JP2003289151A - 光電変換装置の製造方法 - Google Patents
光電変換装置の製造方法Info
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Abstract
高い光電変換装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 n型の電荷輸送層、界面層、p型の電荷
輸送層を順次に積層形成した光電変換装置の製造方法で
あって、n型の電荷輸送層は酸化亜鉛針状結晶を成長さ
せることによって形成し、p型の電荷輸送層は電着でC
u2Oを成長させることによって形成する。酸化亜鉛針
状結晶は電着により成長させる。酸化亜鉛針状結晶は亜
鉛若しくは酸化亜鉛若しくは亜鉛と酸化亜鉛との混合物
を加熱することにより気化させ成長させる。n型の電荷
輸送層は少なくとも一種類以上の微粒子を酸化亜鉛針状
結晶上に吸着させる。微粒子は径が30nm以下であ
る。界面層は界面層を溶解した溶液中にn型の電荷輸送
層を浸積させることによって形成している。界面層は色
素である。
Description
造方法に関し、特にn型の電荷輸送層と、p型の電荷輸
送層と、これらの電荷輸送層間に存在する界面層とを少
なくとも有する光電変換装置の製造方法に関する。
る方法としては、シリコンやガリウム−砒素などの半導
体接合を用いた太陽電池が一般的である。中でも半導体
のpn接合を用いた単結晶シリコン太陽電池や多結晶シ
リコン太陽電池、pin接合を用いたアモルファスシリ
コン太陽電池がよく知られており、実用化が進みつつあ
る。
高く、また製造自体でエネルギーを多く消費するので、
導入コストや消費エネルギーを回収するには、長期間の
使用が必要がある。現在の普及のネックになっているの
は主にこのコストにある。
CdTeやCuIn(Ga)Seなどの実用化研究も進
展しているが、これらの材料系では環境問題や資源的な
問題が提起されている。
と電解質溶液との界面で起きる光電気化学反応を利用し
た湿式太陽電池が報告されている。この湿式太陽電池に
おいて用いられる酸化チタン、酸化錫等の金属酸化物半
導体は、前記乾式太陽電池において用いられるシリコ
ン、ガリウム−砒素等と比較して、低コストで製造が可
能であり、特に酸化チタンは光電変換特性と安定性との
両面において優れていることから、将来のエネルギー変
換材料として期待されている。
は、バンドギャップが3eV以上と広いため、太陽光の
約4%である紫外光しか利用できず、変換効率が十分に
高いとは言えなかった。
着した光化学電池(色素増感太陽電池)が研究された。
初期の頃は半導体の単結晶電極が用いられてきた。この
電極としては、酸化チタン、酸化亜鉛、硫化カドミウ
ム、酸化錫等がある。
いため効率が低くコストが高かったため、半導体電極を
多孔質にする試みがなされた。坪村らは微粒子を焼結し
た多孔質酸化亜鉛からなる半導体電極に色素を吸着させ
効率が改善した報告をしている(NATURE,261(1976)p4
02)。
らに改善してシリコン太陽電池並みの性能が得られたこ
とを報告している(J. Am. Chem. Soc. 115(1993)638
2、米国特許第5350644号)。ここでは色素にル
テニウム系色素を用い、半導体電極としてはアナターゼ
型の多孔質酸化チタン(TiO2)を用いている。
で改良した多孔質半導体電極も報告されている。例え
ば、酸化ニオブ微粒子を用いてGraetzel型セルを作成し
た特開平9−237641号公報である。さらに、酸化
亜鉛微粒子と酸化錫微粒子の混合により高効率のセルを
作成したこともTennakone等によって報告されている
(J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,15(1999))。
にCuIを用いてGraetzel型セルの全てを固体化する方
法についても報告している(Semicond. Sci. TechNO
l.,1995,10.1689)。
用いた光化学電池(以下、本明細書では、Graetzel型セ
ルという)の概略構成を示す模式的な断面図である。
ス)であり、65はその表面に形成した透明電極であ
り、61はアナターゼ型多孔質酸化チタン層であり酸化
チタン微粒子同士が接合したポーラス状の接合体からで
きている。また、62はその酸化チタン微粒子表面に接
合させた色素であり界面層として作用する。
明する。図6左側から光を入射させる。すると、入射光
により界面層62を構成する色素中の電子が励起され、
酸化チタンの伝導帯に移動する。電子を失って酸化状態
にある色素は迅速に電解液63のヨウ素イオンから電子
を受け取って還元され元の状態に戻る。酸化チタン層6
1に注入された電子は、酸化チタン微粒子の間をホッピ
ング伝導などの機構により移動しアノード65に到達す
る。また、色素に電子を供給して酸化状態(I 3 -)にな
ったヨウ素イオンはカソード66から電子を受け取って
還元され、元の状態(I-)に戻る。
で生成した電子とホールが効率良く分離、移動するため
には、色素の励起状態の電子のエネルギー準位はTiO
2の伝導帯より高い必要があり、色素のホールのエネル
ギー準位はレドックス準位より低い必要性がある。
池にとって代わるためには今まで以上に高いエネルギー
変換効率や、さらに高い短絡電流、開放電圧、形状因
子、耐久性が必要になってくる。
としては、スパッタリング法、蒸着法、CVD法、電着
法等の様々な方法で現在作成することが可能である。特
に電着法は、大面積化や低コスト化を目的とした作成方
法として注目されている。例えば、伊崎氏らが導電性基
板上に酸化亜鉛膜を均一に作成したことが報告している
(Appl. PHys. Lett., Vol.68, NO.17, 1996 243
9、 J. Electrochem. Soc., 146, 4517 (1999)、特開
平8−217443号公報、特開平8−260175号
公報)。
として"J. Crystal Growth, 102, 965, (1990)"に、
金属Znの気相酸化を用いてテトラポッド状の針状酸化
亜鉛結晶を920度で製造したことが報告されている。
99)pp.L586"に、大気開放型のCVD法を用いて直径
1.5μmで、長さが100μmに達する酸化亜鉛の針
状結晶が製造できることを報告している。これらの成膜
法に対して、電着法は電解液中で電着を行うため、真空
にする必要がなく高温度に保持する必要もないので低コ
スト化も基板の大面積化も可能である。
々の研究が古くからなされている。このCu2Oは一般
的に整流器、光電池、赤色顔料、船底塗料などに使用さ
れていたが現在ではそれぞれの用途に異なる材料が主流
となって用いられるケースが多い。
新たな活用方法について常に研究され続けている素材で
ある。これらの製法として、水酸化カリウムでアルカリ
性にした塩化スズ(II)溶液に硫酸銅溶液を加えて沈殿
させる方法がある。しかし、この方法では安定したp型
の半導体は得ることが難しい。また、スパッタリング法
等のPVD法を用いても作成できるが、コスト面やエネ
ルギー消費面に課題が多い。しかし、電着法は2eVの
バンドギャップを有するCu2Oが大面積に成膜でき、
さらに低コストで製造できる方法として近年注目されて
いる。
ウムを混合した水溶液中で電位を印加することにより,
電極上にCu2Oを析出させる方法がJay A. Switzer等
によって報告されている(Chem.Mater.1996,8,2499)
。
u2Oの電着を、Cu(NO3)2水溶液を用いて成膜し
たことを報告している(Electrochemical and Solid-St
ate Letters,2(11)559(1999))。さらに、色素増感
太陽電池のp層の一部にCu2Oを使用した例が特開2
001−156314等に報告されている。
は、色素増感半導体電極にチタニア微粒子を分散させた
溶液を透明導電膜付きの基板上に塗布し、乾燥後に高温
焼結して得られた酸化チタン膜を用いていたので、透明
電極とチタニア微粒子の界面や、酸化チタン微粒子間の
界面において電子伝導が散乱される傾向があった。
面、及び酸化チタン微粒子同士の界面に生じる内部抵抗
が大きくなり、その結果光電変換効率が低下する原因と
なっていた。これは、チタニア以外の微粒子を用いたと
きも、同様の問題が発生していた。
体で構成されていたため、透明電極近傍の微粒子には色
素を吸着させるのに時間がかかり、また電解液のゲル化
やCuI、CuSCN等の完全固体化時のp層となる物
質の染み込みがとても困難などの問題点があった。
に行われ、変換効率が高い光電変換装置の製造方法を提
供することを課題とする。
の電荷輸送層のしみ込みがより確実な半導体電極を有す
る光電変換装置の製造方法を提供することを課題とす
る。
装置の製造方法を提供することを課題とする。
めに、本発明は、n型の電荷輸送層、界面層、p型の電
荷輸送層を順次に積層形成した光電変換装置の製造方法
であって、前記n型の電荷輸送層は酸化亜鉛針状結晶を
成長させることによって形成し、前記p型の電荷輸送層
は電着でCu2Oを成長させることによって形成するこ
とを特徴とする。
り成長させることが好ましい。
酸化亜鉛若しくは亜鉛と酸化亜鉛との混合物を加熱する
ことにより気化させ成長させることが好ましい。
一種類以上の微粒子を酸化亜鉛針状結晶上に吸着させる
ことが好ましい。
ることが好ましい。
にn型の電荷輸送層を浸積させることによって形成して
いる。
て、図面を用いて説明する。
特徴は、電子やホールの授受及び移動がスムーズに行わ
れ、内部抵抗や再結合確率が低く変換効率が高い電子移
動型の電荷輸送層とすることである。この光電変換装置
及びその製造方法に関する構成等を以下に説明する。
て>まず本実施形態の光電変換装置の構成について説明
する。
増感型セルでは、色素1層の光吸収率が十分ではないた
めに、表面積を大きくして実質的な光吸収量を多くして
いる。本発明は色素増感に限らず、光吸収率が十分では
ないために表面積を大きくする構成の光電変換装置一般
に広く利用可能である。
el型セルの様に微粒子を分散、接合させる方法が簡単で
はあるが、電子の移動が十分効率的ではない問題があ
る。例えば上記Graetzel型セルにおいて酸化チタン半導
体層61を有するアノード透明電極65側から光入射を
行った場合と、カソード透明電極66側から光入射を行
った場合を比較すると、前者の方が光電変換効率がよい
場合が多い。
ではなく、光吸収により励起された電子が酸化チタン半
導体層61を移動してアノード透明電極65に到達する
確率が、透明電極から光励起位置が離れるに従って低下
していくことを示唆している。即ち、結晶粒界が多いGr
aetzel型セルでは十分効率的な電子移動が達成されてい
ないことを示唆している。
態の光電変換装置の構成を示す模式的な断面図である。
図1(a)〜図1(c)において、10は電極付き基
板、11は界面層修飾半導体結晶層、12は電荷輸送
層、13は電極付き基板である。
が設けられたガラス基板14からなり、界面層修飾半導
体結晶層11は酸化亜鉛針状結晶17とその表面上に形
成された界面層16、若しくは酸化亜鉛針状結晶17と
その表面上に形成された酸化物半導体微粒子結晶19と
さらにその表面上に形成された界面層16からなる。酸
化亜鉛針状結晶17は一方の電荷輸送層となり、この電
荷輸送層と酸化銅(I)結晶18との間に界面層16が
形成されることになる。
比較すると、針状結晶層の方が光励起により生成した電
子若しくはホールが集電極へ移動するまでに粒界により
散乱される確率が少なくなる。
晶の一端が電極に接合された状態で構成されている場合
には、電子若しくはホールの移動において、Graetzel型
セルと比較すると、粒界の影響はほどんど解消される。
化物半導体微粒子結晶そのものを塗布し結合させたもの
や、針状結晶上で酸化物半導体微粒子結晶に含まれる金
属及び酸化物半導体微粒子結晶に含まれる金属を含んだ
化合物を酸化させることにより生成したものなど全てを
含む。
型セルとを比較すると、粒界の影響がほとんど解消され
ることにより電子及びホールの移動が容易にでき、且つ
酸化物半導体微粒子結晶19が吸着しているため、粒界
の影響が小さいままラフネスファクターを向上すること
ができる。
針状結晶はn型ワイドギャップ半導体であるため、色素
の様な界面層16を挟んでp型の半導体である酸化銅
(I)結晶18を電着法により析出させている。従来の
電解液を用いる方法と比較して液漏れや蒸発することが
なく、さらに、n型及びp型の電荷輸送層が双方とも酸
化物であるため太陽電池としての耐久性が向上する。
によって決まる。
明電極との関係を示す図である。
と同様にn型の半導体結晶層側に透明電極を用い、p型
の半導体結晶層側は金属電極21を用いた例である。
成でp型の半導体結晶層側は透明電極22があり、界面
層までの照射光の吸収や反射が少なければどちらの構成
でもよい。
の光照射でも利用可能にできる構成もある。
組み合わせる電荷輸送層の製法に依存する。例えばPt
膜上への電着による針状結晶の作成の場合には、針状結
晶面からは光照射は出来なくなる。
化インジウム(ITO)やフッ素をドープした酸化錫
(FTO)等の透明導電膜を成膜し、その一部分にAu
やAg等の取り出し電極を設置する構成になる。
所謂ウィスカーであり、欠陥のない針状単結晶若しくは
螺旋転移等を含んだ針状結晶のことを指す。さらに、図
7(a)〜図7(c)に示したように針状結晶は1点よ
り多数の針状結晶が成長したものや、樹枝状に形成され
たものや、折れ線状に成長したものも含む。
端が平坦なものや先端が尖っているものや先端が平坦な
ものなどすべて含む。さらに、三角錐、四角錐、六角
錐、それ以外の多角錐状やその多角錐の先端が平坦なも
の、また三角柱、四角柱、六角柱、それ以外の多角柱
状、あるいは先端が尖った三角柱、四角柱、六角柱、そ
れ以外の多角柱状やその先端が平坦なものなども含ま
れ、さらに、これらの折れ線状構造も含まれるが、酸化
亜鉛針状結晶の断面の形状は六角形になりやすい傾向が
ある。
スペクト比は光電変換装置等のラフネスファクターの大
きいものや、より細いものが好まれる場合に5以上、で
きれば10以上、さらに100以上が好ましく、針状結
晶の横切断面の重心を通る最小長さも500nm以下で
あること、できれば100nm以下、さらに50nm以
下が好ましい。
軸配向させることが好ましい。ここでアスペクト比とは
針状結晶の横切断面が円形又は円形に近い状態の形状の
場合は直径に対する長さの比率をいい、針状結晶の横切
断面が六角形等の角形の場合は切断面の重心を通る最小
長さに対する長さの比率をいうものとする。なお、針状
結晶が円錐や角錐状の場合には、長さ方向に対する中間
点を上記横切断面とする。
るときは、針状結晶が図3(a)の様にガラス基板14
と平行に重なってしまう状態より、基板より直線状に成
長させた図1(b)や、樹枝状に成長させた図3(b)
に見られる様に針状結晶の末端部が透明電極層15に接
合させた状態で、ガラス基板14と垂直方向に形成され
ている方が好ましい。また、針状結晶の軸方向と基板の
主面とのなす角60°以上であることが好ましく、80
°以上であることがより好ましい。
よる製造方法について>本実施形態では、酸化亜鉛針状
結晶を電着法により作成する方法としては、3電極若し
くは2電極を使用して、少なくとも亜鉛イオンが含有さ
れた電解液に電極基板を浸して電位を印加することによ
り作成する方法がある。
る化合物としては、例えば硝酸亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜
鉛、炭酸亜鉛、酢酸亜鉛等が挙げられる。電解質として
これらの化合物の中から選んだ一種類の化合物でも、二
種類以上の混合させた化合物でも用いることができる。
は、高アスペクト比を得るためにより低濃度が好まれ、
1mmol/L〜0.05mol/L程度の範囲が適し
ており、さらに1mmol/L〜0.1mol/L程度
の範囲がより好ましい。
有機媒体、水、酸素等の気体を溶かした水等を用いる
が、扱いの容易さより水が好ましい。その作成装置の一
例として3電極で電着を行う作成装置を図5に示した。
2、作用極をビーカー54中の電解液55に浸して電位
を印加することにより、作用極53である導電性基板上
に酸化亜鉛針状結晶が成長する。この作成条件として、
少なくとも亜鉛塩が含有された電解質及びその電解質濃
度、IPAや水等の電解溶媒、電解電位値、電解液の温
度、電着時間、酸素などの活性気体濃度、電解液の対流
条件等を変える他に、添加剤の種類、及びその添加量も
変えればよい。ここで、添加剤とは、主成分となる亜鉛
を含有する塩以外に電解液中に混入した試薬を指す。
は、硝酸亜鉛濃度は1mmol/L〜0.1mol/L
が好ましく、Ag/AgClの参照極に対する作用極の
電解電位は−0.9V〜1.5Vが好ましい。さらに、
電解液として水を用いた場合、電解液温度はマントルヒ
ーター56を用いて85℃〜90℃にすることがアスペ
クトの大きい針状結晶が成長する。さらに、適当な添加
剤を電解液中に混入することによりアスペクト比を増加
させることができる。
による製造方法について>本実施形態では、加熱方法と
して抵抗加熱法以外にも、レーザー加熱法、高周波誘導
加熱法等の方法が挙げられるが、ここでは一例として抵
抗加熱機構を用いた例で本発明を具体的に説明する。
107内に配置した電極106に抵抗加熱体であるるつ
ぼ105を接続し、電流印加によりるつぼ105を加熱
させると、るつぼ105内の原料104が蒸発し、対向
した基体ホルダー102に付けた基板101に付着でき
るように設計してある。
108から入れられ、反応容器の中を上昇して反応容器
上部のガス排気ライン109から排気される。基板10
1は適度な温度に保持できるように基板ホルダー102
の裏には基板ヒーター103が設けられている。
は、まずガス導入ラインからキャリアガス及び酸化性ガ
スを導入して反応容器101を適度な圧力に保持する。
このときキャリアガスは不活性ガスであるHe、Arや
窒素などが好ましく、酸化性ガスには酸素が好ましい。
場合によっては空気や水も使用可能な場合がある。
000Pa程度が用いられるが、その限りではない。次
に基板ヒーター103により基板温度を酸化亜鉛針状結
晶に都合のよい温度に設定する。そのために図示はして
いないが、基板近傍に熱電対を設置させておくことが好
ましい。
存するが数100℃〜1000℃程度が一般的である。
そして、電極106から電流を流し、原料104が入っ
ているるつぼ105を加熱する。るつぼ105には普通
タングステン線にアルミナるつぼを接合したものが使用
されるが、その他のものも勿論使用可能である。
つぼ近傍にも熱電対を設置させておくことが好ましい。
るつぼ105が加熱され、原料104が蒸発を始める
と、蒸気は上昇気流に乗って基板101へと向かい、基
板へ付着する。
原料の酸化が進行するが、どこの時点で酸化が進行する
かは圧力、酸素濃度、温度などに依存する。
達するまでの間に酸化亜鉛超微粒子等が成長する場合も
ある。
て、基板上にも酸化亜鉛超微粒子等が成長する場合もあ
る。
いる場合などは、基板は透明電極であることが好まし
い。
の製造方法について>本実施形態では、酸化亜鉛針状結
晶上微粒子の製造方法として、例えば、酸化物半導体微
粒子のコロイド溶液を作成して、そのコロイド溶液を塗
布し焼成させて、酸化物半導体微粒子吸着結晶を作成し
ている。
のアルコキシドを溶媒に溶解して、その溶液を塗布し焼
成させることで、酸化物半導体吸着結晶を作成する方法
がある。特に、C2〜C4の低級金属アルコキシドである
テトラエトキシ金属錯体、テトラ−i−プロポキシ金属
錯体、テトラ−n−ブトキシ金属錯体等を有機溶媒に溶
解して使用することが好ましい。
とにより、粒界の影響が小さくラフネスファクター(実
際の表面積/見かけの表面積)が向上することができ
る。このとき、酸化物半導体微粒子結晶19の直径が1
00nm以下、できれば30nm以下の微粒子が好まし
い。
くとも酸化亜鉛針状結晶の表面に存在することが好まし
い。ここで、酸化物半導体微粒子とは、エネルギーギャ
ップが大きなものが好ましく、具体的にはエネルギーギ
ャップが3eV以上のものが好ましく、例えばTi
O2、ZnO 、SnO2などであり、それらがエッチン
グされたものも微粒子に含む。
とは、TiO2、ZnO 、SnO2のTi,Zn,Sn
にあたり、それを核とする金属錯体を焼成することによ
りそれぞれの酸化物が生成できる。
分な場合でもラフネスファクターが大きい酸化物半導体
微粒子吸着結晶を作成することができ、且つ電子若しく
はホールの移動において粒界の影響が少ない酸化物半導
体微粒子吸着結晶を作成することができる。
法について>n型の半導体結晶層を用いた場合、界面層
を挟んでp型の電荷輸送層を作成する必要がある。この
p型の電荷輸送層として、全固体化を行うためにCu2
Oを用いた。本発明における酸化銅(I)結晶を電着法
により作成する方法としては、3電極若しくは2電極を
使用して、少なくとも銅イオンが含有された電解液に電
極基板を浸して電位を印加することにより酸化銅(I)
結晶を作成することができる。
結晶間に容易に電解液が染み込み、すべての隙間に欠陥
無しで析出させることが可能であり、低温プロセスのた
め扱いも容易である。その作成装置の一例として3電極
で電着を行う装置を図5に示した。
である界面層吸着酸化亜鉛電極53をビーカー54中の
電解液55に浸して電位を印加することにより、界面層
吸着酸化亜鉛電極53上に酸化銅(I)結晶が成長す
る。この作成条件として、少なくとも銅塩が含有された
電解液、濃度、IPAや水等の電解溶媒、電解電位値、
電解液の温度、電着時間、酸素などの活性気体濃度、電
解液の対流条件、錯化剤、その他添加剤等のパラメータ
を変えることにより最適条件を見出すことができる。
化合物としては、例えば硝酸銅、硫酸銅、塩化銅、炭酸
銅、酢酸銅等が挙げられる。このCu2Oの析出条件の
例として、CuSO4の銅塩を用いた場合は、錯化剤と
pHを調整するためのアルカリ溶液を混入することが好
ましい。
とき、乳酸の濃度はCuSO4に対して2倍以上が好ま
しく、さらには4倍以上の方が、より容易に錯体化する
ため好ましい。また、アルカリ溶液を混入する前の濃度
として、CuSO4は0.1M〜0.5Mであることが
より容易に作成できるため、好ましい。
を混入する過程において、水酸化ナトリウム水溶液を用
いることが好ましい。さらに、pHとして7−13の間
が好ましく、結晶性を考慮すると8−12の間がさらに
好ましい。電解電位はpHや電解液温度に依存されるた
め一概に範囲を指定できないが、銀/塩化銀参照極を用
いて−0.2V〜−0.8Vであることが好ましい傾向
がある。
変換装置の界面層として、各種の半導体や色素が利用可
能である。半導体としてはi型の光吸収係数が大きなア
モルファス半導体や有機半導体が好ましい。
ポリメチン色素、ペリレン色素、ローズベンガル、エオ
シンY、マーキュロクロム、サンタリン(Santalin)色
素、シアニン(Cyanin)色素などの有機色素や天然色素
が好ましい。
結合基を有していることが好ましい。好ましい結合基と
しては、COOH基、シアノ基、PO3H2 基、又は、
オキシム、ジオキシム、ヒドロキシキノリン、サリチレ
ート及びαケトエノレートのようなπ伝導性を有するキ
レート化基が挙げられる。
に好ましい。本実施形態では、色素が金属錯体色素の場
合、ルテニウム錯体色素{Ru(dcbpy)2(SCN)2、(dc
bpy=2,2-bipyridine-4,4'-dicarboxylic acid)等}が
利用できるが、酸化・還元体が安定であることが重要で
ある。
ち光励起した色素のLUMO電位や半導体中の伝導帯電
位が、n型の電荷輸送層の伝導帯電位より高く、且つ界
面層で光励起により生成したホール電位が、p型の電荷
輸送層の価電子帯電位より低いことが必要である。
ルの再結合確率を低くすることも、光電変換効率を増大
させる上で重要となる。
晶層に隣接するように電極が設けられる。電極はこれら
の層の外側の全面に設けてもよいし一部に設けてもよ
い。光入射側の電極としては、インジウム−スズ複合酸
化物、酸化スズにフッ素をドープしたもの等からなる透
明電極が好適に用いられる。
い場合には、光入射側の電極として部分的な電極、例え
ばフィンガー電極などを設けることも可能である。光入
射側とはならない電極は、Cu,Ag,Al等からなる
金属電極が好適に用いられる。特に、n型の半導体結晶
層を光入射側として透明電極を用いたとき、p型の半導
体結晶層であるCu2O上に直接スパッタリング法等で
金属を成膜し、電極とすることが好ましい。
起電力装置に要求される耐久性に応じて適宜設計するこ
とができる。光入射側の基板は透光性である限り、ガラ
ス基板、プラスチック基板などが好適に用いられる。光
入射側とはならない基板としては、金属基板、セラミッ
ク基板などを適宜用いることができる。光入射側の基板
の表面には、SiO2などからなる反射防止膜を設ける
ことが好ましい。
兼ねさせることにより、電極とは別部材の基板を設けな
い様にしてもよい。
を用いて酸化亜鉛針状結晶を製造し、色素を吸着させた
後に、図5の電着装置を用いて酸化銅(I)結晶を成膜
し、光電変換装置を形成した実施例について図1(b)
を用いて説明する。
0Ω/□)を用意し、この基板を作用極53として2m
mol/L硝酸亜鉛水溶液55に浸し、−1.2V(v
s.Ag/AgCl:参照極51)の電位を5000秒間
印加を行った。
トルヒーター56でビーカー54内の電解液55を85
℃に加熱して行った。電解後、基板表面には酸化亜鉛針
状結晶が電極から図1(b)の様に成長していた。この
酸化亜鉛針状結晶の径は40nm〜50nmであり、長
さはその20倍〜30倍であった。
H)2)2(SCN)2を用いた。色素を蒸留エタノールに溶
解し、酸化亜鉛針状結晶電極を24時間浸して色素を電
極に吸着させた後取りだし、80℃で乾燥させた。
して0.4mol/L 硫酸銅(II)を3mol/L乳
酸中に混合させ、さらに0.5M水酸化ナトリウム水溶
液を用いてpH9にした電解液55に浸し、−0.6V
(vs. Ag/AgCl:参照極51)の電位を500
0秒間印加した。
ルヒーター56でビーカー54内の電解液55を85度
に加熱して行った。電解後、基板表面には酸化銅(I)
結晶が電極から成長していた。
ることによりセルを組み上げた。また、比較例として粒
径約100nmを主成分とした酸化亜鉛微粒子を熱処理
したものを用いて同様にセルを組み立てた。
た500Wのキセノンランプ光を対極側から照射した。
そしてこの時生じた光電変換反応による光電流の値を測
定した。その測定結果本発明のセルの方が短絡電流、光
電変換効率ともに5%程度大きかった。これは針状結晶
電極を用いたことによってn型の電荷輸送層の内部抵抗
が減少したことに起因すると考えられる。
を用いて酸化亜鉛針状結晶を製造し、酸化物半導体微粒
子を付着させ、色素を吸着させた後に、図5の電着装置
を用いて酸化銅(I)結晶を成膜し、光電変換装置を形
成した実施例について図1(c)を用いて詳述する。
0Ω/□)を用意し、この基板を作用極53として2m
mol/L硝酸亜鉛水溶液55に浸し、−1.2V(v
s.Ag/AgCl:参照極51)の電位を5000秒間
印加を行った。
トルヒーター56でビーカー54内の電解液55を85
℃に加熱して行った。電解後、基板表面には酸化亜鉛針
状結晶が電極から成長していた。この酸化亜鉛針状結晶
の径は40nm〜50nmであり、長さはその20倍〜
30倍であった。
分とした酸化錫コロイド溶液に浸漬させ、さらに酸素を
1.67×10-3L/s流しながら550℃で1時間焼
成を行い、図1(c)に示したように半導体混合結晶を
作成した。
H)2)2(SCN)2を用いた。色素を蒸留エタノールに溶
解し、酸化亜鉛針状結晶電極を24時間浸して色素を電
極に吸着させた後取りだし、80℃で乾燥させた。
53として0.4mol/L 硫酸銅(II)を3mol
/L乳酸中に混合させ、さらに0.5M水酸化ナトリウ
ム水溶液を用いてpH9にした電解液55に浸し、−
0.6V(vs. Ag/AgCl:参照極51)の電位
を5000秒間印加した。
ルヒーター56でビーカー54内の電解液55を85度
に加熱して行った。電解後、基板表面には酸化銅(I)
結晶が電極から成長していた。
ることによりセルを組み上げた。また、比較例として粒
径約100nmを主成分とした酸化亜鉛微粒子を熱処理
したものを用いて同様にセルを組み立てた。
た500Wのキセノンランプ光を対極側から照射した。
そしてこの時生じた光電変換反応による光電流の値を測
定した。その測定結果本発明のセルの方が短絡電流、光
電変換効率ともに8%程度大きかった。これは針状結晶
電極を用いたことによってn型の電荷輸送層の内部抵抗
が減少したことに起因すると考えられる。
を用いて酸化亜鉛針状結晶を製造し、色素を吸着させた
後に、図5の電着装置を用いて酸化銅(I)結晶を成膜
し、光電変換装置を作成した実施例について図1(b)
を用いて詳述する。
れたZn粉を原料104として入れ、装置内に設置し
た。基板には厚み1mmの導電性ガラス(FドープSn
O2、10Ω/□)を用い、450℃〜550℃に設定
した。次に反応容器内に2%の酸素が混合された窒素ガ
スを100mL/min流し、100000Paに保持
した。
に加熱してZnを徐々に約60分間蒸発させた。基板表
面には酸化亜鉛針状結晶が電極から図1(b)の様に成
長していた。この酸化亜鉛針状結晶の径は10nm〜3
0nmであり、長さはその200倍〜300倍であっ
た。
H)2)2(SCN)2を用いた。色素を蒸留エタノールに溶
解し、この中に酸化亜鉛針状結晶電極を24時間浸して
色素を電極に吸着させた後取りだし、80℃で乾燥させ
た。
極53として0.4mol/L 硫酸銅(II)を3mo
l/L乳酸中に混合させ、さらに0.5M水酸化ナトリ
ウム水溶液を用いてpH9にした電解液55に浸し、−
0.6V(vs. Ag/AgCl:参照極51)の電位
を5000秒間印加した。
ルヒーター56でビーカー54内の電解液55を85℃
に加熱して行った。電解後、基板表面には酸化銅(I)
結晶が電極から成長していた。
ることによりセルを組み上げた。また、比較例として粒
径約100nmを主成分とした酸化亜鉛微粒子を熱処理
したものを用いて同様にセルを組み立てた。
た500Wのキセノンランプ光を対極側から照射した。
そしてこの時生じた光電変換反応による光電流の値を測
定した。その測定結果本発明のセルの方が短絡電流、光
電変換効率ともに7%程度大きかった。これは酸化亜鉛
針状結晶電極を用いたことによってn型の電荷輸送層の
内部抵抗が減少したことに起因すると考えられる。
を用いて酸化亜鉛針状結晶を製造し、酸化物半導体微粒
子を付着させ、色素を吸着させた後に、図5の電着装置
を用いて酸化銅(I)結晶を成膜し、光電変換装置を作
成した実施例について図1(c)を用いて詳述する。
れたZn粉を原料104として入れ、装置内に設置し
た。基板には厚み1mmの導電性ガラス(FドープSn
O2、10Ω/□)を用い、450℃〜550℃に設定
した。次に反応容器内に2%の酸素が混合された窒素ガ
スを100mL/min流し、100000Paに保持
した。
に加熱してZnを徐々に約60分間蒸発させた。基板表
面には酸化亜鉛針状結晶が電極から成長していた。この
酸化亜鉛針状結晶の径は10nm〜30nmであり、長
さはその200倍〜300倍であった。さらに、この電
極を粒径約20nmを主成分とした酸化錫コロイド溶液
に浸漬させ、さらに酸素を1.67×10-3L/s流し
ながら550℃で1時間焼成を行い、図1(c)に示し
たように半導体混合結晶を作成した。
H)2)2(SCN)2を用いた。色素を蒸留エタノールに溶
解し、この中に半導体混合結晶電極を24時間浸して色
素を電極に吸着させた後取りだし、80℃で乾燥させ
た。
53として0.4mol/L 硫酸銅(II)を3mol
/L乳酸中に混合させ、さらに0.5M水酸化ナトリウ
ム水溶液を用いてpH9にした電解液55に浸し、−
0.6V(vs. Ag/AgCl:参照極51)の電位
を5000秒間印加した。
ルヒーター56でビーカー54内の電解液55を85℃
に加熱して行った。電解後、基板表面には酸化銅(I)
結晶が電極から成長していた。
ることによりセルを組み上げた。また、比較例として粒
径約100nmを主成分とした酸化亜鉛微粒子を熱処理
したものを用いて同様にセルを組み立てた。
た500Wのキセノンランプ光を対極側から照射した。
そしてこの時生じた光電変換反応による光電流の値を測
定した。その測定結果本発明のセルの方が短絡電流、光
電変換効率ともに10%程度大きかった。これは酸化亜
鉛針状結晶電極を用いたことによってn型の電荷輸送層
の内部抵抗が減少したことに起因すると考えられる。
電子の授受がスムーズに行われ、変換効率が高い光電変
換装置の製造方法を提供することができる。
型の電荷輸送層のしみ込みがより確実な半導体電極を有
する光電変換装置の製造方法を提供することができる。
装置の製造方法を提供することができる。
模式的な断面図である。
る。
る。
る。
面図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 n型の電荷輸送層、界面層、p型の電荷
輸送層を順次に積層形成した光電変換装置の製造方法で
あって、 前記n型の電荷輸送層は酸化亜鉛針状結晶を成長させる
ことによって形成し、 前記p型の電荷輸送層は電着でCu2Oを成長させるこ
とによって形成することを特徴とする光電変換装置の製
造方法。 - 【請求項2】 前記酸化亜鉛針状結晶は、電着で成長さ
せることを特徴とする請求項1記載の光電変換装置の製
造方法。 - 【請求項3】 前記酸化亜鉛針状結晶は、亜鉛若しくは
酸化亜鉛若しくは亜鉛と酸化亜鉛との混合物を気化させ
ることによって成長させることを特徴とする請求項1記
載の光電変換装置の製造方法。 - 【請求項4】 前記n型の電荷輸送層は、少なくとも一
種類以上の微粒子を前記酸化亜鉛針状結晶上に吸着させ
ることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載
の光電変換装置の製造方法。 - 【請求項5】 前記微粒子は、径が30nm以下である
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載の
光電変換装置の製造方法。 - 【請求項6】 前記界面層は、前記界面層を溶解した溶
液中に前記n型の電荷輸送層を浸積させる工程を含むこ
とを特徴とする請求項1から5のいずれか1項記載の光
電変換装置の製造方法。 - 【請求項7】 前記界面層は、色素であることを特徴と
する請求項1から6のいずれか1項記載の光電変換装置
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002091690A JP2003289151A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 光電変換装置の製造方法 |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003289151A true JP2003289151A (ja) | 2003-10-10 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007019460A (ja) * | 2005-06-08 | 2007-01-25 | Masanobu Isaki | 酸化物薄膜太陽電池 |
| JP2007235040A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-13 | Osaka City | 亜酸化銅膜に金属銅層を形成する方法 |
| JP2009538533A (ja) * | 2006-05-22 | 2009-11-05 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 種々の用途にナノワイヤを利用すること |
| WO2010050575A1 (ja) | 2008-10-29 | 2010-05-06 | 富士フイルム株式会社 | 色素、これを用いた光電変換素子、光電気化学電池、および色素の製造方法 |
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| CN109148646A (zh) * | 2018-09-03 | 2019-01-04 | 西南交通大学 | 氧化锌纳米棒/氧化亚铜锯齿状异质结及其制备方法以及应用 |
-
2002
- 2002-03-28 JP JP2002091690A patent/JP2003289151A/ja active Pending
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