JP2003039001A - ペースト塗布機とパターン塗布方法 - Google Patents
ペースト塗布機とパターン塗布方法Info
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- JP2003039001A JP2003039001A JP2001228331A JP2001228331A JP2003039001A JP 2003039001 A JP2003039001 A JP 2003039001A JP 2001228331 A JP2001228331 A JP 2001228331A JP 2001228331 A JP2001228331 A JP 2001228331A JP 2003039001 A JP2003039001 A JP 2003039001A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板でのペーストパターンの塗布描画条件が
自動的に入力できるようにし、オペレータによる入力作
業の手間を省き、入力ミスの発生を防止する。 【解決手段】 基板9の表面には、ペーストパターンP
P1〜PP6が塗布描画されない領域に、予め塗布描画
されるべきペーストパターンPP1〜PP6に対する塗
布描画条件DAが記録されており、かかる基板9をペー
スト塗布機に搭載してペーストパターンPP1〜PP6
を描画する前に、ペースト塗布機にに設けられている画
像認識カメラでこの基板9から塗布描画条件DAを読み
取り、塗布描画条件DAをもとに、基板9にペーストパ
ターンPP1〜PP6を描画する。
自動的に入力できるようにし、オペレータによる入力作
業の手間を省き、入力ミスの発生を防止する。 【解決手段】 基板9の表面には、ペーストパターンP
P1〜PP6が塗布描画されない領域に、予め塗布描画
されるべきペーストパターンPP1〜PP6に対する塗
布描画条件DAが記録されており、かかる基板9をペー
スト塗布機に搭載してペーストパターンPP1〜PP6
を描画する前に、ペースト塗布機にに設けられている画
像認識カメラでこの基板9から塗布描画条件DAを読み
取り、塗布描画条件DAをもとに、基板9にペーストパ
ターンPP1〜PP6を描画する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ペースト塗布機に
係り、特に、基板に形成記録された塗布条件情報に基づ
いてペーストパターンの塗布描画を行なうペースト塗布
機に関する。
係り、特に、基板に形成記録された塗布条件情報に基づ
いてペーストパターンの塗布描画を行なうペースト塗布
機に関する。
【0002】
【従来の技術】特開平10−107412号公報には、
予め設定されている塗布条件情報をキーボードなどのデ
ータ入力手段により直接入力するようにしたペースト塗
布機が開示されている。
予め設定されている塗布条件情報をキーボードなどのデ
ータ入力手段により直接入力するようにしたペースト塗
布機が開示されている。
【0003】また、ペースト塗布機では、装置本体とは
別に設けられたパーソナルコンピュータ(PC)から、
通信手段により、データをダウンロードするといった方
法が一般的に行なわれている。さらに、ペーストパター
ン位置情報などは、CADデータからデータ変換を行な
ってペースト塗布機にダウンロードすることも行なわれ
ている。
別に設けられたパーソナルコンピュータ(PC)から、
通信手段により、データをダウンロードするといった方
法が一般的に行なわれている。さらに、ペーストパター
ン位置情報などは、CADデータからデータ変換を行な
ってペースト塗布機にダウンロードすることも行なわれ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来技
術では、段取替え作業の1つとしてオペレータによる操
作によって実施されるため、熟練を要したり、操作ミス
が発生するなど、生産性を向上させる上で問題があっ
た。
術では、段取替え作業の1つとしてオペレータによる操
作によって実施されるため、熟練を要したり、操作ミス
が発生するなど、生産性を向上させる上で問題があっ
た。
【0005】本発明の目的は、かかる問題を解消し、オ
ペレータによる段取替え作業の1つとして行なわれるペ
ーストパターンの塗布描画条件の入力作業を自動化し、
オペレータの操作ミスなどを防止して生産性の向上を図
ることができるようにしたペースト塗布機とペースト塗
布方法を提供することにある。
ペレータによる段取替え作業の1つとして行なわれるペ
ーストパターンの塗布描画条件の入力作業を自動化し、
オペレータの操作ミスなどを防止して生産性の向上を図
ることができるようにしたペースト塗布機とペースト塗
布方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ペーストパターンを塗布描画するための
条件や位置情報などのペースト塗布情報が形成(記録)
された基板から、ペーストパターンの情報として、塗布
描画位置や塗布条件といった情報を読み取って格納し、
格納したかかる情報をもとに、該基板にペーストパター
ンを塗布描画する構成とするものである。
に、本発明は、ペーストパターンを塗布描画するための
条件や位置情報などのペースト塗布情報が形成(記録)
された基板から、ペーストパターンの情報として、塗布
描画位置や塗布条件といった情報を読み取って格納し、
格納したかかる情報をもとに、該基板にペーストパター
ンを塗布描画する構成とするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を用いて説明する。図1は本発明によるペースト塗
布機の一実施形態を示す斜視図であって、1は架台、2
はZ軸テーブル支持架台、3はX軸移動テーブル、4は
X軸サーボモータ、5はY軸移動テーブル、6はY軸サ
ーボモータ、7は基板保持機構、8はθ軸移動テーブ
ル、9は基板、10はZ軸移動テーブル支持ブラケッ
ト、11はZ軸移動テーブル、12はZ軸サーボモー
タ、13はペースト収納筒、14はノズル支持具、15
は画像認識カメラ、16は距離計、17は主制御部、1
8は副制御部、18aは外部記憶装置としてのハードデ
ィスク、18bは外部記憶装置としてのフロッピディス
ク、19はモニタ、20はキーボード、21はケーブ
ル、22はノズル清掃ユニット、23は基板テーブルで
ある。
図面を用いて説明する。図1は本発明によるペースト塗
布機の一実施形態を示す斜視図であって、1は架台、2
はZ軸テーブル支持架台、3はX軸移動テーブル、4は
X軸サーボモータ、5はY軸移動テーブル、6はY軸サ
ーボモータ、7は基板保持機構、8はθ軸移動テーブ
ル、9は基板、10はZ軸移動テーブル支持ブラケッ
ト、11はZ軸移動テーブル、12はZ軸サーボモー
タ、13はペースト収納筒、14はノズル支持具、15
は画像認識カメラ、16は距離計、17は主制御部、1
8は副制御部、18aは外部記憶装置としてのハードデ
ィスク、18bは外部記憶装置としてのフロッピディス
ク、19はモニタ、20はキーボード、21はケーブ
ル、22はノズル清掃ユニット、23は基板テーブルで
ある。
【0008】図1において、架台1上には、Y軸移動テ
ーブル5をX軸方向に移動させるX軸移動機構を備えた
X軸移動テーブル3が設けられ、Y軸移動テーブル5上
には、基板テーブル23をX軸方向に直交するY軸方向
に移動させるY軸移動機構が設けられている。この基板
テーブル23上には、θ軸移動テーブル8がθ軸方向に
回転可能に設置されており、さらに、このθ軸移動テー
ブル8上に基板9を保持する基板保持機構7を設けられ
ている。また、基板テーブル23上にノズル清掃ユニッ
ト22も設けられている。
ーブル5をX軸方向に移動させるX軸移動機構を備えた
X軸移動テーブル3が設けられ、Y軸移動テーブル5上
には、基板テーブル23をX軸方向に直交するY軸方向
に移動させるY軸移動機構が設けられている。この基板
テーブル23上には、θ軸移動テーブル8がθ軸方向に
回転可能に設置されており、さらに、このθ軸移動テー
ブル8上に基板9を保持する基板保持機構7を設けられ
ている。また、基板テーブル23上にノズル清掃ユニッ
ト22も設けられている。
【0009】Y軸移動テーブル5は、X軸移動テーブル
3上に設けられているX軸サーボモータ4の駆動によっ
てボールねじが正転あるいは逆回転(正逆転)すること
により、X軸方向に水平に移動する。また、θ軸移動テ
ーブル8や基板保持機構7を載置し、また、ノズル清掃
ユニット22が設けられている基板テーブル23が、Y
軸移動テーブル5上に設けられているY軸サーボモータ
6の駆動によってボールねじが正逆転することにより、
Y軸方向に水平に移動する。
3上に設けられているX軸サーボモータ4の駆動によっ
てボールねじが正転あるいは逆回転(正逆転)すること
により、X軸方向に水平に移動する。また、θ軸移動テ
ーブル8や基板保持機構7を載置し、また、ノズル清掃
ユニット22が設けられている基板テーブル23が、Y
軸移動テーブル5上に設けられているY軸サーボモータ
6の駆動によってボールねじが正逆転することにより、
Y軸方向に水平に移動する。
【0010】また、架台1には、Z軸テーブル支持架台
2が設けられており、このZ軸テーブル支持架台2にZ
軸移動テーブル支持ブラケット10が固定されている。
そして、このZ軸移動テーブル支持ブラケット10にZ
軸移動テーブル11が取り付けられており、Z軸移動テ
ーブル11には、ペースト収納筒13や距離計16,画
像認識カメラ15が支持、固定して設けられ、Z軸移動
テーブル11に設けられているZ軸サーボモータ12が
これらペースト収納筒13や距離計16をZ軸方向に移
動させる。また、ペースト収納筒13は図示しないリニ
ヤガイドの可動部に着脱自在に取り付けられており、こ
のペースト収納筒13の下端部に、ノズル支持具14を
介して図示しないノズルが取り付けられている。
2が設けられており、このZ軸テーブル支持架台2にZ
軸移動テーブル支持ブラケット10が固定されている。
そして、このZ軸移動テーブル支持ブラケット10にZ
軸移動テーブル11が取り付けられており、Z軸移動テ
ーブル11には、ペースト収納筒13や距離計16,画
像認識カメラ15が支持、固定して設けられ、Z軸移動
テーブル11に設けられているZ軸サーボモータ12が
これらペースト収納筒13や距離計16をZ軸方向に移
動させる。また、ペースト収納筒13は図示しないリニ
ヤガイドの可動部に着脱自在に取り付けられており、こ
のペースト収納筒13の下端部に、ノズル支持具14を
介して図示しないノズルが取り付けられている。
【0011】また、画像認識手段としての画像認識カメ
ラ15は、図示しない照明の可能な光源を備えた鏡筒を
有しており、基板保持機構7に載置された基板9の位置
合わせやこの基板9上に塗布描画されたペーストパター
ンの形状認識などのために、基板9に対向して設けられ
ている。
ラ15は、図示しない照明の可能な光源を備えた鏡筒を
有しており、基板保持機構7に載置された基板9の位置
合わせやこの基板9上に塗布描画されたペーストパター
ンの形状認識などのために、基板9に対向して設けられ
ている。
【0012】架台1の内部には、X軸サーボモータ4や
Y軸サーボモータ6、Z軸サーボモータ12、さらに
は、図示しないが、θ軸移動テーブル8を回転させるた
めのθ軸サーボモータなどを制御する主制御部17が設
けられている。この主制御部17はケーブル21を介し
て副制御部18に接続されている。副制御部18には、
モニタ19やキーボード20,外部記憶装置であるハー
ドディスク18a,プロッピディスク18bなどが接続
されている。キーボード20からは、主制御部17が行
なう各種処理のためのデータが入力される。また、モニ
タ19には、画像認識カメラ15で捉えた画像情報や主
制御部17での処理状況が表示される。なお、キーボー
ド20から入力されたデータなどは、外部記憶装置であ
るハードディスク18aやフロッピディスク18bなど
の記憶媒体に記憶保管される。
Y軸サーボモータ6、Z軸サーボモータ12、さらに
は、図示しないが、θ軸移動テーブル8を回転させるた
めのθ軸サーボモータなどを制御する主制御部17が設
けられている。この主制御部17はケーブル21を介し
て副制御部18に接続されている。副制御部18には、
モニタ19やキーボード20,外部記憶装置であるハー
ドディスク18a,プロッピディスク18bなどが接続
されている。キーボード20からは、主制御部17が行
なう各種処理のためのデータが入力される。また、モニ
タ19には、画像認識カメラ15で捉えた画像情報や主
制御部17での処理状況が表示される。なお、キーボー
ド20から入力されたデータなどは、外部記憶装置であ
るハードディスク18aやフロッピディスク18bなど
の記憶媒体に記憶保管される。
【0013】なお、基板テーブル23には、清掃材が貼
り付けられているなどしたノズル清掃ユニット22が設
けられており、後述するペーストパターンの塗布描画が
終了したときには、ノズルの先端のペースト吐出口をこ
のノズル清掃ユニット22に触らせるなどして、このペ
ースト吐出口に付着しているペーストの残りを取り去る
ことができるようにしている。
り付けられているなどしたノズル清掃ユニット22が設
けられており、後述するペーストパターンの塗布描画が
終了したときには、ノズルの先端のペースト吐出口をこ
のノズル清掃ユニット22に触らせるなどして、このペ
ースト吐出口に付着しているペーストの残りを取り去る
ことができるようにしている。
【0014】また、ここでは、基板9側をノズルに対し
て移動させることにより、基板9とノズルとの間の相対
位置関係を変化させるようにしたが、基板9に対してノ
ズル側を移動させるようにしてもよい。
て移動させることにより、基板9とノズルとの間の相対
位置関係を変化させるようにしたが、基板9に対してノ
ズル側を移動させるようにしてもよい。
【0015】図2は図1におけるペースト収納筒13と
距離計16との部分を拡大して示す斜視図であって、1
3aはノズルであり、図1に対応する部分には同一符号
をつけている。
距離計16との部分を拡大して示す斜視図であって、1
3aはノズルであり、図1に対応する部分には同一符号
をつけている。
【0016】同図において、距離計16には、下端部に
三角形の切込部が設けられ、この切込部に発光素子と複
数の受光素子とが設けられている。ノズル収納筒13に
は、ノズル支持具14を介してノズル13aが設けてお
り、ノズル13aは距離計16の切込部の下部に位置付
けられている。また、図示していないが、ノズル収納筒
13からノズル支持具14やノズル13aの内部を通
り、ノズル13aの先端のペースト吐出口に至るペース
ト通流路が設けている。
三角形の切込部が設けられ、この切込部に発光素子と複
数の受光素子とが設けられている。ノズル収納筒13に
は、ノズル支持具14を介してノズル13aが設けてお
り、ノズル13aは距離計16の切込部の下部に位置付
けられている。また、図示していないが、ノズル収納筒
13からノズル支持具14やノズル13aの内部を通
り、ノズル13aの先端のペースト吐出口に至るペース
ト通流路が設けている。
【0017】距離計16は、ノズル13aの先端部から
ガラスからなる基板9の表面(上面)までの距離(以
下、ノズル13aの高さという)を非接触の三角測法で
計測する。即ち、ノズル13aの三角形状の切込部での
片側の斜面部に発光素子が設けられ、他方の斜面に設け
られた複数の受光素子が設けられている。発光素子から
放射されたレーザ光Lが基板9上の計測点Sに照射さ
れ、そこで反射されたレーザ光は、ノズル13aの高さ
に応じて複数の受光素子のうちのいずれかで受光され
る。従って、レーザ光Lはペースト収納筒13やノズル
13aで遮られることはない。
ガラスからなる基板9の表面(上面)までの距離(以
下、ノズル13aの高さという)を非接触の三角測法で
計測する。即ち、ノズル13aの三角形状の切込部での
片側の斜面部に発光素子が設けられ、他方の斜面に設け
られた複数の受光素子が設けられている。発光素子から
放射されたレーザ光Lが基板9上の計測点Sに照射さ
れ、そこで反射されたレーザ光は、ノズル13aの高さ
に応じて複数の受光素子のうちのいずれかで受光され
る。従って、レーザ光Lはペースト収納筒13やノズル
13aで遮られることはない。
【0018】また、基板9上でのレーザ光Lの計測点S
とノズル13aの直下の位置から基板9上で僅かな距離
ΔX,YだけX軸,Y軸方向にずれるが、この僅かな距
離ΔX,ΔY程度のずれでは、基板9の表面の凹凸に差
がないので、距離計16の計測結果とノズル13aの先
端部から基板28の表面(上面)までの距離(即ち、ノ
ズル13aの高さ)との間に差は殆ど存在しない。従っ
て、距離計16の計測結果に基いてZ軸サーボモータ1
2(図1)を制御することにより、基板9の表面の凹凸
(うねり)に合わせてノズル13aの高さを一定に維持
することができる。
とノズル13aの直下の位置から基板9上で僅かな距離
ΔX,YだけX軸,Y軸方向にずれるが、この僅かな距
離ΔX,ΔY程度のずれでは、基板9の表面の凹凸に差
がないので、距離計16の計測結果とノズル13aの先
端部から基板28の表面(上面)までの距離(即ち、ノ
ズル13aの高さ)との間に差は殆ど存在しない。従っ
て、距離計16の計測結果に基いてZ軸サーボモータ1
2(図1)を制御することにより、基板9の表面の凹凸
(うねり)に合わせてノズル13aの高さを一定に維持
することができる。
【0019】このようにして、ノズル13aの高さは一
定に維持され、かつ、ノズル13aの吐出口から吐出さ
れる単位時間当りのペースト量が定量に維持されること
により、基板9上に塗布描画されるペーストパターンは
幅や厚さが一様になる。
定に維持され、かつ、ノズル13aの吐出口から吐出さ
れる単位時間当りのペースト量が定量に維持されること
により、基板9上に塗布描画されるペーストパターンは
幅や厚さが一様になる。
【0020】次に、この実施形態における制御方法につ
いて説明する。
いて説明する。
【0021】図3は図1における主制御部1の構成とそ
の制御系統の一具体例を示すブロック図であって、8a
はθ軸サーボモータ、17aはマイクロコンピュータ、
17bはモータコントローラ、17cはデータ通信バ
ス、17dは外部インターフェース、17eは画像処理
装置、17f〜17iはドライバ、24は負圧源、25
は正圧源、24a,25aはレギュレータ、26はバル
ブユニット、27は大気であり、図1に対応する部分に
は同一符号を付けて重複する説明を省略する。
の制御系統の一具体例を示すブロック図であって、8a
はθ軸サーボモータ、17aはマイクロコンピュータ、
17bはモータコントローラ、17cはデータ通信バ
ス、17dは外部インターフェース、17eは画像処理
装置、17f〜17iはドライバ、24は負圧源、25
は正圧源、24a,25aはレギュレータ、26はバル
ブユニット、27は大気であり、図1に対応する部分に
は同一符号を付けて重複する説明を省略する。
【0022】同図において、主制御部17は、マイクロ
コンピュータ17aやドライバ17f〜17iを制御す
るモータコントローラ17b,画像認識カメラ15で得
られる映像信号を処理する画像処理装置17e,外部イ
ンターフェース17dが内蔵されており、これらがデー
タ通信バス17cによって互いに接続されている。ここ
で、外部インターフェース17dは、副制御部18との
間の信号伝送やレギュレータ24a,25aの制御、バ
ルブユニット26の制御、距離計16との入出力を行な
う。
コンピュータ17aやドライバ17f〜17iを制御す
るモータコントローラ17b,画像認識カメラ15で得
られる映像信号を処理する画像処理装置17e,外部イ
ンターフェース17dが内蔵されており、これらがデー
タ通信バス17cによって互いに接続されている。ここ
で、外部インターフェース17dは、副制御部18との
間の信号伝送やレギュレータ24a,25aの制御、バ
ルブユニット26の制御、距離計16との入出力を行な
う。
【0023】また、マイクロコンピュータ17aには、
図示しないが、主演算部や後述する塗布描画を行なうた
めの処理プログラムを格納したROM、主演算部での処
理結果や外部インターフェース17d及びモータコント
ローラ17bからの入力データを格納するRAM、外部
インターフェース17dやモ−タコントローラ17bと
データをやり取りする入出力部などを備えている。
図示しないが、主演算部や後述する塗布描画を行なうた
めの処理プログラムを格納したROM、主演算部での処
理結果や外部インターフェース17d及びモータコント
ローラ17bからの入力データを格納するRAM、外部
インターフェース17dやモ−タコントローラ17bと
データをやり取りする入出力部などを備えている。
【0024】θ軸サーボモータ8aはθ軸移動テーブル
8(図1)を回転させるものであり、このθ軸サーボモ
ータ8aやX軸サーボモータ4,Y軸サーボモータ6,
Z軸サーボモータ12には、回転量を検出するエンコー
ダEが内蔵されている。ドライバ17fはX軸サーボモ
ータ4を、ドライバ17gはY軸サーボモータ6を、ド
ライバ17hはθ軸サーボモータ8aを、ドライバ17
iはZ軸サーボモータ12を夫々、モータコントローラ
17bの制御のもとに、駆動するものであって、夫々エ
ンコーダEの検出結果を取り込んでこれらサーボモータ
4,6,8a,12によって移動する各テーブル5,2
3,8,11の位置制御を行なう。
8(図1)を回転させるものであり、このθ軸サーボモ
ータ8aやX軸サーボモータ4,Y軸サーボモータ6,
Z軸サーボモータ12には、回転量を検出するエンコー
ダEが内蔵されている。ドライバ17fはX軸サーボモ
ータ4を、ドライバ17gはY軸サーボモータ6を、ド
ライバ17hはθ軸サーボモータ8aを、ドライバ17
iはZ軸サーボモータ12を夫々、モータコントローラ
17bの制御のもとに、駆動するものであって、夫々エ
ンコーダEの検出結果を取り込んでこれらサーボモータ
4,6,8a,12によって移動する各テーブル5,2
3,8,11の位置制御を行なう。
【0025】まず、サーボモータ4,6,8a,12
が、キーボード20から入力されてマイクロコンピュー
タ17aのRAMに格納されているデータに基いて正逆
回転する。これにより、基板保持機構7に保持された基
板9が、Z軸移動テーブル11に支持されているノズル
13aに対し、X,Y軸方向に任意の距離を移動する。
その移動中、ペースト収納筒13に正圧源25からレギ
ュレータ25a及びバルブユニット26を介して僅かな
気圧が継続して印加される。これにより、ノズル13a
の先端部のペースト吐出口からペーストが吐出され、基
板9に所望のペーストパターンが塗布描画される。
が、キーボード20から入力されてマイクロコンピュー
タ17aのRAMに格納されているデータに基いて正逆
回転する。これにより、基板保持機構7に保持された基
板9が、Z軸移動テーブル11に支持されているノズル
13aに対し、X,Y軸方向に任意の距離を移動する。
その移動中、ペースト収納筒13に正圧源25からレギ
ュレータ25a及びバルブユニット26を介して僅かな
気圧が継続して印加される。これにより、ノズル13a
の先端部のペースト吐出口からペーストが吐出され、基
板9に所望のペーストパターンが塗布描画される。
【0026】距離計16は、基板保持機構7に保持され
ている基板9がX,Y軸方向に水平移動中、ノズル13
aの高さを計測する。Z軸ドライバ17iは、この計測
結果を用いて、サーボモータ12を駆動制御し、ノズル
13aの高さを常に一定に維持する。
ている基板9がX,Y軸方向に水平移動中、ノズル13
aの高さを計測する。Z軸ドライバ17iは、この計測
結果を用いて、サーボモータ12を駆動制御し、ノズル
13aの高さを常に一定に維持する。
【0027】次に、図4により、この実施形態での装置
の動作について説明する。
の動作について説明する。
【0028】図4において、電源が投入されると(ステ
ップ100)、まず、ペースト塗布機の初期設定が実行
される(ステップ200)。この初期設定工程では、図
1において、サーボモータ4,6,8aを駆動すること
により、基板保持機構7をX,Y,θ方向に移動させて
所定の基準位置に位置決めする。さらに、サーボモータ
12を駆動して、ノズル13aを、そのペースト吐出口
がペースト塗布を開始する位置(即ち、ペースト塗布開
始点)となるように、所定の原点位置に設定する。さら
に、前回ペースト塗布機を停止したときに設定されてい
た品種のペーストパターンの塗布に関係する全てのデー
タや基板位置データの設定を行なうものである。
ップ100)、まず、ペースト塗布機の初期設定が実行
される(ステップ200)。この初期設定工程では、図
1において、サーボモータ4,6,8aを駆動すること
により、基板保持機構7をX,Y,θ方向に移動させて
所定の基準位置に位置決めする。さらに、サーボモータ
12を駆動して、ノズル13aを、そのペースト吐出口
がペースト塗布を開始する位置(即ち、ペースト塗布開
始点)となるように、所定の原点位置に設定する。さら
に、前回ペースト塗布機を停止したときに設定されてい
た品種のペーストパターンの塗布に関係する全てのデー
タや基板位置データの設定を行なうものである。
【0029】かかるデータの入力はキーボード20(図
1)から行なわれ、入力されたデータは、前述したよう
に、マイクロコンピュータ17a(図3)に内蔵された
RAMに格納される。
1)から行なわれ、入力されたデータは、前述したよう
に、マイクロコンピュータ17a(図3)に内蔵された
RAMに格納される。
【0030】この初期設定工程(ステップ200)が終
了すると、次に、基板9を搬入して基板保持機構7(図
1)に搭載して保持させる(ステップ300)。
了すると、次に、基板9を搬入して基板保持機構7(図
1)に搭載して保持させる(ステップ300)。
【0031】以上の工程が終了すると、次に、塗布描画
条件読込み処理(ステップ400)を実行する。
条件読込み処理(ステップ400)を実行する。
【0032】ここで、この塗布描画条件読込み処理を図
面を用いて説明する。図5はペーストパターンを塗布描
画する基板9の一具体例を示す平面図であり、PP1〜
PP6は塗布描画するペーストパターン、DAはペース
トパターンの塗布描画条件である。この実施形態では、
同一基板9上に複数の略同一形状のペーストパターンP
P1〜PP6を描くものとする。
面を用いて説明する。図5はペーストパターンを塗布描
画する基板9の一具体例を示す平面図であり、PP1〜
PP6は塗布描画するペーストパターン、DAはペース
トパターンの塗布描画条件である。この実施形態では、
同一基板9上に複数の略同一形状のペーストパターンP
P1〜PP6を描くものとする。
【0033】図5において、基板9上には、塗布描画し
ようとするペーストパターンPP1〜PP6の塗布描画
条件DAが記録されている。このペーストパターンの塗
布描画条件DAは、基板9上のペーストパターンが塗布
描画されない領域に記録形成されている。
ようとするペーストパターンPP1〜PP6の塗布描画
条件DAが記録されている。このペーストパターンの塗
布描画条件DAは、基板9上のペーストパターンが塗布
描画されない領域に記録形成されている。
【0034】図6はかかる塗布描画条件DAの内容の一
具体例を示す図である。
具体例を示す図である。
【0035】同図において、塗布描画条件DAには、次
の5つの項目、即ち、ペーストパターンの総合情報PD
1,配置情報PD2,検査情報PD3,ペーストパター
ンの形状情報PD4及び塗布条件情報PD5が含まれ
る。
の5つの項目、即ち、ペーストパターンの総合情報PD
1,配置情報PD2,検査情報PD3,ペーストパター
ンの形状情報PD4及び塗布条件情報PD5が含まれ
る。
【0036】ペーストパターンの総合情報PD1は、基
板の種類との関係で塗布するペーストパターンの品種に
関するデータであり、配置情報PD2は、基板上に塗布
するペーストパターンの開始位置データ及び塗布順序デ
ータなどからなるものである。検査情報PD3は、基板
上に塗布したペーストパターンを検査するための条件デ
ータ(例えば、計測項目として、幅、高さ、周囲長、計
測ピッチ、計測位置、検査処理条件など)であり、ペー
ストパターンの形状情報PD4は、基板上に塗布するペ
ーストパターンの形状データ(頂点座標データ)であ
る。塗布条件情報PD5は、基板上に塗布するペースト
パターンの塗布条件のデータ(例えば、塗布速度や塗布
圧力,ノズルギャップ,塗布条件切替え位置データと有
効無効設定データなど)である。これらの情報の基板へ
の記録は、レーザ描画,インクジェット印刷,フォトリ
ソプロセスなどによって行なわれる。
板の種類との関係で塗布するペーストパターンの品種に
関するデータであり、配置情報PD2は、基板上に塗布
するペーストパターンの開始位置データ及び塗布順序デ
ータなどからなるものである。検査情報PD3は、基板
上に塗布したペーストパターンを検査するための条件デ
ータ(例えば、計測項目として、幅、高さ、周囲長、計
測ピッチ、計測位置、検査処理条件など)であり、ペー
ストパターンの形状情報PD4は、基板上に塗布するペ
ーストパターンの形状データ(頂点座標データ)であ
る。塗布条件情報PD5は、基板上に塗布するペースト
パターンの塗布条件のデータ(例えば、塗布速度や塗布
圧力,ノズルギャップ,塗布条件切替え位置データと有
効無効設定データなど)である。これらの情報の基板へ
の記録は、レーザ描画,インクジェット印刷,フォトリ
ソプロセスなどによって行なわれる。
【0037】図4のステップ400では、基板9上に記
録されているかかる塗布描画条件DAの各データをヘッ
ド部(図1でのペースト収納筒13やノズル13aなど
からなる部分)に取り付けられた画像認識カメラ15で
読み取り、マイクロコンピュータ17a(図3)に内蔵
のRAM及び図3でのハードディスク18aやフロッピ
ディスク18bなとの外部記憶装置に格納する。つま
り、ここでは、後述する図4のステップ600で行なわ
れるペーストパターン塗布描画の際に必要なデータを、
所定の形式に変換して、かかるRAMや外部記憶装置に
格納する。
録されているかかる塗布描画条件DAの各データをヘッ
ド部(図1でのペースト収納筒13やノズル13aなど
からなる部分)に取り付けられた画像認識カメラ15で
読み取り、マイクロコンピュータ17a(図3)に内蔵
のRAM及び図3でのハードディスク18aやフロッピ
ディスク18bなとの外部記憶装置に格納する。つま
り、ここでは、後述する図4のステップ600で行なわ
れるペーストパターン塗布描画の際に必要なデータを、
所定の形式に変換して、かかるRAMや外部記憶装置に
格納する。
【0038】他の方法として、塗布描画条件DAの内容
を簡略することも可能である。その方法を図7及び図8
を用いて説明する。なお、図7はペーストパターンを塗
布描画する基板に記録されている簡略化された塗布描画
条件DAを示す図であり、図8はかかる塗布描画条件D
Aをもとに塗布描画されたペーストパターンPP1の一
具体例を示す拡大図である。
を簡略することも可能である。その方法を図7及び図8
を用いて説明する。なお、図7はペーストパターンを塗
布描画する基板に記録されている簡略化された塗布描画
条件DAを示す図であり、図8はかかる塗布描画条件D
Aをもとに塗布描画されたペーストパターンPP1の一
具体例を示す拡大図である。
【0039】なお、この場合でも、基板9の表面には、
図5に示すように、塗布描画条件DAが記録されている
のであるが、この塗布描画条件DAが簡略化されている
ものとなっている。
図5に示すように、塗布描画条件DAが記録されている
のであるが、この塗布描画条件DAが簡略化されている
ものとなっている。
【0040】この方法は、図8に示すように、ペースト
パターン毎の形状情報(位置情報)を、基板上の実際に
塗布描画する位置にユニークなマークで形成しておくも
のである。これを、ヘッド部に取り付けられた画像認識
カメラ15(図1)により認識し、上記のRAMや外部
記憶装置に格納する。このようにして得られた塗布描画
条件DAは図7に示すものであり、図6に示した塗布描
画条件DAに対し、ペーストパターンの形状情報(形状
データ)PD4が省略されたものとなっている。ここ
で、図8では、ペーストパターンの塗布開始位置を▼マ
ークSPで、塗布終了位置を▲マークEPで表わし、途
中の中間位置を△マークCP1〜CP6で記録形成して
いる。そして、これら▼マークや△マークは、その向き
でもってパターンの形成方向を示している。
パターン毎の形状情報(位置情報)を、基板上の実際に
塗布描画する位置にユニークなマークで形成しておくも
のである。これを、ヘッド部に取り付けられた画像認識
カメラ15(図1)により認識し、上記のRAMや外部
記憶装置に格納する。このようにして得られた塗布描画
条件DAは図7に示すものであり、図6に示した塗布描
画条件DAに対し、ペーストパターンの形状情報(形状
データ)PD4が省略されたものとなっている。ここ
で、図8では、ペーストパターンの塗布開始位置を▼マ
ークSPで、塗布終了位置を▲マークEPで表わし、途
中の中間位置を△マークCP1〜CP6で記録形成して
いる。そして、これら▼マークや△マークは、その向き
でもってパターンの形成方向を示している。
【0041】このように、塗布描画するペーストパター
ンの形状が、実際にペーストパターンを塗布描画する位
置にかかるマークで表わされているので、ペーストパタ
ーンの形状情報(形状データ)PD4が不要となるもの
であり、その分RAMや外部記憶装置での読取ったデー
タの記憶領域が小さくて済む。
ンの形状が、実際にペーストパターンを塗布描画する位
置にかかるマークで表わされているので、ペーストパタ
ーンの形状情報(形状データ)PD4が不要となるもの
であり、その分RAMや外部記憶装置での読取ったデー
タの記憶領域が小さくて済む。
【0042】このようにして、オペレータが品種毎に入
力していたデータを自動的に読み取ることができ、通常
ペーストパターンの塗布描画作業に当たって行なわれる
キーボード20(図1)からのデータ入力作業のミスを
なくし、生産性のさらなる向上を実現することになる。
また、搬入された基板の誤りなどもチェックできる。
力していたデータを自動的に読み取ることができ、通常
ペーストパターンの塗布描画作業に当たって行なわれる
キーボード20(図1)からのデータ入力作業のミスを
なくし、生産性のさらなる向上を実現することになる。
また、搬入された基板の誤りなどもチェックできる。
【0043】図4において、以上のようにしてステップ
400の処理が終了すると、次に、基板予備位置決め処
理(ステップ500)を行なう。この処理では、基板保
持機構7に搭載された基板9の位置決め用マ−クを画像
認識カメラ15で撮影し、位置決め用マ−クの重心位置
を画像処理で求めて基板9のθ軸方向での傾きを検出
し、これに応じてサ−ボモ−タ8a(図3)を駆動し、
このθ軸方向の傾きも補正する。
400の処理が終了すると、次に、基板予備位置決め処
理(ステップ500)を行なう。この処理では、基板保
持機構7に搭載された基板9の位置決め用マ−クを画像
認識カメラ15で撮影し、位置決め用マ−クの重心位置
を画像処理で求めて基板9のθ軸方向での傾きを検出
し、これに応じてサ−ボモ−タ8a(図3)を駆動し、
このθ軸方向の傾きも補正する。
【0044】なお、ペースト収納筒13内の残りペース
トが少ない場合には、次のペースト塗布作業の途中でペ
ーストの途切れがないようにする必要がある。このため
に、前以ってペースト収納筒13をノズル13aととも
に交換する場合もある。ノズル13aを交換した場合に
は、ノズル13aの位置ずれが生ずることがある。この
ために、基板9のペーストパターンを形成しない場所で
ノズルの交換を行ない、交換した新たなノズル13aを
用いてその場所で基板上に十字パターンを描画する。そ
して、この十字パターンを認識カメラ15で撮像してそ
の交点の重心位置を画像処理で求め、この重心位置と基
板9上の位置決め用マークの重心位置との間の距離を算
出する。この算出した距離を交換に要した移動距離で修
正し、この修正した距離を、ノズル13aのペースト吐
出口の位置ずれ量dx,dyとして、マイクロコンピュ
ータ17aに内蔵のRAMに格納する。
トが少ない場合には、次のペースト塗布作業の途中でペ
ーストの途切れがないようにする必要がある。このため
に、前以ってペースト収納筒13をノズル13aととも
に交換する場合もある。ノズル13aを交換した場合に
は、ノズル13aの位置ずれが生ずることがある。この
ために、基板9のペーストパターンを形成しない場所で
ノズルの交換を行ない、交換した新たなノズル13aを
用いてその場所で基板上に十字パターンを描画する。そ
して、この十字パターンを認識カメラ15で撮像してそ
の交点の重心位置を画像処理で求め、この重心位置と基
板9上の位置決め用マークの重心位置との間の距離を算
出する。この算出した距離を交換に要した移動距離で修
正し、この修正した距離を、ノズル13aのペースト吐
出口の位置ずれ量dx,dyとして、マイクロコンピュ
ータ17aに内蔵のRAMに格納する。
【0045】以上により、基板予備位置決め処理(ステ
ップ500)を終了する。なお、かかるノズル13aの
位置ずれ量dx、dyは、後に行なうペーストパターン
の塗布描画の動作時、ノズル13aの位置ずれの補正に
用いる。
ップ500)を終了する。なお、かかるノズル13aの
位置ずれ量dx、dyは、後に行なうペーストパターン
の塗布描画の動作時、ノズル13aの位置ずれの補正に
用いる。
【0046】次に、ペーストパターン描画処理(ステッ
プ600)を行なう。
プ600)を行なう。
【0047】この処理では、塗布開始位置にノズル13
aのペースト吐出口を位置付けるために、基板9を移動
させ、ノズル位置の比較・調整移動を行なう。
aのペースト吐出口を位置付けるために、基板9を移動
させ、ノズル位置の比較・調整移動を行なう。
【0048】このために、まず、先の基板予備位置決め
処理(ステップ500)でマイクロコンピュータ17a
のRAMに格納しているノズル13aの位置ずれ量d
x,dyが、図2に示したノズル13aの位置ずれ量の
許容範囲△X,△Y内にあるか否かの判断を行なう。許
容範囲内(△X≧dx及び△Y≧dy)であれば、その
ままとするが、許容範囲外(△X<dxまたは△Y<d
y)であれば、この位置ずれ量dx,dyをもとに基板
9を移動させ、この位置ずれ量dx,dyがこの許容範
囲△X,△Y内に入るようにする。これにより、ノズル
13aのペースト吐出口と基板9の所望位置との間のず
れが解消し、ノズル13aが所望位置に位置決めされ
る。
処理(ステップ500)でマイクロコンピュータ17a
のRAMに格納しているノズル13aの位置ずれ量d
x,dyが、図2に示したノズル13aの位置ずれ量の
許容範囲△X,△Y内にあるか否かの判断を行なう。許
容範囲内(△X≧dx及び△Y≧dy)であれば、その
ままとするが、許容範囲外(△X<dxまたは△Y<d
y)であれば、この位置ずれ量dx,dyをもとに基板
9を移動させ、この位置ずれ量dx,dyがこの許容範
囲△X,△Y内に入るようにする。これにより、ノズル
13aのペースト吐出口と基板9の所望位置との間のず
れが解消し、ノズル13aが所望位置に位置決めされ
る。
【0049】次に、ノズル13aの高さをペーストパタ
ーン描画高さに設定する。ノズルの初期移動距離データ
に基づいて、ノズル13aを初期移動距離分下降させ
る。続いて、ノズル13aの高さを距離計16で測定
し、ノズル13aの先端(ペースト吐出口)がペースト
パターンを描画する高さに設定されているか否かを確認
する。その結果、描画高さに設定できていない場合に
は、ノズル13aを微小距離下降をさせるようにして、
ノズル13aの高さの計測と微小距離下降とを繰り返し
行ない、ノズル13aの先端をペーストパターンを塗布
描画する高さに設定する。
ーン描画高さに設定する。ノズルの初期移動距離データ
に基づいて、ノズル13aを初期移動距離分下降させ
る。続いて、ノズル13aの高さを距離計16で測定
し、ノズル13aの先端(ペースト吐出口)がペースト
パターンを描画する高さに設定されているか否かを確認
する。その結果、描画高さに設定できていない場合に
は、ノズル13aを微小距離下降をさせるようにして、
ノズル13aの高さの計測と微小距離下降とを繰り返し
行ない、ノズル13aの先端をペーストパターンを塗布
描画する高さに設定する。
【0050】なお、ペースト収納筒13が交換されない
場合には、ノズル13aの位置ずれ量dx,dyのデー
タはないので、ペーストパターン描画処理(ステップ6
00)に入ったところで、直ちに、上記のノズル13a
の高さ設定を行なう。
場合には、ノズル13aの位置ずれ量dx,dyのデー
タはないので、ペーストパターン描画処理(ステップ6
00)に入ったところで、直ちに、上記のノズル13a
の高さ設定を行なう。
【0051】以上の処理が終了すると、次に、マイクロ
コンピュータ17a内蔵のRAMに格納されたペースト
パターンデータに基づいて、サーボモータ4,6が駆動
される。これにより、ノズル13aのペースト吐出口が
基板28に対向した状態で、このペーストパターンデー
タに応じて、基板9がX,Y軸方向に移動する。これと
ともに、図3に示す正圧源25からバルブユニット24
を介してペースト収納筒13に僅かな気圧が印加され、
これにより、ノズル13aのペースト吐出口からペース
トが吐出され始める。これにより、基板9でのペースト
パターンの塗布描画が開始する。
コンピュータ17a内蔵のRAMに格納されたペースト
パターンデータに基づいて、サーボモータ4,6が駆動
される。これにより、ノズル13aのペースト吐出口が
基板28に対向した状態で、このペーストパターンデー
タに応じて、基板9がX,Y軸方向に移動する。これと
ともに、図3に示す正圧源25からバルブユニット24
を介してペースト収納筒13に僅かな気圧が印加され、
これにより、ノズル13aのペースト吐出口からペース
トが吐出され始める。これにより、基板9でのペースト
パターンの塗布描画が開始する。
【0052】そして、先に説明したように、マイクロコ
ンピュータ17aに、ノズル13aの高さ(即ち、ペー
スト吐出口と基板9の表面との間隔)を距離計16を用
いて実測したデータが順次入力される。マイクロコンピ
ュータ17aは、入力されるかかる実測データから基板
9の表面のうねりを求め、マイクロコンピュータ17a
は、この求めた値を用いて、このうねりに拘らずノズル
13aの高さが規定の一定の高さに維持されるように、
サーボモータ12を駆動する。
ンピュータ17aに、ノズル13aの高さ(即ち、ペー
スト吐出口と基板9の表面との間隔)を距離計16を用
いて実測したデータが順次入力される。マイクロコンピ
ュータ17aは、入力されるかかる実測データから基板
9の表面のうねりを求め、マイクロコンピュータ17a
は、この求めた値を用いて、このうねりに拘らずノズル
13aの高さが規定の一定の高さに維持されるように、
サーボモータ12を駆動する。
【0053】このようにして、ペーストパターンの描画
が進む。そして、ノズル13aのペースト吐出口が、基
板9上の上記ペーストパターンデータによって決まる描
画パタ−ンの終端であるか否かの判断を行なう。終端で
なければ、再び基板9の表面うねりの測定処理に戻り、
以下、上記の塗布描画を繰り返して、ペーストパターン
の形成が描画パタ−ンの終端に達するまで継続する。
が進む。そして、ノズル13aのペースト吐出口が、基
板9上の上記ペーストパターンデータによって決まる描
画パタ−ンの終端であるか否かの判断を行なう。終端で
なければ、再び基板9の表面うねりの測定処理に戻り、
以下、上記の塗布描画を繰り返して、ペーストパターン
の形成が描画パタ−ンの終端に達するまで継続する。
【0054】そして、この描画パタ−ン終端に達する
と、正圧源25からペースト収納筒13への加圧を止
め、負圧源24から負圧力をレギュレータ24a及びバ
ルブユニット26を介してペースト収納筒13へ印加す
る。これにより、ノズル13aのペースト吐出口付近の
ペーストをペースト収納筒13内に引き戻す。その後、
バルブユニット26を動作させて負圧力を停止し、大気
27をペースト収納筒13に印加させる。さらに、サー
ボモータ12を駆動してノズル13aを上昇させ、この
ペーストパターン描画工程(ステップ600)が終了す
る。
と、正圧源25からペースト収納筒13への加圧を止
め、負圧源24から負圧力をレギュレータ24a及びバ
ルブユニット26を介してペースト収納筒13へ印加す
る。これにより、ノズル13aのペースト吐出口付近の
ペーストをペースト収納筒13内に引き戻す。その後、
バルブユニット26を動作させて負圧力を停止し、大気
27をペースト収納筒13に印加させる。さらに、サー
ボモータ12を駆動してノズル13aを上昇させ、この
ペーストパターン描画工程(ステップ600)が終了す
る。
【0055】次に、基板排出工程(ステップ700)に
進み、図1において、基板9の保持を解除し、装置外に
排出する。そして、他に塗布する基板が有るか無いかを
判定し(ステップ800)、同じパターンでペーストパ
ターンを形成する基板がある場合には、ステップ300
から繰り返され、処理する基板がない場合には、作業が
全て終了(ステップ900)する。
進み、図1において、基板9の保持を解除し、装置外に
排出する。そして、他に塗布する基板が有るか無いかを
判定し(ステップ800)、同じパターンでペーストパ
ターンを形成する基板がある場合には、ステップ300
から繰り返され、処理する基板がない場合には、作業が
全て終了(ステップ900)する。
【0056】以上のように、この実施形態では、予めペ
ーストパターンを塗布する基板に塗布描画条件などを記
録してあるため、途中で仕様の異なる基板が搬入されて
きても、自動的に誤りを検知できるとともに、オペレー
タによる入力ミスを防止できるなどの効果がある。
ーストパターンを塗布する基板に塗布描画条件などを記
録してあるため、途中で仕様の異なる基板が搬入されて
きても、自動的に誤りを検知できるとともに、オペレー
タによる入力ミスを防止できるなどの効果がある。
【0057】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
オペレータによる段取替え作業の1つとして行なわれる
ペーストパターンの塗布描画条件の入力作業を自動化
し、オペレータの操作ミスなどを防止し、生産性を向上
できる。
オペレータによる段取替え作業の1つとして行なわれる
ペーストパターンの塗布描画条件の入力作業を自動化
し、オペレータの操作ミスなどを防止し、生産性を向上
できる。
【図1】本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図2】図1に示した実施形態でのペースト収納筒と距
離計との配置関係を示す斜視図である。
離計との配置関係を示す斜視図である。
【図3】図1における主制御部の構成とその制御系統の
一具体例を示すブロック図である。
一具体例を示すブロック図である。
【図4】図1に示した実施形態の全体動作を示すフロー
チャートである。
チャートである。
【図5】図1に示す実施形態でペーストパターンが描画
される前の基板表面の状態の一具体例を示す図である。
される前の基板表面の状態の一具体例を示す図である。
【図6】図5に示した基板の表面に記録されている塗布
描画条件の一具体例を示す図である。
描画条件の一具体例を示す図である。
【図7】図1に示す実施形態でペーストパターンが描画
される基板から読み取った塗布描画条件の他の他の具体
例を示す図である。
される基板から読み取った塗布描画条件の他の他の具体
例を示す図である。
【図8】図7に示した塗布描画条件が記録されている基
板での1つのペーストパターンの塗布描画領域を拡大し
て示す図である。
板での1つのペーストパターンの塗布描画領域を拡大し
て示す図である。
1 架台
2 Z軸テーブル支持架台
3 X軸移動テーブル
4 X軸サーボモータ
5 Y軸移動テーブル
6 Y軸サーボモータ
7 基板保持機構
8 θ軸移動テーブル
9 基板
10 Z軸移動テーブル支持ブラケット
11 Z軸移動テーブル
12 Z軸サーボモータ
13 ペースト収納筒
13a ノズル
14 ノズル支持具
15 画像認識カメラ
16 距離計
17 主制御部
18 副制御部
18a ハードディスク
18b フロッピィーディスク
19 モニタ
20 キーボード
21 ケーブル
22 ノズル清掃ユニット
23 基板テーブル
24 負圧源
25 正圧源
24a,25a レギュレータ
26 バルブユニット
27 大気
PP1〜PP6 ペーストパターン
DA 塗布描画条件
PD1 ペーストパターンの総合情報
PD2 配置情報
PD3 検査情報
PD4 形状情報
PD5 塗布条件情報
SP 開始位置マーク
EP 終了位置マーク
CP1〜CP5 中間位置マーク
フロントページの続き
(72)発明者 川隅 幸宏
茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ
クノエンジニアリング株式会社開発研究所
内
(72)発明者 松井 淳一
茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ
クノエンジニアリング株式会社開発研究所
内
(72)発明者 松本 清司
茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ
クノエンジニアリング株式会社開発研究所
内
(72)発明者 米田 福男
茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ
クノエンジニアリング株式会社開発研究所
内
(72)発明者 中上 義広
茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ
クノエンジニアリング株式会社竜ヶ崎工場
内
(72)発明者 真鍋 仁志
茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ
クノエンジニアリング株式会社竜ヶ崎工場
内
(72)発明者 小林 征矢夫
茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ
クノエンジニアリング株式会社竜ヶ崎工場
内
Fターム(参考) 4D075 AC08 AC88 AC93 DA06 DC21
EA14
4F041 AA05 AB01 BA21 BA34
4F042 AA06 AB00 BA08 DD02 DD17
DF28 ED08
Claims (2)
- 【請求項1】 基板と、該基板にペーストを吐出する吐
出口を有するノズルと、該吐出口に対向するようにして
基板を載置するテーブルと、該ノズルの位置を可変駆動
するノズル位置駆動機構と、該テーブルの位置を可変駆
動するテーブル駆動機構と、ペーストを吐出するための
吐出力を発生する吐出機構とを備えたペースト塗布機に
おいて、 該基板の表面には、そこにペーストパターンを塗布描画
するための条件や位置などを規定する塗布描画条件の情
報が記録されており、 該塗布描画条件の情報を読み取る読取手段と、 該読取手段で読み取った該塗布描画条件の情報を記憶す
る記憶手段と、 該記憶手段に記憶された該塗布描画条件の情報に基づい
て、該テーブル駆動機構,ノズル位置駆動機構及び吐出
機構を制御する制御部とを設け、該基板に記録されてい
る該塗布描画条件で該基板にペーストパターンを塗布描
画することを特徴とするペースト塗布機。 - 【請求項2】 ノズルの吐出口に対向するように基板を
テーブル上に載置し、ペーストを該基板上に吐出させな
がら該基板と該ノズルとの間の相対位置関係を変化させ
ることにより、該基板上にペーストパターンを塗布描画
するパターン塗布方法において、 該基板上に予め記録されている塗布描画条件情報を読み
取り、読み取った該塗布描画条件をもとに、該基板上に
ペーストパターンを塗布描画することを特徴とするパタ
ーン塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001228331A JP2003039001A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | ペースト塗布機とパターン塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001228331A JP2003039001A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | ペースト塗布機とパターン塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003039001A true JP2003039001A (ja) | 2003-02-12 |
Family
ID=19060859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001228331A Pending JP2003039001A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | ペースト塗布機とパターン塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003039001A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005137971A (ja) * | 2003-11-04 | 2005-06-02 | Shibaura Mechatronics Corp | 溶液の供給装置及び供給方法 |
| JP2009050853A (ja) * | 2008-11-10 | 2009-03-12 | Shibaura Mechatronics Corp | ペースト塗布方法及び装置 |
| US7911916B2 (en) | 2007-05-15 | 2011-03-22 | Sony Corporation | Beam applying method, beam applying apparatus, and optical recording medium |
| US8077563B2 (en) | 2007-05-15 | 2011-12-13 | Sony Corporation | Beam applying method, optical recording medium, and recording and reproducing apparatus |
| JP2012139666A (ja) * | 2011-01-06 | 2012-07-26 | Panasonic Corp | ペーストの塗布方法 |
| JP2018122304A (ja) * | 2018-05-01 | 2018-08-09 | 株式会社リコー | インクジェット装置、ノズルヘッドの位置決め方法及びプログラム |
-
2001
- 2001-07-27 JP JP2001228331A patent/JP2003039001A/ja active Pending
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