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JP2003249764A - A method for producing a B-stage resin composition sheet containing a substrate for an additive. - Google Patents

A method for producing a B-stage resin composition sheet containing a substrate for an additive.

Info

Publication number
JP2003249764A
JP2003249764A JP2002047897A JP2002047897A JP2003249764A JP 2003249764 A JP2003249764 A JP 2003249764A JP 2002047897 A JP2002047897 A JP 2002047897A JP 2002047897 A JP2002047897 A JP 2002047897A JP 2003249764 A JP2003249764 A JP 2003249764A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
additive
sheet
base material
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002047897A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Ikeguchi
信之 池口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Gas Chemical Co Inc filed Critical Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority to JP2002047897A priority Critical patent/JP2003249764A/en
Publication of JP2003249764A publication Critical patent/JP2003249764A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 アディティブ法にてメッキ銅接着力、弾性率
が高く、耐熱性、信頼性に優れたビルドアッププリント
配線板用接着シートを製造する方法を得る。 【解決手段】 基材補強Bステージ樹脂組成物シートの
片面にアディティブ用樹脂組成物層、好適には金属箔或
いは離型フィルムを配置したものをラミネート接着させ
て一体化し、アディティブ用基材入りBステージ樹脂組
成物シートを製造する。
(57) [Summary] (with correction) [PROBLEMS] To provide a method for producing an adhesive sheet for a build-up printed wiring board, which is excellent in heat resistance and reliability, has high plating copper adhesive strength and elastic modulus by an additive method. SOLUTION: A resin composition layer for an additive, preferably a metal foil or a release film is disposed on one side of a base-reinforced B-stage resin composition sheet, and laminated and integrated to form an additive-containing B-staged resin composition sheet. A stage resin composition sheet is manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、アディティブ法による
多層プリント配線板用基材入りBステージ樹脂組成物シ
ートの製造方法に関するものであり、得られたBステー
ジ樹脂組成物シートは、特に銅接着力、弾性率(剛性)
が高く、耐熱性、信頼性等に優れた高密度多層プリント
配線板を作製するのに適しており、得られた多層プリン
ト配線板は、高密度の小型プリント配線板として、半導
体チップを搭載し、小型、軽量の新規な半導体プラスチ
ックパッケージ用等に主に使用される。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a B-stage resin composition sheet containing a substrate for a multilayer printed wiring board by an additive method. The obtained B-stage resin composition sheet is especially copper-bonded. Force, elastic modulus (rigidity)
It is suitable for producing high-density multi-layer printed wiring boards with high heat resistance and reliability, and the obtained multi-layer printed wiring boards are equipped with semiconductor chips as high-density small printed wiring boards. , Mainly used for small and lightweight new semiconductor plastic packages.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ますます小型、薄型、軽量化する
電子機器において、ますます高密度の多層プリント配線
板が使用されるようになってきている。この多層プリン
ト配線板は、細密回路が形成されており、従来のエポキ
シ樹脂内に多量にゴムを添加した接着剤を離型フィルム
に付着した接着剤シートを用いたアディティブ法多層プ
リント配線板は、基材が入っておらず、内層板が薄い場
合、この両側に基材補強の無いアディティブ用接着剤シ
ートを使用すると、ビルドアップして多層にしたプリン
ト配線板は曲げ強度、引張り強度等の機械的強度、弾性
率(剛性)が劣り、ソリ・ネジレも発生し易く、アッセ
ンブリ等の工程で不良の原因となっていた。更に積層成
形時での厚みばらつきも大きく、板厚のコントロールも
困難であった。
2. Description of the Related Art In recent years, higher and higher density multilayer printed wiring boards have been used in electronic devices that are becoming smaller, thinner and lighter. This multilayer printed wiring board has a fine circuit formed therein, and the additive method multilayer printed wiring board using an adhesive sheet in which an adhesive containing a large amount of rubber added to a conventional epoxy resin is attached to a release film is If there is no base material and the inner layer board is thin, if additive adhesive sheets without base material reinforcement are used on both sides, the build-up multilayer printed wiring board has a mechanical strength such as bending strength and tensile strength. The mechanical strength and elastic modulus (rigidity) are inferior, and warpage and twisting are likely to occur, which is a cause of defects in the assembly process and the like. Furthermore, the thickness variation during lamination molding is large, and it is difficult to control the plate thickness.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の問題
点を解決した、多層プリント配線板の弾性率(剛性)、
ソリ・ネジレも小さく、板厚精度が良好で、銅接着力、
耐熱性、信頼性等にも優れた高密度多層プリント配線板
をアディティブ法にて製造するための基材入り金属箔付
きBステージ樹脂組成物シートを製造する方法を提供す
るものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has solved the above problems, and has an elastic modulus (rigidity) of a multilayer printed wiring board,
Small warp and twist, good plate thickness accuracy, copper adhesion,
It is intended to provide a method for producing a B-stage resin composition sheet with a metal foil containing a base material for producing a high-density multilayer printed wiring board excellent in heat resistance, reliability, etc. by an additive method.

【0004】[0004]

【発明が解決するための手段】本発明は、基板上に導体
回路と層間樹脂絶縁層とを順次積層し、アディティブ法
によって多層プリント配線板を製造するための基材入り
Bステージ樹脂組成物シートの製造方法に関するもので
あり、この基板に接着させる基材入りBステージ樹脂組
成物シートは、基材補強Bステージ樹脂組成物シート
(プリプレグ)の片面にアディティブ用樹脂組成物層を
付着して製造するものであり、好適には基材補強Bステ
ージ樹脂組成物シート(プリプレグ)の片面に、表面凹
凸を有する金属箔又は離型フィルムにアディティブ用樹
脂組成物層を付着させたシートをラミネート接着させて
製造したものを使用し、これを内層板の上に配置して加
熱圧着して接着させ、アディティブ法で回路を形成して
プリント配線板とする。
The present invention is a B-stage resin composition sheet containing a base material for producing a multilayer printed wiring board by an additive method in which a conductor circuit and an interlayer resin insulation layer are sequentially laminated on a substrate. The B-stage resin composition sheet containing a base material to be adhered to this substrate is manufactured by attaching a resin composition layer for additive to one side of a base material-reinforced B-stage resin composition sheet (prepreg). It is preferable to laminate a sheet in which a resin composition layer for additive is attached to a metal foil or a release film having surface irregularities on one side of a base material reinforced B-stage resin composition sheet (prepreg) by laminating adhesion. Using the product manufactured by the above, place it on the inner layer board, heat press bond it and bond it, and form a circuit by the additive method to make a printed wiring board. .

【0005】更に、該基材入りBステージ樹脂組成物シ
ートの、少なくともアディティブ用絶縁層は硬化処理後
に粗化溶液で粗化した際に粗化溶液に難溶性となる樹脂
成分と可溶性の成分が配合されたものであり、該難溶性
となる樹脂成分として、(a)多官能性シアン酸エステル
モノマー、該シアン酸エステルプレポリマー100重量部
に対し、(b)室温で液状のエポキシ樹脂15〜500重量部を
配合し、(c)熱硬化触媒を、(a+b)100重量部に対し0.005
〜10重量部配合した樹脂組成物を必須成分とする硬化性
樹脂組成物を用いるのが耐熱性、信頼性等を向上させる
のに好適であり、この硬化性樹脂組成物に硬化処理後に
も粗化溶液に可溶性の成分として、ブタジエン含有樹
脂、有機粉体、無機粉体の3成分のうち2成分以上を必
須成分として使用することにより、メッキ銅接着力にも
優れたものが得られた。
Further, at least the additive insulating layer of the B-stage resin composition sheet containing the substrate contains a resin component and a soluble component which are hardly soluble in the roughening solution when roughened with the roughening solution after the curing treatment. As a resin component which is blended, the (a) polyfunctional cyanate ester monomer and 100 parts by weight of the cyanate ester prepolymer are used as the sparingly soluble resin component, and (b) an epoxy resin 15-liquid at room temperature. 500 parts by weight of (c) thermosetting catalyst was added to (a + b) 100 parts by weight of 0.005
It is preferable to use a curable resin composition containing a resin composition containing 10 to 10 parts by weight as an essential component in order to improve heat resistance and reliability. By using two or more components out of the three components of the butadiene-containing resin, the organic powder and the inorganic powder as the components soluble in the chemical solution, it was possible to obtain the one having excellent adhesion to the plated copper.

【0006】又、この基材入り金属箔付き或いは離型フ
イルム付きBステージ樹脂組成物シートは、基材が入っ
ているために、特に薄い内層板を使用してビルドアップ
して得られたプリント配線板は、基材が入っていない従
来のBステージ樹脂組成物シート使用のプリント配線板
に比べて弾性率(剛性)が高く、ソリ・ネジレが小さ
く、積層時の成形厚みに優れたものが得られ、薄型のア
ディティブ法高密度プリント配線板に適したものが得ら
れた。
Since the B-stage resin composition sheet with a metal foil containing a substrate or with a release film contains a substrate, a print obtained by build-up using a particularly thin inner layer plate. Wiring boards have a higher elastic modulus (rigidity), less warp and twist, and excellent molding thickness when laminated, compared to conventional printed wiring boards using B-stage resin composition sheets that do not contain a base material. As a result, a thin type suitable for a high density printed wiring board by the additive method was obtained.

【0007】本発明の基材入りBステージ樹脂組成物シ
ートの製造方法は、(1)基材補強Bステージ樹脂組成物
シート(プリプレグ)を作製し、この片面にアディティブ
用ワニス又は無溶剤樹脂組成物をロールコーター等にて
薄く塗布、乾燥してBステージとし、このアディティブ
用Bステージ樹脂組成物層側に金属箔或いは離型フィル
ムを加熱、加圧下にラミネートして作製する方法、(3)
基材補強Bステージ樹脂組成物シート(プリプレグ)、及
び金属箔或いは離型フィルム付きアディティブ用Bステ
ージ樹脂組成物シートを別々に作製し、基材補強Bステ
ージ樹脂組成物シートの片面に、加熱、加圧下にラミネ
ートして金属箔或いは離型フィルム付きアディティブ用
Bステージ樹脂組成物シートを接着させて一体化して基
材入り金属箔付き或いは離型フィルム付きBステージ樹
脂組成物シートとする方法である。無溶剤の樹脂組成物
を使用した場合、加熱しなくても加圧だけで接着する
が、より密着性を上げるためには、好適には加熱下で加
圧接着させる。
The method for producing a B-stage resin composition sheet containing a substrate of the present invention is as follows: (1) A substrate-reinforced B-stage resin composition sheet (prepreg) is prepared, and a varnish for additive or a solventless resin composition is formed on one side of the sheet. (3) A method in which a product is thinly coated with a roll coater or the like and dried to form a B stage, and a metal foil or a release film is laminated on the B stage resin composition layer side for additive under heating and pressure, (3)
A base material-reinforced B-stage resin composition sheet (prepreg) and a metal foil or a release film-attached B-stage resin composition sheet for additive are separately prepared, and one side of the base material-reinforced B-stage resin composition sheet is heated, It is a method of laminating under pressure and adhering and integrating a metal foil or a release film-attached B-stage resin composition sheet for an additive to obtain a B-stage resin composition sheet with a metal foil containing a base material or a release film. . When the solvent-free resin composition is used, the resin composition is adhered only by pressing without heating, but in order to further improve the adhesiveness, the composition is preferably adhered under pressure by heating.

【0008】本発明の基材入り金属箔或いは離型フイル
ム付きBステージ樹脂組成物シートのアディティブ用樹
脂組成物層は、アディティブ法にて回路が形成できる樹
脂組成物であり、熱硬化型、光硬化と熱硬化併用型等一
般に公知のものが挙げられる。このアディティブ用Bス
テージ樹脂組成物シートの樹脂組成物は、特に限定はな
く、一般に公知のものが使用される。この樹脂層には、
硬化処理した場合に粗化溶液に可溶性の成分、粗化溶液
に難溶性となる樹脂成分が含まれており、可溶性成分が
難溶性となる樹脂成分中に均一に分散したものである。
ここで、本発明で使用する「可溶性」、「難溶性」の意
味は、硬化処理後に同一の酸或いは酸化剤等からなる粗
化溶液に同一時間浸漬した場合に、相対的に溶解速度の
速いものを「可溶性」、遅いものを「難溶性」と表現し
ている。
The resin composition layer for additive of the B-stage resin composition sheet with a metal foil containing a substrate or a release film of the present invention is a resin composition capable of forming a circuit by an additive method, and is a thermosetting type, a photocurable type. Examples include generally known ones such as a combination of curing and thermosetting. The resin composition of the B-stage resin composition sheet for additive is not particularly limited, and a generally known resin composition is used. This resin layer contains
A component that is soluble in the roughening solution when cured and a resin component that becomes difficult to dissolve in the roughening solution are contained, and the soluble component is uniformly dispersed in the resin component that becomes difficult to dissolve.
Here, the terms “soluble” and “poorly soluble” used in the present invention have relatively high dissolution rates when immersed in a roughening solution containing the same acid or oxidizing agent for the same time after the curing treatment. The ones are described as "soluble" and the slow ones as "poorly soluble".

【0009】本発明の可溶性樹脂は、一般に公知のもの
が挙げられる。この樹脂は溶剤に可溶性のもの、液状の
ものであり、難溶性樹脂中に均一分散配合される。これ
らは特に限定はないが、具体的にはポリブタジエンゴ
ム、アクリロニトリルーブタジエンゴム、これらのエポ
キシ化物、マレイン化物、イミド化物、カルボキシル基
含有物、イミド化物、(メタ)アクリル化物等、スチレ
ンーブタジエンゴム等公知のものが挙げられる。特に分
子内にブタジエン骨格が入ったものが、粗化液への溶解
性、電気的特性等の点から好適に使用される。又、無官
能のものより官能基を含むものが、後硬化処理で他の未
反応の樹脂の官能基と反応して架橋し、特性が向上する
ので好ましい
As the soluble resin of the present invention, generally known resins can be mentioned. This resin is soluble in a solvent or liquid and is uniformly dispersed and mixed in a poorly soluble resin. These are not particularly limited, but specifically, polybutadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, epoxidized products thereof, maleated products, imidized products, carboxyl group-containing products, imidized products, (meth) acrylic compounds, etc., styrene-butadiene rubber And the like. In particular, those having a butadiene skeleton in the molecule are preferably used from the viewpoint of solubility in a roughening solution, electrical characteristics, and the like. Further, those containing a functional group rather than non-functional ones are preferable because they react with the functional groups of other unreacted resins in the post-curing treatment to crosslink and the properties are improved.

【0010】本発明の可溶性有機粉体としては特に限定
はないが、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等の粉体が挙げ
られ、粗化溶液に浸漬した場合、硬化処理した難溶性樹
脂よりも溶解性が速いものであれば特に限定はない。形
状は、球状、破砕された無定形状のもの、針状等があ
り、組み合わせて使用可能である。球状、破砕したもの
が好適に使用され、粒径は特に限定はないが、好ましく
は平均粒径0.1〜10μm、更に好ましくは平均粒径0.2〜5
μmである。粒子径は大きいもの、小さいものを組み合
わせて使用するのが好ましい。この場合、金属箔上に塗
布した樹脂層厚みより最大径が小さいものを使用する。
例えば塗布樹脂層を金属箔の凸から7μmの厚みにする場
合、粒子の最大径は7μm以下、好ましくは6μm以下とし
て、塗布後に粒子が樹脂表面より出ないようにする。こ
の場合は平均粒径は6μm未満である。
The soluble organic powder of the present invention is not particularly limited, but powders of thermosetting resin, thermoplastic resin, etc. may be mentioned, and when immersed in a roughening solution, it is more difficult than the hardened resin which has been hardened. There is no particular limitation as long as it has a high solubility. There are spherical shapes, crushed amorphous shapes, needle shapes, and the like, which can be used in combination. Spherical, crushed is preferably used, the particle size is not particularly limited, preferably an average particle size 0.1 ~ 10 (mu) m, more preferably an average particle size 0.2 ~ 5
μm. It is preferable to use a combination of large and small particles. In this case, one having a maximum diameter smaller than the thickness of the resin layer applied on the metal foil is used.
For example, when the coating resin layer has a thickness of 7 μm from the convex of the metal foil, the maximum particle diameter is 7 μm or less, preferably 6 μm or less so that the particles do not come out of the resin surface after coating. In this case, the average particle size is less than 6 μm.

【0011】具体例としては、エポキシ樹脂、ポリイミ
ド樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリオレフィン
樹脂、シリコン樹脂、フェノール樹脂、アクリルゴム、
ポリスチレン、MBSゴム、ABS等の粉体、これらの多重構
造(コアーシェル)ゴム粉体等が挙げられる。これらは
1種或いは2種以上が適宜選択して配合される。
Specific examples include epoxy resin, polyimide resin, polyphenylene ether resin, polyolefin resin, silicone resin, phenol resin, acrylic rubber,
Examples thereof include powders of polystyrene, MBS rubber, ABS, etc., and rubber powders of these multiple structures (core shell). These may be used alone or in combination of two or more.

【0012】本発明の可溶性無機粉体としては、特に限
定はないが、例えばアルミナ、水酸化アルミニウム等の
アルミニウム化合物;炭酸カルシウム等のカルシウム化
合物類;マグネシア等のマグネシウム化合物類;シリ
カ、ゼオライト等のシリカ化合物類等が挙げられ、1種
或いは2種以上が組み合わせて使用される。
The soluble inorganic powder of the present invention is not particularly limited, but examples thereof include aluminum compounds such as alumina and aluminum hydroxide; calcium compounds such as calcium carbonate; magnesium compounds such as magnesia; silica, zeolite and the like. Examples thereof include silica compounds, and one kind or a combination of two or more kinds is used.

【0013】本発明の難溶性樹脂としては、熱硬化性樹
脂、感光性樹脂等公知のものが1種或いは2種以上組み
合わせて使用され、特に限定はないが、具体的には、エ
ポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、多官能性シアン酸エステ
ル樹脂、マレイミド樹脂、2重結合付加ポリフェニレン
エーテル樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシアクリレ
ート、不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂、多官能(メ
タ)アクリレート等が挙げられる。更にこれらの公知の
臭素化物、リン含有化合物も使用される。この中で、耐
マイグレーション性、耐熱性等、吸湿後の耐熱性等の点
から多官能性シアン酸エステル樹脂が好ましい。特に、
好適には(a)多官能性シアン酸エステルモノマー、該シ
アン酸エステルプレポリマー 100重量部に対し、(b)室
温で液状のエポキシ樹脂を15〜500重量部配合し、(c)熱
硬化触媒をこの(a+b)成分100重量部に対し0.005〜10重
量部配合した樹脂組成物を必須成分とした熱硬化性樹脂
組成物を用いる。この組成とすることにより、金属箔或
いは離型フイルムに付着させた場合に、樹脂層の脆さが
なく、使用上も好ましい。
As the sparingly soluble resin of the present invention, known resins such as thermosetting resins and photosensitive resins may be used alone or in combination of two or more, and are not particularly limited, but specifically, epoxy resin, Examples thereof include polyimide resins, polyfunctional cyanate ester resins, maleimide resins, double bond-added polyphenylene ether resins, polyolefin resins, epoxy acrylates, unsaturated group-containing polycarboxylic acid resins, and polyfunctional (meth) acrylates. Further, these known bromides and phosphorus-containing compounds are also used. Among these, polyfunctional cyanate ester resins are preferable from the viewpoints of migration resistance, heat resistance, heat resistance after moisture absorption, and the like. In particular,
Suitably, (a) a polyfunctional cyanate ester monomer, and 100 parts by weight of the cyanate ester prepolymer, (b) 15 to 500 parts by weight of a liquid epoxy resin at room temperature is blended, and (c) a thermosetting catalyst. A thermosetting resin composition containing as an essential component a resin composition prepared by mixing 0.005 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (a + b) is used. With this composition, the resin layer does not become brittle when attached to a metal foil or a release film and is preferable in use.

【0014】本発明で好適に使用される多官能性シアン
酸エステル化合物とは、分子内に2個以上のシアナト基
を有する化合物である。具体的に例示すると、1,3-又は
1,4-ジシアナトベンゼン、1,3,5-トリシアナトベンゼ
ン、1,3-、1,4-、1,6-、1,8-、2,6-又は2,7-ジシアナト
ナフタレン、1,3,6-トリシアナトナフタレン、4,4-ジシ
アナトビフェニル、ビス(4-ジシアナトフェニル)メタ
ン、2,2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパン、2,2-ビス
(3,5-ジブロモー4-シアナトフェニル)プロパン、ビス(4
-シアナトフェニル)エーテル、ビス(4-シアナトフェニ
ル)チオエーテル、ビス(4-シアナトフェニル)スルホ
ン、トリス(4-シアナトフェニル)ホスファイト、トリス
(4-シアナトフェニル)ホスフェート、およびノボラック
とハロゲン化シアンとの反応により得られるシアネート
類等である。
The polyfunctional cyanate compound preferably used in the present invention is a compound having two or more cyanato groups in the molecule. Specifically, 1,3-or
1,4-dicyanatobenzene, 1,3,5-tricyanatobenzene, 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,8-, 2,6- or 2,7-dicyanatonaphthalene , 1,3,6-tricyanatonaphthalene, 4,4-dicyanatobiphenyl, bis (4-dicyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis
(3,5-dibromo-4-cyanatophenyl) propane, bis (4
-Cyanatophenyl) ether, bis (4-cyanatophenyl) thioether, bis (4-cyanatophenyl) sulfone, tris (4-cyanatophenyl) phosphite, tris
Examples thereof include (4-cyanatophenyl) phosphate, and cyanates obtained by reacting novolac with cyanogen halide.

【0015】これらのほかに特公昭41-1928、同43-1846
8、同44-4791、同45-11712、同46-41112、同47-26853及
び特開昭51-63149等に記載の多官能性シアン酸エステル
化合物類も用いら得る。また、これら多官能性シアン酸
エステル化合物のシアナト基の三量化によって形成され
るトリアジン環を有する分子量400〜6,000 のプレポリ
マーが使用される。このプレポリマーは、上記の多官能
性シアン酸エステルモノマーを、例えば鉱酸、ルイス酸
等の酸類;ナトリウムアルコラート等、第三級アミン類
等の塩基;炭酸ナトリウム等の塩類等を触媒として重合
させることにより得られる。このプレポリマー中には一
部未反のモノマーも含まれており、モノマーとプレポリ
マーとの混合物の形態をしており、このような原料は本
発明の用途に好適に使用される。一般には可溶な有機溶
剤に溶解させて使用する。これらの臭素付加化合物、液
状のプレポリマー等も使用できる。
In addition to these, Japanese Examined Patent Publications 41-1928 and 43-1846
8, polyfunctional cyanate ester compounds described in JP-A-51-63149 and JP-A-44-4791, JP-A-45-11712, JP-A-46-41112 and JP-A-47-26853 can also be used. Further, a prepolymer having a molecular weight of 400 to 6,000 and having a triazine ring formed by trimerizing the cyanato group of these polyfunctional cyanate ester compounds is used. This prepolymer is obtained by polymerizing the above-mentioned polyfunctional cyanate ester monomer using, for example, acids such as mineral acid and Lewis acid; bases such as sodium alcoholate and tertiary amines; salts such as sodium carbonate as a catalyst. It is obtained by The prepolymer also contains some unreacted monomer and is in the form of a mixture of the monomer and the prepolymer, and such a raw material is suitably used for the purpose of the present invention. Generally, it is used by dissolving it in a soluble organic solvent. These bromine addition compounds and liquid prepolymers can also be used.

【0016】室温で液状のエポキシ樹脂としては、一般
に公知のものが使用可能である。具体的には、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポ
キシ樹脂、ポリエーテルポリオールのジグリシジル化
物、酸無水物のエポキシ化物、脂環式エポキシ樹脂等が
単独或いは2種以上組み合わせて使用される。使用量
は、多官能性シアン酸エステル化合物、該シアン酸エス
テルプレポリマー 100重量部に対し、15〜500重量部、
好ましくは20〜300重量部である。室温で液状とは、室
温(25℃)で破砕できないものを言う。これらの液状エ
ポキシ化合物以外に、公知の室温で破砕できる固形の上
記エポキシ樹脂、更にはクレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポ
キシ樹脂等が難溶性樹脂として単独或いは2種以上組み
合わせて使用される。
As the epoxy resin which is liquid at room temperature, generally known epoxy resins can be used. Specifically, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, diglycidylated product of polyether polyol, epoxidized acid anhydride, alicyclic epoxy resin, etc. Used alone or in combination of two or more. The amount used is 15 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional cyanate ester compound and the cyanate ester prepolymer,
It is preferably 20 to 300 parts by weight. Liquid at room temperature refers to substances that cannot be crushed at room temperature (25 ° C). In addition to these liquid epoxy compounds, known solid epoxies that can be crushed at room temperature, further cresol novolac type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, etc., are used alone or in combination of two or more as poorly soluble resins. used.

【0017】本発明の熱硬化性樹脂組成物には、組成物
本来の特性が損なわれない範囲で、所望に応じて上記以
外の種々の添加物を配合することができる。これらの添
加物としては、各種樹脂類、この樹脂類の公知の臭素、
燐含有化合物、上記以外の公知の無機や有機の充填剤、
染料、顔料、増粘剤、滑剤、消泡剤、分散剤、レベリン
グ剤、光増感剤、難燃剤、光沢剤、重合禁止剤、チキソ
性付与剤等の各種添加剤が、所望に応じて適宜組み合わ
せて用いられる。必要により、反応基を有する化合物は
公知の硬化剤、触媒が適宜配合される。
The thermosetting resin composition of the present invention may contain various additives other than those mentioned above, if desired, as long as the characteristics inherent to the composition are not impaired. As these additives, various resins, known bromine of these resins,
Phosphorus-containing compounds, known inorganic or organic fillers other than the above,
Various additives such as dyes, pigments, thickeners, lubricants, defoamers, dispersants, leveling agents, photosensitizers, flame retardants, brighteners, polymerization inhibitors, and thixotropic agents can be added as desired. They are used in appropriate combination. If necessary, a known curing agent and a catalyst may be appropriately added to the compound having a reactive group.

【0018】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、それ自体
は加熱により硬化するが硬化速度が遅く、作業性、経済
性等に劣るため使用した熱硬化性樹脂に対して公知の熱
硬化触媒を用い得る。使用量は、熱硬化性樹脂(a+b)100
重量部に対し、0.005〜10重量部、好ましくは0.01〜5重
量%である。
The thermosetting resin composition of the present invention is itself cured by heating, but has a slow curing rate and is inferior in workability and economical efficiency. Therefore, a known thermosetting catalyst is used for the thermosetting resin used. Can be used. The amount used is 100% thermosetting resin (a + b)
It is 0.005 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 5% by weight, based on parts by weight.

【0019】本発明の樹脂組成物中に均一分散している
可溶性樹脂、有機粉体、無機粉体の配合量は、特に限定
はないが、好適には全体の3〜50重量%、更に好適には5
〜35重量%を使用する。これらの成分は1成分でも良い
が、好適には3成分のうち2成分以上を使用する。又、同
一粒径よりは異なる粒径のものを用いることにより、凹
凸の形状がより複雑となってアンカー効果が増し、銅メ
ッキ接着力に優れたものが得られる。
The amount of the soluble resin, the organic powder, and the inorganic powder uniformly dispersed in the resin composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 3 to 50% by weight, and further preferably For 5
Use ~ 35% by weight. These components may be one component, but preferably two or more components among the three components are used. Further, by using particles having different particle diameters than the same particle diameter, the shape of the unevenness becomes more complicated, the anchor effect is increased, and the adhesive strength of copper plating is excellent.

【0020】本発明の各成分を均一に混練する方法は、
一般に公知の方法が使用され得る。例えば、各成分を配
合後、三本ロールにて、室温或いは加熱下に混練する
か、ボールミル、ライカイ機等、一般に公知のものが使
用される。また、溶剤を添加して加工法に合う粘度とし
て使用する。
The method of uniformly kneading the respective components of the present invention is
Generally known methods can be used. For example, after the respective components are blended, they are kneaded with a triple roll at room temperature or under heating, or generally known ones such as a ball mill and a liquor machine are used. In addition, a solvent is added to obtain a viscosity suitable for the processing method.

【0021】本発明で使用する表面に凹凸のある金属箔
は特に限定はなく、具体的にはアルミニウム箔、銅箔等
が挙げられる。樹脂を付着させる面の凹凸は特に限定は
ないが、好適には平均粗度Rzが1〜10μm、更に好ましく
は2〜7μmである。これは粗化前に凹凸が大きいと、粗
化時間が短く、且つ水分の浸透も少ないために、メッキ
した銅層の加熱による膨れ軽減等が図れる。金属箔の厚
みは特に限定はないが、その後にエッチング等して除去
するために薄い方が良く、好ましくは9〜20μmを使用す
る。
The metal foil having an uneven surface used in the present invention is not particularly limited, and specific examples thereof include aluminum foil and copper foil. The unevenness of the surface to which the resin is attached is not particularly limited, but the average roughness Rz is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 7 μm. This is because if the irregularities are large before roughening, the roughening time is short, and the penetration of water is small, so that blistering of the plated copper layer due to heating can be reduced. The thickness of the metal foil is not particularly limited, but it is preferably thin so that it can be removed by etching or the like thereafter, and preferably 9 to 20 μm is used.

【0022】もちろん表面平滑な金属箔も使用可能であ
る。又、離型フイルムとして公知のものが使用可能であ
る。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フイル
ム、ポリ-4-メチルペンテン-1フイルム、フッ素樹脂フ
イルム等が挙げられる。これらの表面は凹凸を付けたも
のでも良い。又、離型剤処理、帯電防止処理等を施して
も良い。
Of course, a metal foil having a smooth surface can also be used. Also, a known release film can be used. Examples thereof include polyethylene terephthalate (PET) film, poly-4-methylpentene-1 film, fluororesin film and the like. These surfaces may have irregularities. Further, a release agent treatment, an antistatic treatment or the like may be performed.

【0023】金属箔にBステージ樹脂組成物層を付着さ
せる場合、方法は公知の方法が使用できる。例えば、金
属箔上に直接ロールで塗布、乾燥してBステージ化する
か、保護フィルムに塗布、乾燥してBステージ化した後
に樹脂組成物側に金属箔を配置して、加熱、加圧ロール
等で圧着し、一体化した金属箔付きBステージ樹脂組成
物シートとする。又、離型フイルムに塗布する場合も同
様である。この場合樹脂組成物中に少量の溶剤が残存し
ても良い。樹脂組成物の厚みは特に限定はないが、一般
的には金属箔の凸の先端から3〜100μm、好ましくは4〜
50μm、更に好適には5〜20μmである。この厚みは一緒
に使用するプリプレグのガラス繊維から表層までの樹脂
層厚みにより適宜選択し、メッキした銅の接着力が確保
できる凹凸を付けるために酸或いは酸化剤で粗化した時
に、凹部先端がガラス織布繊維に到達しないようにす
る。
When the B-stage resin composition layer is attached to the metal foil, a known method can be used. For example, by directly applying a roll on a metal foil, drying to B-stage, or applying a protective film, drying and B-stage after placing the metal foil on the resin composition side, heating, pressure roll And the like to obtain a B-stage resin composition sheet with a metal foil integrated by pressure bonding. The same applies to the case of coating on a release film. In this case, a small amount of solvent may remain in the resin composition. The thickness of the resin composition is not particularly limited, but generally 3 to 100 μm from the tip of the convex of the metal foil, preferably 4 to
It is 50 μm, more preferably 5 to 20 μm. This thickness is appropriately selected according to the resin layer thickness from the glass fiber of the prepreg to the surface layer used together, and when roughened with an acid or an oxidant in order to form irregularities that can secure the adhesive strength of the plated copper, the tip of the recess is Avoid reaching the woven glass fibers.

【0024】本発明の基材補強Bステージ樹脂組成物シ
ートであるプリプレグは公知の方法で作製される。樹脂
も上記の公知の樹脂、添加剤等が使用される。アディテ
ィブ用樹脂組成物中に使用される粗化溶液に可溶性の成
分については使用しても良いが、添加しない樹脂組成物
に比べて信頼性を下げる成分が多く、使用量を適正量と
するのが好ましい。基材としては、有機、無機繊維布基
材を使用する。種類については特に限定はないが、有機
繊維布としては、好適には液晶ポリエステル繊維、ポリ
ベンザゾール繊維、全芳香族ポリアミド繊維などの不織
布、織布が使用される。不織布とする場合、繊維同士を
つなぐためにバインダーを付着させるか、パルプと繊維
を混抄し、300℃位の温度でパルプを加熱溶融させてバ
インダー代わりに使用した特開平11-255908の不織布等
が使用できる。バインダーの量は特に限定しないが、不
織布の強度を維持するためには、好適には3〜8重量%
付着させる。無機繊維布としては、一般の断面が円形
状、扁平の公知のガラス繊維織布、不織布、更にはセラ
ミック繊維織布、不織布を用いる。
The prepreg which is the base material reinforced B-stage resin composition sheet of the present invention is produced by a known method. As the resin, the above-mentioned known resins and additives are used. Although components soluble in the roughening solution used in the additive resin composition may be used, many components lower reliability as compared with the resin composition not added, and the amount used should be an appropriate amount. Is preferred. As the base material, an organic or inorganic fiber cloth base material is used. Although the type is not particularly limited, liquid crystal polyester fibers, polybenzazole fibers, wholly aromatic polyamide fibers, and other non-woven fabrics and woven fabrics are preferably used as the organic fiber fabrics. In the case of a non-woven fabric, a binder is attached to connect the fibers to each other, or pulp and fibers are mixed, and the non-woven fabric of JP-A-11-255908 used as a binder by heating and melting the pulp at a temperature of about 300 ° C. Can be used. The amount of the binder is not particularly limited, but in order to maintain the strength of the nonwoven fabric, it is preferably 3 to 8% by weight.
Attach it. As the inorganic fiber cloth, a known glass fiber woven cloth or non-woven cloth having a general circular cross section and a flat cross section, and further a ceramic fiber woven cloth or non-woven cloth are used.

【0025】又、耐熱フイルム基材も使用可能である。
耐熱フイルムとしては特に限定はなく、公知のものが使
用される。具体的には、ポリイミドフイルム、全芳香族
ポリアミドフイルム、液晶ポリエステルフイルム等が挙
げられる。表面は無処理でも使用可能であるが、樹脂の
接着を向上する公知の処理、例えばプラズマ処理、コロ
ナ処理、薬液処理、サンドブラスト処理等を施したもの
が好適に使用される。
A heat-resistant film base material can also be used.
The heat-resistant film is not particularly limited, and known ones can be used. Specific examples include polyimide film, wholly aromatic polyamide film, liquid crystal polyester film and the like. The surface can be used without any treatment, but a well-known treatment for improving resin adhesion, for example, plasma treatment, corona treatment, chemical treatment, sandblast treatment, etc. is preferably used.

【0026】プリプレグを作製する方法は特に限定はな
く、公知の方法が使用できる。例えば、基材に含浸、乾
燥するか、或いは基材の両面に樹脂層を配置して加熱圧
着等で一体化してプリプレグを作製する方法等が挙げら
れる。基材両面に樹脂層が同じ厚みでも良く、又金属箔
付きBステージ樹脂層が付着する面は樹脂層を薄くして
おき、この薄い樹脂層面に金属箔付き或いは離型フイル
ム付きBステージ樹脂層を付着させることも可能であ
る。使用する樹脂組成物は、上記金属箔張或いは離型フ
イルム付きBステージ樹脂組成物シートのアディティブ
用樹脂と同じでも良いが、好適には酸或いは酸化剤等の
粗化溶液に難溶性の樹脂を主体に使用する。こうするこ
とにより、粗化溶液で粗化処理した場合に、表層の可溶
性の樹脂が溶解し、プリプレグの基材に付着した樹脂は
殆ど溶解されないために、基材繊維が露出せず、その後
の無電解銅メッキでのメッキ付着が基材まで到達しない
ために、耐マイグレーション性等の信頼性に優れたもの
が得られる。又、好適にはこの樹脂も多官能性シアン酸
エステル樹脂組成物を使用することにより、耐熱性、内
層銅箔間及び絶縁層間の耐マイグレーション性等の信頼
性の高い多層プリント配線板が作製できる。ラミネート
で付着する場合の条件は特に制限はないが、一般には温
度60〜150℃、線圧1〜20kgf/cmで行う。又、プリプレグ
の片面に連続的にアディティブ用樹脂層を塗布、乾燥し
てBステージ化してから、アディティブ用樹脂層側に金
属箔或いは離型フィルムを配置してラミネートして一体
化する方法等でも製造される。
The method for producing the prepreg is not particularly limited, and known methods can be used. For example, a method of impregnating a base material and drying it, or a method of arranging resin layers on both surfaces of the base material and integrating them by thermocompression bonding to prepare a prepreg can be mentioned. The resin layer may have the same thickness on both sides of the substrate, or the resin layer on the surface to which the B-stage resin layer with a metal foil adheres is thinned, and the thin resin layer surface has a B-stage resin layer with a metal foil or a release film. Can also be attached. The resin composition to be used may be the same as the additive resin of the B-stage resin composition sheet with the metal foil-clad or release film, but is preferably a resin which is hardly soluble in a roughening solution such as an acid or an oxidizing agent. Mainly used. By doing so, when the roughening treatment with the roughening solution, the soluble resin of the surface layer is dissolved, the resin adhered to the base material of the prepreg is hardly dissolved, the base material fiber is not exposed, and Since the adhesion of the electroless copper plating does not reach the base material, the one having excellent reliability such as migration resistance can be obtained. Further, preferably, by using a polyfunctional cyanate ester resin composition for this resin as well, a multilayer printed wiring board having high heat resistance and migration resistance between inner layer copper foils and between insulating layers can be produced. . There are no particular restrictions on the conditions for laminating, but generally the temperature is 60 to 150 ° C and the linear pressure is 1 to 20 kgf / cm. In addition, a method in which a resin layer for additive is continuously applied to one surface of the prepreg, dried and made into a B stage, and then a metal foil or a release film is arranged on the resin layer side for additive and laminated to integrate the same. Manufactured.

【0027】本発明の多層化の場合、導体回路を形成し
た内層板の導体に公知の表面処理を施した後、又は両面
粗化箔を使用した内層用回路板の表裏に上記基材入り金
属箔付き或いは離型フイルム付きBステージ樹脂組成物
シートを配置し、公知の方法にて加熱、加圧、好適には
真空下に積層成形する。積層後にエッチング等で金属箔
は除去する。
In the case of multi-layering of the present invention, the metal containing the above-mentioned base material is applied to the conductor of the inner layer plate on which the conductor circuit is formed, after known surface treatment, or on the front and back of the inner layer circuit plate using the double-sided roughening foil. A B-stage resin composition sheet with a foil or a release film is placed, and laminated by heat and pressure, preferably under vacuum, by a known method. After stacking, the metal foil is removed by etching or the like.

【0028】本発明の多層化する際の積層成形条件は、
特に限定はないが、酸或いは酸化剤での粗化が適正にで
きる条件を、使用した樹脂組成によって適宜選択する。
一般には温度60〜250℃、圧力2〜50kgf/cm2 、時間は
0.5〜3時間である。又、真空下に積層成形するのが好ま
しい。装置は真空ラミネータプレス、一般の多段真空プ
レス等、公知のものが使用できる。
The lamination molding conditions for forming the multi-layer of the present invention are as follows:
Although not particularly limited, conditions under which roughening with an acid or an oxidizing agent can be appropriately performed are appropriately selected depending on the resin composition used.
Generally, the temperature is 60-250 ℃, the pressure is 2-50kgf / cm2, and the time is
0.5 to 3 hours. Further, it is preferable to carry out lamination molding under vacuum. A known device such as a vacuum laminator press or a general multi-stage vacuum press can be used as the device.

【0029】本発明で得られた金属箔張板の表層の金属
或いは離型フイルムを除去後、公知の方法にて樹脂の粗
化を酸或いは酸化剤等で行う。使用する酸としては硫
酸、塩酸、硝酸、燐酸、蟻酸等が挙げられ、酸化剤とし
ては過マンガン酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム、
クロム酸、クロム硫酸等が挙げられるが、これに限定さ
れるものではない。この処理前は必要により公知の膨潤
液を使用し、処理後は中和液で中和する。この粗化処理
で形成する粗化面の平均粗度は、金属箔の凹凸とは別に
平均粗度Rz 0.1〜10μm、好適には0.2〜5μmとする。金
属箔の凹凸と粗化による凹凸を合わせた粗度は、一般に
は平均粗度Rzが3〜15 μm、好適にはRz 5〜12 μmとす
る。
After removing the metal or the release film on the surface layer of the metal foil-clad sheet obtained by the present invention, the resin is roughened with an acid or an oxidizing agent by a known method. Examples of the acid to be used include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, formic acid and the like, and oxidizing agents such as sodium permanganate and potassium permanganate.
Examples thereof include chromic acid and chromic sulfuric acid, but are not limited thereto. If necessary, a known swelling solution is used before this treatment, and after the treatment, it is neutralized with a neutralizing solution. The average roughness of the roughened surface formed by this roughening treatment is, apart from the unevenness of the metal foil, an average roughness Rz of 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 5 μm. The average roughness Rz is 3 to 15 μm, and preferably Rz is 5 to 12 μm.

【0030】本発明の硬化性樹脂組成物は、粗化溶液に
溶解性が速い成分を好適には2成分以上配合しているた
めに、平均粗度が余り大きくなくても、小さい凹凸が粗
化された凹みの中にあり、銅メッキした場合に接着力は
高くなる。1成分だと凹凸は複雑とならず、高い銅接着
力を得るのが困難である。
Since the curable resin composition of the present invention preferably contains two or more components having high solubility in the roughening solution, even if the average roughness is not so large, small irregularities are rough. It is in the dented area, and the adhesive strength is high when copper is plated. With one component, the unevenness is not complicated and it is difficult to obtain high copper adhesion.

【0031】その後は、公知のセミアディティブ法、フ
ルアディティブ法等にて無電解メッキ、厚付け無電解メ
ッキ、蒸着、スパッタリング等を行い、一般には電気メ
ッキを行って導体を厚付けする。アディティブ法で粗化
ができる程度に硬化処理を行った場合、樹脂組成にもよ
るが、一般的には樹脂は硬化が不十分で、後硬化を行わ
ずにこのままプリント配線板とすると、耐熱性、信頼性
等の特性において本来の特性を有するものが作製できな
い。従って、一般には銅メッキを付着後にオーブン等で
後硬化する。
After that, electroless plating, thick electroless plating, vapor deposition, sputtering, etc. are performed by a known semi-additive method, full-additive method or the like, and generally, electroplating is performed to thicken the conductor. When curing is performed to the extent that it can be roughened by the additive method, it generally depends on the resin composition, but in general, the resin is not sufficiently cured, and if a printed wiring board is used as it is without post-curing, heat resistance However, it is not possible to manufacture a device having the original characteristics in reliability and the like. Therefore, generally, after the copper plating is attached, it is post-cured in an oven or the like.

【0032】後硬化条件は特に限定はないが、付着した
銅メッキが剥離しない条件とする。一般に温度は60〜25
0℃、時間は0.5〜5時間であり、樹脂組成物がプリント
配線板加工工程、その後のアセンブリ工程で問題の発生
しない硬化度とする。又、銅メッキ剥離を起こさないよ
うに段階的に温度を上げていくのが好ましい。
The post-curing conditions are not particularly limited, but the conditions are such that the attached copper plating does not peel off. Generally the temperature is 60-25
The temperature is 0 ° C., the time is 0.5 to 5 hours, and the resin composition has a curing degree that causes no problems in the printed wiring board processing step and the subsequent assembly step. Further, it is preferable to raise the temperature stepwise so as not to cause copper plating peeling.

【0033】その後、それぞれ公知の方法で回路を形成
し、プリント配線板とする。必要によりスルーホール、
ブラインドビア孔をあけ、粗化、デスミア処理後に同一
工程を順次繰り返してビルドアップ工法にて多層化す
る。
After that, circuits are formed by known methods to obtain printed wiring boards. Through hole if necessary,
A blind via hole is opened, and after roughening and desmearing, the same process is repeated in sequence to build up a multilayer structure.

【0034】この基材入りBステージ樹脂組成物シート
は一般の銅張積層板、多層板用の積層用としても使用で
き、離型フイルム付きBステージ樹脂組成物シートは、
銅箔を使って積層し、サブトラクティブ法でプリント配
線板を製造することも可能である。
This B-stage resin composition sheet containing a substrate can also be used for lamination of general copper-clad laminates and multilayer boards, and the B-stage resin composition sheet with a release film is
It is also possible to laminate using copper foil and manufacture a printed wiring board by the subtractive method.

【0035】[0035]

【実施例】以下に実施例、比較例で本発明を具体的に説
明する。尚、特に断らない限り、『部』は重量部を表
す。 実施例1 2,2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパンモノマーを400
部150℃に熔融させ、撹拌しながら4時間反応させ、平均
分子量1,900のプレポリマーを得た。これをメチルエチ
ルケトンに溶解し、ワニスAとした。これに室温で液状
のエポキシ樹脂として、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂(商品名:エピコート828、ジャパンエポキシレジン<
株>製)70部、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(商品
名:EXA830LVP、大日本インキ化学工業<株>製)80部、
ノボラック型エポキシ樹脂(商品名:DEN438、ダウケミカ
ル<株>製)50部、室温で固形のエポキシ樹脂としてビ
スフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:エピコート100
1、ジャパンエポキシレジン<株>製)200部、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂(商品名:ESCN220F、住友化
学工業<株>製)100部を配合し、熱硬化触媒としてアセチ
ルアセトン鉄0.3部をメチルエチルケトンに溶解して加
えた。これに液状のエポキシ化ポリブタジエン樹脂(商
品名:E-1000-8.0、日本石油化学<株>製)100部、エポ
キシ樹脂粉体(商品名:トレパールEP-B、平均粒径0.5
μm、東レ<株>製)50部を加え、良く攪拌混合して均一な
ワニスBにした。
The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples. Unless otherwise specified, “part” means part by weight. Example 1 400 of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane monomer
Part was melted at 150 ° C. and reacted for 4 hours with stirring to obtain a prepolymer having an average molecular weight of 1,900. This was dissolved in methyl ethyl ketone to obtain varnish A. A bisphenol A type epoxy resin (trade name: Epicoat 828, Japan Epoxy Resin <
Co., Ltd.) 70 parts, bisphenol F type epoxy resin (trade name: EXA830LVP, Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 80 parts,
50 parts of novolac type epoxy resin (Brand name: DEN438, manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), bisphenol A type epoxy resin (Brand name: Epicoat 100) as a solid epoxy resin at room temperature
1, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 200 parts, cresol novolac type epoxy resin (trade name: ESCN220F, Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 100 parts were mixed, and 0.3 parts of acetylacetone iron as a thermosetting catalyst was dissolved in methyl ethyl ketone. And added. Liquid epoxidized polybutadiene resin (trade name: E-1000-8.0, manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd.) 100 parts, epoxy resin powder (trade name: Trepearl EP-B, average particle size 0.5)
(50 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) and well mixed with stirring to form a uniform varnish B.

【0036】このワニスBを連続して厚さ18μmの銅箔マ
ット面(凹凸3.6〜6.1μm、平均粗度Rz:4.5μm)に塗
布、乾燥して凸部先端から5.1μmの高さの銅箔付きBス
テージ樹脂組成物層(170℃でのゲル化時間43秒)付き
シートCを作製し、出てきた時点で樹脂面に厚さ25μmの
保護PETフィルムを配置して温度100℃、線圧4kgf/cmの
ロールにてラミネートし、巻き取った。
This varnish B was continuously applied to a 18 μm thick copper foil mat surface (unevenness 3.6 to 6.1 μm, average roughness Rz: 4.5 μm), dried, and copper having a height of 5.1 μm from the tip of the convex portion. A sheet C with a B-stage resin composition layer with a foil (gelling time at 170 ° C: 43 seconds) was prepared, and when it came out, a protective PET film with a thickness of 25 μm was placed on the resin surface and the temperature was 100 ° C and the wire It was laminated with a roll having a pressure of 4 kgf / cm and wound up.

【0037】又、上記実施例1の多官能性シアン酸エス
テルモノマー、プレポリマーのワニスAの固形分500部、
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(商品名:EXA830LV
P、大日本インキ化学工業<株>製)150部、ノボラック型
エポキシ樹脂(商品名:DEN438、ダウケミカル<株>製)1
50部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(商品名:E
SCN220F、住友化学工業<株>製)150部を配合し、熱硬化
触媒としてオクチル酸亜鉛0.2部をメチルエチルケトン
に溶解して加えた。これに多重構造のエポキシ基変性ア
クリルゴム(商品名:スタフィロイドIM-203、平均粒径
0.3μm、ガンツ化成<株>製)50部を加え、良く攪拌混合
して均一なワニスDとした。これを連続して厚さ50μmの
ガラス織布に含浸、乾燥して、ゲル化時間60秒、総厚み
(ガラス織布+樹脂層)65μmのプリプレグEを作製し、
出てきた時点で両面に厚さ25μmの離型PETフィルムを配
置し、温度100℃、線圧5kgf/cmのロールにてラミネート
し、巻き取った。
Further, the polyfunctional cyanate ester monomer of Example 1 above, the solid content of the prepolymer varnish A is 500 parts,
Bisphenol F type epoxy resin (trade name: EXA830LV
P, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 150 parts, novolac type epoxy resin (trade name: DEN438, manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) 1
50 parts, cresol novolac type epoxy resin (trade name: E
SCN220F, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) (150 parts) was mixed, and 0.2 part of zinc octylate as a thermosetting catalyst was dissolved in methyl ethyl ketone and added. Epoxy-group-modified acrylic rubber with multiple structure (trade name: Staphyloid IM-203, average particle size
50 parts of 0.3 μm, manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd.) were added and mixed well with stirring to obtain a uniform varnish D. This was continuously impregnated into a glass woven cloth having a thickness of 50 μm and dried to prepare a prepreg E having a gelling time of 60 seconds and a total thickness (glass woven cloth + resin layer) of 65 μm,
When it came out, a release PET film having a thickness of 25 μm was arranged on both sides, laminated with a roll having a temperature of 100 ° C. and a linear pressure of 5 kgf / cm, and wound up.

【0038】以上の銅箔付きBステージ樹脂組成物シー
トCの保護PETフィルを剥がしながら、更に上記プリプレ
グEの片面のPETフィルムを剥がしながら、樹脂面同士を
合わせて、温度100℃、線圧5kgf/cmの加熱ロールにて連
続的にラミネートを行い、一体化して基材入り銅箔付き
Bステージ樹脂組成物シートFとし、これを巻き取っ
た。
While the protective PET fill of the B-stage resin composition sheet C with the copper foil was peeled off and the PET film on one side of the prepreg E was peeled off, the resin surfaces were joined together at a temperature of 100 ° C. and a linear pressure of 5 kgf. The laminate was continuously laminated with a heating roll of / cm, and integrated to form a B-stage resin composition sheet F with a copper foil containing a base material, which was wound up.

【0039】一方、内層板として絶縁層厚さ0.2mm、12
μm両面銅箔のBTレジン銅張積層板(商品名:CCL-HL83
0、三菱ガス化学<株>製 )に導体回路を形成し、黒色酸
化銅処理を銅箔に施した基板の両面に、上記基材入り銅
箔付きBステージ樹脂組成物シートFを、PETフィルム
を剥離して樹脂層が内層基板側を向くように配置し、プ
レス装置に仕込んだ後、室温から170℃まで25分で温度
を上げ、圧力は最初から15kgf/cm2とし、真空度は0.5To
rrで170℃で30分保持した後、冷却して取り出し、4層の
多層板Gを得た。この表面の銅箔をエッチング除去後、
炭酸ガスレーザーの出力12mJにて1ショット照射して孔
径100μmのブラインドビア孔をあけた。過マンガン酸カ
リウム系デスミア溶液(日本マクダーミッド<株>)で膨
潤、デスミア(溶解)、中和して、樹脂表面からの凹を
3.5〜5.2μm(平均粗度Rz:4.2μm)とした。この際に一緒
に積層したプリプレグEのガラス繊維には凹部先端は到
達しなかった。同時にブラインドビア孔底部に残存して
いる樹脂層を溶解除去した。次に、この粗化表面に無電
解銅メッキを0.7μm、電解銅メッキを25μm付着させ、
加熱炉に入れて100℃から徐々に30分で温度を150℃まで
上げ、その後更に温度を徐々に200℃まで上げ、200℃で
60分加熱保持して硬化した。これを用いてセミアディテ
ィブ法にて銅導体回路を形成し、更に導体回路表面黒色
酸化銅処理して同一工程を繰り返し、6層の多層プリン
ト配線板を作製した。この評価結果を表1に示す。
On the other hand, as the inner layer plate, the insulating layer thickness is 0.2 mm, 12
BT resin copper clad laminate with μm double-sided copper foil (Product name: CCL-HL83
0, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), and a B-stage resin composition sheet F with a copper foil containing the above-mentioned base material is formed on a PET film on both sides of a substrate on which a copper foil has been subjected to black copper oxide treatment. After peeling off and arranging so that the resin layer faces the inner layer substrate side and charging it in the press machine, the temperature is raised from room temperature to 170 ° C in 25 minutes, the pressure is 15 kgf / cm2 from the beginning, and the vacuum degree is 0.5To.
After holding at 170 ° C. for 30 minutes at rr, it was cooled and taken out to obtain a multi-layer board G having four layers. After removing the copper foil on this surface by etching,
A blind via hole having a hole diameter of 100 μm was opened by irradiating one shot with an output of a carbon dioxide gas laser of 12 mJ. Swell, desmear (dissolve) and neutralize with potassium permanganate-based desmear solution (Japan MacDermid Co., Ltd.) to remove the concaves from the resin surface.
It was set to 3.5 to 5.2 μm (average roughness Rz: 4.2 μm). At this time, the tip of the concave portion did not reach the glass fiber of the prepreg E laminated together. At the same time, the resin layer remaining at the bottom of the blind via hole was dissolved and removed. Next, 0.7 μm electroless copper plating and 25 μm electrolytic copper plating on the roughened surface,
Place in a heating furnace and gradually raise the temperature from 100 ° C to 150 ° C in 30 minutes, and then gradually raise the temperature to 200 ° C at 200 ° C.
Cured by heating for 60 minutes. Using this, a copper conductor circuit was formed by the semi-additive method, the conductor circuit surface was further treated with black copper oxide, and the same process was repeated to fabricate a 6-layer multilayer printed wiring board. The evaluation results are shown in Table 1.

【0040】実施例2 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:エピコ−ト1
001、ジャパンエポキシレジン<株>製)500部、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂(商品名:DEN438、ダウケ
ミカル<株>製造)450部、イミダゾール系硬化剤(商品
名:2E4MZ、四国化成<株>製)30部、カルボキシル基変
性アクリル多層構造粉体(商品名:スタフィロイドIM-3
01、平均粒子径0.2μm)60部、微粉砕シリカ(平均粒子
径2.4μm)40部、及びアクリロニトリルーブタジエンゴ
ム(商品名:ニポール1031、日本ゼオン<株>製)30部をメ
チルエチルケトンに溶解、分散した溶液加え、3本ロー
ルにて良く分散し、ワニスHとした。
Example 2 Bisphenol A type epoxy resin (trade name: Epicort 1
001, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 500 parts, phenol novolac type epoxy resin (trade name: DEN438, Dow Chemical Co., Ltd.) 450 parts, imidazole-based curing agent (trade name: 2E4MZ, Shikoku Kasei Co., Ltd.) ) 30 parts, carboxyl group-modified acrylic multi-layered powder (Product name: Staphyroid IM-3
01, average particle size 0.2 μm) 60 parts, finely pulverized silica (average particle size 2.4 μm) 40 parts, and acrylonitrile-butadiene rubber (trade name: Nipol 1031, Nippon Zeon Co., Ltd.) 30 parts dissolved in methyl ethyl ketone, Add the dispersed solution and disperse well with 3 rolls to obtain Varnish H.

【0041】これを厚さ25μmの離型PETフイルムに離型
剤処理と帯電防止処理を施したものの片面に連続的に塗
布、乾燥して15μmの樹脂層を形成した離型フイルム付
きBステージ樹脂組成物シートI (170℃でのゲル化時
間51秒)を作製し、出てきた時点で樹脂面に厚さ15μm
の保護ポリプロピレンフィルムを配置し、温度100℃、
線圧5kgf/cmのロールにて連続的にラミネートし、巻き
取った。
A 25-μm-thick release PET film, which had been treated with a release agent and an antistatic treatment, was continuously applied on one side and dried to form a 15 μm resin layer with a release film on the B-stage resin. Composition sheet I (gelation time at 170 ° C, 51 seconds) was prepared, and when it came out, the resin surface had a thickness of 15 μm.
Arrange a protective polypropylene film, temperature 100 ℃,
It was continuously laminated with a roll having a linear pressure of 5 kgf / cm and wound up.

【0042】又、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商
品名:エピコ−ト1001、ジャパンエポキシレジン<株>
製)500部、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(商
品名:DEN438、ダウケミカル<株>製造)450部、イミダ
ゾール系硬化剤(商品名:2E4MZ、四国化成<株>製)30
部、カルボキシル基変性アクリル多層構造有機粉体(商
品名:スタフィロイドIM-301、平均粒子径0.2μm)50部
を加え、更にタルク(平均粒子径4.0μm)300部を加
え、3本ロールにて良く均一分散し、ワニスJとした。
このワニスJを連続的に厚さ40μmのガラス織布に、片面
をスクイズロールでこすりながら含浸、乾燥して、片面
のガラス織布からの樹脂厚み9μm、もう一方のガラス織
布からの樹脂厚み16μm、総厚み(ガラス織布+樹脂
層)65μm、ゲル化時間85秒のプリプレグKを作製し、出
てきた時点で両面に厚さ25μmの離型PETフィルムを配置
し、温度100℃、線圧5kgf/cmのロールにて連続的にラミ
ネートし、巻き取った。
Bisphenol A type epoxy resin (trade name: Epicort 1001, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
500 parts, phenol novolac type epoxy resin (product name: DEN438, Dow Chemical Co., Ltd.) 450 parts, imidazole-based curing agent (product name: 2E4MZ, Shikoku Kasei Co., Ltd.) 30
Part, 50 parts of a carboxyl group-modified acrylic multi-layered organic powder (trade name: Staphyloid IM-301, average particle size 0.2 μm), and 300 parts of talc (average particle size 4.0 μm) are added to a triple roll Well dispersed evenly to obtain Varnish J.
This varnish J was continuously impregnated into a glass woven cloth having a thickness of 40 μm while rubbing one side with a squeeze roll, and dried, and the resin thickness from the glass woven cloth on one side was 9 μm, and the resin thickness from the other glass woven cloth was 16 μm, total thickness (glass woven cloth + resin layer) 65 μm, gelling time 85 seconds prepreg K was made, and when it came out, 25 μm thick release PET film was placed on both sides, temperature 100 ° C, wire It was continuously laminated with a roll having a pressure of 5 kgf / cm and wound up.

【0043】以上の離型フイルム付きBステージ樹脂組
成物シートI の保護ポリプロピレンフィルムを剥がしな
がら、更に上記プリプレグKの樹脂層厚み9μm側の片面
のポリプロピレンフィルムを剥がしながら、樹脂面同士
を合わせて、温度100℃、線圧5kgf/cmの加熱ロールにて
連続的にラミネートを行って一体化して基材入り離型フ
イルム付きBステージ樹脂組成物シートLとし、これを
巻き取った。
While peeling off the protective polypropylene film of the above B-stage resin composition sheet I with release film, and further peeling off the polypropylene film on one side of the resin layer thickness 9 μm side of the above prepreg K, the resin surfaces were joined together, A B-stage resin composition sheet L with a release film containing a substrate was laminated by continuously laminating with a heating roll having a temperature of 100 ° C. and a linear pressure of 5 kgf / cm, and this was wound.

【0044】一方、厚さ0.2mm、12μm両面銅箔のエポキ
シ樹脂銅張積層板(商品名:CCL-EL170、三菱ガス化学<
株>製)に導体回路を形成し、これに黒色酸化銅処理後
に、この両面に上記離型フイルム付きBステージ樹脂組
成物シートLの片面の離型フィルムを剥がして置き、プ
レス装置に仕込んだ後、室温から徐々に170℃まで25分
で温度を上げ、圧力は最初から15kgf/cm2とし、真空度
0.5Torr2にて温度170℃で30分保持した後、冷却して取
り出し、4層多層板Mを得た。この表面の離型フイルム除
去後、炭酸ガスレーザー出力12mJで1ショット照射して
孔径100μmのブラインドビア孔をあけた。
On the other hand, a 0.2 mm thick, 12 μm double-sided copper foil epoxy resin copper clad laminate (trade name: CCL-EL170, Mitsubishi Gas Chemical
Co., Ltd.), a conductor circuit was formed thereon, and after black copper oxide treatment was applied thereto, the release film on one side of the B-stage resin composition sheet L with the release film was peeled off and placed on both sides of the conductor circuit. Then, gradually raise the temperature from room temperature to 170 ° C in 25 minutes, set the pressure from the beginning to 15 kgf / cm2, and set the vacuum degree.
After holding at a temperature of 170 ° C. for 30 minutes at 0.5 Torr 2, it was cooled and taken out to obtain a 4-layer multilayer board M. After removing the release film on this surface, a blind via hole having a hole diameter of 100 μm was formed by irradiating one shot with a carbon dioxide gas laser output of 12 mJ.

【0045】クロム酸溶液で粗化処理を行い、表層から
の凹凸を5.4〜10.9μm(平均粗度Rz:8.2μm)とした。こ
の際に一緒に積層したプリプレグのガラス織布繊維には
凹部先端は到達しなかった。同時にブラインドビア孔底
部に残存している樹脂層を溶解除去した。次に、この粗
化表面に無電解銅メッキ0.7μm、電解銅メッキを25μm
付着させ、加熱炉に入れて100℃から徐々に温度を30分
で150℃まで上げて、その後更に温度を徐々に上げて170
℃で60分加熱保持して硬化した。これを用いてセミアデ
ィティブ法にて導体回路を形成し、更に導体回路を黒色
酸化銅処理を行い、同様に加工して6層の多層プリント
配線板を作製した。この評価結果を表1に示す。
Roughening treatment was carried out with a chromic acid solution to make irregularities from the surface layer to be 5.4 to 10.9 μm (average roughness Rz: 8.2 μm). At this time, the tip of the concave portion did not reach the glass woven fabric fibers of the prepreg laminated together. At the same time, the resin layer remaining at the bottom of the blind via hole was dissolved and removed. Next, electroless copper plating 0.7μm, electrolytic copper plating 25μm on this roughened surface
After adhering, put in a heating furnace and gradually raise the temperature from 100 ° C to 150 ° C in 30 minutes, and then gradually raise the temperature to 170 ° C.
It was cured by heating at 60 ° C for 60 minutes. Using this, a conductor circuit was formed by a semi-additive method, the conductor circuit was further treated with black copper oxide, and processed in the same manner to produce a 6-layer multilayer printed wiring board. The evaluation results are shown in Table 1.

【0046】比較例1、2 実施例1,2で銅箔及び離型フイルムに付着するBステ
ージの樹脂層の厚さを65μm付着させて金属箔付き離型
フイルム付きBステージ樹脂組成物シートを作製し、実
施例1、2においてプリプレグを使用せず、この金属箔
付き離型フイルム付きBステージ樹脂組成物シートのみ
を使用して同様に積層硬化処理成形し、粗化処理を同様
に行って、実施例1,2と同様に表層からの凹凸合計で
5〜11μm(平均粗度Rz:8〜9μm)とし、同様に6層の多層
プリント配線板とした。この評価結果を表1に示す。
Comparative Examples 1 and 2 In Examples 1 and 2, a B-stage resin composition sheet with a metal foil and a release film was prepared by adhering a B-stage resin layer having a thickness of 65 μm to the copper foil and the release film. In the same manner as in Examples 1 and 2, the prepreg was not used, and only the B-stage resin composition sheet with the release film and the metal foil was used to carry out the lamination curing treatment and the roughening treatment in the same manner. As in Examples 1 and 2, the total unevenness from the surface layer
The thickness was 5 to 11 μm (average roughness Rz: 8 to 9 μm), and a multilayer printed wiring board of 6 layers was similarly prepared. The evaluation results are shown in Table 1.

【0047】比較例3 実施例1において、ワニスBを厚さ50μmのガラスクロ
スに含浸、乾燥して厚さ65μm、ゲル化時間(170℃)が
55秒のプリプレグNを作製した。このプリプレグを各1
枚内層板の両側に配置し、その外側に18μmの銅箔を置
き、同様に積層硬化処理成形して4層の多層板を作製し
た。この表層の銅箔をエッチング除去後に、ブラインド
ビア孔を形成し、同様に粗化処理を行って、表層からの
凹凸合計を5〜11μmとし、無電解銅メッキ後に同様に回
路形成、導体黒色酸化銅処理、プリプレグN配置、18μ
mの銅箔配置、同様に積層してから表層の銅箔除去、ブ
ラインドビア孔形成、デスミア処理、銅メッキ、回路形
成を行って6層の多層プリント配線板を作製した。銅メ
ッキ断面を観察すると、ガラスクロスに粗化の凹が到達
し、銅メッキが付着している箇所多数があった。この評
価結果を表1に示す。
Comparative Example 3 In Example 1, a glass cloth having a thickness of 50 μm was impregnated with varnish B and dried to obtain a thickness of 65 μm and a gelling time (170 ° C.).
A 55 second prepreg N was prepared. 1 each for this prepreg
It was arranged on both sides of the inner layer plate, and a copper foil of 18 μm was placed on the outer side of the inner layer plate, and similarly laminated and cured to form a four-layer multilayer plate. After removing this surface copper foil by etching, blind via holes are formed, and roughening treatment is performed in the same manner to make the total unevenness from the surface layer 5 to 11 μm, the same circuit formation after electroless copper plating, conductor black oxidation Copper treatment, prepreg N placement, 18μ
A copper foil of 6 m was laminated, similarly laminated, and then the copper foil on the surface layer was removed, blind via holes were formed, desmear treatment, copper plating and circuit formation were performed to produce a 6-layer multilayer printed wiring board. When the copper-plated cross section was observed, a roughening recess reached the glass cloth and there were many places where the copper plating was attached. The evaluation results are shown in Table 1.

【0048】比較例4 実施例2において、カルボキシル基変性アクリル多層構
造有機粉体、微粉砕シリカ、及びアクリロニトリルーブ
タジエンゴムを用いないでワニスを調整し、これを同様
に離型フイルム上に厚さ65μmとなるように塗布、乾燥
して、ゲル化時間(170℃)が80秒の樹脂層を形成した離
型フイルム付きBステージ樹脂組成物シートOを作製し
た。この離型フイルム付きBステージ樹脂組成物シート
Oを内層板の両側に各1枚配置し、同様に積層硬化処理
成形して4層の多層板を作製し、表層の離型フイルムを
除去後に、同様にCO2レーザーでブラインドビア孔を形
成し、実施例2と同じ条件で粗化処理を行い、銅メッキ
後に導体回路形成、導体黒色酸化銅処理、離型フイルム
付きBステージ樹脂組成物シートO配置、積層成形を行
い、その後同様に加工して6層プリント配線板とした。
この評価結果を表1に示す。
Comparative Example 4 A varnish was prepared in the same manner as in Example 2 except that the carboxyl group-modified acrylic multi-layered organic powder, finely pulverized silica, and acrylonitrile-butadiene rubber were not used. A B-stage resin composition sheet O with a release film on which a resin layer having a gelling time (170 ° C.) of 80 seconds was formed was coated and dried so as to have a thickness of 65 μm. One B-stage resin composition sheet O with this release film is placed on each side of the inner layer board, and similarly laminated and cured to form a four-layer multi-layer board. After removing the release film on the surface layer, Similarly, a blind via hole is formed with a CO2 laser, a roughening treatment is performed under the same conditions as in Example 2, a conductor circuit is formed after copper plating, a conductor black copper oxide treatment, and a B-stage resin composition sheet O arrangement with a release film. Then, lamination molding was performed, and then the same processing was performed to obtain a 6-layer printed wiring board.
The evaluation results are shown in Table 1.

【0049】 (表1) 項目 実施例 比較例 1 2 1 2 3 4 銅接着力 (kgf/cm) 1.24 1.38 1.23 1.38 1.16 0.46 半田耐熱性 異常なし 異常なし 異常なし 一部膨れ 一部膨れ 多数膨れ ガラス転移温度 DMA (℃) 198 153 198 153 198 168 弾性率25℃ (kgf/mm2) 1910 1750 1002 962 2001 860 ソリ・ネジレ(mm) 1.7 2.0 4.9 5.7 1.5 5.4 厚みバラツキ (μm) 10.7 11.2 19.3 20.4 10.4 22.7 ブラインドビア孔・ヒートサイクル試験 、抵抗値変化率(%) 1.5 2.0 2.0 3.0 1.8 >10 クラック発生 200サイクル 0/1000 0/1000 0/1000 0/1000 0/1000 210/1000 400サイクル 0/1000 45/1000 0/1000 75/1000 65/1000 970/1000 耐マイグレーション性 (Ω) 常態 5x1013 4x1013 5x1013 5x1013 4x1013 5x1013 200hrs. 6x1011 5x109 3x1010 4x108 2x109 1x109 500hrs. 8x1010 < 108 7x1010 <108 <108 <108 (Table 1) Item Example Comparative Example 1 2 1 2 3 4 Copper adhesion (kgf / cm) 1.24 1.38 1.23 1.38 1.16 0.46 Solder heat resistance No abnormality No abnormality No abnormality Partial swelling Partial swelling Glass Transition temperature DMA (° C) 198 153 198 153 198 168 168 Modulus of elasticity 25 ° C (kgf / mm2) 1910 1750 1002 962 2001 860 Warp / twist (mm) 1.7 2.0 4.9 5.7 1.5 5.4 Thickness variation (μm) 10.7 11.2 19.3 20.4 10.4 22.7 Blind via hole / heat cycle test, resistance change rate (%) 1.5 2.0 2.0 3.0 1.8> 10 Crack generation 200 cycles 0/1000 0/1000 0/1000 0/1000 0/1000 210/1000 400 cycles 0/1000 45 / 1000 0/1000 75/1000 65/1000 970/1000 migration resistance (Omega) normal 5x10 13 4x10 13 5x10 13 5x10 13 4x10 13 5x10 13 200hrs. 6x10 11 5x10 9 3x10 10 4x10 8 2x10 9 1x10 9 500hrs. 8x10 10 <10 8 7x10 10 <10 8 <10 8 <10 8

【0050】<測定方法> 1)銅接着力: JIS C6481に準じて測定した。 2)半田耐熱性: 6層のプリント配線板をプレッシャクッ
カー試験処理(PCT:121℃・203kPa・5hrs.)後に260℃の
半田中に30sec.浸漬してから異常の有無を観察した。 3)ガラス転移温度: 各ワニスを銅箔上に塗布、乾燥を重
ねて厚さ0.8mmとし、その後、この樹脂組成物面に銅箔
を置いて各積層硬化条件で硬化させてから、表層の銅箔
をエッチングし、DMA法にて測定した。尚、比較例3
はプリプレグを13枚使用して積層成形して厚さをほぼ0.
8mmとしたものを使用した。 4)弾性率: 2)で測定したDMAのチャートの25℃での弾性
率を示した。 5)ソリ、ネジレ: 250x250mmで作製した6層のプリント配
線板を用い、定盤上に置き、ソリ、ネジレの最大値を測
定した。 6)厚みバラツキ: 5)の250x250mmの6層のプリント配線板
の片面の積層した層の厚みのバラツキを厚み測定器で測
定し、(1層あたりの厚みバラツキの最大値)で表し
た。 7)ブラインドビア孔・ヒートサイクル試験による抵抗
値変化及びクラック:各6層プリント配線板の2層目から
3層目に形成したブラインドビア孔(孔径100μm、ラン
ド180μm)を2層目と3層目を交互に1000孔つなぎ、気
相で-65℃/30分←→+150℃/30分を1サイクルとして200
サイクル繰り返し、抵抗値の変化の最大値を測定した。
又、200、400サイクルでの孔断面を観察し、樹脂クラッ
クの発生を見た。分子に発生数、分母に試験数を示し
た。 8)耐マイグレーション性: 各実施例、比較例の4層板の
表層にライン/スペース=50/50μmの回路を形成し、
各実施例、比較例の構成と同様に積層して6層板とした
後、表層の金属箔を溶解除去し、この試験片を85℃・85
%RHにて50VDC印加して端子間の絶縁抵抗値を測定した。
<Measurement method> 1) Copper adhesive strength: Measured according to JIS C6481. 2) Solder heat resistance: A 6-layer printed wiring board was subjected to a pressure cooker test treatment (PCT: 121 ° C, 203kPa, 5hrs.), Immersed in solder at 260 ° C for 30 seconds, and then observed for abnormalities. 3) Glass transition temperature: each varnish is applied on a copper foil and dried to obtain a thickness of 0.8 mm, and then the copper foil is placed on this resin composition surface and cured under each lamination curing condition, and then the surface layer The copper foil was etched and measured by the DMA method. Comparative Example 3
Is a laminated prepreg with 13 sheets and has a thickness of almost 0.
The one with 8 mm was used. 4) Elastic Modulus: The elastic modulus at 25 ° C of the DMA chart measured in 2) is shown. 5) Warp and twist: Using a 6-layer printed wiring board manufactured with a size of 250x250 mm, it was placed on a surface plate and the maximum values of warp and twist were measured. 6) Thickness variation: The thickness variation of the laminated layers on one side of the 6x250x250 mm printed wiring board of 5) was measured with a thickness meter and expressed as (maximum thickness variation per layer). 7) Blind via hole ・ Change in resistance value by heat cycle test and crack: Blind via hole (hole diameter 100 μm, land 180 μm) formed on the second to third layers of each 6-layer printed wiring board. Alternately, connect 1000 holes, and in the gas phase, -65 ℃ / 30 minutes ← → + 150 ℃ / 30 minutes as one cycle 200
The cycle was repeated and the maximum change in resistance was measured.
Further, the cross section of the hole at 200 and 400 cycles was observed, and the occurrence of resin cracks was observed. The number of occurrences is shown in the numerator, and the number of tests is shown in the denominator. 8) Migration resistance: A circuit of line / space = 50/50 μm is formed on the surface layer of each of the four-layer boards of Examples and Comparative Examples,
After laminating in the same manner as in each of the examples and comparative examples to form a 6-layer plate, the surface metal foil was dissolved and removed, and the test piece was subjected to 85 ° C / 85 ° C.
50% DC was applied at% RH and the insulation resistance between the terminals was measured.

【0051】[0051]

【発明の効果】基材補強Bステージ樹脂組成物シート
(プリプレグ)の少なくとも片面にアディティブ用Bス
テージ樹脂組成物層を付着させる製造方法にて、好まし
くはアディティブ用Bステージ樹脂組成物層の上に金属
箔或いは離型フィルムを付着させたアディティブ用基材
入りBステージ樹脂組成物シートを使用して加熱、加圧
下に接着することにより、得られた多層プリント配線板
は弾性率(剛性)も高く、ソリ、ネジレ、厚み精度に優
れたものを製造することができた。更に基材入りBステ
ージ樹脂組成物の少なくともアディティブ用樹脂組成物
は、硬化処理後に難溶性となる樹脂成分として、(a)多
官能性シアン酸エステルモノマー、該シアン酸エステル
プレポリマー100重量部に対し、(b)室温で液状のエポキ
シ樹脂15〜500重量部を配合し、(c)熱硬化触媒を、(a+
b)100重量部に対し0.005〜10重量部配合した樹脂組成物
を必須成分とする硬化性樹脂組成物を使用することによ
り、耐熱性、耐マイグレーション性等の信頼性に優れた
多層プリント配線板を得ることができた。そして硬化処
理後にも粗化溶液に可溶性の成分として、ブタジエン含
有樹脂、有機粉体、無機粉体の3成分のうち2成分以上
を必須成分とすることにより、粗化によるアンカー効果
が増し、銅メッキの接着力の大きいものが得られた。
EFFECTS OF THE INVENTION In a production method of adhering a B-stage resin composition layer for additive to at least one surface of a base material reinforced B-stage resin composition sheet (prepreg), preferably on the B-stage resin composition layer for additive. By using a B-stage resin composition sheet containing a base material for an additive to which a metal foil or a release film is attached and adhering under heat and pressure, the multilayer printed wiring board obtained has a high elastic modulus (rigidity). It was possible to manufacture products with excellent warp, twist, and thickness accuracy. Further, at least the resin composition for additives of the B-stage resin composition containing the base material is (a) a polyfunctional cyanate ester monomer and 100 parts by weight of the cyanate ester prepolymer as a resin component which becomes hardly soluble after curing treatment. On the other hand, (b) 15 to 500 parts by weight of a liquid epoxy resin at room temperature is mixed, and (c) a thermosetting catalyst is added (a +
b) A multilayer printed wiring board having excellent reliability such as heat resistance and migration resistance by using a curable resin composition containing 0.005 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of a resin composition as an essential component. I was able to get Then, by making two or more components out of the three components of butadiene-containing resin, organic powder, and inorganic powder as essential components soluble in the roughening solution even after the curing treatment, the anchoring effect due to the roughening is increased, A product having a large adhesion of plating was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1の基材入り銅箔付きBステージ樹脂組
成物シートの製造工程。
FIG. 1 is a manufacturing process of a B-stage resin composition sheet with a copper foil containing a base material of Example 1.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

a 基材補強Bステージ樹脂組成物シート(プリプレ
グ) b アディティブ用Bステージ樹脂組成物層 c 銅箔 d 離型フィルム e ガラス織布 f 加熱ロール
a base material reinforced B stage resin composition sheet (prepreg) b additive B stage resin composition layer c copper foil d release film e glass woven fabric f heating roll

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Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材補強Bステージ樹脂組成物シート
(プリプレグ)を作製後に、この片面にアディティブ用
樹脂組成物層を付着して製造することを特徴とするアデ
ィティブ用基材入りBステージ樹脂組成物シートの製造
方法。
1. A B-stage resin composition containing a base material for additive, which is produced by producing a base material-reinforced B-stage resin composition sheet (prepreg) and then adhering a resin composition layer for additive to one surface of the sheet. Sheet manufacturing method.
【請求項2】 該基材補強Bステージ樹脂組成物シート
の片面に、表面凹凸を有する金属箔の凹凸を有する片面
にアディティブ用樹脂組成物層が形成されたシートを、
樹脂面が基材補強Bステージ樹脂組成物シート側を向く
ように配置してラミネート接着させて製造することを特
徴とする請求項1記載のアディティブ用基材入り金属箔
付きBステージ樹脂組成物シートの製造方法。
2. A sheet in which a resin composition layer for additive is formed on one surface of a metal foil having surface unevenness on one surface of the substrate-reinforced B-stage resin composition sheet,
2. The B-stage resin composition sheet with a metal foil containing a base material for additive according to claim 1, wherein the resin surface is arranged so that the base material reinforced B-stage resin composition sheet side and laminated and bonded. Manufacturing method.
【請求項3】 該基材補強Bステージ樹脂組成物シート
の片面に、離型フィルムにアディティブ用樹脂組成物層
が形成されたシートを、樹脂面が基材補強Bステージ樹
脂組成物シート側を向くように配置して付着させて製造
することを特徴とする請求項1記載のアディティブ用基
材入り離型フィルム付きBステージ樹脂組成物シートの
製造方法。
3. A base material reinforced B-stage resin composition sheet having a release film on which a resin composition layer for additive is formed on one side of the base material reinforced B stage resin composition sheet, the resin surface being the base material reinforced B stage resin composition sheet side. The method for producing a B-stage resin composition sheet with a release film containing a base material for an additive according to claim 1, wherein the sheet is arranged so as to face and adhere.
【請求項4】 該基材補強Bステージ樹脂組成物の片面
の樹脂層を薄く形成し、この薄い樹脂層側に該アディテ
ィブ用Bステージ樹脂組成物シートを形成して製造する
ことを特徴とする請求項1、2又は3記載のアディティ
ブ用基材入りBステージ樹脂組成物シートの製造方法。
4. A base-layer-reinforced B-stage resin composition is formed by thinly forming a resin layer on one side, and the B-stage resin composition sheet for additive is formed on the thin resin layer side for production. A method for producing a B-stage resin composition sheet containing an additive substrate according to claim 1, 2 or 3.
【請求項5】 該アディティブ用樹脂組成物、基材補強
Bステージ樹脂組成物の少なくともアディティブ用樹脂
組成物は硬化処理後に粗化溶液で粗化した際に粗化溶液
に難溶性となる樹脂成分と可溶性の成分が配合されたも
のであり、該難溶性となる樹脂成分として、(a)多官能
性シアン酸エステルモノマー、該シアン酸エステルプレ
ポリマー100重量部に対し、(b)室温で液状のエポキシ樹
脂15〜500重量部を配合し、(c)熱硬化触媒を、(a+b)100
重量部に対し0.005〜10重量部配合した樹脂組成物を必
須成分とする請求項1、2、3又は4記載のアディティ
ブ用基材入りBステージ樹脂組成物シートの製造方法。
5. A resin component which is hardly soluble in a roughening solution when roughened with a roughening solution after curing treatment, at least the additive resin composition and the base material-reinforced B-stage resin composition. And a soluble component are mixed, and as the resin component which becomes insoluble, (a) a polyfunctional cyanate ester monomer, 100 parts by weight of the cyanate ester prepolymer, (b) a liquid at room temperature 15-500 parts by weight of the epoxy resin of (c) thermosetting catalyst, (a + b) 100
The method for producing a B-stage resin composition sheet containing a base material for additive according to claim 1, 2, 3 or 4, wherein a resin composition blended in an amount of 0.005 to 10 parts by weight with respect to parts by weight is an essential component.
【請求項6】 該硬化処理後にも粗化溶液に可溶性の成
分として、ブタジエン含有樹脂、有機粉体、無機粉体の
3成分のうち2成分以上を必須成分として使用する請求
項1、2,3、4又は5記載のアディティブ用基材入り
Bステージ樹脂組成物シートの製造方法。
6. A solubilizing component in the roughening solution after the curing treatment, wherein two or more components out of three components of butadiene-containing resin, organic powder and inorganic powder are used as essential components. A method for producing a B-stage resin composition sheet containing an additive substrate according to 3, 4, or 5.
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