JP2005280064A - 樹脂成形機および樹脂成形方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 酸化分解および触媒効果による分解を抑制する手段を採用することにより、溶融プラスチックは高い温度まで分解・解離を起こさず、きわめて粘性の低い溶融プラスチックになる。よって、フィルム押し出し、細管繊維押し出し、金型射出成形ともきわめてわずかな押し出し、射出圧力で実行することができ、成形機を小型軽量にすることができる。
【選択図】 図1
Description
(1) 溶融プラスチックの温度を可能な限り高くする。そのために、O2、H2Oを遮断したN2雰囲気で溶融、成形を行い、かつシクロオレフィン(ハイドロカーボン系プラスチックの代表)であれば、CrメッキベースでCr2O3の皮膜で樹脂接触部の表面を覆うことにより、370〜380℃まで昇温が可能である。従来では、可能な温度は280℃以下であり粘性は10倍以上になっている。また、PFA(フロロカーボン系プラスチックの代表)であれば、部材表面をNiメッキすることで、360〜370℃までが可能である。従来では290℃以下しか加熱できない。
炭化水素系樹脂成形において、分解を抑制するため、クロムメッキ表面とすることが好ましいが、それはクロムメッキは表面が自然酸化され酸化クロム皮膜になるからである。ただし、酸化クロム皮膜はCr2O3になるように3価のクロムを使用することが好ましい。通常のクロムメッキは6価クロムを用いるが、6価クロムでは酸化皮膜がCrO3になってしまい好ましくない。また6価クロムは有害物質である点からも好ましくない。クロムメッキは通常0.2ミクロン程度の膜厚で使用されることが好ましい。ところで、微細ピッチを形成した金型表面を実現する場合、メッキ面にダイヤモンド切削技術などで、微細形状を加工する。しかし、クロムメッキを金型表面に適用する場合、表面高度が高く、切削加工が出来ないため、下地として、ニッケルメッキ、あるいはNi-Pメッキ等の加工しやすいメッキ処理を施し、加工してからクロムメッキを施すことが好ましい。
樹脂成形品のわき腹にヘソが有ってもいい場合は、金型のわき腹にマトリックス状にたとえば3×4=12箇所の注入射出点を設ける。成形品のわき腹にヘソがあっては駄目な場合は、側面から注入する。この場合も側面が長い側には複数の注入射出点を設ける。従来は射出点が1つ、温度280℃での注入であり、1,500トンの射出圧が必要だったものが、本発明では380℃で射出点を12にすると、100Kg以下の射出圧力で十分になる。よって金型の型締め圧力、駆動圧力をきわめて小さくすることができる。
本発明の技術により、樹脂の粘度が飛躍的に低減されたため、配管を用いて樹脂を流し、バルブで流路を切り替えることが可能となり、複数の金型へ流し込むことが可能となる。複数の金型を用いることで生産性が飛躍的に向上する。
射出成形の際の金型への射出において、溶融樹脂粘度が下がると金型表面への樹脂の転写性が良くなり、例えば、フレネルレンズや光ディスクのような微細ピッチ(溝)構造を持つ場合、ピッチ内に緻密に充填されるが、その結果として、金型表面との密着性が良くなり、成形品が金型から容易には剥がれなくなる。剥がれ難くなる理由は、金型と成形品の間が密着するため、金型と成形品が剥がれる際に真空状態となるためである。そこで、離型時に金型ピッチに不活性ガスを導入することで、真空状態を解除し、剥がれやすくする。不活性ガスは、成形品品質に影響のない部分から導入される。
通常、フィルムやパイプ、繊維などの押出成形機の厚み調整は、溶融樹脂温度を制御することで行う。しかし、これでは精密な厚み制御が不可能である。そこで、押出成形機の厚み調整を圧電体で行うことが好ましい。圧電体は、溶融樹脂が押し出されるダイ部に配置され、必要に応じてその数を調整し、運用される。
通常、放電電極を用いたイオナイザが静電気除去に使われるが、大気中でイオナイザを使うと、O3(オゾン)が発生し、プラスチック高分子が分解・解離して低分子化する。よってO3を発生するイオナイザは使ってはならない。静電気除去のためには、1〜2オングストローム程度の波長の軟X線発生管で軟X線を空気に照射してO3を作らずに静電気を除去するのが良い。不活性なN2雰囲気中でも気体分子のイオン化は、きわめて効率よく起こり静電気を効率よく除去する。
5 シリンダー
6 ノズル
7 金型
8 射出成形機
9 ホッパー
Claims (47)
- 溶融樹脂を成形する樹脂成形機において、高分子材料が分解または解離して低分子有機物になることを抑制する手段を有することを特徴とする樹脂成形機。
- 溶融樹脂を成形する樹脂成形機において、高分子材料が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ前記溶融樹脂の粘性を下げる手段を有し、樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減したことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項1または2において、前記手段は酸化による分解または解離を抑制する手段を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項3において、前記手段は溶融樹脂の原料または溶融樹脂が接触する雰囲気における酸素濃度を10ppm以下とする手段を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項4において、前記手段は溶融樹脂の原料または溶融樹脂が接触する雰囲気における水分(H2O)の濃度を10ppm以下とする手段をさらに含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項1から5のいずれかにおいて、前記樹脂はアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂、ハイドロカーボン系樹脂およびフロロカーボン系樹脂からなる群から選ばれた樹脂の少なくとも一つであることを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項3において、前記手段は溶融樹脂の原料または溶融樹脂が接触する雰囲気における酸素および水分の少なくとも一方の濃度を1ppm以下とする手段を含み、かつ前記樹脂はハイドロカーボン系樹脂を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項7において、前記酸素および水分の少なくとも一方の濃度は0.1ppm以下であることを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項3において、前記手段は溶融樹脂の原料または溶融樹脂が接触する雰囲気における酸素および水分の少なくとも一方の濃度を10ppm以下とする手段を含み、かつ前記樹脂はフロロカーボン系樹脂を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項9において、前記酸素および水分の少なくとも一方の濃度は1ppm以下であることを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項9または10において、前記フロロカーボン系樹脂はテトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロペン、テトラフルオロプロピン、ヘキサフルオロシクロブテン、ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエン、ヘキサフルオロ−1−ブチン、ヘキサフルオロ−2−ブチン、オクタフルオロシクロブタン、オクタフルオロシクロペンテン、オクタフルオロ−1,3−ペンタジエン、オクタフルオロ−1,4−ペンタジエン、オクタフルオロ−1−ペンチン、オクタフルオロ−2−ペンチンおよびヘキサフルオロベンゼンのうちの少なくとも一つを含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項1から11のいずれかにおいて、溶融樹脂の原料として供給される顆粒状の樹脂原料を、前記樹脂原料が溶融する温度未満に加熱された不活性ガスに接触させることを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項1から11のいずれかにおいて、溶融樹脂の原料が溶融する部分、溶融樹脂が射出部または押し出し部まで移動する部分、細長いスリットまたは小穴から樹脂が押し出される部分、および金型射出成形部分の少なくとも一つの雰囲気を高純度不活性ガス雰囲気とすることを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項2から13のいずれかにおいて、前記手段は、前記溶融樹脂が接触する面の少なくとも一部を覆う前記溶融樹脂に対する触媒効果が低い材料を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項14において、前記材料はAlまたはCrを主成分の少なくとも一部に含み、かつ前記樹脂はハイドロカーボン系樹脂を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項15において、前記材料は酸化アルミニウムまたは酸化クロムを含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項14において、前記材料はNiを主成分の少なくとも一部に含み、かつ前記樹脂はフロロカーボン系樹脂を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項17において、前記材料はメッキされたNi、Ni−P、Ni−B、およびNi−W−Pの少なくとも一つを含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項14〜18のいずれかにおいて、前記材料はスクリュー、シリンダー、ハウジング、ノズル、吹き出しスリット、吹き出し穴、金型、ダイおよびロールのうちの少なくとも一つの表面を覆っていることを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項1〜4のいずれかにおいて、前記樹脂は光学成形品用樹脂であることを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項20において、前記樹脂は非極性ポリオレフィン樹脂またはシクロオレフィン樹脂であることを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項1から21のいずれかに記載の樹脂成形機において、射出成形、フィルム押し出し成形または繊維押し出し成形を行うことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項22において、前記成形機は射出成形を行うものであり、複数の注入射出点を有することを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項22または23において、前記成形機は射出成形を行うものであり、金型駆動手段および該金型駆動手段に設置された温度制御手段を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項22から24のいずれかにおいて、前記成形機は射出成形を行うものであり、前記温度制御手段は水素添加水を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項22から25のいずれかにおいて、前記成形機は射出成形を行うものであり、前記金型から剥離される樹脂成形品の静電気を除去するための軟X線照射手段を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項22において、前記成形機はフィルム押し出し成形または繊維押し出し成形を行うものであり、成形品の静電気を除去するための軟X線照射手段を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 樹脂を溶融する第1の工程と溶融樹脂を射出または押し出しによって成形する第2の工程とを有する樹脂成形方法において、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、高分子材料が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ行うことを特徴とする樹脂成形方法。
- 樹脂を溶融する第1の工程と溶融樹脂を射出または押し出しによって成形する第2の工程とを有する樹脂成形方法において、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、高分子材料が分解または解離して低分子有機物になることを抑制することによって前記溶融樹脂の温度を高めてその粘性を下げつつ行い、前記第2の工程において樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減することを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項28または29において、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、高分子材料が酸化によって分解または解離することを抑制しつつ行うことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項30において、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、溶融樹脂の原料または溶融樹脂が接触する雰囲気における酸素濃度を10ppm以下にして行うことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項31において、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、溶融樹脂の原料または溶融樹脂が接触する雰囲気における水分の濃度を10ppm以下にして行うことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項28から32のいずれかにおいて、前記樹脂はアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂、ハイドロカーボン系樹脂およびフロロカーボン系樹脂からなる群から選ばれた樹脂の少なくとも一つであることを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項30において、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、溶融樹脂の原料または溶融樹脂が接触する雰囲気における酸素および水分の少なくとも一方の濃度を1ppm以下として行い、かつ前記樹脂はハイドロカーボン系樹脂を含むことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項34において、前記酸素および水分の少なくとも一方の濃度は0.1ppm以下であることを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項30において、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、溶融樹脂の原料または溶融樹脂が接触する雰囲気における酸素および水分の少なくとも一方の濃度を10ppm以下として行い、かつ前記樹脂はフロロカーボン系樹脂を含むことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項36において、前記酸素および水分の少なくとも一方の濃度は1ppm以下であることを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項28から37のいずれかにおいて、溶融樹脂の原料として顆粒状の樹脂原料を供給し、前記樹脂原料が溶融する温度未満に加熱された不活性ガスに接触させることを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項28から37のいずれかにおいて、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、高純度不活性ガス雰囲気中で行うことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項29から39のいずれかにおいて、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方が行われる際に前記溶融樹脂が接触する面の少なくとも一部を前記溶融樹脂に対する触媒効果が低い材料で覆うことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項40において、前記材料はAlまたはCrを主成分の少なくとも一部に含み、かつ前記樹脂はハイドロカーボン系樹脂を含むことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項41において、前記材料は酸化アルミニウムまたは酸化クロムを含むことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項40において、前記材料はNiを主成分の少なくとも一部に含み、かつ前記樹脂はフロロカーボン系樹脂を含むことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項43において、前記材料はメッキされたNi、Ni−P、Ni−B、およびNi−W−Pの少な、くとも一つを含むことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項28から44のいずれかにおいて、前記第2の工程で射出成形、フィルム押し出し成形または繊維押し出し成形を行うことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項28から45のいずれかにおいて、前記第2の工程は成形品の静電気を除去するための軟X線照射を含むことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項28から46のいずれかの樹脂成形方法を用いて成形することを特徴とする樹脂成形品の製造方法。
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