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JP2003031641A - 製品保管方法および製品保管装置 - Google Patents

製品保管方法および製品保管装置

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Publication number
JP2003031641A
JP2003031641A JP2001219633A JP2001219633A JP2003031641A JP 2003031641 A JP2003031641 A JP 2003031641A JP 2001219633 A JP2001219633 A JP 2001219633A JP 2001219633 A JP2001219633 A JP 2001219633A JP 2003031641 A JP2003031641 A JP 2003031641A
Authority
JP
Japan
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stocker
air
product
outside air
storing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001219633A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshinori Nakano
俊典 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2001219633A priority Critical patent/JP2003031641A/ja
Publication of JP2003031641A publication Critical patent/JP2003031641A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Ventilation (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ウェーハ等の被処理製品を高清浄度の
環境下で保管できる製品保管方法、およびその保管方法
を用いた製品保管装置を提供する。 【解決手段】 半導体ウェーハ等の被処理製品Wを多数
収容して保管するストッカー1内に、循環ファン2によ
り外気を取り込んで循環させる。ストッカー1内に導入
された直後の外気をケミカル除去フィルター4およびU
LPAフィルター3で濾過して、ストッカー1内を高清
浄度の循環空調系とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウ
ェーハのように高清浄度の空間での保管が要求される被
処理製品の保管方法、およびその保管方法を適用した製
品保管装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程において、被処理
製品である半導体ウェーハは粒子汚染などにより不良が
発生しないように、クリーンルームと呼ばれる清浄度の
高い環境エリアで搬送・保管される。図9は、そのよう
なクリーンルームで半導体ウェーハを搬送・保管するの
に用いられるストッカー装置の従来例を示す縦断面図で
ある。このストッカー装置は、被処理製品である多数の
半導体ウェーハWを収容したストッカー1内に、循環フ
ァン2とULPAフィルター3とを設け、ストッカー1
内に導入されるエアを循環ファン2で循環させると共
に、エアに含まれる微粒子(パーティクル)をULPA
(Ultra Low Penetration Ai
r)フィルター3で除去するようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この場合、クリーンル
ーム内のエアに含まれる微粒子はULPAフィルター3
で除去することができるが、微粒子以外の物質、例えば
P,Bのイオン状物質、有機物などの分子、ミスト状の
不純物は除去することができない。また、ストッカー1
内に導入されるエアの清浄度は、外気の清浄度の変動
や、クリーンルーム内で発生する各種物質のために変動
している。このため、最悪の場合には、外気の変動や、
クリーンルーム内から発生するP,Bのイオン状物質、
有機物などの分子やミスト状の不純物によって、被処理
製品である半導体ウェーハが汚染され、安定した生産を
確保できないという問題点があった。
【0004】そこで、この発明は、半導体ウェーハ等の
被処理製品を高清浄度の環境下で保管できる製品保管方
法、およびその保管方法を用いた製品保管装置を提供す
ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1にかかる発明は
製品保管方法であって、被処理製品を収容して保管する
ストッカー内に、循環ファンにより外気を導入すると共
に、導入直後の外気をケミカル除去フィルターおよびU
LPAフィルターで濾過して、ストッカー内を高清浄度
の循環空調系とするものである。
【0006】請求項2にかかる発明は製品保管装置であ
って、被処理製品を収容して保管するストッカーと、外
気をストッカー内に取り込んで循環させる循環ファン
と、前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後
の外気を濾過するケミカル除去フィルターおよびULP
Aフィルターとを備えている。
【0007】請求項3にかかる発明は製品保管方法であ
って、被処理製品を収容して保管するストッカー内に、
循環ファンにより外気を導入し、導入直後の外気に対し
て紫外線照射することにより外気に含まれる有機物を分
解すると共に、ULPAフィルターで濾過して、ストッ
カー内を高清浄度の循環空調系とするものである。
【0008】請求項4にかかる発明は製品保管装置であ
って、被処理製品を収容して保管するストッカーと、外
気をストッカー内に取り込んで循環させる循環ファン
と、前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後
の外気に対して紫外線照射器で紫外線照射する有機分解
室と、前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直
後の外気を濾過するULPAフィルターとを備えてい
る。
【0009】請求項5にかかる発明は製品保管方法であ
って、被処理製品を収容して保管するストッカー内に、
循環ファンにより外気を導入し、導入直後の外気に含ま
れるイオン成分を純水を用いて外気から除去すると共
に、ULPAフィルターで濾過して、ストッカー内を高
清浄度の循環空調系とするものである。
【0010】請求項6にかかる発明は製品保管装置であ
って、被処理製品を収容して保管するストッカーと、外
気をストッカー内に取り込んで循環させる循環ファン
と、前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後
の外気に含まれるイオン成分を純水を用いて外気から除
去するイオン成分除去手段と、前記循環ファンでストッ
カー内に取り込まれた直後の外気を濾過するULPAフ
ィルターとを備えている。
【0011】請求項7にかかる発明は製品保管方法であ
って、少なくともケミカル除去フィルターおよびULP
Aフィルターを備えた空調機で濾過した外気を、被処理
製品を収容して保管するストッカー内に供給することに
より、ストッカー内を高清浄度の空調空間としている。
【0012】請求項8にかかる発明は製品保管装置であ
って、被処理製品を収容して保管するストッカーと、少
なくともケミカル除去フィルターおよびULPAフィル
ターを有し、導入した外気を濾過して前記ストッカー内
に供給する空調機とを備えている。
【0013】請求項9にかかる発明は製品保管方法であ
って、少なくともケミカル除去フィルターおよびULP
Aフィルターを備えた空調機で濾過した外気を、被処理
製品を収容して保管するストッカー内に供給すると共
に、該ストッカー内に配置された循環ファンで外気をス
トッカー内に取り込んで循環させて、ストッカー内を高
清浄度の循環空調系としている。
【0014】請求項10にかかる発明は製品保管装置で
あって、被処理製品を収容して保管するストッカーと、
少なくともケミカル除去フィルターおよびULPAフィ
ルターを有し、導入した外気を濾過して前記ストッカー
内に供給する空調機と、前記ストッカー内に配置され、
外気をストッカー内に取り込んで循環させる循環ファン
とを備えている。
【0015】請求項11にかかる発明は製品保管方法で
あって、被処理製品を搬送するOHS(Over He
ad Shuttle)の台車あるいは走行経路を、少
なくとも気密構造としたカバーで外界から隔離して、被
処理製品の搬送空間を高清浄空間としている。
【0016】請求項12にかかる発明は製品保管装置で
あって、被処理製品を搬送するOHS(Over He
ad Shuttle)と、少なくとも気密構造とさ
れ、前記OHSの台車あるいは走行経路を外界から隔離
するカバーとを備えている。
【0017】請求項13にかかる発明は、被処理製品の
保管エリアへ高清浄度化したエアを供給する製品保管方
法であって、それぞれが少なくともケミカル除去フィル
ターおよびULPAフィルターを有し、導入した外気を
濾過する2台の空調機の出口を共通化して、両空調機を
切り替え使用し、前記出口における濾過後のエアの清浄
度を分析し、その分析結果が所定レベル以下に低下する
と、前記空調機の前記切り替えを行うものである。
【0018】請求項14にかかる発明は、被処理製品の
保管エリアへ高清浄化したエアを供給する製品保管装置
であって、それぞれが少なくともケミカル除去フィルタ
ーおよびLUPAフィルターを有し、導入した外気を濾
過する第1および第2の空調機と、前記両空調機の一方
を使用状態、他方を不使用状態に切り替える切り替え手
段と、前記両空調機の互いに接続された出口における濾
過後のエアの清浄度を分析する分析手段と、前記分析手
段による分析結果が所定レベル以下となったとき、前記
切り替え手段の切り替え状態を逆転させる制御手段とを
備えている。
【0019】請求項15にかかる発明は製品保管方法で
あって、被処理製品を収容して保管するストッカー内
に、循環ファンにより外気を導入し、導入直後の外気に
含まれるイオン成分を純水を用いて外気から除去すると
共に、ULPAフィルターで濾過して、ストッカー内を
高清浄度の循環空調系とし、イオン成分を除去した後の
外気の清浄度を分析し、分析結果が所定レベル以下のと
き前記純水の量を増加させるものである。
【0020】請求項16にかかる発明は製品保管装置で
あって、被処理製品を収容して保管するストッカーと、
外気をストッカー内に取り込んで循環させる循環ファン
と、前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後
の外気に含まれるイオン成分を純水を用いて除去するイ
オン成分除去手段と、前記循環ファンでストッカー内に
取り込まれた直後の外気を濾過するULPAフィルター
と、前記イオン成分除去手段で処理された外気の清浄度
を分析する分析機器と、前記分析機器による分析結果が
所定レベル以下のときに、前記純水の量を増加させる制
御手段とを備えている。
【0021】請求項17にかかる発明は、少なくともケ
ミカル除去フィルターおよびULPAフィルターを有す
る空調機で濾過したエアを被処理製品を収容して保管す
るエリアに供給する製品保管方法であって、前記ケミカ
ル除去フィルターに熱を与えて再生するものである。
【0022】請求項18にかかる発明は、被処理製品を
収容して保管するエリアへ高清浄度化したエアを供給す
る製品保管装置であって、少なくともケミカル除去フィ
ルターおよびULPAフィルターを有し、導入した外気
を濾過する空調機と、前記ケミカル除去フィルタに熱を
与える手段とを備えている。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、この発明をその実施の形態
を示す図面に基づいて具体的に説明する。なお、図9に
示す従来例と同一または同等の部材には同一符号を付し
ている。
【0024】実施の形態1.図1はこの発明の実施の形
態1による製品保管装置の縦断面図を示す。この製品保
管装置は、半導体装置の製造工程におけるクリーンルー
ムで、被処理製品である半導体ウェーハWを高清浄度の
空間内で収容して搬送・保管するためのストッカー装置
であって、ストッカー1と、循環ファン2と、ULPA
フィルター3と、ケミカル除去フィルター4とを備えて
いる。
【0025】ストッカー1は、例えば上端を閉塞した円
筒状の容器であって、内部には外壁1aと同心状に配置
した内壁1bを有し、内壁1bの内側に被処理製品であ
る半導体ウェーハWを載置する複数段の棚5が設けられ
ている。ストッカー1の下端の中央には外気を導入する
開口6が設けられている。
【0026】ストッカー1内の下部には、前記循環ファ
ン2、ケミカル除去フィルター4、およびULPAフィ
ルター3が、これらの順序で開口6の近傍から外径側に
向けて並べて配置されている。循環ファン2は、外気を
前記開口6からストッカー1内に取り込んで循環させる
ものである。ULPAフィルター3は、導入された外気
に含まれる微粒子を除去するフィルターである。ケミカ
ル除去フィルター4は、導入された外気に含まれるP,
Bのイオン状物質、有機物なとの分子やミスト状の不純
物を除去するフィルターである。このケミカル除去フィ
ルター4としては、酸系除去フィルター、アルカリ系除
去フィルター、有機系除去フィルターの3種類があり、
これらのうちの1種類を選択して使用しても、複数種類
を併用しても良い。
【0027】ストッカー1の外壁1aと内壁1bの間の
空間は循環路7を形成している。内壁1bには、前記循
環路7を経た外気を、内壁1bの内側空間に導入する多
数の通気穴8が形成されている。
【0028】このストッカー装置によると、循環ファン
2によりストッカー1の開口6から導入されたクリーン
ルームのエアが、ケミカル除去フィルター4およびUL
PAフィルター3を通過した後、循環路7および通気穴
8を経て内壁1bの内側に進入し、循環ファン2へと導
かれてストッカー1内を一点鎖線で示すように循環す
る。導入されるエアに含まれるP,Bのイオン状物質、
有機物なとの分子やミスト状の不純物は、ケミカル除去
フィルター4によって除去される。また、エアに含まれ
る微粒子は、ULPAフィルター3によって除去され
る。これにより、ストッカー1内は高清浄度の循環空調
系とされ、被処理製品である半導体ウェーハWを、外気
の清浄度変動や、クリーンルーム内の空気中の不純物量
の変動に左右されることなく、高清浄度の空間内で保管
することができる。
【0029】また、このストッカー装置では、ストッカ
ー1の下端に設けた開口6から循環ファン2により外気
を袋状のストッカー1内に導入するようにしているの
で、ストッカー1内を陽圧に保つことができ、ストッカ
ー1に対して半導体ウェーハWを出し入れするときに、
クリーンルームのエアが循環ファン2を通らずにストッ
カー1内に進入するのを防止することができる。
【0030】実施の形態2.図2はこの発明の実施の形
態2による製品保管装置の縦断面図を示す。この製品保
管装置は、実施の形態1による製品保管装置において、
ケミカル除去フィルター4に替えて、有機分解室9を設
けたものである。この有機分解室9には紫外線照射器1
0が設置され、循環ファン2により有機分解室9に導入
された直後の外気に対して、紫外線照射器10から紫外
線を照射する。その他の構成は実施の形態1の場合と同
様であり、ここでは説明を省略する。
【0031】この製品保管装置によると、循環ファン2
によりクリーンルームからストッカー1内に導入された
直後のエアが、有機分解室9で紫外線の照射を浴び、エ
アに含まれる有機物が炭酸ガスと水に分解される。ここ
で発生した炭酸ガスや水は、系外に放出される。また、
有機分解室9で有機物を除去されたエアがULPAフィ
ルター3を通過するとき、そのエアに含まれる微粒子が
除去される。これにより、ストッカー1内は、高清浄度
の循環空調系とされ、被処理製品である半導体ウェーハ
Wを、外気の清浄度変動や、クリーンルーム内の空気中
の不純物量の変動に左右されることなく、高清浄度の空
間内で保管することができる。
【0032】実施の形態3.図3はこの発明の実施の形
態3による製品保管装置の縦断面図を示す。この製品保
管装置は、実施の形態1による製品保管装置において、
ケミカル除去フィルター4に替えて、イオン成分除去室
12を設けたものである。このイオン成分除去室12に
は複数本の純水配管13が張りめぐらされており、この
純水配管13に対して純水循環装置14から15〜20
℃程度の水温の純水が循環供給される。前記イオン成分
除去室12、純水配管13、および純水循環装置14に
よって、ストッカー1内に導入直後の外気に含まれるイ
オン成分を除去するイオン成分除去手段11が構成され
る。その他の構成は実施の形態1の場合と同様であり、
ここでは説明を省略する。
【0033】この製品保管装置によると、循環ファン2
によりクリーンルームからストッカー1内に導入された
直後のエアは、イオン成分除去室12において純水配管
13の表面に接触し、水滴を生じる。このとき、エアに
含まれる水溶性の不純物、すなわちイオン成分が水滴に
取り込まれる。その水滴は、ストッカー1の下端に設け
られた排水管15から系外に排水される。その結果、導
入されたエア中のイオン成分が除去される。また、イオ
ン成分除去室12でイオン成分を除去されたエアがUL
PAフィルター3を通過するとき、そのエアに含まれる
微粒子が除去される。これにより、ストッカー1内は、
高清浄度の循環空調系とされ、被処理製品である半導体
ウェーハWを、外気の清浄度変動や、クリーンルーム内
の空気中の不純物量の変動に左右されることなく、高清
浄度の空間内で保管することができる。
【0034】なお、イオン成分除去手段11としては、
前記イオン成分除去室12の構成に替えて、例えば公知
の純水ウオッシャーを用いてエア中のイオン成分を除去
するようにしても良い。
【0035】実施の形態4.図4はこの発明の実施の形
態4による製品保管装置の縦断面図を示す。この製品保
管装置は、被処理製品である半導体ウェーハWを収容し
て保管するストッカー1と、このストッカー1の外部に
設置される空調機(外調機)16とを備える。ストッカ
ー1内の上部にはULPAフィルター3が配置され、そ
の下側に半導体ウェーハWを載置する複数段の棚5が設
けられている。
【0036】空調機16には、プレフィルター17と、
中性能フィルター18と、ファン19と、ケミカル除去
フィルター20と、ULPAフィルター21とが、外気
導入側から外気導出側へとこれらの順序で配置されてお
り、その外気導出側はダクト22を介して前記ストッカ
ー1の上部に連通させてある。ストッカー1の下端は導
出口23とされ、前記空調機16から供給されたエアが
ストッカー1内を通過可能とされている。
【0037】この製品保管装置によると、空調機16の
ファン19によりクリーンルームから空調機16内に導
入されたエアが、プレフィルター17、中性能フィルタ
ー18、ケミカル除去フィルター20、およびULPA
フィルター21で濾過されることで、エアに含まれる
P,Bのイオン状物質、有機物なとの分子やミスト状の
不純物、および微粒子が除去されて高清浄度化される。
濾過されたエアはダクト22を介してストッカー1の上
部に供給される。ストッカー1内に導入されたエアは、
さらにULPAフィルター3で濾過されることで微粒子
が再度除去されて、さらに高清浄度化される。このよう
に高清浄度化されたエアはストッカー1内を通過して下
端の導出口23からストッカー1外に排出される。これ
により、ストッカー1内は高清浄度の空調空間に保た
れ、被処理製品である半導体ウェーハWを、外気の清浄
度変動や、クリーンルーム内の空気中の不純物量の変動
に左右されることなく、高清浄度の空間内で保管するこ
とができる。
【0038】なお、空調機16におけるケミカル除去フ
ィルター20は、これに替えて、実施の形態2における
有機分解室9を設けることにより、エア中の有機物を除
去するようにしても良い。また、ケミカル除去フィルタ
ー20に替えて、実施の形態3で示したイオン成分除去
室12や純水ウオッシャーを設けることにより、エア中
のイオン成分を除去するようにしても良い。さらには、
ケミカル除去フィルター20、有機分解室9、イオン成
分除去室12などを複合させて設けても良い。
【0039】実施の形態5.図5はこの発明の実施の形
態5による製品保管装置の縦断面図を示す。この製品保
管装置は、被処理製品である半導体ウェーハWを収容し
て保管するストッカー1と、このストッカー1の外部に
設置される空調機(外調機)16とを備える。ストッカ
ー1内の構造は実施の形態1の場合とほぼ同様である。
すなわち、ストッカー1の外壁1aと同心状に内壁1b
が設けられて循環路7が形成され、その内壁1bに半導
体ウェハーWを載置する複数段の棚5が設けられ、スト
ッカー1の下部には下端中央の開口6の周囲に、循環フ
ァン2、ケミカル除去フィルター4、およびULPAフ
ィルター3がこれらの順序で外径側に並べて配置されて
いる。
【0040】空調機16の内部構造は実施の形態4の場
合と同様であり、その外気導出側はダクト22を介して
前記ストッカー1の上部に連通させてある。この空調機
16では、ストッカー1内が循環ファン2のエア供給力
と相俟って陽圧の循環空調系となる程度のエアをストッ
カー1に供給するようにされていることが、実施の形態
4の場合と異なる。
【0041】この製品保管装置によると、空調機16で
濾過されたエアがストッカー1内に供給されてから、循
環ファン2によりストッカー1内で循環させられ、ケミ
カル除去フィルター4およびULPAフィルター3によ
りエア中の不純物や粒子が除去される。これにより、ス
トッカー1内は高清浄度の循環空調系となり、製品であ
る半導体ウェーハWを、外気の清浄度変動やクリーンル
ーム内の空気中の不純物量の変動に左右されることな
く、高清浄度の空間内で保管することができる。
【0042】とくに、この実施の形態では、空調機16
からストッカー1へのエア供給量は、循環ファン2のエ
ア供給力と相俟ってストッカー1内が陽圧の循環空調系
となる量だけで十分なため、実施の形態4の場合に比べ
て空調機16にかかるコストを低減できる。
【0043】実施の形態6.この発明の実施の形態6に
よる製品搬送装置は、半導体ウェーハ等の被処理製品を
搬送するOHS(Over Head Shuttl
e)と、このOHSの走行経路を外界であるクリーンル
ームから隔離するカバーとで構成される。カバーは金属
あるいは高分子等の低脱ガス部材からなり、少なくとも
気密構造、好ましくは気密構造でかつ水密構造とされて
いる。
【0044】製品搬送装置をこのように構成した場合に
は、OHSの走行経路をクリーンルームから隔離できる
ので、OHSで搬送される半導体ウェーハ等の被処理製
品にクリーンルームのエアが接触するのを防止でき、被
処理製品を高清浄度の環境下で搬送することができる。
【0045】なお、OHSの走行経路を前記カバーで隔
離するのに替えて、OHSの走行台車にカバーを設けて
も良い。
【0046】実施の形態7.図6はこの発明の実施の形
態7による空調装置の縦断面図を示す。この空調装置
は、例えば実施の形態4や実施の形態5の空調機16の
ように、高清浄度の要請されるエリアへ高清浄度化した
エアを供給する装置であって、2台の空調機16A,1
6Bを備える。これら両空調機16A,16Bの内部構
造は、実施の形態4,5(図4,5)における空調機1
6の内部構造と同様であり、ここではその説明を省略す
る。これら両空調機16A,16Bは並列に接続されて
いる。すなわち、両空調機16A,16Bの外気導入管
24A,24Bが共通の導入管25に接続され、両空調
機16A,16Bの外気導出管26A,26Bも共通の
導出管27に接続されている。
【0047】前記両空調機16A,16Bの外気導入管
24A,24Bには、それぞれ切替手段であるダンパー
28A,28Bが設けられている。これらダンパー28
A,28Bの開閉は制御手段であるコントローラ29に
よって制御される。両空調機16A,16Bの出口であ
る共通導出管27内には、分析機器30に接続されたサ
ンプル配管31の先端が臨まされている。分析機器30
は、前記共通導出管27を流れる濾過後のエアの一部を
サンプル配管31を介してサンプリングし、そのエアの
清浄度を分析する手段である。前記コントローラ29
は、前記分析機器30の分析結果に応じて、前記両ダン
パー28A,28Bの開閉状態を切り替える。すなわ
ち、コントローラ29は、初期状態において両ダンパー
28A,2Bのうちの一方を開状態、他方を閉状態に設
定し、分析機器30による清浄度の分析結果が基準レベ
ル以下のとき、両ダンパー28A,28Bの開閉状態を
逆に切り替える。
【0048】この空調装置の動作を説明する。動作開始
時に、コントローラ29は、例えばダンパー28Aを開
状態、ダンパー28Bを閉状態に設定する。これによ
り、共有導入管25から導入された外気は一方の空調機
16Aで濾過された後に、共通導出管27から高清浄度
の要請されるエリアへと供給される。この間、分析機器
30は、共通導出管27を流れるエアをサンプル配管3
1を介してサンプリングし、その清浄度を分析してい
る。例えば空調機16Aにおけるケミカル除去フィルタ
ー20の劣化などのために、分析された清浄度が所定の
基準値以下になると、その結果が分析機器30からコン
トローラ29に送信される。これに応答して、コントロ
ーラ29は、両ダンパー28A,28Bの開閉状態を逆
に切り替える。すなわち、それまで開状態のダンパー2
8Aは閉状態に、それまで閉状態のダンパー28Bは開
状態にそれぞれ切り替えられる。これにより、共通導入
管25から導入された外気は、それまで休止状態であっ
た他の空調機16Bで濾過されることになる。
【0049】このような動作により、稼動中の空調機で
例えばケミカル除去フィルター20が劣化したり、ファ
ン19の不調で供給が停止するなどした場合でも、別の
空調機が稼動するように切り替えられるので、清浄度の
低下したエアが目的のエリアに供給されるのを防止する
ことができ、半導体ウェーハなどの被処理製品を高清浄
度の環境下で保管したり搬送したりすることができる。
また、目的のエリアに高清浄度化したエアを供給しなが
ら、不調の空調機のメンテナンスを行うこともできる。
【0050】実施の形態8.図7はこの発明の実施の形
態8による製品保管装置の縦断面図を示す。この製品保
管装置は、実施の形態3による製品保管装置において、
イオン成分除去処理後のエアの清浄度を分析する分析機
器32と、この分析機器32による分析結果に応じて純
水循環装置14による循環純水量を制御する制御手段で
あるコントローラ33とを付加したものである。ストッ
カー1内の構造は実施の形態3の場合と同様であり、こ
こではその説明を省略する。ストッカー1内のイオン成
分除去室12からULPAフィルター3を通過したエア
の出口近傍には、前記分析機器32に接続されたサンプ
ル配管34の先端が臨まされている。
【0051】この製品保管装置では、循環ファン2によ
りストッカー1内に取り込まれ、イオン成分除去室12
でイオン成分除去され、さらにULPAフィルター3で
粒子の除去が行われたエアを、サンプル配管34を介し
て分析機器32がサンプリングし、その清浄度を分析す
る。分析された清浄度が所定の基準値以下になると、そ
の結果が分析機器32からコントローラ33に送信され
る。これに応答して、コントローラ33は、純水配管1
3を循環する純水の水量が増加するように純水循環装置
14を制御する。これにより、イオン成分除去室12で
のイオン成分除去性能が低下したときに、純水配管13
を循環する純水の水量が増加してイオン成分除去性能が
向上し、ストッカー1内に高清浄度の循環空調系が保た
れる。
【0052】実施の形態9.図8はこの発明の実施の形
態9による空調装置の縦断面図を示す。この空調装置
は、例えば実施の形態4や実施の形態5の空調機16の
ように、高清浄度の要請されるエリアへ高清浄度化した
エアを供給する装置であって、空調機16と、温風供給
手段35と、排気管38とを備える。空調機16の内部
構造は、実施の形態4,5(図4,5)における空調機
16の内部構造と同様であり、プレフィルター17と、
中性能フィルター18と、ファン19と、ケミカル除去
フィルター20と、ULPAフィルター21とが、外気
導入側から外気導出側へとこれらの順序で配置されてい
る。温風供給手段35は、温風送気装置36と、この温
風送気装置36を空調機16のケミカル除去フィルター
20に連通させる温風吸引管37とからなる。排気管3
8はケミカル除去フィルター20を空調機16の外部に
連通させる。
【0053】この空調装置では、空調機16のケミカル
除去フィルター20が劣化して吸着性能が落ちた場合
に、温風送気装置36から温風を温風吸引管37を通し
てケミカル除去フィルター20に供給すると、ケミカル
除去フィルター20に吸着された有機物が脱離して、ケ
ミカル除去フィルター20を再生させることができる。
【0054】なお、前記温風供給手段35により温風を
供給するのに替えて、ケミカル除去フィルター20を加
熱することにより有機物を脱離させるようにしても良
い。要はケミカル除去フィルター20に有機物を脱離さ
せるための熱を与える手段を設ければよい。
【0055】
【発明の効果】請求項1の発明の製品保管方法は、被処
理製品を収容して保管するストッカー内に、循環ファン
により外気を導入すると共に、導入直後の外気をケミカ
ル除去フィルターおよびULPAフィルターで濾過し
て、ストッカー内を高清浄度の循環空調系とするので、
外気の清浄度変動や、クリーンルーム内の空気中の不純
物量の変動に左右されることなく、高清浄度の空間内で
製品を保管することができる。
【0056】請求項2の発明の製品保管装置は、被処理
製品を収容して保管するストッカーと、外気をストッカ
ー内に取り込んで循環させる循環ファンと、前記循環フ
ァンでストッカー内に取り込まれた直後の外気を濾過す
るケミカル除去フィルターおよびULPAフィルターと
を備えるので、ストッカー内を高清浄度の循環空調系と
することができ、外気の清浄度変動や、クリーンルーム
内の空気中の不純物量の変動に左右されることなく、高
清浄度の空間内で製品を保管することができる。
【0057】請求項3の発明の製品保管方法は、被処理
製品を収容して保管するストッカー内に、循環ファンに
より外気を導入し、導入直後の外気に対して紫外線照射
することにより外気に含まれる有機物を分解すると共
に、ULPAフィルターで濾過して、ストッカー内を高
清浄度の循環空調系とするので、外気の清浄度変動や、
クリーンルーム内の空気中の不純物量の変動に左右され
ることなく、高清浄度の空間内で製品を保管することが
できる。
【0058】請求項4の発明の製品保管装置は、被処理
製品を収容して保管するストッカーと、外気をストッカ
ー内に取り込んで循環させる循環ファンと、前記循環フ
ァンでストッカー内に取り込まれた直後の外気に対して
紫外線照射器で紫外線照射する有機分解室と、前記循環
ファンでストッカー内に取り込まれた直後の外気を濾過
するULPAフィルターとを備えるので、ストッカー内
を高清浄度の循環空調系とすることができ、外気の清浄
度変動や、クリーンルーム内の空気中の不純物量の変動
に左右されることなく、高清浄度の空間内で製品を保管
することができる。
【0059】請求項5の発明の製品保管方法は、被処理
製品を収容して保管するストッカー内に、循環ファンに
より外気を導入し、導入直後の外気に含まれるイオン成
分を純水を用いて外気から除去すると共に、ULPAフ
ィルターで濾過して、ストッカー内を高清浄度の循環空
調系とするので、外気の清浄度変動や、クリーンルーム
内の空気中の不純物量の変動に左右されることなく、高
清浄度の空間内で製品を保管することができる。
【0060】請求項6の発明の製品保管装置は、被処理
製品を収容して保管するストッカーと、外気をストッカ
ー内に取り込んで循環させる循環ファンと、前記循環フ
ァンでストッカー内に取り込まれた直後の外気に含まれ
るイオン成分を純水を用いて外気から除去するイオン成
分除去手段と、前記循環ファンでストッカー内に取り込
まれた直後の外気を濾過するULPAフィルターとを備
えるので、ストッカー内を高清浄度の循環空調系とする
ことができ、外気の清浄度変動や、クリーンルーム内の
空気中の不純物量の変動に左右されることなく、高清浄
度の空間内で製品を保管することができる。
【0061】請求項7の発明の製品保管方法は、少なく
ともケミカル除去フィルターおよびULPAフィルター
を備えた空調機で濾過した外気を、被処理製品を収容し
て保管するストッカー内に供給することにより、ストッ
カー内を高清浄度の空調空間とするので、外気の清浄度
変動や、クリーンルーム内の空気中の不純物量の変動に
左右されることなく、高清浄度の空間内で製品を保管す
ることができる。
【0062】請求項8の発明の製品保管装置は、被処理
製品を収容して保管するストッカーと、少なくともケミ
カル除去フィルターおよびULPAフィルターを有し、
導入した外気を濾過して前記ストッカー内に供給する空
調機とを備えるので、外気の清浄度変動や、クリーンル
ーム内の空気中の不純物量の変動に左右されることな
く、高清浄度の空間内で製品を保管することができる。
【0063】請求項9の発明の製品保管方法は、少なく
ともケミカル除去フィルターおよびULPAフィルター
を備えた空調機で濾過した外気を、被処理製品を収容し
て保管するストッカー内に供給すると共に、該ストッカ
ー内に配置された循環ファンで外気をストッカー内に取
り込んで循環させて、ストッカー内を高清浄度の循環空
調系とするので、空調機のコストを低減しつつ、外気の
清浄度変動や、クリーンルーム内の空気中の不純物量の
変動に左右されることなく、高清浄度の空間内で製品を
保管することができる。
【0064】請求項10の発明の製品保管装置は、被処
理製品を収容して保管するストッカーと、少なくともケ
ミカル除去フィルターおよびULPAフィルターを有
し、導入した外気を濾過して前記ストッカー内に供給す
る空調機と、前記ストッカー内に配置され、外気をスト
ッカー内に取り込んで循環させる循環ファンとを備える
ので、ストッカー内を高清浄度の循環空調系とすること
ができ、外気の清浄度変動や、クリーンルーム内の空気
中の不純物量の変動に左右されることなく、高清浄度の
空間内で製品を保管することができる。とくに、空調機
からストッカーへのエア供給量は、循環ファンのエア供
給量と相俟ってストッカー内が陽圧の循環空調系となる
量だけで十分なため、空調機にかかるコストを低減でき
る。
【0065】請求項11の発明の製品保管方法は、被処
理製品を搬送するOHS(OverHead Shut
tle)の台車あるいは走行経路を、少なくとも気密構
造としたカバーで外界から隔離して、被処理製品の搬送
空間を高清浄空間としたので、OHSで搬送される半導
体ウェーハ等の製品にクリーンルームのエアが接触する
のを防止でき、被処理製品を高清浄度の環境下で搬送す
ることができる。
【0066】請求項12の発明の製品保管装置は、被処
理製品を搬送するOHS(OverHead Shut
tle)と、少なくとも気密構造とされ、前記OHSの
台車あるいは走行経路を外界から隔離するカバーとを備
えるので、OHSで搬送される半導体ウェーハ等の被処
理製品にクリーンルームのエアが接触するのを防止で
き、被処理製品を高清浄度の環境下で搬送することがで
きる。
【0067】請求項13の発明の製品保管方法は、被処
理製品の保管エリアへ高清浄度化したエアを供給する製
品保管方法であって、それぞれが少なくともケミカル除
去フィルターおよびULPAフィルターを有し、導入し
た外気を濾過する2台の空調機の出口を共通化して、両
空調機を切り替え使用し、前記出口における濾過後のエ
アの清浄度を分析し、その分析結果が所定レベル以下に
低下すると、前記空調機の前記切り替えを行うので、清
浄度の低下したエアが被処理製品の保管エリアに供給さ
れるのを防止することができ、被処理製品を高清浄度の
環境下で保管することができる。また、被処理製品の保
管エリアに高清浄度化したエアを供給しながら、不調の
空調機のメンテナンスを行うこともできる。
【0068】請求項14の発明の製品保管装置は、被処
理製品の保管エリアへ高清浄化したエアを供給する製品
保管装置であって、それぞれが少なくともケミカル除去
フィルターおよびLUPAフィルターを有し、導入した
外気を濾過する第1および第2の空調機と、前記両空調
機の一方を使用状態、他方を不使用状態に切り替える切
り替え手段と、前記両空調機の互いに接続された出口に
おける濾過後のエアの清浄度を分析する分析手段と、前
記分析手段による分析結果が所定レベル以下となったと
き、前記切り替え手段の切り替え状態を逆転させる制御
手段とを備えるので、清浄度の低下したエアが被処理製
品の保管エリアに供給されるのを防止することができ、
製品を高清浄度の環境下で保管することができる。ま
た、被処理製品の保管エリアに高清浄度化したエアを供
給しながら、不調の空調機のメンテナンスを行うことも
できる。
【0069】請求項15の発明の製品保管方法は、被処
理製品を収容して保管するストッカー内に、循環ファン
により外気を導入し、導入直後の外気に含まれるイオン
成分を純水を用いて外気から除去すると共に、ULPA
フィルターで濾過して、ストッカー内を高清浄度の循環
空調系とし、イオン成分を除去した後の外気の清浄度を
分析し、分析結果が所定レベル以下のとき前記純水の量
を増加させるので、イオン成分除去性能が低下しても純
水の量の増加によりイオン成分除去性能を回復させるこ
とができ、ストッカー内に高清浄度の循環空調系が保た
れる。
【0070】請求項16の発明の製品保管装置は、被処
理製品を収容して保管するストッカーと、外気をストッ
カー内に取り込んで循環させる循環ファンと、前記循環
ファンでストッカー内に取り込まれた直後の外気に含ま
れるイオン成分を純水を用いて除去するイオン成分除去
手段と、前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた
直後の外気を濾過するULPAフィルターと、前記イオ
ン成分除去手段で処理された外気の清浄度を分析する分
析機器と、前記分析機器による分析結果が所定レベル以
下のときに、前記純水の量を増加させる制御手段とを備
えるので、イオン成分除去手段でのイオン成分除去性能
が低下したときに、純水の水量が増加してイオン成分除
去性能が回復し、ストッカー内に高清浄度の循環空調系
が保たれる。
【0071】請求項17の発明の製品保管方法は、少な
くともケミカル除去フィルターおよびULPAフィルタ
ーを有する空調機で濾過したエアを被処理製品を収容し
て保管するエリアに供給する製品保管方法であって、前
記ケミカル除去フィルターに熱を与えて再生するので、
ケミカル除去フィルターが劣化して吸着性能が落ちた場
合でも、加熱によりケミカル除去フィルターを再生させ
ることができる。
【0072】請求項18の発明の製品保管装置は、被処
理製品を収容して保管するエリアへ高清浄度化したエア
を供給する製品保管装置であって、少なくともケミカル
除去フィルターおよびULPAフィルターを有し、導入
した外気を濾過する空調機と、前記ケミカル除去フィル
タに熱を与える手段とを備えるので、空調機のケミカル
除去フィルターが劣化して吸着性能が落ちた場合でも、
熱を与える手段によりケミカル除去フィルターに熱を供
給することにより、ケミカル除去フィルターを再生させ
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1による製品保管装置
の縦断面図である。
【図2】 この発明の実施の形態2による製品保管装置
の縦断面図である。
【図3】 この発明の実施の形態3による製品保管装置
の縦断面図である。
【図4】 この発明の実施の形態4による製品保管装置
の縦断面図である。
【図5】 この発明の実施の形態5による製品保管装置
の縦断面図である。
【図6】 この発明の実施の形態7による製品保管装置
の縦断面図である。
【図7】 この発明の実施の形態8による製品保管装置
の縦断面図である。
【図8】 この発明の実施の形態9による製品保管装置
の縦断面図である。
【図9】 従来の製品保管装置の縦断面図である。
【符号の説明】
1 ストッカー、2 循環ファン、3 ULPAフィル
ター、4 ケミカル除去フィルター、9 有機分解室、
10 紫外線照射器、11 イオン成分除去手段、12
イオン成分除去室、13 純水配管、16,16A,
16B 空調機、20 ケミカル除去フィルター、28
A,28B ダンパー、29 コントローラ、30 分
析機器、32 分析機器、33 コントローラ、35
温風供給手段、36 温風送気装置、37 温風吸引
管、38 排気管、W 半導体ウェーハ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01D 46/46 B01D 46/46 Fターム(参考) 3L058 BD00 BE02 BF08 BG03 4D020 AA10 BA23 CB03 CB25 CD10 4D058 JA13 NA01 NA07 NA08 QA01 QA03 QA13 QA19 SA20 TA02 UA25 5F031 DA17 GA58 JA01 JA31 NA02 NA03 NA11 NA13 NA18 NA20 PA26

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被処理製品を収容して保管するストッカ
    ー内に、循環ファンにより外気を導入すると共に、導入
    直後の外気をケミカル除去フィルターおよびULPAフ
    ィルターで濾過して、ストッカー内を高清浄度の循環空
    調系とすることを特徴とする製品保管方法。
  2. 【請求項2】 被処理製品を収容して保管するストッカ
    ーと、 外気をストッカー内に取り込んで循環させる循環ファン
    と、 前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後の外
    気を濾過するケミカル除去フィルターおよびULPAフ
    ィルターとを備えたことを特徴とする製品保管装置。
  3. 【請求項3】 被処理製品を収容して保管するストッカ
    ー内に、循環ファンにより外気を導入し、導入直後の外
    気に対して紫外線照射することにより外気に含まれる有
    機物を分解すると共に、ULPAフィルターで濾過し
    て、ストッカー内を高清浄度の循環空調系とすることを
    特徴とする製品保管方法。
  4. 【請求項4】 被処理製品を収容して保管するストッカ
    ーと、 外気をストッカー内に取り込んで循環させる循環ファン
    と、 前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後の外
    気に対して紫外線照射器で紫外線照射する有機分解室
    と、 前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後の外
    気を濾過するULPAフィルターとを備えたことを特徴
    とする製品保管装置。
  5. 【請求項5】 被処理製品を収容して保管するストッカ
    ー内に、循環ファンにより外気を導入し、導入直後の外
    気に含まれるイオン成分を純水を用いて外気から除去す
    ると共に、ULPAフィルターで濾過して、ストッカー
    内を高清浄度の循環空調系とすることを特徴とする製品
    保管方法。
  6. 【請求項6】 被処理製品を収容して保管するストッカ
    ーと、 外気をストッカー内に取り込んで循環させる循環ファン
    と、 前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後の外
    気に含まれるイオン成分を純水を用いて外気から除去す
    るイオン成分除去手段と、 前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後の外
    気を濾過するULPAフィルターとを備えたことを特徴
    とする製品保管装置。
  7. 【請求項7】 少なくともケミカル除去フィルターおよ
    びULPAフィルターを備えた空調機で濾過した外気
    を、被処理製品を収容して保管するストッカー内に供給
    することにより、ストッカー内を高清浄度の空調空間と
    することを特徴とする製品保管方法。
  8. 【請求項8】 被処理製品を収容して保管するストッカ
    ーと、 少なくともケミカル除去フィルターおよびULPAフィ
    ルターを有し、導入した外気を濾過して前記ストッカー
    内に供給する空調機とを備えたことを特徴とする製品保
    管装置。
  9. 【請求項9】 少なくともケミカル除去フィルターおよ
    びULPAフィルターを備えた空調機で濾過した外気
    を、被処理製品を収容して保管するストッカー内に供給
    すると共に、該ストッカー内に配置された循環ファンで
    外気をストッカー内に取り込んで循環させて、ストッカ
    ー内を高清浄度の循環空調系とすることを特徴とする製
    品保管方法。
  10. 【請求項10】 被処理製品を収容して保管するストッ
    カーと、 少なくともケミカル除去フィルターおよびULPAフィ
    ルターを有し、導入した外気を濾過して前記ストッカー
    内に供給する空調機と、 前記ストッカー内に配置され、外気をストッカー内に取
    り込んで循環させる循環ファンとを備えたことを特徴と
    する製品保管装置。
  11. 【請求項11】 被処理製品を搬送するOHS(Ove
    r Head Shuttle)の台車あるいは走行経
    路を、少なくとも気密構造としたカバーで外界から隔離
    して、被処理製品の搬送空間を高清浄空間としたことを
    特徴とする製品保管方法。
  12. 【請求項12】 被処理製品を搬送するOHS(Ove
    r Head Shuttle)と、 少なくとも気密構造とされ、前記OHSの台車あるいは
    走行経路を外界から隔離するカバーとを備えたことを特
    徴とする製品保管装置。
  13. 【請求項13】 被処理製品の保管エリアへ高清浄度化
    したエアを供給する製品保管方法であって、 それぞれが少なくともケミカル除去フィルターおよびU
    LPAフィルターを有し、導入した外気を濾過する2台
    の空調機の出口を共通化して、両空調機を切り替え使用
    し、前記出口における濾過後のエアの清浄度を分析し、
    その分析結果が所定レベル以下に低下すると、前記空調
    機の前記切り替えを行うことを特徴とする製品保管方
    法。
  14. 【請求項14】 被処理製品の保管エリアへ高清浄化し
    たエアを供給する製品保管装置であって、 それぞれが少なくともケミカル除去フィルターおよびL
    UPAフィルターを有し、導入した外気を濾過する第1
    および第2の空調機と、 前記両空調機の一方を使用状態、他方を不使用状態に切
    り替える切り替え手段と、 前記両空調機の互いに接続された出口における濾過後の
    エアの清浄度を分析する分析手段と、 前記分析手段による分析結果が所定レベル以下となった
    とき、前記切り替え手段の切り替え状態を逆転させる制
    御手段とを備えたことを特徴とする製品保管装置。
  15. 【請求項15】 被処理製品を収容して保管するストッ
    カー内に、循環ファンにより外気を導入し、導入直後の
    外気に含まれるイオン成分を純水を用いて外気から除去
    すると共に、ULPAフィルターで濾過して、ストッカ
    ー内を高清浄度の循環空調系とし、イオン成分を除去し
    た後の外気の清浄度を分析し、分析結果が所定レベル以
    下のとき前記純水の量を増加させることを特徴とする製
    品保管方法。
  16. 【請求項16】 被処理製品を収容して保管するストッ
    カーと、 外気をストッカー内に取り込んで循環させる循環ファン
    と、 前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後の外
    気に含まれるイオン成分を純水を用いて除去するイオン
    成分除去手段と、 前記循環ファンでストッカー内に取り込まれた直後の外
    気を濾過するULPAフィルターと、 前記イオン成分除去手段で処理された外気の清浄度を分
    析する分析機器と、 前記分析機器による分析結果が所定レベル以下のとき
    に、前記純水の量を増加させる制御手段とを備えたこと
    を特徴とする製品保管装置。
  17. 【請求項17】 少なくともケミカル除去フィルターお
    よびULPAフィルターを有する空調機で濾過したエア
    を被処理製品を収容して保管するエリアに供給する製品
    保管方法であって、 前記ケミカル除去フィルターに熱を与えて再生すること
    を特徴とする製品保管方法。
  18. 【請求項18】 被処理製品を収容して保管するエリア
    へ高清浄度化したエアを供給する製品保管装置であっ
    て、 少なくともケミカル除去フィルターおよびULPAフィ
    ルターを有し、導入した外気を濾過する空調機と、 前記ケミカル除去フィルタに熱を与える手段とを備えた
    ことを特徴とする製品保管装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013514646A (ja) * 2009-12-18 2013-04-25 アデイクセン・バキユーム・プロダクト 汚染を測定することにより半導体の製造を制御する方法及び装置

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