JP2003118161A - 画像形成装置 - Google Patents
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- JP2003118161A JP2003118161A JP2001313159A JP2001313159A JP2003118161A JP 2003118161 A JP2003118161 A JP 2003118161A JP 2001313159 A JP2001313159 A JP 2001313159A JP 2001313159 A JP2001313159 A JP 2001313159A JP 2003118161 A JP2003118161 A JP 2003118161A
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Abstract
に優れた高精細画像出力が可能な画像形成装置を提供す
る。 【解決手段】 感光ドラムに対して副走査方向のスポッ
ト径の異なる光ビームを照射して画像形成を行う。ハイ
ライト領域では小さいスポット径の光ビームで像描画を
行い、徐々に大きいスポット径の光ビームと組み合わ
せ、高濃度領域では全てのスポット径の光ビームを用い
て像描画を行う。走査線のピッチをW,最大のスポット
径のD1,最小のスポット径D2に対してD2<W<D
1を満たすことが望ましく。また、任意のスポット径の
比が1.2以上であることが望ましい。光ビームの主走
査方向のスポット径は副走査方向のピッチよりも小さい
又はピッチの1/2以下であることが望ましい。
Description
リンター,ファクシミリ,製版システムなどに用いる電
子写真方式の画像形成装置に関するものである。
子写真方式を採用した複写機やレーザービームプリンタ
が知られている。近年、デジタルコンテンツがオフィス
や家庭で一般的なものとなったことで、このような電子
写真方式の画像形成装置の高画質化への要求はさらに高
まっている。
レーザービームなどにより光を照射し、そのとき光が照
射された量により画像が記録されるもので、文字などの
2値的な画像から、写真などの中間調を含んだ画像まで
あらゆる画像を形成することができる。文字、図形など
の2値的な記録であれば、像露光をプリンターの解像度
に合わせ、600dpiや1200dpiで2値記録す
ることによって十分精細な画像が得られる。また、中間
調濃度を再現するときには、ディザ法、濃度パターン法
などを採用することにより良好な中間調濃度を再現する
ことができる。また、記録密度を低下させずに高解像度
で、各画素において中間調を形成するパルス幅変調方式
(PWM方式)の画像形成装置も提案されている。この
PWM方式の画像形成装置は、画像信号によってレーザ
ービームの照射時間を変調することにより中間調の画素
形成を行うもので、高解像度で、かつ高階調性の画像を
形成できるため、カラー画像の形成に特に適している。
すなわち、上記PWM方式によると、1画素毎にビーム
スポットにより形成されるドットの面積階調を行うこと
ができ、解像度を低下させることなく中間調を表現でき
る。ところが、上述したPWM方式の画像形成装置にお
いて、画素密度をさらに高めていくと、ビームスポット
径に対して画素が相対的に小さくなるために露光時間変
調による階調を十分に取ることができないという問題が
あった。このため、階調性を保持したまま解像度を向上
させるには、ビームスポット径をより小さくする必要が
ある。(ここでビームスポット径とは略ガウシアン分布
を有するレーザー光学スポットのピーク光量から1/e
2の光量での直径であり、以後「主走査方向の直径x副
走査方向の直径」として表記する。) 例えばスポットサイズと波長の関係は”スポットサイズ
∝K・F・λ”で表され、近年上市されている青色発光
半導体レーザー(405nm、420nm)を用いるこ
とにより、従来使用されている赤色半導体レーザー(6
80nm、780nm)に比して、従来品と同様の光学
系を用いてレーザースポット径を約1/2に絞ることが
可能となる。このとき、K:定数、F:Fナンバー、
λ:波長である。
り小径のレーザースポット光を形成することができ、特
にハイライトからハーフトーンにかけて忠実な面積階調
制御をおこなうことで高精細画像記録が可能となる。
書込系のスポットサイズを小径化することにより、ハイ
ライトからハーフトーンにかけての画像の高精細化が実
現できるが、濃度の高い領域では図14に示すようにス
ポットサイズが小さいことにより隙間が発生し、図7の
従来例2に示すとおり高濃度領域において十分な階調性
が得られないという問題が生じる。
を用い、600dpiの解像度で画像記録をすると、図
14に示すとおり、ハイライトからハーフトーンまでの
画像領域では忠実な面積階調制御により高精細な出力画
像が得られるが、高濃度領域では記録画素が42.3μ
m角の600dpiの1ドットを完全に埋める事ができ
ず図7の従来例2に示すとおり高濃度領域では十分な階
調性が得られない(ここで図7の従来例1はスポット径
が55x65μmφの場合を示す)。
iにすると、21.2μm角の記録画素に対して、21
x21μmφのスポット光により像描画をおこなうこと
で、図15のようにハイライトから高濃度領域まで全領
域で良好な画像出力が行える。しかし、記録密度が増大
するのでスキャン回数が増えプリンターの出力スピード
が低下してしまう。
るためになされたものであって、その目的は、ハイライ
トから高濃度までの全領域で階調性に優れた高精細画像
出力が可能な画像形成装置を提供することにある。
に本発明は、光導電性の像担持体と、前記像担持体を均
一帯電する帯電手段と、帯電後の前記像担持体表面を像
露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像
にトナーを付着させてトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写材に転写する転写手段とを備えた
画像形成装置において、前記露光手段は、光ビームを出
射する発光手段と、出射された光ビームを前記像担持体
上にスポット状に結像させるとともに該スポット状の光
を走査して走査線を形成する走査結像手段とを含み、前
記像担持体上に結像される光は前記走査線ごとに異なる
スポット形状を有することを特徴とする。
前記走査結像手段は前記複数の光ビームを同一の前記像
担持体上にそれぞれ結像することが好適である。
射された一つの光ビームのスポット形状を前記走査線ご
とに異ならしめる手段を備えたことが好適である。
交する方向に順次像描画に使用されることを特徴とする
ことが好適である。
走査線ごとに異ならしめる手段は、前記発光手段から出
射された光ビームをデフォーカスする機能を有すること
が好適である。
走査線ごとに異ならしめる手段は、前記発光手段から出
射された光ビームを導く光学手段の位置を移動させるア
クチュエータを含むことが好適である。
形状が異なる複数の光のうち任意の二つのスポット径の
比が1.2以上であることが好適である。
記走査線に略直交する方向のスポット径において異なる
ことが好適である。
の光ビームの最大なるスポット光のスポット径D1と最
初なるスポット光のスポット径D2とが、D2<W<D
1を満たすことが好適である。
ーク強度の1/e2における径が前記走査線のピッチよ
り小さいことが好適である。
のピーク強度の1/e2における径が前記走査線のピッ
チの1/2よりも小さいことが好適である。
ピーク強度の1/e2における径が記録解像度の画素サ
イズの1/2以下であることが好適である。
ち最も小径のレーザスポットを用いてハイライト領域を
描画することが好適である。
の発光波長を有する青色半導体レーザーを含むことが好
適である。
ポット光を用いて像描画を行い、そこから除々に大なる
スポット光と組み合わせて画像形成を進め、高濃度領域
では全てのスポット光を用いて像描画をおこなうことに
より、ハイライト領域では高精細で安定した画像出力を
おこなうことができ、また、高濃度領域においても隙間
なく十分な画像濃度が得られ、ハイライトから高濃度ま
での全領域で階調性に優れた高精細画像出力が可能とな
る。
基づいて説明する。
置の露光手段の構成を示す図であり、図2は同装置にお
けるデータ処理からレーザ制御部までの流れを示す図で
あり、図3は同装置の全体構成の概略を示す図である。
る画像形成装置100の概略構成について説明する。画
像形成装置100は、感光ドラム101とその周りに配
置された帯電器102、画像露光器107、現像器10
9、転写帯電器104、及び定着器105、クリーニン
グ部材106から成る電子写真記録装置である。
が帯電手段としての帯電器102によって均一に帯電さ
れ、感光ドラム101の回転方向下流側の帯電された表
面には露光手段としての画像露光器107によって走査
される光ビームが反射ミラー108を経て照射される。
光ビームによって感光ドラム101の表面には静電潜像
が形成される。静電潜像には、感光ドラム101のさら
に回転方向下流側の現像手段としての現像器109の現
像シリンダ103上に保持されたトナーが付着しトナー
像として現像される。トナー像は感光ドラム101下方
に配設された転写手段としての転写帯電器104によっ
て被転写材としての用紙110上に転写される。未定着
トナー像が転写された用紙101は定着器105に搬送
され、加熱,加圧されることにより未定着トナー像を定
着させる。感光ドラム101上に残留したトナーはクリ
ーニング部材106によって除去される。
下層として、電荷発生層、電荷輸送層のように2層構造
よりなる、機能分離タイプのものや、単層型のものが使
用できる。
リッドよりなるコロナ帯電器を用いたコロナ帯電方式、
像担持体に接触させた帯電ローラーに直流あるいは直流
と交流の重畳バイアスを印加して帯電するローラー帯電
方式などが挙げられる。露光手段としての光学系107
には、半導体レーザーを使用したスキャナータイプのも
のや、LEDに集光装置であるセルフォックレンズ(商
標名)を介して像露光をおこなうもの、また、EL素子
やプラズマ発光素子など、その他の光学系も使用するこ
とができる。
り搬送し、現像ニップにて非接触で像担持体上に飛翔現
像させる磁性1成分の非接触現像方式、あるいは現像ニ
ップで像担持体に接触させて現像処理をおこなう磁性接
触現像方式、非磁性トナーをブレードにより規制し帯電
させ、現像スリーブに担時して搬送し現像ニップにおい
て非接触でトナーを飛翔現像させる非磁性1成分の非接
触現像方式、あるいは現像ニップで像担持体に接触させ
現像処理をおこなう非磁性1成分の接触現像方式、同じ
く非磁性トナーを磁性粉体であるキャリアに混合させ同
じく現像スリーブで現像ニップまで搬送し現像処理をお
こなう2成分現像方式など様々な現像法を使用すること
ができる。
な力を利用した転写方式を使用することができる。電気
的な力を利用して転写をおこなう方法として、コロナワ
イヤーによりトナーの帯電極性と逆極性の直流バイアス
を印加して転写をおこなうコロナ転写方式。105〜1
012Ωの電気抵抗値を示す部材を表層に有するローラー
を当接させ、トナーと逆極性のバイアスを印加するロー
ラー転写方式などが挙げられる。
像露光をおこなう光学装置として、短波長光のレーザー
発振ができ、光学スポットの小径化が可能なブルーレー
ザー発光素子を用いたスキャナータイプの光学系を用い
る。図1に示すとおり、画像露光器は、発光手段として
の複数の半導体レーザー部11、12、高速回転するポ
リゴンミラー20、f−θレンズ群21からなり、該半
導体レーザー部11、12は、図2に示すように入力デ
ータ30に対して画像処理を行う画像読取装置の電算部
やパーソナルコンピュータ等の画像処理部24から出力
される時系列のデジタル画像信号の入力を受けて、該レ
ーザドライバ25,26の発光信号に応じて明滅する。
該半導体レーザー部11、12から放射されたレーザー
光束はコリメータレンズ14、15にて略平行光とさ
れ、シリンドリカルレンズ17、18によりポリゴンミ
ラー20上に集光され、一定速度で回転するポリゴンミ
ラー20上を反射、偏向されfθレンズ群21により感
光ドラム上22にスポット状に結像され、所定の方向2
3に等速度で走査される。このときの像面でのレーザー
ビームの走査は複数のレーザービームを順次副走査方向
に走査することにより行われる。
れスポット径の異なるスポット光を用いることを特徴と
し、例えば図4に示すように2本のレーザービームにて
像描画するときは、その大なるスポット光C1のピーク
強度から1/e2での副走査方向の径C3と、小なるス
ポット光A1のピーク強度から1/e2での副走査方向
の径A3の関係が、副走査方向の走査ピッチをWとした
とき、A3<W<C3の関係を満たすことを特徴とす
る。以上の構成を用い、図5に示すように小なるスポッ
ト光と大なるスポット光を一組としてサブマトリックス
を形成し階調描画をする。例えば記録密度400dpi
とし、小なる光スポットと大なる光スポットを有する二
本の走査線を一組とし、主走査方向に200dpiでP
WM描画をおこなう。このとき、小なるスポットを有す
る走査部位からドット成長を開始させることにより、ハ
イライト領域の高精細描画が可能となり、高濃度領域に
ついても大なるスポットで像描画できることから全濃度
領域にわたって高精細画像出力を実現するものである。
このときの該複数のスポット径を有する走査線の数は三
本以上であっても良く、またひとつのレーザービームを
走査線毎にスポット形状を変化させて像描画をおこなう
ことも可能である。さらにドット成長の方法についても
本明細書の実施形態に限定されるものではなく、ハーフ
トーン領域まで小径スポットによる像描画をおこなうこ
とももちろん可能である。特に三種類以上のスポット径
を有する複数の走査線を用いて像描画をおこなう際に
は、比較的高濃度領域まで小径のスポット光での像描画
が可能となる。
つのスポット光においては、スポット径の比が1.2以
上であることが望ましい。二つのスポット径の比を1.
2より小さいと、ハイライト領域と高濃度領域におい
て、二つのスポット光による機能分離を充分に行うこと
ができず、スポット径の比を1.2以上とすることによ
りこのような機能分離の効果が現われる。
径は副走査方向のスポット径よりも小さいことが望まし
い。このようなスポット光の主走査方向のスポット径と
副走査方向のスポット径のバランスは、縦横方向のライ
ン幅を制御する際に重要となる。例えば、主走方向のス
ポット径と副走査方向のスポット径が同じ大きさのスポ
ット光を用い、ある画素を面積階調で埋めようとしたと
き、ある一定時間走査するためドットが横長となってし
まう。つまり、このようなスポット光で縦ラインと横ラ
インを同じデータを用いて出力すると、縦ラインの方が
太くなってしまう。このアンバランスを解消するために
は、上述のようにスポット光の主走査方向のスポット径
は副走査方向のスポット径より小さくすることが望まし
く、さらには、1/2以下であることが特に好ましい。
径は、副走査方向のピッチWよりも小さいことが望まし
い。なぜなら、副走査方向のピッチWよりも主走査方向
のスポット径が大きいと充分な階調再現を行うことがで
きず、副走査方向の解像度を上げた意味がなくなってし
まうからである。
について説明する。
05nmの波長光でレーザー発振ができ、光学スポット
の小径化が可能な半導体レーザー部としてのブルーレー
ザー発光素子11、12の二本のレーザービームを用
い、且つ、図4に示す様にこれら二本のレーザービーム
の像面における副走査方向のスポット径がそれぞれ40
μm(A3)の小なるスポット光A2と87μm(C
3)の大なるスポット光C2の二本の走査線A1、C1
により像描画をおこなう。このときスポット光A2とC
2の副走査方向の径A3とC3は、所望の記録ピッチで
像描画をおこなった際に全面を埋め尽くして像露光でき
る様調整する。主走査方向について、その径は任意であ
るが副走査方向よりも小径であることが望ましく、更に
記録画素サイズの2/3以下であることが望ましい。
4、15で平行光にされた後、スポット調整レンズを通
過し、シリンドリカルレンズ17、18で回転偏向装置
であるポリゴンミラー20上に集光・反射され、fθレ
ンズ群21で再び集光されるとともに一定速度で像面2
2上を走査方向23に移動する。
で、図5に示すように主走査方向を200dpiのPW
M駆動によりデータの印字をおこない、小なるスポット
光と大なるスポット光を一組としてサブマトリックスを
形成し、図示する順番で小なるスポットを有する走査部
位よりドット成長させることにより、ハイライト領域の
高精細描画が可能となり、高濃度領域についても大なる
スポットで像描画が可能なことから全濃度領域にわたっ
て高精細画像出力を実現するものである。図6に本実施
例を用いたときのハイライト領域における印字パターン
のイメージを示す。また、図5では画素を4分割した場
合のドット成長方式について説明したが、記録階調数お
よび成長方法はこれに限定するものではない。
来例に比べハイライトからハーフトーン領域まではもち
ろん、ハーフトーンから高濃度領域までも確実な面積階
調を行うことができ、図7の実施例1のような階調カー
ブを得ることが可能となった。このような階調カーブを
得ることにより、濃度の安定性が最も重要視されるハイ
ライトからハーフトーンまでの画像領域で十分な階調ラ
ティチュードを確保し、出力濃度変動の小さい高精細画
像出力を実現することができる。
について説明する。
おこなう光学装置に405nmの波長光でレーザー発振
ができ、光学スポットの小径化が可能な半導体レーザー
部としての三本のブルーレーザー発光素子11,12,
13を用い、出射された光束は、コリメータレンズ1
4,15,16で平行光にされた後、シリンドリカルレ
ンズ17,18,19で回転偏向装置であるポリゴンミ
ラー20上に集光・反射され、fθレンズ群21で再び
集光されるとともに一定速度で像面22上を走査方向2
3に移動する。ブルーレーザー発光素子11,12,1
3は、図9に示すように入力データ30に対して画像処
理を行う画像読取装置の電算部やパーソナルコンピュー
タ等の画像処理部24から出力される時系列のデジタル
画像信号の入力を受けて、該レーザドライバ25,2
6,27の発光信号に応じて明滅する。
る副走査方向のスポット径は、図10に示すように30
μm(A6)の小なるスポット光A4と50μm(B
6)の中なるスポット光B4と100μm(C6)の大
なるスポット光C4の三種類のスポット光よりなる走査
線A5、B5、C5により像描画をおこなう。このとき
スポット光A4、B4、C4の各副走査方向の径A6、
B6、C6は、所望の記録ピッチで像描画をおこなった
際に全面を埋め尽くして像露光できる様調整する。主走
査方向についてその径は任意であるが、副走査方向より
も小径であることが望ましく、更に望ましくは記録画素
サイズの1/2以下である。また三本の走査線により像
描画をおこなう際には、走査線の副走査方向の記録位置
を各走査線の有するスポット径に従い適宜調整する必要
がある。本実施例の様に小、中、大なるスポット光の副
走査方向の径がそれぞれ、A6=30μm、B6=50
μm、C6=100μmよりなる走査線の場合、例えば
その記録位置は図10に示す如く走査線A5の走査位置
は走査位置の中心との間隔A7を15μm、走査線B5
の走査位置の中心との間隔B7を13μm、走査線C5
の走査位置の中心との間隔C7を10μm、図示した方
向にずらして像描画を行うことで、高濃度領域において
も像面全面に光照射することができる。
で、図11に示す様に主走査方向を200dpiのPW
M駆動によりデータの印字をおこない、小、中、大の三
種類のスポット光有する三本の走査線を一組としてサブ
マトリックスを形成し、図示する順番で小なるスポット
を有する走査部位よりドット成長させることにより、ハ
イライト領域の高精細描画が可能となり、高濃度領域に
ついても大なるスポットで像描画が可能なことから全濃
度領域にわたって高精細画像出力を実現するものであ
る。図12に本実施例を用いたときのハイライト領域に
おける印字パターンのイメージを示す。また、図11で
は画素を6分割した場合のドット成長方式について説明
したが、記録階調数および成長方法はこれに限定するも
のではない。その結果、従来例に比べ、ハイライトから
ハーフトーン領域まではもちろん、ハーフトーンから高
濃度領域までも確実な面積階調をおこなうことができ、
図7の実施例2のような階調カーブを得る事が可能とな
った。このような階調カーブを得ることにより、濃度の
安定性が最も重要視されるハイライトからハーフトーン
までの画像領域で十分な階調ラティチュードを確保し、
出力濃度変動の小さい高精細画像出力を実現することが
できる。
について説明する。
に異なるスポット径のスポット光を用いて像描画する手
段として、光学系のデフォーカス特性を利用する。具体
的には、図13に示す如く単一のレーザービームの光束
を光学手段としてのスポット径調整レンズ32をアクチ
ュエータとしての電磁誘導式のサーボモータを用いて光
束と平行に移動させることで像面上でデフォーカスさせ
スポット径の異なるスポット光を得る。
30μmのまま、副走査方向の小なるスポット光の径は
40μm、大なるスポット光の径は80μmになる様調
整し、実施例1と同様の方法により像描画をおこなっ
た。
来例に比べハイライトからハーフトーン領域まではもち
ろん、ハーフトーンから高濃度領域までも確実な面積階
調をおこなうことができ、図7の実施例1のような階調
カーブを得る事が可能となった。このような階調カーブ
を得ることにより、濃度の安定性が最も重要視されるハ
イライトからハーフトーンまでの画像領域で十分な階調
ラティチュードを確保し、出力濃度変動の小さい高精細
画像出力を実現することができる。
イライト領域では小なるスポット光を用いて像描画をお
こない、そこから除々に大なるスポット光と組み合わせ
て画像形成を進め、高濃度領域では全てのスポット光を
用いて像描画を行うことができる。このような要領で画
像形成を行うことにより、ハイライト領域では高精細で
安定した画像出力をおこなうことができ、また、高濃度
領域においても隙間なく十分な画像濃度が得られ、ハイ
ライトから高濃度までの全領域で階調性に優れた高精細
画像出力が可能となる。
である。
説明する図である。
図である。
明する図である。
ト成長法を説明する図である。
イライト領域のイメージ図である。
する図である。
レーザ制御部の流れを説明する図である。
法を説明する図である。
ット成長法を説明する図である。
際のハイライト領域のイメージ図である。
明する図である。
Claims (14)
- 【請求項1】 光導電性の像担持体と、前記像担持体を
均一帯電する帯電手段と、帯電後の前記像担持体表面を
像露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜
像にトナーを付着させてトナー像を形成する現像手段
と、前記トナー像を被転写材に転写する転写手段とを備
えた画像形成装置において、 前記露光手段は、光ビームを出射する発光手段と、出射
された光ビームを前記像担持体上にスポット状に結像さ
せるとともに該スポット状の光を走査して走査線を形成
する走査結像手段とを含み、 前記像担持体上に結像される光は前記走査線ごとに異な
るスポット形状を有することを特徴とする画像形成装
置。 - 【請求項2】 前記発光手段は複数の光ビームを出射
し、 前記走査結像手段は前記複数の光ビームを同一の前記像
担持体上にそれぞれ結像することを特徴とする請求項1
に記載の画像形成装置。 - 【請求項3】 前記走査結像手段は、前記発光手段から
出射された一つの光ビームのスポット形状を前記走査線
ごとに異ならしめる手段を備えたことを特徴とする請求
項1に記載の画像形成装置。 - 【請求項4】 前記複数の光ビームは、前記走査線に略
直交する方向に順次像描画に使用されることを特徴とす
る請求項2記載の画像形成装置。 - 【請求項5】前記一つの光ビームのスポット形状を前記
走査線ごとに異ならしめる手段は、前記発光手段から出
射された光ビームをデフォーカスする機能を有すること
を特徴とする請求項3に記載の画像形成装置。 - 【請求項6】 前記一つの光ビームのスポット形状を前
記走査線ごとに異ならしめる手段は、前記発光手段から
出射された光ビームを導く光学手段の位置を移動させる
アクチュエータを含むことを特徴とする請求項5に記載
の画像形成装置。 - 【請求項7】 前記像担持体上に結像される前記スポッ
ト形状が異なる複数の光のうち任意の二つのスポット径
の比が1.2以上であることを特徴とする請求項1乃至
6のいずれかに記載の画像形成装置。 - 【請求項8】 前記異なるスポット形状を有する光は、
前記走査線に略直交する方向のスポット径において異な
ることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の
画像形成装置。 - 【請求項9】 前記走査線のピッチWに対して、前記複
数の光ビームの最大なるスポット光のスポット径D1と
最初なるスポット光のスポット径D2とが、 D2<W<D1 を満たすことを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに
記載の画像形成装置。 - 【請求項10】 前記スポット光の走査線に沿った方向
のピーク強度の1/e2における径が前記走査線のピッ
チより小さいことを特徴とする請求項1乃至9のいずれ
かに記載の画像形成装置。 - 【請求項11】 前記スポット光の前記走査線に沿った
方向のピーク強度の1/e2における径が前記走査線の
ピッチの1/2よりも小さいことを特徴とする請求項1
0に記載の画像形成装置。 - 【請求項12】 前記スポット光の前記走査に沿った方
向のピーク強度の1/e2における径が記録解像度の画
素サイズの1/2以下であることを特徴とする請求項1
乃至9のいずれかに記載の画像形成装置。 - 【請求項13】 前記スポット形状の異なるスポット光
のうち最も小径のレーザスポットを用いてハイライト領
域を描画することを特徴とする請求項1乃至12のいず
れかに記載の画像形成装置。 - 【請求項14】 前記発光手段は、400nm〜500
nmの発光波長を有する青色半導体レーザーを含むこと
を特徴とする請求項1乃至13のいずれかに記載の画像
形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001313159A JP2003118161A (ja) | 2001-10-10 | 2001-10-10 | 画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001313159A JP2003118161A (ja) | 2001-10-10 | 2001-10-10 | 画像形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=19131696
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001313159A Pending JP2003118161A (ja) | 2001-10-10 | 2001-10-10 | 画像形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003118161A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006053240A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Noritsu Koki Co Ltd | レーザー光変調装置 |
| JP2006301113A (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光源ユニット・光走査装置・画像形成装置・光ビーム合成素子・光学系・光学機器 |
| US7782355B2 (en) | 2007-05-14 | 2010-08-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus using a plurality of lasers with a varying exposure ratio |
-
2001
- 2001-10-10 JP JP2001313159A patent/JP2003118161A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006053240A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Noritsu Koki Co Ltd | レーザー光変調装置 |
| JP2006301113A (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光源ユニット・光走査装置・画像形成装置・光ビーム合成素子・光学系・光学機器 |
| US7782355B2 (en) | 2007-05-14 | 2010-08-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus using a plurality of lasers with a varying exposure ratio |
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