JP2003068195A - プラズマ表示装置用パネルの製造方法およびプラズマ表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パネルを組み合わせて放電空間に放電ガスを
密封した後に、放電空間内の放電ガスの純度を向上させ
ることができ、高寿命化を図ると共に、放電電圧を低減
させ、放電電圧の安定性を向上させることができるプラ
ズマ表示装置用パネルの製造方法およびプラズマ表示装
置の製造方法を提供すること。 【解決手段】 第２基板２１の表面に、放電空間４を仕
切るための隔壁２４と、放電空間４に発生する紫外線に
より発光する蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂとを形成
した後、隔壁２４および蛍光体層が形成された第２基板
２１を、１０Ｐａ以下の真空中において３５０°Ｃ〜５
５０°Ｃの温度範囲で焼成する。その後、第２基板２１
を第１基板１１と組み合わせて、プラズマ表示装置２を
組み立てる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ表示装置
用パネルの製造方法およびプラズマ表示装置の製造方法
に係り、さらに詳しくは、基板上に形成された隔壁およ
び蛍光体を真空中で焼成することを特徴とするプラズマ
表示装置用パネルの製造方法およびプラズマ表示装置の
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在主流の陰極線管（ＣＲＴ）に代わる
画像表示装置として、平面型（フラットパネル形式）の
表示装置が種々検討されている。このような平面型の表
示装置として、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロル
ミネッセンス表示装置（ＥＬＤ）、プラズマ表示装置
（ＰＤＰ：プラズマ・ディスプレイ）を例示することが
できる。中でも、プラズマ表示装置は、大画面化や広視
野角化が比較的容易であること、温度、磁気、振動等の
環境要因に対する耐性に優れること、長寿命であること
等の長所を有し、家庭用の壁掛けテレビの他、公共用の
大型情報端末機器への適用が期待されている。

【０００３】プラズマ表示装置は、希ガスから成る放電
ガスを放電空間内に封入した放電セルに電圧を印加し
て、放電ガス中でのグロー放電に基づき発生した紫外線
で放電セル内の蛍光体層を励起することによって発光を
得る表示装置である。つまり、個々の放電セルは蛍光灯
に類似した原理で駆動され、放電セルが、通常、数十万
個のオーダーで集合して１つの表示画面が構成されてい
る。プラズマ表示装置は、放電セルへの電圧の印加方式
によって直流駆動型（ＤＣ型）と交流駆動型（ＡＣ型）
とに大別され、それぞれ一長一短を有する。

【０００４】ＡＣ型プラズマ表示装置は、表示画面内で
個々の放電セルを仕切る役割を果たす隔壁を、たとえば
ストライプ状に形成すればよいので、高精細化に適して
いる。しかも、放電のための電極の表面が誘電体層で覆
われているので、かかる電極が磨耗し難く、長寿命であ
るといった長所を有する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】現在商品化されている
ＡＣ型プラズマ表示装置においては、放電の安定性およ
び長寿命化が要求されている。現在、４２インチサイズ
のＡＣ型プラズマ表示装置においては、３万時間程度の
寿命が報告されているものの、輝度が現在より２倍ある
いは３倍と明るくなった場合には、寿命が短くなること
が予想され、さらなる長寿命化は、今後とも課題の１つ
である。

【０００６】現在のプラズマ表示装置においては、輝度
劣化により寿命が決定されているが、その要因として
は、蛍光体の劣化や保護膜の劣化などが考えられが、ガ
スの純度低下によるところも大きい。

【０００７】従来のプラズマ表示装置の製造方法では、
表示装置を構成する一方の基板上に隔壁および蛍光体を
形成した後、これを空気中で焼成し、その後、排気を行
っているが、十分な真空に到達するまでに時間を要す
る。また、パネルを組み合わて放電空間を放電ガスで密
封（封止）した後、蛍光体および隔壁からガスが出てく
るために、密封空間に封入してあるガスの純度が低下
し、寿命を低下させる要因となっている。

【０００８】本発明は、このような実情に鑑みて成さ
れ、本発明の目的は、パネルを組み合わせて放電空間に
放電ガスを密封した後に、放電空間内の放電ガスの純度
を向上させることができ、高寿命化を図ると共に、放電
電圧を低減させ、放電電圧の安定性を向上させることが
できるプラズマ表示装置用パネルの製造方法およびプラ
ズマ表示装置の製造方法を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るプラズマ表示装置用パネルの製造方法
は、隔壁および蛍光体層が形成されるプラズマ表示装置
用パネルを製造する方法であって、基板の表面に、放電
空間を仕切るための隔壁と、放電空間に発生する紫外線
により発光する蛍光体層とを形成した後、前記隔壁およ
び蛍光体層が形成された基板を、１０Ｐａ以下、好まし
くは１Ｐａ以下、さらに好ましくは１×１０^−１Ｐａ以
下の真空中において３５０°Ｃ〜５５０°Ｃの温度範囲
で焼成する真空焼成工程を有することを特徴とする。

【００１０】本発明に係るプラズマ表示装置の製造方法
は、第１パネルおよび第２パネルを具備し、前記第１パ
ネルおよび第２パネルの間に、放電空間が形成してある
プラズマ表示装置を製造する方法であって、前記第２パ
ネルを構成する第２基板の表面に、前記放電空間を仕切
るための隔壁と、前記放電空間に発生する紫外線により
発光する蛍光体層とを形成した後、前記隔壁および蛍光
体層が形成された基板を、１０Ｐａ以下、好ましくは１
Ｐａ以下、さらに好ましくは１×１０^−１Ｐａ以下の真
空中において３５０°Ｃ〜５５０°Ｃの温度範囲で焼成
する真空焼成工程を有する。

【００１１】真空焼成時の真空度は、１０Ｐａ以下、好
ましくは１Ｐａ以下、さらに好ましくは１×１０^−１Ｐ
ａ以下、特に好ましくは、１×１０^−２Ｐａ以下であれ
ば特に限定されず、可能な限り低くて良いが、真空引き
装置などの限界により下限が決定される。

【００１２】また、真空焼成時の焼成温度は、本発明の
効果を達成できるように、３５０°Ｃ以上であることが
必要であるが、その上限は、蛍光体の発光特性を劣化さ
せないように決定され、好ましくは、４００〜４５０°
Ｃである。

【００１３】好ましくは、本発明の製造方法では、前記
真空焼成工程の前に、前記基板上の蛍光体層を空気中で
焼成する蛍光体焼成工程を有する。空気中での焼成温度
は、特に限定されないが、通常、５００〜６００°Ｃ程
度である。

【００１４】好ましくは、本発明の製造方法では、前記
蛍光体焼成工程の前に、前記基板上の隔壁を空気中で焼
成する隔壁焼成工程を有する。

【００１５】好ましくは、前記蛍光体焼成工程と、前記
真空焼成工程とは、同じ炉内で行われる。あるいは、前
記蛍光体焼成工程と、前記真空焼成工程とは、異なる炉
内で行われても良い。好ましくは、前記蛍光体焼成工程
の昇温時または昇温前に、炉内の空気雰囲気をドライ窒
素雰囲気またはドライエアー雰囲気に置換する。あるい
は、前記蛍光体焼成工程の降温時または降温後に、炉内
の空気雰囲気をドライ窒素雰囲気またはドライエアー雰
囲気に置換しても良い。炉内の空気雰囲気をドライ窒素
雰囲気またはドライエアー雰囲気に置換することで、水
やハイドロカーボンなどの吸着物を除去する効果が高ま
る。また、好ましくは、前記蛍光体焼成工程の降温時ま
たは降温後に、炉内の空気雰囲気を酸素リッチ雰囲気
（空気よりも酸素割合が多くなるように酸素を導入す
る）に置換する。酸素リッチ雰囲気にすることで、第２
基板上の誘電体膜および蛍光体の酸素欠損を補うことが
できる。

【００１６】好ましくは、本発明の製造方法では、前記
真空焼成工程の後に、前記第１パネルと第２パネルとを
張りあわせて、これらパネルの間に、前記隔壁で区画さ
れた放電空間を形成し、その後、この放電空間に、所定
圧力の放電ガスを封入する工程を有する。

【００１７】本発明によれば、蛍光体層を形成した後、
上述した真空焼成を行うため、パネルを組み合わせて放
電空間に放電ガスを密封した後に、放電空間内の放電ガ
スの純度を向上させることができ、高寿命化を図ると共
に、放電電圧を低減させ、放電電圧の安定性を向上させ
ることができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を、図面に示す実施
形態に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係
るプラズマ表示装置の要部概略断面図、図２は本発明の
一実施例における真空焼成時の焼成時間と焼成温度との
関係を示すグラフ、図３は本発明の実施例および比較例
に係るプラズマ表示装置について耐久加速試験を行った
結果を示すグラフ、図４は本発明の実施例および比較例
に係るプラズマ表示装置について放電電圧測定を行った
結果を示すグラフ、図５は本発明の実施例に係る第２パ
ネル単体についてＱ−ｍａｓｓ測定を行った結果を示す
グラフ、図６は本発明の比較例に係る第２パネル単体に
ついてＱ−ｍａｓｓ測定を行った結果を示すグラフであ
る。

【００１９】プラズマ表示装置の全体構成 まず、図１に基づき、交流駆動型（ＡＣ）型プラズマ表
示装置（以下、単に、プラズマ表示装置と呼ぶ場合があ
る）の全体構成について説明する。

【００２０】図１に示すＡＣ型プラズマ表示装置２は、
いわゆる３電極型に属し、１対の放電維持電極１２の間
で放電が生じる。このＡＣ型プラズマ表示装置２は、フ
ロントパネルに相当する第１パネル１０と、リアパネル
に相当する第２パネル２０とが貼り合わされて成る。第
２パネル２０上の蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの発
光は、たとえば、第１パネル１０を通して観察される。
すなわち、第１パネル１０が、表示面側となる。

【００２１】第１パネル１０は、透明な第１基板１１
と、第１基板１１上にストライプ状に設けられ、透明導
電材料から成る複数の一対の放電維持電極１２と、放電
維持電極１２のインピーダンスを低下させるために設け
られ、放電維持電極１２よりも電気抵抗率の低い材料か
ら成るバス電極１３と、バス電極１３および放電維持電
極１２上を含む第１の基板１１上に形成された誘電体層
１４と、その上に形成された保護層１５とから構成され
ている。なお、保護層１５は、必ずしも形成されている
必要はないが、形成されていることが好ましい。

【００２２】一方、第２パネル２０は、第２基板２１
と、第２基板２１上にストライプ状に設けられた複数の
アドレス電極（データ電極とも呼ばれる）２２と、アド
レス電極２２上を含む第２基板２１上に形成された誘電
体膜（図示省略）と、誘電体膜上であって隣り合うアド
レス電極２２の間の領域にアドレス電極２２と平行に延
びる絶縁性の隔壁２４と、誘電体膜上から隔壁２４の側
壁面上に亘って設けられた蛍光体層とから構成されてい
る。蛍光体層は、赤色蛍光体層２５Ｒ、緑色蛍光体層２
５Ｇ、および青色蛍光体層２５Ｂから構成されている。

【００２３】図１は、表示装置の一部分解斜視図であ
り、実際には、第２パネル２０側の隔壁２４の頂部が第
１パネル１０側の保護層１５に当接している。一対の放
電維持電極１２と、２つの隔壁２４の間に位置するアド
レス電極２２とが重複する領域が、単一の放電セルに相
当する。そして、隣り合う隔壁２４と蛍光体層２５Ｒ，
２５Ｇ，２５Ｂと保護層１５とによって囲まれた放電空
間４内には、放電ガスが封入されている。第１パネル１
０と第２パネル２０とは、それらの周辺部において、フ
リットガラスを用いて接合されている。放電空間４内に
封入される放電ガスとしては、特に限定されないが、キ
セノン（Ｘｅ）ガス、ネオン（Ｎｅ）ガス、ヘリウム
（Ｈｅ）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガス、窒素（Ｎ_２）ガ
ス等の不活性ガス、あるいはこれらの不活性ガスの混合
ガスなどが用いられる。封入されている放電ガスの全圧
は、特に限定されないが、６×１０^３Ｐａ〜８×１０^４
Ｐａ程度である。

【００２４】放電維持電極１２の射影像が延びる方向と
アドレス電極２２の射影像が延びる方向とは略直交（必
ずしも直交する必要はないが）しており、一対の放電維
持電極１２と、３原色を発光する蛍光体層２５Ｒ，２５
Ｇ，２５Ｂの１組とが重複する領域が１画素（１ピクセ
ル）に相当する。グロー放電が一対の放電維持電極１２
間で生じることから、このタイプのプラズマ表示装置は
「面放電型」と称される。一対の放電維持電極１２間に
電圧を印加する直前に、たとえば、放電セルの放電開始
電圧よりも低いパネル電圧をアドレス電極２２に印加す
ることで、放電セル内に壁電荷が蓄積され（表示を行う
放電セルの選択）、見掛け上の放電開始電圧が低下す
る。次いで、一対の放電維持電極１２の間で開始された
放電は、放電開始電圧よりも低い電圧にて維持され得
る。放電セルにおいては、放電ガス中でのグロー放電に
基づき発生した真空紫外線の照射によって励起された蛍
光体層が、その蛍光体層材料の種類に応じた特有の発光
色を呈する。なお、封入された放電ガスの種類に応じた
波長を有する真空紫外線が発生する。

【００２５】本実施形態のプラズマ表示装置２は、いわ
ゆる反射型プラズマ表示装置であり、蛍光体層２５Ｒ，
２５Ｇ，２５Ｂの発光は、第１パネル１０を通して観察
されるので、アドレス電極２２を構成する導電性材料に
関して透明／不透明の別は問わないが、放電維持電極１
２を構成する導電性材料は透明である必要がある。な
お、ここで述べる透明／不透明とは、蛍光体層材料に固
有の発光波長（可視光域）における導電性材料の光透過
性に基づく。即ち、蛍光体層から射出される光に対して
透明であれば、放電維持電極やアドレス電極を構成する
導電性材料は透明であると言える。

【００２６】不透明な導電性材料として、Ｎｉ，Ａｌ，
Ａｕ，Ａｇ，Ａｌ，Ｐｄ／Ａｇ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｃｕ，Ｂ
ａ，ＬａＢ_６，Ｃａ_０．２Ｌａ_０．８ＣｒＯ_３等の材料
を、単独または適宜組み合わせて用いることができる。
透明な導電性材料としては、ＩＴＯ（インジウム・錫酸
化物）やＳｎＯ_２を挙げることができる。放電維持電極
１２またはアドレス電極２２は、スパッタ法や、蒸着
法、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、メッキ法、
リフトオフ法等によって形成することができる。放電維
持電極１２の電極幅は、特に限定されないが、２００〜
４００μｍ程度である。また、これらの対となる電極１
２相互間の距離は、特に限定されないが、好ましくは５
〜１５０μｍ程度である。また、アドレス電極２２の幅
は、たとえば５０〜１００μｍ程度である。

【００２７】バス電極１３は、典型的には、金属材料、
たとえば、Ａｇ，Ａｕ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｃｒ
などの単層金属膜、あるいはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒなどの積
層膜などから構成することができる。かかる金属材料か
ら成るバス電極１３は、反射型のプラズマ表示装置にお
いては、蛍光体層から放射されて第１基板１１を通過す
る可視光の透過光量を低減させ、表示画面の輝度を低下
させる要因となり得るので、放電維持電極全体に要求さ
れる電気抵抗値が得られる範囲内で出来る限り細く形成
することが好ましい。具体的には、バス電極１３の電極
幅は、放電維持電極１２の電極幅よりも小さく、たとえ
ば３０〜２００μｍ程度である。バス電極１３は、スパ
ッタ法や、蒸着法、スクリーン印刷法、サンドブラスト
法、メッキ法、リフトオフ法等によって形成することが
できる。

【００２８】放電維持電極１２の表面に形成される誘電
体層１４は、たとえば、電子ビーム蒸着法やスパッタ
法、蒸着法、スクリーン印刷法等に基づき、形成されて
いることが好ましい。誘電体層１２を設けることによっ
て、放電空間４内で発生するイオンや電子が、放電維持
電極１２と直接に接触することを防止することができ
る。その結果、放電維持電極１２の磨耗を防ぐことがで
きる。誘電体層１４は、アドレス期間に発生する壁電荷
を蓄積する機能、過剰な放電電流を制限する抵抗体とし
ての機能、放電状態を維持するメモリ機能を有する。誘
電体層１４は、典型的には、低融点ガラスから構成する
ことができるが、その他の誘電体材料を用いて形成する
こともできる。

【００２９】誘電体層１４の放電空間側表面に形成して
ある保護層１５は、イオンや電子と放電維持電極との直
接接触を防止する作用を奏する。その結果、放電維持電
極１２の磨耗を効果的に防ぐことができる。また、保護
層１５は、放電に必要な２次電子を放出する機能も有す
る。保護層１５を構成する材料として、酸化マグネシウ
ム（ＭｇＯ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ
化カルシウム（ＣａＦ _２）を例示することができる。中
でも酸化マグネシウムは、化学的に安定であり、スパッ
タリング率が低く、蛍光体層の発光波長における光透過
率が高く、放電開始電圧が低い等の特色を有する好適な
材料である。なお、保護層１５を、これらの材料から成
る群から選択された少なくとも２種類の材料から構成さ
れた積層膜構造としてもよい。

【００３０】第１基板１１および第２基板２１の構成材
料として、高歪点ガラス、ソーダガラス（Ｎａ_２Ｏ・Ｃ
ａＯ・ＳｉＯ_２）、硼珪酸ガラス（Ｎａ_２Ｏ・Ｂ_２Ｏ_３
・ＳｉＯ_２）、フォルステライト（２ＭｇＯ・Ｓｉ
Ｏ_２）、鉛ガラス（Ｎａ_２Ｏ・ＰｂＯ・ＳｉＯ_２）を例
示することができる。第１基板１１と第２基板２１の構
成材料は、同じであっても異なっていてもよい。

【００３１】蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、たと
えば、赤色を発光する蛍光体層材料、緑色を発光する蛍
光体層材料および青色を発光する蛍光体層材料から成る
群から選択された蛍光体層材料から構成され、アドレス
電極２２の上方に設けられている。プラズマ表示装置が
カラー表示の場合、具体的には、たとえば、赤色を発光
する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（赤色蛍光体
層２５Ｒ）がアドレス電極２２の上方に設けられ、緑色
を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（緑色
蛍光体層２５Ｇ）が別のアドレス電極２２の上方に設け
られ、青色を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光
体層（青色蛍光体層２５Ｂ）が更に別のアドレス電極２
２の上方に設けられており、これらの３原色を発光する
蛍光体層が１組となり、所定の順序に従って設けられて
いる。そして、前述したように、一対の放電維持電極１
２と、これらの３原色を発光する１組の蛍光体層２５
Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂとが重複する領域が、１画素に相当
する。赤色蛍光体層、緑色蛍光体層および青色蛍光体層
は、ストライプ状に形成されていてもよいし、格子状に
形成されていてもよい。

【００３２】蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを構成す
る蛍光体層材料としては、従来公知の蛍光体層材料の中
から、量子効率が高く、真空紫外線に対する飽和が少な
い蛍光体層材料を適宜選択して用いることができる。カ
ラー表示を想定した場合、色純度がＮＴＳＣで規定され
る３原色に近く、３原色を混合した際の白バランスがと
れ、残光時間が短く、３原色の残光時間がほぼ等しくな
る蛍光体層材料を組み合わせることが好ましい。

【００３３】蛍光体層材料の具体的な例示を次に示す。
たとえば赤色に発光する蛍光体層材料として、（Ｙ_２Ｏ
_３：Ｅｕ），（ＹＢＯ_３Ｅｕ），（ＹＶＯ_４：Ｅｕ），
（Ｙ _０．９６Ｐ_０．６０Ｖ_０．４０Ｏ_４：Ｅ
ｕ_０．０４），［（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ_３：Ｅｕ］，（Ｇｄ
ＢＯ_３：Ｅｕ），（ＳｃＢＯ_３：Ｅｕ），（３．５Ｍｇ
Ｏ・０．５ＭｇＦ_２・ＧｅＯ_２：Ｍｎ）、緑色に発光す
る蛍光体層材料として、（ＺｎＳｉＯ_２：Ｍｎ），（Ｂ
ａＡ１_１２Ｏ_１９：Ｍｎ），（ＢａＭｇ_２Ａ１_１６Ｏ
_２７：Ｍｎ），（ＭｇＧａ_２Ｏ_４：Ｍｎ），（ＹＢ
Ｏ_３：Ｔｂ），（ＬｕＢＯ_３：Ｔｂ），（Ｓｒ_４Ｓｉ_３
Ｏ_８Ｃｌ_４：Ｅｕ）、青色に発光する蛍光体層材料とし
て、（Ｙ_２ＳｉＯ_５：Ｃｅ），（ＣａＷＯ_４：Ｐｂ），
ＣａＷＯ_４，ＹＰ_０．８５Ｖ_０．１５Ｏ_４，（ＢａＭｇ
Ａ１_１４Ｏ_２３：Ｅｕ），（Ｓｒ_２Ｐ_２Ｏ_７：Ｅｕ），
（Ｓｒ_２Ｐ_２Ｏ_７：Ｓｎ）などが例示される。

【００３４】蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの形成方
法として、厚膜印刷法、蛍光体層粒子をスプレーする方
法、蛍光体層の形成予定部位に予め粘着性物質を付けて
おき、蛍光体層粒子を付着させる方法、感光性の蛍光体
層ペーストを使用し、露光および現像によって蛍光体層
をパターニングする方法、全面に蛍光体層を形成した後
に不要部をサンドブラスト法により除去する方法を挙げ
ることができる。

【００３５】なお、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは
アドレス電極２２の上に直接形成されていてもよいし、
アドレス電極２２上から隔壁２４の側壁面上に亘って形
成されていてもよい。あるいはまた、蛍光体層２５Ｒ，
２５Ｇ，２５Ｂは、アドレス電極２２上に設けられた誘
電体膜上に形成されていてもよいし、アドレス電極２２
上に設けられた誘電体膜上から隔壁２４の側壁面上に亘
って形成されていてもよい。更には、蛍光体層２５Ｒ，
２５Ｇ，２５Ｂは、隔壁２４の側壁面上にのみ形成され
ていてもよい。誘電体膜の構成材料として、たとえば低
融点ガラスやＳｉＯ_２ を挙げることができる。

【００３６】第２基板２１には、前述したように、アド
レス電極２２と平行に延びる隔壁２４（リブ）が形成さ
れている。なお、隔壁（リブ）２４は、ミアンダ構造を
有していてもよい。誘電体膜が第２基板２１およびアド
レス電極２２上に形成されている場合には、隔壁２４は
誘電体膜上に形成されている場合もある。隔壁２４の構
成材料として、従来公知の絶縁材料を使用することがで
き、たとえば広く用いられている低融点ガラスにアルミ
ナ等の金属酸化物を混合した材料を用いることができ
る。隔壁２４は、たとえば幅が５０μｍ以下程度で、高
さが１００〜１５０μｍ程度である。隔壁２４のピッチ
間隔は、たとえば１００〜４００μｍ程度である。

【００３７】隔壁２４の形成方法として、スクリーン印
刷法、サンドブラスト法、ドライフィルム法、感光法を
例示することができる。ドライフィルム法とは、基板上
に感光性フィルムをラミネートし、露光および現像によ
って隔壁形成予定部位の感光性フィルムを除去し、除去
によって生じた開口部に隔壁形成用の材料を埋め込み、
焼成する方法である。感光性フィルムは焼成によって燃
焼、除去され、開口部に埋め込まれた隔壁形成用の材料
が残り、隔壁２４となる。感光法とは、基板上に感光性
を有する隔壁形成用の材料層を形成し、露光および現像
によってこの材料層をパターニングした後、焼成を行う
方法である。なお、隔壁２４を黒くすることにより、い
わゆるブラック・マトリックスを形成し、表示画面の高
コントラスト化を図ることができる。隔壁２４を黒くす
る方法として、黒色に着色されたカラーレジスト材料を
用いて隔壁を形成する方法を例示することができる。

【００３８】第２基板２１上に形成された一対の隔壁２
４と、一対の隔壁２４によって囲まれた領域内を占める
放電維持電極１２とアドレス電極２２と蛍光体層２５
Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂによって１つの放電セルが構成され
る。そして、かかる放電セルの内部、より具体的には、
隔壁によって囲まれた放電空間の内部に、混合ガスから
成る放電ガスが封入されており、蛍光体層２５Ｒ，２５
Ｇ，２５Ｂは、放電空間４内の放電ガス中で生じた交流
グロー放電に基づき発生した紫外線に照射されて発光す
る。

【００３９】プラズマ表示装置の製造方法 次に、本発明の実施形態に係るプラズマ表示装置の製造
方法について説明する。 第１パネル１０は、以下の方
法で作製することができる。先ず、高歪点ガラスやソー
ダガラスから成る第１基板１１の全面にたとえばスパッ
タリング法によりＩＴＯ層を形成し、フォトリソグラフ
ィ技術およびエッチング技術によりＩＴＯ層をストライ
プ状にパターニングすることによって、一対の放電維持
電極１２を、複数、形成する。放電維持電極１２は、第
１の方向に延びている。

【００４０】次に、第１基板１１の内面全面に、たとえ
ば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグ
ラフィ技術およびエッチング技術によりアルミニウム膜
をパターニングすることによって、各放電維持電極１２
の縁部に沿ってバス電極１３を形成する。その後、バス
電極１３が形成された第１基板１１の内面全面にＳｉＯ
_２ から成る誘電体層１４を形成し、その上に電子ビー
ム蒸着法により厚さ０．６μｍの酸化マグネシウム（Ｍ
ｇＯ）から成る保護層１５を形成する。以上の工程によ
り第１パネル１０を完成することができる。

【００４１】また、第２パネル２０を以下の方法で作製
する。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第２
の基板２１上に、たとえばスクリーン印刷法により銀ペ
ーストをストライプ状に印刷し、焼成を行うことによっ
て、アドレス電極２２を形成する。アドレス電極２２
は、第１の方向と直交する第２の方向に延びている。次
に、スクリーン印刷法により全面に低融点ガラスペース
ト層を形成し、この低融点ガラスペースト層を焼成する
ことによって誘電体膜を形成する。

【００４２】その後、隣り合うアドレス電極２２の間の
領域の上方の誘電体膜上に、たとえばスクリーン印刷法
により低融点ガラスペーストを印刷する。その後、この
第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、隔壁２４を形成す
る。この時の焼成（隔壁焼成工程）は、空気中で行い、
焼成温度は、５６０°Ｃ程度である。焼成時間は、２時
間程度である。

【００４３】次に、第２基板２１に形成された隔壁２４
の間に３原色の蛍光体層スラリーを順次印刷する。その
後、この第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、隔壁２４
の間の誘電体膜上から隔壁２４の側壁面上に亘って、蛍
光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成する。その時の焼
成（蛍光体焼成工程）は、空気中で行い、焼成温度は、
５１０°Ｃ程度である。焼成時間は、１０分程度であ
る。

【００４４】その後、本実施形態では、隔壁２４および
蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂが形成された第２基板
２１を、真空焼成する（真空焼成工程）。真空焼成に際
しては、１０Ｐａ以下、好ましくは１Ｐａ以下、さらに
好ましくは１×１０^−１Ｐａ以下、特に好ましくは１×
１０^−２Ｐａ以下の真空中において、３５０°Ｃ〜５５
０°Ｃ、好ましくは４００〜４５０°Ｃの温度範囲で焼
成する。この時の焼成温度および焼成時間は、第２基板
２１上の誘電体層および隔壁２４を熔解せず、且つ蛍光
体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの特性を失わないように決
定される。

【００４５】蛍光体焼成工程と、真空焼成工程とは、同
じ炉内で行われても良いし、あるいは、異なる炉内で行
われても良い。

【００４６】次に、プラズマ表示装置の組み立てを行
う。即ち、先ず、たとえばスクリーン印刷により、第２
パネル２０の周縁部にシール層を形成する。次に、第１
パネル１０と第２パネル２０とを貼り合わせ、焼成して
シール層を硬化させる。その後、第１パネル１０と第２
パネル２０との間に形成された空間を排気した後、放電
ガスを封入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置
２を完成させる。

【００４７】かかる構成を有するプラズマ表示装置の交
流グロー放電動作の一例を説明する。先ず、たとえば、
全ての一方の放電維持電極１２に、放電開始電圧Ｖｂｄ
よりも高いパネル電圧を短時間印加する。これによって
グロー放電が生じ、一方の放電維持電極の近傍の誘電体
層１４の表面に誘電分極に起因して壁電荷が発生し、壁
電荷が蓄積し、見掛けの放電開始電圧が低下する。その
後、アドレス電極２２に電圧を印加しながら、表示をさ
せない放電セルに含まれる一方の放電維持電極１２に電
圧を印加することによって、アドレス電極２２と一方の
放電維持電極１２との間にグロー放電を生じさせ、蓄積
された壁電荷を消去する。この消去放電を各アドレス電
極２２において順次実行する。一方、表示をさせる放電
セルに含まれる一方の放電維持電極には電圧を印加しな
い。これによって、壁電荷の蓄積を維持する。その後、
全ての一対の放電維持電極１２間に所定のパルス電圧を
印加することによって、壁電荷が蓄積されていたセルに
おいては一対の放電維持電極１２の間でグロー放電が開
始し、放電セルにおいては、放電空間内における放電ガ
ス中でのグロー放電に基づき発生した真空紫外線の照射
によって励起された蛍光体層が、蛍光体層材料の種類に
応じた特有の発光色を呈する。なお、一方の放電維持電
極と他方の放電維持電極に印加される放電維持電圧の位
相は半周期ずれており、電極の極性は交流の周波数に応
じて反転する。

【００４８】本実施形態に係る第２パネル２０の製造方
法によれば、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成し
た後、上述した真空焼成を行うため、パネル１０および
２０を組み合わせて放電空間４に放電ガスを密封した後
に、放電空間４内の放電ガスの純度を向上させることが
でき、高寿命化を図ると共に、放電電圧を低減させるこ
とができる。

【００４９】その他の実施形態 なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるもので
はなく、本発明の範囲内で種々に改変することができ
る。

【００５０】たとえば、本発明では、プラズマ表示装置
の具体的な構造は、図１に示す実施形態に限定されず、
その他の構造であっても良い。たとえば図１に示す実施
形態では、いわゆる３電極型のプラズマ表示装置を例示
したが、本発明のプラズマ表示装置は、いわゆる２電極
のプラズマ表示装置であっても良い。この場合には、一
対の放電維持電極の一方を第１基板に形成し、他方を第
２基板に形成する構成となる。また、一方の放電維持電
極の射影像は第１の方向に延び、他方の放電維持電極の
射影像は、第１の方向とは異なる第２の方向（好ましく
は第１の方向と略垂直）に延び、一対の放電維持電極が
対面するごとく対向して配置されている。２電極型のプ
ラズマ表示装置にあっては、必要に応じて、上述した実
施形態の説明における「アドレス電極」を「他方の放電
維持電極」と読み替えればよい。

【００５１】また、上述した実施形態のプラズマ表示装
置は、第１パネル１０が表示パネル側となり、いわゆる
反射型のプラズマ表示装置であるが、本発明のプラズマ
表示装置は、いわゆる透過型のプラズマ表示装置であっ
ても良い。ただし、透過型のプラズマ表示装置では、蛍
光体層の発光は第２パネル２０を通して観察されるの
で、放電維持電極を構成する導電性材料に関して透明／
不透明の別は問わないが、アドレス電極２２を第２基板
２１上に設けるので、アドレス電極は透明である必要が
ある。さらに、上述の実施形態では、蛍光体焼成工程
は、空気中において大気圧力下で行ったが、本発明で
は、蛍光体焼成工程の昇温時または昇温前に、炉内の空
気雰囲気をドライ窒素雰囲気またはドライエアー雰囲気
に置換しても良い。あるいは、蛍光体焼成工程の降温時
または降温後に、炉内の空気雰囲気をドライ窒素雰囲気
またはドライエアー雰囲気に置換しても良い。炉内の空
気雰囲気をドライ窒素雰囲気またはドライエアー雰囲気
に置換することで、水やハイドロカーボンなどの吸着物
を除去する効果が高まる。また、本発明では、前記蛍光
体焼成工程の降温時または降温後に、炉内の空気雰囲気
を酸素リッチ雰囲気に置換しても良い。酸素リッチ雰囲
気にすることで、第２基板上の誘電体膜および蛍光体の
酸素欠損を補うことができる。

【００５２】

【実施例】以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づ
き説明するが、本発明は、これら実施例に限定されな
い。

【００５３】実施例１ 第１パネル１０は、以下の方法で作製した。先ず、高歪
点ガラスやソーダガラスから成る第１基板１１の全面に
たとえばスパッタリング法によりＩＴＯ層を形成し、フ
ォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりＩＴ
Ｏ層をストライプ状にパターニングすることによって、
一対の放電維持電極１２を、複数、形成した。

【００５４】次に、第１基板１１の内面全面に、たとえ
ば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグ
ラフィ技術およびエッチング技術によりアルミニウム膜
をパターニングすることによって、各放電維持電極１２
の縁部に沿ってバス電極１３を形成した。その後、バス
電極１３が形成された第１基板１１の内面全面にＳｉＯ
_２ から成る誘電体層１４を形成し、その上に電子ビー
ム蒸着法により厚さ０．６μｍの酸化マグネシウム（Ｍ
ｇＯ）から成る保護層１５を形成した。以上の工程によ
り第１パネル１０を完成することができた。

【００５５】また、第２パネル２０を以下の方法で作製
した。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第２
の基板２１上に、たとえばスクリーン印刷法により銀ペ
ーストをストライプ状に印刷し、焼成を行うことによっ
て、アドレス電極２２を形成した。アドレス電極２２
は、第１の方向と直交する第２の方向に延びている。次
に、スクリーン印刷法により全面に低融点ガラスペース
ト層を形成し、この低融点ガラスペースト層を形成し、
この低融点ガラスペースト層を焼成することによって誘
電体膜を形成した。

【００５６】その後、隣り合うアドレス電極２２の間の
領域の上方の誘電体膜上に、たとえばスクリーン印刷法
により低融点ガラスペーストを印刷した。その後、この
第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、隔壁２４を形成し
た。この時の焼成（隔壁焼成工程）は、空気中で行い、
焼成温度は、５６０°Ｃ程度、焼成時間は、２時間程度
であった。

【００５７】次に、第２基板２１に形成された隔壁２４
の間に３原色の蛍光体層スラリーを順次印刷した。その
後、この第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、隔壁２４
の間の誘電体膜上から隔壁２４の側壁面上に亘って、蛍
光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成し、大気圧の空気
中で、５１０°Ｃおよび１０分の焼成を行い、バーンア
ウトした。その後、引き続き、その第２基板２１を、１
×１０^−２Ｐａの真空中で、図２に示すように、４３０
°Ｃおよび２時間の条件で、焼成を行った（真空焼
成）。図２に示すように、その真空焼成に際しては、昇
温に１．５時間、温度保持に２時間、降温に４時間を要
した。なお、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの材質と
しては、５１０°Ｃの温度で良好な焼成が可能となるも
のを選択した。

【００５８】次に、プラズマ表示装置の組み立てを行っ
た。即ち、先ず、フリットディスペンスにより、第２パ
ネル２０の周縁部にシール層を形成した。次に、第１パ
ネル１０と第２パネル２０とを貼り合わせ、焼成してシ
ール層を硬化させた。その後、第１パネル１０と第２パ
ネル２０との間に形成された空間を排気した後、放電ガ
スを封入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置２
を完成させた。

【００５９】比較例１ 第２パネル２０について、真空焼成を行わなかった以外
は、前記実施例１と同様にしてプラズマ表示装置２を完
成させた。

【００６０】評価 前記の実施例１および比較例１のプラズマ表示装置につ
いて、それぞれ輝度の測定を行いながら、加速試験を行
った。結果を図３に示す。加速試験に際しては、定格の
駆動周波数（または駆動電圧）よりも高くして試験を行
った。なお、図３において、横軸の駆動時間の単位は、
加速試験の試験時間を考慮して無次元化された数字であ
り、実際の経過時間ではない。

【００６１】図３に示すように、真空焼成を行わなかっ
た比較例１に係るプラズマ表示装置に比較し、真空焼成
を行った実施例１に係るプラズマ表示装置では、時間の
経過と共に輝度が低下せず、耐久性（ライフ）が向上す
ることが確認できた。また、真空焼成を行わなかった比
較例１に係るプラズマ表示装置に比較し、真空焼成を行
った実施例１に係るプラズマ表示装置では、輝度の絶対
値が高く、良好な放電が行われていることも確認でき
た。

【００６２】次に、前記の実施例１および比較例１の各
５つのプラズマ表示装置について、駆動電圧（放電電
圧）をそれぞれ測定した。結果を図４に示す。図４に示
すように、比較例１に比べて、実施例１によれば、２０
Ｖ近く、駆動電圧（放電電圧）を低減できることが確認
できた。

【００６３】また、実施例１および比較例１のプラズマ
表示装置を組み立てる前に、それぞれの第２パネル２０
を、それぞれ単体で、Ｑ−ｍａｓｓ測定装置の内部に入
れ、パネルに温度をかけていった時におけるそれぞれの
パネルからの不純物ガスの検出ガスを測定した。それぞ
れの結果を図５および図６に示す。

【００６４】図５および図６において、横軸は、各パネ
ルに加えた温度であり、縦軸は、検出ガスの強度であ
る。また、図中において、数字１８，４４，５５，７０
は、検出ガスの分子量を示す。すなわち、数字１８は、
Ｈ_２Ｏなどを示し、数字４４はＣＯ_２などを示し、数字
５５，７０は有機物やハイドロカーボンなどを示すと考
えられる。

【００６５】図５および図６に示すように、比較例１に
比べ、実施例１では、真空焼成を行うことで、いずれの
不純物ガスについても、温度上昇と共に検出されるガス
検出強度が低下している。したがって、実施例１の第２
パネルを用いて組み立てられたプラズマ表示装置では、
比較例１の第２パネルを用いたものに比較し、放電室内
の不純物ガスを低減できることが予測される。その結果
として、実施例１では、比較例１に比較し、異常放電な
どの低減を図ることができ、プラズマ表示装置の信頼性
が向上していると考えられる。

【００６６】以上のことから、蛍光体形成後に真空焼成
を行うことで、プラズマ表示装置の寿命が大幅に延びる
と共に、放電安定性が向上することが判明した。また、
真空焼成によって、パネル内不純物を除去することがで
き、異常放電を低減できることが確認された。

【００６７】実施例２ 蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成し、空気中で、
５１０°Ｃおよび１０分の焼成を行い、バーンアウトし
た後、温度が４３０°Ｃに降下した時点で、炉内を排気
して、１×１０^−２Ｐａの真空度にして、２時間、その
温度４３０°Ｃを保持した以外は、前記実施例１と同様
にしてプラズマ表示装置２を完成させた。すなわち、本
実施例では、空気中の焼成と真空焼成とを同じ炉内で連
続して行った。本実施例でも、実施例１と同様の結果が
得られることが確認できた。実施例３ 蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成し、空気中で、
５１０°Ｃおよび１０分の焼成を行う際に、蛍光体焼成
工程の昇温時に、雰囲気温度が４３０°Ｃに到達する前
に、空気雰囲気をドライ窒素雰囲気に置換した以外は、
前記実施例１と同様にしてプラズマ表示装置２を完成さ
せた。すなわち、本実施例では、蛍光体焼成工程の昇温
時に、空気雰囲気をドライ窒素雰囲気に置換し、蛍光体
焼成工程を行い、その後に、真空焼成を行った。本実施
例では、実施例１と同様の結果が得られる上に、水やハ
イドロカーボンなどの吸着物を除去する効果が高まるこ
とが確認できた。なお、ドライ窒素の代わりに、水分除
去フィルターを通したドライエアーを用いても、同様の
結果が得られることが確認できた。実施例４ 蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成し、空気中で、
５１０°Ｃおよび１０分の焼成を行う際に、蛍光体焼成
工程の降温時に、空気雰囲気をドライ窒素雰囲気に置換
した以外は、前記実施例１と同様にしてプラズマ表示装
置２を完成させた。すなわち、本実施例では、蛍光体焼
成工程の降温時に、空気雰囲気をドライ窒素雰囲気に置
換し、蛍光体焼成工程を行い、その後に、真空焼成を行
った。本実施例では、実施例３と同様に、水やハイドロ
カーボンなどの吸着物を除去する効果が高まることが確
認できた。なお、ドライ窒素の代わりに、水分除去フィ
ルターを通したドライエアーを用いても、同様の結果が
得られることが確認できた。実施例５ 蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成し、空気中で、
５１０°Ｃおよび１０分の焼成を行う際に、蛍光体焼成
工程の降温時に、空気雰囲気を酸素リッチ雰囲気に置換
した（空気よりも酸素割合が多くなるように酸素を導入
した）以外は、前記実施例１と同様にしてプラズマ表示
装置２を完成させた。すなわち、本実施例では、蛍光体
焼成工程の昇温時に、空気雰囲気を酸素リッチ雰囲気に
置換し、蛍光体焼成工程を行い、その後に、真空焼成を
行った。本実施例では、実施例１と同様の結果が得られ
る上に、第２基板２１上の誘電体膜および蛍光体の酸素
欠損を補うことができることが確認できた。実施例６ 第２基板２１を、１Ｐａの真空中で、真空焼成を行った
以外は、前記実施例１と同様にしてプラズマ表示装置２
を完成させた。ガスの封入は、ニードルバルブを通して
行い、ガスを封入しながらポンプにより排気することで
ガス圧を１Ｐａに制御した。なお、本発明においてはガ
スを封入したまま封じ切って焼成してもよい。本実施例
では、比較例１に比較して、プラズマ表示装置の寿命が
大幅に延びると共に、放電安定性が向上することが確認
できた。また、真空焼成によって、パネル内不純物を除
去することができ、異常放電を低減できることが確認さ
れた。ただし、本実施例では、実施例１に比較して、こ
れらの効果は小さい。なお、本実施例では、実施例１に
比べて、１Ｐａのガス圧にすることでパネルへの熱伝導
性を向上させ、焼成時間の短縮も可能であるという効果
がある。実施例７ 第２基板２１を、１０Ｐａの真空中で、真空焼成を行っ
た以外は、前記実施例１と同様にしてプラズマ表示装置
２を完成させた。ガスの封入は、ニードルバルブを通し
て行い、ガスを封入しながらポンプにより排気すること
でガス圧を１０Ｐａに制御した。なお、本発明において
はガスを封入したまま封じ切って焼成してもよい。本実
施例では、比較例１に比較して、プラズマ表示装置の寿
命が大幅に延びると共に、放電安定性が向上することが
確認できた。また、真空焼成によって、パネル内不純物
を除去することができ、異常放電を低減できることが確
認された。ただし、本実施例では、実施例１に比較し
て、これらの効果は小さい。なお、本実施例では、実施
例１に比べて、１０Ｐａのガス圧にすることでパネルへ
の熱伝導性を向上させ、焼成時間の短縮も可能であると
いう効果がある。比較例２ 第２基板２１を、１５Ｐａの雰囲気圧力で焼成を行った
以外は、前記実施例１と同様にしてプラズマ表示装置２
を完成させた。本実施例では、比較例１と同様な結果が
得られた。

【００６８】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、蛍光体層を形成した後、真空焼成を行うため、パネ
ルを組み合わせて放電空間に放電ガスを密封した後に、
放電空間内の放電ガスの純度を向上させることができ、
高寿命化を図ると共に、放電電圧を低減させ、放電電圧
の安定性を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は本発明の一実施形態に係るプラズマ表
示装置の要部概略断面図である。

【図２】 図２は本発明の一実施例における真空焼成時
の焼成時間と焼成温度との関係を示すグラフである。

【図３】 図３は本発明の実施例および比較例に係るプ
ラズマ表示装置について耐久加速試験を行った結果を示
すグラフである。

【図４】 図４は本発明の実施例および比較例に係るプ
ラズマ表示装置について放電電圧測定を行った結果を示
すグラフである。

【図５】 図５は本発明の実施例に係る第２パネル単体
についてＱ−ｍａｓｓ測定を行った結果を示すグラフで
ある。

【図６】 図６は本発明の比較例に係る第２パネル単体
についてＱ−ｍａｓｓ測定を行った結果を示すグラフで
ある。

【符号の説明】

２… プラズマ表示装置 ４… 放電空間 １０… 第１パネル １１… 第１基板 １２… 放電維持電極 １３… バス電極 １４… 誘電体層 １５… 保護層 ２０… 第２パネル ２１… 第２基板 ２２… アドレス電極 ２４… 隔壁 ２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ… 蛍光体層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5C012 AA09 BD02 BD05 5C028 FF14 5C040 GG09 JA22 JA23 MA10 MA17

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 隔壁および蛍光体層が形成されるプラズ
   マ表示装置用パネルを製造する方法であって、 基板の表面に、放電空間を仕切るための隔壁と、放電空
   間に発生する紫外線により発光する蛍光体層とを形成し
   た後、 前記隔壁および蛍光体層が形成された基板を、１０Ｐａ
   以下の真空中において３５０°Ｃ〜５５０°Ｃの温度範
   囲で焼成する真空焼成工程を有することを特徴とするプ
   ラズマ表示装置用パネルの製造方法。
2. 【請求項２】 前記隔壁および蛍光体層が形成された基
   板を、１Ｐａ以下の真空中において焼成することを特徴
   とする請求項１に記載のプラズマ表示装置用パネルの製
   造方法。
3. 【請求項３】 前記隔壁および蛍光体層が形成された基
   板を、１×１０^−１Ｐａ以下の真空中において焼成する
   ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ表示装置用
   パネルの製造方法。
4. 【請求項４】 前記真空焼成工程の前に、前記基板上の
   蛍光体層を空気中で焼成する蛍光体焼成工程を有する請
   求項１〜３のいずれかに記載のプラズマ表示装置用パネ
   ルの製造方法。
5. 【請求項５】 前記蛍光体焼成工程の前に、前記基板上
   の隔壁を空気中で焼成する隔壁焼成工程を有する請求項
   ４に記載のプラズマ表示装置用パネルの製造方法。
6. 【請求項６】 前記蛍光体焼成工程と、前記真空焼成工
   程とは、同じ炉内で行われることを特徴とする請求項４
   または５に記載のプラズマ表示装置用パネルの製造方
   法。
7. 【請求項７】 前記蛍光体焼成工程と、前記真空焼成工
   程とは、異なる炉内で行われることを特徴とする請求項
   ４または５に記載のプラズマ表示装置用パネルの製造方
   法。
8. 【請求項８】 前記蛍光体焼成工程の昇温時または昇温
   前に、炉内の空気雰囲気をドライ窒素雰囲気またはドラ
   イエアー雰囲気に置換することを特徴とする請求項６ま
   たは７に記載のプラズマ表示装置用パネルの製造方法。
9. 【請求項９】 前記蛍光体焼成工程の降温時または降温
   後に、炉内の空気雰囲気をドライ窒素雰囲気またはドラ
   イエアー雰囲気に置換することを特徴とする請求項６ま
   たは７に記載のプラズマ表示装置用パネルの製造方法。
10. 【請求項１０】 前記蛍光体焼成工程の降温時または降
    温後に、炉内の空気雰囲気を酸素リッチ雰囲気に置換す
    ることを特徴とする請求項６または７に記載のプラズマ
    表示装置用パネルの製造方法。
11. 【請求項１１】 第１パネルおよび第２パネルを具備
    し、前記第１パネルおよび第２パネルの間に、放電空間
    が形成してあるプラズマ表示装置を製造する方法であっ
    て、 前記第２パネルを構成する第２基板の表面に、前記放電
    空間を仕切るための隔壁と、前記放電空間に発生する紫
    外線により発光する蛍光体層とを形成した後、 前記隔壁および蛍光体層が形成された基板を、１０Ｐａ
    以下の真空中において３５０°Ｃ〜５５０°Ｃの温度範
    囲で焼成する真空焼成工程を有するプラズマ表示装置の
    製造方法。
12. 【請求項１２】 前記隔壁および蛍光体層が形成された
    基板を、１Ｐａ以下の真空中において焼成することを特
    徴とする請求項１１に記載のプラズマ表示装置の製造方
    法。
13. 【請求項１３】 前記隔壁および蛍光体層が形成された
    基板を、１×１０^{− １}Ｐａ以下の真空中において焼成す
    ることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ表示装
    置の製造方法。
14. 【請求項１４】 前記真空焼成工程の前に、前記第２基
    板上の蛍光体層を空気中で焼成する蛍光体焼成工程を有
    する請求項１１〜１３のいずれかに記載のプラズマ表示
    装置の製造方法。
15. 【請求項１５】 前記蛍光体焼成工程の前に、前記基板
    上の隔壁を空気中で焼成する隔壁焼成工程を有する請求
    項１４に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
16. 【請求項１６】 前記蛍光体焼成工程と、前記真空焼成
    工程とは、同じ炉内で行われることを特徴とする請求項
    １４または１５に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
17. 【請求項１７】 前記蛍光体焼成工程と、前記真空焼成
    工程とは、異なる炉内で行われることを特徴とする請求
    項１４または１５に記載のプラズマ表示装置の製造方
    法。
18. 【請求項１８】 前記蛍光体焼成工程の昇温時または昇
    温前に、炉内の空気雰囲気をドライ窒素雰囲気またはド
    ライエアー雰囲気に置換することを特徴とする請求項１
    ６または１７に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
19. 【請求項１９】 前記蛍光体焼成工程の降温時または降
    温後に、炉内の空気雰囲気をドライ窒素雰囲気またはド
    ライエアー雰囲気に置換することを特徴とする請求項１
    ６または１７に記載のプラズマ表示装置の製造方法。
20. 【請求項２０】 前記蛍光体焼成工程の降温時または降
    温後に、炉内の空気雰囲気を酸素リッチ雰囲気に置換す
    ることを特徴とする請求項１６または１７に記載のプラ
    ズマ表示装置の製造方法。
21. 【請求項２１】 前記真空焼成工程の後に、前記第１パ
    ネルと第２パネルとを張りあわせて、これらパネルの間
    に、前記隔壁で区画された放電空間を形成し、その後、
    この放電空間に、所定圧力の放電ガスを封入する工程を
    有する請求項１１〜２０のいずれかに記載のプラズマ表
    示装置の製造方法。