並びに
（ｃ）下記式（１）で表される化合物、当該化合物の加水分解物および当該化合物の加水分解縮合物から選ばれる少なくとも一種（以下、「特定シランカップリング剤」ともいう）
を含有することを特徴とする。
（式（１）において、Ｒはメチレン基または炭素数２〜１００のアルキレン基を表し、Ｘは加水分解性基を表し、Ｙはビニル基、エポキシ基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、メルカプト基、またはアミノ基を表し、ｎは０から３の整数である。）
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、さらに（ｄ）感放射線成分を含有する、感放射線性無機粉体含有樹脂組成物であってもよい。
本発明の第一の転写フィルム（以下、「転写フィルムＩ」ともいう）は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を有することを特徴とする。
本発明の第二の転写フィルム（以下、「転写フィルムII」ともいう）は、レジスト膜と、本発明の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層との積層を有することを特徴とする。
本発明の第二の転写フィルム（以下、「転写フィルムII」ともいう）は、レジスト膜と、本発明の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層との積層を有することを特徴とする。
本発明の第一のＰＤＰの製造方法（以下、「ＰＤＰの製造方法Ｉ」ともいう）は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、転写された無機粉体含有樹脂層を焼成することにより、前記基板上に誘電体層を形成する工程を有することを特徴とする。
本発明の第二のＰＤＰの製造方法（以下、「ＰＤＰの製造方法II」ともいう）は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、転写された無機粉体含有樹脂層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、当該無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応するパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含むことを特徴とする。
本発明の第三のＰＤＰの製造方法（以下、「ＰＤＰの製造方法III 」ともいう）は、本発明の感光性無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、当該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含むことを特徴とする。
本発明の第二のＰＤＰの製造方法（以下、「ＰＤＰの製造方法II」ともいう）は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、転写された無機粉体含有樹脂層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、当該無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応するパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含むことを特徴とする。
本発明の第三のＰＤＰの製造方法（以下、「ＰＤＰの製造方法III 」ともいう）は、本発明の感光性無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、当該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含むことを特徴とする。
＜１＞ 無機粉体含有樹脂組成物
以下、本発明の無機粉体含有樹脂組成物について詳しく説明する。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、無機粉体、結着樹脂および特定シランカップリング剤を必須成分として含有する、ＰＤＰ部材形成に好適に用いられる無機粉体含有樹脂組成物である。
以下、本発明の無機粉体含有樹脂組成物について詳しく説明する。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、無機粉体、結着樹脂および特定シランカップリング剤を必須成分として含有する、ＰＤＰ部材形成に好適に用いられる無機粉体含有樹脂組成物である。
（ａ）無機粉体
本発明の組成物に用いられる無機粉体を構成する無機物質としては特に限定されるものではなく、当該組成物により形成される焼結体の用途（ＰＤＰ部材の種類）に応じて適宜選択することができる。
ここに、ＰＤＰを構成する「誘電体層」または「隔壁」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、軟化点が３５０〜７００℃（好ましくは４００〜６２０℃）の範囲内にあるガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の軟化点が４００℃未満である場合には、当該組成物による無機粉体含有樹脂層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成される誘電体層中に有機物質の一部が残留し、この結果、誘電体層が着色されて、その光透過率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末の軟化点が６２０℃を超える場合には、６２０℃より高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。
好適なガラス粉末の具体例としては、１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−B2O3−SiO2系）の混合物、２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（PbO−B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素（Bi2O3-B2O3-SiO2系）の混合物、６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素（ZnO−P2O5−SiO2系）の混合物、７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−K2O系）の混合物、８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム（P2O5−B2O3−Al2O3系）の混合物、９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（ZnO−P2O5−SiO2−Al2O3系）の混合物、１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン（ZnO−P2O5−TiO2系）の混合物、１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−SiO2系−K2O系）の混合物、１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO系）の混合物、１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO−Al2O3系）の混合物などを例示することができる。
これらガラス粉末は、誘電体層および隔壁以外のパネル部材（例えば電極・抵抗体・蛍光体・カラーフィルター・ブラックマトリックス）を形成するための組成物中に含有（併用）されていてもよい。これらのパネル材料を得るための無機粉体含有樹脂組成物におけるガラスフリットの含有量は、無機粉体全量に対して、通常、８０質量％以下、好ましくは、１〜７０質量％である。
本発明の組成物に用いられる無機粉体を構成する無機物質としては特に限定されるものではなく、当該組成物により形成される焼結体の用途（ＰＤＰ部材の種類）に応じて適宜選択することができる。
ここに、ＰＤＰを構成する「誘電体層」または「隔壁」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、軟化点が３５０〜７００℃（好ましくは４００〜６２０℃）の範囲内にあるガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の軟化点が４００℃未満である場合には、当該組成物による無機粉体含有樹脂層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成される誘電体層中に有機物質の一部が残留し、この結果、誘電体層が着色されて、その光透過率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末の軟化点が６２０℃を超える場合には、６２０℃より高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。
好適なガラス粉末の具体例としては、１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−B2O3−SiO2系）の混合物、２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（PbO−B2O3−SiO2−Al2O3系）の混合物、４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（PbO−ZnO−B2O3−SiO2系）の混合物、５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素（Bi2O3-B2O3-SiO2系）の混合物、６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素（ZnO−P2O5−SiO2系）の混合物、７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−K2O系）の混合物、８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム（P2O5−B2O3−Al2O3系）の混合物、９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム（ZnO−P2O5−SiO2−Al2O3系）の混合物、１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン（ZnO−P2O5−TiO2系）の混合物、１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム（ZnO−B2O3−SiO2系−K2O系）の混合物、１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO系）の混合物、１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム（ZnO−B2O3−SiO2−K2O−CaO−Al2O3系）の混合物などを例示することができる。
これらガラス粉末は、誘電体層および隔壁以外のパネル部材（例えば電極・抵抗体・蛍光体・カラーフィルター・ブラックマトリックス）を形成するための組成物中に含有（併用）されていてもよい。これらのパネル材料を得るための無機粉体含有樹脂組成物におけるガラスフリットの含有量は、無機粉体全量に対して、通常、８０質量％以下、好ましくは、１〜７０質量％である。
ＰＤＰを構成する「電極」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、Ag、Au、Al、Ni、Ag−Pd合金、Cu、CoおよびCrなどからなる金属粒子を挙げることができる。なお、電極として、暗色層（反射防止層）と白色層との二層を有する電極を形成する場合には、暗色層に用いられる無機粉体としては、Ni、Cu、Fe、Cr、Mnおよびそれら複合酸化物、さらには酸化ニッケル、酸化鉄、酸化銅、酸化コバルト、酸化ルテニウム等が好適に用いられる。
これらの金属粒子は、誘電体層を形成するための組成物中にガラス粉末と併用する形で含有されていてもよい。誘電体層形成用組成物における金属粒子の含有量は、無機粉体全量に対して、通常、１０質量％以下、好ましくは０．１〜５質量％である。
これらの金属粒子は、誘電体層を形成するための組成物中にガラス粉末と併用する形で含有されていてもよい。誘電体層形成用組成物における金属粒子の含有量は、無機粉体全量に対して、通常、１０質量％以下、好ましくは０．１〜５質量％である。
ＰＤＰを構成する「抵抗体」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、RuO2などからなる粒子を挙げることができる。
ＰＤＰを構成する「蛍光体」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、Y2O3：Eu3+、Y2SiO5：Eu3+、Y3Al5O12：Eu3+、YVO4：Eu3+、(Y, Gd)BO3：Eu3+、Zn3(PO4)2：Mnなどの赤色用蛍光物質；Zn2SiO4：Mn、BaAl12O19：Mn、BaMgAl14O23：Mn、LaPO4：(Ce, Tb)、Y3(Al, Ga)5O12：Tbなどの緑色用蛍光物質；Y2SiO5：Ce、BaMgAl10O17：Eu2+、BaMgAl14O23：Eu2+、(Ca, Sr, Ba)10(PO4)6Cl2：Eu2+、(Zn, Cd)S：Agなどの青色用蛍光物質などからなる粒子を挙げることができる。
ＰＤＰを構成する「カラーフィルター」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、Fe2O3、Pb3O4などの赤色用物質、Cr2O3などの緑色用物質、2（Al2Na2Si3O10）・Na2S4などの青色用物質などからなる粒子を挙げることができる。
ＰＤＰを構成する「ブラックマトリックス」を形成するための組成物に含有される無機粉体としては、Mn、Fe、Cr、Co、Niや、その酸化物およびそれらの複合酸化物からなる粒子を挙げることができる。
（ｂ）結着樹脂
本発明の無機粉体含有樹脂組成物を構成する結着樹脂としては、種々の樹脂を用いることができるが、アルカリ可溶性樹脂を３０〜１００質量％の割合で含有する樹脂を用いることが好ましい。ここに、「アルカリ可溶性」とは、アルカリ性の現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
かかるアルカリ可溶性樹脂の具体例としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを挙げることができる。
このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下記のモノマー（イ）とモノマー（ハ）との共重合体、モノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体などのアクリル樹脂を挙げることができる。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物を構成する結着樹脂としては、種々の樹脂を用いることができるが、アルカリ可溶性樹脂を３０〜１００質量％の割合で含有する樹脂を用いることが好ましい。ここに、「アルカリ可溶性」とは、アルカリ性の現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
かかるアルカリ可溶性樹脂の具体例としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを挙げることができる。
このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下記のモノマー（イ）とモノマー（ハ）との共重合体、モノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体などのアクリル樹脂を挙げることができる。
モノマー（イ）：カルボキシル基含有モノマー類
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなど。
モノマー（ロ）：ＯＨ含有モノマー類
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどの水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類など。
モノマー（ハ）：その他の共重合可能なモノマー類
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ラウリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルなどのモノマー（イ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類；ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマー類など。
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなど。
モノマー（ロ）：ＯＨ含有モノマー類
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどの水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類など。
モノマー（ハ）：その他の共重合可能なモノマー類
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ラウリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルなどのモノマー（イ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類；ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマー類など。
上記モノマー（イ）とモノマー（ハ）との共重合体や、モノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体は、モノマー（イ）に由来する共重合成分の存在により、アルカリ可溶性を有するものとなる。中でもモノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の共重合体は、（ａ）無機粉体の分散安定性や後述するアルカリ現像液への溶解性の観点から特に好ましい。この共重合体におけるモノマー（イ）に由来する共重合成分の含有率は、好ましくは５〜６０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％であり、モノマー（ロ）に由来する共重合成分の含有率は、好ましくは１〜５０質量％、特に好ましくは５〜３０質量％である。
上記アルカリ可溶性樹脂の分子量としては、Ｍｗが５，０００〜５，０００，０００であることが好ましく、さらに好ましくは１０，０００〜３００，０００とされる。
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物における結着樹脂の含有割合としては、無機粉体１００質量部に対して、通常、１〜２００質量部とされ、好ましくは、５〜１５０質量部、特に好ましくは、１０〜１２０質量部とされる。
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物における結着樹脂の含有割合としては、無機粉体１００質量部に対して、通常、１〜２００質量部とされ、好ましくは、５〜１５０質量部、特に好ましくは、１０〜１２０質量部とされる。
（ｃ）特定シランカップリング剤
本発明に用いられる特定シランカップリング剤は、無機材料と有機材料の間のぬれ性を向上させ、無機粉体の樹脂への相溶性を改良する添加剤として用いられる。これにより、樹脂への分散性が向上し、無機粒子の沈降が抑制される。さらに、無機粉体と樹脂とのぬれ性が向上することにより、現像安定性が改良され、パターン直線性に優れ、現像残渣の少ないパターンを得ることが可能となる。
本発明に用いられる特定シランカップリング剤は、無機材料と有機材料の間のぬれ性を向上させ、無機粉体の樹脂への相溶性を改良する添加剤として用いられる。これにより、樹脂への分散性が向上し、無機粒子の沈降が抑制される。さらに、無機粉体と樹脂とのぬれ性が向上することにより、現像安定性が改良され、パターン直線性に優れ、現像残渣の少ないパターンを得ることが可能となる。
当該特定シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン等のビニル基含有シラン化合物；
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノ基含有シラン化合物；
３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の（メタ）アクリロキシ基含有シラン化合物；
３−グリシドキシプロピルトリメエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シラン化合物；
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のメルカプト基含有シラン化合物等が挙げられる。なお、これらの特定シランカップリング剤を２種以上用いたり、他のシランカップリング剤と併用して用いたりしてもよい。
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノ基含有シラン化合物；
３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の（メタ）アクリロキシ基含有シラン化合物；
３−グリシドキシプロピルトリメエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シラン化合物；
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のメルカプト基含有シラン化合物等が挙げられる。なお、これらの特定シランカップリング剤を２種以上用いたり、他のシランカップリング剤と併用して用いたりしてもよい。
本発明の組成物における特定シランカップリング剤の含有割合としては、無機粉体１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部であることが好ましく、さらに好ましくは０．１〜１０質量部とされる。特定シランカップリング剤の割合が過小である場合には、得られる組成物における無機粉体の分散性を十分に向上させることができない場合がある。一方、この割合が過大である場合には、逆に分散性を低下させたり、得られる組成物を用いて形成される無機粉体含有樹脂層の粘着性（タック）が過大となり、そのような無機粉体含有樹脂層を備えた転写フィルムは、取扱性が劣るものとなるおそれがある。
（ｄ）感放射線成分
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、感放射線性成分を含有する感放射線性無機粉体含有樹脂組成物であってもよい。当該感放射線性成分としては、例えば、（イ）多官能性モノマーと放射線重合開始剤との組み合わせ、（ロ）メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせなどを好ましいものとして例示することができ、上記（イ）の組み合わせのうち、多官能性（メタ）アクリレートと放射線重合開始剤との組み合わせが特に好ましい。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、感放射線性成分を含有する感放射線性無機粉体含有樹脂組成物であってもよい。当該感放射線性成分としては、例えば、（イ）多官能性モノマーと放射線重合開始剤との組み合わせ、（ロ）メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせなどを好ましいものとして例示することができ、上記（イ）の組み合わせのうち、多官能性（メタ）アクリレートと放射線重合開始剤との組み合わせが特に好ましい。
多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
上記多官能性（メタ）アクリレートの分子量としては、１００〜２，０００であることが好ましい。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物における多官能性（メタ）アクリレートの含有割合としては、無機粉体１００質量部に対して、通常、２０〜８０質量部とされ、好ましくは、３０〜６０質量部とされる。
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
上記多官能性（メタ）アクリレートの分子量としては、１００〜２，０００であることが好ましい。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物における多官能性（メタ）アクリレートの含有割合としては、無機粉体１００質量部に対して、通常、２０〜８０質量部とされ、好ましくは、３０〜６０質量部とされる。
放射線重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、ビス（N、N-ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、ビス（N、N-ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィド、メルカプトベンゾチアゾールなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明の組成物における放射線重合開始剤の含有割合としては、多官能性（メタ）アクリレート１００質量部に対して、通常、０．０１〜５０．０質量部とされ、好ましくは、０．１〜３０．０質量部とされる。
（ｅ）溶剤
本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、通常、適当な流動性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために溶剤が含有される。用いられる溶剤としては、無機粉体との親和性、結着樹脂の溶解性が良好で、無機粉体含有樹脂組成物に適度な粘性を付与することができると共に、乾燥されることにより容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。
また、特に好ましい溶剤として、標準沸点（１気圧における沸点）が１００〜２００℃であるケトン類、アルコール類およびエステル類（以下、これらを「特定溶剤」という）を挙げることができる。
かかる特定溶剤の具体例としては、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを例示することができ、これらのうち、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。これらの特定溶剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
特定溶剤以外の溶剤の具体例としては、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールなどを挙げることができる。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物における溶剤の含有割合としては、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、通常、適当な流動性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために溶剤が含有される。用いられる溶剤としては、無機粉体との親和性、結着樹脂の溶解性が良好で、無機粉体含有樹脂組成物に適度な粘性を付与することができると共に、乾燥されることにより容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。
また、特に好ましい溶剤として、標準沸点（１気圧における沸点）が１００〜２００℃であるケトン類、アルコール類およびエステル類（以下、これらを「特定溶剤」という）を挙げることができる。
かかる特定溶剤の具体例としては、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを例示することができ、これらのうち、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。これらの特定溶剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
特定溶剤以外の溶剤の具体例としては、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールなどを挙げることができる。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物における溶剤の含有割合としては、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。
無機粉体含有樹脂組成物の一例として、好ましい電極形成用の組成物の例を示せば、無機粉体として銀粉末１００質量部とガラス粉末１〜３０質量部、結着樹脂としてメタクリル酸／コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸ｎ−ブチル共重合体１０〜１５０質量部と、シランカップリング剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１〜１０質量部と、可塑剤を１〜５０質量部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルおよび／またはエチル−３−エトキシプロピオネート５〜３０質量部を含有する組成物を挙げることができる。
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、任意成分として、可塑剤、分散剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、レベリング剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤、連鎖移動剤、粘着性付与剤、表面張力調整剤などの各種添加剤が含有されてもよい。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、上記無機粉体、結着樹脂、シランカップリング財、光重合性モノマー、光重合開始剤および溶剤と必要に応じて上記任意成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、ボールミル、ビーズミルなどの混練機を用いて混練することにより調製することができる。
上記のようにして調製される無機粉体含有樹脂組成物は、塗布に適した流動性を有するペースト状の組成物であり、その粘度は、通常１００〜１，０００，０００ｃＰ、好ましくは５００〜３００，０００ｃＰとされる。
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、上記無機粉体、結着樹脂、シランカップリング財、光重合性モノマー、光重合開始剤および溶剤と必要に応じて上記任意成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、ボールミル、ビーズミルなどの混練機を用いて混練することにより調製することができる。
上記のようにして調製される無機粉体含有樹脂組成物は、塗布に適した流動性を有するペースト状の組成物であり、その粘度は、通常１００〜１，０００，０００ｃＰ、好ましくは５００〜３００，０００ｃＰとされる。
＜２＞ 転写フィルム
本発明の転写フィルムは、ＰＤＰ部材の形成工程に好適に使用される複合フィルムであって、本発明の組成物を支持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥させることにより形成される無機粉体含有樹脂層を備えてなる。
すなわち、本発明の転写フィルムは、無機粉体、結着樹脂および特定シランカップリング剤を含有する無機粉体含有樹脂層が支持フィルム上に形成されて構成されている。
また、本発明の転写フィルムは、後述するレジスト膜を支持フィルム上に形成し、その上に本発明の組成物を塗布し、乾燥してなるもの（積層膜）であってもよい。
さらに、本発明の転写フィルムは、感放射線性無機粉体含有樹脂組成物を用いて構成された、感放射線性転写フィルムであってもよい。
本発明の転写フィルムは、ＰＤＰ部材の形成工程に好適に使用される複合フィルムであって、本発明の組成物を支持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥させることにより形成される無機粉体含有樹脂層を備えてなる。
すなわち、本発明の転写フィルムは、無機粉体、結着樹脂および特定シランカップリング剤を含有する無機粉体含有樹脂層が支持フィルム上に形成されて構成されている。
また、本発明の転写フィルムは、後述するレジスト膜を支持フィルム上に形成し、その上に本発明の組成物を塗布し、乾燥してなるもの（積層膜）であってもよい。
さらに、本発明の転写フィルムは、感放射線性無機粉体含有樹脂組成物を用いて構成された、感放射線性転写フィルムであってもよい。
＜転写フィルムの構成＞
図１（イ）は、ロール状に巻回された本発明の転写フィルムを示す概略断面図であり、同図（ロ）は、当該転写フィルムの層構成を示す断面図〔（イ）の部分詳細図〕である。
図１に示す転写フィルムは、本発明の転写フィルムの一例として、複合フィルムであって、通常、支持フィルムＦ１と、この支持フィルムＦ１の表面に剥離可能に形成された無機粉体含有樹脂層Ｆ２と、この無機粉体含有樹脂層Ｆ２の表面に剥離容易に設けられたカバーフィルムＦ３とにより構成されている。カバーフィルムＦ３は、無機粉体含有樹脂層Ｆ２の性質によっては使用されない場合もある。また、支持フィルムＦ１と無機粉体含有樹脂層Ｆ２の間には、レジスト膜が形成されていてもよく、無機粉体含有樹脂層Ｆ２は異種、同種の層が２層以上積層されたものでもよい。
図１（イ）は、ロール状に巻回された本発明の転写フィルムを示す概略断面図であり、同図（ロ）は、当該転写フィルムの層構成を示す断面図〔（イ）の部分詳細図〕である。
図１に示す転写フィルムは、本発明の転写フィルムの一例として、複合フィルムであって、通常、支持フィルムＦ１と、この支持フィルムＦ１の表面に剥離可能に形成された無機粉体含有樹脂層Ｆ２と、この無機粉体含有樹脂層Ｆ２の表面に剥離容易に設けられたカバーフィルムＦ３とにより構成されている。カバーフィルムＦ３は、無機粉体含有樹脂層Ｆ２の性質によっては使用されない場合もある。また、支持フィルムＦ１と無機粉体含有樹脂層Ｆ２の間には、レジスト膜が形成されていてもよく、無機粉体含有樹脂層Ｆ２は異種、同種の層が２層以上積層されたものでもよい。
転写フィルムを構成する支持フィルムＦ１は、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムＦ１が可撓性を有することにより、ロールコーター、ブレードコーターなどを用いてペースト状の組成物（本発明の組成物）を塗布することができ、これにより、膜厚の均一な無機粉体含有樹脂層を形成することができるとともに、形成された無機粉体含有樹脂層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。
支持フィルムＦ１を構成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムＦ１の厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
支持フィルムＦ１を構成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムＦ１の厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層Ｆ２は、焼成されることによって無機焼結体（ＰＤＰ部材）となる層であり、無機粉体、結着樹脂および特定シランカップリング剤が必須成分として含有されている。
無機粉体含有樹脂層Ｆ２の厚さとしては、形成する部材の種類、無機粉体の含有率、パネルの種類やサイズによっても異なるが、例えば５〜２００μｍとされる。
無機粉体含有樹脂層Ｆ２の厚さとしては、形成する部材の種類、無機粉体の含有率、パネルの種類やサイズによっても異なるが、例えば５〜２００μｍとされる。
転写フィルムを構成するカバーフィルムＦ３は、無機粉体含有樹脂層Ｆ２の表面（基板との接触面）を保護するためのフィルムである。このカバーフィルムＦ３も可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。カバーフィルムＦ３を形成する樹脂としては、支持フィルムＦ１を形成するものとして例示した樹脂を挙げることができる。カバーフィルムＦ３の厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
＜転写フィルムの製造方法＞
本発明の転写フィルムは、支持フィルム（Ｆ１）上に無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）を形成し、当該無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）上にカバーフィルム（Ｆ３）を設ける（圧着する）ことにより製造することができる。
本発明の転写フィルムは、支持フィルム（Ｆ１）上に無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）を形成し、当該無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）上にカバーフィルム（Ｆ３）を設ける（圧着する）ことにより製造することができる。
本発明の組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば２０μｍ以上）、膜厚の膜厚の均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる観点から、ロールコーターによる塗布方法、ドクターブレードなどのブレードコーターによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによる塗布方法、ダイコーターによる塗布方法などを好ましいものとして挙げることができる。
なお、本発明の組成物が塗布される支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、無機粉体含有樹脂層を転写した後において、当該無機粉体含有樹脂層から支持フィルムを容易に剥離することができる。
支持フィルム上に形成された本発明の組成物による塗膜は、乾燥されることによって溶剤の一部または全部が除去され、転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層となる。本発明の組成物による塗膜の乾燥条件としては、例えば４０〜１５０℃で０．１〜３０分間程度とされる。乾燥後における溶剤の残存割合（無機粉体含有樹脂層中の溶剤の含有割合）は、通常１０質量％以下とされ、基板に対する粘着性および適度な形状保持性を無機粉体含有樹脂層に発揮させる観点から０．１〜５質量％であることが好ましい。
なお、本発明の組成物が塗布される支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、無機粉体含有樹脂層を転写した後において、当該無機粉体含有樹脂層から支持フィルムを容易に剥離することができる。
支持フィルム上に形成された本発明の組成物による塗膜は、乾燥されることによって溶剤の一部または全部が除去され、転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層となる。本発明の組成物による塗膜の乾燥条件としては、例えば４０〜１５０℃で０．１〜３０分間程度とされる。乾燥後における溶剤の残存割合（無機粉体含有樹脂層中の溶剤の含有割合）は、通常１０質量％以下とされ、基板に対する粘着性および適度な形状保持性を無機粉体含有樹脂層に発揮させる観点から０．１〜５質量％であることが好ましい。
上記のようにして形成された無機粉体含有樹脂層の上に設けられる（通常、熱圧着される）カバーフィルムの表面にも離型処理が施されていることが好ましい。これにより、無機粉体含有樹脂層を転写する前に、当該無機粉体含有樹脂層からカバーフィルムを容易に剥離することができる。
＜無機粉体含有樹脂層の転写（転写フィルムの使用方法）＞
支持フィルム上の無機粉体含有樹脂層は、基板の表面に一括転写される。本発明の転写フィルムによれば、このような簡単な操作によって無機粉体含有樹脂層をガラス基板上に確実に形成することができるので、ＰＤＰ部材の形成工程における工程改善（高効率化）を図ることができるとともに、形成される部材の品質の向上（例えば、電極における安定したライン抵抗の発現）を図ることができる。
＜転写フィルム＞
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を塗布し、塗膜を乾燥して得られる層が形成されてなる。転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコーターによってペースト状組成物を塗布することができ、無機粉体含有樹脂層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
支持フィルム上の無機粉体含有樹脂層は、基板の表面に一括転写される。本発明の転写フィルムによれば、このような簡単な操作によって無機粉体含有樹脂層をガラス基板上に確実に形成することができるので、ＰＤＰ部材の形成工程における工程改善（高効率化）を図ることができるとともに、形成される部材の品質の向上（例えば、電極における安定したライン抵抗の発現）を図ることができる。
＜転写フィルム＞
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を塗布し、塗膜を乾燥して得られる層が形成されてなる。転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコーターによってペースト状組成物を塗布することができ、無機粉体含有樹脂層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚の均一性に優れた膜厚の大きい（例えば１０μｍ以上）塗膜を効率よく形成することができるものであることが必要とされ、具体的には、ロールコーターによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、ダイコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによる塗布方法などを好ましいものとして挙げることができる。
なお、無機粉体含有樹脂組成物が塗布される支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、後述する転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
なお、無機粉体含有樹脂組成物が塗布される支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、後述する転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
塗膜の乾燥条件としては、例えば、５０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度とされ、乾燥後における溶剤の残存割合（無機粉体含有樹脂層中の含有率）は、通常２質量％以内とされる。
上記のようにして支持フィルム上に形成される無機粉体含有樹脂層の厚さとしては、無機粉体の含有率やサイズなどによっても異なるが、例えば５〜５００μｍとされる。
なお、無機粉体含有樹脂層の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げることができる。
上記のようにして支持フィルム上に形成される無機粉体含有樹脂層の厚さとしては、無機粉体の含有率やサイズなどによっても異なるが、例えば５〜５００μｍとされる。
なお、無機粉体含有樹脂層の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げることができる。
＜３＞ＰＤＰの製造方法
本発明のＰＤＰの製造方法は、本発明の転写フィルムを用いて、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくとも一種のパネル部材を形成することを特徴とする。
本発明のＰＤＰの製造方法は、本発明の転写フィルムを用いて、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくとも一種のパネル部材を形成することを特徴とする。
＜ＰＤＰの製造方法Ｉ（誘電体層の形成）＞
本発明のＰＤＰの製造方法Ｉは、本発明の転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層を基板の表面に転写し、転写された無機粉体含有樹脂層を焼成することにより、前記基板の表面に誘電体層を形成する工程を含む。
本発明のＰＤＰの製造方法Ｉは、本発明の転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層を基板の表面に転写し、転写された無機粉体含有樹脂層を焼成することにより、前記基板の表面に誘電体層を形成する工程を含む。
図１に示したような構成の転写フィルムによる無機粉体含有樹脂層の転写工程の一例を示せば以下のとおりである。
１．ロール上に巻回された状態の転写フィルムを基板の面積に応じた大きさに裁断する。
２．裁断した転写フィルムにおける無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）表面からカバーフィルム（Ｆ３）を剥離した後、基板の表面に無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせる。
３．基板に重ね合わされた転写フィルム上に加熱ローラを移動させて熱圧着させる。
４．熱圧着により基板に固定された無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）から支持フィルム（Ｆ１）を剥離除去する。
上記のような操作により、支持フィルム（Ｆ１）上の無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）が基板上に転写される。ここで転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が６０〜１２０℃、加熱ローラによるロール圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．２〜１０．０ｍ／分とされる。このような操作（転写工程）は、ラミネータ装置により行うことができる。なお、基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては例えば４０〜１００℃とすることができる。
１．ロール上に巻回された状態の転写フィルムを基板の面積に応じた大きさに裁断する。
２．裁断した転写フィルムにおける無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）表面からカバーフィルム（Ｆ３）を剥離した後、基板の表面に無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせる。
３．基板に重ね合わされた転写フィルム上に加熱ローラを移動させて熱圧着させる。
４．熱圧着により基板に固定された無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）から支持フィルム（Ｆ１）を剥離除去する。
上記のような操作により、支持フィルム（Ｆ１）上の無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）が基板上に転写される。ここで転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が６０〜１２０℃、加熱ローラによるロール圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．２〜１０．０ｍ／分とされる。このような操作（転写工程）は、ラミネータ装置により行うことができる。なお、基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては例えば４０〜１００℃とすることができる。
基板の表面に形成転写された無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）は、焼成されて無機焼結体（誘電体層）となる。ここに、焼成方法としては、無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）が転写形成された基板を高温雰囲気下に配置する方法を挙げることができる。これにより、無機粉体含有樹脂層（Ｆ２）に含有されている有機物質（例えば結着樹脂、残留溶剤、非イオン性界面活性剤、各種添加剤）が分解されて除去され、無機粉体が溶融して燒結する。ここに、焼成温度としては、基板の溶融温度、無機粉体含有樹脂層中の構成物質などによっても異なるが、例えば３００〜８００℃とされ、さらに好ましくは４００〜６２０℃とされる。
＜ＰＤＰの製造方法II（フォトレジスト法を利用したＰＤＰ部材の形成）＞
本発明のＰＤＰの製造方法IIは、本発明の転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、転写された無機粉体含有樹脂層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、当該無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応するパターンを形成し、当該パターンを焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含む。
レジスト膜の形成は、レジスト膜と本発明の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層との積層膜を支持フィルム上に形成した本発明の転写フィルムを用いる方法により、無機粉体含有樹脂層と共に基板上に一括転写して形成してもよい。この方法は、フォトレジスト法を利用した好ましい実施態様であるＰＤＰの製造方法III として後述する。
本発明のＰＤＰの製造方法IIは、本発明の転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、転写された無機粉体含有樹脂層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、当該無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応するパターンを形成し、当該パターンを焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含む。
レジスト膜の形成は、レジスト膜と本発明の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層との積層膜を支持フィルム上に形成した本発明の転写フィルムを用いる方法により、無機粉体含有樹脂層と共に基板上に一括転写して形成してもよい。この方法は、フォトレジスト法を利用した好ましい実施態様であるＰＤＰの製造方法III として後述する。
以下、ＰＤＰのパネル部材である「電極」を背面基板の表面に形成する方法を例にとって説明する。この方法においては、〔１〕無機粉体含有樹脂層の転写工程、〔２〕レジスト膜の形成工程、〔３〕レジスト膜の露光工程、〔４〕レジスト膜の現像工程、〔５〕無機粉体含有樹脂層のエッチング工程、〔６〕無機粉体含有樹脂パターンの焼成工程により、基板の表面に電極が形成される。
なお、本発明において、「無機粉体含有樹脂層を基板上に転写する」態様としては、前記ガラス基板１１の表面に転写するような様態のほかに、前記誘電体層１３の表面に転写するような様態も包括されるものとする。
なお、本発明において、「無機粉体含有樹脂層を基板上に転写する」態様としては、前記ガラス基板１１の表面に転写するような様態のほかに、前記誘電体層１３の表面に転写するような様態も包括されるものとする。
〔１〕無機粉体含有樹脂層の転写工程：
無機粉体含有樹脂層の転写工程一例を示せば以下のとおりである。
転写フィルムのカバーフィルムを剥離した後、基板表面に、無機粉体含有樹脂層の表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、無機粉体含有樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に無機粉体含有樹脂層が転写されて密着した状態となる。ここで転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が８０〜１４０℃、加熱ローラによるローラ圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ／分を示すことができる。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては例えば４０〜１００℃とすることができる。
無機粉体含有樹脂層の転写工程一例を示せば以下のとおりである。
転写フィルムのカバーフィルムを剥離した後、基板表面に、無機粉体含有樹脂層の表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、無機粉体含有樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に無機粉体含有樹脂層が転写されて密着した状態となる。ここで転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が８０〜１４０℃、加熱ローラによるローラ圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ／分を示すことができる。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては例えば４０〜１００℃とすることができる。
〔２〕レジスト膜の形成工程：
この工程においては、転写された無機粉体含有樹脂層の表面にレジスト膜を形成する。このレジスト膜を構成するレジストとしてはポジ型レジストおよびネガ型レジストのいずれであってもよい。本発明に用いる好ましいレジストの一例としては、上述した感放射線性成分である多官能性（メタ）アクリレートと放射線重合開始剤と、バインダー樹脂としてアクリル樹脂を含有するレジスト組成物を挙げることができる。
レジスト膜は、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法など種々の方法によってレジストを塗布した後、塗膜を乾燥することにより形成することができる。ここに塗膜の乾燥温度は、通常６０〜１３０℃程度とされる。
また、支持フィルム上に形成されたレジスト膜を無機粉体含有樹脂層の表面に転写することによって形成してもよい。このような形成方法によれば、レジスト膜の形成工程数を減らすことができるとともに、得られるレジストの膜厚均一性が優れたものとなるため、当該レジスト膜の現像処理および無機粉体含有樹脂層のエッチング処理が均一に行われ、形成される隔壁の高さおよび形状が均一なものとなる。
レジスト膜の膜厚としては、通常０．１〜４０μｍとされ、好ましくは０．５〜２０μｍとされる。
この工程においては、転写された無機粉体含有樹脂層の表面にレジスト膜を形成する。このレジスト膜を構成するレジストとしてはポジ型レジストおよびネガ型レジストのいずれであってもよい。本発明に用いる好ましいレジストの一例としては、上述した感放射線性成分である多官能性（メタ）アクリレートと放射線重合開始剤と、バインダー樹脂としてアクリル樹脂を含有するレジスト組成物を挙げることができる。
レジスト膜は、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法など種々の方法によってレジストを塗布した後、塗膜を乾燥することにより形成することができる。ここに塗膜の乾燥温度は、通常６０〜１３０℃程度とされる。
また、支持フィルム上に形成されたレジスト膜を無機粉体含有樹脂層の表面に転写することによって形成してもよい。このような形成方法によれば、レジスト膜の形成工程数を減らすことができるとともに、得られるレジストの膜厚均一性が優れたものとなるため、当該レジスト膜の現像処理および無機粉体含有樹脂層のエッチング処理が均一に行われ、形成される隔壁の高さおよび形状が均一なものとなる。
レジスト膜の膜厚としては、通常０．１〜４０μｍとされ、好ましくは０．５〜２０μｍとされる。
〔３〕レジスト膜の露光工程：
この工程においては、無機粉体含有樹脂層上に形成されたレジスト膜の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射（露光）して、レジストパターンの潜像を形成する。
ここに、紫外線照射装置としては、前記フォトリソグラフィー法で使用されている紫外線照射装置、半導体および液晶表示装置を製造する際に使用されている露光装置など特に限定されるものではない。
なお、レジスト膜を転写により形成した場合には、レジスト膜上に被覆されている支持フィルムを剥離しない状態で露光工程を行うのが好ましい。
この工程においては、無機粉体含有樹脂層上に形成されたレジスト膜の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射（露光）して、レジストパターンの潜像を形成する。
ここに、紫外線照射装置としては、前記フォトリソグラフィー法で使用されている紫外線照射装置、半導体および液晶表示装置を製造する際に使用されている露光装置など特に限定されるものではない。
なお、レジスト膜を転写により形成した場合には、レジスト膜上に被覆されている支持フィルムを剥離しない状態で露光工程を行うのが好ましい。
〔４〕レジスト膜の現像工程
この工程においては、露光されたレジスト膜を現像処理することにより、レジストパターン（潜像）を顕在化させる。
ここに、現像処理条件としては、レジスト膜の種類などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、現像装置などを適宜選択することができる。
この現像工程により、レジスト残留部とレジスト除去部とから構成されるレジストパターン（露光用マスクに対応するパターン）が形成される。
このレジストパターンは、次工程（エッチング工程）におけるエッチングマスクとして作用するものであり、レジスト残留部の構成材料（光硬化されたレジスト）は、無機粉体含有樹脂層の構成材料よりもエッチング液に対する溶解速度が小さいことが必要である。
この工程においては、露光されたレジスト膜を現像処理することにより、レジストパターン（潜像）を顕在化させる。
ここに、現像処理条件としては、レジスト膜の種類などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、現像装置などを適宜選択することができる。
この現像工程により、レジスト残留部とレジスト除去部とから構成されるレジストパターン（露光用マスクに対応するパターン）が形成される。
このレジストパターンは、次工程（エッチング工程）におけるエッチングマスクとして作用するものであり、レジスト残留部の構成材料（光硬化されたレジスト）は、無機粉体含有樹脂層の構成材料よりもエッチング液に対する溶解速度が小さいことが必要である。
〔５〕無機粉体含有樹脂層のエッチング工程：
この工程においては、無機粉体含有樹脂層をエッチング処理し、レジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂パターンを形成する。
すなわち、無機粉体含有樹脂層のうち、レジストパターンのレジスト除去部に対応する部分がエッチング液に溶解されて選択的に除去される。そして、無機粉体含有樹脂層における所定の部分が完全に除去されて基板が露出する。これにより、樹脂層残留部と樹脂層除去部とから構成される無機粉体含有樹脂パターンが形成される。
ここに、エッチング処理条件としては、無機粉体含有樹脂層の種類などに応じて、エッチング液の種類・組成・濃度、処理時間、処理温度、処理方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、処理装置などを適宜選択することができる。なお、エッチング液として、現像工程で使用した現像液と同一の溶液を使用することができるよう、レジスト膜および無機粉体含有樹脂層の種類を選択することにより、現像工程とエッチング工程とを連続的に実施することが可能となり、工程の簡略化による製造効率の向上を図ることができる。
ここに、レジストパターンを構成するレジスト残留部は、エッチング処理の際に徐々に溶解され、無機粉体含有樹脂パターンが形成された段階（エッチング処理の終了時）で完全に除去されるものであることが好ましい。なお、エッチング処理後にレジスト残留部の一部または全部が残留していても、当該レジスト残留部は、次の焼成工程で除去される。
この工程においては、無機粉体含有樹脂層をエッチング処理し、レジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂パターンを形成する。
すなわち、無機粉体含有樹脂層のうち、レジストパターンのレジスト除去部に対応する部分がエッチング液に溶解されて選択的に除去される。そして、無機粉体含有樹脂層における所定の部分が完全に除去されて基板が露出する。これにより、樹脂層残留部と樹脂層除去部とから構成される無機粉体含有樹脂パターンが形成される。
ここに、エッチング処理条件としては、無機粉体含有樹脂層の種類などに応じて、エッチング液の種類・組成・濃度、処理時間、処理温度、処理方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、処理装置などを適宜選択することができる。なお、エッチング液として、現像工程で使用した現像液と同一の溶液を使用することができるよう、レジスト膜および無機粉体含有樹脂層の種類を選択することにより、現像工程とエッチング工程とを連続的に実施することが可能となり、工程の簡略化による製造効率の向上を図ることができる。
ここに、レジストパターンを構成するレジスト残留部は、エッチング処理の際に徐々に溶解され、無機粉体含有樹脂パターンが形成された段階（エッチング処理の終了時）で完全に除去されるものであることが好ましい。なお、エッチング処理後にレジスト残留部の一部または全部が残留していても、当該レジスト残留部は、次の焼成工程で除去される。
〔６〕無機粉体含有樹脂パターンの焼成工程：
この工程においては、無機粉体含有樹脂パターンを焼成処理して電極を形成する。これにより、樹脂層残留部の有機物質が焼失して電極が形成される。
ここに、焼成処理の温度としては、樹脂層残留部の有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常４００〜６００℃とされる。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間とされる。
この工程においては、無機粉体含有樹脂パターンを焼成処理して電極を形成する。これにより、樹脂層残留部の有機物質が焼失して電極が形成される。
ここに、焼成処理の温度としては、樹脂層残留部の有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常４００〜６００℃とされる。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間とされる。
＜ＰＤＰの製造方法IIにおける好ましい実施態様＞
フォトレジスト法を利用した本発明のＰＤＰの製造方法IIにおける特に好ましい方法として、下記（１）〜（３）の工程による形成方法を挙げることができる。
フォトレジスト法を利用した本発明のＰＤＰの製造方法IIにおける特に好ましい方法として、下記（１）〜（３）の工程による形成方法を挙げることができる。
（１）支持フィルム上にレジスト膜を形成した後、当該レジスト膜上に本発明の無機粉体含有樹脂組成物を塗布、乾燥することにより無機粉体含有樹脂層を積層形成する。ここに、レジスト膜および無機粉体含有樹脂層を形成する際には、ロールコーターなどを使用することができ、これにより膜厚の均一性に優れた積層膜を支持フィルム上に形成することができる。
（２）支持フィルム上に形成されたレジスト膜と無機粉体含有樹脂層との積層膜を基板上に転写する。ここに、転写条件としては前記「無機粉体含有樹脂層の転写工程」における条件と同様でよい。
（３）前記「レジスト膜の露光工程」、「レジスト膜の現像工程」、「無機粉体含有樹脂層のエッチング工程」および「無機粉体含有樹脂パターンの焼成工程」と同様の操作を行う。その際、先に記載したように、レジスト膜の現像液と無機粉体含有樹脂層のエッチング液とを同一の溶液とし、「レジスト膜の現像工程」と「無機粉体含有樹脂層のエッチング工程」とを連続的に実施することが好ましい。
以上のような方法によれば、無機粉体含有樹脂層とレジスト膜とが基板上に一括転写されるので、工程の簡略化により製造効率を更に向上させることができる。
以上のような方法によれば、無機粉体含有樹脂層とレジスト膜とが基板上に一括転写されるので、工程の簡略化により製造効率を更に向上させることができる。
＜ＰＤＰの製造方法III （感放射線性転写フィルムを用いたパネル部材の形成）＞
本発明のＰＤＰの製造方法III は、本発明の感放射線性転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、当該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成し、当該パターンを焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含む。
この方法においては、例えば電極の形成方法を例に採ると、前記「無機粉体含有樹脂層の転写工程」の後、「レジスト膜の露光工程」、「レジスト膜の現像工程」に準じた条件でパターンを形成し、その後、「無機粉体含有樹脂パターンの焼成工程」により、基板の表面に電極が形成される。
本発明のＰＤＰの製造方法III は、本発明の感放射線性転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、当該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成し、当該パターンを焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含む。
この方法においては、例えば電極の形成方法を例に採ると、前記「無機粉体含有樹脂層の転写工程」の後、「レジスト膜の露光工程」、「レジスト膜の現像工程」に準じた条件でパターンを形成し、その後、「無機粉体含有樹脂パターンの焼成工程」により、基板の表面に電極が形成される。
以上、ＰＤＰの製造方法Ｉ〜III の各工程説明において、ＰＤＰ部材として「電極」を形成する方法について説明したが、この方法に準じてＰＤＰを構成する誘電体層、隔壁、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスなどを形成することができる。
また、ＰＤＰ用電極において、バス電極は、一般に、暗色層（反射防止層）を下層に、白色層を上層に有する二層構造の電極構造を有する。当該バス電極を形成する場合、電極下層の暗色層（反射防止層）を本発明の無機粉体含有樹脂組成物を用いて形成し、上層の白色層を、本発明の無機粉体含有樹脂組成物から特定シランカップリング剤を抜いた組成物を用いて形成すると、パターン形状に優れると共に、低抵抗値を有する電極が得られ、特に好ましい。
また、ＰＤＰ用電極において、バス電極は、一般に、暗色層（反射防止層）を下層に、白色層を上層に有する二層構造の電極構造を有する。当該バス電極を形成する場合、電極下層の暗色層（反射防止層）を本発明の無機粉体含有樹脂組成物を用いて形成し、上層の白色層を、本発明の無機粉体含有樹脂組成物から特定シランカップリング剤を抜いた組成物を用いて形成すると、パターン形状に優れると共に、低抵抗値を有する電極が得られ、特に好ましい。
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下について「部」は「質量部」を示す。
＜実施例１＞
１）反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物１の調製：
（ａ）無機粉体としてニッケル粉末（平均粒径０．２μｍ）１００部、Ｂｉ２Ｏ３−Ｏ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラスフリット（軟化点５６０℃、平均粒径２．０μｍ）１０部、（ｂ）結着樹脂としてメタクリル酸ｎ−ブチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸／コハク酸（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）＝３０／１５／２０／１５／２０（質量％）共重合体（質量平均分子量：９０，０００）８０部、（ｃ）特定シランカップリング剤として、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３部、可塑剤としてトリメチロールプロパントリアクリレート４０部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル２０部を、分散機を用いて混練することにより反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物１を調製した。
２）導電膜形成用無機粉体樹脂組成物の調製：
導電性粒子として銀粉末（平均粒径２．２μｍ）１００部、Ｂｉ２Ｏ３−Ｏ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラスフリット（軟化点５２０℃、平均粒径２．０μｍ）１０部、結着樹脂としてメタクリル酸ベンジル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸／コハク酸（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）＝２０／２０／２０／２０／２０（質量％）共重合体（質量平均分子量：９０，０００）１５部、可塑剤としてトリプロピレングリコールジアクリレート１０部、分散剤としてオレイン酸１部、溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル９部を、分散機を用いて混練することにより導電膜形成用無機粉体樹脂組成物を調製した。
３）レジスト組成物１の調製
バインダー樹脂としてメタクリル酸ベンジル／メタクリル酸＝７５／２５（質量％）共重合体（質量平均分子量３０，０００）６０部、多官能性モノマーとしてトリプロピレングリコールジアクリレート４０部、光重合開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２０部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を混練りした後、カートリッジフィルター（２μｍ径）でフィルタリングすることにより、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物（以下、「レジスト組成物１」という。）を調製した。
＜実施例１＞
１）反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物１の調製：
（ａ）無機粉体としてニッケル粉末（平均粒径０．２μｍ）１００部、Ｂｉ２Ｏ３−Ｏ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラスフリット（軟化点５６０℃、平均粒径２．０μｍ）１０部、（ｂ）結着樹脂としてメタクリル酸ｎ−ブチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸／コハク酸（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）＝３０／１５／２０／１５／２０（質量％）共重合体（質量平均分子量：９０，０００）８０部、（ｃ）特定シランカップリング剤として、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３部、可塑剤としてトリメチロールプロパントリアクリレート４０部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル２０部を、分散機を用いて混練することにより反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物１を調製した。
２）導電膜形成用無機粉体樹脂組成物の調製：
導電性粒子として銀粉末（平均粒径２．２μｍ）１００部、Ｂｉ２Ｏ３−Ｏ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラスフリット（軟化点５２０℃、平均粒径２．０μｍ）１０部、結着樹脂としてメタクリル酸ベンジル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸／コハク酸（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）＝２０／２０／２０／２０／２０（質量％）共重合体（質量平均分子量：９０，０００）１５部、可塑剤としてトリプロピレングリコールジアクリレート１０部、分散剤としてオレイン酸１部、溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル９部を、分散機を用いて混練することにより導電膜形成用無機粉体樹脂組成物を調製した。
３）レジスト組成物１の調製
バインダー樹脂としてメタクリル酸ベンジル／メタクリル酸＝７５／２５（質量％）共重合体（質量平均分子量３０，０００）６０部、多官能性モノマーとしてトリプロピレングリコールジアクリレート４０部、光重合開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２０部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を混練りした後、カートリッジフィルター（２μｍ径）でフィルタリングすることにより、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物（以下、「レジスト組成物１」という。）を調製した。
４）反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物１の分散性評価
グラインドゲージ（ＯＢＩＳＨＩ ＫＥＩＫＩ（株）社製０〜２５μm）を用い、ＪＩＳ Ｋ５６００−２−５に準じて反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物１中の最大粒度を測定した。その結果、８μｍであり、得られた組成物は分散性に優れたものであった。また、この組成物を室温にて７２時間、静置したところ、わずかな沈降しか観測されず、分散安定性に優れたものであった。
グラインドゲージ（ＯＢＩＳＨＩ ＫＥＩＫＩ（株）社製０〜２５μm）を用い、ＪＩＳ Ｋ５６００−２−５に準じて反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物１中の最大粒度を測定した。その結果、８μｍであり、得られた組成物は分散性に優れたものであった。また、この組成物を室温にて７２時間、静置したところ、わずかな沈降しか観測されず、分散安定性に優れたものであった。
５）電極形成用転写フィルムの作成：
下記（ａ）〜（ｃ）の操作により、レジスト膜、導電膜形成用ペースト層および反射防止膜形成用ペースト層を有する積層膜が支持フィルム上に形成されてなる本発明の転写フィルムを作製した。
（ａ）３）で調製したレジスト組成物１を予め離型処理した膜厚３８μｍのＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム上にロールコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ５μｍのレジスト膜を支持フィルム上に形成した。
（ｂ）２）で調製した導電膜形成用ペースト組成物を（ａ）で作成したレジスト膜上にロールコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、膜厚２０μｍの導電膜形成用ペースト層をレジスト膜上に形成した。
（ｃ）１）で調製した反射防止膜形成用ペースト組成物を（ｂ）で形成した導電膜形成用ペースト層上にロールコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、膜厚８μｍの反射防止膜形成用ペースト層を導電膜形成用ペースト層上に形成した。
下記（ａ）〜（ｃ）の操作により、レジスト膜、導電膜形成用ペースト層および反射防止膜形成用ペースト層を有する積層膜が支持フィルム上に形成されてなる本発明の転写フィルムを作製した。
（ａ）３）で調製したレジスト組成物１を予め離型処理した膜厚３８μｍのＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム上にロールコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ５μｍのレジスト膜を支持フィルム上に形成した。
（ｂ）２）で調製した導電膜形成用ペースト組成物を（ａ）で作成したレジスト膜上にロールコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、膜厚２０μｍの導電膜形成用ペースト層をレジスト膜上に形成した。
（ｃ）１）で調製した反射防止膜形成用ペースト組成物を（ｂ）で形成した導電膜形成用ペースト層上にロールコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、膜厚８μｍの反射防止膜形成用ペースト層を導電膜形成用ペースト層上に形成した。
６）電極形成用転写フィルムの転写：
予めホットプレート上で８０℃に加熱されたガラス基板の表面に、反射防止膜形成用ペースト層の表面が当接されるよう上記５）で作製した転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラに熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を１００℃、ロール圧を２ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。熱圧着処理の終了後、転写フィルム（レジスト膜の表面）から支持フィルムを剥離除去し、当該電極形成用無機粉体含有樹脂層の転写を完了した。
予めホットプレート上で８０℃に加熱されたガラス基板の表面に、反射防止膜形成用ペースト層の表面が当接されるよう上記５）で作製した転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラに熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を１００℃、ロール圧を２ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。熱圧着処理の終了後、転写フィルム（レジスト膜の表面）から支持フィルムを剥離除去し、当該電極形成用無機粉体含有樹脂層の転写を完了した。
７）レジスト膜の露光工程
ガラス基板上に形成された電極形成用無機粉体含有樹脂層のレジスト膜に対して、ライン幅１００μｍ、スペース幅４００μｍのストライプ状ネガ用露光用マスクを介して、超高圧水銀灯によりｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）の混合光を照射した。その際の露光量は、３６５ｎｍのセンサーで測定した照度換算で２００ｍＪ／ｃｍ2 とした。
８）現像工程・エッチング工程
露光処理されたレジスト膜に対して、液温３０℃の０．３質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法による現像処理と、引き続き無機粉体含有樹脂層のエッチング処理を、併せて９０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。これにより、レジストパターンを形成し、その後、当該レジストパターンに対応した無機粉体含有樹脂パターンを形成した。得られた無機粉体含有樹脂パターンを光学顕微鏡にて観察したところ、レジスト未露光部の基板上に現像残さは認められず、かつパターンの欠けは認められなかった。
ガラス基板上に形成された電極形成用無機粉体含有樹脂層のレジスト膜に対して、ライン幅１００μｍ、スペース幅４００μｍのストライプ状ネガ用露光用マスクを介して、超高圧水銀灯によりｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）の混合光を照射した。その際の露光量は、３６５ｎｍのセンサーで測定した照度換算で２００ｍＪ／ｃｍ2 とした。
８）現像工程・エッチング工程
露光処理されたレジスト膜に対して、液温３０℃の０．３質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法による現像処理と、引き続き無機粉体含有樹脂層のエッチング処理を、併せて９０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。これにより、レジストパターンを形成し、その後、当該レジストパターンに対応した無機粉体含有樹脂パターンを形成した。得られた無機粉体含有樹脂パターンを光学顕微鏡にて観察したところ、レジスト未露光部の基板上に現像残さは認められず、かつパターンの欠けは認められなかった。
９）焼成工程
無機粉体含有樹脂パターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で５９０℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これによりガラス基板の表面にパターン幅１００μｍ、厚み１０μｍの電極が形成されてなるパネル材料を得ることができた。形成された電極パターンを、顕微鏡を用いて観察したところ、そのパターンは直線性に優れたものであった。
無機粉体含有樹脂パターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で５９０℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これによりガラス基板の表面にパターン幅１００μｍ、厚み１０μｍの電極が形成されてなるパネル材料を得ることができた。形成された電極パターンを、顕微鏡を用いて観察したところ、そのパターンは直線性に優れたものであった。
＜実施例２＞
１）反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物２の調製：
（ａ）無機粉体としてニッケル粉末（平均粒径０．５μｍ）１００部、銀粉末（平均粒径９．５μｍ）１０部、Ｂｉ２Ｏ３−Ｏ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラスフリット（軟化点５６０℃、平均粒径２．０μｍ）２０部、（ｂ）結着樹脂としてメタクリル酸ｎ−ブチル／メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸／コハク酸（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）＝２０／２０／２０／１０／３０（質量％）共重合体（質量平均分子量：１００，０００）１００部、（ｃ）特定シランカップリング剤として、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１部、可塑剤としてペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０部、分散剤としてオレイン酸３部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０部を、分散機を用いて混練することにより反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物２を調製した。
１）反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物２の調製：
（ａ）無機粉体としてニッケル粉末（平均粒径０．５μｍ）１００部、銀粉末（平均粒径９．５μｍ）１０部、Ｂｉ２Ｏ３−Ｏ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラスフリット（軟化点５６０℃、平均粒径２．０μｍ）２０部、（ｂ）結着樹脂としてメタクリル酸ｎ−ブチル／メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸／コハク酸（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）＝２０／２０／２０／１０／３０（質量％）共重合体（質量平均分子量：１００，０００）１００部、（ｃ）特定シランカップリング剤として、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１部、可塑剤としてペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０部、分散剤としてオレイン酸３部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１０部を、分散機を用いて混練することにより反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物２を調製した。
２）レジスト組成物の調製
バインダー樹脂としてメタクリル酸ベンジル／メタクリル酸シクロヘキシル／メタクリル酸＝５０／３５／１５（質量％）共重合体（質量平均分子量：３０，０００）６０部、多官能性モノマーとしてポリプロピレングリコールジアクリレート２０部、トリメチロールプロパントリアクリレート１０部、光重合開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン１０部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を混練りした後、カートリッジフィルター（２μｍ径）でフィルタリングすることにより、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物（以下、「レジスト組成物２」という。）を調製した。
バインダー樹脂としてメタクリル酸ベンジル／メタクリル酸シクロヘキシル／メタクリル酸＝５０／３５／１５（質量％）共重合体（質量平均分子量：３０，０００）６０部、多官能性モノマーとしてポリプロピレングリコールジアクリレート２０部、トリメチロールプロパントリアクリレート１０部、光重合開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン１０部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を混練りした後、カートリッジフィルター（２μｍ径）でフィルタリングすることにより、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物（以下、「レジスト組成物２」という。）を調製した。
３）反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物２の分散性評価
グラインドゲージ（ＯＢＩＳＨＩ ＫＥＩＫＩ（株）社製０〜２５μm）を用い、ＪＩＳ Ｋ５６００−２−５に準じて反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物２中の最大粒度を測定した。その結果、８μｍであり、得られた組成物は分散性に優れたものであった。また、この組成物を室温にて７２時間、静置したところ、わずかな沈降しか観測されず、分散安定性に優れたものであった。
グラインドゲージ（ＯＢＩＳＨＩ ＫＥＩＫＩ（株）社製０〜２５μm）を用い、ＪＩＳ Ｋ５６００−２−５に準じて反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物２中の最大粒度を測定した。その結果、８μｍであり、得られた組成物は分散性に優れたものであった。また、この組成物を室温にて７２時間、静置したところ、わずかな沈降しか観測されず、分散安定性に優れたものであった。
４）電極形成用転写フィルムの作成：
実施例１において、反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物１の代わりに反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物２を、レジスト組成物１の代わりにレジスト組成物２を用いた以外は実施例１の５）と同様にして、レジスト膜、導電膜形成用ペースト層および反射防止膜形成用ペースト層を有する積層膜が支持フィルム上に形成されてなる本発明の転写フィルムを作製した。
実施例１において、反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物１の代わりに反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物２を、レジスト組成物１の代わりにレジスト組成物２を用いた以外は実施例１の５）と同様にして、レジスト膜、導電膜形成用ペースト層および反射防止膜形成用ペースト層を有する積層膜が支持フィルム上に形成されてなる本発明の転写フィルムを作製した。
５）電極の形成
上記４）で得られた転写フィルムを用いた以外は実施例１の６）〜９）と同様にして、ガラス基板の表面にパターン幅１００μｍ、厚み１０μｍの電極を形成した。形成された電極パターンを、顕微鏡を用いて観察したところ、そのパターンは直線性に優れたものであった。
上記４）で得られた転写フィルムを用いた以外は実施例１の６）〜９）と同様にして、ガラス基板の表面にパターン幅１００μｍ、厚み１０μｍの電極を形成した。形成された電極パターンを、顕微鏡を用いて観察したところ、そのパターンは直線性に優れたものであった。
＜比較例１＞
１）反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物３の調製：
（ａ）無機粉体としてニッケル粉末（平均粒径０．２μｍ）１００部、Ｂｉ２Ｏ３−Ｏ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラスフリット（軟化点５６０℃、平均粒径２．０μｍ）１０部、（ｂ）結着樹脂としてメタクリル酸ｎ−ブチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸／コハク酸（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）＝３０／１５／２０／１５／２０（質量％）共重合体（質量平均分子量：６０，０００）８０部、可塑剤としてトリメチロールプロパントリアクリレート４０部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル２０部を、分散機を用いて混練することにより反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物３を調製した。
１）反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物３の調製：
（ａ）無機粉体としてニッケル粉末（平均粒径０．２μｍ）１００部、Ｂｉ２Ｏ３−Ｏ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系ガラスフリット（軟化点５６０℃、平均粒径２．０μｍ）１０部、（ｂ）結着樹脂としてメタクリル酸ｎ−ブチル／メタクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル／メタクリル酸／コハク酸（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）＝３０／１５／２０／１５／２０（質量％）共重合体（質量平均分子量：６０，０００）８０部、可塑剤としてトリメチロールプロパントリアクリレート４０部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル２０部を、分散機を用いて混練することにより反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物３を調製した。
２）反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物３の分散性評価
グラインドゲージ（ＯＢＩＳＨＩ ＫＥＩＫＩ（株）社製０〜２５μm）を用い、ＪＩＳ Ｋ５６００−２−５に準じて反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物３中の最大粒度を測定した。その結果、１０μｍであり、得られた組成物は分散性に劣るものであった。また、この組成物３を室温にて７２時間、静置したところ激しい沈降が観測され、分散安定性に劣るものであった。
グラインドゲージ（ＯＢＩＳＨＩ ＫＥＩＫＩ（株）社製０〜２５μm）を用い、ＪＩＳ Ｋ５６００−２−５に準じて反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物３中の最大粒度を測定した。その結果、１０μｍであり、得られた組成物は分散性に劣るものであった。また、この組成物３を室温にて７２時間、静置したところ激しい沈降が観測され、分散安定性に劣るものであった。
３）無機粉体含有樹脂パターンの形成
反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物３、導電膜形成用無機粉体樹脂組成物、レジスト組成物１を用いて実施例１と同様に積層フィルムを作成し、転写、露光、現像、焼成の工程を経て無機粉体含有樹脂パターンを形成した。得られた無機粉体含有樹脂パターンを光学顕微鏡にて観察したところ、二次凝集物によるパターンの欠けやショートが観察された。さらに、得られた無機粉体含有樹脂パターンを実施例１と同様に焼成処理を行ったが、得られた電極パターンは直線性に劣るものであった。
反射防止膜形成用無機粉体含有樹脂組成物３、導電膜形成用無機粉体樹脂組成物、レジスト組成物１を用いて実施例１と同様に積層フィルムを作成し、転写、露光、現像、焼成の工程を経て無機粉体含有樹脂パターンを形成した。得られた無機粉体含有樹脂パターンを光学顕微鏡にて観察したところ、二次凝集物によるパターンの欠けやショートが観察された。さらに、得られた無機粉体含有樹脂パターンを実施例１と同様に焼成処理を行ったが、得られた電極パターンは直線性に劣るものであった。
１ ガラス基板 ２ ガラス基板
３ 隔壁 ４ 透明電極
５ バス電極 ６ アドレス電極
７ 蛍光物質 ８ 誘電体層
９ 誘電体層 １０ 保護層
Ｆ１ 支持フィルム Ｆ２ 無機粉体含有樹脂層
Ｆ３ カバーフィルム
３ 隔壁 ４ 透明電極
５ バス電極 ６ アドレス電極
７ 蛍光物質 ８ 誘電体層
９ 誘電体層 １０ 保護層
Ｆ１ 支持フィルム Ｆ２ 無機粉体含有樹脂層
Ｆ３ カバーフィルム
Claims (13)
- （ａ）無機粉体、
（ｂ）結着樹脂、並びに
（ｃ）下記式（１）で表される化合物、当該化合物の加水分解物および当該化合物の加水分解縮合物から選ばれる少なくとも一種
を含有することを特徴とする、無機粉体含有樹脂組成物。
- さらに（ｄ）感放射線成分を含有する、請求項１記載の無機粉体含有樹脂組成物。
- 請求項１乃至２記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を有することを特徴とする、転写フィルム。
- レジスト膜と、請求項１記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層との積層を有することを特徴とする、転写フィルム。
- 積層が、レジスト膜と無機粉体含有樹脂層との間に、（ｃ）成分を含有しない無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を有する積層である、請求項４記載の転写フィルム。
- 請求項１記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、転写された無機粉体含有樹脂層を焼成することにより、前記基板上に誘電体層を形成する工程を有することを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 請求項１記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、転写された無機粉体含有樹脂層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、当該無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応するパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 転写された無機粉体含有樹脂層上に、（ｃ）成分を含有しない無機粉体含有樹脂組成物から得られる第二の無機粉体含有樹脂層を形成し、当該第二の無機粉体含有樹脂層上にレジスト膜を形成することを特徴とする、請求項７記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- パネル部材が電極であって、基板上に転写された無機粉体含有樹脂層により暗色層（反射防止層）を形成し、第二の無機粉体含有樹脂層により白色層を形成することを特徴とする、請求項８記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- レジスト膜と、請求項１記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層との積層膜を支持フィルム上に形成し、支持フィルム上に形成された積層膜を基板上に、基板と無機粉体含有樹脂層とが接するように転写し、当該積層膜を構成するレジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、当該無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応するパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 積層膜におけるレジスト膜と請求項１記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層との間に、（ｃ）成分を含有しない無機粉体含有樹脂組成物から得られる第二の無機粉体含有樹脂層を有することを特徴とする、請求項１０記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- パネル部材が電極であって、請求項１記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層により暗色層（反射防止層）を形成し、第二の無機粉体含有樹脂層により白色層を形成することを特徴とする、請求項１１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 請求項２記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を基板上に転写し、当該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターン層を形成し、当該パターン層を焼成処理することにより、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれるパネル部材を形成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005367041A JP2006219660A (ja) | 2005-01-11 | 2005-12-20 | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005004308 | 2005-01-11 | ||
| JP2005367041A JP2006219660A (ja) | 2005-01-11 | 2005-12-20 | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006219660A true JP2006219660A (ja) | 2006-08-24 |
Family
ID=36982181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005367041A Pending JP2006219660A (ja) | 2005-01-11 | 2005-12-20 | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2006219660A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008031429A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-02-14 | Toray Ind Inc | 蛍光体ペーストおよびディスプレイの製造方法 |
| KR101106921B1 (ko) * | 2007-07-09 | 2012-01-25 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감광성 페이스트 조성물 및 패턴 형성 방법 |
| JP2013083832A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-05-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 着色インキ組成物およびそれを用いた視認性向上シート |
| JP2015184630A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-22 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性樹脂組成物、電極構造体、およびその製造方法 |
| WO2023224010A1 (ja) * | 2022-05-19 | 2023-11-23 | 積水化学工業株式会社 | 導電性ペースト組成物、導電性シートの製造方法、導電性シート及び電子部品の製造方法 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08171863A (ja) * | 1994-10-17 | 1996-07-02 | Taiyo Ink Mfg Ltd | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用組成物及びそれを用いた隔壁形成方法 |
| JPH10142781A (ja) * | 1996-11-14 | 1998-05-29 | Dainippon Printing Co Ltd | フオトレジストフイルム及びプラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法 |
| JPH11283513A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Kyocera Corp | プラズマ表示装置用基板 |
| JP2000191945A (ja) * | 1998-12-24 | 2000-07-11 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性ペーストおよび転写シート |
| JP2002008524A (ja) * | 2000-06-08 | 2002-01-11 | Three M Innovative Properties Co | プラズマディスプレイパネル基板用リブの製造方法 |
| JP2002167515A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-11 | Jsr Corp | 無機粒子含有樹脂組成物および転写フィルム |
| JP2002220551A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-09 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 光硬化性樹脂組成物及びそれを用いて電極形成したプラズマディスプレイパネル |
| JP2002358900A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-12-13 | Toray Ind Inc | ディスプレイ用部材および感光性ペースト |
| JP2006219659A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-08-24 | Jsr Corp | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
-
2005
- 2005-12-20 JP JP2005367041A patent/JP2006219660A/ja active Pending
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08171863A (ja) * | 1994-10-17 | 1996-07-02 | Taiyo Ink Mfg Ltd | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用組成物及びそれを用いた隔壁形成方法 |
| JPH10142781A (ja) * | 1996-11-14 | 1998-05-29 | Dainippon Printing Co Ltd | フオトレジストフイルム及びプラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法 |
| JPH11283513A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Kyocera Corp | プラズマ表示装置用基板 |
| JP2000191945A (ja) * | 1998-12-24 | 2000-07-11 | Dainippon Printing Co Ltd | 感光性ペーストおよび転写シート |
| JP2002008524A (ja) * | 2000-06-08 | 2002-01-11 | Three M Innovative Properties Co | プラズマディスプレイパネル基板用リブの製造方法 |
| JP2002167515A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-11 | Jsr Corp | 無機粒子含有樹脂組成物および転写フィルム |
| JP2002220551A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-09 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 光硬化性樹脂組成物及びそれを用いて電極形成したプラズマディスプレイパネル |
| JP2002358900A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-12-13 | Toray Ind Inc | ディスプレイ用部材および感光性ペースト |
| JP2006219659A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-08-24 | Jsr Corp | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008031429A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-02-14 | Toray Ind Inc | 蛍光体ペーストおよびディスプレイの製造方法 |
| KR101106921B1 (ko) * | 2007-07-09 | 2012-01-25 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감광성 페이스트 조성물 및 패턴 형성 방법 |
| JP2013083832A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-05-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 着色インキ組成物およびそれを用いた視認性向上シート |
| JP2015184630A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-22 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性樹脂組成物、電極構造体、およびその製造方法 |
| WO2023224010A1 (ja) * | 2022-05-19 | 2023-11-23 | 積水化学工業株式会社 | 導電性ペースト組成物、導電性シートの製造方法、導電性シート及び電子部品の製造方法 |
| JPWO2023224010A1 (ja) * | 2022-05-19 | 2023-11-23 | ||
| JP7545587B2 (ja) | 2022-05-19 | 2024-09-04 | 積水化学工業株式会社 | 導電性ペースト組成物、導電性シートの製造方法、導電性シート及び電子部品の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4075277B2 (ja) | 無機粒子含有感光性組成物および感光性フィルム | |
| KR20040030236A (ko) | 도전성 페이스트 조성물, 전극 형성용 전사 필름 및플라즈마 디스플레이 패널용 전극 | |
| JP4092781B2 (ja) | 無機粒子含有組成物、転写フィルムおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2006219660A (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2008298999A (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用部材の製造方法 | |
| JP4639770B2 (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP4006907B2 (ja) | 感光性転写フィルム | |
| CN1733845B (zh) | 含有无机粉末的树脂组合物、转印薄膜及等离子显示器面板的制造方法 | |
| JP2008077069A (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
| JP2008051899A (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびフラットパネルディスプレイ部材の製造方法 | |
| JP2005325148A (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| KR20060041842A (ko) | 무기 분체 함유 수지 조성물, 전사 필름 및 디스플레이패널용 부재의 제조 방법 | |
| JP4366820B2 (ja) | 無機粒子含有感光性組成物および感光性フィルム | |
| JP2006219659A (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2006233031A (ja) | 無機粒子含有組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| KR100869398B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 전사 필름 | |
| JP2006070226A (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2008242246A (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
| KR20060082048A (ko) | 무기 분체 함유 수지 조성물, 전사 필름 및 플라즈마디스플레이 패널의 제조 방법 | |
| JP2009132142A (ja) | 金属パターン形成用転写フィルムおよび金属パターン形成方法 | |
| JP2005258398A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法および転写フィルム | |
| JP2008274221A (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
| JP2008007559A (ja) | 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびフラットパネルディスプレイ部材の製造方法 | |
| JP2003071962A (ja) | 転写フィルム | |
| KR100859392B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널용 무기 입자 함유 조성물, 전사필름 및 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080611 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110706 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110809 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20121009 |