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JP2003272891A - サージ吸収シートおよびそれを備える電子部品 - Google Patents

サージ吸収シートおよびそれを備える電子部品

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JP2003272891A
JP2003272891A JP2002076075A JP2002076075A JP2003272891A JP 2003272891 A JP2003272891 A JP 2003272891A JP 2002076075 A JP2002076075 A JP 2002076075A JP 2002076075 A JP2002076075 A JP 2002076075A JP 2003272891 A JP2003272891 A JP 2003272891A
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JP
Japan
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surge absorbing
sheet
surge
layer
electrode layer
Prior art date
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Application number
JP2002076075A
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English (en)
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Yasutomi Asai
浅井  康富
Yuji Otani
祐司 大谷
Takashi Nagasaka
長坂  崇
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Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 放電面積を適切に大きくすることのできるサ
ージ吸収素子およびそれを備える電子部品を提供する。 【解決手段】 表面および内部に配線層が形成された複
数のセラミック層11〜14、20を積層することで表
層配線15、16および内層配線17、18が形成され
てなる積層基板10を備え、複数のセラミック層の少な
くとも一つが、絶縁体と導電体との混合物からなるサー
ジ吸収材料がシート状に形成されてなるサージ吸収シー
ト20を構成している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品に加わる
サージを吸収するサージ吸収素子およびそれを備える電
子部品に関する。
【0002】
【従来の技術】サージ吸収素子は、電子部品に加わる高
電圧の静電気すなわちサージを吸収するものである。従
来、この種のサージ吸収素子を備える電子部品として
は、特開2001−217518号公報に記載のような
回路基板が提案されている。
【0003】このものは、ビアホールに絶縁体と導電体
との混合物からなるサージ吸収材料を充填してなるサー
ジ吸収素子を備えた回路基板である。この場合、サージ
吸収素子を挟んで対向する電極が設けられ、当該電極間
が所定電圧以上になると絶縁破壊して、サージをGND
(グランド)に逃がすことでサージ吸収を行うようにし
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者等の検討によれば、上記したようなビアホールに形成
されたサージ吸収素子では、対向する電極の面積が少な
いため、放電電圧がばらつくことがわかった。その検討
結果の一例を図12に示す。
【0005】図12(a)は、上記した従来のビアホー
ルに充填形成されたサージ吸収素子について、対向電極
間電圧(V)と対向電極間電流(mA)との関係を調べ
た結果を示す図である。対向電極間電流が急激に増加す
るときの対向電極間電圧が放電電圧であるが、この放電
電圧は大きくばらつくことがわかる。
【0006】また、図12(b)は、サージ吸収素子を
挟んで対向する電極の対向電極面積(mm2)と放電電
圧との関係を調べた結果を示す図である。対向電極面積
が大きくなるほど放電電圧のばらつきが小さくなってい
くことがわかる。
【0007】この図12に示すような本発明者等の検討
結果によれば、放電電圧のばらつきを抑制するために
は、対向する電極面積を大きくして放電面積を大きくす
れば良い。そのためには、従来のサージ吸収素子では、
ビアホールを大きくしなければならないが、ビアホール
を大きくするには制約がある。
【0008】そこで、本発明は上記問題に鑑み、放電面
積を適切に大きくすることのできるサージ吸収素子およ
びそれを備える電子部品を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明は、絶縁体と導電体との混合
物からなるサージ吸収材料がシート状に形成されてなる
サージ吸収シートを提供する。
【0010】本発明によれば、サージ吸収材料をシート
状に形成した構成としているから、このシートを挟んで
対向して電極を形成すれば、対向する電極の面積すなわ
ち放電面積を大きくすることができる。
【0011】よって、本発明によれば、放電面積を適切
に大きくすることのできるサージ吸収素子としてのサー
ジ吸収シートを提供することができる。
【0012】また、請求項2に記載の発明は、絶縁体と
導電体との混合物からなるサージ吸収材料がシート状に
形成されてなるサージ吸収シート(20)を内蔵してな
る電子部品を提供する。
【0013】それによれば、請求項1に記載のサージ吸
収シートを備えた電子部品を構成することができ、結
果、放電面積を適切に大きくすることのできるサージ吸
収素子を備える電子部品を提供することができる。
【0014】また、請求項2に記載の電子部品は、具体
的には、請求項3に記載の発明のように、サージ吸収シ
ート(20)が複数積層されて積層体を形成しており、
サージ吸収シートの間に内部電極層(210)が介在し
ており、積層体の外周部には、内部電極層と導通する一
対の外部電極層(220)が設けられているものにでき
る。
【0015】それによれば、対向する内部電極層の間に
サージ吸収を行うサージ吸収部が形成され、外部からの
サージは一対の外部電極層の一方からサージ吸収部に入
力される。そして、一対の外部電極層間にてサージ吸収
効果が適切に発揮される。
【0016】また、本発明によれば、サージ吸収シート
の枚数を増やすことで、対向する内部電極層の対向面積
を増やすことができるため、サージ吸収効果のさらなる
向上を図ることができる。
【0017】また、請求項4に記載の発明では、表面お
よび内部に配線層が形成された複数のセラミック層(1
1〜14、20)を積層することで表層配線(15、1
6)および内層配線(17、18)が形成されてなる積
層基板(10)を備え、複数のセラミック層の少なくと
も一つが前記サージ吸収シート(20)を構成している
ことを特徴とする。
【0018】電子部品がこのような積層基板の場合は、
それを構成する少なくとも一つの層にサージ吸収シート
を用いることで、請求項2に記載の電子部品を適切に実
現することができる。
【0019】なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述
する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一
例である。
【0020】
【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1は、本発明
の第1実施形態に係る電子部品としての積層基板10を
示す概略断面図である。この積層基板10は、個々につ
いてその表面および内部に配線層が形成された複数のセ
ラミック層11、12、13、14、20を積層して形
成されたものである。
【0021】これらセラミック層11〜14、20の積
層体である積層基板10の表面(図1中の上面)、裏面
(図1中の下面)には、それぞれ表面配線15、裏面配
線16が形成されており、これら表面および裏面配線1
5、16は表層配線15、16を構成している。
【0022】積層基板10の内部には、各セラミック層
に形成されたビアホール17や各セラミック層の間に形
成された内部導体層18により、内層配線17、18が
形成されている。そして、上記表面配線15と裏面配線
16とは、内層配線17、18を介して電気的に接続さ
れている。
【0023】また、積層基板10の表面側においては、
表面配線15に導電性接着剤31を介して半導体素子3
0が搭載されている。この半導体素子30は、その周囲
の表面配線15にボンディングワイヤ32を介して結線
され、電気的に接続されている。
【0024】ここにおいて、積層基板10を構成するセ
ラミック層11〜14、20のうち、積層基板10の厚
み方向の中央部に位置するセラミック層20が、サージ
吸収を行うサージ吸収シート20として構成されてい
る。
【0025】このサージ吸収シート20は、アルミナ等
の絶縁体とタングステンまたはモリブデン等の導電体と
の混合物からなるサージ吸収材料をシート状に形成して
なるものである。また、その他のセラミック層11〜1
4は、アルミナ等を主とした層であり、サージ吸収シー
ト20よりも絶縁性の大きいものである。
【0026】そして、サージ吸収シート20およびサー
ジ吸収シート20を挟んで対向する内部導体層18(1
8a、18b、18c、18d)により、サージ吸収部
22、24が構成されている。図1に示す例では、内部
導体層18aと18bを対向電極とするサージ吸収部2
2、および、内部導体層18cと18dを対向電極とす
るサージ吸収部24が形成されている。
【0027】このようなサージ吸収部22、24を有す
ることにより、例えば、表面配線15を通じて半導体素
子30に入ろうとするサージは、基板表面側に位置する
内層配線17、18からサージ吸収部22、24を通
り、基板裏面側に位置する内層配線17、18を通って
裏面配線16へ逃される。そのため、積層基板10に実
装された半導体素子30等の部品はサージから保護され
る。
【0028】また、サージ吸収素子としての本実施形態
のサージ吸収シート20は、サージ吸収材料をシート状
に形成した構成としている。そして、このシート20を
挟んで対向して電極18a〜18dを形成しており、従
来のビアホールに充填されたサージ吸収素子の対向電極
に比べて、対向電極の面積すなわち放電面積を大きくす
ることができる。
【0029】このように、本実施形態によれば、放電面
積を適切に大きくすることのできるサージ吸収素子とし
てのサージ吸収シート20を提供することができる。
【0030】また、本実施形態によれば、電子部品とし
ての積層基板10に対して、それを構成する少なくとも
一つのセラミック層にサージ吸収シート20を用いるこ
とにより、積層基板10に適切にサージ吸収シート20
を内蔵することができる。そして、放電面積を適切に大
きくすることのできるサージ吸収素子を備える電子部品
としての積層基板10を提供することができる。
【0031】次に、上記サージ吸収シート20およびこ
れを内蔵する積層基板10の製造方法について説明す
る。本製造方法は通常のセラミック積層基板の製法に準
じて行うことができる。限定するものではないが本製造
方法の一具体例について述べる。図2〜図4は本製造方
法を断面的に示す工程図である。
【0032】まず、図2は、サージ吸収シート以外のセ
ラミック層11〜14となるグリーンシート100の製
造工程を示す図である。なお、図2では、上記図1中の
最上層のセラミック層11の例を図示してあるが、他の
セラミック層12、13、14も同様に製造することが
できる。
【0033】図2(a)に示すように、ドクターブレー
ド法により形成されたアルミナ粉末、カオリン、有機バ
インダ等からなるグリーンシート100を用意する。そ
して、図2(b)に示すように、このグリーンシート1
00の所望の位置にパンチングすることにより、最終的
に上記ビアホールとなる孔101をあける。
【0034】次に、図2(c)に示すように、この孔1
01に対して、主にモリブデンからなる導体ペースト1
02を印刷にて充填する。この導体ペースト102は、
最終的に上記ビアホールにおける内層配線となるもので
ある。
【0035】次に、図2(d)に示すように、グリーン
シート100の表面に、主にタングステンからなる導体
ペースト103を印刷する。この導体ペースト103
は、孔101に充填された導体ペースト102と導通す
るように印刷され、最終的に、上記内部導体層や表面配
線、裏面配線となるものである。
【0036】以上、図2(a)〜(d)の工程を各セラ
ミック層11〜14について行い、最終的に各セラミッ
ク層11〜14となるグリーンシート100を複数製造
する。その一方、サージ吸収シート20を用いて、これ
を積層基板10に内蔵可能なように加工する。
【0037】図3は、サージ吸収シート20の加工工程
を示す図である。図3(a)に示すように、ドクターブ
レード法により形成されたタングステン粉末(導電
体)、アルミナ粉末(絶縁体)、カオリン、有機バイン
ダ等のサージ吸収材料からなるシート状のサージ吸収シ
ート20を用意する。
【0038】ここで、本実施形態のサージ吸収材料は、
上記した特開2001−217518号公報に準じたも
のにできるが、この従来公報のようにビアホールに充填
する場合では、エチルセルロースやブチラール等のバイ
ンダを用いるのに対し、本実施形態では、シート状に加
工するために鋭意検討し、アクリル系バインダを用いた
ものとしている。
【0039】そして、図3(b)、(c)に示すよう
に、このサージ吸収シート20の所望の位置にパンチン
グすることにより、最終的に上記ビアホールとなる孔2
1をあけ、これに、主にモリブデンからなる導体ペース
ト22を印刷にて充填する。
【0040】次に、図3(d)に示すように、サージ吸
収シート20の表面に、主にタングステンからなる導体
ペースト23を印刷する。この導体ペースト23のうち
孔21に充填された導体ペースト22と導通するように
印刷されたものは、最終的に上記内部配線を構成するも
のである。
【0041】また、サージ吸収シート20の表面に印刷
された導体ペースト23のうち孔21に充填された導体
ペースト22と導通しないものは、上記サージ吸収部を
構成する対向電極の一方となるものである。
【0042】こうして、図3(d)に示すように加工さ
れたサージ吸収シート20は、上記図2(a)〜(d)
に示す工程にて製造された複数のグリーンシート100
と積層され、焼成されて積層基板10を形成する。その
工程を図4示す。
【0043】まず、図4(a)、(b)に示すように、
サージ吸収シート20を真ん中にしてグリーンシート1
00を重ね合わせ、熱圧着を行い積層する。次に、この
積層体を約1600℃、還元雰囲気にて焼成する。この
とき、図示しないが基板は約20%収縮する。また、各
ペーストは表面配線および内層配線15〜18となる。
このようにして、サージ吸収シート20を内蔵した積層
基板10が製造される。
【0044】なお、このように製造された積層基板10
に対しては、図示しないが、必要に応じ、ICなどの実
装性を確保するため表面配線15を構成するタングステ
ン上に銅めっきや金めっきを行ったり、厚膜抵抗体を印
刷・焼成にて形成する。また、必要に応じて保護ガラス
を形成したり、抵抗値の調整のため、レーザトリミング
を行ったりする。
【0045】次に、図4(c)に示すように、できあが
った積層基板10の所定の表面配線15に導電性接着剤
31を印刷にて塗布する。ここでは、例えば、銀フィラ
ーを含有したエポキシ樹脂からなる導電性接着剤31を
用いている。そして、導電性接着剤31の上に半導体素
子30を組み付け、硬化前の導電性接着剤31の粘性に
より、半導体素子30を基板10に固着させておく。
【0046】次に、導電性接着剤31を、例えば150
℃の高温槽を用いて硬化させる。そして、ワイヤボンデ
ィングを行い、ワイヤ32を形成する。こうして、上記
図1に示す積層基板10が完成する。
【0047】以上、半導体素子30を積層基板10に組
み付ける例を示したが、積層基板10には、コンデン
サ、抵抗体、コイル、ダイオードなどのその他の部品を
組み付けても良い。また、実装方法も導電性接着剤以外
に、はんだなどの他の手法によるものとしても良い。
【0048】なお、サージ吸収シート20は、複数層設
けられていても良い。また、積層基板10のどの層に形
成しても良いが、他のセラミック層11〜14とは異な
る材料で構成されその収縮率も異なるので、積層基板1
0の反りの低減のために、積層基板10厚み方向の中央
部の層として位置することが好ましい。
【0049】また、積層基板10に内蔵されるサージ吸
収シート20の変形例を図5(a)、(b)に模式的に
示す。図5(a)に示すように、サージ吸収シート20
は、積層基板10を構成する一つのセラミック層(例え
ばセラミック層13)において部分的に形成されている
ものであっても良い。
【0050】また、図5(b)に示すように、サージ吸
収シート20を挟んで形成される配線のうち耐電圧が必
要な両配線18間においては、一方の配線18と他方の
配線18とをサージ吸収シート20を挟んで対向しない
ようにずらして形成することが好ましい。これは、サー
ジ吸収シート20が、それ以外のセラミック層11〜1
4に比べて絶縁性に劣るためである。
【0051】(第2実施形態)図6は、本発明の第2実
施形態に係るサージ吸収シート20を備える電子部品2
00の構成を示す図である。図6において、(a)は本
電子部品200を基板10に実装した状態を示す図、
(b)は(a)中のA−A断面図、(c)は(b)中の
B−B断面図である。
【0052】本電子部品200は、サージ吸収シート2
0を内蔵することにより構成されたサージ吸収部品とし
て適用される。つまり、上記第1実施形態は、積層基板
に多数のサージ吸収部を形成する場合に適した構成のも
のであるが、基板に形成するサージ吸収部が少なくても
良いときは、サージ吸収シート20などの加工費によ
り、基板としては割高となる。
【0053】そのような場合、図6(a)に示すよう
に、サージ吸収部品200を基板10のランド10aに
はんだ10bなどで実装すれば、比較的コストを低くし
つつ同様なサージ吸収効果が得られる。
【0054】本実施形態の電子部品としてのサージ吸収
部品200は、図6に示すように、サージ吸収シート2
0が複数積層されて積層体を形成しており、各サージ吸
収シート20の間に内部電極層210が介在しており、
積層体の外周端部には、内部電極層210と導通する一
対の外部電極層220が設けられているものである。
【0055】サージ吸収シート20は、上記第1実施形
態と同様のものを採用でき、内部電極層210は導体ペ
ースト等を用いて形成されたものである。また、外部電
極層220は、内部電極層210との密着性確保などの
ために内側に位置する第1の外部電極層221と、その
外側に位置し基板10のランド10aと接続される第2
の外部電極層222とからなる。
【0056】このサージ吸収部品200によれば、各々
対向する内部電極層210の間にサージ吸収を行うサー
ジ吸収部が形成され、外部からのサージは一対の外部電
極層220の一方からサージ吸収部に入力される。そし
て、一対の外部電極層220間にてサージ吸収効果が適
切に発揮される。
【0057】そのため、例えば、基板10の一方のラン
ド10aからサージが入力されたときは、これに接続さ
れた一方の外部電極層220からサージ吸収部品200
内をサージ電流が流れ、他方の外部電極層220から他
方のランド10aを介してGND等へサージを逃がすこ
とができる。
【0058】また、本実施形態によれば、サージ吸収シ
ート20の枚数を増やすことで、対向する内部電極層2
10の対向面積すなわち放電面積を増やすことができる
ため、サージ吸収効果のさらなる向上を図ることができ
る。
【0059】次に、上記サージ吸収部品200の製造方
法について説明する。図7、図8は本製造方法を図6
(b)に示す断面に対応した断面にて示す工程図であ
る。
【0060】まず、図7(a)に示すように、ドクター
ブレード法により、タングステン粉末(導電体)、アル
ミナ粉末(絶縁体)、カオリン、有機バインダ等のサー
ジ吸収材料からなるシート状のサージ吸収シート20を
複数枚形成する。ここにおけるサージ吸収材料も上記第
1実施形態と同様のものである。
【0061】次に、図7(b)に示すように、各サージ
吸収シート20の一面に、最終的に上記内部電極層とな
る導体ペースト211を印刷する。次に、図7(c)、
(d)に示すように、これら各サージ吸収シート20を
重ね合わせて積層する。
【0062】次に、図8(a)に示すように、積層体の
両外周端面に第1の外部電極層となるタングステンペー
ストを塗布して、このものを約1600℃、還元雰囲気
にて焼成する。なお、図示しないが、このとき積層体は
約20%収縮する。また、各ペーストはそれぞれ内部電
極層210、第1の外部電極層221となる。
【0063】その後、図8(b)に示すように、第1の
外部電極層221の外表面に、第2の外部電極層222
となるNiめっき、Snめっきを順次、バレル式の電気
メッキにより形成する。こうして、上記サージ吸収部品
200ができあがる。この場合、外部電極層220は、
内側から順にタングステンからなる第1層、Niめっき
からなる第2層、Snめっきからなる第3層の3層構造
のものということもできる。
【0064】なお、上記図7に示す工程は、1枚のサー
ジ吸収シート20よりも大きなシート部材を複数枚用意
し、複数枚のシート部材に対して、導体ペースト211
の印刷を行った後、これらを積層しても良い。この場
合、1個のサージ吸収部品200に対応した大きさに積
層体を切り離すことで、複数個のサージ吸収部品200
を同時に作ることができる。
【0065】そして、このようにした場合には、切り離
した後の積層体の端面にサージ吸収シート20がだれる
ことで、内部電極層となる導体ペースト211のうち外
部電極層との接続部となる部位の露出が不十分となるた
め、切り離し後の積層体の端面を研磨することが好まし
い。
【0066】また、本発明者等の検討によれば、上記サ
ージ吸収部品200においては、サージ吸収シート20
に用いるサージ吸収材料、内部電極層210に用いる内
部電極層材料、外部電極層220に用いる外部電極層材
料は、図9、図10に示すような種々の組合せが可能で
ある。
【0067】図9、図10において、内部電極層210
の第2層は、外部電極層220との接合性を確保するた
めに外部電極層220との接合部にて第1層の上に用い
られる層である。また、外部電極層220では、内側す
なわち内部電極層との接合部側から順に第1層、第2
層、第3層、第4層としている。
【0068】また、図9中にも示しているが、「タング
ステン(W)、モリブデン(Mo)、W+Mo、Mo+
Mn、W+Mnのいずれか一つ」のことを「材料M1」
と表すこととしている。また、図9、図10に示すよう
に、サージ吸収材料は、アルミナと材料M1との混合物
の場合、ホウケイ酸ガラスとNi、Cu、Ag−Pdの
いずれか一つとの混合物の場合といった二つの場合に分
かれ、前者は高融点材料、後者は低融点材料である。
【0069】例えば、図9の組合せ番号3では、サージ
吸収材料がアルミナと材料M1との混合物からなり、内
部電極層210が材料M1からなる1層のものであり、
外部電極層220が材料M1にIr(イリジウム)が混
入されたものからなる第1層、Cu厚膜からなる第2
層、Niめっきからなる第3層、Snめっきからなる第
4層の4層構造のものであることを表している。
【0070】ここで、図9、図10中、「材料M1(I
r混入)」は、材料M1にIrを少量混入したもので、
例えばWに5%以上のIrを混入するものである。これ
は、材料M1(例えばW)とCu厚膜となるCuペース
トとの接合性が悪いため、両者の間に「材料M1(Ir
混入)」を介在させることで、Cuペーストの密着力を
確保するためのものである。
【0071】また、図9、図10に示す組合せにおい
て、組合せ番号1〜6のものは、外部電極層220の第
1層まで配置した後、積層体の焼成を行い、次に外部電
極層220の第2層以降の形成を行う。それ以外の組合
せ番号7〜46のものは、内部電極層210まで配置し
た後、積層体の焼成を行い、次に、外部電極層220の
第1層以降の形成を行う。
【0072】また、図9、図10の組合せに示されるよ
うに、外部電極層220としてめっきを行う場合があ
り、そのめっき条件によっては、サージ吸収シート20
のW粉までめっきされ短絡する可能性がある。図11に
示す変形例は、このめっきによる短絡の対策を施した変
形例を示す図である。
【0073】図11にて、(a)は概略断面図、(b)
は(a)中のC−C断面図である。図11(a)に示す
例では、積層体の最上層と最下層に、めっきが付着しな
いアルミナ等からなるシート230を設けて、めっきが
内部電極層210に付着しないように保護している。
【0074】さらに、図11(b)に示すように、積層
体の側面にも上記シート230と同様のシートやペース
ト印刷などの方法にて、めっきが付着しないめっき付着
防止層240を形成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係る電子部品としての
積層基板を示す概略断面図である。
【図2】サージ吸収シート以外のセラミック層となるグ
リーンシートの製造工程を示す図である。
【図3】サージ吸収シートの加工工程を示す図である。
【図4】グリーンシートとサージ吸収シートとを積層し
てなる積層基板の製造工程を示す図である。
【図5】積層基板に内蔵されるサージ吸収シートの変形
例を示す図である。
【図6】本発明の第2実施形態に係るサージ吸収シート
を備える電子部品の構成を示す図である。
【図7】図6に示す電子部品の製造方法を示す工程図で
ある。
【図8】図7に続く製造方法を示す工程図である。
【図9】上記第2実施形態のサージ吸収部品におけるサ
ージ吸収材料、内部電極層材料、外部電極層材料の種々
の組合せを示す図表である。
【図10】図9に続くサージ吸収部品におけるサージ吸
収材料、内部電極層材料、外部電極層材料の種々の組合
せを示す図表である。
【図11】本発明の他の実施形態を示す図である。
【図12】本発明者等の検討による、サージ吸収素子に
おける対向電極面積による放電電圧ばらつきの傾向を示
す図である。
【符号の説明】
10…積層基板、11、12、13、14…セラミック
層、15…表面配線、16…裏面配線、17…ビアホー
ル、18…内部導体層、20…サージ吸収シート、21
0…内部電極層、220…外部電極層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長坂 崇 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 Fターム(参考) 5G067 AA41 BA02 CA01 DA02 DA12

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁体と導電体との混合物からなるサー
    ジ吸収材料がシート状に形成されてなるサージ吸収シー
    ト。
  2. 【請求項2】 絶縁体と導電体との混合物からなるサー
    ジ吸収材料がシート状に形成されてなるサージ吸収シー
    ト(20)を内蔵してなる電子部品。
  3. 【請求項3】 前記サージ吸収シート(20)が複数積
    層されて積層体を形成しており、 前記サージ吸収シートの間に内部電極層(210)が介
    在しており、 前記積層体の外周部には、前記内部電極層と導通する一
    対の外部電極層(220)が設けられていることを特徴
    とする請求項2に記載の電子部品。
  4. 【請求項4】 表面および内部に配線層が形成された複
    数のセラミック層(11〜14、20)を積層すること
    で表層配線(15、16)および内層配線(17、1
    8)が形成されてなる積層基板(10)を備え、 前記複数のセラミック層の少なくとも一つが前記サージ
    吸収シート(20)を構成していることを特徴とする請
    求項2に記載の電子部品。
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