JP2003174074A - 基板吸着パッド、基板搬送装置、基板処理システム及び基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 搬送中の基板の位置ずれや落下等を防止し、
基板を確実に保持しながら搬送することができる基板吸
着パッド、基板搬送装置、基板処理システム及び基板搬
送方法を提供する。 【解決手段】 基板搬送装置４に設けられた進退可能な
搬送アーム９には、一対のアーム部材９ａ、９ｂの合計
４箇所にガラス基板Ｇを吸着して保持するための基板吸
着パッド１０が設けられており、その基板吸着パッド１
０は、ガラス基板Ｇを減圧吸着するための吸着口１１が
表面に設けられた吸着パッド本体１２と、その表面を塞
ぐように設けられた複数の円形状の孔１３が穿設された
膜状部材１４を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶装置に
用いられるガラス基板等を露光装置や現像装置等の間で
搬送するために使われる基板搬送装置、これらの装置を
含んだ基板処理システム及び基板搬送方法、及びこのよ
うな基板搬送装置に用いられる基板吸着パッドに関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】基板、特に、ガラス基板の製造プロセス
には、大きく分けてガラス基板の金属膜のパターニング
形成を行うアレイ工程と、液晶部材を圧着し封止するセ
ル工程と、ＴＣＰの搭載や、組み立て、バックライトの
組み立て等を行うモジュール工程とがある。

【０００３】上記製造プロセスの中でも、パターニング
形成を行うアレイ工程の際には、洗浄工程、レジストコ
ート工程、プリベーク工程、現像工程、ポストベーク工
程、エッチング工程、剥離工程があり、その各工程間に
ガラス基板を搬送するための基板搬送装置が必要とな
る。

【０００４】このような搬送に用いられる基板搬送装置
は、例えば洗浄工程の処理を経たガラス基板を洗浄装置
から取り出し、レジストコート工程のレジストコート処
理を行う装置まで搬送し、ガラス基板をそのレジストコ
ート処理装置まで受け渡す際の搬送等に用いられる。

【０００５】一般に、このような基板搬送装置では、基
板搬送アーム上にガラス基板が保持されるようになって
おり、その保持手段として例えば基板搬送アーム上に設
けられた複数の吸着パッドが通常用いられるようになっ
ている。

【０００６】このような吸着パッドは、その表面に例え
ば減圧ポンプに接続された吸着口を有するものであり、
吸着口を減圧引きすることでガラス基板を吸着保持する
ように構成されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
ガラス基板の薄型化傾向によってガラス基板が搬送時に
変形し、吸着パッド表面とガラス基板とが平行にならな
くなって、吸着パッドの吸着口とガラス基板とが確実に
密着できず、ガラス基板の保持を十分に行えない、とい
う課題がある。そして、このような場合に、搬送中にガ
ラス基板が位置ずれを起こしたり、場合によってはアー
ムから落下したり、という不都合が生じている。

【０００８】本発明は、このような事情に基づきなされ
たもので、搬送中の基板の位置ずれや落下等を防止し、
基板を確実に保持しながら搬送することができる基板吸
着パッド、基板搬送装置、基板処理システム及び基板搬
送方法を提供することを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明の主たる観点に係る基板吸着パッドは、基板
を減圧吸着するための吸着口が表面に設けられた吸着パ
ッド本体と、前記吸着口の表面を塞ぐように設けられ、
複数の孔が穿設された膜状部材と、前記吸着パッド本体
を揺動可能に支持する支持部材とを具備することを特徴
とするものである。

【００１０】本発明では、吸着パッド本体が揺動可能に
支持されると共に、吸着パッド本体の吸着口には複数の
孔が穿設された膜状部材が設けられているので、基板が
搬送時に変形しても吸着パッドがその変形に追従して傾
いて基板と吸着パッドとの平行関係が維持され、基板と
吸着パッドとが密着し、基板が吸着パッドにより十分に
吸着保持される。しかも、たとえ基板と吸着パッドとが
完全に密着しない場合であっても吸着口に膜状部材が設
けられている関係で、吸着口からの減圧引きの漏れを最
小限することができるので、基板が吸着パッドにより十
分に吸着保持される。従って、本発明によれば、搬送中
の基板の位置ずれや落下等を防止し、基板を確実に保持
しながら搬送することができる。

【００１１】本発明の一の形態によれば、前記膜状部材
は、可撓性を有することを特徴とするものである。

【００１２】これにより、基板が大きく撓んだ場合であ
っても膜状部材がその基板の撓みに追従し、基板が吸着
パッドにより十分に吸着保持される。

【００１３】本発明の一の形態によれば、前記膜状部材
は、前記吸着パッド本体と同一の材料で形成されている
ことを特徴とするものである。

【００１４】これにより、製造をより安価で行うことが
できる本発明の一の形態によれば、前記膜状部材に穿設
された各孔の形状は、円形または六角形であることを特
徴とするものである。

【００１５】これにより、面積効率よく孔を設けること
ができ、減圧引きによるロスをより小さくすることがで
きる。

【００１６】本発明の一の形態によれば、前記膜状部材
に穿設された各孔の径は、１ｍｍ〜１０ｍｍであること
を特徴とするものである。

【００１７】この孔が１ｍｍよりも小さいと減圧引きの
際にロスが大きくなり過ぎて基板を十分に吸着保持する
ことができず、一方この孔が１０ｍｍよりも大きいと基
板と吸着パッドとが完全に密着しない場合に減圧引きの
漏れが大きくなり過ぎて基板を吸着パッドに十分に吸着
保持することができなくなるからである。

【００１８】本発明の別の観点に係る基板搬送装置は、
基板を保持して搬送するための搬送アームと、前記搬送
アームの表面に設けられた上記構成の基板吸着パッドと
を具備することを特徴とするものである。

【００１９】本発明では、搬送アームの表面に上記構成
の基板吸着パッドが設けられているので、基板が搬送時
に変形してもその吸着パッドがその変形に追従して傾い
て基板と吸着パッドとの平行関係が維持され、基板と吸
着パッドとが密着し、基板が吸着パッドにより十分に吸
着保持される。しかも、たとえ基板と吸着パッドとが完
全に密着しない場合であっても、吸着口からの減圧引き
の漏れを最小限することができるので、基板が吸着パッ
ドにより十分に吸着保持される。従って、本発明によれ
ば、搬送中の基板の位置ずれや落下等を防止し、基板を
確実に保持しながら搬送することができる。

【００２０】本発明の一の形態によれば、前記吸着パッ
ド本体の吸引口には、圧力調整が可能となるように減圧
ポンプが接続されていることを特徴とするものである。

【００２１】これにより、吸着パッドにより常に適切な
吸着力で基板を保持搬送することが可能となる。

【００２２】本発明の一の形態によれば、前記調整され
る圧力は、−０．０４〜−０．１０ＭＰａであることを
特徴とするものである。

【００２３】この圧力が−０．０４ＭＰａよりも小さい
と基板を確実に保持することができず、またこの圧力が
−０．１０ＭＰａよりも大きいと基板に吸着跡等が発生
するからである。

【００２４】本発明の更に別の観点に係る基板搬送シス
テムは、基板に対して所定の処理を施す基板処理部と、
少なくとも前記基板処理部との間で基板の受け渡しを行
うための上記構成の基板搬送装置とを具備することを特
徴とするものである。

【００２５】本発明では、搬送アームの表面に上記構成
の基板吸着パッドが設けられている基板搬送装置を用い
ているので、基板が搬送時に変形してもその吸着パッド
がその変形に追従して傾いて基板と吸着パッドとの平行
関係が維持され、基板と吸着パッドとが密着し、基板が
吸着パッドにより十分に吸着保持される。しかも、たと
え基板と吸着パッドとが完全に密着しない場合であって
も、吸着口からの減圧引きの漏れを最小限することがで
きるので、基板が吸着パッドにより十分に吸着保持され
る。従って、本発明によれば、搬送中の基板の位置ずれ
や落下等を防止し、基板を確実に保持しながら搬送する
ことができる。そして、基板処理装置に対して正確に位
置を維持しながら基板を受け渡すことができ、これによ
り正確な処理を行うことが可能となる。

【００２６】本発明のまた別の観点に係る基板搬送方法
は、上記構成の基板搬送装置の搬送アーム上に基板を保
持する工程と、前記基板が搬送アーム上に保持された基
板搬送装置により、当該基板を基板に対して所定の処理
を施す基板処理部まで／から搬送する工程と、前記基板
を前記搬送アームと前記基板処理部との間で受け渡す工
程とを具備することを特徴とするものである。

【００２７】本発明では、搬送アームの表面に上記構成
の基板吸着パッドが設けられている基板搬送装置を搬送
工程中に用いているので、基板が搬送時に変形してもそ
の吸着パッドがその変形に追従して傾いて基板と吸着パ
ッドとの平行関係が維持され、基板と吸着パッドとが密
着し、基板が吸着パッドにより十分に吸着保持される。
しかも、たとえ基板と吸着パッドとが完全に密着しない
場合であっても、吸着口からの減圧引きの漏れを最小限
することができるので、基板が吸着パッドにより十分に
吸着保持される。従って、本発明によれば、搬送工程中
の基板の位置ずれや落下等を防止し、基板を確実に保持
しながら搬送することができる。そして、基板処理装置
に対して正確に位置を維持しながら基板を受け渡すこと
ができ、これにより基板処理工程において正確な処理を
行うことが可能となる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。

【００２９】図１は本発明の一実施形態に係る基板処理
システムの構成を示す平面図、図２はその正面図であ
る。このシステム１は、液晶装置に用いられるガラス基
板を露光処理するものであるが、本発明は勿論別の処理
を行う処理システムに当然適用できる。

【００３０】このシステム１は、システム１内にガラス
基板Ｇを搬入したり、搬出したりするための基板搬入出
部２と、レジストが塗布され、プリベーク処理が行われ
たガラス基板Ｇに対して露光処理を行うための露光処理
装置３と、これら基板搬入出部２と露光処理部３との間
で基板の受け渡しを行うための基板搬送装置４とからそ
の主要部が構成される。

【００３１】基板搬入出部２にはカセット載置台５が設
けられており、このカセット載置台５にはガラス基板Ｇ
を上下方向に平行に複数枚収容する収容するカセット６
が所定の位置に位置決めされた状態で載置されるように
なっている。このカセット載置台５では、図示を省略し
た昇降機構によりカセット６を上下方向に昇降するよう
になっている。なお、このカセット載置台５には例えば
作業者がカセット６を搬入出するようにしても良いし、
例えばロボット（図示せず）がカセット６を搬入出する
ようにしても良い。

【００３２】露光処理装置３は基板搬送装置４から受け
渡されたガラス基板Ｇに対して露光処理を行い、露光処
理が終了したガラス基板Ｇを基板搬送装置４に戻すもの
である。基板搬送装置４から露光処理装置３へのガラス
基板Ｇの搬送はローダアーム７ａによって行われ、露光
処理装置３から基板搬送装置４へのガラス基板Ｇの搬送
はアンローダアーム７ｂによって行われるようになって
いる。ローダアーム７ａとアンローダアーム７ｂとは相
互に干渉したようにガラス基板Ｇの搬入出が行われるよ
うになっており、これにより基板搬送装置４から露光処
理装置３へのガラス基板Ｇの搬送と露光処理装置３から
基板搬送装置４へのガラス基板Ｇの搬送とが同時に行う
ことができるようになっている。

【００３３】基板搬送装置４は、図示を省略した駆動装
置により搬送路１９に沿って基板搬入出部２と露光処理
部３との間を移動可能とされている。

【００３４】図３はこの基板搬送装置４の構成を示す平
面図であり、図４はその正面図である。

【００３５】この基板搬送装置４は、図示を省略した回
転駆動機構により回転可能とされた基台８と、この基台
８上で図示を省略した進退機構により進退可能とされた
搬送アーム９とを有する。なお、搬送アーム９の周囲に
は、ガラス基板Ｇをその両側から例えば一対のローラ部
材により挟持してガラス基板Ｇの位置決めを行う位置決
め機構（図示せず）が設けられている。

【００３６】搬送アーム９における例えば一対のアーム
部材９ａ、９ｂのそれぞれ２箇所に、合計４箇所にガラ
ス基板Ｇを吸着して保持するための基板吸着パッド１０
が設けられている。

【００３７】図５はこの基板吸着パッド１０の構成を示
す断面図、図６はその平面図である。

【００３８】これら基板吸着パッド１０は、ガラス基板
Ｇを減圧吸着するための吸着口１１が表面に設けられた
吸着パッド本体１２を有する。

【００３９】この吸着パッド本体１２の吸着口１１に
は、その表面を塞ぐように設けられ、例えば複数の円形
状の孔１３が穿設された膜状部材１４が設けられてい
る。

【００４０】ここで、膜状部材１４はＰＴＦＥ等の樹脂
で可撓性を有する方がより好ましい。搬送の際にガラス
基板Ｇが大きく撓んだ場合であっても膜状部材１４がそ
のガラス基板Ｇの撓みに追従し、ガラス基板Ｇが吸着パ
ッドにより十分に吸着保持されるからである。また、膜
状部材１４は吸着パッド本体１２と同一の材料で形成さ
れていることがより好ましい。例えば全体がＰＴＦＥか
らなるものであればよい。これにより、製造をより安価
で行うことができるからである。更に、孔１３を円形状
とすることで、面積効率よく孔１３を設けることがで
き、減圧引きによるロスをより小さくすることができ
る。また、各孔１３の径は、１ｍｍ〜１０ｍｍであるこ
とがより好ましい。この孔１３が１ｍｍよりも小さいと
減圧引きの際にロスが大きくなり過ぎてガラス基板Ｇを
十分に吸着保持することができず、一方この孔１３が１
０ｍｍよりも大きいとガラス基板Ｇと吸着パッド１２と
が完全に密着しない場合に減圧引きの漏れが大きくなり
過ぎてガラス基板Ｇを吸着パッド１２に十分に吸着保持
することができなくなるからである。

【００４１】また、この吸着パッド本体１２は、該吸着
パッド本体１２を揺動可能に支持する支持部材１５を介
してアーム部材９ａの所定の位置に取り付けられてい
る。支持部材１５は、例えばゴム部材のように弾性部材
から構成すれば良い。このように支持部材１５により吸
着パッド本体１２を揺動可能に支持することで、ガラス
基板Ｇが搬送時に変形しても吸着パッド１０がその変形
に追従して傾いてガラス基板Ｇと吸着パッド１０との平
行関係が維持され、ガラス基板Ｇと吸着パッド１０とが
密着し、ガラス基板Ｇが吸着パッド１０により十分に吸
着保持される。

【００４２】上記の吸着口１１は、圧力調整バルブ１６
を介して減圧ポンプ１７に接続され、これにより減圧引
きが行われるようになっている。また、制御部１８は、
圧力調整バルブ１６及び減圧ポンプ１７を制御して吸引
の際の圧力を所望の圧力とするものである。なお、その
場合、予め設定された値で上記の制御を行っても良い
し、例えば吸着口１１内に圧力検出機構を設け、検出さ
れた圧力に応じて所望の圧力となるように上記の制御を
行っても構わない。このような制御により吸着パッド１
０により常に適切な吸着力でガラス基板Ｇを保持搬送す
ることが可能となる。

【００４３】ここで、このように調整される圧力は、−
０．０４〜−０．１０ＭＰａであることが好ましく−
０．０８ＭＰａ前後がより好ましい。この圧力が−０．
０４ＭＰａよりも小さいとガラス基板Ｇを確実に保持す
ることができず、またこの圧力が−０．１０ＭＰａより
も大きいとガラス基板Ｇに吸着跡等が発生するからであ
る。

【００４４】次に、このように構成された基板処理シス
テムの動作を説明する。

【００４５】まず、カセット載置台５にセットされたカ
セット６が昇降駆動され、カセット６内のガラス基板Ｇ
のうち露光処理すべきガラス基板Ｇが所定の位置にくる
と、昇降駆動が停止される。

【００４６】次に、基板搬送装置４の搬送アーム９が前
進してカセット６にアクセスしてカセット６から処理対
象のガラス基板Ｇを搬送アーム９上に載せる。

【００４７】より詳細にいうと、例えば搬送アーム９は
処理対象のガラス基板Ｇの下方に接触しないように入り
込み、その後カセット６を若干下降させて、このガラス
基板Ｇを搬送アーム９上に載せた状態とし、更に搬送ア
ーム９をガラス基板Ｇを載せた状態で後退させ、カセッ
ト６からガラス基板Ｇと共に搬送アーム９を引き出す。

【００４８】そして、上記のガラス基板Ｇが搬送アーム
９上に載った状態で、制御部１８が圧力調整バルブ１６
及び減圧ポンプ１７を制御して吸引の圧力を所望の値と
する。これにより、ガラス基板Ｇは４つの基板吸着パッ
ド１０上に吸着保持された状態となる。

【００４９】次に、搬送アーム９が図示を省略した回転
駆動機構により９０°回転駆動され、露光処理装置３を
向いた状態となる。この状態で、搬送アーム９にガラス
基板Ｇを吸着保持した基板搬送装置４は、露光処理装置
３と対面する位置まで移動され、停止する。

【００５０】次に、制御部１８が圧力調整バルブ１６及
び減圧ポンプ１７を制御して吸引を停止させ、位置決め
機構（図示せず）によりガラス基板Ｇの位置決めを行
う。

【００５１】次に、ローダアーム７ａがガラス基板Ｇを
基板搬送装置４から露光処理装置３へ搬送すると共に、
アンローダアーム７ｂによって露光処理の終了したガラ
ス基板Ｇを露光処理装置３から基板搬送装置４へ搬送す
る。

【００５２】上記のガラス基板Ｇが搬送アーム９上に載
った状態で、制御部１８が圧力調整バルブ１６及び減圧
ポンプ１７を制御して吸引の圧力を所望の値とする。こ
れにより、露光処理が終了したガラス基板Ｇは４つの基
板吸着パッド１０上に吸着保持された状態となる。この
状態で、搬送アーム９にガラス基板Ｇを吸着保持した基
板搬送装置４は、カセット載置台５と対面する位置まで
移動され、停止する。

【００５３】次に、搬送アーム９が図示を省略した回転
駆動機構により９０°回転駆動され、カセット載置台５
と対面する状態となる。

【００５４】次に、基板搬送装置４の搬送アーム９が前
進してカセット６にアクセスしてカセット６に露光処理
の終了したガラス基板Ｇを搬入する。

【００５５】以上で、一連の処理が終了するが、例えば
このよう一連の処理をカセット６に搭載された全てのガ
ラス基板Ｇに対して行う。

【００５６】このように本実施形態の基板処理システム
では、支持部材１５により吸着パッド本体１２が揺動可
能に支持されると共に、吸着パッド本体１２の吸着口１
１には複数の孔１３が穿設された膜状部材１４が設けら
れているので、図７に示すように、ガラス基板Ｇが搬送
時に変形しても（同図（ａ））基板吸着パッド１０がそ
の変形に追従して傾いて（同図（ｂ））、ガラス基板Ｇ
と基板吸着パッド１０との平行関係が維持され（同図
（ｃ））、ガラス基板Ｇと基板吸着パッド１０とが密着
し、ガラス基板Ｇが基板吸着パッド１０により十分に吸
着保持される。しかも、例えガラス基板Ｇと吸着パッド
１０とが完全に密着しない場合であっても吸着口１１に
膜状部材１４が設けられている関係で、吸着口１１から
の減圧引きの漏れを最小限することができるので、ガラ
ス基板Ｇが基板吸着パッド１０により十分に吸着保持さ
れる。従って、搬送中のガラス基板Ｇの位置ずれや落下
等を防止し、ガラス基板Ｇを確実に保持しながら搬送す
ることができる。

【００５７】なお、本発明は上述し実施の形態に限定さ
れるものではない。

【００５８】例えば、膜状部材１４に穿設された孔１３
は、円形状であったが、例えば図８に示すように、６角
形の形状であっても勿論構わない。これにより、より面
積効率よく孔１３を設けることができ、減圧引きによる
ロスをより小さくすることができる。

【００５９】図９は基板吸着パッド１０の別の構成を示
す断面図である。図９（ａ）では、ガラス基板Ｇが撓ん
でいない状態を示し、図９（ｂ）では、ガラス基板Ｇが
撓んだ状態を示す図である。

【００６０】この吸着パッド１０には、吸着パッド本体
１２が設けられ、その表面にはガラス基板Ｇを減圧吸着
するための吸着口１１が表面に設けられている。

【００６１】吸着口１１には、その表面を塞ぎながら吸
着口１１内部中央へ向かって凹状に撓んだ膜状部材１４
が設けられている。

【００６２】図９（ａ）に示すようにガラス基板Ｇが撓
んでいない状態では、膜状部材１４は接触せずに、吸着
口１１のみがガラス基板Ｇに対して接触するようになっ
ている。つまり、吸着口１１のみで接触吸着をしても、
撓みのないガラス基板Ｇに対して安定な状態で搬送する
ことが可能である。また、膜状部材１４は接触しないの
で、その際不要な膜状部材１４の接触による吸着跡の残
存を防止することが可能である。

【００６３】また、図９（ｂ）に示すようにガラス基板
Ｇが撓んだ状態では、吸着口１１のみならず、膜状部材
１４もガラス基板Ｇに接触するようになっている。つま
り、膜状部材１４は、ガラス基板Ｇの撓みに対して追従
性よく接触することが可能である。これによって、膜状
部材１４は、ガラス基板Ｇと確実に接触することができ
る。つまり、撓んだ状態のガラス基板Ｇに対して安定し
た搬送を行うことができる。

【００６４】このような構成により、膜状部材１４は、
ガラス基板Ｇが撓んでいない状態では接触せず、また、
ガラス基板Ｇが撓んだ状態では接触する。このような構
成により、吸着パッド１０を用いたガラス基板Ｇの搬送
を安定して行うことができる。

【００６５】また、上述した実施形態では、基板搬入出
部２と露光装置３との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行
うための基板搬送装置４を配置したシステム１に本発明
を適用して例を説明したが、例えばレジスト塗布・現像
処理装置における処理装置間で基板を搬送する基板搬送
装置やこれらを含んだシステム更に、他の構成のシステ
ムにも本発明を適用することができる。

【００６６】また、上記の実施形態では、液晶装置のガ
ラス基板Ｇ搬送する装置に本発明を適用するものであっ
たが、半導体ウエハ等の他の基板を搬送する装置にも当
然本発明を適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理システムの
構成を示す平面図である。

【図２】本発明の一実施形態に係る基板処理システムの
構成を示す正面図である。

【図３】本発明の基板搬送装置の構成を示す平面図であ
る。

【図４】本発明の基板搬送装置の構成を示す正面図であ
る。

【図５】本発明の吸着パッドの構成を示す断面図であ
る。

【図６】本発明の吸着パッドの構成を示す平面図であ
る。

【図７】本発明の吸着パッドとガラス基板との追従性を
示す図である。

【図８】本発明の他の実施形態に係る吸着パッドを示す
図である。

【図９】本発明の他の実施形態に係る吸着パッドを示す
図であり、（ａ）は、ガラス基板が撓んでいない状態を
示し、（ｂ）は、ガラス基板が撓んだ状態を示す。

【符号の説明】

１ システム ２ 基板搬入出部 ３ 露光装置 ４ 基板搬送装置 ５ カセット載置台 ６ カセット ７ａ ローダアーム ７ｂ アンローダアーム ８ 基台 ９ 搬送アーム １０ 吸着パッド １１ 吸着口 １２ 吸着パッド本体 １３ 孔 １４ 膜状部材 １５ 支持部材 １６ 圧力調整バルブ １７ 減圧ポンプ １８ 制御部 １９ 搬送路 Ｇ ガラス基板

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を吸着するための吸着口が表面に設
   けられた吸着パッド本体と、 前記吸着口の表面を塞ぐように設けられ、複数の孔が穿
   設された膜状部材と、 前記吸着パッド本体を揺動可能に支持する支持部材とを
   具備することを特徴とする基板吸着パッド。
2. 【請求項２】 前記膜状部材は、可撓性を有することを
   特徴とする請求項１に記載の基板吸着パッド。
3. 【請求項３】 前記膜状部材は、前記吸着パッド本体と
   同一の材料で形成されていることを特徴とする請求項１
   または請求項２に記載の基板吸着パッド。
4. 【請求項４】 前記膜状部材に穿設された各孔の形状
   は、円形または六角形であることを特徴とする請求項１
   乃至請求項３に記載の基板吸着パッド。
5. 【請求項５】 前記膜状部材に穿設された各孔の径は、
   １ｍｍ〜１０ｍｍであることを特徴とする請求項１乃至
   請求項４に記載の基板吸着パッド。
6. 【請求項６】 基板を保持して搬送するための搬送アー
   ムと、 前記搬送アームの表面に設けられた請求項１乃至請求項
   ５に記載の基板吸着パッドとを具備することを特徴とす
   る基板搬送装置。
7. 【請求項７】 前記吸着パッド本体の吸引口には、圧力
   調整が可能となるように減圧ポンプが接続されているこ
   とを特徴とする請求項６に記載の基板搬送装置。
8. 【請求項８】 前記調整される圧力は、−０．０４〜−
   ０．１０ＭＰａであることを特徴とする請求項７に記載
   の基板搬送装置。
9. 【請求項９】 基板に対して所定の処理を施す基板処理
   部と、 少なくとも前記基板処理部との間で基板の受け渡しを行
   うための請求項６乃至請求項８に記載の基板搬送装置と
   を具備することを特徴とする基板処理システム。
10. 【請求項１０】 請求項６乃至請求項８に記載の基板搬
    送装置の搬送アーム上に基板を保持する工程と、 前記基板が搬送アーム上に保持された基板搬送装置によ
    り、当該基板を基板に対して所定の処理を施す基板処理
    部まで／から搬送する工程と、 前記基板を前記搬送アームと前記基板処理部との間で受
    け渡す工程とを具備することを特徴とする基板搬送方
    法。