JP2005194388A - シリコーン及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
下記一般式(1)で表されるシリコーン。
[式(1)において、R1は互いに独立にC1〜10の脂肪族基、脂環式基、アリール基、アラルキル基、及びフッ素置換アルキル基からなる群より選択される基であり、
R2は下記式(2)で表されるヒドロキシ残基であり、
(ここで、a及びbは、夫々、0≦a≦26及び 1≦b≦26の整数であり、 15≦a+b≦27を満たし、R3はC24〜C34の直鎖脂肪族基である)
Xは下記式(3)で表される基であり、
(ここで、R4は式(1)のR2と結合され、C3〜C12の脂肪族基もしくは脂環式基であり、R5はC1〜C4の脂肪族基、もしくはR5はR4と結合されてC7〜C12の架橋環式基を形成している)
m及びnは、夫々、0≦m≦150及び0≦n≦30の整数であり、fは0≦f≦3の整数である]
【選択図】 なし
Description
[式(1)において、R1は互いに独立にC1〜10の脂肪族基、脂環式基、アリール基、アラルキル基、及びフッ素置換アルキル基からなる群より選択される基であり、
R2は下記式(2)で表されるヒドロキシ残基であり、
(ここで、a及びbは、夫々、0≦a≦26及び 1≦b≦26の整数であり、 15≦a+b≦27を満たし、R3はC24〜C34の直鎖脂肪族基である)
Xは下記式(3)で表される基であり、及び、
(ここで、R4は式(1)のR2と結合され、C3〜C12の脂肪族基もしくは脂環式基であり、R5はC1〜C4の脂肪族基、もしくはR5はR4と結合されてC7〜C12の架橋環式基を形成している)
m及びnは、夫々、0≦m≦150及び0≦n≦30の整数であり、fは0≦f≦3の整数である]
上記本発明の好ましい態様は、以下のとおりである。
R1がメチル基であり、R4がプロピレン基であり、及び、R5がメチレン基であることを特徴とする上記シリコーン。
示差熱分析計を用いて10℃/分で昇温して得られる吸熱ピークの先端の温度が78〜88℃の範囲内であることを特徴とする上記シリコーン。
また、本発明は、シリコーンとカルナウバワックスを反応させてシリコーンワックスを製造する方法において、環状酸無水物基を含有するシリコーンとカルナウバワックスを反応させることを特徴とする方法である。好ましくは、カルナウバワックスが、JISK8004に従い測定されるアセチル価51〜60を有する。
さらに、本発明は、上記シリコーン又は上記方法により得られるシリコーンワックスを含むトナー用ワックスである。
式(1)において、R1は互いに独立にC1〜10の脂肪族基、脂環式基、アリール基、アラルキル基、及びフッ素置換アルキル基からなる群より選択される基であり、好ましくは脂肪族基、より好ましくはメチル基である。また、m及びnは、夫々、0≦m≦150、好ましくは5≦m≦20、0≦n≦30、好ましくは0≦n≦5、の整数であり、及びfは0≦f≦3の整数であり、好ましくはn=0のときにf=2、n=1〜5のときにf=2又は3である。
ここで、a及びbは、夫々、0≦a≦26及び1≦b≦26の整数であり、及び15≦a+b≦27を満たし、R3はC24〜C34の直鎖脂肪族基である。
式(3)において、R4が式(1)のR2と結合され、カルボニル基が式(1)のSi原子と結合される。R4はC3〜C12の脂肪族基もしくは脂環式基であり及びR5はC1〜C4の脂肪族基もしくは、R5はR4と結合されていて、R4と一緒にC7〜C12の架橋環式基を形成している。好ましいXとしては、R4がプロピレン基であり且つR5がメチレン基であるもの、及び、下記式(4)で示される種々のものが例示される。
ここで、YはC6〜C16の、末端に環状酸無水物基を含有する脂肪族基、脂環式基、もしくは芳香族基である。また、環状酸無水物基は、典型的には5員環であるが、それ以上の大きさの環であってもよい。R1は互いに独立にC1〜C10の脂肪族基、脂環式基、アリール基、アラルキル基、及びフッ素置換アルキル基からなる群より選択される基であり、好ましくは脂肪族基、より好ましくはメチル基である。また、m及びnは、シリコーン(5)の25℃における粘度が5〜5000 mPa・s、好ましくは10〜3000mPa・sになるような整数であり、典型的には、夫々、0≦m≦150及び0≦n≦30の整数である。fは0≦f≦3の整数であり、好ましくはn=0のときにf=2、n=1〜5のときにf=2又は3である。
(a、bは、夫々、0≦a≦26の整数、1≦b≦26の整数、及び15≦a+b≦27を満たす)
CH3(CH2)cCOOH
(16≦c≦28の整数)
融点(℃) 80〜86、酸価 2〜10、けん化価 78〜88、ヨウ素価 7〜14、及びアセチル価 51〜60。
上記シリコーン(5)と反応させるカルナウバワックスの量は、上記アセチル価に応じて設定することができる。該アセチル価は、JIS K8004−1961に従い測定される。
環状酸無水物基含有シリコーン合成例1
下記の平均構造式のハイドロジェンシリコーンを726g(1モル)と、キシレン1000gをフラスコに量り取り、145℃で30分、脱水を行った。
HMe2SiO(Me2SiO)8SiMe2H
(Meはメチル基である)
次に100℃で、0.5%塩化白金酸トルエン溶液を4g加え、アリルコハク酸無水物364g(2.6モル)を滴下した。滴下終了後、キシレン還流下で5時間反応させたところ、アルカリ水を入れて発生する水素量の測定から、SiH基の98%が反応したことが確認された。キシレンと過剰のアリルコハク酸無水物を減圧蒸留によってストリップしたところ986gの生成物を得た。該生成物は、図1に示すIRスペクトルにより、下記の環状酸無水物基含有シリコーン(1) であることを確認した。図1において、約1780cm‐1及び約1860cm‐1のピークが酸無水物基を表す。
アセチル価51であるカルナウバワックスを、1100g(OHで1モル相当)と、キシレン1500gをフラスコに量り取り、145℃で1時間、脱水を行った。次に下記平均構造式の、イソシアネート官能性シリコーン2388g(0.9モル)を、100℃で滴下し、そのままの温度で5時間反応させた。反応生成物のIRスペクトルを測定したところ、イソシアネート基は消失していた。引き続き、キシレンを減圧ストリップすることにより、カルナウバシリコーン(C)が3420g得られた。DSCにより測定された融点は79〜85℃であった。
アセチル価51であるカルナウバワックスを、1100g(OHで1モル相当)と、キシレン1500gをフラスコに量り取り、145℃で1時間、脱水を行った。次に無水コハク酸を95g(1モル)とトリブチルアミン18.5g(0.1モル)を140℃で投入し、そのまま4時間反応を行い、カルナウバの水酸基をカルボキシ基に変換した。次に下記平均構造式の、アミン官能性シリコーン378g(0.45モル)を140℃で投入し、キシレン還流下、エステルアダプターで水を分離しながら反応を行った。3時間後に理論量の水が分離したので反応停止した。引き続きキシレンを減圧ストリップすることにより、カルナウバシリコーン(D)が、1520g得られた。DSCにより測定された融点は82〜90℃であった。
アセチル価51であるカルナウバワックスを、1100g(OHで1モル相当)と、キシレン1500gをフラスコに量り取り、145℃で1時間、脱水を行った。次に無水コハク酸を95g(1モル)とトリブチルアミン18.5g(0.1モル)を140℃で投入し、そのまま4時間反応を行った。次に下記平均構造式の、エポキシ官能性シリコーン438g(0.45モル)を140℃で投入し、キシレン還流下、4時間反応を行った。4時間後にエポキシ基が消失したことが、IR分析で確認された。次いで、キシレンを減圧ストリップすることにより、カルナウバシリコーン(E)が1600g得られた。DSCによる融点は79〜87℃であった。
(ここで、Ωはシクロヘキセンエポキシドを表す)
アセチル価51であるカルナウバワックスを、1100g(OHで1モル相当)と、キシレン1500gをフラスコに量り取り、145℃で1時間、脱水を行った。次に無水コハク酸を95g(1モル)とトリブチルアミン18.5g(0.1モル)を140℃で投入し、そのまま4時間反応を行った。次にビニルシクロヘキセンエポキサイドを140℃で248g(2モル)投入し、そのままの温度で3時間、カルボキシ基とエポキシ基を反応させた後、一旦、過剰のビニルシクロヘキセンエポキサイドと触媒のトリブチルアミンと溶剤のキシレンをストリップした。キシレン1500gを新たに加え、塩化白金酸の0.5%トルエン溶液を4g、以下の構造のハイドロジェンシリコーンを660g(0.45モル)加えて、120℃で5時間反応後に、SiH基がすべて反応したことが確認された。キシレンをストリップすることによりカルナウバシリコーン(F)が1960g得られた。DSCにより測定された融点は80〜87℃であった。
ガラス転移点68℃のスチレンーアクリル樹脂(ハイマーTB−9000;三洋化成社製)100重量部、カーボンブラック(MA−600;三菱化学社製)5重量部、メチルトリフェニルホスホニウムトシレート(荷電制御剤)1重量部、及び5重量部の上記各カルナウバシリコーンを夫々分散混合した後、二軸押出機を用いて溶融混練した。混練物を冷却後ハンマーミルで粉砕し、さらに、超音速ジェットミル粉砕機にて微粉砕した。得られた粉体を分級機で分級し、平均粒径10μm前後の微粒粉黒色トナーを得た。
(1)耐オフセット性
未定着トナー像を担持した記録紙を用意した。該記録紙を、100℃から210℃までの範囲の所定の各表面温度に設定された加熱ローラを経由して、定着ニップローラを通過させた後、定着状態を目視観察した。加熱ローラへのトナーの転写が生じない加熱ローラの温度領域を定着温度領域とした。
(2)耐ブロッキング性
現像用トナー10gを内径約5cmの円筒形の容器に入れ、該内径を直径とする円板を介して20gの加重をかけて、50℃の環境下に1日放置した後、トナーを容器から取り出し下記基準により判断した。
A:凝集なし B:凝集して塊が形成されており、該塊は加重をかけても崩れない。
Claims (7)
- 下記一般式(1)で表されるシリコーン。
[式(1)において、R1は互いに独立にC1〜10の脂肪族基、脂環式基、アリール基、アラルキル基、及びフッ素置換アルキル基からなる群より選択される基であり、
R2は下記式(2)で表されるヒドロキシ残基であり、
(ここで、a及びbは、夫々、0≦a≦26及び 1≦b≦26の整数であり、 15≦a+b≦27を満たし、R3はC24〜C34の直鎖脂肪族基である)
Xは下記式(3)で表される基であり、及び、
(ここで、R4は式(1)のR2と結合され、C3〜C12の脂肪族基もしくは脂環式基であり、R5はC1〜C4の脂肪族基、もしくはR5はR4と結合されてC7〜C12の架橋環式基を形成している)
m及びnは、夫々、0≦m≦150及び0≦n≦30の整数であり、fは0≦f≦3の整数である] - R1がメチル基であり、R4がプロピレン基であり、及び、R5がメチレン基であることを特徴とする請求項1記載のシリコーン。
- 示差熱分析計を用いて10℃/分で昇温して得られる吸熱ピークの先端の温度が78〜88℃の範囲内であることを特徴とする請求項1または2記載のシリコーン。
- シリコーンとカルナウバワックスを反応させてシリコーンワックスを製造する方法において、環状酸無水物基を含有するシリコーンとカルナウバワックスを反応させることを特徴とする方法。
- カルナウバワックスが、JISK8004に従い測定されるアセチル価51〜60を有することを特徴とする請求項4記載の方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項記載のシリコーンを含むトナー用ワックス。
- 請求項4または5記載の方法により得られるシリコーンワックスを含むトナー用ワックス。
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009263643A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-11-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | カルボキシル基を有するオルガノポリシロキサン |
| WO2010071168A1 (ja) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | 日本化薬株式会社 | カルボン酸化合物及びそれを含有するエポキシ樹脂組成物 |
| JP2011026498A (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | エステル基含有オルガノポリシロキサン及びそれを含む化粧料 |
| JP2016538411A (ja) * | 2013-10-31 | 2016-12-08 | ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation | 架橋組成物及びその生成方法 |
| US10092780B2 (en) | 2013-10-31 | 2018-10-09 | Dow Silicones Corporation | Cosmetic composition comprising a carboxy-functional elastomer |
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2004
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