JP2005303018A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005303018A JP2005303018A JP2004117409A JP2004117409A JP2005303018A JP 2005303018 A JP2005303018 A JP 2005303018A JP 2004117409 A JP2004117409 A JP 2004117409A JP 2004117409 A JP2004117409 A JP 2004117409A JP 2005303018 A JP2005303018 A JP 2005303018A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder
- power semiconductor
- metal
- electrode
- metal bar
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H10W90/00—
-
- H10W72/884—
-
- H10W90/734—
-
- H10W90/736—
-
- H10W90/754—
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Inverter Devices (AREA)
Abstract
【課題】積層構造を採用するパッケージにおいてパッケージの上下面からの放熱を効率良く行う。
【解決手段】第1の導体基板13aと第2の導体基板13bとの間にパワー半導体スイッチ素子11Paの主電極ならびにダイオード11Pbの電極をそれぞれ接合して第1の並列接続回路を構成し、第2の導体基板と第3の導体基板13cとの間にパワー半導体スイッチ素子11Naの主電極ならびにダイオード11Nbの電極をそれぞれ接合して第2の並列接続回路を構成し、第1の並列接続回路と第2の並列接続回路とを、前記第2の導体基板を介して直列接続する。
【選択図】図1In a package employing a laminated structure, heat radiation from the upper and lower surfaces of the package is efficiently performed.
A first parallel connection circuit is formed by joining a main electrode of a power semiconductor switch element 11Pa and an electrode of a diode 11Pb between a first conductor substrate 13a and a second conductor substrate 13b, respectively. The main electrode of the power semiconductor switch element 11Na and the electrode of the diode 11Nb are joined between the second conductor substrate and the third conductor substrate 13c, respectively, to form a second parallel connection circuit, A second parallel connection circuit is connected in series via the second conductor substrate.
[Selection] Figure 1
Description
この発明は、複数の縦型半導体素子を同一のパッケージに格納したパワー半導体モジュールなどの半導体装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor device such as a power semiconductor module in which a plurality of vertical semiconductor elements are stored in the same package.
IGBT(Insulated Gate bipolar Transistor)やFWD(Free Wheel Diode)などのパワー半導体素子を複数個同一のパッケージに収納してなるパワー半導体モジュールでは、従来は樹脂ケースのパッケージ構造が主であった。
図3は、パワー半導体モジュールの従来例を示す断面図である。図3において、セラミック基板の両面に銅パターン21a,21bを接合してなる絶縁基板21の一方の面の銅パターン21a上に、パワー半導体素子としてIGBT11a,FWD11b並びに外部導出端子22を図示しないはんだで接合している。パワー半導体素子と外部導出端子との間は、銅パターン若しくはボンディングワイヤ23で接続されている。このように、絶縁基板上にパワー半導体素子などを搭載した状態で樹脂ケース24に格納し、必要に応じて内部に樹脂等の充填材(図示せず)を注入した後、樹脂の蓋25で覆う。26は絶縁基板の他方の面の銅パターン21bに接合された放熱ベースである(特許文献1)。
Conventionally, a power semiconductor module in which a plurality of power semiconductor elements such as IGBTs (Insulated Gate Bipolar Transistors) and FWDs (Free Wheel Diodes) are housed in the same package has mainly had a resin case package structure.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a conventional example of a power semiconductor module. In FIG. 3, the IGBT 11a, the
上記のパワー半導体モジュールをインバータ装置に組み込んで用いる場合、例えばインバータ装置の1相分に相当する部分をモジュールとして構成すると、図3の構成では、パワー半導体素子を平面的に配置するため、パワー半導体モジュールの底面積が大きくなってしまう。このような底面積の大きなパワー半導体モジュールはインバータ装置に組み込む際においても大きな取り付け面積を必要とするため、結果としてインバータ装置の大型化を招いてしまう。
そこで、パワー半導体モジュールの占有面積を縮小するために、パワー半導体素子を積層する構成が提案されている(特許文献2)。
図4は、パワー半導体モジュールの別の従来例を示す断面図である。図4において、31は、セラミック基板の一方の面に銅パターン31a,31bが接合された絶縁基板であり、銅パターン31a,31b上にはんだボール14’を介してIGBT11Naが、銅パターン31b上にはんだ12を介してFWD11Nbがそれぞれ接合されている。銅パターン31aはIGBT11Naのゲート電極に接続され、図示しない制御端子に接続されている。
When the above power semiconductor module is used by being incorporated in an inverter device, for example, if a portion corresponding to one phase of the inverter device is configured as a module, the power semiconductor element is arranged in a plane in the configuration of FIG. The bottom area of the module will increase. Such a power semiconductor module having a large bottom area requires a large mounting area even when incorporated in the inverter device, resulting in an increase in size of the inverter device.
Therefore, a configuration in which power semiconductor elements are stacked has been proposed in order to reduce the area occupied by the power semiconductor module (Patent Document 2).
FIG. 4 is a cross-sectional view showing another conventional example of a power semiconductor module. In FIG. 4, 31 is an insulating substrate in which
IGBT11Na,FWD11Nbの他方の面ははんだ12を介して絶縁基板32の一方の面に接合された銅パターン32bに接続されている。絶縁基板32の他方の面には銅パターン32a,32bが接合されていて、両面の銅パターン32bは、絶縁基板32の中央に形成されたスルーホール32cを介して接続されている。
絶縁基板32の他方の面に接合された銅パターン32a,32bにははんだボール14’を介してIGBT11Paが、同じく銅パターン32bにははんだ12を介してFWD11Pbがそれぞれ接合されている。銅パターン32aはIGBT11Paのゲート電極に接続され、図示しない制御端子に接続されている。IGBT11PaとFWD11Pbの他方の面ははんだ12を介して金属配線板33に接合されている。
このように、1相分の上下アームを積層することによって、占有面積を約1/2とすることができ、インバータ装置に組み込む際の取り付け面積を縮小し、インバータ装置を小型化することが可能となる。
IGBTs 11Pa are joined to the
In this way, by stacking the upper and lower arms for one phase, the occupation area can be reduced to about ½, the mounting area when incorporated in the inverter device can be reduced, and the inverter device can be miniaturized. It becomes.
IGBT等のパワー半導体チップは、スイッチングや導通により発熱するため、パワー半導体モジュールからの放熱対策が欠かせず、また、パワー半導体チップと回路パターンなどの他の部材との接合個所にはヒートサイクルやパワーサイクルに対する信頼性が求められる。
しかしながら、特許文献2に記載された構成では、IGBTと絶縁基板の銅パターンとの間の接続にはんだボール14’が用いられていて、さらに上下アーム(絶縁基板の両面間)の電気的接続を確保するために、絶縁基板内にスルーホール32cを形成している。
このため、はんだボール14’による接合個所並びに絶縁基板に形成されたスルーホールには、パワー半導体チップの発熱に伴い、パワー半導体チップと銅パターンあるいはセラミック基板との熱膨張係数の相違による応力が絶えず印加されることになり、はんだボール14’の接合個所の亀裂,剥がれが生じる問題や、絶縁基板に亀裂が発生する問題がある。
Since power semiconductor chips such as IGBT generate heat due to switching or conduction, measures for heat dissipation from the power semiconductor module are indispensable, and heat cycle or Reliability for power cycle is required.
However, in the configuration described in
For this reason, the stress due to the difference in thermal expansion coefficient between the power semiconductor chip and the copper pattern or the ceramic substrate is constantly generated in the joining hole by the
また、IGBTと絶縁基板との間にはパッケージ全体を封止する樹脂(エポキシ系の樹脂など)が注入される。パワー半導体チップと絶縁基板との間のはんだボール14’以外の部分には熱抵抗が大きい樹脂が注入されるため、パッケージの絶縁基板側からの放熱が制限され、十分な放熱を行うことができず、パワー半導体チップの能力を使い切ることができない。
特許文献2の構成では、積層構造を採用することによってパッケージ内の集積度が高まり発熱密度が上昇しているため、放熱(冷却)対策が必要不可欠であるにもかかわらず、十分な冷却ができないため、接合部の長期信頼性を確保することが難しいという課題がある。特に熱伝導率が低い樹脂封止パッケージでは放熱は大きな問題となる。
この発明は、上記のパワー半導体モジュールにおける課題に鑑みてなされたものであって、積層構造を採用するパッケージにおいて半導体チップの上下面並びにパッケージの上下面からの放熱を効率良く行うことを課題とするものである。
Further, a resin (such as an epoxy resin) that seals the entire package is injected between the IGBT and the insulating substrate. Since a resin having a high thermal resistance is injected into a portion other than the solder ball 14 'between the power semiconductor chip and the insulating substrate, heat radiation from the insulating substrate side of the package is limited, and sufficient heat radiation can be performed. Therefore, the power semiconductor chip cannot be used up.
In the configuration of
The present invention has been made in view of the problems in the power semiconductor module described above, and it is an object of the present invention to efficiently dissipate heat from the upper and lower surfaces of the semiconductor chip and from the upper and lower surfaces of the package in a package employing a laminated structure. Is.
前記の課題を解決するため、この発明は、第1の金属バーと第2の金属バーとの間にパワー半導体スイッチ素子の主電極ならびにダイオードの電極をそれぞれ接合して第1の並列接続回路を構成し、第2の金属バーと第3の金属バーとの間にパワー半導体スイッチ素子の主電極ならびにダイオードの電極をそれぞれ接合して第2の並列接続回路を構成し、第1の並列接続回路と第2の並列接続回路とを、前記第2の金属バーを介して直列接続し、前記第1,第3の金属バーを直流入力端子とし、該第2の金属バーを出力端子とするものである。
上記の構成において、前記第1,第2,第3の金属バーを金属板とするか、前記第1,第3の金属バーをセラミック基板の両面に金属箔を接合した絶縁基板,第2の導体板を金属板とするとよい。
In order to solve the above-described problems, the present invention provides a first parallel connection circuit in which a main electrode of a power semiconductor switch element and an electrode of a diode are respectively joined between a first metal bar and a second metal bar. A second parallel connection circuit is formed by joining the main electrode of the power semiconductor switching element and the electrode of the diode between the second metal bar and the third metal bar, respectively. And a second parallel connection circuit connected in series via the second metal bar, the first and third metal bars serving as DC input terminals, and the second metal bar serving as an output terminal It is.
In the above configuration, the first, second, and third metal bars are metal plates, or the first and third metal bars are insulating substrates in which metal foils are bonded to both surfaces of a ceramic substrate. The conductor plate may be a metal plate.
さらに、前記第1の金属バーと第3の金属バーとに挟まれた領域であって、前記パワー半導体スイッチ素子および前記ダイオードが接合された部分を樹脂封止するとよい。 Furthermore, it is preferable that a region sandwiched between the first metal bar and the third metal bar where the power semiconductor switch element and the diode are joined is sealed with resin.
この発明のパワー半導体モジュールによれば、上下アームを構成するパワー半導体チップを金属バーで挟み込む構造とすることでパッケージの面積を従来の1/2程度まで小型化することができる。また、パワー半導体チップの上下面並びにパッケージの上下面から高効率に放熱を行うことができ、信頼性の高い半導体デバイスの供給が可能となる。 According to the power semiconductor module of the present invention, the area of the package can be reduced to about ½ of the conventional size by adopting a structure in which the power semiconductor chips constituting the upper and lower arms are sandwiched between the metal bars. Further, heat can be radiated with high efficiency from the upper and lower surfaces of the power semiconductor chip and the upper and lower surfaces of the package, and a highly reliable semiconductor device can be supplied.
以下にこの発明を、図に示す実施例に基づいて説明する。 The present invention will be described below based on the embodiments shown in the drawings.
図1はこの発明のパワー半導体モジュールの第1の実施例を示す断面図である。図1において、11Pa,11NaはIGBT、11Pb,11NbはFWDであって、はんだ12,金属ボール14を介して金属バー13a〜13cに接合されている。金属バーの材質としてCu,Al,Feあるいはこれらの合金などを用いる。なお、金属ボール14ははんだ12よりも融点の高い金属コアや、金属コアの周囲にはんだを被覆した金属コアはんだボール、あるいは単なるはんだボールを含む。金属コアを用いたものは、所望のはんだ厚を確保する点で有利である。以下において、これらを金属ボール14と総称する。
IGBT11Paのコレクタ電極とFWD11Pbのカソード電極は金属バー13aにはんだ接合され、同じくIGBT11Paエミッタ電極とFWD11Pbアノード電極は金属バー13bにはんだ接合される。このとき、上記はんだにはSn系のはんだを用い、IGBT11Paのゲート電極は金属ボール14を介して金属バー13b上のゲート配線(図示せず)にはんだ接合される。このゲート配線は金属バー13bの表面に例えばポリイミドなどの樹脂を塗布して200μm程度絶縁層を形成し、該絶縁層上に銅箔等でパターニングして形成すればよい。なお、金属バー13bとして薄板状のヒートパイプを用いてもよい。ヒートパイプを用いることにより、パワー半導体モジュール内部の熱を効果的に放出することができる。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of the power semiconductor module of the present invention. In FIG. 1, 11 Pa and 11 Na are IGBTs, 11 Pb and 11 Nb are FWDs, and are joined to metal bars 13 a to 13 c via
The collector electrode of IGBT11Pa and the cathode electrode of FWD11Pb are soldered to the metal bar 13a, and the IGBT11Pa emitter electrode and FWD11Pb anode electrode are also soldered to the metal bar 13b. At this time, Sn solder is used as the solder, and the gate electrode of the IGBT 11Pa is soldered to the gate wiring (not shown) on the metal bar 13b via the metal ball. The gate wiring may be formed by applying a resin such as polyimide on the surface of the metal bar 13b to form an insulating layer of about 200 μm and patterning the insulating layer with a copper foil or the like. In addition, you may use a thin plate-shaped heat pipe as the metal bar 13b. By using the heat pipe, the heat inside the power semiconductor module can be effectively released.
また、IGBT11Naのコレクタ電極とFWD11Nbのカソード電極は金属バー13bにはんだ接合され、同じくエミッタ電極とアノード電極は金属バー13cにはんだ接合される。このとき、上記はんだにはSn系のはんだを用い、IGBT11Naのゲート電極は金属ボール14を介して金属バー13c上のゲート配線(図示せず)にはんだ接合される。
なお、上記ゲート配線は、上述の金属バー13bの表面に形成したものと同様に、絶縁層を介して銅箔等で形成してもよいし、あるいは、ディスクリート製品で使用されているような金属板を打ち抜き加工したリードフレーム状の金属バー13bを用いてもよい。ゲート配線に相当するパターンも打ち抜き加工されているので、金属バー13b上の絶縁層は不要である。後述の樹脂封止の後、所望の形状にアウターリード部を切断すればよい。
The collector electrode of the IGBT 11Na and the cathode electrode of the FWD 11Nb are soldered to the metal bar 13b, and the emitter electrode and the anode electrode are similarly soldered to the metal bar 13c. At this time, Sn solder is used as the solder, and the gate electrode of the IGBT 11Na is soldered to the gate wiring (not shown) on the metal bar 13c via the metal ball.
The gate wiring may be formed of copper foil or the like through an insulating layer, similar to that formed on the surface of the metal bar 13b, or a metal used in discrete products. A lead frame-like metal bar 13b obtained by punching a plate may be used. Since the pattern corresponding to the gate wiring is also punched, an insulating layer on the metal bar 13b is unnecessary. What is necessary is just to cut | disconnect an outer lead part in a desired shape after the below-mentioned resin sealing.
次に、組立方法について簡単に説明する。金属バー13aの所定個所にクリームはんだを塗布し、あるいははんだシートを介してIGBT11Pa,FWD11Pbを載置し、この積層体を加熱炉に投入してはんだを溶融・固化させて両者を接合する。はんだ溶融時にIGBT11PaやFWD11Pbがずれないよう、図示しない治具を用いるとよい。同様に金属バー13cにIGBT11Na,FWD11Nbを接合する。
つづいて、金属バー13bの両面の所定個所にクリームはんだを塗布し、あるいははんだシートを介して、金属バー13aとIGBT11Pa,FWD11Pbの接合体と、金属バー13cとIGBT11Na,FWD11Nbの接合体との間に介挿し、再び加熱炉に投入して金属バー13bの両面のはんだを溶融・固化させてすべての接合を完了させる。金属バー13bの接合に用いるはんだは、金属バー13a,13cの接合に用いたはんだより融点の低いものを用いるとよい。
Next, the assembly method will be briefly described. Cream solder is applied to a predetermined portion of the metal bar 13a, or IGBTs 11Pa and FWD11Pb are placed via a solder sheet, and this laminated body is put into a heating furnace to melt and solidify the solder to join them. A jig (not shown) may be used so that the IGBT 11Pa and FWD11Pb do not shift when the solder is melted. Similarly, IGBT11Na and FWD11Nb are joined to the metal bar 13c.
Subsequently, cream solder is applied to predetermined positions on both surfaces of the metal bar 13b, or between the joined body of the metal bar 13a and the IGBT 11Pa, FWD11Pb and the joined body of the metal bar 13c and the IGBT 11Na, FWD11Nb via a solder sheet. Is inserted into the heating furnace again, and the solder on both sides of the metal bar 13b is melted and solidified to complete all joining. The solder used for joining the metal bars 13b may have a lower melting point than the solder used for joining the metal bars 13a and 13c.
上記のように、先に、金属バー13a,13cへIGBT11a,FWD11bを接合した後、両者を金属バー13bに接合することにより、組立に用いる位置決め治具を簡単な構成とすることができ、各半導体チップを金属バー13a,13cの所定の個所に固定することが容易となり、組立精度を向上させることができる。
あるいは、各接合に用いるはんだを同融点として、すべてのはんだ接合を同時に行ってもよい。組立に用いる位置決め治具が若干複雑になるものの、はんだ接合工程を1回で完了させることができ、生産性を向上させることができる。
つづいて、上記のはんだ接合が完了した積層体を封止型に嵌装し、溶融したエポキシ樹脂などの封止樹脂15を流し込む。金属バー13aと13cとの間であって、半導体チップが実装された領域を封止する。このとき、金属バー13a,13cのはんだ接合されていない面を露出するようにすると、半導体チップが発生する熱を露出面より放出しやすくなる。
As described above, after joining the IGBT 11a and
Alternatively, all the solder joints may be performed at the same time with the solder used for each joint having the same melting point. Although the positioning jig used for assembly is slightly complicated, the solder joining process can be completed in one time, and the productivity can be improved.
Subsequently, the laminated body in which the above-described solder bonding is completed is fitted into a sealing mold, and a sealing
このように、IGBT11Pa,FWD11PbとIGBT11Na,FWD11Nbとを金属バー13bを介して金属バー13a,13c間に積層し、IGBT11PaとFWD11Pbで上(正極側)アーム,IGBT11NaとFWD11Nbとで下(負極側)アームを構成し、金属バー13aを直流入力(正極),金属バー13bを交流出力,金属バー13cを直流入力(負極)とする1相分のパワー半導体モジュール(2個組み積層型パッケージ)を構成する。
このようなパッケージをインバータ装置などに組み込んで用いる場合は、金属バー13a,13cの露出面に絶縁性があり熱伝導性の高い放熱シート16を介して放熱フィン17を接合する。放熱シート16に粘着性のものを用いれば、放熱フィン17を容易に取り付けることができる。
As described above, the IGBT 11Pa and FWD11Pb and the IGBT 11Na and FWD11Nb are stacked between the metal bars 13a and 13c through the metal bar 13b, and the upper (positive electrode side) arm on the IGBT 11Pa and FWD11Pb, and the lower (negative electrode side) on the IGBT 11Na and FWD11Nb. A power semiconductor module (two-packed laminated package) for one phase is constructed, with the arm configured as a DC input (positive electrode) for the metal bar 13a, an AC output for the metal bar 13b and a DC input (negative electrode) for the metal bar 13c. To do.
When such a package is used in an inverter device or the like, the exposed surfaces of the metal bars 13a and 13c are joined to the
図2はこの発明のパワー半導体モジュールの第2の実施例を示す断面図である。図2において、18,19はセラミック基板の両面に金属箔としての銅パターン18a,18b,19a,19bが接合された絶縁基板である。絶縁基板18,19の一方の面の銅パターン18a,19aは、回路パターンとして形成されている。セラミック基板と金属箔との接合には、直接接合を用いてもよいし、ロウ材を介して接合してもよい。
IGBT11Paのコレクタ電極,FWD11Pbのカソード電極,直流入力端子(P)となる金属バー13dは、絶縁基板18の銅パターン18aにはんだ接合され、同様にIGBT11Paエミッタ電極とFWD11Pbアノード電極は金属バー13bにはんだ接合される。このとき、上記はんだにはSn系のはんだを用い、IGBT11Paのゲート電極は金属ボール14を介して金属バー13b上のゲート配線(図示せず)にはんだ接合される。このゲート配線は金属バー13bの表面に例えばポリイミドなどの樹脂を塗布して200μm程度絶縁層を形成し、該絶縁層上に銅箔等でパターニングして形成すればよい。なお、金属バー13bとして薄板状のヒートパイプを用いてもよい。ヒートパイプを用いることにより、パワー半導体モジュール内部の熱を効果的に放出することができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the power semiconductor module of the present invention. In FIG. 2, 18 and 19 are insulating substrates in which
The collector electrode of IGBT 11Pa, the cathode electrode of FWD11Pb, and the metal bar 13d serving as the DC input terminal (P) are soldered to the copper pattern 18a of the insulating substrate 18, and the IGBT 11Pa emitter electrode and the FWD11Pb anode electrode are similarly soldered to the metal bar 13b. Be joined. At this time, Sn solder is used as the solder, and the gate electrode of the IGBT 11Pa is soldered to the gate wiring (not shown) on the metal bar 13b via the metal ball. The gate wiring may be formed by applying a resin such as polyimide on the surface of the metal bar 13b to form an insulating layer of about 200 μm and patterning the insulating layer with a copper foil or the like. In addition, you may use a thin plate-shaped heat pipe as the metal bar 13b. By using the heat pipe, the heat inside the power semiconductor module can be effectively released.
また、IGBT11Naのコレクタ電極とFWD11Nbのカソード電極は金属バー13bにはんだ接合され、同じくIGBT11Naエミッタ電極,FWD11Nbアノード電極,直流入力端子(N)となる金属バー13eは絶縁基板19の銅パターン19aにはんだ接合される。このとき、上記はんだにはSn系のはんだを用い、IGBT11Naのゲート電極は金属ボール14を介して絶縁基板19の銅パターン19a’にはんだ接合される。
なお、IGBT11Naのゲートに対応する部分については、パワー半導体モジュール外への引き出し部の図示は省略するが、絶縁基板19の回路パターンの形成により自在に引き出すことができ、リードフレームを用いた場合に比べ、設計の自由度が高い。
第2実施例のパワー半導体モジュールの組立方法も第1の実施例と同様であって、絶縁基板18の銅パターン18a上にIGBT11Pa,FWD11Pb,金属バー13dを、をそれぞれ所定の位置に塗布したクリームはんだもしくははんだシートを介して載置し、この積層体をそれぞれ加熱炉に投入し、はんだを溶融・固化させて接合する。はんだ溶融時にIGBT11Pa,FWD11Pb,金属バー13dがすれないよう、図示しない治具を用いるとよい。同様に絶縁基板19の銅パターン19a上にIGBT11Na,FWD11Nb,金属バー13eを接合する。
The collector electrode of the IGBT 11Na and the cathode electrode of the FWD 11Nb are soldered to the metal bar 13b, and the metal bar 13e, which also becomes the IGBT 11Na emitter electrode, the FWD 11Nb anode electrode, and the DC input terminal (N), is soldered to the copper pattern 19a of the insulating substrate 19. Be joined. At this time, Sn solder is used as the solder, and the gate electrode of the IGBT 11Na is soldered to the copper pattern 19a ′ of the insulating substrate 19 via the
The portion corresponding to the gate of the IGBT 11Na is not shown in the drawing of the lead-out portion to the outside of the power semiconductor module, but can be pulled out freely by forming a circuit pattern on the insulating substrate 19, and when a lead frame is used. Compared to it, the degree of freedom in design is high.
The method of assembling the power semiconductor module of the second embodiment is the same as that of the first embodiment. The cream is obtained by applying IGBT 11Pa, FWD11Pb, and metal bar 13d on the copper pattern 18a of the insulating substrate 18 at predetermined positions. It mounts via a solder or a solder sheet | seat, this laminated body is each put into a heating furnace, a solder is fuse | melted and solidified and it joins. A jig (not shown) may be used so that the IGBT 11Pa, FWD11Pb, and the metal bar 13d are not smeared when the solder is melted. Similarly, IGBT11Na, FWD11Nb, and metal bar 13e are joined on the copper pattern 19a of the insulating substrate 19.
つづいて、金属バー13bの両面の所定個所にクリームはんだを塗布し、あるいははんだシートを介して、絶縁基板18の接合体と絶縁基板19の接合体との間に介挿し、再び加熱炉に投入して金属バー13bの両面のはんだを溶融・固化させてすべての接合を完了させる。金属バー13bの接合に用いるはんだは、金属バー13a,13cの接合に用いたはんだより融点の低いものを用いるとよい。
このように、予め絶縁基板18側(上アーム側),絶縁基板19側(下アーム側)のはんだ接合を完了させることにより、組立に用いる位置決め治具を簡単な構成とすることができ、半導体チップや導体板の接合精度を向上させることができる。
あるいは、同融点のはんだを用い、すべてのはんだ接合を同時に行ってもよい。この場合は、はんだ接合工程を1回で完了させることができるため、生産性を向上させることができる。
Subsequently, cream solder is applied to predetermined positions on both sides of the metal bar 13b, or is inserted between the joined body of the insulating substrate 18 and the joined body of the insulating substrate 19 via a solder sheet, and again put into the heating furnace. Then, the solder on both sides of the metal bar 13b is melted and solidified to complete all the joining. The solder used for joining the metal bars 13b may have a lower melting point than the solder used for joining the metal bars 13a and 13c.
As described above, the soldering of the insulating substrate 18 side (upper arm side) and the insulating substrate 19 side (lower arm side) is completed in advance, so that the positioning jig used for assembly can have a simple configuration. The joining accuracy of the chip and the conductor plate can be improved.
Alternatively, solder having the same melting point may be used, and all solder joints may be performed simultaneously. In this case, since the solder joining process can be completed at once, productivity can be improved.
つづいて、上記のはんだ接合が完了した積層体を封止型に嵌装し、溶融したエポキシ樹脂などの封止樹脂15を流し込む。絶縁基板18,19に挟まれた領域であって、半導体チップが実装された領域を封止する。このとき、絶縁基板18,19の銅パターン18b,19bを露出するようにすると、半導体チップが発生する熱を露出面より放出しやすくなる。
このように、IGBT11Pa,FWD11PbとIGBT11Na,FWD11Nbとを金属バー13bを介して絶縁基板18,19間に積層し、IGBT11PaとFWD11Pbで上(正極側)アーム,IGBT11NaとFWD11Nbとで(負極側)アームを構成し、金属バー13dを直流入力(正極),金属バー13bを交流出力,金属バー13eを直流入力(負極)とする1相分のパワー半導体モジュール(2個組み積層型パッケージ)を構成する。
Subsequently, the laminated body in which the above-described solder bonding is completed is fitted into a sealing mold, and a sealing
Thus, IGBT11Pa, FWD11Pb and IGBT11Na, FWD11Nb are stacked between insulating substrates 18 and 19 via metal bar 13b, and the upper (positive electrode side) arm is formed by IGBT11Pa and FWD11Pb, and the negative electrode side arm is formed by IGBT11Na and FWD11Nb. A power semiconductor module (a two-layer stacked package) for one phase in which the metal bar 13d is a DC input (positive electrode), the metal bar 13b is an AC output, and the metal bar 13e is a DC input (negative electrode). .
絶縁基板を用いているため、絶縁基板の露出面(銅パターン18b,19b)は内部のとは絶縁が保たれている。このため、このようなパッケージをインバータ装置などに組み込んで用いる場合、第1の実施例で用いた放熱シートは不要である。放熱フィン17の取り付けにあたっては、封止した樹脂部に放熱フィンの固定用のビス穴(図示せず)を設けてもよい。ビス穴内に金属管を圧入若しくは樹脂に一体に形成することで所望の強度を得ることができる。あるいは、絶縁基板18側の放熱フィンと絶縁基板19側の放熱フィンとでパワー半導体モジュールを挟み込み、放熱フィン同士を相互に固定してもよい。
なお、上記の各実施例においては、各接合をはんだによって行っているが、電気的・熱的・機械的な接続を図る接合方法であればこれに限るものではない。例えば、実施例1において、金属バー13a,13cとIGBT11a,FWD11bとの間をはんだによって接合し、同じく実施例2においては、絶縁基板18,19の銅パターン18a,19aとIGBT11Pa,FWD11Pb,IGBT11Na,FWD11Nb,金属バー13d,13eとの間をはんだによって接合しているが、はんだ接合に代えて超音波接合を採用してもよい。
Since an insulating substrate is used, the exposed surfaces (
In each of the above-described embodiments, each bonding is performed by soldering. However, the bonding method is not limited to this as long as it is a bonding method for achieving electrical, thermal, and mechanical connection. For example, in Example 1, the metal bars 13a and 13c and the IGBTs 11a and FWD11b are joined by solder. Similarly, in Example 2, the copper patterns 18a and 19a of the insulating substrates 18 and 19 and the IGBTs 11Pa, FWD11Pb, IGBT11Na, The FWD 11Nb and the metal bars 13d and 13e are joined by soldering, but ultrasonic joining may be employed instead of solder joining.
11a,11Na,11Pa IGBT
11b,11Nb,11Pb FWD
12 はんだ
13a,13b,13c,13d,13e 金属バー
14 金属
15 封止樹脂
16 放熱シート
17 放熱フィン
18,19,21,31,32 絶縁基板
22 外部導出端子
23 ボンディングワイヤ
24 樹脂ケース
25 蓋
26 放熱ベース
21a,21b,31a,31b 銅パターン
32c スルーホール
33 金属配線板
11a, 11Na, 11Pa IGBT
11b, 11Nb, 11Pb FWD
12 Solder 13a, 13b, 13c, 13d,
Claims (4)
第2の導体基板と第3の導体基板との間にパワー半導体スイッチ素子の主電極ならびにダイオードの電極をそれぞれ接合して第2の並列接続回路を構成し、
第1の並列接続回路と第2の並列接続回路とを、前記第2の導体基板を介して直列接続し、
前記第1,第3の導体基板を直流入力端子とし、該第2の導体基板を出力端子としたことを特徴とする半導体装置。 A first parallel connection circuit is formed by bonding a main electrode of a power semiconductor switch element and an electrode of a diode between the first conductor substrate and the second conductor substrate,
A main parallel electrode of the power semiconductor switch element and an electrode of the diode are respectively joined between the second conductor substrate and the third conductor substrate to constitute a second parallel connection circuit,
A first parallel connection circuit and a second parallel connection circuit are connected in series via the second conductive substrate,
A semiconductor device characterized in that the first and third conductor substrates are DC input terminals, and the second conductor substrate is an output terminal.
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a region sandwiched between the first conductor substrate and the third conductor substrate, in which the power semiconductor switch element and the diode are joined, is resin-sealed. A semiconductor device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004117409A JP4438489B2 (en) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004117409A JP4438489B2 (en) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | Semiconductor device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005303018A true JP2005303018A (en) | 2005-10-27 |
| JP4438489B2 JP4438489B2 (en) | 2010-03-24 |
Family
ID=35334157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004117409A Expired - Fee Related JP4438489B2 (en) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4438489B2 (en) |
Cited By (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007109855A (en) * | 2005-10-13 | 2007-04-26 | Denso Corp | Insulation structure of semiconductor module |
| JP2007311441A (en) * | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Hitachi Ltd | Power semiconductor module |
| JP2008078240A (en) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Toyota Motor Corp | Semiconductor device wiring connection method and semiconductor device |
| JP2009177038A (en) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Hitachi Ltd | Power semiconductor module |
| JP2009272351A (en) * | 2008-04-30 | 2009-11-19 | Nippon Inter Electronics Corp | Method of manufacturing power semiconductor module |
| CN101599484A (en) * | 2008-06-05 | 2009-12-09 | 三菱电机株式会社 | Resin-sealed semiconductor device and method for manufacturing the same |
| WO2009150875A1 (en) * | 2008-06-12 | 2009-12-17 | 株式会社安川電機 | Power module and control method therefore |
| US7848104B2 (en) | 2009-03-23 | 2010-12-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Power module |
| JP2011082323A (en) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Renesas Electronics Corp | Method of manufacturing semiconductor device |
| JP2011125152A (en) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Toyota Central R&D Labs Inc | Power converter |
| JP2011125151A (en) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Toyota Central R&D Labs Inc | Power converter |
| JP2012038951A (en) * | 2010-08-09 | 2012-02-23 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor circuit board and manufacturing method thereof, and semiconductor device |
| JP2013021318A (en) * | 2011-07-11 | 2013-01-31 | Internatl Rectifier Corp | Stacked half-bridge power module |
| WO2013153920A1 (en) * | 2012-04-11 | 2013-10-17 | 住友電気工業株式会社 | Semiconductor device |
| JP2014096412A (en) * | 2012-11-07 | 2014-05-22 | Toyota Motor Corp | Semiconductor module |
| JP2014130894A (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Toyota Motor Corp | Semiconductor module |
| WO2014173801A1 (en) * | 2013-04-25 | 2014-10-30 | Conti Temic Microelectronic Gmbh | Power module, power converter and drive arrangement with a power module |
| US8878347B2 (en) | 2011-05-16 | 2014-11-04 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Power module |
| US9171772B2 (en) | 2012-08-24 | 2015-10-27 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
| WO2015176893A1 (en) * | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Robert Bosch Gmbh | Commutation cell |
| CN105590930A (en) * | 2016-02-02 | 2016-05-18 | 中国第一汽车股份有限公司 | IGBT power module used for new energy vehicle |
| JP2016162992A (en) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | 三菱電機株式会社 | Power semiconductor device |
| US9530707B2 (en) | 2013-10-03 | 2016-12-27 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor module |
| EP3176822A1 (en) * | 2015-12-04 | 2017-06-07 | Robert Bosch Gmbh | Electrically and thermally efficient power bridge |
| KR101766082B1 (en) * | 2015-12-09 | 2017-08-07 | 현대자동차주식회사 | Power module |
| KR101776425B1 (en) * | 2015-12-10 | 2017-09-08 | 현대자동차주식회사 | Power module |
| DE102018208437A1 (en) | 2017-08-09 | 2019-02-14 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
| JP2020061427A (en) * | 2018-10-09 | 2020-04-16 | トヨタ自動車株式会社 | Semiconductor module |
| CN111357101A (en) * | 2017-11-17 | 2020-06-30 | 维迪科研究所 | Electronic system comprising an electronic module |
| CN111540717A (en) * | 2020-05-06 | 2020-08-14 | 晏新海 | Power module |
| CN111554666A (en) * | 2019-02-11 | 2020-08-18 | 半导体元件工业有限责任公司 | Power Semiconductor Device Packages |
| CN111952260A (en) * | 2019-05-15 | 2020-11-17 | 株式会社电装 | semiconductor device |
| CN112599486A (en) * | 2019-10-02 | 2021-04-02 | 富士电机株式会社 | Semiconductor module and method for manufacturing semiconductor module |
| KR20210041691A (en) * | 2019-10-07 | 2021-04-16 | 현대모비스 주식회사 | Power Module Connected by Multi-layer and the Manufacturing Method thereof |
| JPWO2022092291A1 (en) * | 2020-10-30 | 2022-05-05 | ||
| KR20220084800A (en) * | 2020-12-14 | 2022-06-21 | 파워마스터반도체 주식회사 | Power module package |
| WO2022207202A1 (en) * | 2021-04-01 | 2022-10-06 | Pierburg Gmbh | Power semiconductor package |
| CN115621224A (en) * | 2022-08-23 | 2023-01-17 | 北京萃锦科技有限公司 | A bondless double-sided heat dissipation module and its manufacturing method |
| EP4010926A4 (en) * | 2020-11-02 | 2023-02-22 | Dynex Semiconductor Limited | HIGH POWER DENSITY 3D SEMICONDUCTOR MODULE PACKAGING |
| WO2023090072A1 (en) * | 2021-11-16 | 2023-05-25 | ローム株式会社 | Semiconductor device |
| DE102014104497B4 (en) | 2013-04-02 | 2024-03-14 | Infineon Technologies Austria Ag | MULTI-LEVEL SEMICONDUCTOR HOUSING AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4635564B2 (en) * | 2004-11-04 | 2011-02-23 | 富士電機システムズ株式会社 | Semiconductor device |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09186290A (en) * | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Fuji Electric Co Ltd | Stack structure of pressure contact type semiconductor device |
| JPH1056131A (en) * | 1996-08-12 | 1998-02-24 | Denso Corp | Semiconductor device |
| JP2002110893A (en) * | 2000-10-04 | 2002-04-12 | Denso Corp | Semiconductor device |
| JP2004193476A (en) * | 2002-12-13 | 2004-07-08 | Denso Corp | Semiconductor device |
-
2004
- 2004-04-13 JP JP2004117409A patent/JP4438489B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09186290A (en) * | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Fuji Electric Co Ltd | Stack structure of pressure contact type semiconductor device |
| JPH1056131A (en) * | 1996-08-12 | 1998-02-24 | Denso Corp | Semiconductor device |
| JP2002110893A (en) * | 2000-10-04 | 2002-04-12 | Denso Corp | Semiconductor device |
| JP2004193476A (en) * | 2002-12-13 | 2004-07-08 | Denso Corp | Semiconductor device |
Cited By (70)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007109855A (en) * | 2005-10-13 | 2007-04-26 | Denso Corp | Insulation structure of semiconductor module |
| JP2007311441A (en) * | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Hitachi Ltd | Power semiconductor module |
| JP2008078240A (en) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Toyota Motor Corp | Semiconductor device wiring connection method and semiconductor device |
| JP2009177038A (en) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Hitachi Ltd | Power semiconductor module |
| JP2009272351A (en) * | 2008-04-30 | 2009-11-19 | Nippon Inter Electronics Corp | Method of manufacturing power semiconductor module |
| US7772709B2 (en) | 2008-06-05 | 2010-08-10 | Mitsubishi Electric Corporation | Resin sealed semiconductor device and manufacturing method therefor |
| CN101599484A (en) * | 2008-06-05 | 2009-12-09 | 三菱电机株式会社 | Resin-sealed semiconductor device and method for manufacturing the same |
| CN101599484B (en) * | 2008-06-05 | 2012-11-14 | 三菱电机株式会社 | Resin-sealed semiconductor device and manufacturing method thereof |
| DE102008054306A1 (en) | 2008-06-05 | 2009-12-17 | Mitsubishi Electric Corp. | Resin-sealed semiconductor device and manufacturing method therefor |
| CN102201398A (en) * | 2008-06-05 | 2011-09-28 | 三菱电机株式会社 | Resin sealed semiconductor device and manufacturing method therefor |
| US8279605B2 (en) | 2008-06-12 | 2012-10-02 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | Power semiconductor module |
| WO2009150875A1 (en) * | 2008-06-12 | 2009-12-17 | 株式会社安川電機 | Power module and control method therefore |
| JPWO2009150875A1 (en) * | 2008-06-12 | 2011-11-10 | 株式会社安川電機 | Power module and control method thereof |
| US7848104B2 (en) | 2009-03-23 | 2010-12-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Power module |
| JP2011082323A (en) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Renesas Electronics Corp | Method of manufacturing semiconductor device |
| JP2011125151A (en) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Toyota Central R&D Labs Inc | Power converter |
| JP2011125152A (en) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Toyota Central R&D Labs Inc | Power converter |
| JP2012038951A (en) * | 2010-08-09 | 2012-02-23 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor circuit board and manufacturing method thereof, and semiconductor device |
| US8878347B2 (en) | 2011-05-16 | 2014-11-04 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Power module |
| JP2013021318A (en) * | 2011-07-11 | 2013-01-31 | Internatl Rectifier Corp | Stacked half-bridge power module |
| EP2546874B1 (en) * | 2011-07-11 | 2020-03-04 | Infineon Technologies Americas Corp. | Stacked Half-Bridge Power Module |
| US8987777B2 (en) | 2011-07-11 | 2015-03-24 | International Rectifier Corporation | Stacked half-bridge power module |
| US20130270706A1 (en) * | 2012-04-11 | 2013-10-17 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Semiconductor device |
| WO2013153920A1 (en) * | 2012-04-11 | 2013-10-17 | 住友電気工業株式会社 | Semiconductor device |
| US9171772B2 (en) | 2012-08-24 | 2015-10-27 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
| JP2014096412A (en) * | 2012-11-07 | 2014-05-22 | Toyota Motor Corp | Semiconductor module |
| JP2014130894A (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Toyota Motor Corp | Semiconductor module |
| DE102014104497B4 (en) | 2013-04-02 | 2024-03-14 | Infineon Technologies Austria Ag | MULTI-LEVEL SEMICONDUCTOR HOUSING AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2016523069A (en) * | 2013-04-25 | 2016-08-04 | コンティ テミック マイクロエレクトロニック ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングConti Temic microelectronic GmbH | POWER MODULE, POWER CONVERTER, AND DRIVE DEVICE PROVIDED WITH POWER MODULE |
| WO2014173801A1 (en) * | 2013-04-25 | 2014-10-30 | Conti Temic Microelectronic Gmbh | Power module, power converter and drive arrangement with a power module |
| US10027094B2 (en) | 2013-04-25 | 2018-07-17 | Conti Temic Microelectronic Gmbh | Power module, power converter and drive arrangement with a power module |
| US9530707B2 (en) | 2013-10-03 | 2016-12-27 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor module |
| WO2015176893A1 (en) * | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Robert Bosch Gmbh | Commutation cell |
| DE102014209690B4 (en) * | 2014-05-21 | 2020-02-20 | Robert Bosch Gmbh | Kommutierungszelle |
| JP2017523596A (en) * | 2014-05-21 | 2017-08-17 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツングRobert Bosch Gmbh | Commutation cell |
| US9871025B2 (en) | 2014-05-21 | 2018-01-16 | Robert Bosch Gmbh | Commutation cell |
| JP2016162992A (en) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | 三菱電機株式会社 | Power semiconductor device |
| EP3176822A1 (en) * | 2015-12-04 | 2017-06-07 | Robert Bosch Gmbh | Electrically and thermally efficient power bridge |
| KR101766082B1 (en) * | 2015-12-09 | 2017-08-07 | 현대자동차주식회사 | Power module |
| KR101776425B1 (en) * | 2015-12-10 | 2017-09-08 | 현대자동차주식회사 | Power module |
| CN105590930A (en) * | 2016-02-02 | 2016-05-18 | 中国第一汽车股份有限公司 | IGBT power module used for new energy vehicle |
| JP2019033226A (en) * | 2017-08-09 | 2019-02-28 | 三菱電機株式会社 | Semiconductor device |
| US10354940B2 (en) | 2017-08-09 | 2019-07-16 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
| DE102018208437A1 (en) | 2017-08-09 | 2019-02-14 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
| CN109390300A (en) * | 2017-08-09 | 2019-02-26 | 三菱电机株式会社 | Semiconductor device |
| CN109390300B (en) * | 2017-08-09 | 2022-11-08 | 三菱电机株式会社 | Semiconductor device with a plurality of semiconductor chips |
| DE102018208437B4 (en) | 2017-08-09 | 2023-01-19 | Mitsubishi Electric Corporation | semiconductor device |
| CN111357101A (en) * | 2017-11-17 | 2020-06-30 | 维迪科研究所 | Electronic system comprising an electronic module |
| JP7063224B2 (en) | 2018-10-09 | 2022-05-09 | 株式会社デンソー | Semiconductor module |
| JP2020061427A (en) * | 2018-10-09 | 2020-04-16 | トヨタ自動車株式会社 | Semiconductor module |
| CN111554666A (en) * | 2019-02-11 | 2020-08-18 | 半导体元件工业有限责任公司 | Power Semiconductor Device Packages |
| CN111952260B (en) * | 2019-05-15 | 2024-08-06 | 株式会社电装 | Semiconductor device with a semiconductor device having a plurality of semiconductor chips |
| JP2020188172A (en) * | 2019-05-15 | 2020-11-19 | 株式会社デンソー | Semiconductor device |
| CN111952260A (en) * | 2019-05-15 | 2020-11-17 | 株式会社电装 | semiconductor device |
| JP7200825B2 (en) | 2019-05-15 | 2023-01-10 | 株式会社デンソー | semiconductor equipment |
| CN112599486A (en) * | 2019-10-02 | 2021-04-02 | 富士电机株式会社 | Semiconductor module and method for manufacturing semiconductor module |
| KR20210041691A (en) * | 2019-10-07 | 2021-04-16 | 현대모비스 주식회사 | Power Module Connected by Multi-layer and the Manufacturing Method thereof |
| KR102709718B1 (en) * | 2019-10-07 | 2024-09-27 | 현대모비스 주식회사 | Power Module Connected by Multi-layer and the Manufacturing Method thereof |
| CN111540717A (en) * | 2020-05-06 | 2020-08-14 | 晏新海 | Power module |
| CN111540717B (en) * | 2020-05-06 | 2022-09-27 | 晏新海 | Power module |
| JP7261936B2 (en) | 2020-10-30 | 2023-04-20 | 茂 佐藤 | Bonding method, bonded semiconductor device and semiconductor member |
| JPWO2022092291A1 (en) * | 2020-10-30 | 2022-05-05 | ||
| EP4010926A4 (en) * | 2020-11-02 | 2023-02-22 | Dynex Semiconductor Limited | HIGH POWER DENSITY 3D SEMICONDUCTOR MODULE PACKAGING |
| US12068298B2 (en) | 2020-11-02 | 2024-08-20 | Dynex Semiconductor Limited | High power density 3D semiconductor module packaging |
| KR102459361B1 (en) * | 2020-12-14 | 2022-10-28 | 파워마스터반도체 주식회사 | Power module package |
| US11728317B2 (en) | 2020-12-14 | 2023-08-15 | Power Master Semiconductor Co., Ltd. | Power module package |
| KR20220084800A (en) * | 2020-12-14 | 2022-06-21 | 파워마스터반도체 주식회사 | Power module package |
| WO2022207202A1 (en) * | 2021-04-01 | 2022-10-06 | Pierburg Gmbh | Power semiconductor package |
| WO2023090072A1 (en) * | 2021-11-16 | 2023-05-25 | ローム株式会社 | Semiconductor device |
| CN115621224A (en) * | 2022-08-23 | 2023-01-17 | 北京萃锦科技有限公司 | A bondless double-sided heat dissipation module and its manufacturing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4438489B2 (en) | 2010-03-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4438489B2 (en) | Semiconductor device | |
| JP4635564B2 (en) | Semiconductor device | |
| JP4613077B2 (en) | Semiconductor device, electrode member, and method for manufacturing electrode member | |
| JP6945418B2 (en) | Semiconductor devices and manufacturing methods for semiconductor devices | |
| JP2022179649A (en) | Semiconductor device and its manufacturing method | |
| JP4254527B2 (en) | Semiconductor device | |
| WO2013021647A1 (en) | Semiconductor module, semiconductor device provided with semiconductor module, and method for manufacturing semiconductor module | |
| JP5659938B2 (en) | Semiconductor unit and semiconductor device using the same | |
| JP5381444B2 (en) | Power module | |
| JP2005123233A (en) | Semiconductor device cooling structure | |
| TW200818418A (en) | Semiconductor die package including stacked dice and heat sink structures | |
| JP2013016525A (en) | Power semiconductor module and manufacturing method of the same | |
| JP4385324B2 (en) | Semiconductor module and manufacturing method thereof | |
| JP2017174927A (en) | Power module and manufacturing method thereof | |
| JP2005167075A (en) | Semiconductor device | |
| JP2008258547A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| JPWO2013171946A1 (en) | Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device | |
| CN111354709B (en) | Semiconductor device and method for manufacturing the same | |
| JP2007088030A (en) | Semiconductor device | |
| JP2006190728A (en) | Power semiconductor device | |
| WO2019116910A1 (en) | Semiconductor device and method for producing semiconductor device | |
| JP2013183022A (en) | Semiconductor device and manufacturing apparatus of the same | |
| JP2005286187A (en) | Semiconductor device | |
| JP2005150419A (en) | Semiconductor device | |
| JP4861200B2 (en) | Power module |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060703 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060704 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070116 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20080204 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081205 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20081216 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090219 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090915 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20091112 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091113 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091215 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091228 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140115 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |