JP2003272891A - サージ吸収シートおよびそれを備える電子部品 - Google Patents
サージ吸収シートおよびそれを備える電子部品Info
- Publication number
- JP2003272891A JP2003272891A JP2002076075A JP2002076075A JP2003272891A JP 2003272891 A JP2003272891 A JP 2003272891A JP 2002076075 A JP2002076075 A JP 2002076075A JP 2002076075 A JP2002076075 A JP 2002076075A JP 2003272891 A JP2003272891 A JP 2003272891A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surge absorbing
- sheet
- surge
- layer
- electrode layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 131
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 3
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 3
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 3
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 229920005822 acrylic binder Polymers 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
Abstract
ージ吸収素子およびそれを備える電子部品を提供する。 【解決手段】 表面および内部に配線層が形成された複
数のセラミック層11〜14、20を積層することで表
層配線15、16および内層配線17、18が形成され
てなる積層基板10を備え、複数のセラミック層の少な
くとも一つが、絶縁体と導電体との混合物からなるサー
ジ吸収材料がシート状に形成されてなるサージ吸収シー
ト20を構成している。
Description
サージを吸収するサージ吸収素子およびそれを備える電
子部品に関する。
電圧の静電気すなわちサージを吸収するものである。従
来、この種のサージ吸収素子を備える電子部品として
は、特開2001−217518号公報に記載のような
回路基板が提案されている。
との混合物からなるサージ吸収材料を充填してなるサー
ジ吸収素子を備えた回路基板である。この場合、サージ
吸収素子を挟んで対向する電極が設けられ、当該電極間
が所定電圧以上になると絶縁破壊して、サージをGND
(グランド)に逃がすことでサージ吸収を行うようにし
ている。
者等の検討によれば、上記したようなビアホールに形成
されたサージ吸収素子では、対向する電極の面積が少な
いため、放電電圧がばらつくことがわかった。その検討
結果の一例を図12に示す。
ルに充填形成されたサージ吸収素子について、対向電極
間電圧(V)と対向電極間電流(mA)との関係を調べ
た結果を示す図である。対向電極間電流が急激に増加す
るときの対向電極間電圧が放電電圧であるが、この放電
電圧は大きくばらつくことがわかる。
挟んで対向する電極の対向電極面積(mm2)と放電電
圧との関係を調べた結果を示す図である。対向電極面積
が大きくなるほど放電電圧のばらつきが小さくなってい
くことがわかる。
結果によれば、放電電圧のばらつきを抑制するために
は、対向する電極面積を大きくして放電面積を大きくす
れば良い。そのためには、従来のサージ吸収素子では、
ビアホールを大きくしなければならないが、ビアホール
を大きくするには制約がある。
積を適切に大きくすることのできるサージ吸収素子およ
びそれを備える電子部品を提供することを目的とする。
め、請求項1に記載の発明は、絶縁体と導電体との混合
物からなるサージ吸収材料がシート状に形成されてなる
サージ吸収シートを提供する。
状に形成した構成としているから、このシートを挟んで
対向して電極を形成すれば、対向する電極の面積すなわ
ち放電面積を大きくすることができる。
に大きくすることのできるサージ吸収素子としてのサー
ジ吸収シートを提供することができる。
導電体との混合物からなるサージ吸収材料がシート状に
形成されてなるサージ吸収シート(20)を内蔵してな
る電子部品を提供する。
収シートを備えた電子部品を構成することができ、結
果、放電面積を適切に大きくすることのできるサージ吸
収素子を備える電子部品を提供することができる。
的には、請求項3に記載の発明のように、サージ吸収シ
ート(20)が複数積層されて積層体を形成しており、
サージ吸収シートの間に内部電極層(210)が介在し
ており、積層体の外周部には、内部電極層と導通する一
対の外部電極層(220)が設けられているものにでき
る。
サージ吸収を行うサージ吸収部が形成され、外部からの
サージは一対の外部電極層の一方からサージ吸収部に入
力される。そして、一対の外部電極層間にてサージ吸収
効果が適切に発揮される。
の枚数を増やすことで、対向する内部電極層の対向面積
を増やすことができるため、サージ吸収効果のさらなる
向上を図ることができる。
よび内部に配線層が形成された複数のセラミック層(1
1〜14、20)を積層することで表層配線(15、1
6)および内層配線(17、18)が形成されてなる積
層基板(10)を備え、複数のセラミック層の少なくと
も一つが前記サージ吸収シート(20)を構成している
ことを特徴とする。
それを構成する少なくとも一つの層にサージ吸収シート
を用いることで、請求項2に記載の電子部品を適切に実
現することができる。
する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一
例である。
の第1実施形態に係る電子部品としての積層基板10を
示す概略断面図である。この積層基板10は、個々につ
いてその表面および内部に配線層が形成された複数のセ
ラミック層11、12、13、14、20を積層して形
成されたものである。
層体である積層基板10の表面(図1中の上面)、裏面
(図1中の下面)には、それぞれ表面配線15、裏面配
線16が形成されており、これら表面および裏面配線1
5、16は表層配線15、16を構成している。
に形成されたビアホール17や各セラミック層の間に形
成された内部導体層18により、内層配線17、18が
形成されている。そして、上記表面配線15と裏面配線
16とは、内層配線17、18を介して電気的に接続さ
れている。
表面配線15に導電性接着剤31を介して半導体素子3
0が搭載されている。この半導体素子30は、その周囲
の表面配線15にボンディングワイヤ32を介して結線
され、電気的に接続されている。
ラミック層11〜14、20のうち、積層基板10の厚
み方向の中央部に位置するセラミック層20が、サージ
吸収を行うサージ吸収シート20として構成されてい
る。
の絶縁体とタングステンまたはモリブデン等の導電体と
の混合物からなるサージ吸収材料をシート状に形成して
なるものである。また、その他のセラミック層11〜1
4は、アルミナ等を主とした層であり、サージ吸収シー
ト20よりも絶縁性の大きいものである。
ジ吸収シート20を挟んで対向する内部導体層18(1
8a、18b、18c、18d)により、サージ吸収部
22、24が構成されている。図1に示す例では、内部
導体層18aと18bを対向電極とするサージ吸収部2
2、および、内部導体層18cと18dを対向電極とす
るサージ吸収部24が形成されている。
ることにより、例えば、表面配線15を通じて半導体素
子30に入ろうとするサージは、基板表面側に位置する
内層配線17、18からサージ吸収部22、24を通
り、基板裏面側に位置する内層配線17、18を通って
裏面配線16へ逃される。そのため、積層基板10に実
装された半導体素子30等の部品はサージから保護され
る。
のサージ吸収シート20は、サージ吸収材料をシート状
に形成した構成としている。そして、このシート20を
挟んで対向して電極18a〜18dを形成しており、従
来のビアホールに充填されたサージ吸収素子の対向電極
に比べて、対向電極の面積すなわち放電面積を大きくす
ることができる。
積を適切に大きくすることのできるサージ吸収素子とし
てのサージ吸収シート20を提供することができる。
ての積層基板10に対して、それを構成する少なくとも
一つのセラミック層にサージ吸収シート20を用いるこ
とにより、積層基板10に適切にサージ吸収シート20
を内蔵することができる。そして、放電面積を適切に大
きくすることのできるサージ吸収素子を備える電子部品
としての積層基板10を提供することができる。
れを内蔵する積層基板10の製造方法について説明す
る。本製造方法は通常のセラミック積層基板の製法に準
じて行うことができる。限定するものではないが本製造
方法の一具体例について述べる。図2〜図4は本製造方
法を断面的に示す工程図である。
ラミック層11〜14となるグリーンシート100の製
造工程を示す図である。なお、図2では、上記図1中の
最上層のセラミック層11の例を図示してあるが、他の
セラミック層12、13、14も同様に製造することが
できる。
ド法により形成されたアルミナ粉末、カオリン、有機バ
インダ等からなるグリーンシート100を用意する。そ
して、図2(b)に示すように、このグリーンシート1
00の所望の位置にパンチングすることにより、最終的
に上記ビアホールとなる孔101をあける。
01に対して、主にモリブデンからなる導体ペースト1
02を印刷にて充填する。この導体ペースト102は、
最終的に上記ビアホールにおける内層配線となるもので
ある。
シート100の表面に、主にタングステンからなる導体
ペースト103を印刷する。この導体ペースト103
は、孔101に充填された導体ペースト102と導通す
るように印刷され、最終的に、上記内部導体層や表面配
線、裏面配線となるものである。
ミック層11〜14について行い、最終的に各セラミッ
ク層11〜14となるグリーンシート100を複数製造
する。その一方、サージ吸収シート20を用いて、これ
を積層基板10に内蔵可能なように加工する。
を示す図である。図3(a)に示すように、ドクターブ
レード法により形成されたタングステン粉末(導電
体)、アルミナ粉末(絶縁体)、カオリン、有機バイン
ダ等のサージ吸収材料からなるシート状のサージ吸収シ
ート20を用意する。
上記した特開2001−217518号公報に準じたも
のにできるが、この従来公報のようにビアホールに充填
する場合では、エチルセルロースやブチラール等のバイ
ンダを用いるのに対し、本実施形態では、シート状に加
工するために鋭意検討し、アクリル系バインダを用いた
ものとしている。
に、このサージ吸収シート20の所望の位置にパンチン
グすることにより、最終的に上記ビアホールとなる孔2
1をあけ、これに、主にモリブデンからなる導体ペース
ト22を印刷にて充填する。
収シート20の表面に、主にタングステンからなる導体
ペースト23を印刷する。この導体ペースト23のうち
孔21に充填された導体ペースト22と導通するように
印刷されたものは、最終的に上記内部配線を構成するも
のである。
された導体ペースト23のうち孔21に充填された導体
ペースト22と導通しないものは、上記サージ吸収部を
構成する対向電極の一方となるものである。
れたサージ吸収シート20は、上記図2(a)〜(d)
に示す工程にて製造された複数のグリーンシート100
と積層され、焼成されて積層基板10を形成する。その
工程を図4示す。
サージ吸収シート20を真ん中にしてグリーンシート1
00を重ね合わせ、熱圧着を行い積層する。次に、この
積層体を約1600℃、還元雰囲気にて焼成する。この
とき、図示しないが基板は約20%収縮する。また、各
ペーストは表面配線および内層配線15〜18となる。
このようにして、サージ吸収シート20を内蔵した積層
基板10が製造される。
に対しては、図示しないが、必要に応じ、ICなどの実
装性を確保するため表面配線15を構成するタングステ
ン上に銅めっきや金めっきを行ったり、厚膜抵抗体を印
刷・焼成にて形成する。また、必要に応じて保護ガラス
を形成したり、抵抗値の調整のため、レーザトリミング
を行ったりする。
った積層基板10の所定の表面配線15に導電性接着剤
31を印刷にて塗布する。ここでは、例えば、銀フィラ
ーを含有したエポキシ樹脂からなる導電性接着剤31を
用いている。そして、導電性接着剤31の上に半導体素
子30を組み付け、硬化前の導電性接着剤31の粘性に
より、半導体素子30を基板10に固着させておく。
℃の高温槽を用いて硬化させる。そして、ワイヤボンデ
ィングを行い、ワイヤ32を形成する。こうして、上記
図1に示す積層基板10が完成する。
み付ける例を示したが、積層基板10には、コンデン
サ、抵抗体、コイル、ダイオードなどのその他の部品を
組み付けても良い。また、実装方法も導電性接着剤以外
に、はんだなどの他の手法によるものとしても良い。
けられていても良い。また、積層基板10のどの層に形
成しても良いが、他のセラミック層11〜14とは異な
る材料で構成されその収縮率も異なるので、積層基板1
0の反りの低減のために、積層基板10厚み方向の中央
部の層として位置することが好ましい。
収シート20の変形例を図5(a)、(b)に模式的に
示す。図5(a)に示すように、サージ吸収シート20
は、積層基板10を構成する一つのセラミック層(例え
ばセラミック層13)において部分的に形成されている
ものであっても良い。
収シート20を挟んで形成される配線のうち耐電圧が必
要な両配線18間においては、一方の配線18と他方の
配線18とをサージ吸収シート20を挟んで対向しない
ようにずらして形成することが好ましい。これは、サー
ジ吸収シート20が、それ以外のセラミック層11〜1
4に比べて絶縁性に劣るためである。
施形態に係るサージ吸収シート20を備える電子部品2
00の構成を示す図である。図6において、(a)は本
電子部品200を基板10に実装した状態を示す図、
(b)は(a)中のA−A断面図、(c)は(b)中の
B−B断面図である。
0を内蔵することにより構成されたサージ吸収部品とし
て適用される。つまり、上記第1実施形態は、積層基板
に多数のサージ吸収部を形成する場合に適した構成のも
のであるが、基板に形成するサージ吸収部が少なくても
良いときは、サージ吸収シート20などの加工費によ
り、基板としては割高となる。
に、サージ吸収部品200を基板10のランド10aに
はんだ10bなどで実装すれば、比較的コストを低くし
つつ同様なサージ吸収効果が得られる。
部品200は、図6に示すように、サージ吸収シート2
0が複数積層されて積層体を形成しており、各サージ吸
収シート20の間に内部電極層210が介在しており、
積層体の外周端部には、内部電極層210と導通する一
対の外部電極層220が設けられているものである。
態と同様のものを採用でき、内部電極層210は導体ペ
ースト等を用いて形成されたものである。また、外部電
極層220は、内部電極層210との密着性確保などの
ために内側に位置する第1の外部電極層221と、その
外側に位置し基板10のランド10aと接続される第2
の外部電極層222とからなる。
対向する内部電極層210の間にサージ吸収を行うサー
ジ吸収部が形成され、外部からのサージは一対の外部電
極層220の一方からサージ吸収部に入力される。そし
て、一対の外部電極層220間にてサージ吸収効果が適
切に発揮される。
ド10aからサージが入力されたときは、これに接続さ
れた一方の外部電極層220からサージ吸収部品200
内をサージ電流が流れ、他方の外部電極層220から他
方のランド10aを介してGND等へサージを逃がすこ
とができる。
ート20の枚数を増やすことで、対向する内部電極層2
10の対向面積すなわち放電面積を増やすことができる
ため、サージ吸収効果のさらなる向上を図ることができ
る。
法について説明する。図7、図8は本製造方法を図6
(b)に示す断面に対応した断面にて示す工程図であ
る。
ブレード法により、タングステン粉末(導電体)、アル
ミナ粉末(絶縁体)、カオリン、有機バインダ等のサー
ジ吸収材料からなるシート状のサージ吸収シート20を
複数枚形成する。ここにおけるサージ吸収材料も上記第
1実施形態と同様のものである。
吸収シート20の一面に、最終的に上記内部電極層とな
る導体ペースト211を印刷する。次に、図7(c)、
(d)に示すように、これら各サージ吸収シート20を
重ね合わせて積層する。
両外周端面に第1の外部電極層となるタングステンペー
ストを塗布して、このものを約1600℃、還元雰囲気
にて焼成する。なお、図示しないが、このとき積層体は
約20%収縮する。また、各ペーストはそれぞれ内部電
極層210、第1の外部電極層221となる。
外部電極層221の外表面に、第2の外部電極層222
となるNiめっき、Snめっきを順次、バレル式の電気
メッキにより形成する。こうして、上記サージ吸収部品
200ができあがる。この場合、外部電極層220は、
内側から順にタングステンからなる第1層、Niめっき
からなる第2層、Snめっきからなる第3層の3層構造
のものということもできる。
ジ吸収シート20よりも大きなシート部材を複数枚用意
し、複数枚のシート部材に対して、導体ペースト211
の印刷を行った後、これらを積層しても良い。この場
合、1個のサージ吸収部品200に対応した大きさに積
層体を切り離すことで、複数個のサージ吸収部品200
を同時に作ることができる。
した後の積層体の端面にサージ吸収シート20がだれる
ことで、内部電極層となる導体ペースト211のうち外
部電極層との接続部となる部位の露出が不十分となるた
め、切り離し後の積層体の端面を研磨することが好まし
い。
ージ吸収部品200においては、サージ吸収シート20
に用いるサージ吸収材料、内部電極層210に用いる内
部電極層材料、外部電極層220に用いる外部電極層材
料は、図9、図10に示すような種々の組合せが可能で
ある。
の第2層は、外部電極層220との接合性を確保するた
めに外部電極層220との接合部にて第1層の上に用い
られる層である。また、外部電極層220では、内側す
なわち内部電極層との接合部側から順に第1層、第2
層、第3層、第4層としている。
ステン(W)、モリブデン(Mo)、W+Mo、Mo+
Mn、W+Mnのいずれか一つ」のことを「材料M1」
と表すこととしている。また、図9、図10に示すよう
に、サージ吸収材料は、アルミナと材料M1との混合物
の場合、ホウケイ酸ガラスとNi、Cu、Ag−Pdの
いずれか一つとの混合物の場合といった二つの場合に分
かれ、前者は高融点材料、後者は低融点材料である。
吸収材料がアルミナと材料M1との混合物からなり、内
部電極層210が材料M1からなる1層のものであり、
外部電極層220が材料M1にIr(イリジウム)が混
入されたものからなる第1層、Cu厚膜からなる第2
層、Niめっきからなる第3層、Snめっきからなる第
4層の4層構造のものであることを表している。
r混入)」は、材料M1にIrを少量混入したもので、
例えばWに5%以上のIrを混入するものである。これ
は、材料M1(例えばW)とCu厚膜となるCuペース
トとの接合性が悪いため、両者の間に「材料M1(Ir
混入)」を介在させることで、Cuペーストの密着力を
確保するためのものである。
て、組合せ番号1〜6のものは、外部電極層220の第
1層まで配置した後、積層体の焼成を行い、次に外部電
極層220の第2層以降の形成を行う。それ以外の組合
せ番号7〜46のものは、内部電極層210まで配置し
た後、積層体の焼成を行い、次に、外部電極層220の
第1層以降の形成を行う。
うに、外部電極層220としてめっきを行う場合があ
り、そのめっき条件によっては、サージ吸収シート20
のW粉までめっきされ短絡する可能性がある。図11に
示す変形例は、このめっきによる短絡の対策を施した変
形例を示す図である。
は(a)中のC−C断面図である。図11(a)に示す
例では、積層体の最上層と最下層に、めっきが付着しな
いアルミナ等からなるシート230を設けて、めっきが
内部電極層210に付着しないように保護している。
体の側面にも上記シート230と同様のシートやペース
ト印刷などの方法にて、めっきが付着しないめっき付着
防止層240を形成しても良い。
積層基板を示す概略断面図である。
リーンシートの製造工程を示す図である。
てなる積層基板の製造工程を示す図である。
例を示す図である。
を備える電子部品の構成を示す図である。
ある。
ージ吸収材料、内部電極層材料、外部電極層材料の種々
の組合せを示す図表である。
収材料、内部電極層材料、外部電極層材料の種々の組合
せを示す図表である。
おける対向電極面積による放電電圧ばらつきの傾向を示
す図である。
層、15…表面配線、16…裏面配線、17…ビアホー
ル、18…内部導体層、20…サージ吸収シート、21
0…内部電極層、220…外部電極層。
Claims (4)
- 【請求項1】 絶縁体と導電体との混合物からなるサー
ジ吸収材料がシート状に形成されてなるサージ吸収シー
ト。 - 【請求項2】 絶縁体と導電体との混合物からなるサー
ジ吸収材料がシート状に形成されてなるサージ吸収シー
ト(20)を内蔵してなる電子部品。 - 【請求項3】 前記サージ吸収シート(20)が複数積
層されて積層体を形成しており、 前記サージ吸収シートの間に内部電極層(210)が介
在しており、 前記積層体の外周部には、前記内部電極層と導通する一
対の外部電極層(220)が設けられていることを特徴
とする請求項2に記載の電子部品。 - 【請求項4】 表面および内部に配線層が形成された複
数のセラミック層(11〜14、20)を積層すること
で表層配線(15、16)および内層配線(17、1
8)が形成されてなる積層基板(10)を備え、 前記複数のセラミック層の少なくとも一つが前記サージ
吸収シート(20)を構成していることを特徴とする請
求項2に記載の電子部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002076075A JP4078859B2 (ja) | 2002-03-19 | 2002-03-19 | 電子部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002076075A JP4078859B2 (ja) | 2002-03-19 | 2002-03-19 | 電子部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003272891A true JP2003272891A (ja) | 2003-09-26 |
| JP4078859B2 JP4078859B2 (ja) | 2008-04-23 |
Family
ID=29204972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002076075A Expired - Fee Related JP4078859B2 (ja) | 2002-03-19 | 2002-03-19 | 電子部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4078859B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013521633A (ja) * | 2010-02-26 | 2013-06-10 | ショッキング テクノロジーズ,インク. | 表面実装素子および埋め込み素子用の放電保護 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102129899B (zh) * | 2010-12-17 | 2013-03-20 | 深圳顺络电子股份有限公司 | 立式结构的低阻值片式负温度系数热敏电阻及其制造方法 |
-
2002
- 2002-03-19 JP JP2002076075A patent/JP4078859B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013521633A (ja) * | 2010-02-26 | 2013-06-10 | ショッキング テクノロジーズ,インク. | 表面実装素子および埋め込み素子用の放電保護 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4078859B2 (ja) | 2008-04-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7495884B2 (en) | Multilayer capacitor | |
| US7430107B2 (en) | Monolithic capacitor, circuit board, and circuit module | |
| KR101462769B1 (ko) | 적층 세라믹 커패시터, 그 제조방법 및 전자부품이 실장된 회로기판 | |
| JP4953988B2 (ja) | 積層コンデンサおよびコンデンサ実装基板 | |
| KR102004769B1 (ko) | 적층 세라믹 커패시터, 그 제조방법 및 적층 세라믹 커패시터 실장 기판 | |
| KR102150557B1 (ko) | 적층 세라믹 전자부품, 그 제조방법 및 전자부품이 실장된 회로기판 | |
| KR20170074470A (ko) | 적층 세라믹 전자부품 및 그 제조방법 | |
| JPH0817680A (ja) | プリント配線板およびその設計方法 | |
| US20070205514A1 (en) | Multilayer capacitor and method of manufacturing same | |
| JP3444826B2 (ja) | アレイ型多重チップ素子及びその製造方法 | |
| KR101911310B1 (ko) | 복합 전자부품 및 저항 소자 | |
| US10453617B2 (en) | Composite electronic component and resistance element | |
| KR101811370B1 (ko) | 복합 전자 부품 및 저항 소자 | |
| US8193898B2 (en) | Laminated body and manufacturing method thereof | |
| WO2008044483A1 (fr) | Élément électrique composite | |
| KR101815443B1 (ko) | 복합 전자 부품 및 저항 소자 | |
| JP2018041930A (ja) | 複合電子部品および抵抗素子 | |
| US12469644B2 (en) | Multilayer ceramic capacitor and bump-producing paste | |
| JP2003272891A (ja) | サージ吸収シートおよびそれを備える電子部品 | |
| JPS6332911A (ja) | ノイズ吸収素子 | |
| KR102052767B1 (ko) | 칩 전자부품 및 그 제조방법 | |
| KR20070002654A (ko) | 적층형 칩 커패시터 | |
| JP2006269876A (ja) | 静電気対策部品 | |
| JPH09120930A (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
| US20230343521A1 (en) | Multilayer ceramic capacitor and mounting structure of multilayer ceramic capacitor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040428 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061205 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070126 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070731 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070910 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080115 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080128 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |