JP2004061024A

JP2004061024A - ガス処理塔

Info

Publication number: JP2004061024A
Application number: JP2002221868A
Authority: JP
Inventors: Masaki Kataoka; 片岡　正樹; Takahisa Watanabe; 渡辺　孝久
Original assignee: Tsukishima Kikai Co Ltd
Current assignee: Tsukishima Kikai Co Ltd
Priority date: 2002-07-30
Filing date: 2002-07-30
Publication date: 2004-02-26
Anticipated expiration: 2022-07-30
Also published as: JP4037202B2

Abstract

【課題】整流機構や案内羽根、旋回ベーン等を要さずとも旋回流の速度が速くなりすぎないように制御することにより、ガスのダストや液滴等が含まれている場合でもこれらが塔本体１の内壁面に付着するのを防ぐ。
【解決手段】筒状の塔本体１の接続部２に、この塔本体１の中心軸線Ｏを中心とした円Ｑの接線方向に向けて延びるダクト中心線Ｃを有するガス供給ダクト６を接続し、この接続部２のダクト中心線Ｃに沿った横断面において、ダクト中心線Ｃを中心軸線Ｏと交差することなく偏心させ、かつガス供給ダクト６を、ダクト中心線Ｃが中心軸線Ｏに対して偏心した側から、ダクト中心線Ｃに平行で中心線Ｏと交差する仮想直線Ｌを越えて反対側にまで開口させる。
【選択図】　　　　図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば廃棄物焼却施設において廃棄物を焼却することにより発生した燃焼排ガスを冷却処理するガス冷却塔等のガス処理塔に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
昨今、このような廃棄物焼却施設においては、ダイオキシン問題から燃焼排ガスをガス冷却塔によって急冷してから排ガス処理を行うようにしている。すなわち、焼却施設の焼却炉等で廃棄物を焼却して生じた燃焼排ガスは、まず廃熱ボイラ等で熱回収され、次いで上記ガス冷却塔に供給されて冷却水が噴霧されたりすることにより２００℃程度以下にまで冷却され、しかる後バグフィルターによってダストが除塵されたりして排ガス処理される。従って、ガス冷却塔に供給される燃焼排ガスには除塵前のダストが含有されたままである。また、特に廃棄物の焼却がその焼却灰の溶融まで行われるときには、廃棄物に含まれている塩素と金属類が反応することにより低沸点の塩化物が生成されて排ガス中に多量に含有されることがあるが、このような低沸点の塩化物の他に硫黄化合物が排ガス中に共存しているとこれらの物質の融点が低下する場合があり、従ってそのような場合には高温の燃焼排ガスによって溶融したこれら低沸点物質の液滴が含有されたまま燃焼排ガスがガス冷却塔に供給されることもある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかして、このようにダストや低沸点物質の液滴が含まれたままの燃焼排ガスがガス冷却塔に供給されると、これらがガス冷却塔の塔本体の内壁面に付着して腐食を生じたり、圧力損失を増大させたり、あるいはこのガス冷却塔で回収されたダストを排出する排出装置にトラブルを生じたりして廃棄物焼却施設の安定した運転に支障を来すおそれがある。ところが、このようなダストや低沸点物質の液滴が燃焼排ガスに混入することはが避けられないので、上述のような問題が生じるのを防ぐにはこれらダストや液滴がガス冷却塔の内壁に付着するのを極力抑える必要がある。なお、このような課題は、上記廃棄物焼却設備のガス冷却塔以外でも、ダストや液滴等が混入したガスの各種処理を行うガス処理塔において共通したものである。
【０００４】
ここで、このようにガス冷却塔の内壁面にダスト等を付着させない方法の１つとして、例えば燃焼排ガスに上記冷却水を噴霧する際に２流体ノズル等を使用して噴霧される冷却水の水滴をできるだけ小さくし、冷却水を燃焼排ガス中で全量蒸発させて内壁面を濡らさないようにすることにより、濡れたガス冷却塔の内壁面に乾燥したダストが付着するのを防ぐ方法があるが、ダスト自体が粘着性をもっていたりした場合や低沸点物質の液滴が直接ガス冷却塔の内壁に付着する場合には効果的ではない。特にこの種のガス冷却塔においては、例えば燃焼排ガスをガス冷却塔内にその接線方向に供給したりすることによって燃焼排ガスの旋回流を形成し、この旋回流の拡散作用によって冷却水の水滴を微細かつ広範囲に拡散させて冷却効果の向上を図ることが行われているが、このような場合において燃焼排ガスの旋回流の旋回速度が速すぎると、遠心力によってダストや低沸点物質の液滴がガス冷却塔内壁面に強くたたきつけられてしまうため、こうして内壁面を濡らさないようにしても液滴や粘着性のダストの付着は避けられない。
【０００５】
その一方で、このようにガス冷却塔内壁面にダスト等を付着させない他の一つの方法として、ガス冷却塔への燃焼排ガスの供給口に整流機構や案内羽根を設けるなどしてガス冷却塔内の燃焼排ガスの流れをできるだけ渦の発生のない層流となるようにする方法があり、例えば特許第３１７６８６４号公報には、上述のようにガス冷却塔内に燃焼排ガスの旋回流を形成する場合において、この燃焼排ガスの塔本体への供給口に旋回ベーンを設けることにより、所定のガス速度、旋回速度の燃焼排ガスの旋回流を形成することが提案されている。しかるに、このような方法では、こうして塔本体内における燃焼排ガスのガス速度や旋回流の旋回速度を制御することにより、ダストや低沸点物質の液滴が塔本体の内壁面に強くたたきつけられて付着するような事態は防ぐことができるが、特に燃焼排ガスが多くのダストを含んでいる場合や低沸点物質の液滴を含んでいる場合には、これらが今度は整流機構や案内羽根、旋回ベーンに付着してしまってその安定した動作を阻害するおそれが生じる。このため、そのような場合には、これら整流機構や案内羽根、旋回ベーンの手前のガス冷却塔に燃焼排ガスを供給するガス供給ダクトにおいて直管部を長く確保して、該整流機構等に流れ込む燃焼排ガスの流れを整流することにより付着を防止しなければならず、結果的にダクト長が延長されて廃棄物焼却設備の設置面積が増大したり、ダクト工事費やダクト用架台工事費等が増加して経済性を損なったりすることになる。
【０００６】
本発明は、このような背景の下になされたもので、特にこうして塔本体内に供給されたガスの旋回流を形成する場合において、上述のような整流機構や案内羽根、旋回ベーン等を要さずとも旋回流の速度が速くなりすぎないように制御することにより、ガスにダストや液滴等が含まれている場合でもこれらが塔本体内壁面に付着するのを防ぐことが可能なガス処理塔を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決して、このような目的を達成するために、本発明は、筒状の塔本体の接続部に、該塔本体の中心軸線を中心とした円の接線方向に向けて延びるダクト中心線を有するガス供給ダクトを接続し、この接続部のダクト中心線に沿った横断面において、該ダクト中心線を上記中心軸線と交差することなく偏心させ、かつ上記ガス供給ダクトを、上記ダクト中心線が上記中心軸線に対して偏心した側から、該ダクト中心線に平行で上記中心線と交差する仮想直線を越えて反対側にまで開口させたことを特徴とする。従って、このような構成のガス処理塔においては、上記ガス供給ダクトから塔本体内に供給されるガスのうち、上記横断面において塔本体内の外周側の中心軸線から偏心した部分より供給されるガスはこの中心軸線回りの旋回流を形成するものの、これよりも内周側（中心軸線側）の部分より供給されるガスは上記仮想直線に沿って真っ直ぐ塔本体内に供給されて上記旋回流を遮るように流れることとなり、これにより旋回流の強さや速度が抑えられて制御されるので、このガスにダストや液滴が含まれていてもこれらが塔本体の内壁面に押し付けられるようにして付着するのを防ぐことができる。
【０００８】
ここで、上記横断面における上記中心軸線からの上記ダクト中心線の偏心量は、この塔本体の上記接続部における内径Ｄに対して０．０５×Ｄ〜０．２５×Ｄの範囲内とされるのが望ましく、これよりも偏心量が大きくてダクト中心線が塔本体の中心軸線から離れていると、上記横断面においてガス供給ダクトの上記内周側が上述のように上記仮想直線を越えて反対側に開口するように接続することができなくなるおそれがある一方、この範囲よりも偏心量が小さくてダクト中心線が中心軸線に近すぎると、供給されるガスのうち上記仮想直線に沿って流れ込む成分が大きくなりすぎて必要な旋回流が形成されなくなるおそれがある。また、上記塔本体を、上記接続部における内径Ｄが他の部分の内径Ｅよりも小さくされた多段筒状として、この接続部において塔本体内に形成された旋回流の旋回径を拡げつつ内径Ｅの大きな上記他の部分に導いてガスを効率的に処理するようにしてもよいが、このような場合において、これらの内径Ｅと内径Ｄとの比Ｅ／Ｄは２〜２．５の範囲内とされるのが望ましく、この比Ｅ／Ｄが小さすぎると、接続部で十分な強さの旋回流を形成することができなくなったり他の部分におけるガスの処理が不十分となったりするおそれがあり、逆のこの比Ｅ／Ｄが大きすぎると旋回流の旋回径を十分に拡げることができなくなって上下方向に渦を巻くような流れが生じるおそれがある。
【０００９】
一方、本発明のガス処理塔は、塔本体内壁面へのダスト等の付着を嫌う各種のガス処理塔に適用することが可能であるが、特に上述のような事情から、廃棄物焼却施設における焼却炉からの燃焼排ガスのガス冷却塔のように、塔本体に、冷却水を噴霧したりすることにより上記ガス供給ダクトから供給されたガスを冷却する冷却手段を備えたものに適用するのが効果的である。また、同様に、本発明において上記ガス供給ダクトから供給されるガスについても、上記焼却炉からの燃焼排ガスのように、該ガス中に含まれるダストの濃度が５ｇ／ｍ^３Ｎ以上のガスである場合や、融点が３００℃〜６５０℃の低沸点物質を含むガスである場合により効果的である。
【００１０】
【発明の実施の形態】
図１および図２は、上述のような廃棄物焼却施設の焼却炉から排出された燃焼排ガスＧを廃熱ボイラ等で廃熱回収した後に冷却処理するガス冷却塔に本発明を適用した場合の一実施形態を示すものである。本実施形態において塔本体１は、上部から下部に向けて順に図１に示すように、上端が閉塞された内径Ｄの円筒状をなす接続部２と、この接続部２の下端から下方に向かう従い内径が漸次拡径する円錐台面状の肩部３と、この肩部３の下端から延びる上記接続部２の内径Ｄよりも大きな内径Ｅで長さの長いやはり円筒状の胴部４と、この胴部４の下端から下方に向かうに従い内径が漸次縮径する下端が閉塞された倒立円錐台面状の底部５とが、その円筒や円錐台の中心線を当該塔本体１の中心軸線Ｏと同軸として一体に連続させられた概略多段円筒状をなしており、上記廃熱ボイラ等から排出された排ガスＧは、上記接続部２に接続されるガス供給ダクト６からこの塔本体１内に供給される。
【００１１】
ここで、このガス供給ダクト６は、本実施形態では円筒状に形成されていて、この円筒の中心線すなわちダクト中心線Ｃが、塔本体１の接続部２において上記中心軸線Ｏに直交する平面Ｐ上に位置するように、かつこの平面Ｐに沿った横断面において図２に示すように中心軸線Ｏと交差することなく該中心軸線Ｏから外周側（図２においては上側）に偏心するように配設されており、従ってこのダクト中心線Ｃは上記横断面において中心軸線Ｏを中心とする円Ｑの接線方向に延びることとなる。また、本実施形態では、このガス供給ダクト６の内周面のうち、上記ダクト中心線Ｃが中心軸線Ｏから偏心した側（図２における上側）の部分６Ａは接続部２の内壁面に滑らかに接するように接続されており、すなわち上記横断面においてこの部分６Ａは図２に示すように接続部２の内壁面がなす円の接線を描くこととなる。従って、こうして塔本体１の中心軸線Ｏから偏心させられたガス供給ダクト６のダクト中心線Ｃの上記横断面における中心軸線Ｏからの偏心量（上記円Ｑの半径）をＲとすると、このガス供給ダクト６の内径は（０．５×Ｄ−Ｒ）×２＝Ｄ−２×Ｒで与えられることとなる。
【００１２】
そして、その一方で、このガス供給ダクト６の内周面のうち、上記部分６Ａとは逆のダクト中心線Ｃが中心軸線Ｏに対して偏心した側とは反対側（図２における下側）の部分６Ｂは、上記横断面においてこの偏心した側からダクト中心線Ｃに平行で塔本体１の中心軸線Ｏを通る仮想直線Ｌを越えた接続部６の反対側に接続されており、すなわち当該ガス供給ダクト６は接続部２の内壁面に、そのダクト中心線Ｃが偏心した側とは反対側にまで広がるように開口させられることとなる。なお、このガス供給ダクト６の内周面のうち上記偏心した側とは反対側の部分６Ｂの上記横断面における仮想直線Ｌからのオーバー量Ｓは、本実施形態では上述のようにガス供給ダクト６の内径がＤ−２×Ｒ、仮想直線Ｌから偏心した側の部分６Ａまでの距離が０．５×Ｄであるので、これらの差０．５×Ｄ−２×Ｒで与えられる。
【００１３】
また、本実施形態のガス処理塔は上述のように燃焼排ガスＧを冷却するガス冷却塔であって、塔本体１には上記ガス供給ダクト６から供給されたガス（燃焼排ガスＧ）を冷却する冷却手段７が備えられている。この冷却手段７は、本実施形態では上記肩部３の塔本体１内に斜め下向きに設けられた冷却水Ｗの噴霧ノズル８であって、この噴霧ノズル８に供給された冷却水Ｗを同じく噴霧ノズル８に供給される圧縮空気Ｆによって塔本体１内に噴霧して高温の燃焼排ガスＧにより蒸発させ、その代わりに蒸発熱を燃焼排ガスＧから奪って該燃焼排ガスＧを冷却するようになされている。さらに、塔本体１の上記胴部４の下側には、やはり塔本体１内に斜め下向きにガス排出管９が挿入されていて、このガス冷却塔に供給されて冷却処理された燃焼排ガスＧはこのガス排出管９から排出されるようになされている。さらにまた、塔本体１内の上記底部５の閉塞された下端には、上記中心軸線Ｏ回りに回転可能なダスト掻き取り装置１０が備えられるとともに、この底部５の下端外周側にはダスト排出口１１が設けられており、塔本体１内で沈降したダストや塔本体１内壁面に付着して剥離落下したダスト等はこの底部５に回収され、ダスト掻き取り装置１０によって掻き寄せられてダスト排出口１１から排出される。
【００１４】
しかして、このように構成されたガス処理塔（ガス冷却塔）において、上記ガス供給ダクト６から塔本体１内の接続部２に供給された燃焼排ガスＧは、そのうちガス供給ダクト６の上記中心軸線Ｏから偏心した部分６Ａ側を通って流れ込んだ成分が、図２に符号Ａで示すように接続部２の内壁面がなす凹円筒面に沿って中心軸線Ｏ回りの旋回流を形成する。そして、この旋回流は上記肩部３から胴部４へと導かれつつ、その旋回力により図１に示すように旋回径が広がってゆき、この胴部４において上記冷却手段７の噴霧ノズル８から噴霧される冷却水Ｗにより上述のように冷却され、ガス排出管９から排出される。
【００１５】
ところが、接続部２において上記偏心した部分６Ａとは反対側の部分６Ｂを通った成分は、図２に符号Ｂで示すようにダクト中心線Ｃに平行な上記仮想直線Ｌに沿うように真っ直ぐ塔本体１内に流れ込んで上記成分Ａによる旋回流を遮るように作用することとなり、これにより、整流機構や案内羽根、旋回ベーン等を用いることなく、この旋回流の強さや速度を抑制して制御することが可能となる。このため、上記構成のガス処理塔によれば、この燃焼排ガスＧに廃棄物の焼却に起因するダストや低沸点物質の液滴が含まれていても、これらが燃焼排ガスＧの冷却が行われる塔本体１の胴部４内壁面に強く押し付けられて付着するのを防ぐことができ、かかるダストや低沸点物質の液滴の付着により腐食や圧力損失の増大を招いたり、あるいは上記ダスト掻き取り装置１０等の排出装置の動作に支障を来すような事態を確実に防止することが可能となる。
【００１６】
また、特に本実施形態のガス処理塔は、上述のように燃焼排ガスＧを冷却手段７の噴霧ノズル８から噴霧される冷却水Ｗによって冷却するガス冷却塔であって、この燃焼排ガスＧによる旋回流が強すぎると噴霧された冷却水Ｗの水滴が胴部４の内壁面に弾き飛ばされて該内壁面を濡らし、これに燃焼排ガスＧ中のダストが粘着性を有していなくても付着してしまうおそれがあるが、本実施形態のガス処理塔（ガス冷却塔）ではこの旋回流自体の強さや速度を制御可能であって、冷却水Ｗの水滴が胴部４の内壁面に弾き飛ばされるのも抑えることができ、こうして冷却水Ｗで内壁面が濡らされることによってダストが付着する事態も防止することが可能であるので、効果的である。しかも、上記廃棄物焼却設備の焼却炉で発生する燃焼排ガスＧは、この廃棄物に起因するダストの含有量が多く、また上述のように低沸点物質の液滴が含有されることもあって、塔本体１内壁面への付着が特に懸念されるので、そのようなガスの処理に上記構成のガス処理塔を用いるのは、さらに効果的でもある。
【００１７】
ただし、このようにダストを含んだガスの処理を上記ガス処理塔によって行う場合でも、このガス中に含まれるダストの濃度が少なすぎるときには、ダストの付着による塔本体１の腐食や圧力損失の増大、ダスト排出装置の障害が生じるおそれも少なく、その一方で上述のように旋回流の強さが抑制されると冷却水Ｗの分散効果も抑制されて冷却効率の低下を招いたりするおそれが生じるので、上記構成のガス処理塔は、上記ガス供給ダクト６から供給されるガスが、該ガス中に含まれるダストの濃度が５ｇ／ｍ^３Ｎ以上のガスである場合に用いて、より効果的である。なお、このダストの濃度が高すぎると、如何に上記構成によって旋回流を制御しても塔本体１内壁面への付着は免れないので、処理前に２０ｇ／ｍ^３Ｎ以下程度にまで除塵してから処理を図るのが望ましい。また、ガス中の低沸点物質についても、この物質の融点が３００℃〜６５０℃であるときには、特に処理すべきガスが高温の燃焼排ガスＧである場合に容易に溶融して液滴化してしまうので、そのような融点の低沸点物質がガス中に含まれる場合のガスの処理に用いて、上記構成のガス処理塔はより効果的である。
【００１８】
なお、このように制御される旋回流の強さや速度の最適値は、塔本体１に供給される燃焼排ガスＧの供給量やダスト濃度、あるいはダストの性状や上記低沸点物質の液滴の量によって決定されるが、旋回流の速度（回転速度）については概ね１ｒａｄ／ｓ〜２０ｒａｄ／ｓの範囲内が好適であり、これよりも速度が速いと遠心力でダストが内壁面に付着するおそれが生じる一方、これよりも遅いと胴部４における旋回流の径の拡がりが不十分となり、胴部４内において上下方向に渦を巻くような流れが生じて噴霧された冷却水Ｗの水滴を巻き上げ、その内壁面を濡らしてダストの付着を招くおそれがある。しかして、本実施形態のガス処理塔が冷却塔として用いられる上記廃棄物焼却施設においては、上記燃焼排ガスＧの供給量やダスト濃度、ダストの性状、低沸点物質の液滴の量などは略一定しているので、これに応じて塔本体１の上記内径Ｄ，Ｅやガス供給ダクト６の内径、偏心量Ｒおよびオーバー量Ｓを設定することにより、最適な速度の旋回流が形成されるようにすればよい。
【００１９】
ところで、本実施形態では、上記ダクト中心線Ｃに沿った横断面において、ガス供給ダクト６が偏心した側の部分６Ａが接続部２がなす円の接線方向に延びるようにされており、このような場合においてこの部分６Ａとは反対側の部分６Ｂが上記仮想直線Ｌを越えてガス供給ダクト６が偏心した側と反対側に位置するには、中心軸線Ｏに対するダクト中心線Ｃの偏心量Ｒは、接続部２の内径Ｄに対して０．２５×Ｄ未満でなければならない。すなわち、この偏心量Ｒが０．２５×Ｄ以上であると、上記横断面においてガス供給ダクト６の上記反対側の部分６Ｂは仮想直線Ｌと一致するか、これよりも上記偏心した側に位置してしまい、旋回流を抑制する上述の成分Ｂが発生しなくなってしまう。ただし、例えばガス供給ダクト６の上記偏心した側の部分６Ａが接続部２よりも外周に位置するように段差を付けて接続部２にガス供給ダクト６を接続した場合には、偏心量Ｒが０．２５×Ｄ以上であっても反対側の部分６Ｂが仮想直線Ｌを越えた位置にまで開口させることが可能であるが、このような場合には上記段差の部分でガスの流れに乱れが生じて旋回流の形成に支障を来すおそれがあるので、上記偏心量Ｒは０．２５×Ｄ以下とされるのが望ましい。
【００２０】
一方、逆にこの偏心量Ｒが小さすぎると、ダクト中心線Ｃが接続部２の中心軸線Ｏや上記仮想直線Ｌに近づきすぎ、上記旋回流を抑制する成分Ｂが強くなりすぎて旋回流の形成自体が不可能となるおそれがあるので、偏心量Ｒは０．０５×Ｄ以上とされるのが望ましい。因みに、本実施形態のようにダクト中心線Ｃに沿った横断面においてガス供給ダクト６が偏心した側の部分６Ａが接続部２のなす円の接線方向に延びるようにされている場合において、偏心量Ｒが０．０５×Ｄであったとすると、これとは反対側の部分６Ｂのオーバー量Ｓは０．４×Ｄとなるので、このオーバー量Ｓは望ましくは０．４×Ｄ以下とされることとなる。
【００２１】
また、本実施形態では、ガス供給ダクト６が接続される塔本体１の接続部２の内径Ｄが、塔本体１の他の部分である胴部４の内径Ｅよりも小さくされていて、塔本体１が多段の円筒状をなすように形成されており、上述のように接続部２で形成された旋回流がその旋回径を拡げつつ胴部４に導入されて円滑かつ効率的に冷却処理されるようになされている。ただし、このような構成を採った場合において、上記接続部２の内径Ｄに対する他の部分である胴部４の内径Ｅの比Ｅ／Ｄは２〜２．５の範囲内とされるのが望ましく、この比Ｅ／Ｄがこれよりも小さくて接続部２の内径Ｄと胴部４の内径Ｅとの差が少ないと、接続部２で十分な強さの旋回流を形成することができなくなったり、胴部４におけるガスの処理が不十分となったりするおそれがある一方、逆のこの比Ｅ／Ｄがこれよりも大きいと、接続部２で形成された旋回流を胴部４で十分に拡げることができなくなり、旋回流の速度が遅い場合と同様に胴部４内において上下方向に渦を巻くような流れが生じて処理に支障を来すおそれがある。
【００２２】
なお、本実施形態においては、塔本体１の上部にガス供給ダクト６が接続される接続部２が配置されているが、この接続部２を塔本体１の下部に設けて旋回流を上昇させつつ拡げるようにしてもよく、このように接続部２を塔本体１の上部に設けるか、下部に設けるかは、当該ガス処理塔に供給されるガスを排出する装置の排ガス出口の位置によって決定すればよい。すなわち、本実施形態のように廃棄物焼却設備のガス冷却塔に本発明を適用する場合においては、その前の廃熱ボイラ等の廃熱回収設備における排ガス出口が上方であれば接続部２も塔本体１の上部に設け、逆に廃熱回収設備における排ガス出口が下方であれば接続部２も塔本体１の下部に設けるのが、ガス供給ダクト６を短縮することができるので、経済的である。また、本実施形態では塔本体１やガス供給ダクト６が円筒状とされているが、特にガス供給ダクト６については断面方形状に形成されていたりしてもよい。
【００２３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、塔本体の接続部に接続されるガス供給ダクトを、そのダクト中心線に沿った横断面において該ダクト中心線を上記中心軸線から望ましくは接続部の内径Ｄに対して０．０５×Ｄ〜０．２５×Ｄの偏心量で偏心させ、かつこのダクト中心線が偏心した側から該ダクト中心線に平行で上記中心軸線と交差する仮想直線を越えて反対側にまで開口させることにより、上記偏心した側のダクト部分から供給されるガスにより形成される旋回流を、これとは反対側のダクト部分から供給されるガスによって抑制して、整流機構等を用いることなくこの旋回流の強さや速度を制御することができ、ガス中にダストや低沸点物質の液滴が含まれていても、これが塔本体内壁に付着して腐食や圧力損失の増加、ダスト排出装置の故障等を招いたりするのを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す縦断面図である。
【図２】図１におけるＺＺ横断面図である。
【符号の説明】
１　塔本体
２　接続部
４　胴部（塔本体１の他の部分）
６　ガス供給ダクト
７　冷却手段
Ｏ　塔本体１の中心軸線
Ｃ　ダクト中心線
Ｌ　ダクト中心線Ｃに平行で中心軸線Ｏを通る仮想直線
Ｄ　接続部２の内径
Ｒ　ダクト中心線Ｃの偏心量
Ｓ　ガス供給ダクト６の仮想直線Ｌを越えるオーバー量
Ｅ　胴部４の内径

Claims

筒状の塔本体の接続部に、該塔本体の中心軸線を中心とした円の接線方向に向けて延びるダクト中心線を有するガス供給ダクトが接続されており、この接続部における上記ダクト中心線に沿った横断面において、該ダクト中心線が上記中心軸線と交差することなく偏心させられ、かつ上記ガス供給ダクトが、上記ダクト中心線が上記中心軸線に対して偏心した側から、該ダクト中心線に平行で上記中心線と交差する仮想直線を越えて反対側にまで開口させられていることを特徴とするガス処理塔。
上記横断面における上記中心軸線からの上記ダクト中心線の偏心量が、上記接続部における塔本体の内径Ｄに対して０．０５×Ｄ〜０．２５×Ｄの範囲内とされていることを特徴とする請求項１に記載のガス処理塔。
上記塔本体は、上記接続部における内径Ｄが他の部分の内径Ｅよりも小さくされた多段筒状とされており、これらの内径Ｅと内径Ｄとの比Ｅ／Ｄが２〜２．５の範囲内とされていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のガス処理塔。
上記塔本体には、上記ガス供給ダクトから供給されたガスを冷却する冷却手段が備えられていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のガス処理塔。
上記ガス供給ダクトから供給されるガスが、該ガス中に含まれるダストの濃度が５ｇ／ｍ^３Ｎ以上のガスであることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載のガス処理塔。
上記ガス供給ダクトから供給されるガスが、融点が３００℃〜６５０℃の低融点物質を含むガスであることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに記載のガス処理塔。