JP2004051910A - 樹脂フィルム及び金属張り積層板 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
【課題】平滑な金属箔と高い接着強度を示す熱硬化性フィルム、及びプリプレグ等と該フィルムと平滑な金属箔とを順次積層した積層板を得る。
【解決手段】樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む樹脂組成物が半硬化してなる樹脂フィルムであって、厚み30μm以下であるかまたは30℃での弾性率が500〜2500MPaである樹脂フィルム、熱硬化性樹脂シートと金属箔との間に前記樹脂フィルムを挟んで加熱硬化してなる金属張り積層板。
【選択図】 なし
【解決手段】樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む樹脂組成物が半硬化してなる樹脂フィルムであって、厚み30μm以下であるかまたは30℃での弾性率が500〜2500MPaである樹脂フィルム、熱硬化性樹脂シートと金属箔との間に前記樹脂フィルムを挟んで加熱硬化してなる金属張り積層板。
【選択図】 なし
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は接着用の樹脂フィルム及び金属張り積層板に関する。
【0002】
【従来の技術】
プリント配線板用積層板は、電気絶縁性樹脂組成物をマトリックスとするプリプレグを所定枚数重ね、加熱加圧して一体化したものである。プリント回路をサブトラクティブ法により形成する場合には、金属張積層板が用いられる。この金属張積層板は、プリプレグの表面(片面又は両面)に銅箔などの金属箔を重ねて加熱加圧することにより製造される。
またフレキシブル配線板のためには、ポリイミド等の耐熱性基材に接着性の樹脂組成物を積層した接着剤付きポリイミドシートや軟化点を下げた変性ポリイミド樹脂と銅箔を重ねて加熱加圧することで銅箔付きシートを製造している。
電気絶縁性樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂などのような熱硬化性樹脂が汎用され、フッ素樹脂やポリフェニレンエーテル樹脂などのような熱可塑性樹脂が用いられることもある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
一方、パーソナルコンピュータや携帯電話等の情報端末機器の普及に伴ってこれらに搭載されるプリント配線板は小型化、高密度化が進んでいる。その実装形態はピン挿入型から表面実装型へさらにはプラスチック基板を使用したBGA(ボールグリッドアレイ)に代表されるエリアアレイ型へと進んでいる。BGAのようなベアチップを直接実装する基板ではチップと基板の接続は、熱超音波圧着によるワイヤボンディングで行うのが一般的である。このため、ベアチップを実装する基板は150℃以上の高温にさらされることになり、電気絶縁性樹脂にはある程度の耐熱性が必要となる。
また、一度実装したチップを外す、いわゆるリペア性も要求される場合があるが、これにはチップ実装時と同程度の熱がかけられるため、基板にはその後、再度チップ実装が施されることになりさらに熱処理が加わることになる。これに伴いリペア性の要求される基板では高温でのサイクル的な耐熱衝撃性も要求される。
【0004】
さらに、処理速度の高速化に伴いMPUのI/O数が増加し、ワイヤボンディングで接続する端子数の増加と端子幅の狭小化が進んでいる。回路形成を施される金属箔との接着には従来以上の接着力が望まれるとともにより細い配線を作製するために金属箔表面の粗化形状の微細化も要求されている。
一方、信号の高周波化が進むことで回路導体には表面平滑性が要求されると考えられる。導体中の電流の付近には磁力線が発生するが、導体の中心部ほど磁力線の干渉が大きいため、電流は周辺とコーナーに集中する。これを表皮効果と呼び、周波数が高いほどこの傾向は強まる。導体の表面が平滑であるほど表皮効果による抵抗の増加を抑えられると考えられるが、従来の電気絶縁性樹脂の接着は主に粗表面へのアンカー効果によるところが大きく信号の高周波化とは相反するものとなっている。
【0005】
本発明は、上記従来技術の問題点を解消し、平滑な金属箔と従来基材との接着性に優れ、耐熱性に優れた樹脂シートを提供し、さらにこのシートを平滑な金属箔と、プリプレグ、接着シート、接着剤付きポリイミドシート及び接着性ポリイミドシート等の従来基材との間に設けて積層することで、微細回路形成性に優れ、高周波特性に有利な金属張り積層板を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明の第一の特徴は、樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む樹脂組成物が半硬化してなり、厚み30μm以下である樹脂フィルムを要旨とする。
本発明の第二の特徴は、樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む樹脂組成物が半硬化してなり、30℃での弾性率が500〜2500MPaである樹脂フィルムを要旨とする。
これらの樹脂フィルムにおいて、前記樹脂組成物は、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂及びエポキシ樹脂を含むことが好ましい。
【0007】
また、本発明の第三の特徴は、熱硬化性樹脂シートと金属箔との間に上記本発明の樹脂フィルムのいずれかを挟んで加熱硬化してなる金属張り積層板を要旨とする。
前記熱硬化性樹脂シートは、プリプレグ、接着シート、接着剤付きポリイミドシート及び接着性ポリイミドフィルムから選ばれることが好ましく、また金属箔の樹脂フィルムとの接着面の表面粗さはRzで5.5以下であることが好ましい。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の樹脂フィルムを得るための、樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む樹脂組成物としては、ポリアミドイミド樹脂と、その他の熱硬化性樹脂とを含むのが好ましい。
【0009】
まず、ポリアミドイミド樹脂について説明する。ポリアミドイミド樹脂のうち、ポリアミドイミド樹脂の主鎖にシロキサン構造を持ったシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂が好ましい。さらに、シロキサンジアミンと、無水トリメリット酸と、必要に応じて、芳香族環を3個以上有するジアミンとを反応させて得られたジイミドジカルボン酸に、芳香族ジイソシアネートを反応させて得られるシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂が好ましい。
【0010】
この場合、芳香族環を3個以上有するジアミン(a)及びシロキサンジアミン(b)の混合物と無水トリメリット酸(c)とを、モル比で、{(a)+(b)}/(c)=1.0/2.0〜1.0/2.2で反応させたジイミドジカルボン酸であることがさらに好ましい。
また、得られたジイミドジカルボン酸を含む混合物と芳香族ジイソシアネート(d)とを、モル比で{(a)+(b)}/(d)=1.0/1.0〜1.0/1.5で反応させて得られるシロキサン変性ポリアミドイミドであるとさらに好ましい。
芳香族環を3個以上有するジアミン(a)とシロキサンジアミン(b)の混合比率は、一般に、モル比で(a)/(b)=99.9/0.1〜0/100が好ましいが、特に、使用するシロキサンジアミン(b)のアミン当量に応じて選択するのが好ましい。シロキサンジアミンのアミン当量が400〜500の場合は(a)/(b)=99.9/0.1〜0/100(モル比。以下同じ。)、アミン当量が800〜1000では(a)/(b)=99.9/0.1〜60/40、アミン当量が1500〜1600では(a)/(b)=99.9/0.1〜60/40とすることで良好な特性を有する樹脂組成物とすることができる。
【0011】
(a)本発明で用いる芳香族環を3個以上有するジアミンとしては、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(以下、BAPPと略す。)、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、4,4´−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン等が例示でき、単独でまたはこれらを組み合わせて用いることができる。BAPPは、ポリアミドイミド樹脂の特性のバランスとコスト的に他のジアミンより特に好ましい。芳香族環数の好ましい範囲は3〜6程度である。
【0012】
(b)本発明で用いるシロキサンジアミンとしては、下記一般式(1式)で表されるものが良好に用いられる。
【化1】
一般式(1式)中R10、R11は2価の有機基を示し、R12〜R15はアルキル基、フェニル基または置換フェニル基を示し、nは1〜15の整数を示す。
【0013】
これらの中でもジメチルシロキサン系両末端アミンであるアミノ変性シリコーンオイル X−22−161AS(アミン当量450)、X−22−161A(アミン当量840)、X−22−161B(アミン当量1500)(以上、信越化学工業株式会社製商品名)、BY16−853(アミン当量650)、BY16−853B(アミン当量2200)(以上、東レダウコーニングシリコーン株式会社製商品名)などが市販品として挙げられ使用することができる。これらは単独でまたは組み合わせて用いることができる。
【0014】
(d)本発明で用いる芳香族ジイソシアネートとして、4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート(以下、MDIと略す。)、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ナフタレン−1,5−ジイソシアネート、2,4−トリレンダイマー等が例示できる。これらは単独でまたは組み合わせて用いることができる。
本発明では、ジイミドジカルボン酸と芳香族ジイソシアネートとをモル比1.0/1.0〜1.0/1.5で反応させることが好ましく、芳香族ジイソシアネートのモル比が1.0未満であると、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂の可撓性が低下してくるため好ましくなく、芳香族ジイソシアネートのモル比が1.5を超えても同様となるので好ましくない。
【0015】
このようなシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂の製造方法の一例を次に示す。芳香族環を3個以上有するジアミン、シロキサンジアミンおよび無水トリメリット酸(TMA)を、N−メチル−2−ピロリドン等の非プロトン性極性溶媒の存在下に、50〜90℃で反応させる。その後、トルエン等の水と共沸可能な芳香族炭化水素を非プロトン性極性溶媒の0.1〜0.5質量比で投入し、120〜180℃で反応を行ってジイミドジカルボン酸を含む溶液を得る。好ましくは、ここで約190℃まで温度を上げて前記芳香族炭化水素を溶液から除去する。次いで、溶液を室温に戻し、芳香族ジイソシアネートを投入し、190℃程度で約2時間反応させてシロキサン構造を有するポリアミドイミド樹脂の極性溶媒溶液を得ることができる。
【0016】
次に、本発明で用いる熱硬化性樹脂について説明する。
本発明では、ポリアミドイミド樹脂中のアミド基と反応し得る有機基を有する熱硬化性樹脂が好ましい。熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ビスマレイミド樹脂、トリアジン−ビスマレイミド樹脂、フェノール樹脂等が挙げられ、グリシジル基を有するエポキシ樹脂がより好ましい。ポリアミドイミド樹脂100重量部に対し熱硬化性樹脂1〜200重量部用いるのが好ましい。
本発明では、最終的に樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含むように、ポリアミドイミド樹脂及び熱硬化性樹脂を配合する。
例えば、使用するポリアミドイミド樹脂のアミド基量PA重量%、樹脂骨格中ケイ素量PB重量%、熱硬化性樹脂のアミド基量EA重量%、樹脂骨格中ケイ素量EB重量%、の場合、ポリアミドイミド樹脂100重量部に対して熱硬化性樹脂C重量部は、以下の関係を満たす範囲から選択される。
4≦(PA×100+EA×C)/(100+C)≦10
1≦(PB×100+EB×C)/(100+C)≦15
【0017】
本発明では、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いることが180℃以下の温度で硬化が可能で、ポリアミドイミド樹脂のアミド基に対して反応して熱的、機械的、電気的特性を向上させるため好ましく、さらに、2個以上のグリシジル基を持つエポキシ樹脂とその硬化剤、2個以上のグリシジル基を持つエポキシ樹脂とその硬化促進剤または2個以上のグリシジル基を持つエポキシ樹脂と硬化剤と硬化促進剤を用いることが好ましい。またグリシジル基は多いほどよく、3個以上であればさらに好ましい。グリシジル基の数により、配合量が異なり、グリシジル基が多いほど配合量が少なくてもよい。
【0018】
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA、ノボラック型フェノール樹脂、オルトクレゾールノボラック型フェノール樹脂等の多価フェノール又は1,4−ブタンジオール等の多価アルコールとエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエーテル、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエステル、アミン、アミド又は複素環式窒素塩基を有する化合物のN−グリシジル誘導体、脂環式エポキシ樹脂などが挙げられる。
【0019】
樹脂組成物中に配合されるエポキシ樹脂の硬化剤、硬化促進剤は、エポキシ樹脂と反応するもの、または、硬化を促進させるものであれば制限なく、例えば、アミン類、イミダゾール類、多官能フェノール類、酸無水物類等が使用できる。
アミン類として、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン、グアニル尿素等が使用でき、多官能フェノール類としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、ビスフェノールA及びこれらのハロゲン化合物、さらにホルムアルデヒドとの縮合物であるノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂などが使用でき、酸無水物類としては、無水フタル酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、メチルハイミック酸等が使用できる。また、硬化促進剤としては、アルキル基置換イミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類が使用できる。
【0020】
これらの硬化剤または硬化促進剤の必要な量は、アミン類の場合は、アミンの活性水素の当量と、エポキシ樹脂のエポキシ当量がほぼ等しくなる量が好ましい。硬化促進剤であるイミダゾールの場合は、単純に活性水素との当量比とならず、経験的にエポキシ樹脂100重量部に対して、0.001〜10重量部となる。多官能フェノール類や酸無水物類の場合、エポキシ樹脂1当量に対して、フェノール性水酸基やカルボキシル基0.6〜1.2当量である。これらの硬化剤または硬化促進剤の量は、少なければ未硬化のエポキシ樹脂が残り、Tg(ガラス転移温度)が低くなり、多すぎると、未反応の硬化剤及び硬化促進剤が残り、絶縁性が低下する。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のアミド基とも反応することができるので考慮に入れることが好ましい。
【0021】
さらに、本発明の効果を損なわない範囲で、樹脂組成物に通常添加される充填剤、カップリング剤、難燃剤等を、本発明における樹脂組成物に適宜配合することができる。
【0022】
本発明の第一の樹脂フィルム及び本発明の第二の樹脂フィルム(以下、本発明の樹脂フィルムという。)は、アミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む上記の樹脂組成物が半硬化してなる。特に、本発明の第一の樹脂フィルムは、乾燥後の厚みが30μm以下である。乾燥後の厚み30μm以下であれば応力の発生が少なく、そりが低減できる。
また、本発明の第二の樹脂フィルムは、30℃での弾性率が500〜2500MPaである。500MPa以上であると接着性が、また、2500MPa以下であると熱応力が、それぞれ良好となる。
【0023】
本発明の樹脂フィルムは、基材の片面に前記樹脂組成物の層を形成し、半硬化(Bステージ)状態に乾燥させて作製するのが、特に保存性及び作業性の点で、好ましい。ここで、樹脂組成物を有機溶媒中で混合、溶解、分散して得られるワニスの形態で基材に塗布して層を形成するのがさらに好ましい。このような有機溶媒としては、溶解性が得られるものであれば制限するものでなく、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、スルホラン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
樹脂組成物を塗布して樹脂組成物の層を形成する基材としては、樹脂フィルムを次の段階で金属箔等と積層する際に、樹脂フィルムが剥がせるものであれば特に制限されないが、通常シート形状の、ポリエチレンテレフタレートやアルミ箔及びこれらの基材表面に離型処理を施した基材等が用いられる。厚さ30μm〜200μmの離型処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好適に用いられる。
【0024】
樹脂フィルムの製造条件等は特に制限するものではないが、ワニスに使用した溶剤が80重量%以上揮発していることが好ましい。このため、製造方法や乾燥条件等も制限はなく、乾燥時の温度は80℃〜180℃が一般的で、乾燥時間はワニスのゲル化時間との兼ね合いで特に制限はない。
【0025】
本発明の樹脂フィルムを得るための樹脂組成物に、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂と熱硬化性樹脂とを含む上記樹脂組成物を使用した場合、ワニス溶剤の揮発速度が速く、熱硬化性樹脂の硬化反応を促進しない150℃以下の低温でも残存溶剤分を5重量%以下にすることが可能な樹脂フィルムが得られる。これは、例えば、平滑な金属とプリプレグ、接着シート、接着剤付きポリイミドシート、接着性ポリイミドシート等との間に耐熱性接着シートとして用いると良好な密着性が得られる。これは耐熱性の高いポリアミドイミド樹脂をシロキサン変性しているためであり、残存溶剤分を少なくすることができるため銅箔との積層工程において溶剤揮発によるフクレの発生を防止したり、はんだ耐熱性に優れたものとすることができる。
【0026】
本発明の金属張積層板は、熱硬化性樹脂シートと金属箔との間に上記本発明の樹脂フィルムを挟んで加熱硬化したものである。
金属張積層板の製造方法は次の通りである。金属箔と、本発明の樹脂フィルムと、熱硬化性樹脂シート又はそれを複数枚積層した積層体とを重ね、通常150〜280℃、好ましくは180℃〜250℃の範囲の温度で、通常0.5〜20MPa、好ましくは1〜8MPaの範囲の圧力で、加熱加圧成形することにより金属張積層体を製造することができる。金属箔を使用して金属張積層板とすることにより、これに回路加工を施してプリント回路板とすることができる。
【0027】
熱硬化性樹脂シートとして、プリプレグ、接着シート、接着剤付きポリイミドシート及び接着性ポリイミドシート等が使用でき、いずれの場合も上記の熱硬化性樹脂シートの場合に準じて、本発明の樹脂フィルムを挟み加熱加圧して金属箔積層体を製造することができる。
【0028】
本発明に用いられる金属箔は、銅箔やアルミニウム箔が一般的に用いられるが、通常積層板に用いられている5〜200μmのものを使用できる。また、ニッケル、ニッケル−リン、ニッケル−スズ合金、ニッケル−鉄合金、鉛、鉛−スズ合金等を中間層とし、この両面に0.5〜15μmの銅層と10〜300μmの銅層を設けた3層構造の複合箔あるいはアルミニウムと銅箔を複合した2層構造複合箔を用いることができる。金属箔の表面粗さはRzで5.5以下のものを使用することが本発明の接着性に起因する微細回路形成性、高周波特性を得る上で好ましく、Rzが2.0以下であるとさらに好ましい。
【0029】
【実施例】
以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(合成例1)
環流冷却器を連結したコック付き25mlの水分定量受器、温度計、撹拌器を備えた1リットルのセパラブルフラスコに
芳香族環を3個以上有するジアミンとして2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(以下、BAPPという。)43.1g(0.105mol)、
シロキサンジアミンとして反応性シリコーンオイル KF8010(信越化学工業株式会社製商品名、アミン当量445)40.1g(0.045mol)、
TMA(無水トリメリット酸)60.5g(0.315mol)、
非プロトン性極性溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPという。)440g
を仕込み、80℃で30分間撹拌した。
そして水と共沸可能な芳香族炭化水素としてトルエン100mlを投入してから温度を上げ約160℃で2時間環流させた。水分定量受器に水が約5.4ml以上たまっていること、水の留出が見られなくなっていることを確認し、水分定量受器にたまっている留出液を除去しながら、約190℃まで温度を上げて、トルエンを除去した。その後、溶液を室温に戻し、芳香族ジイソシアネートとして4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート(以下、MDIという。)45.1g(0.18mol)を投入し、190℃で2時間反応させた。反応終了後、アミド基量8.1重量%、ケイ素量6.9重量%のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液を得た。
【0030】
(合成例2)
環流冷却器を連結したコック付き25mlの水分定量受器、温度計、撹拌器を備えた1リットルのセパラブルフラスコに芳香族環を3個以上有するジアミンとしてBAPP 41.1g(0.1mol)、シロキサンジアミンとして反応性シリコーンオイル KF8010(信越化学工業株式会社製商品名、アミン当量450)90.0g(0.10mol)、TMA(無水トリメリット酸)80.7g(0.42mol)を、非プロトン性極性溶媒としてNMP 505gを仕込み、80℃で30分間撹拌した。そして水と共沸可能な芳香族炭化水素としてトルエン100mlを投入してから温度を上げ約160℃で2時間環流させた。水分定量受器に水が約7.2ml以上たまっていること、水の留出が見られなくなっていることを確認し、水分定量受器にたまっている留出液を除去しながら、約190℃まで温度を上げて、トルエンを除去した。その後、溶液を室温に戻し、芳香族ジイソシアネートとしてMDI 60.1g(0.24mol)を投入し、190℃で2時間反応させた。反応終了後、アミド基量7.4重量%、ケイ素量10.9重量%のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液を得た。
【0031】
(合成例3)
環流冷却器を連結したコック付き25mlの水分定量受器、温度計、撹拌器を備えた1リットルのセパラブルフラスコに芳香族環を3個以上有するジアミンとしてBAPP 55.4g(0.135mol)、シロキサンジアミンとして反応性シリコーンオイル X−22−161B(信越化学工業株式会社製商品名、アミン当量1560)46.8g(0.015mol)、TMA(無水トリメリット酸)60.5g(0.315mol)を、非プロトン性極性溶媒としてNMP 485gを仕込み、80℃で30分間撹拌した。そして水と共沸可能な芳香族炭化水素としてトルエン100mlを投入してから温度を上げ約160℃で2時間環流させた。水分定量受器に水が約5.4ml以上たまっていること、水の留出が見られなくなっていることを確認し、水分定量受器にたまっている留出液を除去しながら、約190℃まで温度を上げて、トルエンを除去した。その後、溶液を室温に戻し、芳香族ジイソシアネートとしてMDI 45.1g(0.18mol)を投入し、190℃で2時間反応させた。反応終了後、アミド基量7.2重量%、ケイ素量9.0重量%のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液を得た。
【0032】
(比較合成例1)
環流冷却器を連結したコック付き25mlの水分定量受器、温度計、撹拌器を備えた2リットルのセパラブルフラスコに芳香族環を3個以上有するジアミンとしてBAPP 24.6g(0.06mol)、シロキサンジアミンとして反応性シリコーンオイル X−22−161A(信越化学工業株式会社製商品名、アミン当量805)225.4g(0.14mol)、TMA(無水トリメリット酸)80.7g(0.42mol)を、非プロトン性極性溶媒としてNMP 725gを仕込み、80℃で30分間撹拌した。そして水と共沸可能な芳香族炭化水素としてトルエン150mlを投入してから温度を上げ約160℃で2時間環流させた。水分定量受器に水が約7.2ml以上たまっていること、水の留出が見られなくなっていることを確認し、水分定量受器にたまっている留出液を除去しながら、約190℃まで温度を上げて、トルエンを除去した。その後、溶液を室温に戻し、芳香族ジイソシアネートとしてMDI 60.1g(0.24mol)を投入し、190℃で2時間反応させた。反応終了後、アミド基量4.9重量%、ケイ素量21.7重量%のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液を得た。
【0033】
実施例1
合成例1のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分30重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有多官能エポキシ樹脂)30g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3gを配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置してアミド基量6.4重量%、ケイ素量5.6重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0034】
実施例2
合成例2のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分35重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有多官能エポキシ樹脂)35g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3gを配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置してアミド基量5.9重量%、ケイ素量8.7重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0035】
実施例3
合成例3のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分30重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有多官能エポキシ樹脂)30g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3gを配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置してアミド基量5.7重量%、ケイ素量7.2重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0036】
実施例4〜6
合成例1のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分30重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有多官能エポキシ樹脂)をそれぞれ12g、36g、48g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾールをそれぞれ0.2g、0.4g、0.8g配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置し、アミド基量がそれぞれ7.3重量%、6.2重量%、5.8重量%、ケイ素量がそれぞれ6.3重量%、5.4重量%、4.9重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0037】
比較例1
比較合成例1のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分35重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有エポキシ樹脂)36g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3gを配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置してアミド基量3.9重量%、ケイ素量17.4重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0038】
比較例2
合成例3のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分35重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有エポキシ樹脂)120g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.8gを配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置してアミド基量3.6重量%、ケイ素量4.5重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0039】
(フィルム及び接着性評価用金属張り積層板の作製)
実施例1〜6及び比較例1、2で作製したワニスを厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人株式会社製商品名ピューレックス)に乾燥後の厚みがそれぞれ10μm、20μmになるように塗布し、130℃で20分加熱、乾燥して揮発分5〜7重量%のフィルムを得た。
銅箔(日本電解株式会社製品名SLP−100)、プリプレグ(日立化成工業株式会社製品名I−671)4枚、実施例及び比較例のフィルム、表面粗さRz=1.8の銅箔(厚さ18μm)を順次重ね、230℃、90分、4.0MPaのプレス条件で両面銅張積層板を作製した。
比較のため、銅箔(日本電解株式会社製品名SLP−100)、プリプレグ(日立化成工業株式会社製品名I−671)4枚を重ね、この上に直接表面粗さRz=1.8の異なる銅箔(厚さ18μm)を重ね、230℃、90分、4.0MPaのプレス条件で両面銅張積層板を作製した(比較例3)。
【0040】
(フィルム弾性率及び接着強度の評価)
実施例1〜6及び比較例1、2のフィルムについて動的粘弾性測定装置(レオロジー社製DVE)を使用して30℃での弾性率を測定し結果を表1に示した。
また得られた両面銅張り積層板の銅箔について90度方向の引き剥がし強さを接着強度として測定し、結果を表1にまとめて示した。実施例1〜6のいずれのフィルムを使用した場合にも0.6〜1.0kN/mであった。アミド基量、ケイ素量及び30℃での弾性率が本発明の範囲から外れた比較例1やアミド基量、ケイ素量が本発明の範囲から外れた比較例2のフィルムを使用したもの及びフィルムを挟まなかった比較例3では0.1〜0.2kN/mの接着強度しか得られなかった。
【0041】
【表1】
【0042】
(はんだ耐熱性の評価)
作製した両面銅張り積層板を20mm×20mmに切断した試料を260℃、288℃及び300℃のはんだ浴に浸漬しはんだ耐熱性を測定した。実施例1〜6のフィルムを使用したものは、いずれの温度でも3分以上、ふくれ、剥がれ等の異常が見られなかった。比較例1、2のフィルムを使用したもの及びフィルムを挟まなかったものは60秒以内にフクレがみられた。
【0043】
(接着性及び回路形成性の評価)
銅箔(日本電解株式会社製品名SLP−100)、プリプレグ(日立化成工業株式会社製品名I−671)4枚、実施例1又は実施例2の厚み10μmのフィルム、表面粗さの異なる銅箔(厚さ18μm)を順次重ね、230℃、90分、4.0MPaのプレス条件で両面銅張積層板を作製した。また比較のために比較例1のフィルムを使用した両面銅張積層板、プリプレグ上に本発明のフィルムを挟まずに積層して比較例3の両面銅張積層板を作製した。表面粗さの異なる銅箔としてはRz=8.0、Rz=5.5、Rz=1.8の銅箔及びRz=2.0の銅箔として電解銅箔の光沢面を使用した。
各両面銅張積層板の表面粗さを変えた銅箔について90度方向の引き剥がし強さを接着強度として測定した。結果を表2に示した。また、厚み10μmのフィルムに代えて厚み20μmのフィルムを用いた結果も表2と殆ど同様の傾向を示した。
【0044】
【表2】
【0045】
積層板の銅箔側に全面レジストを形成した。また表面粗さを変えた銅箔側に通常のレジストレーションによりL/Sが20μm/20μm、30μm/30μm、40μm/40μm、50μm/50μmの櫛形パターンを形成し、塩化第二鉄水溶液で不要部分の銅をエッチングした後、レジストを剥離して回路を形成した。
得られた回路を顕微鏡観察しラインの形状から回路形成性を評価した。結果を表2に併せて示した。
Rz=8.0の銅箔では銅箔粗面に由来する残銅を除去するのに時間がかかり、結果的にラインのトップが細い蒲鉾型となる傾向が見られた。このため40μm/40μmが良好な回路を得る限界であった。Rz=5.5より表面粗さの小さい銅箔では残銅が短時間で除去でき特にRzが2.0以下の銅箔を使用したものでは回路断面は矩形に近づいた。回路形成性も20μm/20μmが形成できた。また比較例1のフィルムを使用したものや本発明のフィルムを挟んでいないものは接着強度が低く、エッチングの際に回路に剥離などが起き、部分的に回路形成に至らなかった。
【0046】
【発明の効果】
本発明における接着フィルムは平滑な金属箔との接着が可能である。Bステージ状でプリプレグ等と金属との間に挟みこむことで、接着性を補助するフィルムとして使用することができ、これを用いて得られる金属張り積層板は耐熱性に優れ、微細回路形成性、平滑回路形成性に優れる。
【発明の属する技術分野】
本発明は接着用の樹脂フィルム及び金属張り積層板に関する。
【0002】
【従来の技術】
プリント配線板用積層板は、電気絶縁性樹脂組成物をマトリックスとするプリプレグを所定枚数重ね、加熱加圧して一体化したものである。プリント回路をサブトラクティブ法により形成する場合には、金属張積層板が用いられる。この金属張積層板は、プリプレグの表面(片面又は両面)に銅箔などの金属箔を重ねて加熱加圧することにより製造される。
またフレキシブル配線板のためには、ポリイミド等の耐熱性基材に接着性の樹脂組成物を積層した接着剤付きポリイミドシートや軟化点を下げた変性ポリイミド樹脂と銅箔を重ねて加熱加圧することで銅箔付きシートを製造している。
電気絶縁性樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂などのような熱硬化性樹脂が汎用され、フッ素樹脂やポリフェニレンエーテル樹脂などのような熱可塑性樹脂が用いられることもある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
一方、パーソナルコンピュータや携帯電話等の情報端末機器の普及に伴ってこれらに搭載されるプリント配線板は小型化、高密度化が進んでいる。その実装形態はピン挿入型から表面実装型へさらにはプラスチック基板を使用したBGA(ボールグリッドアレイ)に代表されるエリアアレイ型へと進んでいる。BGAのようなベアチップを直接実装する基板ではチップと基板の接続は、熱超音波圧着によるワイヤボンディングで行うのが一般的である。このため、ベアチップを実装する基板は150℃以上の高温にさらされることになり、電気絶縁性樹脂にはある程度の耐熱性が必要となる。
また、一度実装したチップを外す、いわゆるリペア性も要求される場合があるが、これにはチップ実装時と同程度の熱がかけられるため、基板にはその後、再度チップ実装が施されることになりさらに熱処理が加わることになる。これに伴いリペア性の要求される基板では高温でのサイクル的な耐熱衝撃性も要求される。
【0004】
さらに、処理速度の高速化に伴いMPUのI/O数が増加し、ワイヤボンディングで接続する端子数の増加と端子幅の狭小化が進んでいる。回路形成を施される金属箔との接着には従来以上の接着力が望まれるとともにより細い配線を作製するために金属箔表面の粗化形状の微細化も要求されている。
一方、信号の高周波化が進むことで回路導体には表面平滑性が要求されると考えられる。導体中の電流の付近には磁力線が発生するが、導体の中心部ほど磁力線の干渉が大きいため、電流は周辺とコーナーに集中する。これを表皮効果と呼び、周波数が高いほどこの傾向は強まる。導体の表面が平滑であるほど表皮効果による抵抗の増加を抑えられると考えられるが、従来の電気絶縁性樹脂の接着は主に粗表面へのアンカー効果によるところが大きく信号の高周波化とは相反するものとなっている。
【0005】
本発明は、上記従来技術の問題点を解消し、平滑な金属箔と従来基材との接着性に優れ、耐熱性に優れた樹脂シートを提供し、さらにこのシートを平滑な金属箔と、プリプレグ、接着シート、接着剤付きポリイミドシート及び接着性ポリイミドシート等の従来基材との間に設けて積層することで、微細回路形成性に優れ、高周波特性に有利な金属張り積層板を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明の第一の特徴は、樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む樹脂組成物が半硬化してなり、厚み30μm以下である樹脂フィルムを要旨とする。
本発明の第二の特徴は、樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む樹脂組成物が半硬化してなり、30℃での弾性率が500〜2500MPaである樹脂フィルムを要旨とする。
これらの樹脂フィルムにおいて、前記樹脂組成物は、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂及びエポキシ樹脂を含むことが好ましい。
【0007】
また、本発明の第三の特徴は、熱硬化性樹脂シートと金属箔との間に上記本発明の樹脂フィルムのいずれかを挟んで加熱硬化してなる金属張り積層板を要旨とする。
前記熱硬化性樹脂シートは、プリプレグ、接着シート、接着剤付きポリイミドシート及び接着性ポリイミドフィルムから選ばれることが好ましく、また金属箔の樹脂フィルムとの接着面の表面粗さはRzで5.5以下であることが好ましい。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の樹脂フィルムを得るための、樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む樹脂組成物としては、ポリアミドイミド樹脂と、その他の熱硬化性樹脂とを含むのが好ましい。
【0009】
まず、ポリアミドイミド樹脂について説明する。ポリアミドイミド樹脂のうち、ポリアミドイミド樹脂の主鎖にシロキサン構造を持ったシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂が好ましい。さらに、シロキサンジアミンと、無水トリメリット酸と、必要に応じて、芳香族環を3個以上有するジアミンとを反応させて得られたジイミドジカルボン酸に、芳香族ジイソシアネートを反応させて得られるシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂が好ましい。
【0010】
この場合、芳香族環を3個以上有するジアミン(a)及びシロキサンジアミン(b)の混合物と無水トリメリット酸(c)とを、モル比で、{(a)+(b)}/(c)=1.0/2.0〜1.0/2.2で反応させたジイミドジカルボン酸であることがさらに好ましい。
また、得られたジイミドジカルボン酸を含む混合物と芳香族ジイソシアネート(d)とを、モル比で{(a)+(b)}/(d)=1.0/1.0〜1.0/1.5で反応させて得られるシロキサン変性ポリアミドイミドであるとさらに好ましい。
芳香族環を3個以上有するジアミン(a)とシロキサンジアミン(b)の混合比率は、一般に、モル比で(a)/(b)=99.9/0.1〜0/100が好ましいが、特に、使用するシロキサンジアミン(b)のアミン当量に応じて選択するのが好ましい。シロキサンジアミンのアミン当量が400〜500の場合は(a)/(b)=99.9/0.1〜0/100(モル比。以下同じ。)、アミン当量が800〜1000では(a)/(b)=99.9/0.1〜60/40、アミン当量が1500〜1600では(a)/(b)=99.9/0.1〜60/40とすることで良好な特性を有する樹脂組成物とすることができる。
【0011】
(a)本発明で用いる芳香族環を3個以上有するジアミンとしては、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(以下、BAPPと略す。)、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、4,4´−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン等が例示でき、単独でまたはこれらを組み合わせて用いることができる。BAPPは、ポリアミドイミド樹脂の特性のバランスとコスト的に他のジアミンより特に好ましい。芳香族環数の好ましい範囲は3〜6程度である。
【0012】
(b)本発明で用いるシロキサンジアミンとしては、下記一般式(1式)で表されるものが良好に用いられる。
【化1】
一般式(1式)中R10、R11は2価の有機基を示し、R12〜R15はアルキル基、フェニル基または置換フェニル基を示し、nは1〜15の整数を示す。
【0013】
これらの中でもジメチルシロキサン系両末端アミンであるアミノ変性シリコーンオイル X−22−161AS(アミン当量450)、X−22−161A(アミン当量840)、X−22−161B(アミン当量1500)(以上、信越化学工業株式会社製商品名)、BY16−853(アミン当量650)、BY16−853B(アミン当量2200)(以上、東レダウコーニングシリコーン株式会社製商品名)などが市販品として挙げられ使用することができる。これらは単独でまたは組み合わせて用いることができる。
【0014】
(d)本発明で用いる芳香族ジイソシアネートとして、4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート(以下、MDIと略す。)、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ナフタレン−1,5−ジイソシアネート、2,4−トリレンダイマー等が例示できる。これらは単独でまたは組み合わせて用いることができる。
本発明では、ジイミドジカルボン酸と芳香族ジイソシアネートとをモル比1.0/1.0〜1.0/1.5で反応させることが好ましく、芳香族ジイソシアネートのモル比が1.0未満であると、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂の可撓性が低下してくるため好ましくなく、芳香族ジイソシアネートのモル比が1.5を超えても同様となるので好ましくない。
【0015】
このようなシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂の製造方法の一例を次に示す。芳香族環を3個以上有するジアミン、シロキサンジアミンおよび無水トリメリット酸(TMA)を、N−メチル−2−ピロリドン等の非プロトン性極性溶媒の存在下に、50〜90℃で反応させる。その後、トルエン等の水と共沸可能な芳香族炭化水素を非プロトン性極性溶媒の0.1〜0.5質量比で投入し、120〜180℃で反応を行ってジイミドジカルボン酸を含む溶液を得る。好ましくは、ここで約190℃まで温度を上げて前記芳香族炭化水素を溶液から除去する。次いで、溶液を室温に戻し、芳香族ジイソシアネートを投入し、190℃程度で約2時間反応させてシロキサン構造を有するポリアミドイミド樹脂の極性溶媒溶液を得ることができる。
【0016】
次に、本発明で用いる熱硬化性樹脂について説明する。
本発明では、ポリアミドイミド樹脂中のアミド基と反応し得る有機基を有する熱硬化性樹脂が好ましい。熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ビスマレイミド樹脂、トリアジン−ビスマレイミド樹脂、フェノール樹脂等が挙げられ、グリシジル基を有するエポキシ樹脂がより好ましい。ポリアミドイミド樹脂100重量部に対し熱硬化性樹脂1〜200重量部用いるのが好ましい。
本発明では、最終的に樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含むように、ポリアミドイミド樹脂及び熱硬化性樹脂を配合する。
例えば、使用するポリアミドイミド樹脂のアミド基量PA重量%、樹脂骨格中ケイ素量PB重量%、熱硬化性樹脂のアミド基量EA重量%、樹脂骨格中ケイ素量EB重量%、の場合、ポリアミドイミド樹脂100重量部に対して熱硬化性樹脂C重量部は、以下の関係を満たす範囲から選択される。
4≦(PA×100+EA×C)/(100+C)≦10
1≦(PB×100+EB×C)/(100+C)≦15
【0017】
本発明では、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いることが180℃以下の温度で硬化が可能で、ポリアミドイミド樹脂のアミド基に対して反応して熱的、機械的、電気的特性を向上させるため好ましく、さらに、2個以上のグリシジル基を持つエポキシ樹脂とその硬化剤、2個以上のグリシジル基を持つエポキシ樹脂とその硬化促進剤または2個以上のグリシジル基を持つエポキシ樹脂と硬化剤と硬化促進剤を用いることが好ましい。またグリシジル基は多いほどよく、3個以上であればさらに好ましい。グリシジル基の数により、配合量が異なり、グリシジル基が多いほど配合量が少なくてもよい。
【0018】
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA、ノボラック型フェノール樹脂、オルトクレゾールノボラック型フェノール樹脂等の多価フェノール又は1,4−ブタンジオール等の多価アルコールとエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエーテル、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエステル、アミン、アミド又は複素環式窒素塩基を有する化合物のN−グリシジル誘導体、脂環式エポキシ樹脂などが挙げられる。
【0019】
樹脂組成物中に配合されるエポキシ樹脂の硬化剤、硬化促進剤は、エポキシ樹脂と反応するもの、または、硬化を促進させるものであれば制限なく、例えば、アミン類、イミダゾール類、多官能フェノール類、酸無水物類等が使用できる。
アミン類として、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン、グアニル尿素等が使用でき、多官能フェノール類としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、ビスフェノールA及びこれらのハロゲン化合物、さらにホルムアルデヒドとの縮合物であるノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂などが使用でき、酸無水物類としては、無水フタル酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、メチルハイミック酸等が使用できる。また、硬化促進剤としては、アルキル基置換イミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類が使用できる。
【0020】
これらの硬化剤または硬化促進剤の必要な量は、アミン類の場合は、アミンの活性水素の当量と、エポキシ樹脂のエポキシ当量がほぼ等しくなる量が好ましい。硬化促進剤であるイミダゾールの場合は、単純に活性水素との当量比とならず、経験的にエポキシ樹脂100重量部に対して、0.001〜10重量部となる。多官能フェノール類や酸無水物類の場合、エポキシ樹脂1当量に対して、フェノール性水酸基やカルボキシル基0.6〜1.2当量である。これらの硬化剤または硬化促進剤の量は、少なければ未硬化のエポキシ樹脂が残り、Tg(ガラス転移温度)が低くなり、多すぎると、未反応の硬化剤及び硬化促進剤が残り、絶縁性が低下する。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のアミド基とも反応することができるので考慮に入れることが好ましい。
【0021】
さらに、本発明の効果を損なわない範囲で、樹脂組成物に通常添加される充填剤、カップリング剤、難燃剤等を、本発明における樹脂組成物に適宜配合することができる。
【0022】
本発明の第一の樹脂フィルム及び本発明の第二の樹脂フィルム(以下、本発明の樹脂フィルムという。)は、アミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む上記の樹脂組成物が半硬化してなる。特に、本発明の第一の樹脂フィルムは、乾燥後の厚みが30μm以下である。乾燥後の厚み30μm以下であれば応力の発生が少なく、そりが低減できる。
また、本発明の第二の樹脂フィルムは、30℃での弾性率が500〜2500MPaである。500MPa以上であると接着性が、また、2500MPa以下であると熱応力が、それぞれ良好となる。
【0023】
本発明の樹脂フィルムは、基材の片面に前記樹脂組成物の層を形成し、半硬化(Bステージ)状態に乾燥させて作製するのが、特に保存性及び作業性の点で、好ましい。ここで、樹脂組成物を有機溶媒中で混合、溶解、分散して得られるワニスの形態で基材に塗布して層を形成するのがさらに好ましい。このような有機溶媒としては、溶解性が得られるものであれば制限するものでなく、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、スルホラン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
樹脂組成物を塗布して樹脂組成物の層を形成する基材としては、樹脂フィルムを次の段階で金属箔等と積層する際に、樹脂フィルムが剥がせるものであれば特に制限されないが、通常シート形状の、ポリエチレンテレフタレートやアルミ箔及びこれらの基材表面に離型処理を施した基材等が用いられる。厚さ30μm〜200μmの離型処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好適に用いられる。
【0024】
樹脂フィルムの製造条件等は特に制限するものではないが、ワニスに使用した溶剤が80重量%以上揮発していることが好ましい。このため、製造方法や乾燥条件等も制限はなく、乾燥時の温度は80℃〜180℃が一般的で、乾燥時間はワニスのゲル化時間との兼ね合いで特に制限はない。
【0025】
本発明の樹脂フィルムを得るための樹脂組成物に、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂と熱硬化性樹脂とを含む上記樹脂組成物を使用した場合、ワニス溶剤の揮発速度が速く、熱硬化性樹脂の硬化反応を促進しない150℃以下の低温でも残存溶剤分を5重量%以下にすることが可能な樹脂フィルムが得られる。これは、例えば、平滑な金属とプリプレグ、接着シート、接着剤付きポリイミドシート、接着性ポリイミドシート等との間に耐熱性接着シートとして用いると良好な密着性が得られる。これは耐熱性の高いポリアミドイミド樹脂をシロキサン変性しているためであり、残存溶剤分を少なくすることができるため銅箔との積層工程において溶剤揮発によるフクレの発生を防止したり、はんだ耐熱性に優れたものとすることができる。
【0026】
本発明の金属張積層板は、熱硬化性樹脂シートと金属箔との間に上記本発明の樹脂フィルムを挟んで加熱硬化したものである。
金属張積層板の製造方法は次の通りである。金属箔と、本発明の樹脂フィルムと、熱硬化性樹脂シート又はそれを複数枚積層した積層体とを重ね、通常150〜280℃、好ましくは180℃〜250℃の範囲の温度で、通常0.5〜20MPa、好ましくは1〜8MPaの範囲の圧力で、加熱加圧成形することにより金属張積層体を製造することができる。金属箔を使用して金属張積層板とすることにより、これに回路加工を施してプリント回路板とすることができる。
【0027】
熱硬化性樹脂シートとして、プリプレグ、接着シート、接着剤付きポリイミドシート及び接着性ポリイミドシート等が使用でき、いずれの場合も上記の熱硬化性樹脂シートの場合に準じて、本発明の樹脂フィルムを挟み加熱加圧して金属箔積層体を製造することができる。
【0028】
本発明に用いられる金属箔は、銅箔やアルミニウム箔が一般的に用いられるが、通常積層板に用いられている5〜200μmのものを使用できる。また、ニッケル、ニッケル−リン、ニッケル−スズ合金、ニッケル−鉄合金、鉛、鉛−スズ合金等を中間層とし、この両面に0.5〜15μmの銅層と10〜300μmの銅層を設けた3層構造の複合箔あるいはアルミニウムと銅箔を複合した2層構造複合箔を用いることができる。金属箔の表面粗さはRzで5.5以下のものを使用することが本発明の接着性に起因する微細回路形成性、高周波特性を得る上で好ましく、Rzが2.0以下であるとさらに好ましい。
【0029】
【実施例】
以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(合成例1)
環流冷却器を連結したコック付き25mlの水分定量受器、温度計、撹拌器を備えた1リットルのセパラブルフラスコに
芳香族環を3個以上有するジアミンとして2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(以下、BAPPという。)43.1g(0.105mol)、
シロキサンジアミンとして反応性シリコーンオイル KF8010(信越化学工業株式会社製商品名、アミン当量445)40.1g(0.045mol)、
TMA(無水トリメリット酸)60.5g(0.315mol)、
非プロトン性極性溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPという。)440g
を仕込み、80℃で30分間撹拌した。
そして水と共沸可能な芳香族炭化水素としてトルエン100mlを投入してから温度を上げ約160℃で2時間環流させた。水分定量受器に水が約5.4ml以上たまっていること、水の留出が見られなくなっていることを確認し、水分定量受器にたまっている留出液を除去しながら、約190℃まで温度を上げて、トルエンを除去した。その後、溶液を室温に戻し、芳香族ジイソシアネートとして4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート(以下、MDIという。)45.1g(0.18mol)を投入し、190℃で2時間反応させた。反応終了後、アミド基量8.1重量%、ケイ素量6.9重量%のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液を得た。
【0030】
(合成例2)
環流冷却器を連結したコック付き25mlの水分定量受器、温度計、撹拌器を備えた1リットルのセパラブルフラスコに芳香族環を3個以上有するジアミンとしてBAPP 41.1g(0.1mol)、シロキサンジアミンとして反応性シリコーンオイル KF8010(信越化学工業株式会社製商品名、アミン当量450)90.0g(0.10mol)、TMA(無水トリメリット酸)80.7g(0.42mol)を、非プロトン性極性溶媒としてNMP 505gを仕込み、80℃で30分間撹拌した。そして水と共沸可能な芳香族炭化水素としてトルエン100mlを投入してから温度を上げ約160℃で2時間環流させた。水分定量受器に水が約7.2ml以上たまっていること、水の留出が見られなくなっていることを確認し、水分定量受器にたまっている留出液を除去しながら、約190℃まで温度を上げて、トルエンを除去した。その後、溶液を室温に戻し、芳香族ジイソシアネートとしてMDI 60.1g(0.24mol)を投入し、190℃で2時間反応させた。反応終了後、アミド基量7.4重量%、ケイ素量10.9重量%のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液を得た。
【0031】
(合成例3)
環流冷却器を連結したコック付き25mlの水分定量受器、温度計、撹拌器を備えた1リットルのセパラブルフラスコに芳香族環を3個以上有するジアミンとしてBAPP 55.4g(0.135mol)、シロキサンジアミンとして反応性シリコーンオイル X−22−161B(信越化学工業株式会社製商品名、アミン当量1560)46.8g(0.015mol)、TMA(無水トリメリット酸)60.5g(0.315mol)を、非プロトン性極性溶媒としてNMP 485gを仕込み、80℃で30分間撹拌した。そして水と共沸可能な芳香族炭化水素としてトルエン100mlを投入してから温度を上げ約160℃で2時間環流させた。水分定量受器に水が約5.4ml以上たまっていること、水の留出が見られなくなっていることを確認し、水分定量受器にたまっている留出液を除去しながら、約190℃まで温度を上げて、トルエンを除去した。その後、溶液を室温に戻し、芳香族ジイソシアネートとしてMDI 45.1g(0.18mol)を投入し、190℃で2時間反応させた。反応終了後、アミド基量7.2重量%、ケイ素量9.0重量%のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液を得た。
【0032】
(比較合成例1)
環流冷却器を連結したコック付き25mlの水分定量受器、温度計、撹拌器を備えた2リットルのセパラブルフラスコに芳香族環を3個以上有するジアミンとしてBAPP 24.6g(0.06mol)、シロキサンジアミンとして反応性シリコーンオイル X−22−161A(信越化学工業株式会社製商品名、アミン当量805)225.4g(0.14mol)、TMA(無水トリメリット酸)80.7g(0.42mol)を、非プロトン性極性溶媒としてNMP 725gを仕込み、80℃で30分間撹拌した。そして水と共沸可能な芳香族炭化水素としてトルエン150mlを投入してから温度を上げ約160℃で2時間環流させた。水分定量受器に水が約7.2ml以上たまっていること、水の留出が見られなくなっていることを確認し、水分定量受器にたまっている留出液を除去しながら、約190℃まで温度を上げて、トルエンを除去した。その後、溶液を室温に戻し、芳香族ジイソシアネートとしてMDI 60.1g(0.24mol)を投入し、190℃で2時間反応させた。反応終了後、アミド基量4.9重量%、ケイ素量21.7重量%のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液を得た。
【0033】
実施例1
合成例1のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分30重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有多官能エポキシ樹脂)30g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3gを配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置してアミド基量6.4重量%、ケイ素量5.6重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0034】
実施例2
合成例2のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分35重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有多官能エポキシ樹脂)35g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3gを配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置してアミド基量5.9重量%、ケイ素量8.7重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0035】
実施例3
合成例3のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分30重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有多官能エポキシ樹脂)30g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3gを配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置してアミド基量5.7重量%、ケイ素量7.2重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0036】
実施例4〜6
合成例1のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分30重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有多官能エポキシ樹脂)をそれぞれ12g、36g、48g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾールをそれぞれ0.2g、0.4g、0.8g配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置し、アミド基量がそれぞれ7.3重量%、6.2重量%、5.8重量%、ケイ素量がそれぞれ6.3重量%、5.4重量%、4.9重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0037】
比較例1
比較合成例1のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分35重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有エポキシ樹脂)36g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3gを配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置してアミド基量3.9重量%、ケイ素量17.4重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0038】
比較例2
合成例3のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂のNMP溶液 200g(樹脂固形分35重量%)とエポキシ樹脂としてZX−1548−2(東都化成株式会社製商品名、リン含有エポキシ樹脂)120g(樹脂固形分50重量%のジメチルアセトアミド溶液)、2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.8gを配合し、樹脂が均一になるまで約1時間撹拌した後、脱泡のため24時間、室温で静置してアミド基量3.6重量%、ケイ素量4.5重量%の樹脂組成物ワニスとした。
【0039】
(フィルム及び接着性評価用金属張り積層板の作製)
実施例1〜6及び比較例1、2で作製したワニスを厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人株式会社製商品名ピューレックス)に乾燥後の厚みがそれぞれ10μm、20μmになるように塗布し、130℃で20分加熱、乾燥して揮発分5〜7重量%のフィルムを得た。
銅箔(日本電解株式会社製品名SLP−100)、プリプレグ(日立化成工業株式会社製品名I−671)4枚、実施例及び比較例のフィルム、表面粗さRz=1.8の銅箔(厚さ18μm)を順次重ね、230℃、90分、4.0MPaのプレス条件で両面銅張積層板を作製した。
比較のため、銅箔(日本電解株式会社製品名SLP−100)、プリプレグ(日立化成工業株式会社製品名I−671)4枚を重ね、この上に直接表面粗さRz=1.8の異なる銅箔(厚さ18μm)を重ね、230℃、90分、4.0MPaのプレス条件で両面銅張積層板を作製した(比較例3)。
【0040】
(フィルム弾性率及び接着強度の評価)
実施例1〜6及び比較例1、2のフィルムについて動的粘弾性測定装置(レオロジー社製DVE)を使用して30℃での弾性率を測定し結果を表1に示した。
また得られた両面銅張り積層板の銅箔について90度方向の引き剥がし強さを接着強度として測定し、結果を表1にまとめて示した。実施例1〜6のいずれのフィルムを使用した場合にも0.6〜1.0kN/mであった。アミド基量、ケイ素量及び30℃での弾性率が本発明の範囲から外れた比較例1やアミド基量、ケイ素量が本発明の範囲から外れた比較例2のフィルムを使用したもの及びフィルムを挟まなかった比較例3では0.1〜0.2kN/mの接着強度しか得られなかった。
【0041】
【表1】
【0042】
(はんだ耐熱性の評価)
作製した両面銅張り積層板を20mm×20mmに切断した試料を260℃、288℃及び300℃のはんだ浴に浸漬しはんだ耐熱性を測定した。実施例1〜6のフィルムを使用したものは、いずれの温度でも3分以上、ふくれ、剥がれ等の異常が見られなかった。比較例1、2のフィルムを使用したもの及びフィルムを挟まなかったものは60秒以内にフクレがみられた。
【0043】
(接着性及び回路形成性の評価)
銅箔(日本電解株式会社製品名SLP−100)、プリプレグ(日立化成工業株式会社製品名I−671)4枚、実施例1又は実施例2の厚み10μmのフィルム、表面粗さの異なる銅箔(厚さ18μm)を順次重ね、230℃、90分、4.0MPaのプレス条件で両面銅張積層板を作製した。また比較のために比較例1のフィルムを使用した両面銅張積層板、プリプレグ上に本発明のフィルムを挟まずに積層して比較例3の両面銅張積層板を作製した。表面粗さの異なる銅箔としてはRz=8.0、Rz=5.5、Rz=1.8の銅箔及びRz=2.0の銅箔として電解銅箔の光沢面を使用した。
各両面銅張積層板の表面粗さを変えた銅箔について90度方向の引き剥がし強さを接着強度として測定した。結果を表2に示した。また、厚み10μmのフィルムに代えて厚み20μmのフィルムを用いた結果も表2と殆ど同様の傾向を示した。
【0044】
【表2】
【0045】
積層板の銅箔側に全面レジストを形成した。また表面粗さを変えた銅箔側に通常のレジストレーションによりL/Sが20μm/20μm、30μm/30μm、40μm/40μm、50μm/50μmの櫛形パターンを形成し、塩化第二鉄水溶液で不要部分の銅をエッチングした後、レジストを剥離して回路を形成した。
得られた回路を顕微鏡観察しラインの形状から回路形成性を評価した。結果を表2に併せて示した。
Rz=8.0の銅箔では銅箔粗面に由来する残銅を除去するのに時間がかかり、結果的にラインのトップが細い蒲鉾型となる傾向が見られた。このため40μm/40μmが良好な回路を得る限界であった。Rz=5.5より表面粗さの小さい銅箔では残銅が短時間で除去でき特にRzが2.0以下の銅箔を使用したものでは回路断面は矩形に近づいた。回路形成性も20μm/20μmが形成できた。また比較例1のフィルムを使用したものや本発明のフィルムを挟んでいないものは接着強度が低く、エッチングの際に回路に剥離などが起き、部分的に回路形成に至らなかった。
【0046】
【発明の効果】
本発明における接着フィルムは平滑な金属箔との接着が可能である。Bステージ状でプリプレグ等と金属との間に挟みこむことで、接着性を補助するフィルムとして使用することができ、これを用いて得られる金属張り積層板は耐熱性に優れ、微細回路形成性、平滑回路形成性に優れる。
Claims (6)
- 樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む樹脂組成物が半硬化してなり、厚み30μm以下である樹脂フィルム。
- 樹脂組成物中のアミド基量が4〜10重量%でかつ樹脂骨格中にケイ素を1〜15重量%含む樹脂組成物が半硬化してなり、30℃での弾性率が500〜2500MPaである樹脂フィルム。
- 前記樹脂組成物が、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂及びエポキシ樹脂を含む請求項1または2記載の樹脂フィルム。
- 熱硬化性樹脂シートと金属箔との間に請求項1〜3のいずれか記載の樹脂フィルムを挟んで加熱硬化してなる金属張り積層板。
- 前記熱硬化性樹脂シートが、プリプレグ、接着シート、接着剤付きポリイミドシート及び接着性ポリイミドフィルムから選ばれる請求項4記載の金属張り積層板。
- 金属箔の樹脂フィルムとの接着面の表面粗さがRzで5.5以下である請求項4または5記載の金属張り積層板。
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| JP2002214716A JP2004051910A (ja) | 2002-07-24 | 2002-07-24 | 樹脂フィルム及び金属張り積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2002214716A JP2004051910A (ja) | 2002-07-24 | 2002-07-24 | 樹脂フィルム及び金属張り積層板 |
Publications (1)
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| JP2004051910A true JP2004051910A (ja) | 2004-02-19 |
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| JP2002214716A Pending JP2004051910A (ja) | 2002-07-24 | 2002-07-24 | 樹脂フィルム及び金属張り積層板 |
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| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070264490A1 (en) * | 2004-10-14 | 2007-11-15 | Kaneka Corporation | Plating Target Material, Polyamic Solution And Polyimide Resin Solution Which Are Used To Form The Plating Target Material, And Printed-Wiring Board Using THem |
| WO2008133293A1 (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-06 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 接着シート |
| US10640614B2 (en) | 2016-07-28 | 2020-05-05 | 3M Innovative Properties Company | Segmented silicone polyamide block copolymers and articles containing the same |
| US10865330B2 (en) | 2016-07-28 | 2020-12-15 | 3M Innovative Properties Company | Segmented silicone polyamide block copolymers and articles containing the same |
-
2002
- 2002-07-24 JP JP2002214716A patent/JP2004051910A/ja active Pending
Cited By (5)
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| US20070264490A1 (en) * | 2004-10-14 | 2007-11-15 | Kaneka Corporation | Plating Target Material, Polyamic Solution And Polyimide Resin Solution Which Are Used To Form The Plating Target Material, And Printed-Wiring Board Using THem |
| US8889250B2 (en) * | 2004-10-14 | 2014-11-18 | Kaneka Corporation | Plating target material, polyamic solution and polyimide resin solution which are used to form the plating target material, and printed-wiring board using them |
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