[go: up one dir, main page]

JP2003128928A - 難燃性熱硬化樹脂組成物、プリプレグ、積層板、絶縁フィルム、樹脂付き金属箔及び多層配線板とその製造方法 - Google Patents

難燃性熱硬化樹脂組成物、プリプレグ、積層板、絶縁フィルム、樹脂付き金属箔及び多層配線板とその製造方法

Info

Publication number
JP2003128928A
JP2003128928A JP2001322379A JP2001322379A JP2003128928A JP 2003128928 A JP2003128928 A JP 2003128928A JP 2001322379 A JP2001322379 A JP 2001322379A JP 2001322379 A JP2001322379 A JP 2001322379A JP 2003128928 A JP2003128928 A JP 2003128928A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
flame
resin composition
thermosetting resin
retardant thermosetting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001322379A
Other languages
English (en)
Inventor
Takayuki Sueyoshi
隆之 末吉
Nobuyuki Ogawa
信之 小川
Kenji Tanaka
賢治 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2001322379A priority Critical patent/JP2003128928A/ja
Publication of JP2003128928A publication Critical patent/JP2003128928A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 誘電特性に優れるシアネート樹脂を臭素系難
燃剤を用いずに難燃化しつつ、さらに耐熱性、耐湿性及
び成形性の低下、配線板製造工程における薬液の汚染な
どといった懸念がない難燃性シアネート樹脂を含む難燃
性熱硬化樹脂組成物ならびに該組成物を用いた絶縁フィ
ルム、樹脂付き金属箔及び多層プリント配線板を提供す
る。 【解決手段】 (A)二価のシアネートエステル化合
物、(B)リン化合物および(C)熱可塑性樹脂からな
る難燃性熱硬化樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、難燃性熱硬化樹脂
組成物、プリプレグ、積層板、絶縁フィルム、樹脂付き
金属箔及び多層配線板とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年のプリント基板においては、信号伝
播遅延時間の短縮及び誘電体損失の低減を目的として、
使用される樹脂の低誘電率化が要求されてきている。こ
のような要求から、プリント配線板用材料として誘電特
性に優れるシアネート樹脂が用いられるようになってき
ており、各社からシアネート樹脂をプリント配線板用材
料として利用する方法が提案されている。
【0003】樹脂をプリント配線板用材料として用いる
には、難燃性を付与する必要があり、通常は高い難燃性
を有する臭素化合物が用いられている。例えば、特公平
4−24370では臭素化ビスフェノールAおよび臭素
化ビスフェノールAのヒドロキシエーテル、特開平2−
286723では臭素化フェノールノボラックのグリシ
ジルエーテル、特開平5−339342では臭素化ビス
フェノールAグリシジルエーテル、特開平7−2070
22では臭素化マレイミド類、特開2000−9593
8ではシアネートエステル化合物と反応性を有さない添
加型の臭素化合物が用いられている。このような臭素化
合物は高い難燃性を有するが、近年、環境対応としてこ
のような臭素系難燃剤を用いずに難燃化した材料が求め
られている。
【0004】難燃性エポキシ樹脂に使用される、臭素化
合物に代わる難燃剤としては、まず、水酸化アルミニウ
ムや水酸化マグネシウムのような金属水酸化物が挙げら
れる。しかし、金属酸化物の配合は、先述したように誘
電特性、耐熱性、耐衝撃性および成形性の低下という問
題を潜在的に抱えている。また、トリフェニルフォスフ
ェートやレゾルシノールビス(ジフェニルフォスフェー
ト)のようなリン化合物も臭素化合物に代わる難燃剤と
して、エポキシ樹脂にしばしば配合される。しかしなが
ら、これらのリン化合物は大量に配合すると、耐熱性、
耐湿性、吸水性などを低下させる場合が多い。また、一
般的に多層配線板材料として用いられるエポキシ樹脂に
対しては難燃効果の低い場合が多く、リン化合物のみで
難燃化することは困難であるため、多層プリント配線板
用途のエポキシ樹脂組成物の難燃化においては、金属水
酸化物とリン化合物とを併用する手法が多く用いられて
いた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、誘電
特性に優れるシアネート樹脂を臭素系難燃剤を用いずに
難燃化しつつ、さらに耐熱性、耐湿性及び成形性の低
下、配線板製造工程における薬液の汚染などといった懸
念がない難燃性シアネート樹脂を含む難燃性熱硬化樹脂
組成物ならびに該組成物を用いた絶縁フィルム、樹脂付
き金属箔及び多層プリント配線板を提供することであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は以下に記載の各
事項に関する。 (1)(A)二価のシアネートエステル化合物、(B)
リン化合物および(C)熱可塑性樹脂からなる難燃性熱
硬化樹脂組成物。 (2)(A)二価のシアネートエステル化合物が一般式
[1]:
【化7】 (式中、Rは、
【化8】 を表し;RおよびRは、たがいに同一でも異なって
いてもよく、水素原子またはメチル基を表す)で示され
るシアネートエステル化合物である(1)に記載の難燃
性熱硬化樹脂組成物。
【0007】(3)(B)リン化合物としてフェノール
性水酸基を有するリン化合物を含む(1)又は(2)の
いずれかに記載の難燃性熱硬化樹脂組成物。 (4)フェノール性水酸基を有するリン化合物が式
[2]あるいは式[3]:
【化9】
【化10】 (式中Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラールキル基を表す。)で示される
リン化合物である(3)記載の難燃性熱硬化樹脂組成
物。 (5)(B)リン化合物としてリン含有エポキシ樹脂を
含む(2)〜(4)記載の難燃性熱硬化樹脂組成物。 (6)リン含有エポキシ樹脂がフェノール性水酸基を有
するリン化合物とエポキシ樹脂とを反応させて得られる
リン含有エポキシ樹脂である(5)に記載の難燃性熱硬
化樹脂組成物。
【0008】(7)フェノール性水酸基を有するリン化
合物が式[2]又は式[3]:
【化11】
【化12】 (式中Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラールキル基を表す。)で示される
リン化合物である(6)記載の難燃性熱硬化樹脂組成
物。 (8)リン含有エポキシ樹脂を作製するためにリン化合
物と反応させるエポキシ樹脂が、多官能エポキシ樹脂で
ある(6)又は(7)に記載の難燃性熱硬化樹脂組成
物。
【0009】(9)(C)熱可塑性樹脂がポリフェニレ
ンエーテルである請求項1〜8に記載の難燃性熱硬化樹
脂組成物。 (10)難燃性熱硬化樹脂組成物がさらに、リン含有エ
ポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂、フェノール樹脂、アル
キド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウ
レタン樹脂、シリコーン樹脂、ビスマレイミド樹脂、ビ
ニル樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂からなる群より選ば
れる熱硬化性樹脂を含む難燃性熱硬化樹脂組成物である
(1)〜(9)のいずれかに記載の難燃性熱硬化樹脂組
成物。 (11)熱硬化性樹脂がビフェニル骨格を有するエポキ
シ樹脂である(10)に記載の難燃性熱硬化樹脂組成
物。
【0010】(12)(1)〜(11)のいずれかに項
記載の難燃性熱硬化樹脂組成物を、基材に含浸又は塗工
してなるプリプレグ。 (13)(12)に記載のプリプレグを用いて積層形成
してなる積層板。 (14)(1)〜(11)のいずれかに記載の難燃性熱
硬化樹脂組成物を、支持フィルムに塗布して得られる絶
縁フィルム。 (15)(1)〜(11)のいずれかに記載の難燃性熱
硬化樹脂組成物を金属箔に塗布して得られる樹脂付き金
属箔。 (16)内層回路板の回路面上に(14)に記載の絶縁
フィルムを積層・一体化して絶縁樹脂層とし、該絶縁樹
脂層上に回路を形成することを特徴とする多層配線板の
製造方法。 (17)内層回路板の回路面上に(15)に記載の樹脂
付き金属箔を積層・一体化して、該樹脂付き金属箔由来
する金属層に回路加工を施すことを特徴とする多層配線
板の製造方法。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明者らは、シアネート樹脂の
難燃化に対して、リン化合物の配合が特に有効であり、
これにより優れた誘電特性を有する熱硬化性樹脂組成物
が得られることを見出した。難燃化のために必要なリン
化合物の配合量は、エポキシ樹脂の難燃化の場合に比べ
て少量でよいため、エポキシ樹脂の場合に見られるよう
な物性の低下は、最小限に抑制することが可能である。
また、金属水酸化物を併用しなくとも難燃化が可能であ
り、これにより、誘電特性、耐熱性、耐衝撃性、成形性
が良好な熱硬化性樹脂組成物を提供することができる。
このように、シアネート樹脂の難燃化において、リン化
合物が特に高い効果をもたらす原因として、シアネート
樹脂が窒素原子を含んでいることが挙げられる。
【0012】本発明で使用される(A)二価のシアネー
トエステル化合物は、1分子中にシアナト基を2個有す
るものであり、例えば前記一般式[1]に示した化合物
を使用することができる。一般式[1]で示される化合
物としては、例えば、2,2−ビス(4−シアナトフェ
ニル)プロパン、ビス(4−シアナトフェニル)エタ
ン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフ
ェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニ
ル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン、α,α’−ビス(4−シアナトフェニル)−m−ジ
イソプロピルベンゼン等が挙げられる。その中でも、
2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパンは硬化
物の誘電特性と硬化性のバランスが特に良好であり、コ
スト的にも安価であるため好ましい。またシアネートエ
ステル化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類
以上を混合して用いてもよい。また、ここで用いられる
シアネートエステル化合物は予め一部が三量体や五量体
にオリゴマー化されていても構わない。上記シアネート
エステル化合物の好ましい配合割合は、樹脂組成物中の
全固形分に対し15〜80重量%の範囲であり、より好
ましい配合割合は20〜60重量%の範囲であり、特に
好ましい配合割合は25〜40重量%である。シアネー
トエステル化合物の配合割合が15重量%を下回ると、
耐熱性及び耐溶剤性の低下が見られ、シアネートエステ
ル化合物の配合割合が80重量%を上回ると、硬化物に
おける耐衝撃性の低下が見られる。
【0013】(B)リン化合物としては、リン酸エステ
ル化合物のようなリン元素を含む添加剤を用いてもよ
く、また、分子内に反応性官能基を有する反応性リン化
合物を使用してもよい。ここで、反応性官能基とは積層
板を作る工程における温度、すなわち60〜300℃、
好ましくは100〜180℃の範囲で前記シアネート化
合物のシアナト基との反応が進行する官能基を指し、具
体的には、シアナト基、フェノール性水酸基、アルコー
ル性水酸基、アミノ基、エポキシ基、マレイミド基、カ
ルボキシル基などシアネートエステル化合物と反応する
官能基である。反応性官能基は化合物中に少なくとも1
個以上含まれていることが好ましい。シアネートエステ
ル化合物と反応する官能基の中でもフェノール性水酸基
やエポキシ基は、シアネートエステル化合物との反応性
が高いため特に好ましい。フェノール性水酸基を有する
リン化合物の例としては、式[2]や式[3]で示され
るリン化合物が好ましく用いられ、例えばHCA−HQ
(三光化学株式会社製商品名)が市販されているのでこ
れをそのまま用いることもできる。
【0014】フェノール性水酸基を有するリン化合物を
用いた場合、シアナト基とフェノール性水酸基の割合
(シアナト基/フェノール性水酸基)を5/100から
100/100とすることにより、難燃性と耐熱性のバ
ランスに優れた樹脂を得ることができる。上記フェノー
ル性水酸基を有するリン化合物の好ましい配合割合は、
シアナト基とフェノール性水酸基の割合(シアナト基/
フェノール性水酸基)が5/100〜100/100の
範囲であり、より好ましい配合割合は20/100〜6
0/100の範囲であり、特に好ましい配合割合は30
/100〜40/100である。フェノール性水酸基と
シアナト基の配合割合が5/100を下回ると難燃性が
得られない。また、100/100を上回ると、耐熱
性、耐湿性の低下が見られる。
【0015】前記のように、エポキシ基を有するリン化
合物もシアネートエステル化合物との反応性が高いため
有用である。エポキシ基を有するリン化合物としては、
式[2]や式[3]に示したフェノール性水酸基を有す
るリン化合物とエポキシ樹脂を反応させて得られる樹脂
のような、リン原子を樹脂骨格中に含むリン含有エポキ
シ樹脂などを用いることができる。リン化合物と反応さ
せるためのエポキシ樹脂としては、多官能エポキシ樹脂
を用いることが好ましい。リン含有エポキシ樹脂のうち
市販されているものとしては、ZX−1548(東都化
成株式会社製商品名)等があり、容易に入手できるため
これを使用しても良い。
【0016】本発明の難燃性熱硬化樹脂組成物は、さら
に(C)熱可塑性樹脂を必須成分とする。熱可塑性樹脂
としては、フッ素樹脂、ポリフェニレンエーテル、変性
ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、
ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエーテル
エーテルケトン、ポリアリレートなどが例示される。そ
のうち、ポリフェニレンエーテルおよび変性ポリフェニ
レンエーテルを配合すると、硬化物の誘電特性および硬
化物の耐衝撃性が向上するのでさらに好ましい。ポリフ
ェニレンエーテルおよび変性ポリフェニレンエーテルと
しては、例えば、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フ
ェニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジメチル−1,4
−フェニレン)エーテルとポリスチレンのアロイ化ポリ
マ、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エ
ーテルとスチレン−ブタジエンコポリマのアロイ化ポリ
マ、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エ
ーテルとスチレン−無水マレイン酸コポリマのアロイ化
ポリマ、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレ
ン)エーテルとポリアミドのアロイ化ポリマ、ポリ
(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテルと
スチレン−ブタジエン−アクリロニトリルコポリマのア
ロイ化ポリマなどが挙げられる。ポリフェニレンエーテ
ルを用いる場合の配合量は、誘電特性と耐熱性のバラン
スの良い樹脂が得られることから、シアネート化合物と
ポリフェニレンエーテルの重量比(ポリフェニレンエー
テル/シアネート化合物)を5/100から200/1
00とすることが好ましい。上記ポリフェニレンエーテ
ルおよび変性ポリフェニレンエーテルの好ましい配合割
合は、シアネートエステル化合物に対するポリフェニレ
ンエーテルおよび変性ポリフェニレンエーテルの重量比
(ポリフェニレンエーテル/シアネート化合物)が5/
100〜200/100の範囲であり、より好ましい配
合割合は10/100〜100/100の範囲であり、
特に好ましい配合割合は30/100〜70/100で
ある。シアネートエステル化合物に対するポリフェニレ
ンエーテルおよび変性ポリフェニレンエーテルの重量比
が5/100を下回ると、耐衝撃性および誘電特性が低
下する。また、200/100を上回ると、耐熱性の低
下が見られる。
【0017】本発明の熱硬化性組成物には、さらにエポ
キシ樹脂を配合しても良い。エポキシ樹脂としてはビス
フェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポ
キシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナ
フタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格を
有するエポキシ樹脂、フェノール類とフェノール性水酸
基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化
物、トリグリシジルイソシアヌレート、脂環式エポキシ
樹脂、樹脂骨格中にリン原子を有するリン含有エポキシ
樹脂など公知のものを単独で、または2種以上を組み合
わせて使用することができる。エポキシ樹脂を配合する
と誘電特性、難燃性、Tgなどが低下する場合もある
が、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂を用いた場合
には、このような物性の低下が特に小さく抑えられ、好
ましい。ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂として
は、例えばYX4000H(ジャパンエポキシレジン株
式会社製商品名)等が市販されており、これをそのまま
用いることができる。また、樹脂骨格中にリン原子を含
むリン含有エポキシ樹脂を用いて、さらに難燃性を向上
させることもできる。このようなリン含有エポキシ樹脂
として、式[2]や式[3]に示したようなフェノール
性水酸基を有するリン化合物と多官能性エポキシ樹脂を
予め反応させた、リン原子を樹脂骨格中に含むリン含有
エポキシ樹脂等が挙げられる。リン含有エポキシ樹脂と
しては、ZX−1548(東都化成株式会社製商品名)
等は市販されており、容易に入手できるためこれを使用
しても良い。上記エポキシ化合物の好ましい配合割合
は、エポキシ基のシアナト基に対する比(エポキシ基/
シアナト基)が10/100〜200/100の範囲で
あり、より好ましい配合割合は30/100〜100/
100の範囲であり、特に好ましい配合割合は60/1
00〜80/100である。エポキシ基とシアナト基の
配合割合が10/100を下回ると耐湿性が得られな
い。また、200/100を上回ると、誘電特性、T
g、難燃性の低下が見られる。
【0018】硬化反応を促進させるために、硬化触媒や
硬化促進剤を入れても良い。硬化触媒としては、マンガ
ン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛等の金属類が用
いられ、具体的には、2−エチルヘキサン酸塩、ナフテ
ン酸塩、オクチル酸塩等の有機金属塩及びアセチルアセ
トン錯体などの有機金属錯体として用いられる。これら
は、単独で使用しても良いし、二種類以上を混合して使
用しても良い。硬化促進剤としてはフェノール類を使用
することが好ましく、ノニルフェノール、パラクミルフ
ェノールなどの単官能フェノールや、ビスフェノール
A、ビスフェノールF、ビスフェノールSなどの二官能
フェノールあるいはフェノールノボラック、クレゾール
ノボラックなどの多官能フェノールなどを用いることが
できる。これらは、単独で使用しても良いし、二種類以
上を混合して使用しても良い。
【0019】また、諸特性に悪影響をあたえない程度の
量で、本発明の難燃性熱硬化樹脂組成物に無機フィラー
を混合しても良い。無機フィラーとしては、アルミナ、
水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、クレー、タ
ルク、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸化亜
鉛、溶融シリカ、ガラス粉、石英粉、シラスバルーンな
どが挙げられる。これら無機フィラーは単独で使用して
も良いし、2種類以上を混合して使用しても良いがこの
限りではない。
【0020】本発明の難燃性熱硬化樹脂組成物を樹脂ワ
ニスとして用いるために、有機溶媒を含有しても良い。
有機溶媒としては、通常、主としてベンゼン、トルエ
ン、キシレン、トリメチルベンゼンのような芳香族炭化
水素系溶媒が用いられる。ワニスの粘度を調整する場合
や、あらかじめ溶解させる熱可塑性樹脂の溶解性を向上
させる場合には、必要に応じて、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン系溶
媒;テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒;イソ
プロパノール、ブタノールのようなアルコール系溶媒;
2−メトキシエタノール、2−ブトキシエタノールのよ
うなエーテルアルコール系溶媒;N−メチルピロリド
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミドのようなアミド系溶媒などを、適宜、併用
しても良い。
【0021】シアネートエステル化合物と反応性リン化
合物を反応させる場合には、この反応はワニス段階の溶
液中で行なっても良い。また、混合物をフィルム上に形
成する際や金属箔に塗布する際などに行なっても良
く、、混合物を基板に積層した後の熱硬化の際に行なっ
ても良い。反応は通常60〜300℃の範囲で進行す
る。反応系の粘度を調整する場合や、あらかじめ溶解さ
せる熱可塑性樹脂の溶解性を向上させる場合には、ケト
ン系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、エーテ
ルアルコール系溶媒またはアミド系溶媒のような反応に
不活性な溶媒を併用しても良い。反応時間は、反応系の
濃度、触媒量などによって適宜調整することができる。
なお、溶液中で反応させる場合は、溶液の粘度が大きく
なって取扱いが困難になることを防ぐために、転化率
(シアネート化合物における反応の進行度)を制御する
ことが好ましい。転化率の制御にはモノマー濃度の変化
から求められるモノマー転化率(T)あるいは、官能
基濃度の変化から求められる官能基の転化率(T)を
指標として用いることができる。モノマー転化率
(T)はGC、GPCなどから求められ、本発明にお
いては0≦T≦60%とすることが好ましい。なお、
GPCで測定する場合のモノマー転化率(T)は、次
式であらわされる。
【数1】T=100×(S−S)/S:反応前のモノマー由来のピーク面積 S:測定時(時間t)におけるモノマー由来のピーク
面積
【0022】また、官能基の転化率(T)はIR、N
MR、DSCなどから求められ、本発明においては0≦
≦40%とすることが好ましい。なお、IRで測定
する場合のモノマー転化率(T)は、次式であらわさ
れる。
【数2】T=100×(A−A)/A:反応前のシアナト基由来の吸光度 A:測定時(時間t)におけるシアナト基由来の吸光
【0023】本発明の樹脂組成物並びに該組成物を用い
たプリプレグ、積層板、樹脂フィルム、樹脂付き銅箔
は、プリント配線板用材料として特に有用である。本発
明の熱硬化性樹脂組成物を用いたプリプレグは従来、一
般的に行われている製造法をそのまま適用することがで
きる。すなわち、本発明のプリプレグは本発明の熱硬化
性樹脂組成物を基材に含浸又は塗工してなるものであ
り、基材としては各種の電気絶縁材料用積層板に用いら
れている周知のものが使用できる。基材の材質の例とし
ては、Eガラス,Dガラス,Sガラス又はQガラス等の
無機物繊維、ポリイミド、ポリエステル又はテトラフル
オロエチレン等の有機繊維、及びそれらの混合物等が挙
げられる。これらの基材は、例えば織布、不織布、ロー
ビンク、チョップドストランドマット、サーフェシング
マット等の形状を有するが、材質及び形状は、目的とす
る成形物の用途や性能により選択され必要により単独も
しくは2種類以上の材質及び形状からの使用が可能であ
る。基材の厚みには特に制限はないが、通常0.03〜
0.5mm程度のものを使用し、シランカップリング剤
等で表面処理したものや機械的に開繊処理を施したもの
は耐熱性や耐湿性、加工性の面から好適である。通常、
該基材に対する樹脂組成物の付着量が、乾燥後のプリプ
レグの樹脂含有率で20〜90重量%となるように基材
に含浸又は塗工した後、通常100〜200℃の温度で
1〜30分加熱乾燥し、半硬化状態(Bステージ状態)
のプリプレグを得る。
【0024】前述の本発明のプリプレグを用いて積層成
形することにより積層板を作製することができる。積層
成形は一般的な方法をそのまま適用することができ、例
えば本発明のプリプレグを通常1〜20枚重ね、その片
面もしくは両面に銅やアルミニウム等の金属箔を配置し
た構成で加熱加圧により成形することにより金属張積層
板とすることができる。金属箔は配線板材料用途で用い
られているものであれば特に制限はない。成形条件とし
ては通常の電気絶縁材料用積層板及び多層板の手法が適
用でき、例えば多段プレス、多段真空プレス、連続成
形、オートクレーブ成形機等を使用し、通常、温度10
0〜250℃、圧力2〜100kg/cm2、加熱時間
0.1〜5時間の範囲で成形する。
【0025】本発明の熱硬化性樹脂組成物を用いた樹脂
フィルムは従来、一般的に行われている製造法をそのま
ま適用して製造することができる。例えば、本発明の熱
硬化性樹脂組成物を支持フィルムに塗工して樹脂フィル
ムとすることができる。支持フィルムとしては各種の樹
脂フィルムに用いられている周知のものが使用でき、例
えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニルなどのポリオレフ
ィン系フィルム、ポリエチレンテレフタレートなどのポ
リエステル系フィルムなどが例示される。樹脂フィルム
は支持フィルムに樹脂ワニスを塗布し、その後、加熱な
らびに乾燥させることにより得られるが、加熱、乾燥条
件は、100〜200℃の温度で1〜30分とするのが
適当である。これらの支持フィルムには、マット処理、
コロナ処理、離型処理などの表面処理が施されてあって
もよい。通常、支持フィルムの厚みは10〜150μm
が一般的である。また、樹脂組成物の厚みは10〜15
0μmが一般的である。加熱、乾燥後の樹脂組成物中に
おける残留溶剤量は、0.2〜10%程度が適当であ
る。上記のようにして得られた樹脂フィルムは加圧、加
熱条件下で基板上にラミネートまたはプレスにより積層
し、支持フィルムを剥離した後、加熱硬化させる。その
後、後述する多層プリント配線板製造工程を経て、多層
プリント配線板とする。
【0026】本発明の多層プリント配線板用樹脂付き金
属箔は、従来、一般的に行われている製造法をそのまま
適用することができる。すなわち、本発明の樹脂付き金
属箔は本発明の熱硬化性樹脂組成物を金属箔に塗工して
なるものである。金属箔としては各種の樹脂付き金属箔
に用いられている周知のものが使用でき、例えば、銅
箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、支持金属箔をエッチ
ングや引き剥がしにより除去できる極薄金属箔などが例
示される。樹脂付き金属箔は金属箔に樹脂ワニスを塗布
し、その後、加熱ならびに乾燥させることにより得られ
るが、加熱、乾燥条件は、100〜200℃の温度で1
〜30分とするのが適当である。通常、金属箔の厚みは
10〜50μmが一般的であるが、極薄金属箔を用いる
と、金属箔の厚みが1〜10μmの樹脂付き金属箔が得
られる。また、樹脂組成物の厚みは10〜150μmが
一般的である。加熱、乾燥後の樹脂組成物中における残
留溶剤量は、0.2〜10%程度が適当である。上記の
ようにして得られた樹脂付きは加圧、加熱条件下で基板
上にラミネートまたはプレスにより積層し、加熱硬化さ
せる。その後、後述する多層プリント配線板製造工程を
経て、多層プリント配線板とする。
【0027】次に本発明の熱硬化性樹脂組成物並びに該
組成物から得られる樹脂フィルムを用いた多層プリント
配線板の製造法について説明する。まず、本発明の熱硬
化性樹脂組成物をパターン加工された内層回路基板上に
積層する。その方法は本樹脂組成物の有機溶媒ワニスを
内層回路基板に塗布し、乾燥後、加熱硬化させるか、ま
たは本発明の樹脂組成物からなる樹脂フィルムを用い
て、加圧、加熱条件下で基板上にラミネートまたはプレ
スし、支持フィルムを剥離した後、加熱硬化させる。な
お、内層回路基板としてはガラスエポキシ基板、金属基
板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、BTレジン基
板、熱硬化型PPE基板などを使用することができ、回
路表面は予め粗化処理されてあっても良い。加熱硬化の
条件は120℃以上、好ましくは170〜220℃の温
度で、通常15〜300分、好ましくは60〜150分
かければ十分である。上記のように基板上に本発明の樹
脂組成物を積層し硬化させた後、ドリルおよび/または
レーザー穴あけを行ない、スルーホールやバイアホール
を形成させる。レーザー穴明け機には、炭酸ガスレーザ
ー、YAGレーザー、エキシマレーザーなどを用いるこ
とができる。その後、サンドブラスト処理、プラズマ処
理、過マンガン酸塩や重クロム酸塩などの酸化剤を用い
た薬品処理などを行なって、表面を粗化する。この工程
では、ドリル及びレーザー穴あけを行なった際に発生し
た樹脂残さも同時に除去される。さらに無電解銅めっ
き、金属蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
などの手法を用いて内層と外層の電気的導通を得た後
は、通常のビルドアップ配線板における回路形成方法を
用いて、積層した本発明の熱硬化性樹脂組成物の表面に
回路形成を行う。
【0028】本発明の樹脂付き金属箔を使用する場合
は、以下の工程を経て、多層プリント配線板を製造す
る。まず、樹脂付き金属箔を加圧、加熱条件下で基板上
にラミネートあるいはプレスし加熱硬化させる。その
後、使用する金属箔が薄い場合は、金属箔と樹脂を同時
に穴あけできる。この場合、金属箔表面は、粗化処理さ
れてあってもよい。使用する金属箔が厚い場合は、コン
フォーマルマスク法あるいはラージウインド法を用いて
窓穴を形成した後、レーザー穴あけを行う。穴あけ後
は、先に記述したような樹脂残さの除去を行ない、内層
と外層の電気的導通を得た後、通常のビルドアップ配線
板における回路形成方法を用いて、積層した本発明の熱
硬化性樹脂組成物の表面に回路形成を行う。
【0029】
【実施例】以下に実施例及び比較例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものでは
ない。
【0030】(実施例1)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン100gと2,2−ビス(4−シアナトフェニル)
プロパン(ArocyB−10、旭チバ株式会社製商品
名)100g、一般式[2]の9,10−ジヒドロ−9
−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキ
サイド(HCA−HQ、三光化学株式会社製)18.8
gを投入後、ナフテン酸マンガン(Mn含有量=6重量
%、日本化学産業株式会社製)の17%トルエン希釈溶
液0.1gを添加し105℃で4時間重合させ、本発明
の樹脂骨格中にリン原子を有するシアネート樹脂を得
た。重合前はHCA−HQが溶媒に溶解せず溶液は白濁
していたが、重合後の溶液は透明になっていた。このこ
とから、HCA−HQとシアネートエステル化合物が反
応し、樹脂骨格中にリン原子が導入されていると推定で
きる。得られた樹脂組成物を銅箔(GTS−12、古河
サーキットフォイル株式会社製)に塗布し、155℃で
10分間乾燥させた後、樹脂面を貼り合わせ200℃で
90分プレスして樹脂硬化物を作製した。銅箔をエッチ
ング後、(どんなサンプルになったか)樹脂硬化物の1
GHzにおける比誘電率及び誘電正接をヒューレットパ
ッカード株式会社製インピーダンス−マテリアルアナラ
イザHP4291Bで測定したところ、比誘電率は2.
93、誘電正接は0.0057であった。
【0031】(実施例2)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン183gとポリフェニレンエーテル樹脂(PKN4
752、日本ジーイープラスチックス株式会社製商品
名)50gを投入し、80℃に加熱し攪拌溶解した。次
に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(A
rocyB−10、旭チバ株式会社製商品名)100
g、一般式[2]の9,10−ジヒドロ−9−オキサ−
10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド(H
CA−HQ、三光化学株式会社製)18.8gを投入
後、ナフテン酸マンガン(Mn含有量=6重量%、日本
化学産業株式会社製)の17%トルエン希釈溶液0.1
gを添加し105℃で4時間重合させた。重合前はHC
A−HQが溶媒に溶解せず、溶液は白濁していたが、重
合後の溶液は透明になっていた。このことから、HCA
−HQとシアネートエステル化合物が反応し、樹脂骨格
中にリン原子が導入されていると推定できる。実施例1
と同様にして測定した樹脂硬化物の1GHzにおける比
誘電率は2.49、誘電正接は0.0035であった。
【0032】(実施例3)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン183gとポリフェニレンエーテル樹脂(PKN4
752、日本ジーイープラスチックス株式会社製商品
名)50gを投入し、80℃に加熱し攪拌溶解した。次
に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(A
rocyB−10、旭チバ株式会社製商品名)100
g、一般式[2]の9,10−ジヒドロ−9−オキサ−
10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド(H
CA−HQ、三光化学株式会社製)18.8gを投入
後、ナフテン酸マンガン(Mn含有量=6重量%、日本
化学産業株式会社製)の17%トルエン希釈溶液0.1
gを添加し105℃で4時間重合させた。重合前はHC
A−HQが溶媒に溶解せず、溶液は白濁していたが、重
合後の溶液は透明になっていた。このことから、HCA
−HQとシアネートエステル化合物が反応し、樹脂骨格
中にリン原子が導入されていると推定できる。溶液を室
温まで冷却し、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂
(YX4000H、エポキシシェルレジン株式会社製)
93.4gを加え、本発明の樹脂骨格中にリン原子を含
む難燃性熱硬化樹脂組成物を得た。実施例1と同様にし
て測定した樹脂硬化物の1GHzにおける比誘電率は
2.65、誘電正接は0.0068であった。
【0033】(実施例4)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン183gとポリフェニレンエーテル樹脂(PKN4
752、日本ジーイープラスチックス株式会社製商品
名)50gを投入し、80℃に加熱し攪拌溶解した。次
に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(A
rocyB−10、旭チバ株式会社製商品名)100
g、一般式[2]の9,10−ジヒドロ−9−オキサ−
10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド(H
CA−HQ、三光化学株式会社製)18.8gを投入
後、ナフテン酸マンガン(Mn含有量=6重量%、日本
化学産業株式会社製)の17%トルエン希釈溶液0.1
gを添加し105℃で4時間重合させた。重合前はHC
A−HQが溶媒に溶解せず、溶液は白濁していたが、重
合後の溶液は透明になっていた。このことから、HCA
−HQとシアネートエステル化合物が反応し、樹脂骨格
中にリン原子が導入されていると推定できる。溶液を室
温まで冷却し、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂
(YX4000H、エポキシシェルレジン株式会社製)
69.7g、リン含有エポキシ樹脂(ZX−1548‐
4、東都化成株式会社製)48.6gを加え、本発明の
樹脂骨格中にリン原子を含む難燃性熱硬化樹脂組成物を
得た。実施例1と同様にして測定した樹脂硬化物の1G
Hzにおける比誘電率は2.61、誘電正接は0.00
63であった。
【0034】(比較例1)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン100gと2,2−ビス(4−グリシジルフェニ
ル)プロパン(DER331L、ダウケミカル日本株式
会社製)100g、一般式[2]の9,10−ジヒドロ
−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−
オキサイド(HCA−HQ、三光化学株式会社製)1
8.8gを投入後、ナフテン酸マンガン(Mn含有量=
6重量%、日本化学産業株式会社製)の17%トルエン
希釈溶液0.1gを添加し105℃で4時間重合させ、
本発明の樹脂骨格中にリン原子を有するシアネート樹脂
を得た。重合前はHCA−HQが溶媒に溶解せず、溶液
は白濁していたが、重合後の溶液は透明になっていた。
このことから、HCA−HQとエポキシ樹脂が反応し、
樹脂骨格中にリン原子が導入されていると推定できる。
実施例1と同様にして測定した樹脂硬化物の1GHzに
おける比誘電率は3.74、誘電正接は0.0190で
あった。
【0035】(実施例5)実施例1で得られた樹脂組成
物を厚さ0.1mmのEガラスクロスに含浸塗工し、1
55℃で10分間加熱乾燥して樹脂含有量55%のプリ
プレグを得た。次にこのプリプレグを4枚重ね、銅箔
(GTS−12、古河サーキットフォイル株式会社製)
を上下に配置し、200℃で90分間、圧力2.0MP
aでプレスを行い、積層板を得た。銅箔をエッチング
後、ガラスクロスを含む樹脂硬化物の1GHzにおける
比誘電率及び誘電正接をヒューレットパッカード株式会
社製インピーダンス−マテリアルアナライザHP429
1Bで測定したところ、比誘電率は3.62、誘電正接
は0.0064だった。耐燃性試験には、表面の銅箔を
エッチングしたものを用い、試験条件はUL―94に準
拠した。その結果、最大燃焼時間7.2秒、平均燃焼時
間3.4秒となり、V−0を達成した。また、積層板を
5cm角に切断し、288℃でのはんだ耐熱性をフロー
ト法により評価(n=8)したところ、平均して205
秒でふくれが発生した。
【0036】(実施例6)実施例2で得られた樹脂組成
物を実施例5と同様の方法でプリプレグとし、次いで積
層板とした。実施例5と同様にしてガラスクロスを含む
樹脂硬化物の1GHzにおける誘電特性を評価したとこ
ろ、比誘電率は3.28、誘電正接は0.0044を示
した。実施例5と同様に耐燃性試験を行ったところ、最
大燃焼時間8.6秒、平均燃焼時間4.6秒となり、V
−0を達成した。また、実施例5と同様にはんだ耐熱性
を評価したところ、平均して195秒でふくれが発生し
た。
【0037】(実施例7)実施例3で得られた樹脂組成
物を実施例5と同様の方法でプリプレグとし、次いで積
層板とした。実施例5と同様にしてガラスクロスを含む
樹脂硬化物の1GHzにおける誘電特性を評価したとこ
ろ、比誘電率は3.44、誘電正接は0.0074を示
した。実施例5と同様に耐燃性試験を行ったところ、最
大燃焼時間12.5秒、平均燃焼時間6.5秒となり、
V−1を達成した。また、実施例5と同様にはんだ耐熱
性を評価したところ、300秒以上もふくれは確認され
なかった。
【0038】(実施例8)実施例4で得られた樹脂組成
物を実施例5と同様の方法でプリプレグとし、次いで積
層板とした。実施例5と同様にしてガラスクロスを含む
樹脂硬化物の1GHzにおける誘電特性を評価したとこ
ろ、比誘電率は3.42、誘電正接は0.0076を示
した。実施例5と同様に耐燃性試験を行ったところ、最
大燃焼時間6.3秒、平均燃焼時間2.4秒となり、V
−0を達成した。また、実施例5と同様にはんだ耐熱性
を評価したところ、300秒以上もふくれは確認されな
かった。
【0039】(比較例2)比較例1で得られた樹脂組成
物を実施例5と同様の方法でプリプレグとし、次いで積
層板とした。実施例5と同様にしてガラスクロスを含む
樹脂硬化物の1GHzにおける誘電特性を評価したとこ
ろ、比誘電率は4.12、誘電正接は0.0182を示
した。実施例5と同様に耐燃性試験を行ったところ、最
大燃焼時間14.3秒、平均燃焼時間8.2秒となり、
V−1を達成した。また、実施例5と同様にはんだ耐熱
性を評価したところ、300秒以上もふくれは確認され
なかった。
【0040】(実施例9)実施例1で得られた樹脂組成
物を銅箔(GTS−12、古河サーキットフォイル株式
会社製)に塗布し、155℃で10分間乾燥させ樹脂付
き銅箔とした。樹脂の厚さはおよそ80μmとした。耐
燃性試験には、ハロゲンフリー積層板(MCL−RO−
67G、日立化成工業株式会社製)の表面の銅箔をエッ
チングしたものに樹脂付き銅箔を積層し、次いで表面の
銅をエッチングしたものを用いた。試験条件はUL―9
4に準拠した。その結果、最大燃焼時間は8.1秒、平
均燃焼時間は3.2秒となり、V―0を達成した。はん
だ耐熱性試験には、ハロゲンフリー積層板(MCL−R
O−67G、日立化成工業株式会社製)の表面の銅箔を
酸化還元処理したものに樹脂付き銅箔を積層したものを
用いた。このサンプルを5cm角に切断し、288℃で
のはんだ耐熱性をフロート法により評価(n=8)した
ところ、平均して215秒でふくれが発生した。さらに
このサンプルの銅箔をエッチング後、平山製作所(株)
製PCT(Presure Cooker Test)
装置を用いて耐PCT性(試験条件121℃、2気圧、
相対湿度100%)を調べたところ、約2時間の処理に
より基板表面にふくれが発生していることを目視で確認
した。
【0041】(実施例10)実施例2で得られた樹脂組
成物を実施例9と同様の方法で樹脂付き銅箔とした。実
施例9と同様にして耐燃性試験を行ったところ、最大燃
焼時間7.6秒、平均燃焼時間3.6秒となり、V−0
を達成した。また、実施例9と同様にはんだ耐熱性を評
価したところ、平均して220秒でふくれが発生した。
さらに、実施例9と同様に耐PCT性を評価したとこ
ろ、約2時間の処理により基板表面にふくれが発生して
いることを目視で確認した。
【0042】(実施例11)実施例3で得られた樹脂組
成物を実施例9と同様の方法で樹脂付き銅箔とした。実
施例9と同様にして耐燃性試験を行ったところ、最大燃
焼時間14.8秒、平均燃焼時間7.2秒となり、V−
1を達成した。また、実施例9と同様にはんだ耐熱性を
評価したところ、300秒以上もふくれが発生しなかっ
た。さらに、実施例9と同様に耐PCT性を評価したと
ころ、300時間以上の処理でもふくれは発生しなかっ
た。
【0043】(実施例12)実施例4で得られた樹脂組
成物を実施例9と同様の方法で樹脂付き銅箔とした。実
施例9と同様にして耐燃性試験を行ったところ、最大燃
焼時間5.4秒、平均燃焼時間2.2秒となり、V−0
を達成した。また、実施例9と同様にはんだ耐熱性を評
価したところ、300秒以上もふくれが発生しなかっ
た。さらに、実施例9と同様に耐PCT性を評価したと
ころ、300時間以上の処理でもふくれは発生しなかっ
た。
【0044】(比較例3)比較例1で得られた樹脂組成
物を実施例9と同様の方法で樹脂付き銅箔とした。実施
例9と同様にして耐燃性試験を行ったところ、最大燃焼
時間18.3秒、平均燃焼時間7.5秒となり、V−1
を達成した。また、実施例9と同様にはんだ耐熱性を評
価したところ、300秒以上もふくれが発生しなかっ
た。さらに、実施例9と同様に耐PCT性を評価したと
ころ、300時間以上の処理でもふくれは発生しなかっ
た。
【0045】表1に実施例1〜4および比較例1で得ら
れた樹脂組成物の組成および硬化物の誘電特性を示し
た。表2に実施例1〜4および比較例1で得られた樹脂
組成物を用いて積層板を作製した場合の評価結果を示し
た。表3に実施例1〜4および比較例1で得られた樹脂
組成物を用いて樹脂付き銅箔を作製した場合の評価結果
を示した。
【0046】比較例1のようにエポキシ樹脂骨格中にリ
ン原子を導入した樹脂組成物では、比誘電率および誘電
正接が大きく、また、比較例2や比較例3に示したよう
に、配線板材料に用いた場合の難燃性も十分ではない。
これに対し、実施例1のようにシアネート樹脂骨格中に
リン原子を導入した樹脂組成物は、優れた誘電特性を示
し、実施例5や実施例9のように配線板材料として用い
た場合、良好な難燃性を示すことが分かる。このことか
ら、本発明による樹脂組成物が非常に有用であることが
示された。実施例2では、シアネート樹脂骨格中にリン
原子を導入した樹脂組成物にポリフェニレンエーテル樹
脂を加えた。この場合、比誘電率は2.49、誘電正接
は0.0035となり、より誘電特性に優れる樹脂組成
物を得ることができるのに加え、実施例6や実施例10
のように配線板材料としての難燃性も確保されているこ
とを確認した。実施例3は、エポキシ樹脂を配合した難
燃性熱硬化樹脂組成物であるが、これは、実施例5、実
施例6、実施例9、実施例10で課題となっていたはん
だ耐熱性と耐PCT性を改良する目的で発明したもので
ある。この場合、実施例7や実施例11に示したよう
に、誘電特性および難燃性に若干の低下が見られるもの
の、耐PCT性及びはんだ耐熱性が向上し、配線板用材
料として適している。実施例4のように、エポキシ樹脂
としてリン含有エポキシ樹脂とビフェニル型エポキシ樹
脂を併用した難燃性熱硬化樹脂組成物では、実施例8や
実施例12に示したように、難燃性が向上し、誘電特
性、はんだ耐熱性、耐PCT性などの諸特性も良好であ
る。
【0047】
【表1】
【0048】
【表2】
【0049】
【表3】
【0050】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物並びに該組成物を用
いたプリプレグ、積層板、絶縁フィルム、樹脂付き金属
箔を用いることにより、コンピュータの高速化や高周波
関連機器の低損失化に適した多層プリント配線板を臭素
系難燃剤を用いずに製造することが可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08K 5/49 C08K 5/49 C08L 63/00 C08L 63/00 A 71/12 71/12 H05K 3/46 H05K 3/46 T Fターム(参考) 4F072 AA04 AA07 AA08 AB09 AB29 AB30 AD13 AD27 AD32 AD38 AD42 AD43 AD45 AD47 AE01 AE07 AF17 AF30 AG03 AG17 AH02 AH25 AJ04 AK05 AL13 4F100 AB01B AB33B AK01B AK02A AK21A AK33A AK41A AK49A AK51A AK52A AK53A AK54A BA02 EH462 GB43 JB13A JG04 JJ07A 4J002 BD12W CD01Y CD04Y CD05Y CD06Y CD15X CG00W CH07W CH09W CM04W CN01W ET006 FD13X FD136 GQ00 5E346 AA12 CC09 CC13 CC32 DD12 DD32 HH02 HH06

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)二価のシアネートエステル化合
    物、(B)リン化合物および(C)熱可塑性樹脂からな
    る難燃性熱硬化樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 (A)二価のシアネートエステル化合物
    が一般式[1]: 【化1】 (式中、Rは、 【化2】 を表し;RおよびRは、たがいに同一でも異なって
    いてもよく、水素原子またはメチル基を表す)で示され
    るシアネートエステル化合物である請求項1に記載の難
    燃性熱硬化樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 (B)リン化合物としてフェノール性水
    酸基を有するリン化合物を含む請求項1又は請求項2の
    いずれかに記載の難燃性熱硬化樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 フェノール性水酸基を有するリン化合物
    が式[2]あるいは式[3]: 【化3】 【化4】 (式中Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
    基、アリール基、アラールキル基を表す。)で示される
    リン化合物である請求項3記載の難燃性熱硬化樹脂組成
    物。
  5. 【請求項5】 (B)リン化合物としてリン含有エポキ
    シ樹脂を含む請求項2〜4記載の難燃性熱硬化樹脂組成
    物。
  6. 【請求項6】 リン含有エポキシ樹脂がフェノール性水
    酸基を有するリン化合物とエポキシ樹脂とを反応させて
    得られるリン含有エポキシ樹脂である請求項5に記載の
    難燃性熱硬化樹脂組成物。
  7. 【請求項7】 フェノール性水酸基を有するリン化合
    物が式[2]又は式[3]: 【化5】 【化6】 (式中Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
    基、アリール基、アラールキル基を表す。)で示される
    リン化合物である請求項6記載の難燃性熱硬化樹脂組成
    物。
  8. 【請求項8】 リン含有エポキシ樹脂を作製するために
    リン化合物と反応させるエポキシ樹脂が、多官能エポキ
    シ樹脂である請求項6又は請求項7に記載の難燃性熱硬
    化樹脂組成物。
  9. 【請求項9】 (C)熱可塑性樹脂がポリフェニレンエ
    ーテルである請求項1〜8に記載の難燃性熱硬化樹脂組
    成物。
  10. 【請求項10】 難燃性熱硬化樹脂組成物がさらに、リ
    ン含有エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂、フェノール樹
    脂、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹
    脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ビスマレイミ
    ド樹脂、ビニル樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂からなる
    群より選ばれる熱硬化性樹脂を含む難燃性熱硬化樹脂組
    成物である請求項1〜9のいずれかに記載の難燃性熱硬
    化樹脂組成物。
  11. 【請求項11】 熱硬化性樹脂がビフェニル骨格を有す
    るエポキシ樹脂である請求項10に記載の難燃性熱硬化
    樹脂組成物。
  12. 【請求項12】 請求項1〜11のいずれかに項記載の
    難燃性熱硬化樹脂組成物を、基材に含浸又は塗工してな
    るプリプレグ。
  13. 【請求項13】 請求項12に記載のプリプレグを用い
    て積層形成してなる積層板。
  14. 【請求項14】 請求項1〜11のいずれかに記載の難
    燃性熱硬化樹脂組成物を、支持フィルムに塗布して得ら
    れる絶縁フィルム。
  15. 【請求項15】 請求項1〜11のいずれかに記載の難
    燃性熱硬化樹脂組成物を金属箔に塗布して得られる樹脂
    付き金属箔。
  16. 【請求項16】 内層回路板の回路面上に請求項14に
    記載の絶縁フィルムを積層・一体化して絶縁樹脂層と
    し、該絶縁樹脂層上に回路を形成することを特徴とする
    多層配線板の製造方法。
  17. 【請求項17】 内層回路板の回路面上に請求項15に
    記載の樹脂付き金属箔を積層・一体化して、該樹脂付き
    金属箔由来する金属層に回路加工を施すことを特徴とす
    る多層配線板の製造方法。
JP2001322379A 2001-10-19 2001-10-19 難燃性熱硬化樹脂組成物、プリプレグ、積層板、絶縁フィルム、樹脂付き金属箔及び多層配線板とその製造方法 Pending JP2003128928A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001322379A JP2003128928A (ja) 2001-10-19 2001-10-19 難燃性熱硬化樹脂組成物、プリプレグ、積層板、絶縁フィルム、樹脂付き金属箔及び多層配線板とその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001322379A JP2003128928A (ja) 2001-10-19 2001-10-19 難燃性熱硬化樹脂組成物、プリプレグ、積層板、絶縁フィルム、樹脂付き金属箔及び多層配線板とその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003128928A true JP2003128928A (ja) 2003-05-08

Family

ID=19139437

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001322379A Pending JP2003128928A (ja) 2001-10-19 2001-10-19 難燃性熱硬化樹脂組成物、プリプレグ、積層板、絶縁フィルム、樹脂付き金属箔及び多層配線板とその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003128928A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005262513A (ja) * 2004-03-17 2005-09-29 Sumitomo Bakelite Co Ltd 絶縁層付き金属箔及び多層プリント配線板
JP2005285540A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd 絶縁シート、基材付き絶縁シート、及び多層プリント配線板
WO2007049422A1 (ja) 2005-10-25 2007-05-03 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. シアン酸エステル重合体
WO2013021869A1 (ja) 2011-08-09 2013-02-14 三菱瓦斯化学株式会社 新規なシアン酸エステル化合物及びその製造方法、並びに該化合物を含む硬化性樹脂組成物及びその硬化物
US8440914B2 (en) 2010-03-26 2013-05-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystalline thermoset oligomer or polymer and thermosetting composition and substrate including the same
US8465837B2 (en) 2007-04-10 2013-06-18 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Epoxy resin composition, prepreg, laminate board, multilayer printed wiring board, semiconductor device, insulating resin sheet, and process for manufacturing multilayer printed wiring board
JP2016006204A (ja) * 2015-09-15 2016-01-14 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー 硬化性組成物の反応生成物を含む電気積層品構造
US9706651B2 (en) 2011-12-07 2017-07-11 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Resin composition, prepreg, and laminate
CN118725507A (zh) * 2023-03-29 2024-10-01 广东生益科技股份有限公司 一种无卤热固性树脂组合物及包含其的层压板和电路基板

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005262513A (ja) * 2004-03-17 2005-09-29 Sumitomo Bakelite Co Ltd 絶縁層付き金属箔及び多層プリント配線板
JP2005285540A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd 絶縁シート、基材付き絶縁シート、及び多層プリント配線板
WO2007049422A1 (ja) 2005-10-25 2007-05-03 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. シアン酸エステル重合体
US9169356B2 (en) 2005-10-25 2015-10-27 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Cyanate ester polymer
US8465837B2 (en) 2007-04-10 2013-06-18 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Epoxy resin composition, prepreg, laminate board, multilayer printed wiring board, semiconductor device, insulating resin sheet, and process for manufacturing multilayer printed wiring board
US8440914B2 (en) 2010-03-26 2013-05-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystalline thermoset oligomer or polymer and thermosetting composition and substrate including the same
WO2013021869A1 (ja) 2011-08-09 2013-02-14 三菱瓦斯化学株式会社 新規なシアン酸エステル化合物及びその製造方法、並びに該化合物を含む硬化性樹脂組成物及びその硬化物
KR20140046007A (ko) 2011-08-09 2014-04-17 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 신규한 시안산에스테르 화합물 및 그 제조 방법, 그리고 그 화합물을 함유하는 경화성 수지 조성물 및 그 경화물
US10155835B2 (en) 2011-08-09 2018-12-18 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Cyanate ester compound and method for producing the same, and curable resin composition comprising the compound, and cured product thereof composition
US9706651B2 (en) 2011-12-07 2017-07-11 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Resin composition, prepreg, and laminate
JP2016006204A (ja) * 2015-09-15 2016-01-14 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー 硬化性組成物の反応生成物を含む電気積層品構造
CN118725507A (zh) * 2023-03-29 2024-10-01 广东生益科技股份有限公司 一种无卤热固性树脂组合物及包含其的层压板和电路基板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI814832B (zh) 樹脂組成物、預浸體、覆金屬箔疊層板、樹脂片及印刷配線板
JP4455114B2 (ja) ビルドアップ基板層間絶縁材料用の熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルム、製品およびビルドアップ基板の層間絶縁材料
KR101730283B1 (ko) 열경화성 수지 조성물 및 그 용도
KR101314382B1 (ko) 프린트 배선판용 수지 조성물
JP2006131743A (ja) 熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリプレグ、金属張積層板、プリント配線板
CN115175951A (zh) 树脂组合物、固化物、预浸料、覆金属箔层叠板、树脂片和印刷电路板
JP2005248147A (ja) 熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリプレグ、金属張積層板、印刷配線板
CN113950509A (zh) 树脂组合物、预浸料、带树脂的膜、带树脂的金属箔、覆金属层压板以及布线板
JP2011006683A (ja) 熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリプレグ、金属張積層板、印刷配線板
JP5114816B2 (ja) シロキサン変性シアネート樹脂組成物、ならびにそれを用いる接着フィルム、樹脂付き金属箔および多層プリント配線板
TW202342635A (zh) 樹脂組成物、預浸體、附樹脂之薄膜、附樹脂之金屬箔、覆金屬積層板及印刷配線板
JP2003128753A (ja) 難燃性熱硬化樹脂組成物、プリプレグ、積層板、絶縁フィルム、樹脂付き金属箔及び多層配線板とその製造方法
JP2005281673A (ja) 熱硬化性樹脂組成物、樹脂フィルムおよび製品
JP2003128928A (ja) 難燃性熱硬化樹脂組成物、プリプレグ、積層板、絶縁フィルム、樹脂付き金属箔及び多層配線板とその製造方法
JP2006291098A (ja) 熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリプレグ、金属張積層板、配線板
JP2003128784A (ja) 難燃性熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、絶縁フィルム、積層板、樹脂付き金属箔及び多層配線板とその製造方法
JP2003073543A (ja) 樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いたプリント配線板
JP3261076B2 (ja) 積層板用変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物並びにこれを用いたプリプレグ及び積層板
JPH0579686B2 (ja)
JP6977241B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板及びプリント配線板
JPH08231847A (ja) ポリフェニレンオキサイド樹脂組成物並びにそれを用いた プリプレグ及び積層板
JP2004182816A (ja) 難燃性の熱硬化性樹脂組成物及びその用途並びにその製造方法
JP2003128785A (ja) 難燃性熱硬化性樹脂組成物並びに該組成物を用いたプリプレグ、積層板、樹脂フィルム、樹脂付き金属箔及び多層配線板とその製造方法
JP2010077262A (ja) エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、樹脂付き金属箔、樹脂シート、積層板、および多層板
JP2004307761A (ja) 熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリプレグ、金属張積層板、印刷配線板

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041015

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061102

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061109

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070302