JP2004321864A - 光触媒フィルターの洗浄方法及び洗浄用キット - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 238000005406 washing Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims abstract description 89
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 71
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 89
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 39
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 31
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 26
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 20
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 15
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 9
- 238000005187 foaming Methods 0.000 claims description 7
- RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-1,3-benzothiazole-2,6-diamine;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1C(N)CCC2=C1SC(N)=N2 RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- PTYMQUSHTAONGW-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;hydrazine Chemical compound NN.OC(O)=O PTYMQUSHTAONGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 17
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 7
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 39
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 10
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 241000208125 Nicotiana Species 0.000 description 4
- 235000002637 Nicotiana tabacum Nutrition 0.000 description 4
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 235000019504 cigarettes Nutrition 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- -1 superoxide ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 2
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 2
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- JCDAAXRCMMPNBO-UHFFFAOYSA-N iron(3+);oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Ti+4].[Fe+3].[Fe+3] JCDAAXRCMMPNBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052575 non-oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011225 non-oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019645 odor Nutrition 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000002027 skeletal muscle Anatomy 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の洗浄方法は、過酸化水素水を含むアルカリ洗浄液に光触媒フィルターを浸漬し、該フィルターの表面部で発泡させる工程と、前記光触媒フィルターに付着したアルカリ洗浄液を除去する工程と、前記アルカリ洗浄液が除去された光触媒フィルターの光触媒機能を回復させる工程とを包含する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】本発明は、光触媒フィルターの洗浄方法とその方法に使用するフィルター洗浄用材料に関する。
【0002】
【従来の技術】居住空間や作業空間における悪臭を解消する手段、或いは自動車の排気ガス等の有害物質によって汚染された空気を浄化する手段として、酸化チタン等の光触媒物質を備えたセラミックフィルター(以下、本明細書において「光触媒フィルター」という。)が用いられている。例えば、特許文献1には浄化効率に優れた光触媒フィルターが記載されている。
ところで、上記用途に使用される光触媒フィルターを最適なコンディションで使用するためには、光触媒フィルターに付着した異物(塵埃、タバコのヤニ等)を除去するべく、光触媒フィルターをその使用期間に応じて(好ましくは定期的に)洗浄することが望ましい。
なお、一般的なセラミックフィルターの洗浄方法として特許文献2には、1〜10wt%のNaOH水溶液に過酸化水素水を1〜5wt%添加した洗浄液を用いる方法が記載されている。
【0003】
【特許文献1】特開2001−38218号公報
【特許文献2】特開平8−309165号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特許文献2に記載の洗浄方法は、酸化チタンのような金属酸化物半導体をセラミックフィルター本体(即ち多孔質セラミック支持体)に担持して成る光触媒フィルターの洗浄方法として適当でない。すなわち、特許文献2に記載の洗浄方法では酸化チタンのような金属酸化物半導体の光触媒活性を損なう虞がある。さらに、当該文献に記載の洗浄方法では、洗浄主成分たるアルカリ成分(NaOH)の濃度が高く、セラミックフィルター本体と光触媒物質(典型的には粒子形状)との結合強度を低下させて光触媒物質のセラミックフィルター本体からの遊離を助長する虞があり好ましくない。
【0005】
そこで本発明は、光触媒フィルターの機械的強度と所望されるレベルの光触媒活性を維持しつつ、効率的なフィルター洗浄を実現し得る洗浄方法を提供することを目的とする。また、ここで開示する洗浄方法に好適に使用される洗浄材料を提供することを他の目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段、作用および効果】本発明により提供される洗浄方法は、セラミックフィルターの本体たる多孔質セラミック支持体と、該支持体に担持された光触媒として機能する金属酸化物(典型的には酸化チタン)とを有する光触媒フィルターを洗浄する方法である。この方法は、過酸化水素を含むアルカリ洗浄液に光触媒フィルターを浸漬し、該フィルターの表面部で発泡させる工程と、その後に該フィルターに付着したアルカリ洗浄液(即ちアルカリ成分及び過酸化水素)を除去する工程と、上記アルカリ洗浄液が除去された光触媒フィルターの光触媒活性を回復させる工程とを包含する。
【0007】
ここで開示された方法では、過酸化水素を含むアルカリ洗浄液に光触媒フィルターを浸漬し、該フィルターの表面部(フィルターの表面(担持された光触媒物質たる金属酸化物の表面を含む)及びその近傍を含む。以下同じ。)において過酸化水素の反応(2H2O2→2H2O+O2)により積極的に発泡させる。このような状態にすることで、フィルター表面に付着している塵埃やヤニ等の異物に対してアルカリ成分を作用させると共に、発泡作用によって異物(有機物のアルカリ分解産物を含む。)をフィルター表面から容易に取り除くことができる。
このため、特別な設備を要することなく効率よく光触媒フィルターを洗浄することができる。また、光触媒物質と接触して生じる過酸化水素由来のヒドロキシラジカル(OH・)やスーパーオキサイドイオン(O2・−)によって、フィルター表面に付着した有機物の分解を促進することができる。
また、本発明の洗浄方法では、使用するアルカリ成分を従来よりも比較的低濃度に抑えることができるため、光触媒フィルターの機械的強度(特に光触媒物質と多孔質セラミック支持体との結合強度)がアルカリ成分によって過度に低下するのを防止することができる。
【0008】
さらに、本発明の洗浄方法では、アルカリ洗浄液の除去(例えば光触媒フィルターの水洗)に加え、光触媒フィルターの光触媒機能回復措置を施す。すなわち、過酸化水素を含むアルカリ洗浄液中に光触媒フィルターを浸漬すると、フィルター本体(支持体)に担持されている金属酸化物の一部が化学的に変化し得る。例えば、酸化チタンを過酸化水素水に浸漬すると、黄色に着色した物質が生成されることが知られている。一般にかかる着色生成物質は本来の金属酸化物半導体のような光触媒活性を有しない。
好ましい光触媒機能回復措置の一つは、光触媒フィルターを100℃以上の高温で乾燥することである。ここで乾燥処理に関して「高温」とは、フィルターに付着している水分を除去(即ち乾燥)し得る程度に高温であることをいい、乾燥の程度を越えてフィルターを構成するセラミックスが焼結する(即ちフィルターの多孔質構造が変化する)ような高温を意味しない。
また、好ましい光触媒機能回復措置の他の一つは、光触媒フィルターを還元剤で処理することである。好ましい還元剤は、例えば、二酸化チオ尿素、次亜リン酸、炭酸ヒドラジン、シュウ酸から成る群から選択される1種又は2種以上である。
これらの光触媒機能回復措置を施すことによって、光触媒として機能する金属酸化物としてフィルターに当初担持された物質(例えばTiO2)の少なくとも一部を光触媒活性を有する物質として回復させること(即ち光触媒機能の再生)が可能となり、結果として光触媒フィルターに所望される光触媒活性を維持することができる。従って、本発明の洗浄方法によると、高温処理や還元剤処理といった簡便な手法によって、上記アルカリ洗浄液への浸漬処理によって低下又は失われた光触媒機能(活性)を容易に回復することができる。
【0009】
本発明の洗浄方法において使用する洗浄液のアルカリ成分はアルカリ金属の水酸化物であることが好ましい。例えば、本発明の洗浄方法として好ましい一態様は、上記アルカリ洗浄液がアルカリ金属イオン濃度0.01〜0.1mol/Lである水酸化カリウム及び/又は水酸化ナトリウムの水溶液であることを特徴とする。
このような比較的低濃度のアルカリ成分を含む洗浄液を用いると、高効率なフィルター洗浄を維持すると共に該フィルターの機械的強度保持効果をより向上させることができる。
【0010】
また、本発明の洗浄方法として好ましい一態様は、上記アルカリ洗浄液が0.5〜5mol/Lの過酸化水素を含むことを特徴とする。この程度の濃度の過酸化水素を含むことにより、効率的なフィルター洗浄を行えると共に上記乾燥工程によって、洗浄後の光触媒フィルターについて高い光触媒活性を維持することができる。
【0011】
また、好ましくは、上記除去工程において、光触媒フィルターを酸で処理することが行われる。典型的には酸で処理した後に更に水洗が行われる。酸処理を行うことによって、フィルターに付着するアルカリ洗浄液をより確実に除去(中和を包含する。)することができる。また、酸成分によるフィルター表面の洗浄も行い得る。
【0012】
また、本発明は上述した洗浄方法に好適に使用し得る洗浄液の調製用キットを提供する。すなわち、本発明の洗浄液調製用キットは、多孔質セラミック支持体と該支持体に担持された光触媒として機能する金属酸化物とを有する光触媒フィルターを洗浄する洗浄液の調製用キットであって、それぞれ異なる容器に収容された、水酸化カリウム及び/又は水酸化ナトリウムの水溶液と、過酸化水素水とを備える。
本発明の洗浄方法では、上述のアルカリ洗浄液は、使用直前に調製することが好ましい。従って、上記キットを用いることにより、所望する時期に迅速に上記アルカリ洗浄液を調製することができる。
【0013】
好ましくは、各容器に収容された溶液(即ち水酸化カリウム及び/又は水酸化ナトリウムの水溶液と過酸化水素水)は、それらを配合することによって目的のアルカリ濃度及び過酸化水素濃度の洗浄液が調製し得るように設定された濃度及び容量で個々の容器に分画される。この場合において特に好ましいキットは、一の容器に収容された水酸化カリウム及び/又は水酸化ナトリウムの水溶液と、他の一の容器に収容された過酸化水素水とを配合することにより、アルカリ金属イオン濃度が0.01〜0.1mol/Lであり且つ過酸化水素濃度が0.5〜5mol/Lである洗浄液が調製されるように構成されていることを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態を説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事柄は、いずれも従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書及び図面によって開示されている事項と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。
【0015】
本発明の洗浄方法は、アルカリ成分(好ましくはアルカリ金属の水酸化物)と過酸化水素により、セラミック製のフィルター本体(支持体)を有する光触媒フィルターを洗浄する方法である。これら洗浄成分によって特に腐食し易いものでない限り、セラミックの材質及び光触媒物質(金属酸化物半導体)の種類に特に限定はない。
例えば、フィルター本体の素材としては、アルミナ、シリカのような酸化物セラミックス、或いは窒化ケイ素、炭化ケイ素のような非酸化物セラミックスのいずれでもよい。また、セラミックフィルターに担持されている光触媒物質(典型的には粒子形状)としては、酸化チタンが最も一般的であるが、酸化スズ、酸化亜鉛、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化鉄、酸化銅、チタン酸鉄、酸化ニッケル、酸化ビスマス、酸化ケイ素等を担持した光触媒フィルターの洗浄にも本発明の洗浄方法を適用することができる。
また、本発明の洗浄方法は、発泡作用の利用によって、使用する洗浄液のアルカリ成分濃度(例えば水酸化カリウム又は水酸化ナトリウムの濃度)を比較的低く設定し得る。このため、酸化チタン等の光触媒物質の光触媒活性を向上させるのに寄与する金属微粒子(白金、銀等)をフィルター表面及び/又は光触媒物質(典型的には酸化チタン粒子)の表面に担持させていることを特徴とする光触媒フィルターを洗浄するのに特に好適である。本発明の洗浄方法は、この種の光触媒フィルターを洗浄した際の金属微粒子の剥離を抑制し、光触媒フィルターの機能を洗浄後にも高く維持することができる。また、この種の光触媒フィルターは担持する金属微粒子(白金、銀等)によって過酸化水素の分解及び発泡を増進させ得るため、特に好適な洗浄対象である。
【0016】
ここで開示される洗浄方法で使用されるアルカリ洗浄液の主成分たるアルカリ成分としては、従来アルカリ性洗浄剤の洗浄成分として使用され得る類のものであって、セラミックフィルターの洗浄に使用し得るものであれば特に制限はない。好ましくはアルカリ金属の水酸化物であり、水酸化カリウムが特に好ましい。
また、上述したアルカリ成分及び過酸化水素の他、光触媒フィルターの洗浄の障害にならないものである限り、他の成分をアルカリ洗浄液に含有させてもよい。この種の添加成分として、過酸化水素の分解防止剤(負触媒)、界面活性剤、無機顔料、香料等が挙げられる。
【0017】
使用するアルカリ洗浄液中のアルカリ成分の濃度は、過酸化水素による発泡時において、泡と共にフィルター表面から異物が容易に除去され得るように当該異物(有機物)を部分的に分解してフィルター表面から剥離し易くする程度であればよく、アルカリ成分のみに頼る従来のアルカリ洗浄剤のように過度に濃くする必要はない。使用するアルカリの種類によって異なり得るため特に限定するものではないが、アルカリ金属の水酸化物を主成分とする場合には、含有するアルカリ金属イオン濃度が0.01〜0.1mol/L(dm3)の範囲内であることが適当である。この濃度が0.03〜0.08mol/L程度であることが特に好ましい。
一方、過酸化水素の濃度は、光触媒フィルターを浸漬した際、比較的長時間(例えば30分以上、好ましくは1時間以上)発泡が継続する程度の濃度が好ましい。この要求に好適な範囲は、0.5〜5mol/Lである。洗浄液中の過酸化水素濃度が1〜2mol/L程度であることが特に好ましい。過酸化水素の濃度が低すぎると、発泡効果が小さすぎて好ましくない。一方、過酸化水素の濃度が高すぎると、フィルター本体に担持されている酸化チタン等の金属酸化物半導体の望ましくない化学変化(典型的には光触媒作用を奏しない過酸化物の生成)の発生頻度が高くなりすぎるため好ましくない。
【0018】
アルカリ洗浄液は光触媒フィルターを浸漬する直前に調製する(即ちアルカリ成分と過酸化水素とを混合する)ことが好ましい。ここで開示したキットを採用することによって、光触媒フィルターの洗浄直前にアルカリ洗浄液を容易に調製し得る。例えば、0.05〜0.1mol/Lの水酸化カリウム及び/又は水酸化ナトリウム水溶液と6〜12mol/Lの過酸化水素水とを容積比10:1〜8:1で混合することにより、所望する濃度のアルカリ洗浄液をすぐに調製することができる。従って、かかる容積比となるように上記濃度範囲の水酸化カリウム及び/又は水酸化ナトリウム水溶液と過酸化水素水を個々の容器に分注しておくとよい。
【0019】
アルカリ洗浄液に光触媒フィルターを浸漬する場合、特にフィルターの前処理は必要ないが、綿埃、虫の死骸等の比較的大サイズの異物を予め除去する処理(例えばフィルターの水洗やフィルター表面への水又はガスの吹付け)を行うことが好ましい。浸漬処理は、フィルターの表面部において継続的に発泡させることから、容器内のアルカリ洗浄液に静止した状態でフィルターを漬けておくことが好ましい。浸漬時間は、使用するアルカリ洗浄液の濃度や光触媒フィルターの汚れ具合によって異なり得るため特に限定しないが、上記濃度範囲のアルカリ洗浄液を使用してタバコのヤニのような油脂汚れを除去する場合、1〜24時間(典型的には8〜12時間)程度の浸漬処理が好ましい。かかる浸漬処理を行う際の温度制限は特になく、常温で行えばよい。
【0020】
所定時間の浸漬処理終了後、洗浄液中からフィルターを取り出し、該フィルターに付着した残留アルカリ成分及び過酸化水素を除去する処理を行う。典型的には、水洗を行う。例えば適当な時間(例えば1〜10分)だけ水中(例えば水槽に貯留した水中或いは流水中)に光触媒フィルターを入れて、表面に付いているアルカリ洗浄液を洗い流すとよい。あるいは、洗浄液から取り出したフィルターを次いで適当な濃度の酸(例えば硝酸、塩酸、硫酸、リン酸、酢酸、シュウ酸その他のカルボン酸)の水溶液に浸けておく(即ち酸洗浄する)とよい。例えば0.01〜0.02mol/L程度の低濃度の硝酸に数分乃至数時間(例えば10分〜3時間)、光触媒フィルターを漬けておき、その後好ましくは水洗することによって、フィルターの孔隙内に存在する洗浄液の成分(即ちアルカリ成分及び過酸化水素)を十分に除去することができる。使用する酸としては、アルカリ成分の中和に加えてフィルターの酸洗浄効果も高い硝酸が好ましい。酸に浸漬した後は、不要な酸成分を洗い流すために上述のような水洗を行うことが好ましい。
【0021】
本発明の洗浄方法で行う上記光触媒機能回復措置としては、例えばアルカリ洗浄後の光触媒フィルターを再度焼成する(即ち焼成可能な温度まで加熱する)という手段も挙げられるが、上記アルカリ洗浄液への浸漬により失った或いは低下した光触媒機能を簡便な処理で効果的に回復し得る内容のものが好ましい。そのような手段として、上述の高温乾燥処理及び還元剤処理が挙げられる。
かかる高温乾燥処理としては、典型的には、大気雰囲気下で内部温度が100℃以上(例えば100〜250℃)に設定された乾燥器に光触媒フィルターを配置し、そのまま適当な時間(例えば0.5〜10時間、典型的には1〜3時間)放置する。なお、洗浄対象のフィルターに担持されている金属酸化物が酸化チタン(TiO2)である場合、過酸化水素で処理することにより着色物質(典型的には黄色に着色した物質)がフィルタ表面に生成される。従って、乾燥(熱)処理時間は、かかる着色物質の消失程度(即ちフィルター表面の退色の程度)を目安に決定するとよい。例外があることを否定しないが原則としてはフィルター表面の退色が進むほど光触媒機能(活性)の回復を図ることができる。例えば、洗浄液に浸けて黄色くなったフィルターが元の白色又は灰色に復帰した時点で乾燥処理を終了するとよい。好ましくは、130℃以上(例えば130〜200℃)、特に好ましくは140〜180℃程度の温度で乾燥処理を行う。これにより0.5〜3時間程度の乾燥処理で、光触媒フィルターの機械的強度にダメージを与えることなく、光触媒機能(活性)を回復させることができる。
【0022】
一方、還元剤処理としては、過酸化水素の作用で生じた過酸化物を本来の金属酸化物に戻し得る還元剤であれば、特に制限なく用いることができる。例えば、種々のヒドラジン、ジイミド、アルデヒドが挙げられる。二酸化チオ尿素、次亜リン酸、炭酸ヒドラジン、シュウ酸等は、本発明の洗浄方法に好適に使用し得る還元剤の具体例である。
還元処理としては、適当な還元剤の水溶液を調製し、その溶液中に光触媒フィルターを浸漬する一般的な方法によれば良く、特別な操作を要しない。典型的には、0.01〜1.0mol/L程度の濃度の還元剤(例えば0.05〜0.2mol/Lの二酸化チオ尿素)を含む溶液中に1〜5時間程度浸漬することによって、光触媒フィルターの光触媒機能(活性)の回復を図ることができる。典型的には、還元剤処理後に光触媒フィルターを水洗し、フィルターに付着している余剰な還元剤を除去するとよい。
なお、本発明の実施に際しては、上述の高温乾燥処理と還元剤処理のいずれかを行えばよく、或いはこれら二つの処理を併用してもよい。
また、光触媒機能回復措置として還元剤処理を採用する場合、上記アルカリ洗浄液の除去処理(工程)と還元剤処理を同時に行うようにしてもよい。例えば、アルカリ洗浄液と光触媒フィルターとが入った容器中からアルカリ洗浄液を徐々に排出すると同時に還元剤を含む水溶液を当該容器に供給していく処理を行ってもよい。
【0023】
【実施例】以下、本発明に関する実施例を説明するが、本発明をかかる実施例に示すものに限定することを意図したものではない。
【0024】
容量2リットルのポリエチレン製のポットミル内に、セラミック微粉末(アルミナ微粉末)446.5g、タルク16.0g、木節粘土36.5g、水155gおよび分散剤12.5gを投入した。さらに、直径10mmのアルミナ玉石をポットミルの約1/3まで投入して5時間攪拌混合した。次いで、このポットミル内に有機バインダー(第一工業製薬(株)製、商品名「セラモTB−01」)を127.1g添加し、さらに20時間攪拌した。このようにして、セラミックフィルター本体である多孔質セラミック支持体を形成するためのスラリーを調製した。このスラリーに、三次元網目構造を有するプレート形状の有機多孔体(ここではウレタンフォーム)を浸け、スラリーを多孔体表面に含浸させた。次いで、スラリー中からウレタンフォームを取り出し、余剰のスラリーをローラで押し出すようにして除去した。次いで、ウレタンフォームの空隙に詰まったスラリーを、スプレーを用いて吹き飛ばすことにより目詰まりを解消した。さらに、ウレタンフォームに付着したスラリーに、篩を用いて平均粒子径8μmの表面層用セラミック粒子(アルミナ粒子)を振り掛けることにより均一に付着させた。次いで、余分なアルミナ粒子を払い落として、オーブン中でスラリーの付着したウレタンフォームを70℃で24時間乾燥し、その後1600℃で1時間焼成した。この焼成により、ウレタンフォームを焼失させるとともに、上記アルミナ微粉末とアルミナ粒子を焼結させた。このようにして、三次元網目構造を構成する骨格筋の表面に上記アルミナ粒子から成る凹凸表面層が形成された多孔質セラミック支持体(サイズ:240mm×126mm、厚み:13.5mm)を得た。得られた支持体の嵩密度は0.26g/cm3であり、その表面積は約0.5m2/g(BET法に基づく)であった。
次いで、アナターゼ型酸化チタン粉末(石原産業(株)製品:ST−01)が単分散して成るスラリーに上記支持体を浸漬し、その後500℃で該支持体を焼成した。これにより上記表面層に酸化チタン粒子がほぼ均一に担持した光触媒フィルターを得た。セラミック支持体に対する光触媒の平均担持量は約0.07g/cm3であった。
【0025】
次に、フィルター全体がタバコのヤニによってこげ茶色に変色するまで光触媒フィルターに対して光を照射しない状態でタバコの煙を強制的に吹き付けた。この処理により、フィルターの全域がヤニで汚染されたフィルター(以下「汚染フィルター」という。)を作製した。
かかる汚染フィルターの洗浄を以下のように行った。すなわち、予め作製しておいた0.05mol/L(K+濃度)の水酸化カリウム水溶液1800mlと10mol/Lの過酸化水素水270mlとを所定の容器に入れて混合し、0.043mol/Lの水酸化カリウムと1.3mol/Lの過酸化水素水を含む洗浄液を調製した。この洗浄液(約20℃)に上記汚染フィルターを入れて8時間浸漬し続けた。
【0026】
第1の実施例として、上記8時間の浸漬後、洗浄液中から表面が黄色に着色したフィルターを取り出し、約10Lの水道水(約20℃)を入れた容器に移した。該容器中にてフィルターを僅かに揺らしながら3分間水洗した。
その後、軽く水切りをしたフィルターを140℃に加熱してある乾燥器内に移し、1時間放置した。その後、乾燥処理によって表面が退色してほぼ白くなった光触媒フィルターを乾燥器から取り出し、大気中に放置して室温に戻した。
【0027】
また、第2の実施例として、上記8時間の浸漬後、洗浄液中から表面が黄色に着色したフィルターを取り出し、約10Lの水道水(約20℃)を入れた容器に移した。該容器中にてフィルターを僅かに揺らしながら3分間水洗した。
その後、0.15mol/Lの二酸化チオ尿素水溶液700mlを含む容器中に光触媒フィルターを入れ、常温で2時間静置した。その後、流水で手短に洗浄し、表面が退色してほぼ白くなった光触媒フィルターを得た。
【0028】
上記のようにして作製した汚染フィルター及び洗浄後の各フィルター(高温乾燥処理フィルター及び還元剤処理フィルター)を使用して以下の試験装置を構築した。すなわち、外気から遮断されたステンレス製の試験用ダクト(図示せず)に上記汚染フィルター又は洗浄済みフィルターを装備した。本実施例ではダクト内に2枚の同形状の汚染フィルター又は洗浄済みフィルターを、フィルターの幅広面がガス流通方向に対して直交するようにしてガス流通(進行)方向に沿って相互に隔離してタンデムに配置した。それらフィルターの間には、両フィルターに紫外光を照射し得る光源(ここではブラックライト)を配置した。なお、ダクトの上流側から供給したガスは2枚のフィルターを通過しないとダクトの下流側に流通しないように構成されている。かかる構成の試験装置を用いて以下の試験を行った。
【0029】
<試験例1>
外気と遮断した状態で上記試験用ダクトの上流と下流とをガス流通可能に接続した。そして、光触媒フィルターの上流側から下流側へ初期濃度10ppmのアセトアルデヒド(CH3CHO)を含む試験用ガス1m3を風速1.8m/sの風量で60分間循環供給した。このときの温度条件は室温(17.7〜24.6℃)とし、ガスの湿度(即ちダクト内の相対湿度)は23.4〜68.1%であった。循環供給中はブラックライトは常に点灯しておいた。循環供給を開始してから60分間経過後まで所定の時にダクトの光触媒フィルター下流側からガスを一部サンプリングし、サンプリングガス中に含まれるアセトアルデヒド濃度(ppm)を一般的なガスクロマトグラフィーによって定量した。また、各サンプリング時点におけるアセトアルデヒド除去率(%)を、測定(残留)アルデヒド濃度と初期アルデヒド濃度から算出した。
表1及び図1ならびに表2及び図2に示す結果から明らかなように、本発明の洗浄方法を施すことによって、光触媒フィルターの汚れ(本実施例ではタバコのヤニ)を簡便な処理で取り除くことができると共に高い光触媒活性の回復を実現することができる。
【0030】
【表1】
【0031】
【表2】
【0032】
<試験例2>
上記製造プロセスによって作製した光触媒フィルターを上述したプロセスで繰返し洗浄し、洗浄回数が光触媒フィルターの性能(光触媒活性)に及ぼす影響を評価した。
すなわち、本実施例で説明したプロセスで製造した光触媒フィルターを上述のプロセス(但し光触媒機能回復措置として上記高温乾燥処理を採用したもの)にて1回洗浄したもの(以下「1回洗浄済みフィルター」という。)、5回繰返して洗浄したもの(以下「5回洗浄済みフィルター」という。)、及び10回繰返して洗浄したもの(以下「10回洗浄済みフィルター」という。)を作製した。
【0033】
次いで、これら3種の洗浄後フィルターと未洗浄フィルター(即ち新品の光触媒フィルター)とを用いて以下の試験を行った。
初期濃度が0.09〜0.15ppmの硫化水素(H2S)を含む試験用ガスを外部のガス供給源に貯蔵しておき、当該ガスを上記試験用ダクトの光触媒フィルター上流側から風速0.5m/sの風量(50m3/s)で90分間供給し続けた。このときの温度条件は室温(20.7〜24.6℃)とし、ガスの湿度(ダクト内の相対湿度)は23.4〜39.1%であった。ガス供給中はダクト内のブラックライトは常に点灯しておいた。供給開始から30分、60分及び90分経過時点にダクトの光触媒フィルター下流側からガスをサンプリングし、サンプリングガス中に含まれる硫化水素濃度(ppm)をガスクロマトグラフィーによって定量した。また、各サンプリング時点における硫化水素除去率(%)を、供給ガス中の硫化水素濃度とサンプリングガス中の硫化水素濃度から算出した。
表3に示す結果から明らかなように、本発明の洗浄方法を繰返し行っても、光触媒フィルターの性能(光触媒活性)に殆ど影響がないことが確かめられた。この結果は、本発明の洗浄方法が光触媒フィルターの機械的強度に実質上影響を与えない方法であることを裏付けるものである。
【0034】
【表3】
【0035】
以上の実施例において、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
また、本明細書に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時の請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】タバコのヤニで汚染された光触媒フィルターの光触媒活性と、該汚染フィルターを本発明の高温乾燥処理を伴う洗浄方法で洗浄した後の光触媒フィルターの光触媒活性とを対比したグラフである。横軸はアセトアルデヒド含有ガスの光触媒処理開始後の経過時間(分)を示し、縦軸は供試光触媒フィルターのアセトアルデヒド分解効率(除去率:%)を示す。
【図2】タバコのヤニで汚染された光触媒フィルターの光触媒活性と、該汚染フィルターを本発明の還元剤処理を伴う洗浄方法で洗浄した後の光触媒フィルターの光触媒活性とを対比したグラフである。横軸はアセトアルデヒド含有ガスの光触媒処理開始後の経過時間(分)を示し、縦軸は供試光触媒フィルターのアセトアルデヒド分解効率(除去率:%)を示す。
Claims (9)
- 多孔質セラミック支持体と該支持体に担持された光触媒として機能する金属酸化物とを有する光触媒フィルターを洗浄する方法であって、以下の工程:
過酸化水素を含むアルカリ洗浄液に光触媒フィルターを浸漬し、該フィルターの表面部で発泡させる工程;
前記フィルターに付着したアルカリ洗浄液を除去する工程;及び
前記アルカリ洗浄液が除去された光触媒フィルターの光触媒機能を回復させる工程;
を包含する方法。 - 前記回復工程において、前記光触媒フィルターを100℃以上の高温で乾燥する、請求項1に記載の方法。
- 前記回復工程において、前記光触媒フィルターを還元剤で処理する、請求項1に記載の方法。
- 前記還元剤が二酸化チオ尿素、次亜リン酸、炭酸ヒドラジン、シュウ酸から成る群から選択される1種又は2種以上であることを特徴とする、請求項3に記載の方法。
- 前記アルカリ洗浄液はアルカリ金属イオン濃度が0.01〜0.1mol/Lである水酸化カリウム及び/又は水酸化ナトリウムの水溶液である、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
- 前記アルカリ洗浄液は0.5〜5mol/Lの過酸化水素を含む、請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
- 前記除去工程において、前記光触媒フィルターを酸で処理することが行われる、請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
- 多孔質セラミック支持体と該支持体に担持された光触媒として機能する金属酸化物とを有する光触媒フィルターを洗浄する洗浄液の調製用キットであって、
それぞれ異なる容器に収容された、水酸化カリウム及び/又は水酸化ナトリウムの水溶液と、過酸化水素水とを備えるキット。 - 一の容器に収容された水酸化カリウム及び/又は水酸化ナトリウムの水溶液と、他の一の容器に収容された過酸化水素水とを配合することにより、アルカリ金属イオン濃度が0.01〜0.1mol/Lであり且つ過酸化水素濃度が0.5〜5mol/Lである洗浄液が調製されるように、各容器に収容された溶液の濃度及び容量が設定されている、請求項8に記載のキット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004321864A true JP2004321864A (ja) | 2004-11-18 |
Family
ID=33496735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003116570A Pending JP2004321864A (ja) | 2003-04-22 | 2003-04-22 | 光触媒フィルターの洗浄方法及び洗浄用キット |
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| JP (1) | JP2004321864A (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JP2009142753A (ja) * | 2007-12-14 | 2009-07-02 | Meidensha Corp | 光触媒部材の再生方法 |
| JP2009233634A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Ube Ind Ltd | 光触媒の再生方法 |
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-
2003
- 2003-04-22 JP JP2003116570A patent/JP2004321864A/ja active Pending
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|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050711 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20050711 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050715 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060210 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080903 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080911 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090122 |