JP2003010693A - 過酸化水素を製造するための触媒 - Google Patents
過酸化水素を製造するための触媒Info
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- JP2003010693A JP2003010693A JP2001203141A JP2001203141A JP2003010693A JP 2003010693 A JP2003010693 A JP 2003010693A JP 2001203141 A JP2001203141 A JP 2001203141A JP 2001203141 A JP2001203141 A JP 2001203141A JP 2003010693 A JP2003010693 A JP 2003010693A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 水素及び酸素より、直接過酸化水素を製造す
るための、優れた活性、選択性を有する触媒及びその触
媒を用いて過酸化水素を製造する方法を提供する。 【解決手段】 白金族金属がメソポア分子ふるいに担持
された触媒であって、白金族金属の割合が白金族金属と
メソポア分子ふるいの総和に対して1〜30質量%であ
ることを特徴とする酸素及び水素から直接過酸化水素を
製造するための触媒。
るための、優れた活性、選択性を有する触媒及びその触
媒を用いて過酸化水素を製造する方法を提供する。 【解決手段】 白金族金属がメソポア分子ふるいに担持
された触媒であって、白金族金属の割合が白金族金属と
メソポア分子ふるいの総和に対して1〜30質量%であ
ることを特徴とする酸素及び水素から直接過酸化水素を
製造するための触媒。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水素及び酸素から
直接過酸化水素を製造するのに用いる触媒及びこの触媒
を用いた過酸化水素の製造方法に関する。更に詳しく
は、メソポア分子ふるいを担体として用いた白金金属触
媒及びこの触媒を用いた過酸化水素の製造方法に関す
る。
直接過酸化水素を製造するのに用いる触媒及びこの触媒
を用いた過酸化水素の製造方法に関する。更に詳しく
は、メソポア分子ふるいを担体として用いた白金金属触
媒及びこの触媒を用いた過酸化水素の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】過酸化水素はクリーンな酸化剤として、
種々の有機物及び無機物の酸化に用いられている。現
在、過酸化水素はアントラキノン法によって工業的に製
造されている。しかしながら、この方法は、比較的高価
な反応媒体を多量に必要とし、アントラキノン媒体の還
元、酸化、生成過酸化水素の抽出、精製、濃縮等多数の
工程が必要であり、プロセスが複雑になるという問題を
有している。更に、アントラキノンの損失等も問題とな
っている。
種々の有機物及び無機物の酸化に用いられている。現
在、過酸化水素はアントラキノン法によって工業的に製
造されている。しかしながら、この方法は、比較的高価
な反応媒体を多量に必要とし、アントラキノン媒体の還
元、酸化、生成過酸化水素の抽出、精製、濃縮等多数の
工程が必要であり、プロセスが複雑になるという問題を
有している。更に、アントラキノンの損失等も問題とな
っている。
【0003】これらの問題を解決するために、従来、貴
金属触媒存在下、水性媒体中で水素と酸素から過酸化水
素を製造する方法が提案されており、数%を越える濃度
の過酸化水素が生成するすることが示されている。例え
ば、特開昭63−156005号公報、特開平4−23
8802号公報、特開平4−285003号公報、特開
平5−17106号公報、特開平5−43206号公
報、特開平9−301705号公報等には、白金族金属
を活性炭、無定型シリカ、ゼオライト、希土類酸化物、
チタニア等、種々の担体に担持させて用いる方法が提案
されている。
金属触媒存在下、水性媒体中で水素と酸素から過酸化水
素を製造する方法が提案されており、数%を越える濃度
の過酸化水素が生成するすることが示されている。例え
ば、特開昭63−156005号公報、特開平4−23
8802号公報、特開平4−285003号公報、特開
平5−17106号公報、特開平5−43206号公
報、特開平9−301705号公報等には、白金族金属
を活性炭、無定型シリカ、ゼオライト、希土類酸化物、
チタニア等、種々の担体に担持させて用いる方法が提案
されている。
【0004】しかしながら、これらの方法によると、高
濃度の過酸化水素を得るためには高圧条件で反応を行う
必要があった。しかし、高圧条件の採用は工業的に不利
であり、水素と酸素の反応という面から安全上も好まし
くなく、更に過酸化水素生成における水素の選択性も十
分でないという問題を有していた。
濃度の過酸化水素を得るためには高圧条件で反応を行う
必要があった。しかし、高圧条件の採用は工業的に不利
であり、水素と酸素の反応という面から安全上も好まし
くなく、更に過酸化水素生成における水素の選択性も十
分でないという問題を有していた。
【0005】
【発明が解決しようとしている課題】本発明の目的は、
比較的低い圧力下で高い過酸化水素濃度及び水素選択性
を与える、酸素及び水素から直接過酸化水素を製造する
ための触媒を提供することである。本発明のもう一つの
目的は、この触媒を用いて効率的に過酸化水素を製造す
る方法を提供することである。
比較的低い圧力下で高い過酸化水素濃度及び水素選択性
を与える、酸素及び水素から直接過酸化水素を製造する
ための触媒を提供することである。本発明のもう一つの
目的は、この触媒を用いて効率的に過酸化水素を製造す
る方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
達成のため、鋭意検討を重ねた結果、メソポアシリカ分
子ふるいに白金属金属を担持させた触媒は、高濃度担持
にもかかわらず高分散、かつ、耐シンタリング性に優
れ、この触媒が水素及び酸素から直接過酸化水素を製造
する触媒として、極めて優れた触媒であることを見いだ
し、本発明に到達した。
達成のため、鋭意検討を重ねた結果、メソポアシリカ分
子ふるいに白金属金属を担持させた触媒は、高濃度担持
にもかかわらず高分散、かつ、耐シンタリング性に優
れ、この触媒が水素及び酸素から直接過酸化水素を製造
する触媒として、極めて優れた触媒であることを見いだ
し、本発明に到達した。
【0007】即ち、本発明は、以下の通りである。
(1)白金族金属がメソポア分子ふるいに担持された触
媒であって、白金族金属の割合が白金族金属とメソポア
分子ふるいの総和に対して1〜30質量%であることを
特徴とする酸素及び水素から直接過酸化水素を製造する
ための触媒。 (2)メソポア分子ふるいが有機無機ハイブリッドシリ
カメソポア分子ふるいであることを特徴とする(1)に
記載の過酸化水素を製造するための触媒。 (3)白金族金属がパラジウムであることを特徴とする
(1)に記載の過酸化水素を製造するための触媒。 (4)水素及び酸素から直接過酸化水素を製造するに際
して、(1)に記載の過酸化水素を製造するための触媒
の存在下に反応させることを特徴とする過酸化水素の製
造方法。
媒であって、白金族金属の割合が白金族金属とメソポア
分子ふるいの総和に対して1〜30質量%であることを
特徴とする酸素及び水素から直接過酸化水素を製造する
ための触媒。 (2)メソポア分子ふるいが有機無機ハイブリッドシリ
カメソポア分子ふるいであることを特徴とする(1)に
記載の過酸化水素を製造するための触媒。 (3)白金族金属がパラジウムであることを特徴とする
(1)に記載の過酸化水素を製造するための触媒。 (4)水素及び酸素から直接過酸化水素を製造するに際
して、(1)に記載の過酸化水素を製造するための触媒
の存在下に反応させることを特徴とする過酸化水素の製
造方法。
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
メソポア分子ふるいとは、メソ孔領域、特に、直径1.
5〜10nmの単分散細孔を有する金属酸化物多孔体で
ある。金属酸化物を構成する元素としては、ケイ素、ア
ルミニウム、鉄、チタニウム、ニオブ、タンタル、ハフ
ニウム、ジルコニウム、錫、希土類等が挙げられる。金
属酸化物としては、前記の金属の酸化物の他に、ケイ素
を主成分とする各種メタロシリケート等も含まれる。ケ
イ素を主成分とする各種メタロシリケートとしては、例
えば、アルミニウム、ガリウム、4、5又は6族の遷移
金属元素、例えば、チタニウム、バナジウム、クロム、
マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコ
ニウム、ニオブ、モリブデン、タングステン等のメタロ
シリケートが挙げられる。これら金属酸化物のメソポア
分子ふるい中のケイ素に対する割合は、金属をMで表す
と、ケイ素/M原子比が5以上であり、好ましくは10
〜100である。
メソポア分子ふるいとは、メソ孔領域、特に、直径1.
5〜10nmの単分散細孔を有する金属酸化物多孔体で
ある。金属酸化物を構成する元素としては、ケイ素、ア
ルミニウム、鉄、チタニウム、ニオブ、タンタル、ハフ
ニウム、ジルコニウム、錫、希土類等が挙げられる。金
属酸化物としては、前記の金属の酸化物の他に、ケイ素
を主成分とする各種メタロシリケート等も含まれる。ケ
イ素を主成分とする各種メタロシリケートとしては、例
えば、アルミニウム、ガリウム、4、5又は6族の遷移
金属元素、例えば、チタニウム、バナジウム、クロム、
マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコ
ニウム、ニオブ、モリブデン、タングステン等のメタロ
シリケートが挙げられる。これら金属酸化物のメソポア
分子ふるい中のケイ素に対する割合は、金属をMで表す
と、ケイ素/M原子比が5以上であり、好ましくは10
〜100である。
【0009】メソポア分子ふるいとして、有機無機ハイ
ブリッドシリカメソポア分子ふるいが好ましい。有機無
機ハイブリッドシリカメソポア分子ふるいとは、骨格を
形成するケイ素に結合した有機成分をケイ素に対して1
〜60当量%有する有機無機ハイブリッドメソポア分子
ふるいである。これら有機成分は、炭化水素基であり、
アルキル基、アリル基、アラルキル基が好ましい。アル
キル基としてはメチル基、アリル基としてはフェニル
基、アラルキル基としてはメチルフェニル基が特に好ま
しい。有機成分は触媒中のケイ素原子に対して1〜60
当量%、好ましくは5〜50当量%含まれる。これら有
機無機ハイブリッドシリカメソポア分子ふるいの骨格に
は、ケイ素以外に、アルミニウム、チタン、ニオブ、ジ
ルコニウム、ホウ素等、他の金属酸化物を含むことがで
きる。これらの他の金属酸化物のメソポア分子ふるい中
のケイ素に対する割合は、他の金属をMで表すと、ケイ
素/M原子比が5以上であり、好ましくは10〜100
である。有機無機ハイブリッドメソポア分子ふるいは特
開平10−72212号公報等に記載された公知の方法
で製造できる。
ブリッドシリカメソポア分子ふるいが好ましい。有機無
機ハイブリッドシリカメソポア分子ふるいとは、骨格を
形成するケイ素に結合した有機成分をケイ素に対して1
〜60当量%有する有機無機ハイブリッドメソポア分子
ふるいである。これら有機成分は、炭化水素基であり、
アルキル基、アリル基、アラルキル基が好ましい。アル
キル基としてはメチル基、アリル基としてはフェニル
基、アラルキル基としてはメチルフェニル基が特に好ま
しい。有機成分は触媒中のケイ素原子に対して1〜60
当量%、好ましくは5〜50当量%含まれる。これら有
機無機ハイブリッドシリカメソポア分子ふるいの骨格に
は、ケイ素以外に、アルミニウム、チタン、ニオブ、ジ
ルコニウム、ホウ素等、他の金属酸化物を含むことがで
きる。これらの他の金属酸化物のメソポア分子ふるい中
のケイ素に対する割合は、他の金属をMで表すと、ケイ
素/M原子比が5以上であり、好ましくは10〜100
である。有機無機ハイブリッドメソポア分子ふるいは特
開平10−72212号公報等に記載された公知の方法
で製造できる。
【0010】本発明において、好ましい触媒として、メ
ソポア分子ふるいに白金族金属をナノ粒子状(具体的に
は金属粒子サイズとしては1〜5nm)で担持した触媒
であって、白金族金属元素としては、ルテニウム、ロジ
ウム、パラジウム、イリジウム、白金等が挙げられ、パ
ラジウムを主体とするものがより好ましい。これらは単
独あるいは2種以上を組み合わせ用いられる。白金族金
属の割合は、白金族金属とメソポア分子ふるいの総和に
対して1〜30質量%であり、好ましくは2〜20質量
%、最も好ましくは2〜10質量%である。
ソポア分子ふるいに白金族金属をナノ粒子状(具体的に
は金属粒子サイズとしては1〜5nm)で担持した触媒
であって、白金族金属元素としては、ルテニウム、ロジ
ウム、パラジウム、イリジウム、白金等が挙げられ、パ
ラジウムを主体とするものがより好ましい。これらは単
独あるいは2種以上を組み合わせ用いられる。白金族金
属の割合は、白金族金属とメソポア分子ふるいの総和に
対して1〜30質量%であり、好ましくは2〜20質量
%、最も好ましくは2〜10質量%である。
【0011】これら白金族金属の担持方法としては、こ
れらの元素の可溶性塩、例えば、塩化物、酢酸塩、アン
ミン錯体等あるいはアセチルアセトネート等を、イオン
交換水、メタノール、アセトン等の有機溶媒に溶解さ
せ、含浸法又はイオン交換法により担持させる。次い
で、金属成分を担持した担体を充分乾燥する。乾燥は5
0〜150℃で真空乾燥することが好ましい。乾燥した
後、100〜300℃で水素又は水素と窒素の混合ガス
雰囲気下で還元処理して本発明の触媒を製造する。還元
処理としては、水溶液中でホルマリン、ヒドラジン等の
還元剤を用い処理してもよい。
れらの元素の可溶性塩、例えば、塩化物、酢酸塩、アン
ミン錯体等あるいはアセチルアセトネート等を、イオン
交換水、メタノール、アセトン等の有機溶媒に溶解さ
せ、含浸法又はイオン交換法により担持させる。次い
で、金属成分を担持した担体を充分乾燥する。乾燥は5
0〜150℃で真空乾燥することが好ましい。乾燥した
後、100〜300℃で水素又は水素と窒素の混合ガス
雰囲気下で還元処理して本発明の触媒を製造する。還元
処理としては、水溶液中でホルマリン、ヒドラジン等の
還元剤を用い処理してもよい。
【0012】本発明の触媒は、高濃度の金属成分を含有
しているにもかかわらず、白金族金属が高分散し、耐シ
ンタリング性にも優れており、水素存在下の反応に極め
て有効である。本発明のメソポア分子ふるいは賦形して
用いることができる。賦形する場合は、金属酸化物又は
その前駆体をバインダーとして添加するのが好ましい。
バインダーとして添加する金属酸化物又はその前駆体と
しては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニ
ウム又はこれらの前駆体、例えば、シリカゾル、アルミ
ナゾル、ジルコニアゾルが好ましく、シリカゾルが最も
好ましい。
しているにもかかわらず、白金族金属が高分散し、耐シ
ンタリング性にも優れており、水素存在下の反応に極め
て有効である。本発明のメソポア分子ふるいは賦形して
用いることができる。賦形する場合は、金属酸化物又は
その前駆体をバインダーとして添加するのが好ましい。
バインダーとして添加する金属酸化物又はその前駆体と
しては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニ
ウム又はこれらの前駆体、例えば、シリカゾル、アルミ
ナゾル、ジルコニアゾルが好ましく、シリカゾルが最も
好ましい。
【0013】賦形方法としては、押し出し法、モノリス
構造体等にコートする方法等がある。賦形に用いるシリ
カ、アルミナ等のバインダーはメソポア分子ふるいに対
して、通常、5〜90質量%、好ましくは10〜80質
量%である。白金族金属は賦形の前又は後で担持するこ
とができる。本発明の触媒は、水素及び酸素から直接過
酸化水素を製造する触媒として好適である。水素及び酸
素から直接過酸化水素を製造する条件としては、酸素対
水素の分圧が50/1〜1/50の範囲で、できるだけ
爆発範囲外で反応させることが安全上好ましい。酸素の
代わりに空気等の酸素含有ガスを用いることもできる。
構造体等にコートする方法等がある。賦形に用いるシリ
カ、アルミナ等のバインダーはメソポア分子ふるいに対
して、通常、5〜90質量%、好ましくは10〜80質
量%である。白金族金属は賦形の前又は後で担持するこ
とができる。本発明の触媒は、水素及び酸素から直接過
酸化水素を製造する触媒として好適である。水素及び酸
素から直接過酸化水素を製造する条件としては、酸素対
水素の分圧が50/1〜1/50の範囲で、できるだけ
爆発範囲外で反応させることが安全上好ましい。酸素の
代わりに空気等の酸素含有ガスを用いることもできる。
【0014】過酸化水素の製造に用いられる反応媒体
は、通常、水性媒体であるが、水と均一相をなす有機溶
媒、例えば、アルコール、アセトン、アセトニトリル等
との混合物も使用できる。反応媒体のpHは、中性〜酸
性に保つことが好ましい。通常、硫酸、燐酸、塩酸等の
鉱酸あるいは蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ
酢酸等の有機酸を添加し、酸性に保持することが好まし
い。酸の濃度としては0.001〜0.5規定程度が好
ましい。反応温度は、通常、0〜70℃、好ましくは5
〜50℃である。反応圧力は、通常、大気圧〜20MP
a、好ましくは大気圧〜5MPaである。
は、通常、水性媒体であるが、水と均一相をなす有機溶
媒、例えば、アルコール、アセトン、アセトニトリル等
との混合物も使用できる。反応媒体のpHは、中性〜酸
性に保つことが好ましい。通常、硫酸、燐酸、塩酸等の
鉱酸あるいは蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ
酢酸等の有機酸を添加し、酸性に保持することが好まし
い。酸の濃度としては0.001〜0.5規定程度が好
ましい。反応温度は、通常、0〜70℃、好ましくは5
〜50℃である。反応圧力は、通常、大気圧〜20MP
a、好ましくは大気圧〜5MPaである。
【0015】反応に用いられる触媒の使用量は、白金族
金属として、反応媒体1リットル当たり0.1〜100
0mg程度が用いられる。更に助触媒として、ハロゲン
化合物、例えば、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム、
臭素酸ナトリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭
化アンモニウム、沃化ナトリウム、沃化カリウム、沃化
アンモニウム等、好ましくは臭素酸ナトリウム、臭化ナ
トリウム、臭化カリウム、塩化アンモニウム等を添加す
るのが好ましい。添加量としては、通常、反応媒体1リ
ットルに対して、0.001mmol〜0.1molが
用いられる。反応の形式としては回分方式でも連続方式
でも行うことができる。また賦形触媒を用い固定床方式
でガス相、液相を供給する方式を採用することもでき
る。
金属として、反応媒体1リットル当たり0.1〜100
0mg程度が用いられる。更に助触媒として、ハロゲン
化合物、例えば、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム、
臭素酸ナトリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭
化アンモニウム、沃化ナトリウム、沃化カリウム、沃化
アンモニウム等、好ましくは臭素酸ナトリウム、臭化ナ
トリウム、臭化カリウム、塩化アンモニウム等を添加す
るのが好ましい。添加量としては、通常、反応媒体1リ
ットルに対して、0.001mmol〜0.1molが
用いられる。反応の形式としては回分方式でも連続方式
でも行うことができる。また賦形触媒を用い固定床方式
でガス相、液相を供給する方式を採用することもでき
る。
【0016】
【発明の実施の形態】以下に実施例等を挙げて本発明を
具体的に説明するが、本発明はこれら実施例等により何
ら限定されるものではない。本発明において、メソポア
分子ふるいの細孔径は窒素吸着法により測定する。白金
族金属の含有率は蛍光X線分析法(理学電機製RIX−
3000型)により測定する。反応液中の過酸化水素量
の測定はヨードメトリー法により求める。
具体的に説明するが、本発明はこれら実施例等により何
ら限定されるものではない。本発明において、メソポア
分子ふるいの細孔径は窒素吸着法により測定する。白金
族金属の含有率は蛍光X線分析法(理学電機製RIX−
3000型)により測定する。反応液中の過酸化水素量
の測定はヨードメトリー法により求める。
【0017】
【実施例1】テトラエトキシシラン124gをn−ドデ
シルアミン30gのエタノール240g−水300gの
混合溶液に加え、次いでアルミニウムイソプロポキシド
8.1gを徐徐に加え、白色沈殿が認められるまで攪拌
し、さらに、一夜静置した。白色沈殿をろ過、回収し、
乾燥して52gの白色粉末を得た。この乾燥粉末20g
を300℃で2時間、次いで550℃で3時間空気中で
仮焼し、テンプレートであるアルキルアミンを除去し、
シリカ・アルミナメソポア分子ふるいを得た。このもの
の比表面積は1100m2/g、細孔径は3.4nmで
あった。
シルアミン30gのエタノール240g−水300gの
混合溶液に加え、次いでアルミニウムイソプロポキシド
8.1gを徐徐に加え、白色沈殿が認められるまで攪拌
し、さらに、一夜静置した。白色沈殿をろ過、回収し、
乾燥して52gの白色粉末を得た。この乾燥粉末20g
を300℃で2時間、次いで550℃で3時間空気中で
仮焼し、テンプレートであるアルキルアミンを除去し、
シリカ・アルミナメソポア分子ふるいを得た。このもの
の比表面積は1100m2/g、細孔径は3.4nmで
あった。
【0018】得られたメソポア分子ふるい13.5g
を、塩化パラジウム2.5gを塩酸水溶液(濃塩酸10
gを精製水100g)に溶解させた溶液に添加し、蒸発
乾固した。次いで150℃、2時間真空乾燥(〜1mm
Hg)した。次いで水素雰囲気下300℃、3時間還元
処理した後、精製水で充分に水洗後乾燥し、パラジウム
担持メソポア触媒を得た。この触媒のパラジウム含有率
は9.8質量%、比表面積は700m2/g、細孔径は
3.3nmであった。X線回折のPd回折ピークの半値
幅よりシラーの式で求めたパラジウムの平均粒子径は
3.0nmであり、ナノ粒子に分散していた。
を、塩化パラジウム2.5gを塩酸水溶液(濃塩酸10
gを精製水100g)に溶解させた溶液に添加し、蒸発
乾固した。次いで150℃、2時間真空乾燥(〜1mm
Hg)した。次いで水素雰囲気下300℃、3時間還元
処理した後、精製水で充分に水洗後乾燥し、パラジウム
担持メソポア触媒を得た。この触媒のパラジウム含有率
は9.8質量%、比表面積は700m2/g、細孔径は
3.3nmであった。X線回折のPd回折ピークの半値
幅よりシラーの式で求めたパラジウムの平均粒子径は
3.0nmであり、ナノ粒子に分散していた。
【0019】
【実施例2】テトラエトキシシラン83.2gとメチル
トリエトキシシラン36.6gをドデシルアミン30g
とエタノール240g−水300gの混合液に加え、白
色沈殿が認められるまで攪拌し、さらに、一夜静置し
た。白色沈殿をろ過回収し、乾燥して54gの白色粉末
を得た。この乾燥粉末20gを濃塩酸2ml含むエタノ
ール1リットルを用い60℃で抽出操作を2回繰り返
し、n−ドデシルアミンを抽出した。抽出物を乾燥し、
メチル基を有するケイ素原子が33モル%のメチル基含
有メソポア分子ふるい14gが得られた。このメソポア
分子ふるいの比表面積は900m2/g、細孔径は1.
9nmであった。
トリエトキシシラン36.6gをドデシルアミン30g
とエタノール240g−水300gの混合液に加え、白
色沈殿が認められるまで攪拌し、さらに、一夜静置し
た。白色沈殿をろ過回収し、乾燥して54gの白色粉末
を得た。この乾燥粉末20gを濃塩酸2ml含むエタノ
ール1リットルを用い60℃で抽出操作を2回繰り返
し、n−ドデシルアミンを抽出した。抽出物を乾燥し、
メチル基を有するケイ素原子が33モル%のメチル基含
有メソポア分子ふるい14gが得られた。このメソポア
分子ふるいの比表面積は900m2/g、細孔径は1.
9nmであった。
【0020】得られたメソポア分子ふるい10gを塩酸
酸性エタノールー水(エタノール含量25質量%、濃塩
酸10質量%)溶液50gに塩化パラジウム0.877
gを添加、溶解させた。これを加熱して、蒸発乾固さ
せ、実施例1と同様に処理して、パラジウム担持メチル
基ハイブリッドシリカ・アルミナメソポア分子ふるい触
媒を得た。この触媒のパラジウムの含有率は4.9質量
%で、パラジウムの平均粒子径は2.0nm未満であっ
た。
酸性エタノールー水(エタノール含量25質量%、濃塩
酸10質量%)溶液50gに塩化パラジウム0.877
gを添加、溶解させた。これを加熱して、蒸発乾固さ
せ、実施例1と同様に処理して、パラジウム担持メチル
基ハイブリッドシリカ・アルミナメソポア分子ふるい触
媒を得た。この触媒のパラジウムの含有率は4.9質量
%で、パラジウムの平均粒子径は2.0nm未満であっ
た。
【0021】
【実施例3】アルミニウムイソプロポキサイドに替えて
テトラエトキシチタン4.53gをプロパノール5gに
溶解させものを用いた以外は実施例1と同様に処理して
シリカ・チタニアメソポア分子ふるいを得た。このもの
の比表面積は980m2/g、細孔径は3.2nm、シ
リカ/チタニア原子比は32であった。得られたメソポ
ア分子ふるいを用いて、実施例2と同様にパラジウムを
担持させ、パラジウム担持メソポア触媒を得た。この触
媒のパラジウム含有率は4.9質量%であり、比表面積
は800m2/g、細孔径は2.8nmであった。X線
回折のPd回折ピークの半値幅よりシラーの式で求めた
パラジウムの平均粒子径は2.6nmであり、ナノ粒子
に分散していた。
テトラエトキシチタン4.53gをプロパノール5gに
溶解させものを用いた以外は実施例1と同様に処理して
シリカ・チタニアメソポア分子ふるいを得た。このもの
の比表面積は980m2/g、細孔径は3.2nm、シ
リカ/チタニア原子比は32であった。得られたメソポ
ア分子ふるいを用いて、実施例2と同様にパラジウムを
担持させ、パラジウム担持メソポア触媒を得た。この触
媒のパラジウム含有率は4.9質量%であり、比表面積
は800m2/g、細孔径は2.8nmであった。X線
回折のPd回折ピークの半値幅よりシラーの式で求めた
パラジウムの平均粒子径は2.6nmであり、ナノ粒子
に分散していた。
【0022】
【実施例4】水素及び酸素から直接過酸化水素を製造す
る触媒に実施例1で調製したパラジウム担持メソポア触
媒を用いた。反応は300mlのオートクレーブ(テフ
ロン(登録商標)内張り)に硫酸0.05mol/L、
臭化ナトリウム0.006mol/Lを含む精製水20
ml及び触媒7.2mgを添加し、チッソ置換後、水素
で置換し、室温で1時間撹拌後、再びチッソ置換した。
チッソを0.5MPa、酸素を0.36MPa、水素を
0.03MPa導入し、10℃の水冷浴にセットし、撹
拌下反応させた。1時間毎に減少した圧に相当する水素
を添加した。3時間反応後の水溶液中の過酸化水素濃度
は0.4質量%であった。水素の選択性は75%であっ
た。
る触媒に実施例1で調製したパラジウム担持メソポア触
媒を用いた。反応は300mlのオートクレーブ(テフ
ロン(登録商標)内張り)に硫酸0.05mol/L、
臭化ナトリウム0.006mol/Lを含む精製水20
ml及び触媒7.2mgを添加し、チッソ置換後、水素
で置換し、室温で1時間撹拌後、再びチッソ置換した。
チッソを0.5MPa、酸素を0.36MPa、水素を
0.03MPa導入し、10℃の水冷浴にセットし、撹
拌下反応させた。1時間毎に減少した圧に相当する水素
を添加した。3時間反応後の水溶液中の過酸化水素濃度
は0.4質量%であった。水素の選択性は75%であっ
た。
【0023】
【実施例5】実施例2で調製したパラジウム担持メチル
基含有シリカ・アルミナメソポア分子ふるい10.8m
gを触媒として用いた以外は実施例4と同様に過酸化水
素の製造反応を行った。その結果、3時間反応後の過酸
化水素の濃度は0.54質量%、水素の選択性は80
%、6時間反応後の過酸化水素濃度は1.3質量%であ
った。
基含有シリカ・アルミナメソポア分子ふるい10.8m
gを触媒として用いた以外は実施例4と同様に過酸化水
素の製造反応を行った。その結果、3時間反応後の過酸
化水素の濃度は0.54質量%、水素の選択性は80
%、6時間反応後の過酸化水素濃度は1.3質量%であ
った。
【0024】
【実施例6】実施例3で調製したパラジウム担持シリカ
・チタニアメソポア分子ふるい10.8mgを触媒とし
て用いた以外は実施例4と同様に過酸化水素の製造反応
を行った。その結果、3時間反応後の過酸化水素の濃度
は0.41質量%であった。
・チタニアメソポア分子ふるい10.8mgを触媒とし
て用いた以外は実施例4と同様に過酸化水素の製造反応
を行った。その結果、3時間反応後の過酸化水素の濃度
は0.41質量%であった。
【0025】
【比較例1】市販のシリカ担体(日揮化学製N−602
A)を粉砕し、ふるい分けし、45μmパスのものを用
い、実施例2同様に但し、パラジウムを担持した触媒を
調製した。この触媒のパラジウム担持量は5質量%、パ
ラジウムの平均粒子径は14nmであった。この触媒を
用いて実施例4同様に過酸化水素の製造反応を行った。
その結果、3時間反応後の過酸化水素濃度は0.3質量
%、6時間反応時の過酸化水素濃度は0.62質量%で
あった。
A)を粉砕し、ふるい分けし、45μmパスのものを用
い、実施例2同様に但し、パラジウムを担持した触媒を
調製した。この触媒のパラジウム担持量は5質量%、パ
ラジウムの平均粒子径は14nmであった。この触媒を
用いて実施例4同様に過酸化水素の製造反応を行った。
その結果、3時間反応後の過酸化水素濃度は0.3質量
%、6時間反応時の過酸化水素濃度は0.62質量%で
あった。
【0026】
【実施例7】実施例1で調製した触媒及び比較例1で調
製した触媒を500℃、5時間水素気流中で加熱処理を
行う、シンタリング促進試験を行った。その結果、実施
例1の触媒のパラジウム粒子径の増大は認められなかっ
た。一方、比較例1の触媒では14nmから20nmへ
粒子径の増加が認められた。その結果、本発明の触媒
は、高濃度担持にもかかわらず極めて高分散で、かつ、
耐シンタリング性を有していることが判明した。
製した触媒を500℃、5時間水素気流中で加熱処理を
行う、シンタリング促進試験を行った。その結果、実施
例1の触媒のパラジウム粒子径の増大は認められなかっ
た。一方、比較例1の触媒では14nmから20nmへ
粒子径の増加が認められた。その結果、本発明の触媒
は、高濃度担持にもかかわらず極めて高分散で、かつ、
耐シンタリング性を有していることが判明した。
【0027】
【発明の効果】本発明の触媒は、活性成分である白金属
金属が高い濃度で担持されているにもかかわらず、高分
散し、かつ、安定性に優れ、水素及び酸素から直接過酸
化水素を製造する際に、比較的低い圧力で、高い過酸化
水素生成性能を発揮する。
金属が高い濃度で担持されているにもかかわらず、高分
散し、かつ、安定性に優れ、水素及び酸素から直接過酸
化水素を製造する際に、比較的低い圧力で、高い過酸化
水素生成性能を発揮する。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 中嶋 齋
神奈川県横浜市旭区川島町2950−25
Fターム(参考) 4G069 AA03 BA07A BA07B BC16A
BC16B BC22A BC38A BC50A
BC50B BC51A BC52A BC55A
BC56A BC66A BC69A BC70A
BC71A BC72A BC72B BC74A
BC75A BD05A BD05B CB81
EC04Y EC14Y FC08 ZA35A
ZA35B ZA37A ZA37B ZA38A
ZA43A ZA43B ZF05A ZF05B
Claims (4)
- 【請求項1】 白金族金属がメソポア分子ふるいに担持
された触媒であって、白金族金属の割合が白金族金属と
メソポア分子ふるいの総和に対して1〜30質量%であ
ることを特徴とする酸素及び水素から直接過酸化水素を
製造するための触媒。 - 【請求項2】 メソポア分子ふるいが有機無機ハイブリ
ッドシリカメソポア分子ふるいであることを特徴とする
請求項1記載の過酸化水素を製造するための触媒。 - 【請求項3】 白金族金属がパラジウムであることを特
徴とする請求項1記載の過酸化水素を製造するための触
媒。 - 【請求項4】 水素及び酸素から直接過酸化水素を製造
するに際して、請求項1記載の過酸化水素を製造するた
めの触媒の存在下に反応させることを特徴とする過酸化
水素の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001203141A JP2003010693A (ja) | 2001-07-04 | 2001-07-04 | 過酸化水素を製造するための触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001203141A JP2003010693A (ja) | 2001-07-04 | 2001-07-04 | 過酸化水素を製造するための触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003010693A true JP2003010693A (ja) | 2003-01-14 |
Family
ID=19039829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001203141A Withdrawn JP2003010693A (ja) | 2001-07-04 | 2001-07-04 | 過酸化水素を製造するための触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003010693A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7011807B2 (en) | 2003-07-14 | 2006-03-14 | Headwaters Nanokinetix, Inc. | Supported catalysts having a controlled coordination structure and methods for preparing such catalysts |
| US7045479B2 (en) | 2003-07-14 | 2006-05-16 | Headwaters Nanokinetix, Inc. | Intermediate precursor compositions used to make supported catalysts having a controlled coordination structure and methods for preparing such compositions |
| US7067103B2 (en) | 2003-03-28 | 2006-06-27 | Headwaters Nanokinetix, Inc. | Direct hydrogen peroxide production using staged hydrogen addition |
| US7144565B2 (en) | 2003-07-29 | 2006-12-05 | Headwaters Nanokinetix, Inc. | Process for direct catalytic hydrogen peroxide production |
| US7396795B2 (en) | 2005-08-31 | 2008-07-08 | Headwaters Technology Innovation, Llc | Low temperature preparation of supported nanoparticle catalysts having increased dispersion |
| US7563742B2 (en) | 2006-09-22 | 2009-07-21 | Headwaters Technology Innovation, Llc | Supported nickel catalysts having high nickel loading and high metal dispersion and methods of making same |
| US7718710B2 (en) | 2006-03-17 | 2010-05-18 | Headwaters Technology Innovation, Llc | Stable concentrated metal colloids and methods of making same |
| WO2013068340A1 (en) | 2011-11-07 | 2013-05-16 | Solvay Sa | A catalyst for direct synthesis of hydrogen peroxide |
-
2001
- 2001-07-04 JP JP2001203141A patent/JP2003010693A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7067103B2 (en) | 2003-03-28 | 2006-06-27 | Headwaters Nanokinetix, Inc. | Direct hydrogen peroxide production using staged hydrogen addition |
| US7105143B2 (en) | 2003-03-28 | 2006-09-12 | Headwaters Nanokinetix, Inc. | Direct hydrogen peroxide production using staged hydrogen addition |
| US7011807B2 (en) | 2003-07-14 | 2006-03-14 | Headwaters Nanokinetix, Inc. | Supported catalysts having a controlled coordination structure and methods for preparing such catalysts |
| US7045479B2 (en) | 2003-07-14 | 2006-05-16 | Headwaters Nanokinetix, Inc. | Intermediate precursor compositions used to make supported catalysts having a controlled coordination structure and methods for preparing such compositions |
| US7144565B2 (en) | 2003-07-29 | 2006-12-05 | Headwaters Nanokinetix, Inc. | Process for direct catalytic hydrogen peroxide production |
| US7396795B2 (en) | 2005-08-31 | 2008-07-08 | Headwaters Technology Innovation, Llc | Low temperature preparation of supported nanoparticle catalysts having increased dispersion |
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| WO2013068340A1 (en) | 2011-11-07 | 2013-05-16 | Solvay Sa | A catalyst for direct synthesis of hydrogen peroxide |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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