JP2006013015A - 洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 洗浄品質及び作業効率を向上させ、かつ、省スペース化を実現することのできる洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被洗浄物１０を収納する洗浄槽本体２と、この洗浄槽本体２の下部から、洗浄液又はリンス液を選択的に供給する液供給手段４と、洗浄槽本体２内に貯めた洗浄液又はリンス液を超音波振動させる超音波振動装置７と、洗浄槽本体２の下部に設けられ、洗浄液又はリンス液を排出する液排出手段５と、被洗浄物１０に、洗浄液又はリンス液を噴射するシャワー装置６と、洗浄槽本体２の上部に設けられたオーバーフロー槽３と、を具備した構成としてある。
【選択図】 図１

Description

本発明は、洗浄装置及び洗浄方法に関し、特に、電子デバイス等に対し、一つの洗浄槽本体を用いて複数の洗浄・リンス処理を実施でき、洗浄品質・作業効率に優れるとともに、省スペース化することができる洗浄装置及び洗浄方法に関する。

半導体シリコン・ウエハや液晶パネル等、またはこれらを製造するためのフォトマスク等の電子デバイスは、一般に高度の清浄度を必要とする。特に、電子回路としての機能を損なう危険性のある、微粒子状の汚れ，油性汚れ，イオン性汚れ，腐食性汚れなどは、できる限り除去する必要がある。
これら複数の汚れを洗浄する方法は、各汚れの特性に応じてそれぞれ異なっている。このため、電子デバイス等の洗浄では、被洗浄物をそれぞれの汚れの除去に適した洗浄液（純水を含む。）で洗浄し、この洗浄液をリンス液（純水を含む。）にてすすぎ落としている。

ところで、洗浄方法としては、洗浄液に被洗浄物を浸潰（ディップ）して汚れを除去する化学的洗浄方法やシャワーや水流等により汚れを除去する物理的洗浄方法等がある。
また、洗浄剤を希釈した洗浄液を、超音波を利用して振動させながら行う洗浄方法は、物理的洗浄と化学的洗浄の両方の性質を利用している。すなわち、汚れの種類に応じて適切な洗浄液を選択し、超音波振動の物理的作用と洗浄液の化学的作用を組み合わせることで最大限の洗浄効果を上げることができる。さらに、超音波振動している洗浄液に浸漬するだけで洗浄できること，細孔や複雑な形状のものを洗浄できること，洗浄品質の均一化が容易であること等の利点を有している。
このように、超音波振動を利用した洗浄は優れた効果を有しており、これらの効果をさらに高めることを目的として、様々な洗浄装置が提案されている。

たとえば、特許文献１の超音波洗浄装置は、超音波振動子を底部に有し、槽内に超音波媒体液（超音波伝達液）を有する外槽の槽内に、石英ガラス製の洗浄槽を設置した二重槽構造を有し、さらに、洗浄槽の底部を傾斜させた構成としてある。
この超音波洗浄装置は、キャビテーションによって超音波媒体液に発生する気泡が、洗浄槽の底部に付着し、超音波の伝達を妨げるといった不具合を防止することができる。

また、洗浄液に浸漬された被洗浄物は、付着した洗浄液をすすぎ落とすこと（リンス）が必要となるが、一般的には、洗浄槽からリンス槽に搬送され、リンス液に浸漬されることによりリンス処理が行なわれる。
リンス槽の代表的なものには、ＱＤＲ（クイックダンプリンス）槽とオーバーフローリンス槽がある。
ＱＤＲ槽は、洗浄液が付着した被洗浄物を、リンス槽内に貯められた純水（リンス液）に浸漬した後、槽下部に設けられた排水口を開放し、一気に純水を排出する。そして、同時にリンス槽の上方から、シャワー装置により純水を被洗浄物に吹き付けることにより、被洗浄物に付着した洗浄液をすすぎ落とす構成としてある（特許文献２、図２参照）。
また、オーバーフローリンス槽は、純水をリンス槽の下部に設けられた給水管から注入しリンス槽上方の開口部からオーバーフローさせる槽であり、槽内に被洗浄物を投入し、被洗浄物に付着した洗浄液を上方に流動する純水によりすすぎ流す構成としてある（特許文献２、図３参照）。

さらに、ディップ槽，超音波振動子及びシャワー装置を一体化した洗浄装置も開示されている（特許文献３参照）。この洗浄装置は、洗浄液を噴射する高圧シャワー装置を有し、超音波洗浄を行う超音波洗浄槽と、熱風加熱させる熱風送風装置を有するとともに、内部を減圧する乾燥槽とを備えた構成としてある。
この装置によれば、超音波洗浄を所定時間行った後、洗浄槽本体内の純水を排水し、続いて、高圧シャワー洗浄を行うことができる。
特開平９−２４３４９号公報（第１頁、第３、４図） 特開平５−２９９４０４号公報（第２頁、第２、３図） 特開２００２−１２６６７８号公報（請求項１〜４、第１図）

しかしながら、特許文献１に記載された超音波洗浄装置は、被洗浄物から汚れを効果的に落とす（あるいは、剥離させる）ことができるものの、たとえば、超音波洗浄槽からリンス槽に被洗浄物が搬送される際、被洗浄物に付着した洗浄液に落とした汚れが含まれた状態で、汚れがリンス槽に移動する。このため、微少の汚れを含んだリンス液に被洗浄物を浸漬しても、被洗浄物から汚れを完全に除去することはできない。すなわち、洗浄液に拡散した汚れを工程内で回収し、次工程に持ち込まない工夫が必要であり、このような処理が行なわれない限り、洗浄品質を極めて高いレベルにまで向上させることはできない、といった問題があった。

特許文献２に記載されたＱＤＲ槽は、リンスに用いる純水が少量ですむ点や、リンス槽の下部に設けられた排水口から純水を全て排出できるため被洗浄物から洗い落とされた汚れが槽内に残留しない点でオーバーフローリンス槽より優れているものの、被洗浄物に対する純水の流動が少ないため、リンス性能ではオーバーフローリンス槽より劣るといった問題があった。
また、特許文献２に記載されたオーバーフローリンス槽は、被洗浄物に対して純水が流動するため、リンス性能ではＱＤＲ槽に優るものの、リンスに用いる純水が大量に必要である点や、槽下部から純水の全てを排出しないため、槽内に被洗浄物から洗い落とされた汚れが残留する点で、ＱＤＲ槽より劣るといった問題があった。
さらに、リンス品質を向上させるために、オーバーフローリンス槽とＱＤＲ槽を併設しようとすると、二倍のスペースが必要となり、省スペース化を図ることができないといった問題があった。また、異なるリンス処理毎に各槽内へ被洗浄物を搬入・搬出する作業は、作業効率を悪化させる原因となっていた。

特許文献３に記載された洗浄装置は、超音波洗浄機能とシャワー機能を備え、多機能化されているものの、オーバーフローリンス機能を有しておらず、被洗浄物に対する純水の流動が少ないためにリンス性能に改善の余地があった。また、洗浄液を効率よくかつ洗浄品質を低下させずに交換する機能を備えていないので、使用する洗浄液の数だけ洗浄槽を設置しなければならず、省スペース化を図ることができないといった問題があった。

特に、近年では、電子デバイスの高精度化にともない、洗浄品質をさらに向上させることを目的として、新たな洗浄液等による洗浄工程が増加する傾向にある。そして、新たな洗浄工程に応じて、たとえば、特許文献３に記載された洗浄槽や特許文献２に記載されたリンス槽を追加したのでは、槽を５〜１０槽以上も並設しなければならず、省スペース化を図ることができないといった問題があった。たとえば、洗浄装置がクリーンルーム内に設置される場合には、高価なスペースを有効利用することができないといった切実な問題があった。
さらに、洗浄品質を向上させるためには、単に槽を増加させるだけでは、上述した洗浄槽及びリンス槽が有する問題が解決されないため、顕著な洗浄品質の向上が期待できないといった問題があった。

本発明は、以上のような従来の技術が有する問題を解決するために提案されたものであり、洗浄品質及び作業効率を向上させ、かつ、省スペース化を実現することのできる洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明の洗浄装置は、被洗浄物を収納する洗浄槽本体と、この洗浄槽本体の下部から、洗浄液又はリンス液を選択的に供給する液供給手段と、前記洗浄槽本体内に貯めた前記洗浄液又はリンス液を超音波振動させる超音波振動装置と、前記洗浄槽本体の下部に設けられ、前記洗浄液又はリンス液を排出する液排出手段と、前記被洗浄物に、洗浄液又はリンス液を噴射するシャワー装置と、前記洗浄槽本体の上部に設けられたオーバーフロー槽と、を具備した構成としてある。
このようにすると、一つの洗浄槽本体を利用して、超音波洗浄，オーバーフローリンス及びクイックダンプリンスを連続的に行うことができ、省スペース化された状態で高品質の洗浄を行うことができる。
なお、洗浄液とは、洗浄機能を有する液及び純水をいい、リンス液とはリンス機能を有する液及び純水をいう。

また、本発明の洗浄処理装置は、前記超音波振動装置が、前記洗浄槽本体の底部を収納し振動伝達液に浸漬する外槽と、この外槽の下面に設けた超音波振動子とを備えた構成としてある。
このようにすると、たとえば石英ガラス等からなる洗浄槽本体を使用でき、金属製の超音波振動板等から溶出する金属イオンが被洗浄物に付着するといった不具合を防止することができる。

また、本発明の洗浄処理装置は、前記洗浄槽本体の下部側壁に排水口が設けられ、この排水口に向けて前記洗浄槽本体の底部が傾斜した構成としてある。
このようにすると、洗浄槽本体の下方に設けた超音波振動装置からの振動を効果的に伝達することができる。

また、本発明の洗浄方法は、洗浄槽本体に洗浄液を供給して、被洗浄物を超音波洗浄し、その後、前記洗浄液を排出する洗浄工程と、前記洗浄槽本体にリンス液を供給して、該リンス液をオーバーフローさせるオーバーフローリンス工程と、前記洗浄槽本体から前記リンス液を排出するとともに、前記リンス液を前記被洗浄物に噴射するクイックダンプリンス工程と、を有する方法としてある。
このように、本発明は洗浄方法としても有効であり、超音波洗浄，オーバーフローリンス及びクイックダンプリンスを連続的に行うことができ、高品質の洗浄を行うことができる。特に、超音波洗浄により、汚れを含んだ洗浄液を排出することにより、洗浄槽本体を清浄な状態に維持でき、洗浄品質を向上させることができる。

また、本発明の洗浄方法は、前記洗浄槽本体を使用して、前記洗浄工程，オーバーフローリンス工程及び／又はクイックダンプリンス工程を複数回繰り返す方法としてある。
このようにすると、新たな洗浄液等による洗浄工程が増加した場合であっても、省スペース化された状態で、高品質の洗浄を行うことができる。

また、本発明の洗浄方法は、前記洗浄液を排出する際、前記リンス液を前記被洗浄物及び洗浄槽本体に噴射する方法としてある。
このようにすると、被洗浄物及び洗浄槽本体に付着した洗浄液をすすぎ落とすことができ、リンス品質を向上させることができる。

以上のように、本発明の洗浄装置及び洗浄方法によれば、一つの洗浄槽本体を利用して、異なる洗浄液を用いた超音波洗浄，オーバーフローリンス及びクイックダンプリンスを連続的に行うことができ、省スペース化された状態で高品質の洗浄を行うことができる。

［洗浄装置］
以下、本発明に係る洗浄装置の好ましい実施形態について、図面を参照して説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る洗浄装置の断面及び配管系統を示す概略図である。
洗浄装置１は、洗浄槽本体２，オーバーフロー槽３，液供給手段４，液排出手段５，シャワー装置６及び超音波振動装置７とからなっている。

（洗浄槽本体）
洗浄槽本体２は、電子デバイス等の被洗浄物１０を収納する、たとえば石英ガラス等からなるほぼ直方体状の槽である。このように、材質を非金属とすることにより、金属板等から溶出する金属イオンが被洗浄物１０に付着するといった不具合を防止することができる。
また、洗浄槽本体２は、側壁の最下部に排水口２１が設けてあり、この排水口２１に向けて底板２２が水平に対して約３〜４°下方に傾斜した構造としてある。このようにすると、槽内の液体を全て排出することができるとともに、超音波振動装置７を作動させた際、キャビテーションにより発生する気泡が底板２２に付着しないので、超音波の伝達効率が低下するといった不具合を回避することができる。なお、傾斜角度は、上記約３〜４°に限定されるものではない。

洗浄槽本体２は、収納される被洗浄物１０より下方に、複数の給水口（図示せず）が配設された給水管２３が設けてあり、この給水管２３から洗浄液又はリンス液が供給される。
また、図示してないが、被洗浄物１０は、一般的に、洗浄槽本体２の内部に設けられた載置台に載置あるいは固定されるが、この構成に限定されるものではなく、たとえば、搬送装置に保持された状態で、洗浄槽本体２に収納される構成としてもよい。
なお、洗浄槽本体２は、一般的に、洗浄液やリンス液の液面を検知する液面計（図示せず）や温度計等が配設されている。

（オーバーフロー槽）
オーバーフロー槽３は、洗浄槽本体２の上部外縁に設けられた環状の槽であり、オーバーフローリンスを行う際、洗浄槽本体２からオーバーフローするリンス液（純水を含む。）を回収する。回収されたリンス液は、配管５３を介して排液ライン５２に排出される。
なお、本実施形態では、回収されたリンス液を排液として処理しているが、これに限定されるものではなく、たとえば、循環ポンプ及びフィルター等を介して、再生されたリンス液として、洗浄槽本体２に供給してもよい。

（液供給手段）
液供給手段４は、リンス液としての純水を供給する純水供給ライン４１と、洗浄液Ａを供給する洗浄液Ａ供給ライン４２と、洗浄液Ｂを供給する洗浄液Ｂ供給ライン４３と、各供給ライン４１，４２，４３の先端に設けた電磁弁４１０，４２０，４３０と、これら電磁弁４１０，４２０，４３０とフィルター４４とを接続した接続配管４５と、給水管２３の先端に接続されたフィルター４４とからなっている。
このようにすると、供給する洗浄液やリンス液（本実施形態では、洗浄液Ａ，Ｂ，純水）に応じた電磁弁４１０，４２０，４３０を開くことにより、各洗浄液やリンス液を自在に供給することができる。

また、洗浄液としては、酸性溶液，アルカリ性溶液，機能水（たとえば、オゾン水，水素水，脱気水など）等が使用され、リンス液としては、一般的に、純水等が使用される。
なお、本実施形態では、各洗浄液やリンス液を一つの給水管２３から供給する構成としてあるが、これに限定されるものではなく、たとえば、各供給ライン４１，４２，４３に、それぞれフィルター４４及び給水管２３を設ける構成としてもよい。
また、使用する洗浄液やリンス液は、上記三つの液に限定されるものではなく、たとえば、四つ以上の液を使用することもできる。

（液排出手段）
液排出手段５は、洗浄槽本体２の排水口２１に設けられた電磁弁からなる排液弁５１と、この排液弁５１と接続された排液ライン５２と、排液ライン５２とオーバーフロー槽３とを接続する配管５３とからなっている。
なお、本実施形態では、使用した純水，洗浄液Ａ，Ｂを区別することなく排液として処理しているが、区別して排液処理を行う構成としてもよい。

（シャワー装置）
シャワー装置６は、リンス液を被洗浄物１０に噴射するシャワーノズル６１と、このシャワーノズル６１にリンス液を供給するシャワーライン６２と、昇圧ポンプ（図示せず）とからなっている。このように、シャワー装置６を備えることにより、クイックダンプリンスを行うことができる。
また、シャワーノズル６１が洗浄槽本体２の内壁にもリンス液を吹きかける構成としてもよく、このようにすると、洗浄液Ａ，Ｂを排出する際、洗浄槽本体２の内壁にリンス液を吹きかけて汚れを排出することができ、洗浄品質を向上させることができる。

（超音波振動装置）
超音波振動装置７は、約５００ｋＨｚ〜１．５ＭＨｚの超音波振動子７１と、外槽７２とからなっている。
外槽７２は、振動伝達液として水が張られており、この水に洗浄槽本体２の底部が浸漬した状態で収納される。
超音波振動子７１は、外槽７２の底面に設けられており、超音波振動を発すると、外槽７２の底板，水（振動伝達液）及び洗浄槽本体２の底板２２を介して、洗浄槽本体２内の洗浄液を振動させることができる。また、本実施形態では、超音波振動の伝達経路に、たとえば、排水口２１や排液弁５１が位置しないので、これらにより振動特性が低下するといった不具合を回避することができる。

（制御手段）
また、上記液供給手段４，液排出手段５，シャワー装置６及び超音波振動装置７は、マニュアル操作により作動させることも可能であるが、シーケンサ等の制御手段（図示せず）を設けて、所定のプログラムにより自動運転させるとよい。このようにすると、作業効率を向上させることができるとともに、人為的ミスを防止することができる。

次に、上記構成からなる本実施形態の洗浄装置１の動作について、図面を参照して説明する。
図２は、本発明の実施形態に係る洗浄装置の動作を説明するための概略フローチャート図である。
同図において、まず、洗浄槽本体２に被洗浄物１０がセットされ（ステップＳ１）、洗浄液Ａ（例えば、アンモニア過水）の超音波洗浄が選択され、制御手段の洗浄スイッチがオンされる。
なお、本実施形態では、洗浄槽本体２に洗浄液Ａが貯まる前に、被洗浄物１０を洗浄槽本体２にセットしているが、洗浄槽本体２に洗浄液Ａを貯めてから、被洗浄物１０を洗浄槽本体２にセットしてもよい。

次に、洗浄スイッチがオンされると、排液弁５１が閉じられ、続いて、電磁弁４２０が開かれ、洗浄液Ａが、洗浄液Ａ供給ライン４２からフィルター４４を通って給水管２３に流れ出し、給水管２３から洗浄槽本体２に供給される（ステップＳ２）。続いて、洗浄液Ａが、被洗浄物１０が完全に浸漬される水位に達すると、制御手段が、液面計からの検出信号を入力し、電磁弁４２０を閉める。
なお、洗浄液Ａの種類によっては（たとえば、洗浄液Ａが機能水等である場合には）、電磁弁４２０を閉めずに、オーバーフロー状態としてもよい。

次に、超音波振動子７１が作動し、洗浄槽本体２に供給された洗浄液Ａが所定時間だけ超音波振動し、被洗浄物１０を超音波洗浄する（ステップＳ３）。
この超音波洗浄により、洗浄液Ａに対応した汚れが被洗浄物１０から洗い落とされる（あるいは、剥離する）ので、洗浄後の洗浄液Ａには、汚れが含まれている。

次に、排液弁５１が開かれ、洗浄液Ａが排出される（ステップＳ４）とともに、シャワー装置６が作動し、シャワーノズル６１から純水が被洗浄物１０に噴射される。
このようにすると、洗浄液Ａが排水口２１を通って排液ライン５２に排出されるとともに、被洗浄物１０に付着した洗浄液Ａが純水によりすすぎ落とされるので、被洗浄物１０に付着した洗浄液Ａに含まれる汚れが廃棄され、洗浄液Ａに拡散した汚れが被洗浄物１０に再付着する確率を低減でき、洗浄品質を向上させることができる。

また、シャワー装置６は、洗浄槽本体２の内壁にも純水を吹きかけており、洗浄槽本体２の内壁に付着した洗浄液Ａをすすぎ落とすことができるので、被洗浄物１０から洗い落とした汚れをほぼ全て排液ライン５２に排出することができる。
さらに、好ましくは、電磁弁４１０を短時間だけ開いて、接続配管４５内の洗浄液Ａを、純水供給ライン４１からの純水とともに洗浄槽本体２に流し、シャワー装置６からの純水とともに、排液ライン５２に排出するとよい。このようにすると、接続配管４５に残っている洗浄液Ａを除去することができる。
続いて、シャワー装置６を停止し、噴射した純水が排液ライン５２に排出されてから、排液弁５１を閉じる。これにより、洗浄槽２の槽内，被洗浄物１０の表面及び接続配管４５から、洗浄液Ａを排出することができる。

次に、純水供給ライン４１の電磁弁４１０を開いて、洗浄槽本体２に純水を供給することにより、被洗浄物１０は、下方から上方に流れる純水によって、所定時間だけオーバーフローリンスされる（ステップＳ５）。なお、洗浄槽本体２からオーバーフローした純水は、配管５３を介して排液ライン５２に排水される。

次に、電磁弁４１０を閉じ、排液弁５１を開いて、洗浄槽本体２内の純水を排液ライン５２に排出するとともに、シャワー装置６を作動させ、被洗浄物１０に純水を噴射し、クイックダンプリンスを実施する（ステップＳ６）。
続いて、シャワー装置６を停止し、洗浄槽本体２内の純水が排液ライン５２に排液されたところで、排液弁５１を閉じる。

次に、洗浄液Ｂ（例えば、オゾン水）の超音波洗浄が選択され、洗浄液Ａの代わりに洗浄液Ｂを使用して、上記ステップＳ２〜Ｓ６までの工程が同様に実施され（ステップＳ７〜１１）、被洗浄物１０は、洗浄液Ｂによって超音波洗浄され、続いて、オーバーフローリンス及びクイックダンプリンスが行われる。
最後に、被洗浄物１０が洗浄槽本体２から搬出される（ステップＳ１２）ことにより、洗浄液Ａ，Ｂの超音波洗浄が終了する。

このように、洗浄装置１によれば、一つの洗浄槽本体２を用いて、洗浄液Ａ，Ｂの超音波洗浄を連続的に行うことができ、省スペース化を図ることができる。さらに、各超音波洗浄において洗浄液Ａ，Ｂに拡散した汚れを、まず、洗浄槽本体２から除去し、その後に、オーバーフローリンスとクイックダンプリンスを行うので、洗浄品質を向上させることができる。
また、同一の洗浄槽本体で別種の洗浄液を用いて洗浄処理するため、生産及び作業効率を向上させることができる。

［洗浄方法］
また、本発明は、洗浄方法の発明としても有効であり、本発明に係る洗浄方法は、上記洗浄槽本体２に洗浄液を供給して、被洗浄物１０を超音波洗浄し、その後、洗浄液を排出する洗浄工程と、洗浄槽本体２にリンス液を供給して、該リンス液をオーバーフローさせるオーバーフローリンス工程と、洗浄槽本体２からリンス液を排出するとともに、リンス液を被洗浄物１０に噴射するクイックダンプリンス工程と、を有する方法としてある。
このように、本発明は洗浄方法としても有効であり、特に、超音波洗浄により汚れを含んだ洗浄液を排出することによって、洗浄槽本体を清浄な状態に維持でき、洗浄品質を向上させることができる。

また、洗浄槽本体２を使用して、洗浄工程，オーバーフローリンス工程及び／又はクイックダンプリンス工程を複数回繰り返す方法としてもよい。このようにすると、洗浄槽本体２を使用して、たとえば、洗浄液Ａによる超音波洗浄，純水によるオーバーフローリンスとクイックダンプリンス，洗浄液Ｂによる超音波洗浄，純水によるオーバーフローリンスとクイックダンプリンスを連続的に行うことができ、省スペース化された状態で、高品質の洗浄を行うことができる。

また、本発明の洗浄方法は、洗浄液を排出する際、リンス液を被洗浄物１０及び洗浄槽本体２の内壁に噴射する方法としてもよい。このようにすると、被洗浄物１０に付着した洗浄液及び洗浄槽本体２の内壁に付着した洗浄液を流し落とし、排液ライン５２に排出することができるので、これらの洗浄液に含まれる汚れを除去することができるので、リンス性能を向上させることができる。

このように、本発明にかかる洗浄方法によれば、洗浄及びリンスを連続して同一の洗浄槽本体２を使用して行うことができ、洗浄装置１の設置場所を省スペース化することができる。
また、超音波洗浄後、汚れた洗浄液を洗浄槽本体２の最下部に設けた排水口２１から全て排出するため、被洗浄物１０から洗い落とされた汚れが洗浄槽本体２の底部に残留しないので、洗浄品質を向上させることができる。

以上、本発明の洗浄装置及び洗浄方法について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係る洗浄装置及び洗浄方法は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、超音波振動子７１を作動させないで、ディップ洗浄槽としても使用できる。

以上説明したように、本発明の洗浄装置及び洗浄方法は、電子デバイスの洗浄に限定されるものではなく、たとえば、高度の清浄度を必要とする光学機器や医療器具等の洗浄にも好適に利用することができる。

本発明の実施形態に係る洗浄装置の断面及び配管系統を示す概略図である。 本発明の実施形態に係る洗浄装置の動作を説明するための概略フローチャート図である。

符号の説明

１ 洗浄装置
２ 洗浄槽本体
３ オーバーフロー槽
４ 液供給手段
５ 液排出手段
６ シャワー装置
７ 超音波振動装置
１０ 被洗浄物
２１ 排水口
２２ 底板
２３ 給水管
４１ 純水供給ライン
４２ 洗浄液Ａ供給ライン
４３ 洗浄液Ｂ供給ライン
４４ フィルター
４５ 接続配管
５１ 排液弁
５２ 排液ライン
５３ 配管
６１ シャワーノズル
６２ シャワーライン
７１ 超音波振動子
７２ 外槽
４１０，４２０，４３０ 電磁弁

Claims (6)

1. 被洗浄物を収納する洗浄槽本体と、
   この洗浄槽本体の下部から、洗浄液又はリンス液を選択的に供給する液供給手段と、
   前記洗浄槽本体内に貯めた前記洗浄液又はリンス液を超音波振動させる超音波振動装置と、
   前記洗浄槽本体の下部に設けられ、前記洗浄液又はリンス液を排出する液排出手段と、
   前記被洗浄物に、洗浄液又はリンス液を噴射するシャワー装置と、
   前記洗浄槽本体の上部に設けられたオーバーフロー槽と、
   を具備したことを特徴とする洗浄装置。
2. 前記超音波振動装置が、前記洗浄槽本体の底部を収納し振動伝達液に浸漬する外槽と、この外槽の下面に設けた超音波振動子とを備えたことを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
3. 前記洗浄槽本体の下部側壁に排水口が設けられ、この排水口に向けて前記洗浄槽本体の底板が傾斜したことを特徴とする請求項１又は２記載の洗浄装置。
4. 洗浄槽本体に洗浄液を供給して、被洗浄物を超音波洗浄し、その後、前記洗浄液を排出する洗浄工程と、
   前記洗浄槽本体にリンス液を供給して、該リンス液をオーバーフローさせるオーバーフローリンス工程と、
   前記洗浄槽本体から前記リンス液を排出するとともに、前記リンス液を前記被洗浄物に噴射するクイックダンプリンス工程と、
   を有することを特徴とする洗浄方法。
5. 前記洗浄槽本体を使用して、前記洗浄工程，オーバーフローリンス工程及び／又はクイックダンプリンス工程を複数回繰り返すことを特徴とする請求項４記載の洗浄方法。
6. 前記洗浄液を排出する際、前記リンス液を前記被洗浄物及び洗浄槽本体に噴射することを特徴とする請求項４又は５記載の洗浄方法。

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