JP2004071219A - プラズマ表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高い信頼性を有し、放電電圧を上げずに高い輝度が得られると共に、セル毎に均一な放電が得られ、発光の安定性に優れた交流駆動型プラズマ表示装置を提供することにある。
【解決手段】第１基板１１と、第１基板１１の内側に対向して配置され、間に密封された放電空間４を形成する第２基板２１と、第１基板１１の内側に形成され、相互間に放電ギャップを形成する少なくとも一対の放電維持電極１２と、放電維持電極１２に対して放電空間４を介して平面側から見て交差するように、第２基板２１の内側に形成される複数のアドレス電極２２と、を有するプラズマ表示装置である。
【選択図】　　　　図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマ表示装置に係り、さらに詳しくは、高信頼性を有し、放電電圧を上げずに高い輝度を得られると共に、均一な放電を得ることで発光の安定性を図ることができるプラズマ表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在主流の陰極線管（ＣＲＴ）に代わる画像表示装置として、平面型（フラットパネル形式）の表示装置が種々検討されている。このような平面型の表示装置として、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンス表示装置（ＥＬＤ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ：プラズマ・ディスプレイ）を例示することができる。中でも、プラズマ表示装置は、大画面化や広視野角化が比較的容易であること、温度、磁気、振動等の環境要因に対する耐性に優れること、長寿命であること等の長所を有し、家庭用の壁掛けテレビの他、公共用の大型情報端末機器への適用が期待されている。
【０００３】
プラズマ表示装置は、希ガスから成る放電ガスを放電空間内に封入した放電セルに電圧を印加して、放電ガス中でのグロー放電に基づき発生した紫外線で放電セル内の蛍光体層を励起することによって発光を得る表示装置である。つまり、個々の放電セルは蛍光灯に類似した原理で駆動され、放電セルが、通常、数十万個のオーダーで集合して１つの表示画面が構成されている。プラズマ表示装置は、放電セルへの電圧の印加方式によって直流駆動型（ＤＣ型）と交流駆動型（ＡＣ型）とに大別され、それぞれ一長一短を有する。
【０００４】
ＡＣ型プラズマ表示装置は、表示画面内で個々の放電セルを仕切る役割を果たす隔壁を、たとえばストライプ状に形成すればよいので、高精細化に適している。しかも、放電のための電極の表面が誘電体層で覆われているので、かかる電極が磨耗し難く、長寿命であるといった長所を有する。ＡＣ型プラズマ表示装置の一例として、たとえば特開平５−３０７９３５号公報、あるいは特開平９−１６０５２５号公報に示す３電極型プラズマ表示装置が例示される。
【０００５】
従来のプラズマ表示装置において、放電空間内に封入してある放電ガスは、ネオン（Ｎｅ）ガス、ヘリウム（Ｈｅ）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガスなどの不活性ガスにキセノン（Ｘｅ）ガスを４容積％程度混合した混合ガスから構成してあり、一対の放電維持電極間の放電ギャップは約１００μｍである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
現在商品化されているＡＣ型プラズマ表示装置においては、その輝度の低さが問題となっている。たとえば、４２インチ型のＡＣ型プラズマ表示装置の輝度は、高々９００ｃｄ／ｍ^２程度である。しかも、実際にＡＣ型プラズマ表示装置を商品化するにあたっては、例えば、表示面側パネルの外面に電磁波遮蔽や外光反射防止のためのシートやフィルムを張り合わせる必要があり、ＡＣ型プラズマ表示装置における実際の表示光はかなり暗くなってしまう。そこで、輝度を高くすることを目的として放電空間内に封入する放電ガスの圧力を高くすると、放電電圧が高くなったり、放電が不安定になり、あるいはまた、放電が不均一になるといった問題が生じる。
【０００７】
また、放電空間を確保するにあたり、各放電セルは隔壁により仕切られている。よって、隔壁近傍の放電は隔壁により放電空間を遮られ、放電が生じにくい状態になっている。よって、一対の維持電極間の間隔が一定である場合には放電セル内の中心部で発光が強くなり、セル内端部で発光が弱くなるという現象が生じる。これにより、セル内で放電が不均一になるという問題が発生していた。さらに、放電が一部に集中することによって、ライフが低減される要因ともなっていた。
【０００８】
従って、本発明の目的は、高い信頼性を有し、放電電圧を上げずに高い輝度が得られると共に、セル毎に均一な放電が得られ、発光の安定性に優れた交流駆動型プラズマ表示装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段および作用】
上記目的を達成するために、本発明に係るプラズマ表示装置は、
第１基板と、
前記第１基板の内側に対向して配置され、間に密封された放電空間を形成する第２基板と、
前記第１基板と第２基板との間に形成され、前記放電空間を放電セル毎に区切る隔壁と、
前記第１基板の内側に形成され、相互間に放電ギャップを形成する少なくとも一対の放電維持電極と、
を有するプラズマ表示装置であって、
対を成す前記放電維持電極の間に形成される放電ギャップの距離が、前記放電セルと重なる領域において、前記放電維持電極の延在する方向に沿って変化していることを特徴とする。
好ましくは、前記放電ギャップの距離が、前記放電セルと重なる領域において、放電セルの中心部と端部とで異なるように変化している。
【００１０】
放電ギャップと放電電圧との関係はパッシェンの法則に従うものであり、放電電圧はガス圧と放電ギャップとの積に依存する。一般に、ガス圧が高くなると放電ギャップが短い方が放電電圧は低くなり、ガス圧が低くなると、放電ギャップが長い方が放電電圧が低くなるという特徴を有する。上記法則は、ガス組成によっても変化するものであり、放電電圧の極小値もガス組成とガス圧との関係によりその値は変化する。
【００１１】
また、プラズマ表示装置においては、放電空間を確保するにあたり、各放電セルは隔壁により仕切られている。第１基板の内側に形成してある放電維持電極は、第２基板の内側に形成してある隔壁によってセルとして分割されており、隔壁近傍の放電は隔壁により放電空間を遮られ、放電が生じにくい状態になっている。よって、一対の放電維持電極間の間隔（放電ギャップ）が一定であった場合には、放電セル内の中心部で発光が強くなり、セル内端部で発光が弱くなるという現象が生じる。
【００１２】
本発明では、上記２つの現象を踏まえ、セル内の端部で発光しにくい部分の放電ギャップを、封入しているガス種およびガス圧において放電電圧の低くなるギャップにすることで、セル内の放電均一性を高めるというものである。
【００１３】
すなわち、本発明では、パッシェンの法則において、放電電圧が最小になるｐｄ積（放電ガス圧ｐと放電ギャップの距離ｄとの積）よりも右上がりの曲線の部分に動作点がある場合には、次のような関係にする。右上がりの曲線の部分では、ガス圧が一定であるとして、放電ギャップの距離ｄが大きくなるほど放電電圧が上昇する。そこで、本発明では、その場合には、放電ギャップにおける放電セルの中心部での幅をＤ１とし、放電ギャップにおける放電セルの端部での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１＞Ｄ２とする。このように設定することで、セル内の端部で発光しにくい部分の放電ギャップが、封入しているガス種およびガス圧において放電電圧の低くなるギャップに設定される。その結果、セル内端部での放電が隔壁で放電が遮られて放電が生じにくくなる効果を低減し、より均一な放電が行われるようにするとともに、蛍光体を均一に励起することで、高輝度を実現することができる。すなわち、セル内の端部においても、セル内の中央部と同程度に放電が均一に生じ、放電電圧を上げずに高い輝度が得られ、発光の安定性が増大すると共に、信頼性が向上する。
【００１４】
好ましくは、前記放電ギャップにおける前記放電セルの中心部での幅をＤ１とし、前記放電ギャップにおける前記放電セルの端部での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１／Ｄ２＝１．２〜６．０である。たいていのプラズマ表示装置では、パッシェンの法則において、放電電圧が最小になるｐｄ積よりも右上がりの曲線の部分に動作点があるので、このような関係にすることで、本発明の作用効果が向上する。
【００１５】
なお、パッシェンの法則において、放電電圧が最小になるｐｄ積よりも左上がりの曲線の部分に動作点がある場合には、上述と逆の関係にすることが好ましい。すなわち、Ｄ１＜Ｄ２とする。
【００１６】
好ましくは、前記放電ギャップの距離が、前記放電セルと重なる領域において、連続的に変化している。この場合には、一層、放電の均一性を向上させることができる。
【００１７】
好ましくは、前記放電空間に封入される放電ガスが、キセノン（Ｘｅ）ガスおよびクリプトン（Ｋｒ）ガスからなる群から選択される少なくとも１種の第１ガスと、ネオン（Ｎｅ）ガス、ヘリウム（Ｈｅ）ガスおよびアルゴン（Ａｒ）ガスからなる群から選択される少なくとも１種の第２ガスと、の混合ガスで実質的に構成してあり、前記第１ガスの濃度が３０容積％以上である。なお、混合ガス中には、例えば１容積％以下のアルゴン（Ａｒ）ガス、水素（Ｈ_２）ガスが含まれていてもよい。
【００１８】
好ましくは、前記放電空間に封入される放電ガスが、キセノン（Ｘｅ）ガスおよび／またはクリプトン（Ｋｒ）ガスのみから実質的に成る。なお、この場合にも、例えば１容積％以下のアルゴン（Ａｒ）ガス、水素（Ｈ_２）ガスが含まれていてもよい。
本発明において、このようなガス種の放電ガスを用いることで、プラズマ表示装置の輝度が向上する。
【００１９】
好ましくは、前記放電空間に封入される放電ガスのガス圧が、１０ｋＰａ以上、さらに好ましくは２０ｋＰａ以上、特に好ましくは３０ｋＰａ以上である。本発明では、このような圧力範囲とすることにより、プラズマ表示装置の輝度が向上すると共に、本発明の作用効果が向上する。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図１は本発明の一実施形態に係るプラズマ表示装置の要部概略分解斜視図、
図２は図１に示す隔壁と放電維持電極との関係を示す平面図、
図３は図２に示す一対の放電維持電極間の放電ギャップの詳細を示す要部平面図、
図４はパッシェンの法則を示すグラフ、
図５（Ａ）および図５（Ｂ）は本発明の他の実施形態に係る一対の放電維持電極間の放電ギャップの詳細を示す要部平面図、
図６は本発明のさらに他の実施形態に係る一対の放電維持電極間の放電ギャップの詳細を示す要部平面図、
図７〜図１３は本発明の実施例および比較例に係る放電維持電極と放電電圧との関係を示すグラフである。
【００２１】
第１実施形態
プラズマ表示装置の全体構成
まず、図１に基づき、交流駆動型（ＡＣ）型プラズマ表示装置（以下、単に、プラズマ表示装置と呼ぶ場合がある）の全体構成について説明する。
【００２２】
図１に示すＡＣ型プラズマ表示装置２は、フロントパネルに相当する第１パネル１０と、リアパネルに相当する第２パネル２０とが貼り合わされて成る。第２パネル２０上の蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの発光は、第１パネル１０を通して観察される。すなわち、第１パネル１０が、表示面側となる。
【００２３】
第１パネル１０は、透明な第１基板１１と、第１基板１１上に相互に略平行に第１方向Ｘに沿ってストライプ状に設けられ、透明導電材料から成る複数対の放電維持電極１２と、放電維持電極１２のインピーダンスを低下させるために設けられ、放電維持電極１２よりも電気抵抗率の低い材料から成るバス電極１３と、バス電極１３および放電維持電極１２上を含む第１基板１１上に形成された誘電体層１４と、その上に形成された保護層１５とから構成されている。なお、保護層１５は、必ずしも形成されている必要はないが、形成されていることが好ましい。
【００２４】
一方、第２パネル２０は、第２基板２１と、第２基板２１上に第２方向Ｙ（第１方向Ｘと略直角）に沿ってストライプ状に且つ相互に略平行に設けられた複数のアドレス電極（データ電極とも呼ばれる）２２と、アドレス電極２２上を含む第２基板２１上に形成された絶縁体膜２３と、絶縁体膜２３上に形成された絶縁性の隔壁２４と、絶縁体膜上から隔壁２４の側壁面上に亘って設けられた蛍光体層とから構成されている。蛍光体層は、赤色蛍光体層２５Ｒ、緑色蛍光体層２５Ｇ、および青色蛍光体層２５Ｂから構成されている。
【００２５】
図１は、表示装置の一部分解斜視図であり、実際には、第２パネル２０側の隔壁２４の頂部が、第３方向Ｚ（第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに直交する方向）で第１パネル１０側の保護層１５に当接している。蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂが形成された隔壁２４と保護層１５とによって囲まれた放電空間４内には、放電ガスが封入されている。第１パネル１０と第２パネル２０とは、それらの周辺部において、フリットガラスを用いて接合されている。
【００２６】
放電空間４内に封入される放電ガスとしては、特に限定されないが、キセノン（Ｘｅ）ガス、ネオン（Ｎｅ）ガス、ヘリウム（Ｈｅ）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガス、窒素（Ｎ_２）ガス等の不活性ガス、あるいはこれらの不活性ガスの混合ガスなどが用いられる。封入されている放電ガスの全圧は、特に限定されないが、６×１０^３Ｐａ〜８×１０^４Ｐａ程度である。
【００２７】
本実施形態では、好ましくは、放電ガスとして、キセノン（Ｘｅ）ガスおよびクリプトン（Ｋｒ）ガスからなる群から選択される少なくとも１種の第１ガスと、ネオン（Ｎｅ）ガス、ヘリウム（Ｈｅ）ガスおよびアルゴン（Ａｒ）ガスからなる群から選択される少なくとも１種の第２ガスと、の混合ガスで実質的に構成してあり、前記第１ガスの濃度が３０容積％以上である。なお、混合ガス中には、例えば１容積％以下のアルゴン（Ａｒ）ガス、水素（Ｈ_２）ガスが含まれていてもよい。
【００２８】
あるいは、放電ガスとして、キセノン（Ｘｅ）ガスおよび／またはクリプトン（Ｋｒ）ガスのみから実質的に成るものでも良い。なお、この場合にも、例えば１容積％以下のアルゴン（Ａｒ）ガス、水素（Ｈ_２）ガスが含まれていてもよい
好ましくは、放電空間４に封入される放電ガスのガス圧が、１０ｋＰａ以上、さらに好ましくは２０ｋＰａ以上、特に好ましくは３０ｋＰａ以上である。
【００２９】
本実施形態のプラズマ表示装置２は、いわゆる反射型プラズマ表示装置であり、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの発光は、第１パネル１０を通して観察される。このため、アドレス電極２２を構成する導電性材料に関して透明／不透明の別は問わないが、放電維持電極１２を構成する導電性材料は透明である必要がある。なお、ここで述べる透明／不透明とは、蛍光体層材料に固有の発光波長（可視光域）における導電性材料の光透過性に基づく。即ち、蛍光体層から射出される光に対して透明であれば、放電維持電極やアドレス電極を構成する導電性材料は透明であると言える。
【００３０】
不透明な導電性材料として、Ｎｉ，Ａｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｄ／Ａｇ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｃｕ，Ｂａ，ＬａＢ_６，Ｃａ_０．２Ｌａ_０．８ＣｒＯ_３等の材料を、単独または適宜組み合わせて用いることができる。透明な導電性材料としては、ＩＴＯ（インジウム・錫酸化物）やＳｎＯ_２を挙げることができる。放電維持電極１２またはアドレス電極２２は、スパッタ法、蒸着法、スクリーン印刷法、メッキ法等によって形成することができ、フォトリソグラフィ法、サンドブラスト法、リフトオフ法などによってパターン加工される。
【００３１】
放電維持電極１２の表面に形成される誘電体層１４は、典型的には、低融点ガラスあるいはＳｉＯ_２から構成することができるが、その他の誘電体材料を用いて形成することもできる。たとえば本実施形態では、単層のシリコン酸化物層で構成してあるが、多層膜であっても良い。誘電体層１４は、たとえば、電子ビーム蒸着法やスパッタ法、蒸着法、スクリーン印刷法等に基づき、形成されている。誘電体層１４の厚みは、特に限定されないが、本実施形態では、１〜１０μｍである。
【００３２】
誘電体層１４を設けることによって、放電空間４内で発生するイオンや電子が、放電維持電極１２と直接に接触することを防止することができる。その結果、放電維持電極１２の磨耗を防ぐことができる。誘電体層１４は、アドレス期間に発生する壁電荷を蓄積して放電状態を維持するメモリ機能、過剰な放電電流を制限する抵抗体としての機能を有する。
【００３３】
誘電体層１４の放電空間側表面に形成してある保護層１５は、誘電体層１４を保護し、イオンや電子と放電維持電極との直接接触を防止する作用を奏する。その結果、放電維持電極１２および誘電体層１４の磨耗を効果的に防ぐことができる。また、保護層１５は、放電に必要な２次電子を放出する機能も有する。保護層１５を構成する材料として、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_２）を例示することができる。中でも酸化マグネシウムは、化学的に安定であり、スパッタリング率が低く、蛍光体層の発光波長における光透過率が高く、放電開始電圧が低い等の特色を有する好適な材料である。なお、保護層１５を、これらの材料から成る群から選択された少なくとも２種類の材料から構成された積層膜構造としてもよい。
【００３４】
第１基板１１および第２基板２１の構成材料として、高歪点ガラス、ソーダガラス（Ｎａ_２Ｏ・ＣａＯ・ＳｉＯ_２）、硼珪酸ガラス（Ｎａ_２Ｏ・Ｂ_２Ｏ_３・ＳｉＯ_２）、フォルステライト（２ＭｇＯ・ＳｉＯ_２）、鉛ガラス（Ｎａ_２Ｏ・ＰｂＯ・ＳｉＯ_２）を例示することができる。第１基板１１と第２基板２１の構成材料は、同じであっても異なっていてもよいが、熱膨張係数が同じであることが望ましい。
【００３５】
蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、たとえば、赤色を発光する蛍光体層材料、緑色を発光する蛍光体層材料および青色を発光する蛍光体層材料から成る群から選択された蛍光体層材料から構成され、アドレス電極２２の上方に設けられている。プラズマ表示装置がカラー表示の場合、具体的には、たとえば、赤色を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（赤色蛍光体層２５Ｒ）がアドレス電極２２の上方に設けられ、緑色を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（緑色蛍光体層２５Ｇ）が別のアドレス電極２２の上方に設けられ、青色を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（青色蛍光体層２５Ｂ）が更に別のアドレス電極２２の上方に設けられており、これらの３原色を発光する蛍光体層が１組となり、所定の順序に従って設けられている。
【００３６】
そして、一対の放電維持電極とこれらの３原色を発光する１組の蛍光体層が重複する領域が、１画素に相当する。赤色蛍光体層、緑色蛍光体層及び青色蛍光体層は、ストライプ状に形成されていてもよいし、格子状に形成されていてもよい。
【００３７】
蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを構成する蛍光体層材料としては、従来公知の蛍光体層材料の中から、量子効率が高く、真空紫外線に対する飽和が少ない蛍光体層材料を適宜選択して用いることができる。カラー表示を想定した場合、色純度がＮＴＳＣで規定される３原色に近く、３原色を混合した際の白バランスがとれ、残光時間が短く、３原色の残光時間がほぼ等しくなる蛍光体層材料を組み合わせることが好ましい。
【００３８】
蛍光体層材料の具体的な例示を次に示す。たとえば真空紫外線の照射により赤色に発光する蛍光体層材料として、（Ｙ_２Ｏ_３：Ｅｕ），（ＹＢＯ_３Ｅｕ），（ＹＶＯ_４：Ｅｕ），（Ｙ_０．９６Ｐ_０．６０Ｖ_０．４０Ｏ_４：Ｅｕ_０．０４），［（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ_３：Ｅｕ］，（ＧｄＢＯ_３：Ｅｕ），（ＳｃＢＯ_３：Ｅｕ），（３．５ＭｇＯ・０．５ＭｇＦ_２・ＧｅＯ_２：Ｍｎ）、真空紫外線の照射により緑色に発光する蛍光体層材料として、（ＺｎＳｉＯ_２：Ｍｎ），（ＢａＡ１_１２Ｏ_１９：Ｍｎ），（ＢａＭｇ_２Ａ１_１６Ｏ_２７：Ｍｎ），（ＭｇＧａ_２Ｏ_４：Ｍｎ），（ＹＢＯ_３：Ｔｂ），（ＬｕＢＯ_３：Ｔｂ），（Ｓｒ_４Ｓｉ_３Ｏ_８Ｃｌ_４：Ｅｕ）、真空紫外線の照射により青色に発光する蛍光体層材料として、（Ｙ_２ＳｉＯ_５：Ｃｅ），（ＣａＷＯ_４：Ｐｂ），ＣａＷＯ_４，ＹＰ_０．８５Ｖ_０．１５Ｏ_４，（ＢａＭｇＡ１_１４Ｏ_２３：Ｅｕ），（Ｓｒ_２Ｐ_２Ｏ_７：Ｅｕ），（Ｓｒ_２Ｐ_２Ｏ_７：Ｓｎ）などが例示される。
【００３９】
蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの形成方法として、厚膜印刷法、蛍光体層粒子をスプレーする方法、蛍光体層の形成予定部位に予め粘着性物質を付けておき、蛍光体層粒子を付着させる方法、感光性の蛍光体層ペーストを使用し、露光および現像によって蛍光体層をパターニングする方法、全面に蛍光体層を形成した後に不要部をサンドブラスト法により除去する方法を挙げることができる。
【００４０】
なお、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂはアドレス電極２２の上に直接形成されていてもよいし、アドレス電極２２上から隔壁２４の側壁面上に亘って形成されていてもよい。あるいはまた、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、アドレス電極２２上に設けられた絶縁体膜２３上に形成されていてもよいし、アドレス電極２２上に設けられた絶縁体膜２３上から隔壁２４の側壁面上に亘って形成されていてもよい。更には、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、隔壁２４の側壁面上にのみ形成されていてもよい。絶縁体膜の構成材料として、たとえば低融点ガラスやＳｉＯ_２を挙げることができる。
【００４１】
隔壁２４の構成材料としては、従来公知の絶縁材料を使用することができ、たとえば広く用いられている低融点ガラスにアルミナ等の金属酸化物を混合した材料を用いることができる。隔壁２４の高さは５０〜２００μｍ程度である。
【００４２】
隔壁２４によって囲まれた放電空間４の内部に、混合ガスから成る放電ガスが封入されており、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、放電空間４内の放電ガス中で生じたグロー放電に基づき発生した紫外線に照射されて発光する。
【００４３】
本実施形態では、第２基板２１上に形成された一対の隔壁２４と、一対の隔壁２４によって囲まれた領域内を占める一対の放電維持電極１２，１２とアドレス電極２２と、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂによって１つの放電セル４ａが構成される。そして、かかる放電セル４ａ内、より具体的には、隔壁２４によって囲まれた放電空間内に混合ガスから成る放電ガスが封入されており、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、放電空間内の放電ガス中で生じた交流グロー放電に基づき発生した紫外線に照射されて発光する。
【００４４】
本実施形態では、放電維持電極１２（バス電極１３）の射影像が延びる方向とアドレス電極２２の射影像が延びる方向とは略直交（必ずしも直交する必要はないが）している。図２に示すように、本実施形態では、第１方向に沿って形成してある各一対の放電維持電極１２の間に形成してある放電ギャップ３０は、隔壁２４により区切られた放電空間４の各放電セル４ａ毎に、放電ギャップ３０の距離が、放電維持電極１２の延在する方向１２に沿って変化している。
【００４５】
具体的には、図３に示すように、各放電セル４ａ毎に、放電ギャップ３０を構成する放電維持電極１２の先端部には、連続的に変化している曲線状の凹部３２が形成してある。そして、放電ギャップ３０における放電セル４ａの中心部３４での幅をＤ１とし、放電ギャップ３０における放電セル４ａの端部３６での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１＞Ｄ２と成るようにしている。好ましくは、Ｄ１／Ｄ２＝１．２〜６．０である。
【００４６】
放電ギャップ３０と放電電圧との関係は、図４に示すパッシェンの法則に従うものであり、放電電圧はガス圧ｐと放電ギャップの距離ｄとの積（ｐｄ積）に依存する。一般に、ガス圧が高くなると放電ギャップが短い方が放電電圧は低くなり、ガス圧が低くなると、放電ギャップが長い方が放電電圧が低くなるという特徴を有する。上記法則は、ガス組成によっても変化するものであり、放電電圧の極小値もガス組成とガス圧との関係によりその値は変化する。
【００４７】
また、プラズマ表示装置においては、放電空間を確保するにあたり、各放電セルは隔壁により仕切られている。第１基板１１の内側に形成してある放電維持電極１２は、第２基板２１の内側に形成してある隔壁２４によってセルとして分割されており、隔壁近傍の放電は隔壁により放電空間を遮られ、放電が生じにくい状態になっている。よって、一対の放電維持電極間の間隔（放電ギャップ）が一定であった従来の場合には、放電セル内の中心部で発光が強くなり、セル内端部で発光が弱くなるという現象が生じる。
【００４８】
本実施形態では、上記２つの現象を踏まえ、セル内の端部３６で発光しにくい部分の放電ギャップを、封入しているガス種およびガス圧において放電電圧の低くなるギャップにすることで、セル内の放電均一性を高めるというものである。
【００４９】
すなわち、本実施形態では、図４に示すパッシェンの法則において、放電電圧が最小になるｐｄ積よりも右上がりの曲線の部分に動作点がある場合に、上述したような関係にする。すなわち、右上がりの曲線の部分では、ガス圧が一定であるとして、放電ギャップ３０の距離ｄが大きくなるほど放電電圧が上昇する。そこで、本実施形態では、放電ギャップ３０における放電セルの中心部３４での幅をＤ１とし、放電ギャップにおける放電セルの端部での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１＞Ｄ２とする。このように設定することで、セル内の端部で発光しにくい部分の放電ギャップが、封入しているガス種およびガス圧において放電電圧の低くなるギャップに設定される。その結果、セル内端部での放電が隔壁２４で放電が遮られて放電が生じにくくなる効果を低減し、より均一な放電が行われるようになるとともに、蛍光体を均一に励起することで、高輝度を実現することができる。すなわち、セル内の端部３６においても、セル内の中央部３４と同程度に放電が均一に生じ、放電電圧を上げずに高い輝度が得られ、発光の安定性が増大すると共に、信頼性が向上する。
【００５０】
なお、各放電セル４ａ毎に、放電ギャップ３０を形成するために、透明電極から成る放電維持電極１２は、第１方向Ｘに沿って連続して形成されるが、第１方向Ｘに、各放電セル４ａ毎に完全に分離してアイランド状に形成しても良い。透明電極から成る放電維持電極１２を、第１方向Ｘに各放電セル４ａ毎に分離して形成することで、輝度を低下させずに、無効電流を減らし、消費電流の低減に寄与する。ただし、放電維持電極１２の一部を構成するバス電極１３は、第１方向Ｘに沿って分割することはできない。透明電極から成る放電維持電極１２に対して電圧信号を供給するためである。各放電維持電極１２は透明電極で構成され、比較的に高抵抗であることから、各放電維持電極１２には、それぞれ第１方向Ｘに沿って形成されるバス電極１３が接続される。
【００５１】
なお、グロー放電が、放電ギャップ３０を形成する一対の放電維持電極１２間で生じることから、このタイプのプラズマ表示装置は「面放電型」と称される。このプラズマ表示装置の駆動方法については、後述する。
【００５２】
本実施形態では、上述したように、放電維持電極１２における第２方向Ｙの幅は、各放電セル４ａ内で変化するが、その最大幅は、好ましくは８０〜２８０μｍである。また、各放電セル４ａ内における放電ギャップ３０も変化するが、その最小値の幅Ｄ２は、好ましくは１〜１５０μｍ、さらに好ましくは、５〜５０μｍ、さらに好ましくは５〜４０μｍである。
【００５３】
各放電維持電極１２には、バス電極１３が長手方向に沿って接続してある。バス電極１３は、典型的には、金属材料、たとえば、Ａｇ，Ａｕ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｃｒなどの単層金属膜、あるいはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒなどの積層膜などから構成することができる。バス電極１３は、放電維持電極１２，１２などと同様な方法により形成することができる。
【００５４】
金属材料から成るバス電極は、反射型のプラズマ表示装置においては、蛍光体層から放射されて第１基板１１を通過する可視光の透過光量を低減させ、表示画面の輝度を低下させる要因となり得るので、放電維持電極全体に要求される電気抵抗値が得られる範囲内で出来る限り細く形成することが好ましい。
【００５５】
ただし、本発明における維持電極材料は透明であることに限定するものではない。不透明の材料を用いると開口率は低減するが、高輝度が実現できていれば開口率が下がっていても、ディスプレイとしては必ずしも支障をきたさない。
【００５６】
プラズマ表示装置の製造方法
次に、本発明の実施形態に係るプラズマ表示装置の製造方法について説明する。　第１パネル１０は、以下の方法で作製することができる。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第１基板１１の全面にたとえばスパッタリング法によりＩＴＯ層を形成し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりＩＴＯ層をストライプ状にパターニングすることによって、放電維持電極１２を、複数、形成する。
【００５７】
次に、第１基板１１の内面全面に、たとえば蒸着法によりクロム膜を形成し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりクロム膜をパターニングすることによって、各放電維持電極１２の内側に、バス電極１３を形成する。その後、バス電極１３が形成された第１基板１１の取り出し電極の内面全面にシリコン酸化物（ＳｉＯ_２）層から成る誘電体層１４を形成する。
【００５８】
本実施形態では、誘電体層１４の形成の形成方法は特に限定されず、電子ビーム蒸着法やスパッタ法、蒸着法、スクリーン印刷法等が例示される。
【００５９】
次に、誘電体層１４の上に、電子ビーム蒸着法またはスパッタリング法により厚さ０．６μｍの酸化マグネシウム（ＭｇＯ）から成る保護層１５を形成する。以上の工程により第１パネル１０を完成することができる。
【００６０】
また、第２パネル２０を以下の方法で作製する。まず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第２の基板２１上に、たとえば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりパターニングすることで、アドレス電極２２を形成する。アドレス電極２２は、第１方向Ｘと直交する第２方向Ｙに延びている。次に、スクリーン印刷法により取り出し電極の内面全面に低融点ガラスペースト層を形成し、この低融点ガラスペースト層を焼成することによって絶縁体膜２３を形成する。
【００６１】
その後、絶縁体膜２３上に、図１および図２に示すストライプパターンとなるように、隔壁２４を形成する。この時の形成方法は、特に限定されず、たとえばスクリーン印刷法、サンドブラスト法、ドライフィルム法、感光法などを例示することができる。ドライフィルム法とは、基板上に感光性フィルムをラミネートし、露光および現像によって隔壁形成予定部位の感光性フィルムを除去し、除去によって生じた開口部に隔壁形成用の材料を埋め込み、焼成する方法である。感光性フィルムは焼成によって燃焼、除去され、開口部に埋め込まれた隔壁形成用の材料が残り、隔壁２４となる。感光法とは、基板上に感光性を有する隔壁形成用の材料層を形成し、露光および現像によってこの材料層をパターニングした後、焼成を行う方法である。焼成（隔壁焼成工程）は、空気中で行い、焼成温度は、５６０°Ｃ程度である。焼成時間は、２時間程度である。
【００６２】
次に、第２基板２１に形成された隔壁２４の間に３原色の蛍光体層スラリーを順次印刷する。その後、この第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、隔壁２４の間の絶縁体膜上から隔壁２４の側壁面上に亘って、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成する。その時の焼成（蛍光体焼成工程）温度は、５１０°Ｃ程度である。焼成時間は、１０分程度である。
【００６３】
次に、プラズマ表示装置の組み立てを行う。即ち、先ず、たとえばスクリーン印刷により、第２パネル２０の周縁部にシール層を形成する。次に、第１パネル１０と第２パネル２０とを貼り合わせ、焼成してシール層を硬化させる。その後、第１パネル１０と第２パネル２０との間に形成された空間を排気した後、放電ガスを封入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置２を完成させる。
【００６４】
かかる構成を有するプラズマ表示装置の動作の一例を説明する。先ず、たとえば、対となる全ての一方のコモン側放電維持電極１２に、放電開始電圧Ｖｂｄよりも高いパネル電圧を短時間印加する。これによってグロー放電が生じ、双方の放電維持電極１２，１２の近傍の誘電体層１４の表面に、壁電荷が蓄積し、放電開始電圧が低下する。その後、アドレス電極２２に電圧を印加しながら、表示をさせない放電セルに含まれる一対の放電維持電極のうちの一方のスキャン側放電維持電極１２に電圧を印加することによって、アドレス電極２２と当該一方のスキャン側放電維持電極１２との間にグロー放電を生じさせ、蓄積された壁電荷を消去する。この消去放電を各アドレス電極２２において順次実行する。一方、表示をさせる放電セルに含まれる一対のうちの一方のスキャン側放電維持電極１２には電圧を印加しない。これによって、壁電荷の蓄積を維持する。その後、全ての一対の放電維持電極１２，１２間に所定のパルス電圧を印加することによって、壁電荷が蓄積されていたセルにおいては一対の放電維持電極１２，１２の間でグロー放電が開始し、放電セルにおいては、放電空間内における放電ガス中でのグロー放電に基づき発生した真空紫外線の照射によって励起された蛍光体層が、蛍光体層材料の種類に応じた特有の発光色を呈する。なお、一対のうちの一方のスキャン側放電維持電極１２と他方のコモン側放電維持電極１２に印加される放電維持電圧の位相は半周期ずれており、電極の極性は交流の周波数に応じて反転する。
【００６５】
本実施形態のプラズマ表示装置２では、放電ギャップ３０における放電セルの中心部３４での幅をＤ１とし、放電ギャップにおける放電セルの端部での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１＞Ｄ２とする。このように設定することで、セル内の端部で発光しにくい部分の放電ギャップが、封入しているガス種およびガス圧において放電電圧の低くなるギャップに設定される。その結果、セル内端部での放電が隔壁２４で放電が遮られて放電が生じにくくなる効果を低減し、より均一な放電が行われるようになるとともに、蛍光体を均一に励起することで、高輝度を実現することができる。すなわち、セル内の端部３６においても、セル内の中央部３４と同程度に放電が均一に生じ、放電電圧を上げずに高い輝度が得られ、発光の安定性が増大すると共に、信頼性が向上する。
【００６６】
第２実施形態
本実施形態では、図５（Ａ）に示すように、放電ギャップ３０を構成する一対の放電維持電極１２の各先端部に、矩形状の凹部３２ａを形成してある。そして、放電ギャップ３０における放電セル４ａの中心部３４での幅をＤ１とし、放電ギャップ３０における放電セル４ａの端部３６での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１＞Ｄ２と成るようにしている。好ましくは、Ｄ１／Ｄ２＝１．２〜６．０である。
【００６７】
その他の構成は、図１〜図４に示す実施形態と同様であり、図１〜図４に示す実施形態と同様な作用効果を奏する。ただし、図１〜図４に示す実施形態では、凹部３２が滑らかに連続しているので、本実施形態よりも、電界集中を防止して均一な放電という観点からは好ましい。
【００６８】
第３実施形態
本実施形態では、図５（Ｂ）に示すように、放電ギャップ３０を構成する一対の放電維持電極１２の各先端部に、三角形状の凹部３２ｂを形成してある。そして、放電ギャップ３０における放電セル４ａの中心部３４での幅をＤ１とし、放電ギャップ３０における放電セル４ａの端部３６での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１＞Ｄ２と成るようにしている。好ましくは、Ｄ１／Ｄ２＝１．２〜６．０である。
【００６９】
その他の構成は、図１〜図４に示す実施形態と同様であり、図１〜図４に示す実施形態と同様な作用効果を奏する。ただし、図１〜図４に示す実施形態では、凹部３２が滑らかに連続しているので、本実施形態よりも、均一な放電という観点からは好ましい。
【００７０】
第４実施形態
本実施形態では、図６に示すように、放電ギャップ３０を構成する一対の放電維持電極１２の各先端部に、円弧状の凸部３２ｃを形成してある。そして、放電ギャップ３０における放電セル４ａの中心部３４での幅をＤ１とし、放電ギャップ３０における放電セル４ａの端部３６での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１＜Ｄ２と成るようにしている。好ましくは、Ｄ２／Ｄ１＝１．２〜６．０である。
【００７１】
本実施形態では、図４に示すパッシェンの法則において、放電電圧が最小になるｐｄ積よりも左上がりの曲線の部分に動作点があるように、放電ギャップの最大距離Ｄ２と、放電ガスのガス圧とを設定する。すなわち、左上がりの曲線の部分では、ガス圧が一定であるとして、放電ギャップ３０の距離ｄが小さくなるほど放電電圧が上昇する。そこで、本実施形態では、放電ギャップ３０における放電セルの中心部３４での幅をＤ１とし、放電ギャップにおける放電セルの端部での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１＜Ｄ２とする。このように設定することで、セル内の端部で発光しにくい部分の放電ギャップが、封入しているガス種およびガス圧において放電電圧の低くなるギャップに設定される。その結果、セル内端部での放電が隔壁２４で放電が遮られて放電が生じにくくなる効果を低減し、より均一な放電が行われるようになるとともに、蛍光体を均一に励起することで、高輝度を実現することができる。すなわち、セル内の端部３６においても、セル内の中央部３４と同程度に放電が均一に生じ、放電電圧を上げずに高い輝度が得られ、発光の安定性が増大すると共に、信頼性が向上する。
その他の構成および作用は、図１〜図４に示す実施形態と同様であり、図１〜図４に示す実施形態と同様な作用効果を奏する。
【００７２】
その他の実施形態
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
たとえば、上述した実施形態では、一対の放電維持電極１２，１２は第１基板１１の内側に形成され、アドレス電極２２を第２基板２１に形成する構成の３電極型プラズマ表示装置である。この場合、一対の放電維持電極１２，１２の射影像は互いに平行に第１方向Ｘに延び、アドレス電極２２の射影像は第２方向Ｙに延び、一対の放電維持電極１２とアドレス電極２２とが交差するごとく対向して配置されている構成とすることができるが、本発明では、かかる構成に限定するものではない。
【００７３】
また、上述した実施形態では、反射型のプラズマ表示装置について説明したが、本発明は、反射型に限らず、透過型のプラズマ表示装置にも適用することができる。透過型のプラズマ表示装置では、蛍光体層の発光は第２基板を通して観察されるので、放電維持電極を構成する導電性材料に関して透明／不透明の別は問わないが、アドレス電極を第２の基板上に設けるので、アドレス電極は透明である方が明るさの点で有利である。
【００７４】
さらに、上述した実施形態では、アドレス電極２２と略平行に延びる隔壁（リブ）２４がストライプ状に形成してあるが、本発明では、これに限定されず、隔壁２４（リブ）はミアンダ構造、あるいはその他の構造を有していてもよい。なお、隔壁２４を黒くすることにより、所謂ブラック・マトリックスを形成し、表示画面の高コントラスト化を図ることができる。隔壁を黒くする方法として、黒色に着色されたカラーレジスト材料を用いて隔壁を形成する方法を例示することができる。
【００７５】
【実施例】
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
【００７６】
図１に示した構造を有する３電極型のプラズマ表示装置を、以下に説明する方法にて作製した。なお、以下に説明するプラズマ表示装置は、混合ガスから成る放電ガスにおける第１ガスの分圧及び濃度とプラズマ表示装置の輝度との関係を求めるための試験用のプラズマ表示装置である。
【００７７】
第１パネル１０を以下の方法で作製した。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第１の基板１１の全面に例えばスパッタリング法によりＩＴＯ層を形成し、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術によりＩＴＯ層をストライプ状にパターニングすることによって、一対の放電維持電極１２を、複数、形成した。放電維持電極１２は第１方向Ｘに延びている。次に、全面に例えば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術によりアルミニウム膜をパターニングすることによって、各放電維持電極１２の縁部に沿ってバス電極１３を形成した。その後、全面にＳｉＯ_２から成る誘電体層１４を形成し、その上に電子ビーム蒸着法により厚さ０．６μｍの酸化マグネシウム（ＭｇＯ）から成る保護膜１５を形成した。以上の工程により第１パネル１０を完成した。
【００７８】
第２パネル２０を以下の方法で作製した。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第２の基板２１上に例えばスクリーン印刷法により銀ペーストをストライプ状に印刷し、焼成を行うことによって、アドレス電極２２を形成した。アドレス電極２２は、第１方向Ｘと直交する第２方向Ｙに延びている。次に、スクリーン印刷法により全面に低融点ガラスペースト層を形成し、この低融点ガラスペースト層を焼成することによって誘電体膜２３を形成した。その後、隣り合うアドレス電極２２の間の領域の上方の誘電体膜２３上に、例えばスクリーン印刷法により低融点ガラスペーストを印刷し、焼成を行うことによって、隔壁２４を形成した。次に、３原色の蛍光体スラリーを順次印刷し、焼成を行うことによって、隔壁２４の間の誘電体膜２３上から隔壁２４の側壁面上に亙って、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成した。以上の工程により第２パネル２０を完成した。
【００７９】
次に、プラズマ表示装置の組み立てを行った。即ち、先ず、例えばフリットディスペンスにより、第２パネル２０の周縁部にシール層を形成した。次に、第１パネル１０と第２パネル２０とを貼り合わせ、焼成してシール層を硬化させた。その後、第１パネル１０と第２パネル２０との間に形成された空間を排気した後、混合ガスを封入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置を完成させた。
【００８０】
尚、試験のため、放電維持電極１２の幅を０．２ｍｍ、厚さを約０．１３μｍとした。一対の放電維持電極１２の間の距離（ｄ）が一定な従来パターンのものを、ｄ＝１０μｍ、２０μｍ、４０μｍ、７０μｍとした試験用のプラズマ表示装置と、電極形状を図３に示した構造とした本発明に係る新パターンのものをそれぞれ作製した。
【００８１】
実施例１
実施例１においては、一対の放電維持電極１２の形状を、図３のような構造とした試験用のプラズマ表示装置を用いた。維持電極間の距離はセル内で変化しているが、その距離は任意であり、画素ピッチ、プラズマガス種、ガス圧、周波数などのパラメーターにより決定されるものである。ここでは、セルセンター部３４でのギャップＤ１を４０μｍ、端部３６でのギャップＤ２を１０μｍとした。
【００８２】
また、プラズマガスはキセノン１００％、３０ｋＰａのガスを用い、従来のパターン（セル内での維持電極間距離一定）で維持電極間距離を１０μｍ、２０μｍ、４０μｍ、７０μｍとしたものと比較した。
【００８３】
その結果を図７および図８に示した。図７は放電ギャップと放電電圧との関係をグラフにしたものである。図７および図８において、本実施例の新パターンは、維持電極間の距離は仮に４０μｍのところにプロットして比較した。
【００８４】
これによると、新パターンでの放電電圧は従来パターンの放電電圧の最も低い維持電極間距離１０μｍの電圧にほぼ匹敵しており、セル内で最もギャップの狭い部分から放電が開始していることが予想される。
【００８５】
また、図８は維持電極間の距離と輝度との関係をグラフにしたものである。ここでは、維持電極間の距離４０μｍの輝度と同程度以上の輝度を示していることがわかる。このことは、セル内で放電強度が均一化されたため、効率が向上し、トータル輝度が強くなったものと考えられる。
【００８６】
また、図９〜図１１では、プラズマガスを変えたときの維持電極間の距離と放電電圧の関係を示したものである。図９ではネオンキセノンガスでキセノン濃度を４％としたものに対し、維持電極間の距離と放電電圧の関係をプロットしたものである。ガス圧が１０ｋＰａのときには、むしろ維持電極間の距離が狭いほうが放電電圧が高くなっているが、ガス圧が３０ｋＰａ以上では、ほとんど維持電極間の距離依存性がないことがわかる。それに比べ、図１０に示したように、ネオンキセノンガスでキセノン濃度を３０％とし、プラズマガス圧を７０ｋＰａとすると、維持電極間の距離を狭くしたほうが放電電圧が低くできることがわかる。さらに、図１１に示したように、プラズマガスをキセノン１００％とすると、その差はさらに大きくなり、ガス圧が３０ｋＰａでも、放電電圧の維持電極間の距離依存性が強くなることが確認できた。
【００８７】
また、図９に示したネオンキセノンにおけるキセノン濃度が４％程度のものに比べ、図１０および図１１に示したように、ネオンキセノンにおけるキセノン濃度が３０％以上のものは、維持電極の間隔と放電電圧との関係が顕著に表れることが確認できた。
【００８８】
実施例２
実施例２においては、クリプトンガスにおける維持電極の間隔と放電電圧の関係を図１２に示したが、クリプトンに関しても、ほぼキセノンと同様の特性を有することがわかる。
【００８９】
実際に、図１３に示すように、クリプトン濃度１００％および５０ｋＰａにおいて、実施例１と同様にして、従来パターンと本実施例の新パターンとを比較すれば、実施例１と同じことが言えることが確認できた。
【００９０】
総合評価
実施例１および実施例２から、ネオンキセノン、ネオンクリプトンに関して、キセノン、またはクリプトンの濃度を３０％以上にすることで、あるいは、キセノン１００％またはクリプトン１００％において、本発明の効果はより大きく現れると言えることが確認できた。
【００９１】
【発明の効果】
従来のプラズマ表示装置においては、輝度を高くすることを目的として放電空間内に封入する放電ガスの圧力を高くすると、放電電圧が高くなったり、放電が不安定になり、あるいは又、放電が不均一になるといった問題が生じしていた。また、放電空間を確保するにあたり、各放電セルは隔壁により仕切られている。よって、第１パネルに形成された維持電極は第２パネルに形成された隔壁によってセルとして分割されており、隔壁近傍の放電は隔壁により放電空間を遮られ、放電が生じにくい状態になっている。よって、一対の維持電極間の間隔が一定であった場合には放電セル内の中心部で発光が強くなり、セル内端部で発光が弱くなるという現象が生じしていた。これにより、セル内で放電が不均一になるという問題が発生していた。
【００９２】
それに対し、本発明のプラズマ表示装置にあっては、維持電極間距離をセル内でコントロールすることで、高い信頼性を有し、放電電圧を上げずに高い輝度を得るとともに、均一な放電を得ることで、発光の安定性を有することが可能となる。
この現象は、パッシェンの法則に起因したものであり、放電電圧は維持電極間の距離とガス圧の積に依存することによる。
本発明では上記特性を巧みに使い、維持電極間の距離の狭いところで放電を開始し、維持電極間の距離の広いところで、高輝度を実現し、さらに隔壁近傍の放電しにくい部分とセルセンターの放電しやすい部分との差を低減し、より均一な放電を実現するとともに、信頼性の向上も実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の一実施形態に係るプラズマ表示装置の要部概略分解斜視図である。
【図２】図２は図１に示す隔壁と放電維持電極との関係を示す平面図である。
【図３】図３は図２に示す一対の放電維持電極間の放電ギャップの詳細を示す要部平面図である。
【図４】図４はパッシェンの法則を示すグラフである。
【図５】図５（Ａ）および図５（Ｂ）は本発明の他の実施形態に係る一対の放電維持電極間の放電ギャップの詳細を示す要部平面図である。
【図６】図６は本発明のさらに他の実施形態に係る一対の放電維持電極間の放電ギャップの詳細を示す要部平面図である。
【図７】図７は本発明の実施例および比較例に係る放電維持電極と放電電圧との関係を示すグラフである。
【図８】図８は本発明の実施例および比較例に係る放電維持電極と輝度との関係を示すグラフである。
【図９】図９は本発明の実施例および比較例に係る放電維持電極と放電電圧との関係を示すグラフである。
【図１０】図１０は本発明の実施例および比較例に係る放電維持電極と放電電圧との関係を示すグラフである。
【図１１】図１１は本発明の実施例および比較例に係る放電維持電極と放電電圧との関係を示すグラフである。
【図１２】図１２は本発明の実施例および比較例に係る放電維持電極と放電電圧との関係を示すグラフである。
【図１３】図１３は本発明の実施例および比較例に係る放電維持電極と放電電圧との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
２…　プラズマ表示装置
４…　放電空間
４ａ…　放電セル
１０…　第１パネル
１１…　第１基板
１２…　放電維持電極
１３…　バス電極
１４…　誘電体層
１５…　保護層
２０…　第２パネル
２１…　第２基板
２２…　アドレス電極
２４…　隔壁
２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ…　蛍光体層
３０…　放電ギャップ

Claims (8)

1. 第１基板と、
   前記第１基板の内側に対向して配置され、間に密封された放電空間を形成する第２基板と、
   前記第１基板と第２基板との間に形成され、前記放電空間を放電セル毎に区切る隔壁と、
   前記第１基板の内側に形成され、相互間に放電ギャップを形成する少なくとも一対の放電維持電極と、
   を有するプラズマ表示装置であって、
   対を成す前記放電維持電極の間に形成される放電ギャップの距離が、前記放電セルと重なる領域において、前記放電維持電極の延在する方向に沿って変化していることを特徴とするプラズマ表示装置。
2. 前記放電ギャップの距離が、前記放電セルと重なる領域において、連続的に変化していることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置。
3. 前記放電ギャップの距離が、前記放電セルと重なる領域において、放電セルの中心部と端部とで異なるように変化していることを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマ表示装置。
4. 前記放電ギャップにおける前記放電セルの中心部での幅をＤ１とし、前記放電ギャップにおける前記放電セルの端部での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１＞Ｄ２であることを特徴とする請求項３に記載のプラズマ表示装置。
5. 前記放電ギャップにおける前記放電セルの中心部での幅をＤ１とし、前記放電ギャップにおける前記放電セルの端部での幅をＤ２とした場合に、Ｄ１／Ｄ２＝１．２〜６．０であることを特徴とする請求項４に記載のプラズマ表示装置。
6. 前記放電空間に封入される放電ガスが、キセノンガスおよびクリプトンガスからなる群から選択される少なくとも１種の第１ガスと、ネオンガス、ヘリウムガスおよびアルゴンガスからなる群から選択される少なくとも１種の第２ガスと、の混合ガスで実質的に構成してあり、前記第１ガスの濃度が３０容積％以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマ表示装置。
7. 前記放電空間に封入される放電ガスが、キセノンガスおよび／またはクリプトンガスのみから実質的に成ることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマ表示装置。
8. 前記放電空間に封入される放電ガスのガス圧が、１０ｋＰａ以上であることを特徴とする請求項６または７に記載のプラズマ表示装置。

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