[go: up one dir, main page]

JP2003163384A - 熱電交換モジュール用セラミック基板 - Google Patents

熱電交換モジュール用セラミック基板

Info

Publication number
JP2003163384A
JP2003163384A JP2001363239A JP2001363239A JP2003163384A JP 2003163384 A JP2003163384 A JP 2003163384A JP 2001363239 A JP2001363239 A JP 2001363239A JP 2001363239 A JP2001363239 A JP 2001363239A JP 2003163384 A JP2003163384 A JP 2003163384A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramic substrate
electrode
layer
thermoelectric
metallized layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001363239A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3798973B2 (ja
Inventor
Kosuke Katabe
浩介 形部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2001363239A priority Critical patent/JP3798973B2/ja
Publication of JP2003163384A publication Critical patent/JP2003163384A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3798973B2 publication Critical patent/JP3798973B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 セラミック基板と電極との熱膨張差により発
生する熱応力、および電極と熱電素子との熱膨張差によ
り発生する熱応力を、電極とセラミック基板との接合部
に集中させないことにより、光半導体素子等の発熱体の
熱を外部に効率良く伝達させ得るようにすること。 【解決手段】 セラミック基板1の一方の主面に、メタ
ライズ層2a上に銅層2bが積層されて成るとともに上
面に熱電素子3が載置固定される電極2がそれぞれ独立
して複数形成された熱電交換モジュール用セラミック基
板において、電極2はメタライズ層2aの外周端に全周
にわたってくぼんだ曲面から成る裾野部4が形成されて
おり、セラミック基板1は主面の電極2の周囲が裾野部
4に連続するくぼんだ曲面を有する裾野延長部5とされ
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信分野等に使
用される半導体レーザ(LD),フォトダイオード(P
D)等の光半導体素子を作動時に冷却するための熱電交
換モジュール用セラミック基板に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の光通信分野等に使用されるLD,
PD等の光半導体素子を作動時に冷却するための熱電交
換モジュールは、光半導体素子が作動時に発する熱を外
部へ伝えることにより、光半導体素子を常に一定の温度
に保持する熱電冷却装置として機能する。この熱電交換
モジュール、即ち熱電冷却装置は、セラミック基板の主
面においてp型とn型の熱電素子を電気的に直列または
並列に接続して一体構造とした状態で、ペルチェ効果を
利用して高温端の電極および低温端の電極に印加した電
圧に依存して温度差を生じさせることにより一端を冷却
するものである。
【0003】そして、従来の熱電交換モジュール用セラ
ミック基板は、図3に電極周辺部の断面図を示すよう
に、アルミナ(Al23)セラミックスや窒化アルミニ
ウム(AlN)セラミックス等のセラミック基板101
の一方の主面に、複数の電極となる銅(Cu)層102
bが被着されている。このCu層102bは、セラミッ
ク基板101の一方の主面全面に無電解メッキによるC
u層を被着させた後、Cu層102bを形成しない部位
にメッキレジストを施し、さらに電解メッキによるCu
層をメッキレジストの高さよりも低い位置まで被着さ
せ、その後メッキレジストを剥離するとともにメッキレ
ジスト直下の無電解メッキによるCu層をエッチング等
により除去することにより、それぞれ独立した(電気的
に絶縁された)複数の電極となる。
【0004】さらに、Cu層102bの上面の平坦部に
ニッケル(Ni)メッキ層と金(Au)メッキ層を順に
被着させ、錫(Sn)−銀(Ag)系,Sn−アンチモ
ン(Sb)系,Sn−ビスマス(Bi)系,Sn−鉛
(Pb)系等の半田を介して、p型,n型の熱電素子1
03を固着することにより、製品としての熱電交換モジ
ュールが作製される。
【0005】上記の熱電交換モジュールにより、光半導
体素子等の発熱体が作動時に発する熱は、熱電素子10
3からCu層102b、セラミック基板101を介して
外部へ効率良く伝えられる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、発熱体
の熱量が非常に大きいため、より大きな電流を流してペ
ルチェ効果をさらに発揮させなければならない場合、従
来の技術では2つの大きな問題点がある。
【0007】まず第1に、セラミック基板101がより
高温となりセラミック基板101とCu層102bとの
熱膨張差による熱応力がより大きくなり、Cu層102
bの外周端のセラミック基板101と接合されている部
位を起点として、それらの間で剥がれが発生することが
ある。そのため、発熱体の熱がCu層102bからセラ
ミック基板101に効率良く伝わらず、その結果、発熱
体の熱が外部に効率良く伝達し難くなり発熱体の作動性
が劣化するという問題点があった。
【0008】そこで、図4(a)に電極部の拡大断面図
を示すように、セラミック基板101の一方の主面に、
モリブデン(Mo),マンガン(Mn),タングステン
(W)等の粉末に有機溶剤,溶媒を添加混合して得た金
属ペーストをスクリーン印刷法により印刷塗布し焼結す
ることによりメタライズ層102aを形成し、このメタ
ライズ層102aをセラミック基板101とCu層10
2bとの強固な接合媒体として機能させる構成もある。
なお、この場合、メタライズ層102aとCu層102
bとで電極102が構成される。
【0009】しかしながら、図4(b)に図4(a)の
要部拡大断面図を示すように、メタライズ層102aの
外周端の形状は、その厚さ,印刷塗布条件,焼結等の製
造条件によって、セラミック基板101と電極102と
の熱膨張差による熱応力を、メタライズ層102aの外
周端が十分に吸収し緩和させることが困難な形状となっ
ている。即ち、従来、メタライズ層102aの外周端は
外側に向かって凸の曲面、またはセラミック基板101
に対してほぼ垂直な面となっており、図3の場合よりも
セラミック基板101と電極102との接合強度は向上
するが、熱応力が発生した際に吸収し緩和させ難い。つ
まり、メタライズ層102aの外周端の接合部がセラミ
ック基板101に対してほぼ垂直になっているため、セ
ラミック基板101と電極102との間で発生した、セ
ラミック基板101の主面の面方向の熱応力によって、
メタライズ層102aの外周端が剥離し易くなっている
と考えられる。
【0010】第2に、セラミック基板101がより高温
になるに伴い、電極102の一部を構成するCu層10
2bもより高温となる。そのため、Cu層102bと熱
電素子103との熱膨張差による熱応力がより大きくな
り、Cu層102bと熱電素子103とが接合されてい
る部位を起点として、それらの間で剥がれが発生するこ
とがある。そのため、発熱体の熱が熱電素子103から
Cu層102bに効率良く伝わらず、その結果、発熱体
の熱が外部に効率良く伝達し難くなり発熱体の作動性が
劣化するという問題点があった。
【0011】上記のように、セラミック基板101と電
極102との間で発生した熱応力、および電極102と
熱電素子103との間で発生した熱応力により、それぞ
れセラミック基板101とメタライズ層102aとの間
の剥がれや、Cu層102bと熱電素子103との間の
剥がれが発生し、発熱体の熱を外部に効率良く伝達し難
くなり、発熱体の作動性が劣化するという問題点があっ
た。
【0012】従って、本発明は上記問題点に鑑み完成さ
れたものであり、その目的は、セラミック基板と電極と
の熱膨張差により発生する熱応力、および電極と熱電素
子との熱膨張差により発生する熱応力を、電極とセラミ
ック基板との接合部に集中させないことにより、光半導
体素子等の発熱体の熱を外部に効率良く伝達させ得る熱
電交換モジュール用セラミック基板を提供することにあ
る。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の熱電交換モジュ
ール用セラミック基板は、セラミック基板の一方の主面
に、メタライズ層上に銅層が積層されて成るとともに上
面に熱電素子が載置固定される電極がそれぞれ独立して
複数形成された熱電交換モジュール用セラミック基板に
おいて、前記電極は前記メタライズ層の外周端に全周に
わたってくぼんだ曲面から成る裾野部が形成されてお
り、前記セラミック基板は前記主面の前記電極の周囲が
前記裾野部に連続するくぼんだ曲面を有する裾野延長部
とされていることを特徴とする。
【0014】本発明は、上記の構成により、セラミック
基板と電極との熱膨張差により発生する熱応力、および
Cu層と熱電素子との熱膨張差により発生する熱応力
を、電極とセラミック基板との接合部に集中させず、電
極がセラミック基板から剥がれることを防ぐことができ
る。その結果、光半導体素子等の発熱体の熱を外部に効
率良く伝達できる。
【0015】本発明において、好ましくは、前記メタラ
イズ層の側面の上端から前記裾野延長部の下端までの高
さが10〜45μm、前記セラミック基板の前記主面に
平行な方向における前記メタライズ層の側面の上端から
前記裾野延長部の下端までの幅が10〜70μmである
ことを特徴とする。
【0016】本発明は、上記の構成により、熱応力を電
極とセラミック基板との接合部に集中させずに電極がセ
ラミック基板から剥がれることを防ぐという作用効果が
さらに向上したものとなる。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明の熱電交換モジュール用セ
ラミック基板を以下に詳細に説明する。図1および図2
は、本発明の熱電交換モジュール用セラミック基板につ
いて実施の形態の一例を示すものであり、図1は熱電交
換モジュール用セラミック基板の電極周辺部の断面図、
図2は図1の要部拡大断面図を示す。
【0018】図1において、1はセラミック基板、2は
メタライズ層2aと銅層2bとから成る電極、3は熱電
素子であり、これらセラミック基板1,電極2,熱電素
子3とで、光半導体素子等の発熱体が作動時に発する熱
を外部に効率良く伝える熱電交換モジュールが構成され
る。また、本発明の熱電交換モジュール用セラミック基
板は、セラミック基板1と電極2とにより構成される。
【0019】本発明のセラミック基板1は、アルミナ
(Al23)セラミックスや窒化アルミニウム(Al
N)セラミックス等のセラミックスから成り、その作製
方法は、原料粉末に適当な有機バインダや溶剤等を添加
混合しペースト状と成し、このペーストをドクターブレ
ード法やカレンダーロール法によってセラミックグリー
ンシートと成し、しかる後、セラミックグリーンシート
に適当な打ち抜き加工を施し、これを約1600℃の高
温で焼結するものである。
【0020】セラミック基板1の一方の主面には、ペル
チェ効果を利用してセラミック基板1を高温側または低
温側にするための、電圧印加用の複数の電極2が形成さ
れる。これらの電極2はそれぞれ独立しており、厚さが
5〜40μmであり、外周端に全周にわたってくぼんだ
曲面から成る裾野部が形成されたメタライズ層2aと、
その上面に積層されたCu層2bとから構成される。ま
た、このCu層2bは、熱電素子3が載置固定される上
面の外周端が、好ましくは全周にわたって上に凸の曲面
状とされている。このような電極2は、例えば以下の工
程[1]〜[4]のようにして作製される。
【0021】[1]セラミック基板1の一方の主面に、
W,Mo,Mn等の粉末に有機溶剤,溶媒を添加混合し
て得たメタライズ層2aと成る金属ペーストを、予め従
来周知のスクリーン印刷法により5〜40μmの厚さで
全面に印刷塗布し、約1300℃の高温で焼結する。
【0022】[2]焼結した金属ペーストの上面に、C
u層2bを形成しない部位にメッキレジストを約300
μm程度の厚さで施した後、電解Cuメッキをメッキレ
ジストの高さ(厚さ)よりも低い位置まで被着させ、そ
の後メッキレジストを剥離する。この工程により、全面
がメタライズ層2aから成る上面に、複数の独立したC
u層2bが形成されることとなる。
【0023】[3]複数の独立したCu層2bの周縁下
端の周辺部のみにメタライズ層2aが残存するように、
即ちCu層2bが互いに電気的に絶縁されるように、そ
れぞれのCu層2b間のメタライズ層2aとCu層2b
上面とをブラスト研磨する。その際、Cu層2b間のメ
タライズ層2aが研磨除去されてセラミック基板1の主
面の表面が露出した後もブラスト研磨を続行し、メタラ
イズ層2aの側面の上端から裾野延長部5の下端までの
高さが10〜45μm、セラミック基板1の主面に平行
な方向におけるメタライズ層2aの側面の上端から裾野
延長部5の下端までの幅が10〜70μmとなるように
ブラスト研磨する。ブラスト研磨は、平均粒径が約25
μmのAl23,SiC等のセラミック粉から成るブラ
スト材を、ノズル距離100mm,噴射圧力0.3MP
a(メガパスカル),噴射量160g/分,ノズル移動
速度50mm/秒の条件により吹き付けることによって
行われる。
【0024】[4]その後、水洗によりブラスト材を洗
浄し乾燥する。
【0025】電極2のメタライズ層2aはその外周端に
全周にわたってくぼんだ曲面から成る裾野部4が形成さ
れており、セラミック基板1は主面の電極2の周囲が裾
野部4に連続するくぼんだ曲面を有する裾野延長部5と
されていることにより、ペルチェ効果によってセラミッ
ク基板1が高温となった際にセラミック基板1とCu層
2bとの間の熱膨張差により熱応力が発生しても、セラ
ミック基板1と電極2との接合部に応力が集中しにく
い。そのため、セラミック基板1とメタライズ層2aと
の間で剥がれが発生しない。その結果、発熱体の熱を外
部に効率良く伝達し、発熱体の作動性を非常に良好なも
のとし得る。
【0026】なお、メタライズ層2aの側面の上端から
裾野延長部5の下端までの高さが10μm未満の場合、
メタライズ層2aからセラミック基板1に連続した裾野
部4および裾野延長部5の全体形状が小さくなるため、
セラミック基板1とCu層2bとの間の熱膨張差により
発生した熱応力が、メタライズ層2aとセラミック基板
1との接合部に集中することを防ぐ効果が小さくなる。
また、上記高さが45μmを超える場合、電極2間のセ
ラミック基板1の厚さが薄くなりすぎ、強度が低下して
熱電交換用モジュールとして構成した際の信頼性が低下
するようになる。
【0027】また、セラミック基板1の主面に平行な方
向におけるメタライズ層2aの側面の上端から裾野延長
部5の下端までの幅が10μm未満の場合、メタライズ
層2aからセラミック基板1に連続した裾野部4および
裾野延長部5の全体形状が小さくなるため、セラミック
基板1とCu層2bとの間の熱膨張差により発生した熱
応力が、メタライズ層2aとセラミック基板1との接合
部に集中することを防ぐ効果が小さくなる。また、上記
幅が70μmを超える場合、電極2間の間隔を大きくす
ることになり、セラミック基板1の外形寸法が大きくな
り、近時の熱電交換モジュールの小型軽量化といった動
向から外れる。
【0028】また、電極2間の間隔は0.1〜2mmが
よく、0.1mm未満では間隔が狭すぎるため、メタラ
イズ層2a同士が接触し電気的に接続される場合があ
る。一方、2mmを超えると、熱電交換モジュールが大
型化する。
【0029】このようなメタライズ層2a,Cu層2b
から成る電極2の上面には、酸化防止および半田接合性
を向上させるためにNiメッキ層,Auメッキ層が順次
被着されているのがよく、Sn−Ag系,Sn−Sb
系,Sn−Bi系,Sn−Pb系等の半田を介して、p
型,n型の熱電素子3が固着される。熱電素子3として
は、Bi2Te3,PbTe等の金属間化合物や、Si−
Ge系合金、Bi−Te系合金等を用いる。また、熱電
素子3と電極2との接合を強固なものとするために、熱
電素子3の表面にNiメッキ層,Snメッキ層,半田メ
ッキ層等を被着させておいても良い。
【0030】さらに、熱電素子3の下面側のセラミック
基板1が高温端の場合、熱電素子3の上面側に電極2の
形成されたセラミック基板1を低温端として接合するこ
とにより、外部の発熱体の熱を低温端のセラミック基板
1から熱電素子3を介して高温端のセラミック基板1、
そして外部へと効率良く伝えることのできる熱電交換モ
ジュールが作製できる。
【0031】そして、本発明の熱電交換モジュール用セ
ラミック基板と従来のもの(図4)について、メタライ
ズ層2a,102aの垂直上方への引っ張り強度(ピー
ル強度)を測定したところ、図4の従来例のメタライズ
層102aの引っ張り強度は約4.9N/cm2であっ
たのに対して、本発明のメタライズ層2aの引っ張り強
度は約14.7N/cm2と非常に大きいものであっ
た。
【0032】また、本発明の小型軽量の熱電交換モジュ
ールは、その上面に非常に発熱量の大きい発熱体を載置
固定し作動させた場合でも、本発明の電極を有する熱電
交換モジュール用セラミック基板により、発熱体の熱を
低温端のセラミック基板から熱電素子、電極、セラミッ
ク基板を介して外部に効率良く放散し得る信頼性の非常
に高いものとなる。
【0033】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種
々の変更を施すことは何等差し支えない。
【0034】
【発明の効果】本発明は、セラミック基板の一方の主面
に、メタライズ層上に銅層が積層されて成るとともに上
面に熱電素子が載置固定される電極がそれぞれ独立して
複数形成されたものにおいて、電極はメタライズ層の外
周端に全周にわたってくぼんだ曲面から成る裾野部が形
成されており、セラミック基板は主面の電極の周囲が裾
野部に連続するくぼんだ曲面を有する裾野延長部とされ
ていることにより、セラミック基板と電極との熱膨張差
により発生する熱応力、およびCu層と熱電素子との熱
膨張差により発生する熱応力を、電極とセラミック基板
との接合部に集中させず、電極がセラミック基板から剥
がれることを防ぐことができる。その結果、光半導体素
子等の発熱体の熱を外部に効率良く伝達できる。
【0035】本発明は、好ましくは、メタライズ層の側
面の上端から裾野延長部の下端までの高さが10〜45
μm、セラミック基板の主面に平行な方向におけるメタ
ライズ層の側面の上端から裾野延長部の下端までの幅が
10〜70μmであることにより、熱応力を電極とセラ
ミック基板との接合部に集中させずに電極がセラミック
基板から剥がれることを防ぐという作用効果がさらに向
上したものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の熱電交換モジュール用セラミック基板
について実施の形態の一例を示す電極周辺部の断面図で
ある。
【図2】図1の熱電交換モジュール用セラミック基板の
電極の要部拡大断面図である。
【図3】従来の熱電交換モジュール用セラミック基板の
電極周辺部の断面図である。
【図4】(a)は図3の電極周辺部の拡大断面図であ
り、(b)は(a)の電極の要部拡大断面図である。
【符号の説明】
1:セラミック基板 2:電極 2a:メタライズ層 2b:銅層 3:熱電素子 4:裾野部 5:裾野延長部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01S 5/024 H01L 23/12 D

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミック基板の一方の主面に、メタラ
    イズ層上に銅層が積層されて成るとともに上面に熱電素
    子が載置固定される電極がそれぞれ独立して複数形成さ
    れた熱電交換モジュール用セラミック基板において、前
    記電極は前記メタライズ層の外周端に全周にわたってく
    ぼんだ曲面から成る裾野部が形成されており、前記セラ
    ミック基板は前記主面の前記電極の周囲が前記裾野部に
    連続するくぼんだ曲面を有する裾野延長部とされている
    ことを特徴とする熱電交換モジュール用セラミック基
    板。
  2. 【請求項2】 前記メタライズ層の側面の上端から前記
    裾野延長部の下端までの高さが10〜45μm、前記セ
    ラミック基板の前記主面に平行な方向における前記メタ
    ライズ層の側面の上端から前記裾野延長部の下端までの
    幅が10〜70μmであることを特徴とする請求項1記
    載の熱電交換モジュール用セラミック基板。
JP2001363239A 2001-11-28 2001-11-28 熱電交換モジュール用セラミック基板 Expired - Fee Related JP3798973B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001363239A JP3798973B2 (ja) 2001-11-28 2001-11-28 熱電交換モジュール用セラミック基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001363239A JP3798973B2 (ja) 2001-11-28 2001-11-28 熱電交換モジュール用セラミック基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003163384A true JP2003163384A (ja) 2003-06-06
JP3798973B2 JP3798973B2 (ja) 2006-07-19

Family

ID=19173614

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001363239A Expired - Fee Related JP3798973B2 (ja) 2001-11-28 2001-11-28 熱電交換モジュール用セラミック基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3798973B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014175459A1 (ja) * 2013-04-26 2014-10-30 京セラ株式会社 複合積層体および電子装置
JP6375086B1 (ja) * 2017-02-23 2018-08-15 日本碍子株式会社 絶縁放熱基板
WO2018155014A1 (ja) * 2017-02-23 2018-08-30 日本碍子株式会社 絶縁放熱基板

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014175459A1 (ja) * 2013-04-26 2014-10-30 京セラ株式会社 複合積層体および電子装置
JPWO2014175459A1 (ja) * 2013-04-26 2017-02-23 京セラ株式会社 複合積層体および電子装置
JP6375086B1 (ja) * 2017-02-23 2018-08-15 日本碍子株式会社 絶縁放熱基板
WO2018155014A1 (ja) * 2017-02-23 2018-08-30 日本碍子株式会社 絶縁放熱基板
US10879141B2 (en) 2017-02-23 2020-12-29 Ngk Insulators, Ltd. Insulated heat dissipation substrate

Also Published As

Publication number Publication date
JP3798973B2 (ja) 2006-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4969589B2 (ja) ペルチェ素子精製プロセスとペルチェ素子
KR100940164B1 (ko) 서브마운트 및 반도체 장치
TW583722B (en) Circuit board and method for manufacturing same
JP6816776B2 (ja) 半導体装置
JP2000100869A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3798973B2 (ja) 熱電交換モジュール用セラミック基板
JP2021007182A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP3566670B2 (ja) 熱電交換モジュール用セラミック基板
CN108369912B (zh) 半导体装置及其制造方法
JP2004063794A (ja) 熱電交換モジュール用セラミック基板
JP2005340559A (ja) 熱電交換モジュール用セラミック基板
JP2003017759A (ja) 熱電交換モジュール用セラミック基板
JP2003100924A (ja) 半導体装置
EP1274125A2 (en) Circuit board, method for manufacturing same, and high-output module
JP4313964B2 (ja) 熱電交換モジュール用セラミック基板
JP2005340565A (ja) 熱電交換モジュール用セラミック基板
JP2004259770A (ja) 熱電交換モジュール用セラミック基板
JP4471470B2 (ja) 半導体装置
JP3619393B2 (ja) 光半導体素子収納用パッケージ
JP3840132B2 (ja) ペルチェ素子搭載用配線基板
JP3798917B2 (ja) 押圧加熱型ヒータ
JP3407536B2 (ja) 窒化物半導体素子
JP2004140250A (ja) 熱電交換モジュール用セラミック基板
JP2003249695A (ja) 熱電交換モジュール
JP2004296901A (ja) 熱電モジュール

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040518

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051221

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060418

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060421

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees