JP2005048000A

JP2005048000A - 洗浄剤

Info

Publication number: JP2005048000A
Application number: JP2003204241A
Authority: JP
Inventors: Satoru Murakami; 悟村上; Mitsumasa Nakayama; 光正中山; Michiro Yoshida; 理郎吉田
Original assignee: Sanyo Chemical Industries Ltd
Current assignee: Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority date: 2003-07-31
Filing date: 2003-07-31
Publication date: 2005-02-24

Abstract

【課題】各種電子部品、治具、スクリーン版等の洗浄性、リンス性に優れ、これらに残存する液晶、レジスト、フラックス、インク等の除去性が良い洗浄剤を提供する。
【解決手段】炭素数８〜２０の炭化水素および総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステルからなる群から選ばれる１種以上の疎水性溶媒（Ａ）、融点が２０℃以下で炭素数８〜２６の脂肪族アルコール（Ｂ）、一般式（１）で示されるグリコールエーテル（Ｃ）、一般式（２）で示される化合物および一般式（３）で示される化合物からなる群から選ばれる１種以上のイオン性界面活性剤（Ｄ）および水（Ｅ）からなることを特徴とする洗浄剤である。
【選択図】なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子部品、治具、スクリーン版等の洗浄に好適に使用される洗浄剤およびこれらに付着、残存する液晶、レジスト、フラックス、インク等を好適に除去するための除去用洗浄剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電子部品用の洗浄剤としては、非イオン性界面活性剤と水からなる水系洗浄剤（特許文献−１参照）、非水溶性溶剤を用いた非水系洗浄剤（特許文献−２参照）、水溶性溶剤と水からなる準水系洗浄剤（特許文献−３参照）などが提案されている。
【０００３】
【特許文献−１】特開平４−３８１００号公報
【特許文献−２】特開平４−２９２６９９号公報
【特許文献−３】特開平４−１７０５００号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これらの洗浄剤では洗浄性、リンス性は十分ではなく、残存する各種不要物を十分に除去することができない。また場合によっては、洗浄剤等の残査によって、例えば電極等の金属部が電食し易くなるといった現象が発生する。本発明は、特に各種電子部品、治具、スクリーン版等の洗浄性、リンス性に優れ、これらに残存する液晶、レジスト、フラックス、インク等の除去性が良い洗浄剤を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、炭素数８〜２０の炭化水素および総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステルからなる群から選ばれる１種以上の疎水性溶媒（Ａ）、融点が２０℃以下で炭素数８〜２６の脂肪族アルコール（Ｂ）、一般式（１）で示されるグリコールエーテル（Ｃ）、一般式（２）および一般式（３）で示される化合物からなる群から選ばれる１種以上のイオン性界面活性剤（Ｄ）および水（Ｅ）からなることを特徴とする洗浄剤である。
【０００６】
【化５】

【０００７】
式中、Ｒ^１は炭素数４〜８の炭化水素基、Ａは炭素数２〜４のアルキレン基、Ｘは水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基、ｎは１〜４の整数である。
【０００８】
【化６】

【０００９】
式（２）および（３）中、Ｒ^２およびＲ^３は炭素数６〜２４の炭化水素基、Ｍのうち少なくとも１個は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムカチオン、第４級アンモニウムカチオンおよび塩基性アミノ酸基からなる群から選ばれる１種以上であり、残りのＭは水素原子であり、Ａは炭素数２〜４のアルキレン基、ｍは０または１〜３０の整数、ｙは１または２の整数である。
【００１０】
【発明の実施の形態】
疎水性溶媒（Ａ）は、炭素数８〜２０の炭化水素（Ａ１）および総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステル（Ａ２）からなる群から選ばれる１種以上である。通常（Ａ）は、２５℃における水１００ｇに対する溶解量が５ｇ以下であって、本発明における他の構成成分を溶解するためのものである。
（Ａ１）は、鎖状または環状炭化水素であって、例えば以下の化合物があげられる。
▲１▼鎖状炭化水素
飽和鎖状炭化水素類；オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、イソオクタン、イソノナン、イソデカン、イソウンデカン、イソドデカン、イソトリデカン、イソテトラデカン、イソペンタデカンおよびイソヘキサデカンなど。
不飽和鎖状炭化水素類；オクテン、ノネン、デセン、ウンデセン、ドデセン、トリデセン、テトラデセン、ペンタデセンおよびヘキサデセンなど。
▲２▼環状炭化水素
脂環式炭化水素類；イソプロピルシクロヘキサン、ブチルシクロヘキサン、デシルシクロペンタン、テトラリンおよびリモネンなど。
芳香族炭化水素類；アルキル（炭素数２〜１４）ベンゼン（ブチルベンゼンおよびオクチルベンゼンなど）およびジアルキル（炭素数合計２〜１４）ベンゼン（ｏ−キシレンおよび１，４−ジ−ｎ−プロピルベンゼンなど）など。
これらの炭化水素は、２種以上を併用してもよい。これらのうち好ましいのは、鎖状炭化水素であり、更に好ましいのは飽和鎖状炭化水素であり、とくに好ましいのは炭素数８〜１５の鎖状飽和炭化水素である。
【００１１】
（Ａ２）は、総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステルであって、エステルを構成するカルボン酸成分およびアルコール成分は、エステル体の総炭素数が４〜１６となるような脂肪族カルボン酸および脂肪族アルコールであれば特に限定されないが、例えば以下の化合物があげられる。
［脂肪族カルボン酸成分の例：炭素数１〜１５の脂肪族カルボン酸］
▲１▼飽和もしくは不飽和の脂肪族モノカルボン酸
蟻酸、酢酸、プロピオン酸、アクリル酸、酪酸、α−メチル酪酸、２−ブテン酸、吉草酸、α、β−ジメチル吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ヤシ油脂肪酸、ミリスチン酸およびオキシカルボン酸（グリコール酸、乳酸およびグルコン酸など）など。
▲２▼飽和もしくは不飽和の脂肪族ジカルボン酸
シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、β，β−ジメチルグルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸およびオキシカルボン酸（グリセリン酸、酒石酸およびリンゴ酸など）など。
▲３▼飽和もしくは不飽和の脂肪族３価〜４価またはそれ以上の多価カルボン酸
１，２，４−ブタントリカルボン酸、１，２，５−ヘキサントリカルボン酸、１，３−ジカルボキシル−２−メチル−２−メチレンカルボキシプロパンおよびオキシカルボン酸（クエン酸など）など。
これらの脂肪族カルボン酸成分は２種以上が含まれていてもよい。これらのカルボン酸のうち、好ましいのは脂肪族モノカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸であり、更に好ましいのは飽和の脂肪族ジカルボン酸、とくに好ましいのはアジピン酸およびセバシン酸である
【００１２】
［脂肪族アルコール成分の例：炭素数１〜１５の脂肪族アルコール］
▲１▼飽和もしくは不飽和の脂肪族１価アルコール
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、ｎ−デカノール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、イソプロパノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、イソペンタノール、活性アミルアルコール、ｔ−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、アリルアルコール、クロチルアルコール、メチルビニルカルビノール、メトキシブタノール、エトキシエタノールおよび３−メトキシ−３−メチルブタノールなど。
▲２▼飽和もしくは不飽和の脂肪族２価アルコール
エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−または１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，１０−デカンジオールおよび４−ペンテン−２，３−ジオールなど。
▲３▼飽和もしくは不飽和の脂肪族３価〜４価またはそれ以上の多価アルコール類
グリセリン、１，３，６−ヘキサントリオールおよびペンタエリスリトールなど。
これらのアルコールは２種以上が含まれていてもよい。これらのうち、好ましいのは▲１▼であり、更に好ましいのは飽和の脂肪族１価アルコールであり、特に好ましいのはメタノール、エタノールおよび２−エチルヘキサノールである。
【００１３】
（Ａ２）の具体例としては、メチルシクロヘキシル酢酸、２−エチルへキシル酢酸、メトキシブチル酢酸、エトキシエチル酢酸、ブトキシエトキシエチル酢酸、３−メトキシ３−メチルブチル酢酸、１，６ージアセトキシヘキサン、オクチル酸メチル、ラウリン酸メチル、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、グリセリントリメチルエステルおよびペンタエリスリトールテトラエチルエステルなどがあげられる。
【００１４】
（Ｂ）は、融点が２０℃以下で炭素数８〜２６の脂肪族アルコールであれば特に限定されないが、具体的には以下の化合物があげられる。
▲１▼飽和の脂肪族アルコール
ｎ−オクタノール、ｎ−ノナナール、ｎ−デカノール、２−エチルヘキサノール、２−エチルデカノール、イソステアリルアルコール、３，３−ジブチルオクタデカノールおよびトリプロピレングリコールなど。
▲２▼不飽和の脂肪族アルコール
２−オクテン−１−オール、２−ドデセン−１−オール、２−ウンデセン−１−オール、２−テトラデセン−１−オール、２−ペンタデセン−１−オール、５−ヘキセン−１−オール、６−ヘプテン−１−オール、８−ノネン−１−オール、１０−ウンデセン−１−オール、１１−ドデセン−１−オール、１２−トリデセン−１−オール、１５−ヘキサデセン−１−オール、オレイルアルコール、リノレイルアルコール、リノレニルアルコール、イソオレイルアルコールおよび７−オクタデセン−１，１８−ジオールなど。
これらのうち、好ましいのは▲１▼であり、さらに好ましいのは２−エチルヘキサノール、２−エチルデカノールおよびイソステアリルアルコールである。
【００１５】
（Ｃ）は、下記一般式（１）で示されるグリコールエーテルである。
【００１６】
【化７】

【００１７】
式（１）においてＲ^１は、炭素数４〜８の炭化水素基であって、直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基などがあげられる。Ｒ^１の具体例としては、以下の基があげられる。
▲１▼直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和脂肪族炭化水素基
アルキル基（ｎ−ブチル基、ｉ−、ｓｅｃ−およびｔ−ブチル基、２−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、３−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基およびｎ−オクチル基など）およびアルケニル基（１−ブテニル基、２−メチル−１−プロペニル基、３−メチル−１−ブテニル基、２−ヘキセニル基、２−エチル−１−ヘキセニル基および３−オクテニル基など）など。
▲２▼脂環式炭化水素基
シクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロメチルヘキシル基およびシクロオクチル基など）およびシクロアルケニル基（シクロヘキセニル基およびシクロオクテニル基など）など。
▲３▼芳香族炭化水素基
アリール基（フェニル基など）、アラルキル基（ベンジル基およびフェネチル基など）およびアルキルアリール基（メチルフェニル基、エチルフェニル基およびジメチルフェニル基など）など。
これらのうち、好ましいのは▲１▼であり、さらに好ましいのはアルキル基であり、特に好ましいのは直鎖飽和脂肪族炭化水素基であり、最も好ましいのはｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基およびｎ−オクチル基である。
【００１８】
Ａは、炭素数２〜４のアルキレン基であって、例えば、エチレン基、ｎ−およびｉ−プロピレン基およびｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−およびｔ−ブチレン基などがあげられる。これらのうち好ましいのはエチレン基およびプロピレン基であり、さらに好ましいのはエチレン基である。
Ｘは、水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基であって、具体的な例としては、前記Ｒ^１として例示したもののうち炭素数４のものの他に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基およびシクロブチル基があげられる。これらのうち好ましいのは、水素原子、メチル基、エチル基および分岐の脂肪族炭化水素基であり、さらに好ましいのは水素原子、メチル基およびエチル基であり、特に好ましいのは水素原子およびメチル基であり、最も好ましいのは水素原子である。
【００１９】
グリコールエーテル（Ｃ）の具体例としては、以下のものがあげられる。
▲１▼カルビトール類
ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノペンチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−２，２−ジメチルプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−２−メチルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−３−メチルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノオクチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールオクチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−２−ブテニルエーテル、ジエチレングリコールモノシクロヘキシルエーテル、フェニルカルビトールおよびフェニルカルビトールエチルエーテルなど。
▲２▼セロソルブ類
エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノオクチルエーテル、エチレングリコールモノ−２−ヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルおよびエチレングリコールジブチルエーテルなど。
▲３▼その他のグリコールエーテル類
プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−２−メチルブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−２，２−ジメチルプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−２，２−ジメチルブチルエーテル、トリエチレングリコールモノオクチルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテルおよびテトラエチレングリコールモノブチルエーテルなど。
これらのグリコールエーテル類は、２種以上を併用してもよい。これらのうち、好ましいのはカルビトール類およびセロソルブ類であり、さらに好ましいのはカルビトール類であり、特に好ましいのは、飽和のカルビトール類であり、最も好ましいのは、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテルおよびジエチレングリコールモノオクチルエーテルおよびこれらの２種以上の混合物である。
【００２０】
イオン性界面活性剤（Ｄ）は、下記一般式（２）で示される化合物および一般式（３）で示される化合物からなる群から選ばれる１種以上である。
【００２１】
【化８】

【００２２】
式（２）および（３）中、Ｒ^２およびＲ^３は炭素数６〜２４の炭化水素基（好ましくは炭素数８〜２０）であって、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基があげられる。具体的には、以下の炭化水素基があげられる。
▲１▼脂肪族炭化水素基
アルキル基（ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、セチル基、パルミチル基、オクタデシル基、ドコシル基およびテトラコシル基など）およびアルケニル基（オクテニル基およびオレイル基など）など。
▲２▼脂環式炭化水素基
シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロデシル基、シクロドデシル基および２，２−ジシクロヘキシルプロピル基など）およびシクロアルケニル基（シクロヘキセニル基、シクロオクテニル基およびシクロドデセニル基など）など。
▲３▼芳香環含有炭化水素基
アリール基（フェニル基およびナフチル基など）、アラルキル基（ベンジル基およびフェネチル基など）およびアルキルアリール基（メチルフェニル基、エチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基およびドデシルフェニル基など）など。
Ｒ^２およびＲ^３は同一の基であっても異なっていてもよい。これらの炭化水素基の中で好ましいのは▲１▼および▲２▼であり、さらに好ましいのは▲１▼であり、特に好ましいのはアルキル基およびアルケニル基であり、最も好ましいのはヘキシル基、ヘキセニル基、オクチル基、オクテニル基、デシル基、デセニル基、ドデシル基、ドデセニル基、テトラデシル基、テトラデセニル基、オクタデシル基およびオクタデセニル基である。
【００２３】
また、式（２）および（３）において、Ａは炭素数２〜４のアルキレン基であって、具体的には式（１）の説明において示したＡと同じものがあげられ、好ましいものも同一である。
さらに、ｍは０または１〜３０の整数であって、好ましくはｍは０または２〜２０であり、さらに好ましくは０または４〜１５である。ｙは１または２の整数である。
【００２４】
Ｍは、少なくとも１個はアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムカチオン、第４級アンモニウムカチオンおよび塩基性アミノ酸基からなる群から選ばれる１種以上であり残りのＭは水素原子である。式（２）および（３）中で２個以上のＭはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
アルカリ金属イオンとしては、例えばナトリウムイオンおよびカリウムイオンなどがあげられる。アルカリ土類金属イオンとしては、例えばマグネシウムイオンおよびカルシウムイオンなどがあげられる。アンモニウムカチオンとしては、例えば、炭化水素基を３個含むアンモニウムカチオン（ジメチルブチルアンモニウムカチオンおよびジエチルオクチルアンモニウムカチオンなど）、炭化水素基を２個含むアンモニウムカチオン（メチルヘキシルアンモニウムカチオンおよびエチルデシルアンモニウムカチオンなど）、炭化水素基を１個含むアンモニウムカチオン（メチルアンモニウムカチオンおよびエチルアンモニウムカチオンなど）およびオキシアルキレン基を含むアンモニウムカチオン（モノエタノールアンモニウムカチオン、ジエタノールアンモニウムカチオン、ジヒドロキシエチルヘキシルアンモニウムカチオンおよびビス（２ーヒドロキシエトキシエチル）オクチルアンモニウムカチオンなど）などがあげられる。
【００２５】
塩基性アミノ酸基を与えるアミノ酸としては、アルギニン、グルタミン、ヒスチジン、ヒドロキシリシン、リシンおよびトリプトファンなどがあげられる。
Ｍのうち少なくとも１個は、アルカリ金属イオン、アンモニウムカチオンおよび第４級アンモニウムカチオンであることが好ましく、アンモニウムカチオンおよび第４級アンモニウムカチオンであることがさらに好ましく、第４級アンモニウムカチオンであることが特に好ましい。
【００２６】
第４級アンモニウムカチオンとしては、以下の一般式（４）で示されるものが好ましい。
【００２７】
【化９】

【００２８】
式（４）中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２４の炭化水素基もしくは総炭素数３〜２４のアルキルアミドアルキル基または一般式（５）で示される基であり、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７のうち少なくとも１個は炭素数６〜２４の炭化水素基または総炭素数８〜２４のアルキルアミドアルキル基であり、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２９】
【化１０】

【００３０】
式（５）中、Ｒ^８は炭素数２〜４のアルキレン基、ｐは１〜６の整数である。
【００３１】
炭素数１〜２４（好ましくは１〜１４）の炭化水素基の例としては、直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基などがあげられる。具体例としては、一般式（１）、（２）および（３）の説明において例示した炭化水素基などがあげられる。これらの炭化水素基の中で、アルキル基およびアルケニル基が好ましく、さらに好ましくはアルキル基であり、最も好ましいのはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基およびオクタデシル基である。
【００３２】
総炭素数３〜２４のアルキルアミドアルキル基の例としては、直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和炭化水素基および脂環式炭化水素基を有するアルキルアミドアルキル基があげられる。具体例としては、直鎖飽和炭化水素基を有するもの（メチルアミドエチル基、メチルアミドオクチル基、メチルアミドオクタデシル基、ブチルアミドオクチル基、オクチルアミドウンデシル基、ウンデシルアミドブチル基およびオクタデシルアミドヘキシル基など）；分岐飽和炭化水素基を有するもの（イソプロピルアミドオクチル基、２−エチルヘキシルアミドデシル基およびｔ−ブチルアミドイソプロピル基など）；直鎖不飽和炭化水素基を有するもの（１−ブテニルアミドオクチル基およびエチルアミド−３−ウンデセニル基など）；分岐不飽和炭化水素基を有するもの（３−メチル−１−ブテニルアミドオクチル基およびｎ−プロピルアミド４，４−ジエチル−１−ヘキセニル基など）；脂環式炭化水素基を有するもの（シクロヘキシルアミドオクチル基など）およびこれらの異なる種類の基を複数有するもの（シクロペンチルアミドイソプロピル基など）があげられる。これらのうち好ましいのは直鎖もしくは分岐の飽和炭化水素基を有するアルキルアミドアルキル基であり、さらに好ましいのは直鎖飽和炭化水素基を有するものである。
【００３３】
式（５）において、Ｒ^８としては、例えばエチレン基、プロピレン基およびブチレン基などの炭素数２〜４のアルキレン基があげられ、これらのうち洗浄性の観点から炭素数２または３のアルキレン基が好ましい。ｐは１〜６の整数であり、好ましくは１〜３である。
【００３４】
Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７のうち少なくとも１個は炭素数６〜２４の炭化水素基または総炭素数８〜２４のアルキルアミドアルキル基であり、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は炭化水素基であることが好ましい。また、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は互いに結合して環を形成していてもよい。
【００３５】
一般式（４）で示される第４級アンモニウムカチオンの具体例としては、トリメチルアルキルアンモニウムカチオン（例えばトリメチルヘキシルアンモニウムカチオン、トリメチルオクチルアンモニウムカチオン、トリメチルデシルアンモニウムカチオン、トリメチルココナットアルキル［炭素数８〜２５、以下同様］アンモニウムカチオン、トリメチルテトラデシルアンモニウムカチオンおよびトリメチルオクタデシルアンモニウムカチオンなど）；トリブチルアルキルアンモニウムカチオン（例えばトリブチルオクチルアンモニウムカチオンなど）；ジメチルエチルアルキルアンモニウムカチオン（例えばジメチルエチルヘキサデシルアンモニウムカチオン、ジメチルエチルオクタデシルアンモニウムカチオンおよびジメチルエチルココナットアルキルアンモニウムカチオンなど）；メチルジエチルアルキルアンモニウムカチオン（例えばメチルジエチルヘキサデシルアンモニウムカチオンおよびメチルジエチルココナットアルキルアンモニウムカチオンなど）；ジメチルアルキルベンジルアンモニウムカチオン（例えばジメチルデシルベンジルアンモニウムカチオン、ジメチルドデシルベンジルアンモニウムカチオンおよびジメチルココナットアルキルベンジルアンモニウムカチオンなど）；ジメチルジアルキルアンモニウムカチオン（例えばジメチルジヘキシルアンモニウムカチオンおよびジメチルジドデシルアンモニウムカチオンなど）；メチルトリアルキルアンモニウムカチオン（例えばメチルトリオクチルアンモニウムカチオンなど）があげられる。
これらの中では、洗浄性とリンス性の観点からトリメチルアルキルアンモニウムカチオンおよびジメチルアルキルアンモニウムカチオンが好ましく、トリメチルオクチルアンモニウムカチオン、トリメチルデシルアンモニウムカチオン、ジメチルジオクチルアンモニウムカチオンおよびジメチルジドデシルアンモニウムカチオンがさらに好ましく、トリメチルオクチルアンモニウムカチオンおよびジメチルジオクチルアンモニウムカチオンが特に好ましい。
【００３６】
式（２）で表される化合物の具体的な例としては、アルキルもしくはアルケニル（炭素数８〜１８）コハク酸のモノまたはジアルカリ金属（ナトリウム、カリウムなど）塩、モノまたはジアンモニウム塩、モノまたはジアルキル（炭素数１〜１２）アンモニウム塩およびモノまたはジトリメチルアルキル（炭素数６〜２４）アンモニウム塩などがあげられる。また、式（３）で表される化合物としては、アルキルもしくはアルケニル（炭素数４〜２４）リン酸エステルアルカリ金属（ナトリウム、カリウムなど）塩、モノまたはジアンモニウム塩、モノまたはジアルキル（炭素数１〜１２）アンモニウム塩およびジメチルジアルキル（炭素数６〜２４）アンモニウム塩、アルキルもしくはアルケニル（炭素数４〜２４）エチレンオキサイド付加物（付加モル数１〜２５）のリン酸エステルモノまたはジアンモニウム塩およびトリメチルアルキル（炭素数６〜２４）アンモニウム塩などがあげられる。これらは２種以上を併用してもよい。
【００３７】
本発明の洗浄剤における（Ａ）〜（Ｅ）の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、（Ａ）は４０〜８５重量％（以下において特に限定しない限りは、％は重量％を表す）、好ましくは４５〜８０％、特に好ましくは５０〜７５％、（Ｂ）は５〜２０％、好ましくは６〜１８％、特に好ましくは７〜１５％、（Ｃ）は１〜３０％、好ましくは５〜２５％、特に好ましくは８〜２０％、（Ｄ）は０．５〜２０％、好ましくは１．０〜１５％、特に好ましくは２〜１０％、（Ｅ）は５〜４０％、好ましくは６〜３５％、特に好ましくは８〜３０％である。
【００３８】
本発明におけるイオン性界面活性剤（Ｄ）のうち、一般式（４）であらわされるＭを有するものは、アミンと炭酸ジエステルとの反応で得られる相当する４級アンモニウム炭酸塩と、カルボン酸もしくは酸性燐酸エステルとのアニオン交換反応により形成され、その際発生する炭酸ガスは系外に除去せしめられる。具体的には、以下に示す方法等により製造することができる。例えば、トリメチルオクチルアンモニウムオクチルホスフェートの場合では、先ずジメチルオクチルアミン１モルと等モル以上（１〜１．４モル）のジメチルカーボネートと溶媒としてメタノールをオートクレーブに仕込み、１〜２０ｋｇ／ｃｍ^２の加圧下、６０〜１５０℃で反応させることにより、トリメチルオクチルアンモニウムメチルカーボネートのメタノール溶液（３０〜８０重量％）が得られる。別にオクチルアルコール３モルと、無水燐酸１モルを６０〜７０℃で反応させることによりオクチル燐酸モノ、ジ、混合エステルを得、次にオクチルモノホスフェート、ジホスフェート、混合エステルにトリメチルオクチルアンモニウムメチルカーボネートのメタノール溶液を８０〜９０℃で徐々に添加し、発生する二酸化炭素およびメタノールを留去する。次いで水を添加し、充分にアニオン交換反応を行った後、更に水で希釈し、トリメチルオクチルアンモニウムオクチルホスフェートの水溶液を得る。必要ならば水分を除去して、乾燥品を得ることもできる。
【００３９】
本発明の洗浄剤には、さらに必要により、非イオン界面活性剤、その他の添加剤などを加えることができる。非イオン界面活性剤としては、例えば、アルキレンオキシド（炭素数２〜４）付加型非イオン界面活性剤｛高級アルコール（炭素数９〜１８）、アルキルフェノール（炭素数１０〜２４）、高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）または高級アルキルアミン（炭素数８〜２４）に直接アルキレンオキシドを付加させたもの［数平均分子量（以下Ｍｎと略記する）１８８〜２００，０００］；グリコールにアルキレンオキシドを付加させて得られるポリオキシアルキレングリコール（Ｍｎ１５０〜６，０００）に高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）を反応させたもの；多価アルコール（エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールおよびソルビタンなどの２価〜８価またはそれ以上の多価アルコール）に高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）を反応させて得られたエステル化物にアルキレンオキシドを付加させたもの（Ｍｎ２５０〜３０，０００）；３価以上の多価アルコールアルキル（炭素数３〜６０）エーテルにアルキレンオキシドを付加させたもの（Ｍｎ１３６〜３０，０００）など｝および多価アルコールアルキル（炭素数３〜６０）エーテル型非イオン界面活性剤などがあげられる。界面活性剤のＨＬＢは通常１．５〜１８、好ましくは３〜１６である。これらのうち、洗浄性の観点から好ましいのはアルキレンオキシド付加型非イオン界面活性剤、とくに好ましいのは高級アルコールおよびアルキルフェノールのアルキレンオキシド付加型非イオン界面活性剤であり、最も好ましいのは高級アルコールのアルキレンオキシド（３〜２０モル）付加型非イオン界面活性剤である。
【００４０】
その他の添加剤としては、防錆剤（クロム酸塩、亜硝酸塩およびアミンの高級脂肪酸塩など）、酸化防止剤［フェノール化合物（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールなど）、含硫化合物（ジラウリルチオジプロピオネートなど）、アミン化合物（オクチル化ジフェニルアミンなど）およびリン化合物（トリフェニルホスファイトなど）］、金属イオン封鎖剤（エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウムおよびメタリン酸ナトリウムなど）およびビルダー（トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムおよびケイ酸ナトリウムなど）などがあげられる。
【００４１】
非イオン界面活性剤およびその他の添加剤の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、非イオン界面活性剤は通常４０％以下、好ましくは０．５〜３０％；その他の添加剤のうち、防錆剤は通常２０％以下、好ましくは０．１〜１０％；酸化防止剤は通常５％以下、好ましくは０．０１〜１％；金属イオン封鎖剤は通常２０％以下、好ましくは０．５〜１０％；ビルダーは通常２０％以下、好ましくは０．５〜１０％である。
【００４２】
本発明の洗浄剤の２５℃における動粘度は、通常１〜１００ｍｍ^２／ｓ、好ましくは３〜８０ｍｍ^２／ｓ、更に好ましくは４〜５０ｍｍ^２／ｓである。動粘度はオストワルドまたはウベローデなどの粘度計にて測定できる。
【００４３】
本発明の洗浄剤は、（Ａ）〜（Ｅ）の各成分を配合することによって得られ、その配合方法、順序等は特に限定されず、通常の配合槽などで配合できる。配合時の温度は通常１０〜５０℃であり、（Ａ）〜（Ｅ）の各成分および必要により非イオン界面活性剤、その他の添加剤等を添加し、均一透明、乳化状態または分散状態とすることで得られる。
【００４４】
本発明の洗浄剤が適用できる対象は特に限定はないが、電子部品（液晶パネル、プリント基盤、サーマルヘッド等）、治具またはスクリーン版の洗浄用として好適に用いられる。また、除去の対象となる無機物および有機物等についても特に限定はないが、電子部品、治具またはスクリーン版に残存した液晶（ＴＦＴ液晶、ＳＴＮ液晶、ＴＮ液晶等）、レジスト、フラックスおよび／またはインクの除去洗浄用として好適に用いられる。
【００４５】
本発明の洗浄剤を用いての洗浄方法に特に制限はないが、例えば液晶パネルの液晶残渣を洗浄する方法としては、超音波洗浄、シャワー洗浄または揺動による洗浄方法が適用でき、複数の方法を組み合わせることもできる。洗浄温度は、通常１０〜７０℃、好ましくは１５〜６０℃程度である。洗浄時間は通常３〜６０分、好ましくは５〜３０分である。その後、洗浄剤のリンス、乾燥等を行う。リンスは通常水により行い、リンス温度は、通常１０〜９０℃、好ましくは１５〜７０℃である。乾燥は、風乾または加熱乾燥等が適用でき、加熱乾燥される場合の条件は、通常６０〜１５０℃で５〜１２０分間程度である。
【００４６】
【実施例】
以下実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部および％は重量部および重量％を示す。
【００４７】
＜配合成分＞
（Ａ）成分
（Ａ１−１）：デカン
（Ａ１−２）：ドデカン
（Ａ１−３）：テトラデカン
（Ａ２−１）：アジピン酸ジメチルエステル
（Ａ２−２）：セバシン酸ジ（２−エチルヘキシル）エステル
（Ｂ）成分
（Ｂ−１）：２−エチルヘキサノール
（Ｂ−２）：２−エチルデカノール
（Ｂ−３）：イソステアリルアルコール
（Ｃ）成分
（Ｃ−１）：ジエチレングリコールジブチルエーテル
（Ｃ−２）：ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル
（Ｃ−３）：トリプロピレングリコールオクチルメチルエーテル
（Ｄ）成分
（Ｄ−１）：デセニルコハク酸ジナトリウム塩
（Ｄ−２）：オクチルコハク酸ジ（トリメチルオクチルアンモニウム）塩
（Ｄ−３）：ドデセニルコハク酸モノ（モノエタノールアミン）塩
（Ｄ−４）：オクタデシルコハク酸ジ（トリメチルジエチルアミドヘキシルアンモニウム）塩
（Ｄ−５）：ラウリルアルコールリン酸ジエステルナトリウム塩
（Ｄ−６）：ステアリルアルコールエチレンオキサイド５モル付加物リン酸モノエステル・ジ（トリメチルオクチルアンモニウム）塩
（Ｄ−７）：セチルアルコールエチレンオキサイド１０モル付加物リン酸ジエステル・トリエチルデシルアンモニウム塩
（Ｄ−８）：オクチルアルコールエチレンオキサイド２モル付加物リン酸ジエステル・ジメチルオクチルモノエタノールアンモニウム塩
（Ｅ）成分：水
非イオン界面活性剤：ラウリルアルコールエチレンオキサイド７モル付加物
【００４８】
＜性能評価の方法＞
▲１▼洗浄試験
液晶パネル（ギャップ４μｍ）５枚を１組としてギャップに液晶（ＴＦＴ液晶）を封入し、室温で３０分静置する。調製した各々の洗浄剤にて２０℃および５０℃で、１０分間超音波洗浄を行い、それぞれを５０℃の純水で３分間リンスし、さらに同条件にてリンスを２回繰り返した。次いで、１２０℃の循風乾燥機中で１０分間乾燥する。洗浄後と、リンス後の液晶パネルを偏光顕微鏡で観察し、洗浄性、リンス性を次の４段階で評価した。
＜洗浄性＞
評価基準
４：ギャップ部が完全に洗浄された
３：ギャップ部に僅かに液晶残りがある
２：ギャップ部に液晶残りが多い
１：ギャップ部が殆ど洗浄されていない
＜リンス性＞
評価基準
４：リンス性が極めて良好
３：リンス性が良好
２：リンス出来ない洗浄液がややある
１：リンス出来ない洗浄液が多量にある
【００４９】
▲２▼腐蝕試験
洗浄、リンス後乾燥させた液晶パネルを４０℃で９０％ＲＨの環境下に３０日間保存した後、液晶パネルの配線部分を顕微鏡で観察し、次の４段階で評価した。
＜防蝕性＞
評価基準
４：腐蝕なし
３：腐蝕わずかに有り
２：腐蝕やや多い
１：腐蝕多い
【００５０】
表１（実施例１〜１０）および表２（比較例１〜５）に洗浄剤処方と性能評価結果を示す。
【００５１】
【表１】

【００５２】
【表２】

【００５３】
【発明の効果】
本発明の洗浄剤は、各種の対象物に対して良好な洗浄性とリンス性を与え、特に電子部品（液晶パネル、プリント基盤、サーマルヘッド等）、治具またはスクリーン版の洗浄用としての洗浄性、リンス性に優れており、さらに、電子部品、治具またはスクリーン版に残存した液晶（ＴＦＴ液晶、ＳＴＮ液晶、ＴＮ液晶等）、レジスト、フラックスおよび／またはインク等の除去洗浄用として良好な性能を有している。また、本発明の洗浄剤は、低温および高温での洗浄安定性が優れているので、洗浄不良やリンス不良に由来する腐蝕等の発生がなく、特に、液晶パネルの製造工程において液晶などの残査や洗浄後の洗浄剤残査物によるガラス基板上の電極の電食等の発生が起こりにくく、極めて信頼性の高い電子部品等を低コストで効率よく製造できる。

Claims

炭素数８〜２０の炭化水素および総炭素数４〜１６の脂肪族カルボン酸アルキルエステルからなる群から選ばれる１種以上の疎水性溶媒（Ａ）、融点が２０℃以下で炭素数８〜２６の脂肪族アルコール（Ｂ）、一般式（１）で示されるグリコールエーテル（Ｃ）、一般式（２）で示される化合物および一般式（３）で示される化合物からなる群から選ばれる１種以上のイオン性界面活性剤（Ｄ）および水（Ｅ）からなることを特徴とする洗浄剤。

［式中、Ｒ^１は炭素数４〜８の炭化水素基、Ａは炭素数２〜４のアルキレン基、Ｘは水素原子または炭素数１〜４の炭化水素基、ｎは１〜４の整数。］

［式（２）および（３）中、Ｒ^２およびＲ^３は炭素数６〜２４の炭化水素基、Ｍのうち少なくとも１個は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムカチオン、第４級アンモニウムカチオンおよび塩基性アミノ酸基からなる群から選ばれる１種以上であり、残りのＭは水素原子であり、Ａは炭素数２〜４のアルキレン基、ｍは０または１〜３０の整数、ｙは１または２の整数である。］
イオン性界面活性剤（Ｄ）におけるＭのうち少なくとも１個が一般式（４）で示される第４級アンモニウムカチオンである請求項１記載の洗浄剤。

［式中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２４の炭化水素基もしくは総炭素数３〜２４のアルキルアミドアルキル基または一般式（５）で示される基であり、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７のうち少なくとも１個は炭素数６〜２４の炭化水素基または総炭素数８〜２４のアルキルアミドアルキル基であり、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は互いに結合して環を形成していてもよい。］

［式中、Ｒ^８は炭素数２〜４のアルキレン基、ｐは１〜６の整数。］
洗浄剤の全重量に基づいて４０〜８５重量％の（Ａ）、５〜２０重量％の（Ｂ）、１〜３０重量％の（Ｃ）、０．５〜２０重量％の（Ｄ）および５〜４０重量％の（Ｅ）を含有する請求項１または２記載の洗浄剤。
電子部品、治具またはスクリーン版の洗浄用である請求項１〜３のいずれか記載の洗浄剤。
電子部品、治具またはスクリーン版に残存した液晶、レジスト、フラックスおよび／またはインクの除去洗浄用である請求項１〜３いずれか記載の洗浄剤。