JP2006038177A - 真空用ゲートバルブ - Google Patents

Abstract

【課題】逆圧に耐えることにより、一部の部屋をメンテナンスしている場合でも他の部屋を用いて半導体基板などの被処理物を同時に処理することができる真空用ゲートバルブを提供する。
【解決手段】複数の部屋を区画する壁部６４に形成された開口部７４、７６を開放又は閉塞する真空用ゲートバルブ１０であって、壁部６４の内部を移動すると共に、開口部７４、７６の外縁又はその近傍に位置する壁部６４を押圧し壁部６４の内部から開口部７４、７６を閉塞するゲートバルブ本体１２と、ゲートバルブ本体１２を移動させる移動手段５６、５８と、を有する構成とした。
【選択図】 図３

Description

本発明は、各種の開口部を開閉する真空用ゲートバルブに関し、特に半導体製造装置の製造工程に用いられる真空処理室の開口部を開放又は閉塞する真空用ゲートバルブに関する。

図６に示すように、従来の半導体製造装置１００として、ロードロックチャンバ１０２と、トランスファチャンバ１０４と、複数のプロセスチャンバ１０６、１０８、１１０を備えたものが知られている。このトランスファチャンバ１０４の４つの壁部１０４Ａ、１０４Ｂ、１０４Ｃ、１０４Ｄには、開口部１１２、１１４、１１６、１１８がそれぞれ形成されている。これらの壁部１０４Ａ、１０４Ｂ、１０４Ｃ、１０４Ｄの内部には、各開口部１１２、１１４、１１６、１１８を開閉する各ゲートバルブ１２２、１２４、１２６、１２８がそれぞれ設けられている。また、トランスファチャンバ１０４の内部には、搬送部材（図示省略）に載せられてロードロックチャンバ１０２から移動されてきた半導体基板を別の搬送部材（図示省略）に移し変えるロボットアーム（図示省略）が配置されている。この半導体製造装置１００では、ゲートバルブ１２２、１２４、１２６、１２８により開口部１１２、１１４、１１６、１１８を閉じることにより、トランスファチャンバ１０４と各プロセスチャンバ１０６、１０８、１１０とを気密に区画することができるとともに、トランスファチャンバ１０４とロードロックチャンバ１０２とを気密に区画できるようになっている。
また、ロードロックチャンバ１０２の１つの壁部１０２Ａにも、同様にして、開口部１２０がそれぞれ形成されており、この壁部１０２Ａの内部には、開口部１２０を開閉するゲートバルブ１３０が設けられている。

上記半導体製造装置１００によれば、ゲートバルブ１３０が駆動して開口部１２０が開いた状態で、未処理の半導体基板を開口部１２０を通してロードロックチャンバ１０２の内部に入れる。未処理の半導体基板をロードロックチャンバ１０２の内部に入れた後、ゲートバルブ１３０を駆動させて開口部１２０を閉じる。次に、ゲートバルブ１２２を駆動させて開口部１１２を開き、トランスファチャンバ１０４の内部に配置されたロボットアームがロードロックチャンバ１０２内部の半導体基板を取り出してトランスファチャンバ１０４の内部に移動させる。半導体基板がトランスファチャンバ１０４の内部に移動させられた後、ゲートバルブ１２２が駆動して開口部１１２が閉じる。なお、この状態では、他の開口部１１４、１１６、１１８は全て閉じている。次に、ゲートバルブ１２４、１２６、１２８のうちの１つのゲートバルブ１２４が駆動して開口部１１４が開き、トランスファチャンバ１０４の内部の半導体基板がロボットアームによりプロセスチャンバ１０６に移動させられる。プロセスチャンバ１０６に移動させられた半導体基板は、プロセスチャンバ１０６の内部で所定の処理が施される。
特開２００４−０４４６８３号公報

ところで、複数のプロセスチャンバのうちの一部のプロセスチャンバをメンテナンス等する際には、メンテナンスの対象となるプロセスチャンバの内部に外気が入る。このとき、内部に外気が入ったプロセスチャンバの内部圧力は、外気圧と等しくなる。
ここで、プロセスチャンバのメンテナンスの際に、半導体基板の処理効率の低下を可能な限り防止する観点から、残りの他のプロセスチャンバで半導体基板の処理を行う必要があるが、他のプロセスチャンバで半導体基板の処理を行う場合にはトランスファチャンバの内部が真空状態となるため、メンテナンスの対象となるプロセスチャンバとを区画する壁部に設けられたゲートバルブがその内圧（逆圧）によりトランスファチャンバ側に移動し、この際にメンテナンスの対象となるプロセスチャンバの内部の外気がトランスファチャンバの内部に入り込む。トランスファチャンバの内部に外気が入り込むと、内部の半導体基板が外気に曝され、半導体基板の品質が低下する問題がある。このように、従来の半導体製造装置では、一部のプロセスチャンバをメンテナンスすると、他のプロセスチャンバを用いて半導体基板を処理することができない不具合があった。

そこで、本発明は、上記事情を考慮し、逆圧に耐えることにより、一部の部屋をメンテナンスしている場合でも他の部屋を用いて半導体基板などの被処理物を同時に処理することができる真空用ゲートバルブを提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は、複数の部屋を区画する壁部に形成された開口部を開放又は閉塞する真空用ゲートバルブであって、前記壁部の内部を移動すると共に、前記開口部の外縁又はその近傍に位置する前記壁部を押圧し前記壁部の内部から前記開口部を閉塞するゲートバルブ本体と、前記ゲートバルブ本体を移動させる移動手段と、を有することを特徴とする。

請求項１に記載の発明によれば、ゲートバルブ本体が移動手段により開口部と対向する位置に移動させられると、ゲートバルブ本体が開口部の外縁又はその近傍に位置する壁部を押圧して、壁部の内部から開口部を閉塞する。これにより、この壁部で区画された各部屋のうち一方の部屋から他方の部屋に所定の圧力が作用し、あるいは他方の部屋から一方の部屋に圧力が作用した場合（ゲートバルブ本体にいわゆる逆圧が作用した場合）でも、常にゲートバルブ本体が開口部の外縁又はその近傍に位置する壁部を押圧しているため、ゲートバルブ本体が壁部の内部を壁部の厚み方向に沿って移動することがなく、開口部の閉塞状態が崩れることを防止できる。この結果、ゲートバルブ本体にいわゆる逆圧が作用した場合でも、逆圧に耐えることができ、各部屋の気密性を維持することができる。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の真空用ゲートバルブにおいて、前記ゲートバルブ本体の前記壁部の厚さ方向に沿う厚みが可変自在に構成され、前記厚みが厚くなることにより前記開口部を閉塞することを特徴とする。

請求項２に記載の発明によれば、ゲートバルブ本体の壁部の厚さ方向に沿う厚みが可変自在に構成されているため、厚みを厚くすることにより容易に開口部を閉塞することができる。また、ゲートバルブ本体の厚みを薄くすることにより、ゲートバルブ本体が壁部の内部を移動し開口部を開放することが可能となる。このように、ゲートバルブ本体の壁部の厚さ方向に沿う厚みを可変自在に構成することにより、容易に開口部を開放又は閉塞することができる。

請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の真空用ゲートバルブにおいて、前記ゲートバルブ本体は、前記開口部を塞ぐ一対の蓋部材と、前記蓋部材を変位させ前記蓋部材の離間距離を調整する離間距離調整手段と、を有していることを特徴とする。

請求項３に記載の発明によれば、ゲートバルブ本体が移動手段により壁部の内部を移動させられて開口部と対向する位置にくると、離間距離調整手段により一対の各蓋部材が相互に離間する方向に変位させられ、各蓋部材の離間距離が広げられる。離間距離が広げられた各蓋部材は、ゲートバルブ本体が開口部の外縁又はその近傍に位置する壁部を押圧して壁部の内部から開口部を閉塞する。これにより、この壁部で区画された各部屋のうち一方の部屋から他方の部屋に所定の圧力が作用し、あるいは他方の部屋から一方の部屋に圧力が作用した場合（ゲートバルブ本体にいわゆる逆圧が作用した場合）でも、常にゲートバルブ本体が開口部の外縁又はその近傍に位置する壁部を押圧しているため、ゲートバルブ本体が壁部の内部を壁部の厚み方向に沿って移動することがなく、開口部の閉塞状態が崩れることを防止できる。この結果、ゲートバルブ本体に逆圧が作用した場合でも、各部屋の気密性を維持することができる。
一方、開口部を開放する場合には、離間距離調整手段により各蓋部材の離間距離が狭められ、かつ移動手段によりゲートバルブ本体が壁部の内部を移動させられる。これにより、開口部を容易に開放することができる。

請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の真空用ゲートバルブにおいて、前記離間距離調整手段は、前記蓋部材の離間距離を狭める方向に前記蓋部材を付勢する弾性部材と、前記蓋部材と接続し前記蓋部材が所定の位置に移動したときに前記ゲートバルブ本体の移動方向に作用する第１圧力を前記ゲートバルブ本体の厚み方向に作用する第２圧力に変換させ前記第２圧力が前記弾性部材の付勢力に抗して前記蓋部材の離間距離を広げるリンク機構と、を有していることを特徴とする。

請求項４に記載の発明によれば、蓋部材が所定の位置に移動させられると、リンク機構によりゲートバルブ本体の移動方向に作用する第１圧力がゲートバルブ本体の厚み方向に作用する第２圧力に変換させられ、この第２圧力が弾性部材の付勢力に抗して蓋部材の離間距離を広げる。これにより、蓋部材が開口部の外縁又はその近傍に位置する壁部を押圧し壁部の内部から開口部を閉塞することができ、逆圧が作用した場合でも、各部屋の気密性を維持することができる。
一方、蓋部材が所定の位置以外の位置に移動させられると、弾性部材の付勢力が各蓋部材に作用し、各蓋部材の離間距離が狭められる。この状態で、ゲートバルブ本体は、移動手段により壁部の内部を移動させられ、開口部を開放する。このように、蓋部材の離間距離を狭めることにより、ゲートバルブ本体の移動をより円滑にすることができるとともに、壁部の厚みを可能な限り薄くすることができる。

請求項５に記載の発明は、請求項３又は４に記載の真空用ゲートバルブにおいて、前記蓋部材は、前記蓋部材が前記開口部を閉塞した状態で前記開口部の外縁又はその近傍に位置する前記壁部と接触するシール部材を有していることを特徴とする。

請求項５に記載の発明によれば、蓋部材には、蓋部材が開口部を閉塞した状態で開口部の外縁又はその近傍に位置する壁部と接触するシール部材が設けられているため、各部屋の気密性を格段に高めることができる。

請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の真空用ゲートバルブにおいて、前記シール部材は、前記リンク機構の前記蓋部材への接続部位又はその近傍に設けられていることを特徴とする。

請求項６に記載の発明によれば、シール部材がリンク機構の蓋部材への接続部位又はその近傍に設けられているため、第１圧力が変換した第２圧力をシール部材が設けられた部位に作用させることができる。これにより、シール部材に蓋部材からの圧力を効率良く伝達することができ、シール性能を格段に向上させることができる。

本発明によれば、逆圧に耐えることにより、一部の部屋をメンテナンスしている場合でも他の部屋を用いて半導体基板などの被処理物を同時に処理することができる。

次に、本発明の一実施形態に係る真空用ゲートバルブについて、図面を参照して説明する。

図１乃至図４に示すように、真空用ゲートバルブ１０は、ゲートバルブ本体１２を備えている。ゲートバルブ本体１２は、一対の蓋部材１４、１６を備えている。これらの蓋部材１４、１６はそれぞれ平板状に構成されており、各蓋部材１４、１６の間には所定の離間距離が設けられている。

一方の蓋部材１４の内側側面には、接続部材１８が取り付けられている。この接続部材１８は、蓋部材１４の上方側（図３中矢印Ａ方向側）と下方側（図３中矢印Ｂ方向側）にそれぞれ取り付けられており、かつ蓋部材１４の幅方向（図１中矢印Ｃ方向側）に亘って複数設けられている。また、各接続部材１８は、同心状の貫通穴２０が設けられた突出片２２と一体形成されている。また、各接続部材１８には、アーム部材２４が取り付けられている。アーム部材２４は、平板状部材２４Ａと、平板状部材２４Ａに一体形成され平板状部材２４Ａの両側面から外側に突出した複数の爪部２４Ｂ、２４Ｃと、で構成されている。この爪部２４Ｂは平板状部材２４Ａの一方の側面に２つ形成されており、それぞれの爪部２４Ｂが離間した状態となっている。また、平板状部材２４Ａの他方の側面にも同様に、相互に離間した爪部２４Ｃが２つ形成されている。また、各爪部２４Ｂ、２４Ｃには、同心状の貫通穴（図示省略）がそれぞれ形成されている。各爪部２４Ｂの貫通穴と各突出片２２の貫通穴２０に回転軸２６が挿入されることにより、各爪部２４Ｂ及び各突出片２２が各回転軸２６回りに回転可能となっている。

また、他方の蓋部材１６の内側側面にも、同様にして、接続部材３０が取り付けられている。なお、一方の蓋部材１４の内側側面に取り付けられた接続部材１８と他方の蓋部材１６の内側側面に取り付けられた接続部材３０とは、それぞれ同じ高さに位置するように設定されている。この接続部材３０は、蓋部材１６の上方側（図３中矢印Ａ方向側）と下方側（図３中矢印Ｂ方向側）にそれぞれ取り付けられており、かつ蓋部材１６の幅方向（図１中矢印Ｃ方向側）に亘って複数設けられている。また、各接続部材３０は、同心状の貫通穴（図示省略）が形成された突出片３２と一体形成設されている。また、各接続部材３０には、アーム部材３４が取り付けられている。アーム部材３４は、平板状部材３４Ａと、平板状部材３４Ａに一体形成され平板状部材３４Ａの両側面から外側に突出した複数の爪部３４Ｂ、３４Ｃと、で構成されている。この爪部３４Ｂは平板状部材３４Ａの一方の側面に２つ形成されており、それぞれの爪部３４Ｂが離間した状態となっている。また、平板状部材３４Ａの他方の側面にも同様に、相互に離間した爪部３４Ｃが２つ形成されている。また、各爪部３４Ｂ、３４Ｃには、同心状の貫通穴３６、３８がそれぞれ形成されている。各爪部３４Ｂの貫通穴３６と各突出片３２の貫通穴に回転軸４０が挿入されることにより、各爪部３４Ｂ及び各突出片３２が各回転軸４０回りに回転可能となっている。

さらに、各アーム部材２４、３４同士は、それぞれの爪部２４Ｃ、３４Ｃの貫通穴３８（爪部２４Ｃの貫通穴は図示省略）に回転軸２８が挿入されて接続されている。これにより、一方のアーム部材２４及び他方のアーム部材３４が回転軸２８回りに回転可能となっており、一方のアーム部材２４と他方のアーム部材３４とが相対的に移動できるようになっている。なお、回転軸２８は、後述の中間板部材４２に回転可能となるように取り付けられている。

以上のように、一方の蓋部材１４と他方の蓋部材１６は、接続部材１８、３０及び各アーム部材２４、３４からなるリンク機構により部分的に接続されている。すなわち、一方の蓋部材１４と他方の蓋部材１６には、上方側（図３中矢印Ａ方向側）及び下方側（図３中矢印Ｂ方向側）に設けられ、かつ各蓋部材１４、１６の幅方向（図１中矢印Ｃ方向側）に亘って設けられた複数のリンク機構により接続された状態となっている。

また、各蓋部材１４、１６の上部には、各蓋部材１４、１６の幅方向に亘って軸受け部材４４、４６が複数取り付けられている。各軸受け部材４４、４６には、回転ローラ４８、５０が回転可能となるようにそれぞれ取り付けられている。また、一方の蓋部材１４に取り付けられた軸受け部材４４と、他方の蓋部材１６の前記軸受け部４４に対向する位置に取り付けられた軸受け部材４６とは、複数のコイルばね（弾性部材）５２により接続されている。また、一方の蓋部材１４の側面と他方の蓋部材１６の側面との間には、複数のコイルばね（弾性部材）５４がそれぞれ接続されている。また、各蓋部材１４、１６には、常に上記各コイルばね５２、５４から相互の間に設けられた離間距離が狭められる（縮められる）方向に引張力が作用している。

また、ゲートバルブ本体１２は、各蓋部材１４、１６の間に配置され、かつ各蓋部材１４、１６の幅方向に亘って延在した中間板部材４２を備えている。この中間板部材４２には、各蓋部材１４、１６に取り付けられた各アーム部材２４、３４同士を連結する回転軸２８が回転可能となるようにそれぞれ取り付けられている。
また、中間板部材４２にはピストン部材（移動手段）５６が接続されている。このピストン部材５６はシリンダ部材（移動手段）５８と接続されており、油圧等によりピストン部材５６がシリンダ部材５８の内部を移動し上下方向に伸縮するように構成されている。なお、ピストン部材５６は壁部６４内部に配置され、シリンダ部材５８は壁部６４外部に配置されている。
さらに、壁部６４の内部であってゲートバルブ本体１２の幅方向両端部の近傍には、上下方向に延在したガイド部材６０が配置されている。中間板部材４２の幅方向両端部には取付部材６２が取り付けられており、さらにこの取付部材６２はガイド部材６０の延在方向（上下方向）に沿って移動可能となるようにガイド部材６０に取り付けられている。このように、ゲートバルブ本体１２がガイド部材６０と接続された構成とすることにより、ゲートバルブ本体１２が上下方向に移動する際の位置ずれを防止している。

また、接続部材１８、３０が取り付けられている各蓋部材１４、１６の内側側面と反対側に位置する外側側面には、各蓋部材１４、１６の幅方向に亘って溝６６、６８がそれぞれ形成されている。この溝６６、６８の幅方向端部同士も接続されており、全体として長方形状に形成されている。この溝６６、６８の内部には、ゴム部材で構成されたＯリング（シール部材）７０、７２がそれぞれ配置されている。このため、Ｏリング７０、７２が配置された部位は、各アーム部材２４、３４と連結された接続部材１８、３０が取り付けられた部位の延長線上に位置する。換言すれば、Ｏリング７０、７２は、リンク機構が各蓋部材１４、１６に接続される接続部位又はその近傍に設けられた構成となる。

なお、上述した真空用ゲートバルブ１０は、例えばトランスファチャンバ、プロセスチャンバ及びロードロックチャンバなどの複数の部屋を区画し開口部７４、７６がそれぞれ形成された壁部６４の内部に設けられている。この壁部６４の内部は空洞となっており、後述するようにゲートバルブ本体１２がピストン部材５６及びシリンダ部材５８によって壁部６４の内部を上下方向に移動するようになっている。

次に、本実施形態に係る真空用ゲートバルブ１０の作用について説明する。

図１、図４及び図５（Ｂ）に示すように、ゲートバルブ本体１２は、ピストン部材５６がシリンダ部材５８から上方に伸びることにより、上方に移動させられる。ゲートバルブ本体１２が開口部７４、７６と対向する位置以外の位置（すなわち、本実施形態では回転ローラ４８、５０が壁部６４を構成する上壁６４Ａに接触しない位置を意味する。）に移動しているときには、各コイルばね５２、５４の引張力のみが各蓋部材１４、１６に作用するため、各蓋部材１４、１６相互の離間距離が狭められた（縮められた）状態となっている。この状態では、各蓋部材１４、１６の上方側と接続された各アーム部材２４、３４の一方の端部側（回転軸２８側）が下方に位置し、各アーム部材２４、３４の他方の端部側（回転軸２６、４０側）が上方に位置しており、各アーム部材２４、３４がＶ字型となっている。また、同様にして、各蓋部材１４、１６の下方側と接続された各アーム部材２４、３４の一方の端部側（回転軸２８側）が下方に位置し、他方の端部側（回転軸２６、３６側）が上方に位置しており、各アーム部材２４、３４がＶ字型となっている。このように、各アーム部材２４、３４がＶ字型となることにより各蓋部材１４、１６の離間距離を狭めることができ、ゲートバルブ本体１２が壁部６４の内部を円滑に移動することができる。

ゲートバルブ本体１２がピストン部材５６により押し上げられると、やがてゲートバルブ本体１２の上部に設けられた回転ローラ４８、５０が壁部６４を構成する上壁６４Ａに接触する。さらに、ゲートバルブ本体１２がピストン部材５６により押し上げられると、各蓋部材１４、１６の上方に接続された各アーム部材２４、３４同士を連結する回転軸２８が中間板部材４２を介して上方に所定の圧力（第１圧力）で押される。これにより、図３及び図５（Ａ）に示すように、各アーム部材２４、３４の一方の端部側（回転軸２８側）だけが上方に押し上げられて、各アーム部材２４、３４が水平となる。
また、各蓋部材１４、１６の下方に接続された各アーム部材２４、３４同士を連結する回転軸２８も、同様にして、中間板部材４２を介して上方に所定の圧力（第１圧力）で押される。これにより、各アーム部材２４、３４の一方の端部側（回転軸２８側）だけが上方に押し上げられて、各アーム部材２４、３４が水平となる。
各アーム部材２４、３４が水平となると、各蓋部材１４、１６には、各アーム部材２４、３４によりゲートバルブ本体１２の厚み方向（図３中矢印Ｄ方向）外側に向かって圧力（第２圧力）が作用する。この圧力（第２圧力）が各コイルばね５２、５４の弾性力（引張力）に打ち勝ち、各蓋部材１４、１６は、圧力（第２圧力）により各コイルばね５２、５４の弾性力（引張力）に対抗して厚み方向外側（開口部７４、７６側）に押される。これにより、各蓋部材１４、１６は、両者の離間距離が広げられる方向に変位する。やがて、各蓋部材１４、１６は、各アーム部材２４、３４からの所定の圧力により開口部７４、７６の外縁又はその近傍に位置する壁部６４に押し付けられる。このとき、各蓋部材１４、１６の外側側面に設けられたＯリング７０、７２が開口部７４、７６の外縁又はその近傍に位置する壁部６４に押し付けられる。このように、各蓋部材１４、１６が所定の位置に移動したときに、各蓋部材１４、１６は、リンク機構により、上方向に作用するピストン部材５６からの圧力（第１圧力）がゲートバルブ本体１２の厚み方向（図３中矢印Ｄ方向）に作用する圧力（第２圧力）に変換され、この第２圧力がコイルばね５２、５４の弾性力（引張力）に対抗して各蓋部材１４、１６の離間距離を広げることにより、開口部７４、７６を容易に閉塞することができる。

以上のように、各蓋部材１４、１６が所定の圧力により壁部６４に押し付けられることにより、この壁部６４で区画される一方の部屋から他方の部屋に圧力が作用し、あるいは他方の部屋から一方の部屋に逆圧が作用した場合でも、常に各蓋部材１４、１６が開口部７４、７６の外縁又はその近傍に位置する壁部６４を押圧しているため、ゲートバルブ本体１２が壁部６４の内部を壁部６４の厚み方向（図３中矢印Ｄ方向）に沿って移動することがなく、開口部７４、７６の閉塞状態が崩れることを防止できる。この結果、各蓋部材１４、１６にいわゆる逆圧が作用した場合に各部屋の気密性を維持することができ、プロセスチャンバとして機能する部屋が複数存在する場合においてメンテナンス等により一部の部屋の内部に大気が入り込んだ状態でも、トランスファチャンバに外気が入ることを防止でき、他の部屋（プロセスチャンバ）において継続して半導体基板に所定の処理を施すことができる。

特に、各蓋部材１４、１６の外側側面にはＯリング７０、７２を設けたことにより各部屋の気密性を高めることができ、さらにＯリング７０、７２がリンク機構の蓋部材１４、１６への接続部位又はその近傍に設けられているため、第２圧力をＯリング７０、７２が設けられた部位の蓋部材１４、１６に作用させることができる。これにより、Ｏリング７０、７２に蓋部材１４、１６からの圧力を効率良く伝達することができ、Ｏリング７０、７２の弾性変形量が大きくなるため、各部屋の気密性を格段に向上させることができる。

一方、図１、図４及び図５（Ｂ）に示すように、ピストン部材５６を縮めてシリンダ部材５８に収容することにより、中間板部材４２を介してゲートバルブ本体１２が下方に移動させられる。このとき、各回転ローラ４８、５０と上壁６４Ａとの接触が解除され、各蓋部材１４、１６がコイルばね５２、５４の引張力により両者の離間距離が狭められる方向に変位するとともに、各蓋部材１４、１６の上方に接続された各アーム部材２４、３４同士を連結する回転軸２８が中間板部材４２を介して下方に所定の圧力（第１圧力）で引っ張られる。これにより、各アーム部材２４、３４の一方の端部側（回転軸２８側）だけが下方に引き下げられて、各アーム部材２４、３４が再度、Ｖ字型となる。
また、各蓋部材１４、１６の下方に接続された各アーム部材２４、３４についても、同様であり、各回転ローラ４８、５０と上壁６４Ａとの接触が解除されると、各蓋部材１４、１６がコイルばね５２、５４の引張力により両者の離間距離が狭められる方向に変位するとともに、各アーム部材２４、３４を連結する回転軸２８も、同様にして、中間板部材４２を介して下方に所定の圧力（第１圧力）で引っ張られる。これにより、各アーム部材２４、３４の一方の端部側（回転軸２８側）だけが下方に引き下げられて、各アーム部材２４、３４が再度、Ｖ字型となる。
このように、各蓋部材１４、１６にコイルばね５２、５４から引張力を作用させ、かつ各アーム部材２４、３４が回転軸２８回りに回転させＶ字型とすることにより、各蓋部材１４、１６の離間距離を狭めることができる。この結果、ゲートバルブ本体１２が壁部６４の内部を円滑に移動することができ、開口部７４、７６を開放することができる。

なお、上記実施形態では、ゲートバルブ本体１２を構成する各蓋部材１４、１６の上部に回転ローラ４８、５０が取り付けられ、かつゲートバルブ本体１２の下方にピストン部材５６及びシリンダ部材５８が配置された構成を例にとり説明したが、この構成に限られるものではない。
例えば、ピストン部材５６及びシリンダ部材５８をゲートバルブ本体１２の上方に配置させ、かつ、各蓋部材１４、１６の下部に軸受け部材４４、４６を設け、さらに、この軸受け部材４４、４６に回転ローラ４８、５０を回転可能に取り付けるように構成してもよい。かかる構成によれば、ピストン部材５６がシリンダ部材５８から伸びることによりゲートバルブ本体１２が下方向に移動し、壁部６４を構成する下壁（図示省略）に回転ローラ４８、５０が接触しさらにシリンダ部材５６を伸ばすことにより、同様にして、各蓋部材１４、１６の離間距離が広げられ、開口部７４、７６を閉塞することができる。
特に、回転ローラ４８、５０が壁部６４を構成する下壁と接触することにより、接触時に下壁に付着したゴミが舞うことを防止できるため、各部屋をクリーンに保つことができる。

本発明の一実施形態に係る真空用ゲートバルブの斜視図である。 本発明の一実施形態に係る真空用ゲートバルブの一部を示す斜視図である。 本発明の一実施形態に係る真空用ゲートバルブを構成する各蓋部材の離間距離が広げられた状態の部分的な斜視図である。 本発明の一実施形態に係る真空用ゲートバルブを構成する各蓋部材の離間距離が狭められた状態の部分的な斜視図である。 （Ａ）は本発明の一実施形態に係る真空用ゲートバルブを構成する各蓋部材の離間距離が広げられた状態を示す概念図であり、（Ｂ）は本発明の一実施形態に係る真空用ゲートバルブを構成する各蓋部材の離間距離が狭められた状態を示す概念図である。 従来技術である真空用ゲートバルブが用いられる各部屋の構成を示す平面図である。

符号の説明

１０ 真空用ゲートバルブ
１２ ゲートバルブ本体
１４ 蓋部材
１６ 蓋部材
１８ 接続部材（リンク機構、離間距離調整手段）
２４ アーム部材（リンク機構、離間距離調整手段）
２６ 回転軸（リンク機構、離間距離調整手段）
２８ 回転軸（リンク機構、離間距離調整手段）
３０ 接続部材（リンク機構、離間距離調整手段）
３４ アーム部材（リンク機構、離間距離調整手段）
４０ 回転軸（リンク機構、離間距離調整手段）
５２ コイルばね（弾性部材、離間距離調整手段）
５４ コイルばね（弾性部材、離間距離調整手段）
５６ ピストン部材（移動手段）
５８ シリンダ部材（移動手段）
６４ 壁部
７０ Ｏリング（シール部材）
７２ Ｏリング（シール部材）
７４ 開口部
７６ 開口部

Claims (6)

1. 複数の部屋を区画する壁部に形成された開口部を開放又は閉塞する真空用ゲートバルブであって、
   前記壁部の内部を移動すると共に、前記開口部の外縁又はその近傍に位置する前記壁部を押圧し前記壁部の内部から前記開口部を閉塞するゲートバルブ本体と、
   前記ゲートバルブ本体を移動させる移動手段と、
   を有することを特徴とする真空用ゲートバルブ。
2. 前記ゲートバルブ本体の前記壁部の厚さ方向に沿う厚みが可変自在に構成され、前記厚みが厚くなることにより前記開口部を閉塞することを特徴とする請求項１に記載の真空用ゲートバルブ。
3. 前記ゲートバルブ本体は、前記開口部を塞ぐ一対の蓋部材と、前記蓋部材を変位させ前記蓋部材の離間距離を調整する離間距離調整手段と、を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の真空用ゲートバルブ。
4. 前記離間距離調整手段は、前記蓋部材の離間距離を狭める方向に前記蓋部材を付勢する弾性部材と、前記蓋部材と接続し前記蓋部材が所定の位置に移動したときに前記ゲートバルブ本体の移動方向に作用する第１圧力を前記ゲートバルブ本体の厚み方向に作用する第２圧力に変換させ前記第２圧力が前記弾性部材の付勢力に抗して前記蓋部材の離間距離を広げるリンク機構と、を有していることを特徴とする請求項３に記載の真空用ゲートバルブ。
5. 前記蓋部材は、前記蓋部材が前記開口部を閉塞した状態で前記開口部の外縁又はその近傍に位置する前記壁部と接触するシール部材を有していることを特徴とする請求項３又は４に記載の真空用ゲートバルブ。
6. 前記シール部材は、前記リンク機構の前記蓋部材への接続部位又はその近傍に設けられていることを特徴とする請求項５に記載の真空用ゲートバルブ。

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