JP2003251260A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 スロットダイコーターでの塗布における段状
ムラ、及び減圧によるウェブのばたつきと引き込みを改
善する。 【解決手段】 スロットダイ13を用いて、ウェブ12
の上に塗布速度30m/分の塗布を実施した。ウェブ1
2にはセルローストリアセテートを用い、塗布液14に
は液晶性化合物のメチルエチルケトン溶液を使用した。
バックアップロール11として、外径150mmのもの
を用いた。塗布時において、バックアップロールの振れ
の振れ幅を1μm以下とし、振れ幅が1μmの振動数は
1.06Hzであった。また、ウェブ12のバックアッ
プロール11に対する巻き付け角度θを5°、ウェブに
かかる張力を5×105 N/m2 とした。減圧によるウ
ェブ12のばたつきも引き込みも発生せず、塗膜に段状
ムラは認められなかった。
ムラ、及び減圧によるウェブのばたつきと引き込みを改
善する。 【解決手段】 スロットダイ13を用いて、ウェブ12
の上に塗布速度30m/分の塗布を実施した。ウェブ1
2にはセルローストリアセテートを用い、塗布液14に
は液晶性化合物のメチルエチルケトン溶液を使用した。
バックアップロール11として、外径150mmのもの
を用いた。塗布時において、バックアップロールの振れ
の振れ幅を1μm以下とし、振れ幅が1μmの振動数は
1.06Hzであった。また、ウェブ12のバックアッ
プロール11に対する巻き付け角度θを5°、ウェブに
かかる張力を5×105 N/m2 とした。減圧によるウ
ェブ12のばたつきも引き込みも発生せず、塗膜に段状
ムラは認められなかった。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、スロットダイコー
ターあるいはスライドビードコーターを用いる塗布方法
に関するものであり、特に写真感光乳化剤、磁性液、反
射防止や防眩性などを付与する液、視野角拡大効果を付
与する液、カラーフィルター用顔料液、表面保護液等の
塗布液を、プラスチックフィルムや紙、金属箔等の可撓
性支持体(以下、ウェブと称する)に塗布して、高機能
性積層膜を製造するための塗布方法に関する。
ターあるいはスライドビードコーターを用いる塗布方法
に関するものであり、特に写真感光乳化剤、磁性液、反
射防止や防眩性などを付与する液、視野角拡大効果を付
与する液、カラーフィルター用顔料液、表面保護液等の
塗布液を、プラスチックフィルムや紙、金属箔等の可撓
性支持体(以下、ウェブと称する)に塗布して、高機能
性積層膜を製造するための塗布方法に関する。
【0002】
【従来の技術】高機能性積層膜は、一般には塗布ダイを
用いるコーターにより塗布液をウェブ上に塗布させ、積
層させて製造されている。近年は高機能性積層膜の製造
において、所望の機能を発現させるために、積層膜を構
成する各層の高精度膜厚制御技術に対する要求が高まっ
ている。塗布の実施においては、様々な塗布ダイが用い
られるが、なかでもスロットダイやスライドダイといっ
た塗布ダイは、ウェブへの塗布液の吐出の際、ビードを
形成するものである。積層膜における薄層塗布への移行
は、そのビード形成に精緻な条件検討を要し、スロット
ダイやスライドダイなどの塗布ダイの設計、製作を含め
様々な検討がなされつつある。
用いるコーターにより塗布液をウェブ上に塗布させ、積
層させて製造されている。近年は高機能性積層膜の製造
において、所望の機能を発現させるために、積層膜を構
成する各層の高精度膜厚制御技術に対する要求が高まっ
ている。塗布の実施においては、様々な塗布ダイが用い
られるが、なかでもスロットダイやスライドダイといっ
た塗布ダイは、ウェブへの塗布液の吐出の際、ビードを
形成するものである。積層膜における薄層塗布への移行
は、そのビード形成に精緻な条件検討を要し、スロット
ダイやスライドダイなどの塗布ダイの設計、製作を含め
様々な検討がなされつつある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】塗布の実施において
は、様々な外乱で、一般には段状のムラと呼ばれるフィ
ルム長手方向に不均一な塗布膜厚現象が発生し、この現
象は一般に、求められる膜厚精度が厳しくなるほど重大
な問題となりやすい。段状のムラは、塗布液送液ポンプ
の脈動やその他送液系が原因となることでのダイへの塗
布液供給量の不均一化、バックアップロールによるウェ
ブの搬送速度ムラ、バックアップロールの偏心による、
前記ウェブ進行方向側のダイの先端部とバックアップロ
ールとの間の隙間の周期的な変化などが原因となってい
ることは既に知られている。ここで、バックアップロー
ルの偏心は、バックアップロールの芯がでていないこと
や、バックアップロールが厳密には真円ではないことに
起因する。
は、様々な外乱で、一般には段状のムラと呼ばれるフィ
ルム長手方向に不均一な塗布膜厚現象が発生し、この現
象は一般に、求められる膜厚精度が厳しくなるほど重大
な問題となりやすい。段状のムラは、塗布液送液ポンプ
の脈動やその他送液系が原因となることでのダイへの塗
布液供給量の不均一化、バックアップロールによるウェ
ブの搬送速度ムラ、バックアップロールの偏心による、
前記ウェブ進行方向側のダイの先端部とバックアップロ
ールとの間の隙間の周期的な変化などが原因となってい
ることは既に知られている。ここで、バックアップロー
ルの偏心は、バックアップロールの芯がでていないこと
や、バックアップロールが厳密には真円ではないことに
起因する。
【0004】ところで、ダイとバックアップロールとの
間には、安定的にビードを形成するために減圧チャンバ
ーが設けられている。前記バックアップロールの偏心
は、減圧チャンバーの、ウェブあるいはバックアップロ
ールとの各隙間が周期的に変化することにつながる。こ
の各隙間の変化により、その周辺の空気の漏れ量が周期
的に変化して減圧度が一定せず、ビードが振動してしま
い、その結果として塗膜の段状ムラが発現する。塗布工
程におけるこれらの問題の本質的な解決方法は、各要因
を可能な限りそれぞれ低減することであるが、技術面及
びコスト面から、すべてを完全に解決するには至ってい
ない。このように、偏心したバックアップロールの回転
により、様々な現象が発生し、段状ムラなどの面状欠陥
につながる。
間には、安定的にビードを形成するために減圧チャンバ
ーが設けられている。前記バックアップロールの偏心
は、減圧チャンバーの、ウェブあるいはバックアップロ
ールとの各隙間が周期的に変化することにつながる。こ
の各隙間の変化により、その周辺の空気の漏れ量が周期
的に変化して減圧度が一定せず、ビードが振動してしま
い、その結果として塗膜の段状ムラが発現する。塗布工
程におけるこれらの問題の本質的な解決方法は、各要因
を可能な限りそれぞれ低減することであるが、技術面及
びコスト面から、すべてを完全に解決するには至ってい
ない。このように、偏心したバックアップロールの回転
により、様々な現象が発生し、段状ムラなどの面状欠陥
につながる。
【0005】また、減圧チャンバーでの減圧により、バ
ックアップロールにラップされて搬送されるウェブが、
減圧チャンバー内に引き込まれて、バックアップロール
に維持されなくなり、ばたつきを起こすという問題もあ
る。この現象は、特に、ウェブの両側端部に発生する場
合が多い。
ックアップロールにラップされて搬送されるウェブが、
減圧チャンバー内に引き込まれて、バックアップロール
に維持されなくなり、ばたつきを起こすという問題もあ
る。この現象は、特に、ウェブの両側端部に発生する場
合が多い。
【0006】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、ウェブ上への塗布、特に段状ムラのない塗膜を
形成するための連続的な塗布方法を提供することを目的
とする。
であり、ウェブ上への塗布、特に段状ムラのない塗膜を
形成するための連続的な塗布方法を提供することを目的
とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記段状のムラの原因で
あるポンプの脈動とウェブの搬送速度ムラに関しては、
塗布設備の基本的設計に関わる問題であり、塗布工程に
おける塗布条件の設定のみでこれを解決するのには限界
がある。一方、ビードの振動については、本発明者らの
検討の結果、様々な振動数に対する応答は均一ではな
く、比較的高振動数である3Hz以上のバックアップロ
ールの振れ及びその回転によって生じる外乱の振動に感
度良く応答してしまうことが明らかになった。そこで本
発明者らは、塗布工程のみで段状ムラを解決することが
できるものとして偏心しているバックアップロールの回
転による振れに着目し、その振れを制御することによる
上記課題の解決を試みた。
あるポンプの脈動とウェブの搬送速度ムラに関しては、
塗布設備の基本的設計に関わる問題であり、塗布工程に
おける塗布条件の設定のみでこれを解決するのには限界
がある。一方、ビードの振動については、本発明者らの
検討の結果、様々な振動数に対する応答は均一ではな
く、比較的高振動数である3Hz以上のバックアップロ
ールの振れ及びその回転によって生じる外乱の振動に感
度良く応答してしまうことが明らかになった。そこで本
発明者らは、塗布工程のみで段状ムラを解決することが
できるものとして偏心しているバックアップロールの回
転による振れに着目し、その振れを制御することによる
上記課題の解決を試みた。
【0008】上記目的を達成するために、本発明の塗布
方法は、スロットダイコーターまたはスライドビードコ
ーターを用いて、バックアップロールで支持されて走行
するウェブに対して塗布液を塗布する方法において、前
記バックアップロールの回転による振れの振れ幅を10
μm未満とすることを特徴として構成されている。
方法は、スロットダイコーターまたはスライドビードコ
ーターを用いて、バックアップロールで支持されて走行
するウェブに対して塗布液を塗布する方法において、前
記バックアップロールの回転による振れの振れ幅を10
μm未満とすることを特徴として構成されている。
【0009】さらに、前記バックアップロールの回転に
よる振れであって、その振れ幅が1μm以上10μm未
満である振れの振動数を3Hz以下にすることが好まし
く、バックアップロールの直径及び塗布速度を変更し
て、前記振れ幅の振れの振動数を3Hz以下にするのが
よい。減圧チャンバーに対して上流側の前記ウェブを、
バックアップロールに5度以上巻きかけることが好まし
い。さらに、ウェブの張力を5×105 N/m2 以上に
することが好ましい。
よる振れであって、その振れ幅が1μm以上10μm未
満である振れの振動数を3Hz以下にすることが好まし
く、バックアップロールの直径及び塗布速度を変更し
て、前記振れ幅の振れの振動数を3Hz以下にするのが
よい。減圧チャンバーに対して上流側の前記ウェブを、
バックアップロールに5度以上巻きかけることが好まし
い。さらに、ウェブの張力を5×105 N/m2 以上に
することが好ましい。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の塗布方法では、公知の各
種溶媒を用いた塗布液を使用することができる。例えば
水、各種ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、
エステル、ケトンなどを単独あるいは複数混合して使用
することができる。
種溶媒を用いた塗布液を使用することができる。例えば
水、各種ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、
エステル、ケトンなどを単独あるいは複数混合して使用
することができる。
【0011】また、可撓性支持体としては公知の各種ウ
ェブを用いることができる。一般的にはポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、
セルロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイ
ミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィル
ム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
ブテン共重合体等の炭素数が2〜10のα−ポリオレフ
ィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミ
ニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備
的な加工層を形成させたもの、あるいはこれらを積層し
た各種複合材料が含まれる。さらに前記のウェブには、
光学補償シート塗布液、反射防止フィルム塗布液、磁性
塗布液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あるい
は滑性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥された
後、所望する長さ及び幅に裁断される場合も含まれ、こ
の代表例としては、光学補償シート、反射防止フィルム
等が挙げられるが、これらに限定されない。
ェブを用いることができる。一般的にはポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、
セルロースダイアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイ
ミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフィル
ム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
ブテン共重合体等の炭素数が2〜10のα−ポリオレフ
ィン類を塗布またはラミネートした各種積層紙、アルミ
ニウム、銅、スズ等の金属箔等、帯状基材の表面に予備
的な加工層を形成させたもの、あるいはこれらを積層し
た各種複合材料が含まれる。さらに前記のウェブには、
光学補償シート塗布液、反射防止フィルム塗布液、磁性
塗布液、写真感光性塗布液、表面保護、帯電防止あるい
は滑性用塗布液等がその表面に塗布され、乾燥された
後、所望する長さ及び幅に裁断される場合も含まれ、こ
の代表例としては、光学補償シート、反射防止フィルム
等が挙げられるが、これらに限定されない。
【0012】また、本発明は、単層の1回塗布のみなら
ず、重層逐次塗布に対しても有効である。塗布時の温度
において塗布液は、粘度が0.5〜100mPa・s、
また表面張力としては20〜70mN/mの範囲が好ま
しい。塗布速度は、概ね100m/分以下の領域で適用
可能である。
ず、重層逐次塗布に対しても有効である。塗布時の温度
において塗布液は、粘度が0.5〜100mPa・s、
また表面張力としては20〜70mN/mの範囲が好ま
しい。塗布速度は、概ね100m/分以下の領域で適用
可能である。
【0013】まず、本発明の詳細についてスロットダイ
コーターを例に挙げて説明をするが、以下の内容はスラ
イドビードコーターにもそのままあてはまる。図1は本
発明を実施したスロットダイを用いたコーターの断面図
である。コーター10はバックアップロール11に支持
されて連続走行するウェブ12に対して、スロットダイ
13から塗布液14をビード14aにして塗布すること
により、ウェブ12上に塗膜14bを形成する。
コーターを例に挙げて説明をするが、以下の内容はスラ
イドビードコーターにもそのままあてはまる。図1は本
発明を実施したスロットダイを用いたコーターの断面図
である。コーター10はバックアップロール11に支持
されて連続走行するウェブ12に対して、スロットダイ
13から塗布液14をビード14aにして塗布すること
により、ウェブ12上に塗膜14bを形成する。
【0014】スロットダイ13の内部にはポケット1
5、スロット16が形成されている。ポケット15は、
その断面が曲線及び直線で構成されており、略円形でも
よいし、あるいは半円形でもよい。ポケット15は、ス
ロットダイ13の幅方向にその断面形状をもって延長さ
れた塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗
布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケッ
ト15への塗布液14の供給は、スロットダイ13の側
面から、あるいはスロット開口部16aとは反対側の面
中央から行う。また、ポケット15には塗布液14が漏
れ出ることを防止する栓が設けられている。
5、スロット16が形成されている。ポケット15は、
その断面が曲線及び直線で構成されており、略円形でも
よいし、あるいは半円形でもよい。ポケット15は、ス
ロットダイ13の幅方向にその断面形状をもって延長さ
れた塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗
布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケッ
ト15への塗布液14の供給は、スロットダイ13の側
面から、あるいはスロット開口部16aとは反対側の面
中央から行う。また、ポケット15には塗布液14が漏
れ出ることを防止する栓が設けられている。
【0015】スロット16は、ポケット15からウェブ
12への塗布液14の流路であり、ポケット15と同様
にスロットダイ13の幅方向にその断面形状をもち、ウ
ェブ側に位置する開口部16aは、一般に、図示しない
幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さ
の幅になるように調整する。このスロット16の先端に
おける、バックアップロール11のウェブ走行方向の接
線とのなす角は、30°以上90°以下が好ましい。
12への塗布液14の流路であり、ポケット15と同様
にスロットダイ13の幅方向にその断面形状をもち、ウ
ェブ側に位置する開口部16aは、一般に、図示しない
幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さ
の幅になるように調整する。このスロット16の先端に
おける、バックアップロール11のウェブ走行方向の接
線とのなす角は、30°以上90°以下が好ましい。
【0016】スロット16の開口部16aが位置するス
ロットダイ13の先端リップ17は先細り状に形成され
ており、その先端はランドと呼ばれる平坦部18とされ
ている。このランド18であって、スロット16に対し
てウェブ12の進行方向の上流側を上流側リップランド
18a、下流側を下流側リップランド18bと称する。
ロットダイ13の先端リップ17は先細り状に形成され
ており、その先端はランドと呼ばれる平坦部18とされ
ている。このランド18であって、スロット16に対し
てウェブ12の進行方向の上流側を上流側リップランド
18a、下流側を下流側リップランド18bと称する。
【0017】図2は、本発明を実施した塗布工程のスロ
ットダイ及びその周辺を示す斜視図である。ウェブ12
の進行方向側とは反対側(以下、上流側と称する)に、
ビード14aに対して十分な減圧調整を行えるよう、接
触しない位置に減圧チャンバー30を設置する。減圧チ
ャンバー30は、その作動効率を保持するためのバック
プレート30aとサイドプレート30bを備えており、
バックプレート30aとウェブ12の間、サイドプレー
ト30bとウェブ12の間にはそれぞれ隙間が存在す
る。
ットダイ及びその周辺を示す斜視図である。ウェブ12
の進行方向側とは反対側(以下、上流側と称する)に、
ビード14aに対して十分な減圧調整を行えるよう、接
触しない位置に減圧チャンバー30を設置する。減圧チ
ャンバー30は、その作動効率を保持するためのバック
プレート30aとサイドプレート30bを備えており、
バックプレート30aとウェブ12の間、サイドプレー
ト30bとウェブ12の間にはそれぞれ隙間が存在す
る。
【0018】バックプレート30aは、減圧チャンバー
本体と一体のものであってもよいし、ウェブとの隙間を
適宜変えられるように減圧チャンバーにネジなどで留め
られている構造でもよい。またサイドプレート30b
は、バックアップロール11の外周面にそった円弧形状
であり、バックプレート30aと同様に、チャンバー本
体と一体のものであってもよいし、あるいは適宜ウェブ
との隙間を変えられるように、減圧チャンバーにネジ留
めされているものでもよい。
本体と一体のものであってもよいし、ウェブとの隙間を
適宜変えられるように減圧チャンバーにネジなどで留め
られている構造でもよい。またサイドプレート30b
は、バックアップロール11の外周面にそった円弧形状
であり、バックプレート30aと同様に、チャンバー本
体と一体のものであってもよいし、あるいは適宜ウェブ
との隙間を変えられるように、減圧チャンバーにネジ留
めされているものでもよい。
【0019】減圧は、減圧チャンバー30を金属配管3
1あるいはフレキシブルホースによりブロア32に接続
して、減圧チャンバー30の内部の空気を連続的に吸引
することにより行う。減圧チャンバー30とブロア32
との間には、減圧度調整用のバルブ33及び圧力変動低
減用のバッファ34を設ける。なお、バルブ33に代え
て、あるいはバルブ33に加えてブロア32の回転数を
制御することで減圧度を調整してもよい。
1あるいはフレキシブルホースによりブロア32に接続
して、減圧チャンバー30の内部の空気を連続的に吸引
することにより行う。減圧チャンバー30とブロア32
との間には、減圧度調整用のバルブ33及び圧力変動低
減用のバッファ34を設ける。なお、バルブ33に代え
て、あるいはバルブ33に加えてブロア32の回転数を
制御することで減圧度を調整してもよい。
【0020】図3は、本発明を実施した塗布工程の減圧
チャンバー及びその周辺を示す断面図である。生産性を
上げるために、通常は、ビード14aの形成に不利でな
い範囲でウェブ12をより速く搬送、つまりバックアッ
プロール11の回転速度を上げる。しかし、ビード14
aは、偏心しているバックアップロール11の回転によ
る振れに対してのみならず、バックアップロール11の
回転によるスロットダイ13の先端とバックアップロー
ル11との隙間及び減圧度の周期的な変化により発生す
る外乱に対しても、その振動数が高くなるほど応答し、
振動してしまうので、生産性とバックアップロール11
の回転による振れの抑制という双方の条件を満足するた
めには、バックアップロール11の径を大きくし、か
つ、その回転速度を低くするとよい。
チャンバー及びその周辺を示す断面図である。生産性を
上げるために、通常は、ビード14aの形成に不利でな
い範囲でウェブ12をより速く搬送、つまりバックアッ
プロール11の回転速度を上げる。しかし、ビード14
aは、偏心しているバックアップロール11の回転によ
る振れに対してのみならず、バックアップロール11の
回転によるスロットダイ13の先端とバックアップロー
ル11との隙間及び減圧度の周期的な変化により発生す
る外乱に対しても、その振動数が高くなるほど応答し、
振動してしまうので、生産性とバックアップロール11
の回転による振れの抑制という双方の条件を満足するた
めには、バックアップロール11の径を大きくし、か
つ、その回転速度を低くするとよい。
【0021】バックアップロール11には、偏心によっ
て、その芯11aから外周面までの距離にμmオーダー
のばらつきがある。また、バックアップロールを支持す
る軸受け部にも製造誤差がある。このため、バックアッ
プロール11の回転時に、これらのばらつき、つまりバ
ックアップロール11の振れと、この振れによる外乱が
ビード14aに伝達し、ビード14aが震える。バック
アップロール11の回転によるこの振れの振動数は、回
転速度に応じた値を示す。
て、その芯11aから外周面までの距離にμmオーダー
のばらつきがある。また、バックアップロールを支持す
る軸受け部にも製造誤差がある。このため、バックアッ
プロール11の回転時に、これらのばらつき、つまりバ
ックアップロール11の振れと、この振れによる外乱が
ビード14aに伝達し、ビード14aが震える。バック
アップロール11の回転によるこの振れの振動数は、回
転速度に応じた値を示す。
【0022】図4には、バックアップロール11の回転
による振れの変位の測定データの一例を示す。バックア
ップロール11の振れについては、バックアップロール
11の表面近傍にレーザー変位計を設置し、レーザーの
反射光の変位をリアルタイムに測定したデータをFFT
アナライザ等で解析し振動数を求める。バックアップロ
ールの振れ11の振れ幅Aは、ひとつの振れの最大値M
axと最小値Minの差で表される。バックアップロー
ル11の回転による振れの振れ幅Aは10μm未満と
し、好ましくは1μm以上10μm未満の振れ幅Aをも
つ振動では3Hz以下の振動数に、さらに好ましくは
2.5Hz以下の振動数となるように、回転速度を調節
する。バックアップロールの回転による振れの振動数を
上記のように抑制することによって、その回転によって
生じた様々な外乱の振動の振動数も抑制することができ
る。
による振れの変位の測定データの一例を示す。バックア
ップロール11の振れについては、バックアップロール
11の表面近傍にレーザー変位計を設置し、レーザーの
反射光の変位をリアルタイムに測定したデータをFFT
アナライザ等で解析し振動数を求める。バックアップロ
ールの振れ11の振れ幅Aは、ひとつの振れの最大値M
axと最小値Minの差で表される。バックアップロー
ル11の回転による振れの振れ幅Aは10μm未満と
し、好ましくは1μm以上10μm未満の振れ幅Aをも
つ振動では3Hz以下の振動数に、さらに好ましくは
2.5Hz以下の振動数となるように、回転速度を調節
する。バックアップロールの回転による振れの振動数を
上記のように抑制することによって、その回転によって
生じた様々な外乱の振動の振動数も抑制することができ
る。
【0023】図3に示したように、ウェブ12はバック
アップロール11に巻き取られながら搬送され、減圧チ
ャンバー30の内部に入る。ここで、ウェブ12の、バ
ックアップロール11に対する巻きかけ角度をできるだ
け大きくする。具体的には、減圧チャンバー30のバッ
クプレート30aとの対向位置から上流側に5°以上の
巻きかけ角度θをもって減圧チャンバー30に搬入す
る。これにより、減圧度を高くすることによって発生す
るウェブ12のばたつきや減圧チャンバー30の内部へ
の引き込みを抑えることができる。
アップロール11に巻き取られながら搬送され、減圧チ
ャンバー30の内部に入る。ここで、ウェブ12の、バ
ックアップロール11に対する巻きかけ角度をできるだ
け大きくする。具体的には、減圧チャンバー30のバッ
クプレート30aとの対向位置から上流側に5°以上の
巻きかけ角度θをもって減圧チャンバー30に搬入す
る。これにより、減圧度を高くすることによって発生す
るウェブ12のばたつきや減圧チャンバー30の内部へ
の引き込みを抑えることができる。
【0024】さらに、減圧チャンバー30に入るとき、
ウェブ12にかかる張力を5×10 5 N/m2 以上にす
ることが好ましく、6×105 N/m2 以上にすること
がさらに好ましい。ウェブの張力(単位;N/m2 )
は、ウェブ全体にかかる力をF(単位;kg)、ウェブ
の厚みをT(単位;m)、ウェブの幅をD(単位;m)
としたとき、算出式 9.8F/TD により求める
が、本発明では9.8≒10とした。例えば、厚み10
0μm、幅1mのウェブを10kgの力で引っ張ったと
き、ウェブに対する張力は約1×106 (N/m2 )と
なる。以上の方法により、高減圧化によるウェブ12の
ばたつきあるいは減圧チャンバー30への引き込みを抑
える作用がさらに向上する。ウェブ12にかかる張力
は、バックアップロールの前後に位置するパスロールで
のウェブ搬送速度とバックアップロールによるウェブ搬
送速度との速度差をもって調節したが、この方法に限定
されるものではない。
ウェブ12にかかる張力を5×10 5 N/m2 以上にす
ることが好ましく、6×105 N/m2 以上にすること
がさらに好ましい。ウェブの張力(単位;N/m2 )
は、ウェブ全体にかかる力をF(単位;kg)、ウェブ
の厚みをT(単位;m)、ウェブの幅をD(単位;m)
としたとき、算出式 9.8F/TD により求める
が、本発明では9.8≒10とした。例えば、厚み10
0μm、幅1mのウェブを10kgの力で引っ張ったと
き、ウェブに対する張力は約1×106 (N/m2 )と
なる。以上の方法により、高減圧化によるウェブ12の
ばたつきあるいは減圧チャンバー30への引き込みを抑
える作用がさらに向上する。ウェブ12にかかる張力
は、バックアップロールの前後に位置するパスロールで
のウェブ搬送速度とバックアップロールによるウェブ搬
送速度との速度差をもって調節したが、この方法に限定
されるものではない。
【0025】
【実施例】〔実施例1〕既存の光学補償シート製造工程
に、本発明の塗布方法を組み入れ実施した。光学補償シ
ート製造工程では、ウェブは送出機により送られ、ガイ
ドロールによって支持されながらラビング処理ロールを
経るが、この後、本発明の塗布工程を組み入れる。その
後、乾燥ゾーン、加熱ゾーン、紫外線ランプを通過し、
巻き取り機によって巻き取るのが基本工程である。
に、本発明の塗布方法を組み入れ実施した。光学補償シ
ート製造工程では、ウェブは送出機により送られ、ガイ
ドロールによって支持されながらラビング処理ロールを
経るが、この後、本発明の塗布工程を組み入れる。その
後、乾燥ゾーン、加熱ゾーン、紫外線ランプを通過し、
巻き取り機によって巻き取るのが基本工程である。
【0026】スロットダイ13は、上流側リップランド
長さが1mm、下流側リップランド長さが50μmで,
スロット16の開口部のウェブ走行方向における長さが
150μm、スロット16の長さが50mmのものを使
用し、湿潤膜厚5μmの塗布を行った。先端リップ17
とウェブ12との隙間を50μmに設定した。バックア
ップロール11は、その断面の外径が150mmのもの
を用い、塗布速度を30m/分とした。塗布時におい
て、バックアップロールの回転による振れ幅Aを1μm
以下とし、振れ幅Aが1μmの振れの振動数が1.06
Hzであった。また、ウェブ12の巻きかけ角度θを5
°とし、ウェブ12の張力を5×105 N/m2 とし
た。
長さが1mm、下流側リップランド長さが50μmで,
スロット16の開口部のウェブ走行方向における長さが
150μm、スロット16の長さが50mmのものを使
用し、湿潤膜厚5μmの塗布を行った。先端リップ17
とウェブ12との隙間を50μmに設定した。バックア
ップロール11は、その断面の外径が150mmのもの
を用い、塗布速度を30m/分とした。塗布時におい
て、バックアップロールの回転による振れ幅Aを1μm
以下とし、振れ幅Aが1μmの振れの振動数が1.06
Hzであった。また、ウェブ12の巻きかけ角度θを5
°とし、ウェブ12の張力を5×105 N/m2 とし
た。
【0027】ウェブ12には、厚み100μmのセルロ
ーストリアセテート(商品名;フジタック、富士写真フ
イルム(株)製)を用い、これに塗布液を塗布する前に
長鎖アルキル変性ポリビニルアルコール(商品名;ポバ
ールMP−203、クラレ(株)製)の2重量%溶液を
25ml/m2 で塗布し、60℃で1分間乾燥して配向
膜用樹脂層を形成した。配向膜用樹脂層をあらかじめ形
成したウェブ12を送り、配向膜用樹脂層の表面にラビ
ング処理を施して配向膜を形成し、そのまま塗布工程へ
搬送して塗布を実施した。なお、ラビング処理における
ラビングローラの回転周速を5.0m/秒とし、ウェブ
12に対する押しつけ圧力を9.8×10-3Paに設定
した。
ーストリアセテート(商品名;フジタック、富士写真フ
イルム(株)製)を用い、これに塗布液を塗布する前に
長鎖アルキル変性ポリビニルアルコール(商品名;ポバ
ールMP−203、クラレ(株)製)の2重量%溶液を
25ml/m2 で塗布し、60℃で1分間乾燥して配向
膜用樹脂層を形成した。配向膜用樹脂層をあらかじめ形
成したウェブ12を送り、配向膜用樹脂層の表面にラビ
ング処理を施して配向膜を形成し、そのまま塗布工程へ
搬送して塗布を実施した。なお、ラビング処理における
ラビングローラの回転周速を5.0m/秒とし、ウェブ
12に対する押しつけ圧力を9.8×10-3Paに設定
した。
【0028】塗布液14としては、ディスコティック化
合物TE−(1)とTE−(2)の重量比率4:1の混
合物に、光重合開始剤(商品名;イルガキュア907、
日本チバガイギー(株)製)を1重量%添加した40重
量%メチルエチルケトン溶液である、液晶性化合物を含
む溶液を用いた。塗布液14を塗布したウェブ12を、
100℃に設定した乾燥ゾーン、及び130℃に設定し
た加熱ゾーンを通過させ、その表面の液晶層に紫外線ラ
ンプ(160W空冷メタルハライドランプ、アイグラフ
ィックス(株)製)を用いて紫外線を照射した。巻き取
ったあと塗膜14bの段状ムラを目視検査した。この結
果、本実施例では、ウェブのばたつきや引きこみが発生
せず、得られた塗膜14bに段状ムラはほとんど認めら
れなかった。
合物TE−(1)とTE−(2)の重量比率4:1の混
合物に、光重合開始剤(商品名;イルガキュア907、
日本チバガイギー(株)製)を1重量%添加した40重
量%メチルエチルケトン溶液である、液晶性化合物を含
む溶液を用いた。塗布液14を塗布したウェブ12を、
100℃に設定した乾燥ゾーン、及び130℃に設定し
た加熱ゾーンを通過させ、その表面の液晶層に紫外線ラ
ンプ(160W空冷メタルハライドランプ、アイグラフ
ィックス(株)製)を用いて紫外線を照射した。巻き取
ったあと塗膜14bの段状ムラを目視検査した。この結
果、本実施例では、ウェブのばたつきや引きこみが発生
せず、得られた塗膜14bに段状ムラはほとんど認めら
れなかった。
【0029】
【化1】
【0030】〔実施例2〕バックアップロール11に、
断面の直径が300mmのものを用い、塗布時におい
て、バックアップロール11の回転による振れの振れ幅
Aを1μm以下とし、振れ幅Aが1μmの振れの振動数
が0.53Hzであったほかは実施例1と同様に実施し
た。この結果、本実施例2では、ウェブのばたつきや引
き込みが発生せず、得られた塗膜14bに段状ムラは認
められなかった。
断面の直径が300mmのものを用い、塗布時におい
て、バックアップロール11の回転による振れの振れ幅
Aを1μm以下とし、振れ幅Aが1μmの振れの振動数
が0.53Hzであったほかは実施例1と同様に実施し
た。この結果、本実施例2では、ウェブのばたつきや引
き込みが発生せず、得られた塗膜14bに段状ムラは認
められなかった。
【0031】〔実施例3〕バックアップロール11とし
て断面の直径が300mmのものを用い、塗布速度を1
00m/分とし、塗布時においてバックアップロール1
1の回転による振れの振れ幅Aを5μm以下とし、振れ
幅Aが5μmの振れの振動数が2.76Hzであったほ
かは、実施例1と同様に実施した。この結果、本実施例
3では、ウェブ12のばたつきや引き込みが発生せず、
得られた塗膜14bに段状ムラは認められなかった。
て断面の直径が300mmのものを用い、塗布速度を1
00m/分とし、塗布時においてバックアップロール1
1の回転による振れの振れ幅Aを5μm以下とし、振れ
幅Aが5μmの振れの振動数が2.76Hzであったほ
かは、実施例1と同様に実施した。この結果、本実施例
3では、ウェブ12のばたつきや引き込みが発生せず、
得られた塗膜14bに段状ムラは認められなかった。
【0032】〔実施例4〕バックアップロール11とし
て断面の直径が150mmのものを用い、塗布速度を1
00m/分とし、塗布時においてバックアップロール1
1の回転による振れの振れ幅Aを0.8μm以下とし、
振れ幅Aが0.8μmの振れの振動数が3.53Hzで
あったほかは実施例1と同様に実施した。この結果、本
実施例では、ウェブのばたつきや引き込みが発生せず、
得られた塗膜14bに段状ムラは認められなかった。
て断面の直径が150mmのものを用い、塗布速度を1
00m/分とし、塗布時においてバックアップロール1
1の回転による振れの振れ幅Aを0.8μm以下とし、
振れ幅Aが0.8μmの振れの振動数が3.53Hzで
あったほかは実施例1と同様に実施した。この結果、本
実施例では、ウェブのばたつきや引き込みが発生せず、
得られた塗膜14bに段状ムラは認められなかった。
【0033】〔比較例1〕バックアップロール11の回
転による振れ幅Aを11μm以下とし、振れ幅Aが11
μmの振れの振動数が1.06Hzであったほかは実施
例1と同様に実施した。この結果、本比較例では、減圧
チャンバー30に搬入した直後のウェブ12にはばたつ
きも引き込みも発生しなかったが、得られた塗膜14b
には段状ムラがあった。
転による振れ幅Aを11μm以下とし、振れ幅Aが11
μmの振れの振動数が1.06Hzであったほかは実施
例1と同様に実施した。この結果、本比較例では、減圧
チャンバー30に搬入した直後のウェブ12にはばたつ
きも引き込みも発生しなかったが、得られた塗膜14b
には段状ムラがあった。
【0034】〔比較例2〕塗布速度を100m/分と
し、塗布時において、バックアップロール11の回転に
よる振れ幅Aを5μm以下とし、振れ幅Aが5μmの振
れの振動数が3.53Hzであったほかは、実施例1と
同様に実施した。この結果、本比較例では、減圧チャン
バー30に搬入した直後のウェブ12にはばたつきも引
き込みも発生しなかったが、得られた塗膜14bには段
状ムラがあった。
し、塗布時において、バックアップロール11の回転に
よる振れ幅Aを5μm以下とし、振れ幅Aが5μmの振
れの振動数が3.53Hzであったほかは、実施例1と
同様に実施した。この結果、本比較例では、減圧チャン
バー30に搬入した直後のウェブ12にはばたつきも引
き込みも発生しなかったが、得られた塗膜14bには段
状ムラがあった。
【0035】以上実施例1〜4及び比較例1,2の結果
より、バックアップロール11の回転による振れの振れ
幅Aを10μm未満とし、振れ幅Aが1μm以上10μ
m未満の振れの振動数を3Hz以下とすることにより、
外乱による影響も低減することができ、塗膜14bの段
状ムラを抑制することができることがわかる。
より、バックアップロール11の回転による振れの振れ
幅Aを10μm未満とし、振れ幅Aが1μm以上10μ
m未満の振れの振動数を3Hz以下とすることにより、
外乱による影響も低減することができ、塗膜14bの段
状ムラを抑制することができることがわかる。
【0036】〔実施例5〕ウェブ12として、膜厚80
μmのセルローストリアセテート(商品名;フジタッ
ク、富士写真フイルム(株)製)を使用し、塗布液を塗
布する前に、ウェブ12の表面に、紫外線硬化性ハード
コート組成物(商品名;デソライトZ−7526、72
重量%、JSR(株)製)250gをメチルエチルケト
ン62g及びシクロヘキサン88gの混合溶媒に溶解し
た液を8.6ml/m2 で塗布した。これを120℃で
5分間乾燥させ、160W/cmの空冷メタルハライド
ランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて紫外線
を照射することにより前記紫外線硬化性組成物を硬化さ
せ、ウェブ12の表面に厚さ25μmのハードコート層
を形成した。
μmのセルローストリアセテート(商品名;フジタッ
ク、富士写真フイルム(株)製)を使用し、塗布液を塗
布する前に、ウェブ12の表面に、紫外線硬化性ハード
コート組成物(商品名;デソライトZ−7526、72
重量%、JSR(株)製)250gをメチルエチルケト
ン62g及びシクロヘキサン88gの混合溶媒に溶解し
た液を8.6ml/m2 で塗布した。これを120℃で
5分間乾燥させ、160W/cmの空冷メタルハライド
ランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて紫外線
を照射することにより前記紫外線硬化性組成物を硬化さ
せ、ウェブ12の表面に厚さ25μmのハードコート層
を形成した。
【0037】塗布液14として、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)
91gと酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布
液(デソライトZ−7401、JSR(株)製)218
gを、メチルエチルケトンとシクロヘキサンの重量比率
が4:6である混合溶液52gに溶解し、この溶液に光
重合開光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガ
イギー(株)製)10gを加えたものを使用して、走行
速度30m/分で走行させるハードコート層を形成した
ウェブ12の上に4.2ml/m2 で塗布した。バック
アップロール11には、断面の直径が150mmのもの
を用いた。塗布時において、バックアップロール11の
回転による振れ幅Aを1μm以下とし、振れ幅Aが1μ
mの振れの振動数は1.06Hzであった。用いたスロ
ットダイ13、先端リップ17とウェブ12との隙間
等、ほかの条件については実施例1と同様に実施した。
この結果、本実施例5では、ウェブのばたつきや引き込
みは発生せず、得られた塗膜14bに段状ムラは認めら
れなかった。
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)
91gと酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布
液(デソライトZ−7401、JSR(株)製)218
gを、メチルエチルケトンとシクロヘキサンの重量比率
が4:6である混合溶液52gに溶解し、この溶液に光
重合開光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガ
イギー(株)製)10gを加えたものを使用して、走行
速度30m/分で走行させるハードコート層を形成した
ウェブ12の上に4.2ml/m2 で塗布した。バック
アップロール11には、断面の直径が150mmのもの
を用いた。塗布時において、バックアップロール11の
回転による振れ幅Aを1μm以下とし、振れ幅Aが1μ
mの振れの振動数は1.06Hzであった。用いたスロ
ットダイ13、先端リップ17とウェブ12との隙間
等、ほかの条件については実施例1と同様に実施した。
この結果、本実施例5では、ウェブのばたつきや引き込
みは発生せず、得られた塗膜14bに段状ムラは認めら
れなかった。
【0038】〔実施例6〕バックアップロール11に、
断面の直径が300mmのものを用い、塗布時におい
て、バックアップロール11の回転による振れの振れ幅
Aを1μm以下とし、振れ幅Aが1μmの振れの振動数
が0.53Hzであったほかは実施例5と同様に実施し
た。この結果、本実施例では、ウェブ12のばたつきや
引き込みは発生せず、得られた塗膜14bに段状ムラは
認められなかった。
断面の直径が300mmのものを用い、塗布時におい
て、バックアップロール11の回転による振れの振れ幅
Aを1μm以下とし、振れ幅Aが1μmの振れの振動数
が0.53Hzであったほかは実施例5と同様に実施し
た。この結果、本実施例では、ウェブ12のばたつきや
引き込みは発生せず、得られた塗膜14bに段状ムラは
認められなかった。
【0039】〔実施例7〕バックアップロール11に、
断面の直径が300mmのものを用い、塗布速度を10
0m/分とし、塗布時において、バックアップロール1
1の回転による振れの振れ幅Aを1μm以下とし、振れ
幅Aが1μmの振れの振動数が2.76Hzであったほ
かは、実施例5と同様に実施した。この結果、本実施例
では、ウェブ12のばたつきや引き込みは発生せず、得
られた塗膜14bに段状ムラは認められなかった。
断面の直径が300mmのものを用い、塗布速度を10
0m/分とし、塗布時において、バックアップロール1
1の回転による振れの振れ幅Aを1μm以下とし、振れ
幅Aが1μmの振れの振動数が2.76Hzであったほ
かは、実施例5と同様に実施した。この結果、本実施例
では、ウェブ12のばたつきや引き込みは発生せず、得
られた塗膜14bに段状ムラは認められなかった。
【0040】〔実施例8〕バックアップロール11に、
断面の直径が150mmのものを用い、塗布速度を10
0m/分とし、塗布時において、バックアップロール1
1の回転による振れの振れ幅Aを0.8μm以下とし、
振れ幅Aが0.8μmの振れの振動数が3.53Hzで
あったほかは実施例5と同様に実施した。この結果、本
実施例では、ウェブのばたつきや引き込みが発生せず、
得られた塗膜14bに段状ムラは認められなかった。
断面の直径が150mmのものを用い、塗布速度を10
0m/分とし、塗布時において、バックアップロール1
1の回転による振れの振れ幅Aを0.8μm以下とし、
振れ幅Aが0.8μmの振れの振動数が3.53Hzで
あったほかは実施例5と同様に実施した。この結果、本
実施例では、ウェブのばたつきや引き込みが発生せず、
得られた塗膜14bに段状ムラは認められなかった。
【0041】〔比較例3〕バックアップロール11の回
転による振れの振れ幅Aを11μm以下とし、振れ幅A
が11μmの振れの振動数が1.06Hzであったほか
は実施例5と同様に実施した。この結果、本比較例で
は、減圧チャンバー30に搬入した直後のウェブ12に
はばたつきも引き込みも発生しなかったが、得られた塗
膜14bには段状ムラがあった。
転による振れの振れ幅Aを11μm以下とし、振れ幅A
が11μmの振れの振動数が1.06Hzであったほか
は実施例5と同様に実施した。この結果、本比較例で
は、減圧チャンバー30に搬入した直後のウェブ12に
はばたつきも引き込みも発生しなかったが、得られた塗
膜14bには段状ムラがあった。
【0042】〔比較例4〕塗布速度を100m/分と
し、塗布時において、バックアップロール11の回転に
よる振れの振れ幅Aを1μm以下とし、振れ幅が1μm
の振れの振動数が3.53Hzであったほかは、実施例
5と同様に実施した。この結果、本比較例2では、ウェ
ブ12のばたつきや引き込みは発生しなかったが、得ら
れた塗膜14bには段状ムラがあった。
し、塗布時において、バックアップロール11の回転に
よる振れの振れ幅Aを1μm以下とし、振れ幅が1μm
の振れの振動数が3.53Hzであったほかは、実施例
5と同様に実施した。この結果、本比較例2では、ウェ
ブ12のばたつきや引き込みは発生しなかったが、得ら
れた塗膜14bには段状ムラがあった。
【0043】以上実施例5〜8及び比較例3,4の結果
から、他の塗布系においても、バックアップロール11
の回転による振れの振れ幅を10μm未満とし、振れ幅
Aが1μm以上10μm未満の振れの振動数を3Hz以
下にすることで、外乱の振動も抑制することができ、塗
膜の段状ムラを抑制することができることがわかる。
から、他の塗布系においても、バックアップロール11
の回転による振れの振れ幅を10μm未満とし、振れ幅
Aが1μm以上10μm未満の振れの振動数を3Hz以
下にすることで、外乱の振動も抑制することができ、塗
膜の段状ムラを抑制することができることがわかる。
【0044】〔実施例9〕ウェブ12の巻きかけ角度θ
を10°としたほかは実施例1と同様に実施した。ウェ
ブ12にはばたつきがなく安定した搬送が行われ、塗膜
14bには段状ムラもなく良好であった。
を10°としたほかは実施例1と同様に実施した。ウェ
ブ12にはばたつきがなく安定した搬送が行われ、塗膜
14bには段状ムラもなく良好であった。
【0045】〔比較例5〕ウェブの巻きかけ角度θを3
°としたほかは実施例1と同様に実施した。ウェブにば
たつきが生じ、塗膜の面状はよくなかった。
°としたほかは実施例1と同様に実施した。ウェブにば
たつきが生じ、塗膜の面状はよくなかった。
【0046】〔実施例10〕ウェブにかかる張力を7×
105 N/m2 としたほかは実施例1と同様に実施し
た。ウェブ12のばたつきや引き込みが生じることはな
く、塗膜14bに段状ムラもなく非常に良好であった。
105 N/m2 としたほかは実施例1と同様に実施し
た。ウェブ12のばたつきや引き込みが生じることはな
く、塗膜14bに段状ムラもなく非常に良好であった。
【0047】〔比較例6〕ウェブにかかる張力を3×1
05 N/m2 としたほかは実施例1と同様に実施した。
減圧チャンバー30にウェブ12が引き込まれ、搬送が
不安定になった。
05 N/m2 としたほかは実施例1と同様に実施した。
減圧チャンバー30にウェブ12が引き込まれ、搬送が
不安定になった。
【0048】実施例9,10、比較例5,6より、ウェ
ブ12の巻きかけ角度θを5°以上に設定し、ウェブに
かかる張力を5×105 N/m2 以上にすることで、ウ
ェブのばたつきや引き込み等を起こさずに搬送すること
ができ、その結果、段状ムラのない塗膜を得ることがで
きることがわかる。
ブ12の巻きかけ角度θを5°以上に設定し、ウェブに
かかる張力を5×105 N/m2 以上にすることで、ウ
ェブのばたつきや引き込み等を起こさずに搬送すること
ができ、その結果、段状ムラのない塗膜を得ることがで
きることがわかる。
【0049】
【発明の効果】以上のように、本発明の塗布方法によ
り、様々な塗布系で塗膜に段状ムラが発生することな
く、薄膜塗布を連続的に行うことができる。
り、様々な塗布系で塗膜に段状ムラが発生することな
く、薄膜塗布を連続的に行うことができる。
【図1】本発明を実施したスロットダイコーターの断面
図である。
図である。
【図2】本発明を実施したスロットダイ及び周辺装置の
斜視図である。
斜視図である。
【図3】本発明を実施した塗布工程におけるウェブ及び
減圧チャンバーの断面図である。
減圧チャンバーの断面図である。
【図4】本発明を実施した塗布工程におけるレーザー変
位計を用いたバックアップロールの振れの測定図であ
る。
位計を用いたバックアップロールの振れの測定図であ
る。
11 バックアップロール
12 ウェブ
13 スロットダイ
30 減圧チャンバー
30a バックプレート
θ 巻きかけ角度
A バックアップロールの回転による振れの振れ幅
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
// B05C 5/02 B05C 5/02
13/02 13/02
Fターム(参考) 2H023 EA00
2H025 AA18 EA04
4D075 AC02 AC05 AC16 AC72 AC78
AC80 AC88 AC93 AC99 BB56Y
BB93Y BB95Y CA09 CA22
CA24 CA47 CB02 DA04 DB01
DB06 DB07 DB18 DB31 DB33
DB34 DB36 DB38 DB48 DB53
DB63 DC24 DC27 DC28 EA05
EA21 EA45 EB19 EB22
4F041 AA12 AB02 BA56 CA02 CA03
CA13 CA22 CA25
4F042 AA22 DF19 DF20 DF30
Claims (7)
- 【請求項1】 スロットダイコーターまたはスライドビ
ードコーターを用いて、バックアップロールで支持され
て走行するウェブに対して塗布液を塗布する方法におい
て、 前記バックアップロールの回転による振れの振れ幅を1
0μm未満とすることを特徴とする塗布方法。 - 【請求項2】 前記振れ幅が1μm以上10μm以下で
ある振れの振動数を3Hz以下にすることを特徴とする
請求項1記載の塗布方法。 - 【請求項3】 前記バックアップロールの直径及び塗布
速度を変更して、前記振れの振動数を3Hz以下にする
ことを特徴とする請求項2記載の塗布方法。 - 【請求項4】 前記スロットダイコーターまたはスライ
ドビードコーターは減圧チャンバーを有し、前記減圧チ
ャンバーに対して上流側のウェブを前記バックアップロ
ールに5度以上巻きかけることを特徴とする請求項1な
いし3いずれかひとつ記載の塗布方法。 - 【請求項5】 前記ウェブの張力を、5×105 N/m
2 以上にしたことを特徴とする、請求項4記載の塗布方
法。 - 【請求項6】 減圧チャンバーを有するスロットダイコ
ーターまたはスライドビードコーターを用いて、バック
アップロールで支持されて走行するウェブに対して塗布
液を塗布する方法において、 前記減圧チャンバーに対して上流側のウェブを前記バッ
クアップロールに5度以上巻きかけることを特徴とする
塗布方法。 - 【請求項7】 前記減圧チャンバーの減圧度を1000
Pa以上にし、前記ウェブの張力を、5×105 N/m
2 以上にしたことを特徴とする請求項6記載の塗布方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002057779A JP2003251260A (ja) | 2002-03-04 | 2002-03-04 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002057779A JP2003251260A (ja) | 2002-03-04 | 2002-03-04 | 塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003251260A true JP2003251260A (ja) | 2003-09-09 |
Family
ID=28667963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002057779A Pending JP2003251260A (ja) | 2002-03-04 | 2002-03-04 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003251260A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006272130A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布液の塗布方法、塗布液の塗布装置、光学フィルム、および反射防止フィルム |
| JP2006341177A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Fujifilm Holdings Corp | 塗布装置 |
| JP2008000714A (ja) * | 2006-06-23 | 2008-01-10 | Nitto Denko Corp | 被膜シートの製造方法、被膜シート、偏光板、光学素子及び画像表示装置 |
| JP2008062115A (ja) * | 2006-09-04 | 2008-03-21 | Hirano Tecseed Co Ltd | 塗工装置 |
| JP2008253867A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-23 | Fujifilm Corp | 塗布装置 |
| JP2011167613A (ja) * | 2010-02-17 | 2011-09-01 | Mitsubishi Chemicals Corp | 塗膜形成方法、および塗膜積層体の製造方法 |
| KR101107475B1 (ko) | 2009-07-03 | 2012-01-19 | 한화테크엠주식회사 | 감압 코팅 장치 |
| CN104781016A (zh) * | 2013-02-28 | 2015-07-15 | Lg化学株式会社 | 狭缝式模具涂布装置 |
| JP2016143640A (ja) * | 2015-02-05 | 2016-08-08 | 東レバッテリーセパレータフィルム株式会社 | 電池用セパレータの製造方法、および電池用セパレータの捲回体 |
| US9409198B2 (en) | 2010-12-02 | 2016-08-09 | Nitto Denko Corporation | Method and apparatus for applying coating solution, and method for manufacturing coated product |
| JP2016225034A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | 株式会社ジェイテクト | 電極製造設備及び電極製造方法 |
| JP2017102205A (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | 日本ゼオン株式会社 | 機能性フィルムの製造方法 |
-
2002
- 2002-03-04 JP JP2002057779A patent/JP2003251260A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006272130A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布液の塗布方法、塗布液の塗布装置、光学フィルム、および反射防止フィルム |
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| US9682395B2 (en) | 2013-02-28 | 2017-06-20 | Lg Chem, Ltd. | Slot die coating apparatus |
| JP2016143640A (ja) * | 2015-02-05 | 2016-08-08 | 東レバッテリーセパレータフィルム株式会社 | 電池用セパレータの製造方法、および電池用セパレータの捲回体 |
| JP2016225034A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | 株式会社ジェイテクト | 電極製造設備及び電極製造方法 |
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