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JP2003059035A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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Publication number
JP2003059035A
JP2003059035A JP2001246628A JP2001246628A JP2003059035A JP 2003059035 A JP2003059035 A JP 2003059035A JP 2001246628 A JP2001246628 A JP 2001246628A JP 2001246628 A JP2001246628 A JP 2001246628A JP 2003059035 A JP2003059035 A JP 2003059035A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
layer
powder
back layer
magnetic recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001246628A
Other languages
English (en)
Inventor
Minoru Kanazawa
實 金澤
Yutaka Tsunoishi
裕 角石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001246628A priority Critical patent/JP2003059035A/ja
Publication of JP2003059035A publication Critical patent/JP2003059035A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 バック層の極表面における強度特性から規定
され、ヘッド汚れのない電磁変換特性に優れた磁気記録
媒体を提供すること。 【解決手段】 支持体の一方の面上に強磁性粉末と結合
剤とを含む磁性層を設け、該支持体の他方の面上にバッ
ク層を設けてなる磁気記録媒体において、三角錐状で、
尖端部の曲率半径が100nm、刃角度が65°、稜間
角が115°の形状を有するダイヤモンド圧子を、荷重
6mgf(58.8μN)で前記バック層に押し込んだ
ときの負荷徐荷曲線における押し込み硬さ(DH)が1
00〜200Kg/mm2(0.98〜1.96GP
a)であり、かつヤング率(W)が1000〜2000
Kg/mm2(9.8〜19.6GPa)であることを
特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体、特に
磁気記録媒体の総厚みが4〜10μmである非常に薄い
磁気記録媒体に関する。更に詳しくは、バック層を備え
た磁気記録媒体において、バック層の極表面を硬くする
ことにより、走行時におけるバック層の削れや欠落等に
よるデブリスの発生を防止して磁気ヘッドへの移着が少
なく、更に電磁変換特性が良好な塗布型磁気記録媒体に
関するものである。 【0002】 【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く
用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録
波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデ
ジタル方式まで検討されている。 更に、磁気テープの
場合、テープ厚みを薄くすることで、一定のカセットケ
ースの中に巻く事ができるテープ長を長くし、体積的な
高密度化を図る検討が進んでいる。例えば、8mmビデ
オテープの場合、導入当初はテープ厚み13.5μmで
録再時間が90分であったものが、近年はテープ厚みを
8μmとすることで180分まで録画再生できるように
なった。 【0003】テープ厚みを薄くしても良好な走行耐久性
を保つために、磁性層、バック層、並びに支持体の強度
向上が図られてきた。特にバック層に関しては、特開平
9−212854号公報では、バック層表面の突起の高
さ及び分布を規定し、バック層の摩擦係数を低くして、
走行負荷を低減し、走行耐久性を高め、薄物化にも十分
対応可能とする旨提案されている。また、特開平11−
31320号公報には、保磁力及び飽和磁束密度、中心
線平均粗さ、表面電気抵抗、長手方向のヤング率等を規
定したバック層を開示し、記録情報(磁化)が消失し難
く、十分な剛性を有し、ヘッドタッチが良好であり、更
には遮光性、導電性(静電気の帯電防止特性)、走行
性、及び電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を提供する
旨記載されている。しかしながら、これら従来技術で
は、バック層の極表面の物性については、研究されてき
ていない。従って、バック層の極表面をいかに制御すれ
ば、デブリス発生を防止することができるのか明らかに
されておらず、デブリス発生とバック層の極表面物性と
の関係が見出されていなかった。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような状
況に鑑みてなされたものであり、従来にはないバック層
の極表面における強度特性から規定され、ヘッド汚れの
ない電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。 【0005】 【課題を解決するための手段】 【0006】本発明者らの研究によれば、バック層の極
表面、特に表面から深さ約0.1μm未満の領域(本発
明において、「極表面」とはこの領域を意味する)を特
定の圧子で押し込んだときの負荷徐荷曲線における押し
込み硬さとヤング率のバランスが重要であり、これらが
磁気記録媒体の走行性や電磁変換特性に大きく影響する
ことが判明した。そして、バック層の極表面における押
し込み硬さとヤング率を特定の値に制御することによ
り、バック層からのデブリスの発生が抑制されてヘッド
汚れが低減し、電磁変換特性が改善されることを見出
し、本発明を完成するに到った。 【0007】即ち、本発明は、支持体の一方の面上に強
磁性粉末と結合剤とを含む磁性層を設け、該支持体の他
方の面上にバック層を設けてなる磁気記録媒体におい
て、三角錐状で、尖端部の曲率半径が100nm、刃角
度が65°、稜間角が115°の形状を有するダイヤモ
ンド圧子を、荷重6mgf(58.8μN)で前記バッ
ク層に押し込んだときの負荷徐荷曲線における下記
(1)式で定義される押し込み硬さ(DH)が100〜
200Kg/mm2(0.98〜1.96GPa)であ
り、かつ下記(2)式で定義されるヤング率(W)が1
000〜2000Kg/mm2(9.8〜19.6GP
a)であることを特徴とする磁気記録媒体である。 DH=3.7926×10-2{Pmax/(Hmax)2}(Kg/mm2) =0.37{Pmax/(Hmax)2}(MPa)・・・(1) (但し、Pmaxは最大荷重、Hmaxは圧子の最大変位量で
ある) W=1.8129×10-11 -1(dP/dH)(Kg/mm2) =1.8H1 -1(dP/dH)(MPa)・・・(2) (但し、H1は徐荷曲線の最大変位における接線の荷重
0での変位、dP/dHは徐荷曲線の最大変位における
接線の傾きである。) 尚、本明細書において、Kg/mm2=9.8MPaに
て換算した。 【0008】特に、上記押し込み硬さ(DH)は140
〜180Kg/mm2(1.37〜1.76GPa)で
あることが好ましい。また、上記ヤング率(W)は、1
400〜1800Kg/mm2(13.7〜17.6G
Pa)であることが好ましい。また、本発明は支持体と
磁性層の間に非磁性層を設けた構成が好ましい。 【0009】本発明によれば、バック層の極表面の押し
込み硬さとヤング率を上記の範囲に調整することによ
り、デブリスの発生の少ないバック層を有する磁気記録
媒体が得られる。そのため、走行時にドライブ内のガイ
ドポ−ルとの摺動により発生するバック層材料の欠落や
削れ等のデブリスが減少し、ひいては磁性層へのデブリ
スの移行等が防止されることにより磁気ヘッドへのデブ
リスの付着、すなわちヘッド汚れが低減されるので、電
磁変換特性、特に再生出力及び出力低下が改善される。
バック層の押し込み硬さとヤング率の何れか一方でも前
記範囲から逸脱すると、本発明が目的とする効果が得ら
れない。 【発明の実施の形態】 【0010】本発明において、押し込み硬さとヤング率
は、以下のようにして求められる値である。図1に示す
ように、三角錐状で、尖端部aの曲率半径が100n
m、刃角度(α)が65°、稜間角(β)が115°の
形状を有するダイヤモンド圧子を用い、荷重6mgfで
バック層に押し込んだときの負荷徐荷曲線に基いて求め
られる 【0011】上記した特定形状の圧子を6mgfの荷重
にてバック層に押し込むと、圧子の尖端部aはバック層
の表面から0.1μmの深さまで達することはなく、従
来では不可能であったバック層の極表面での上記各特性
を測定することができる。 【0012】尚、上記形状を有する圧子は、バーコビッ
チ(Verkovich)圧子として知られており、こ
のバーコビッチ圧子を備え、荷重6mgfで測定できる
測定装置としては、(株)エリオニクス製超微小押し込み
硬度測定機(型番:ENT−1100a)等を使用する
ことができる。 【0013】図2は、荷重を連続的に増加させてバーコ
ビッチ圧子を試料に押し込み、荷重6mgfに達した時
点で除荷した時のバーコビッチ圧子の変位量の変化を示
した負荷徐荷曲線を示したものである。図示されるよう
に、曲線Aに示すように、荷重が増加するのに従って変
位量も増加し、6mgfにて最大変位量(Hmax)を示
す。そして、除荷すると、曲線Bに示すように徐々に変
位量が減少するが、荷重がゼロになっても変位量はある
値を示す。このとき、曲線Bの最大変位量(Hmax)に
おける接線bを荷重ゼロ(即ち、横軸)に外挿すること
により、塑性変形量(H1)が得られる。この時の接線
bの傾きが、dP/dHである。尚、最大変位量からこ
の塑性変形量(H1)を差し引いた値が弾性変形量
(H2)である。 【0014】従って、押し込み硬さ(DH)は、上記に
おいて求められた最大変位量(Hmax)と最大荷重(Pm
ax=6mgf)とから、上記(1)式により算出され、
ヤング率(W)は、塑性変形量(H1)及びdP/dH
から、上記(2)式により算出される。バック層の押し
込み硬さとヤング率を上記の範囲にする手段は特に制限
されないが、バック層の樹脂組成の選定やカレンダー処
理におけるロール構成、加熱温度、搬送速度及び圧力、
並びにカレンダー処理後の熱処理における温度や湿度、
加熱時間、等を調整することが有効である。 【0015】尚、従来、層表面の特性評価のために一般
的に用いられているビッカース硬度は、層表面に、四角
錐状のダイヤモンド圧子を所定荷重にて0.1〜0.2
μm程度の深さまで押し込み、圧子を開放した後に残留
する圧跡の表面積と荷重との比から求められるものであ
り、本発明による押し込み硬さとは異なる表面特性を測
定するものである。 【0016】以下、本発明に関して詳細に説明する。初
めにバック層について説明する。本発明の磁気記録媒体
は、バック層が設けられるが、一般に、コンピュータデ
ータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオ
テープに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。
このような高い走行耐久性を維持させるために、バック
層には、カーボンブラックと無機粉末が含有されている
ことが好ましい。 【0017】カーボンブラックは、平均粒子径の異なる
二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。
この場合、平均粒子径が10〜20nmの微粒子状カー
ボンブラックと平均粒子径が230〜300nmの粗粒
子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好
ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラ
ックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く設定
でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録装置に
よっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使
用しているものが多くあるため、このような場合には特
に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。ま
た微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤の保持
力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与す
る。一方、平均粒子径が230〜300nmの粗粒子状
カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有して
おり、またバック層の表面に微小突起を形成し、接触面
積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。 【0018】本発明に用いられる微粒子状カーボンブラ
ック及び粗粒子状カーボンブラックとして、市販のもの
を用いる場合、具体的な商品としては、WO98/35
345に記載のものを挙げることができる。バック層に
おいて、平均粒子径の異なる二種類のものを使用する場
合、10〜20nmの微粒子状カーボンブラックと23
0〜300nmの粗粒子状カーボンブラックの含有比率
(質量比)は、前者:後者=98:2〜75:25の範
囲にあることが好ましく、更に好ましくは、95:5〜
85:15の範囲である。バック層中のカーボンブラッ
ク(二種類のものを使用する場合には、その全量)の含
有量は、結合剤100質量部に対して、通常30〜80
質量部の範囲であり、好ましくは、45〜65質量部の
範囲である。 【0019】無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを
併用することが好ましい。具体的には、モース硬度3〜
4.5の軟質無機粉末とモース硬度5〜9の硬質無機粉
末とを使用することが好ましい。モース硬度が3〜4.
5の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行によ
る摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範
囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもな
い。またこの無機粉末の平均粒子径は、30〜50nm
の範囲にあることが好ましい。モース硬度が3〜4.5
の軟質無機粉末としては、例えば、硫酸カルシウム、炭
酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マ
グネシウム、炭酸亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることがで
きる。これらは、単独で、あるいは二種以上を組み合わ
せて使用することができる。バック層内の軟質無機粉末
の含有量は、カーボンブラック100質量部に対して1
0〜140質量部の範囲にあることが好ましく、更に好
ましくは、35〜100質量部である。 【0020】モース硬度が5〜9の硬質無機粉末を添加
することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久
性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや
前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対
しても劣化が少なく、強いバック層となる。またこの無
機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープ
ガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質
無機粉末と併用すると、表面の粗いガイドポールに対し
ての摺動特性が向上し、バック層の摩擦係数の安定化も
図ることができる。硬質無機粉末の平均粒子径は80〜
250nmが好ましく、100〜210nmの範囲にあ
ることが更に好ましい。モース硬度が5〜9の硬質無機
質粉末としては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、
及び酸化クロム(Cr23)を挙げることができる。こ
れらの粉末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるい
は併用しても良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα
−アルミナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カー
ボンブラック100質量部に対して通常3〜30質量部
であり、好ましくは、3〜20質量部である。 【0021】バック層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉
末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との
硬さの差が、2以上(更に好ましくは、2.5以上、特
に、3以上)であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末
とを選択して使用することが好ましい。バック層には、
前記それぞれ特定の平均粒子径を有するモース硬度の異
なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子径の異なる二種
類のカーボンブラックとが含有されていることが好まし
い。 【0022】バック層には、潤滑剤を含有させることが
できる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層
に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選
択して使用できる。バック層において、潤滑剤は、結合
剤100質量部に対して通常1〜5質量部の範囲で添加
される。 【0023】次に、磁性層に関する詳細な説明をする。
磁性層に使用する強磁性粉末としてはγ−FeOx(x=
1.33〜1.5)、Co変性γ−FeOx(x=1.3
3〜1.5)、α−FeまたはNiまたはCoを主成分
(75%以上)とする強磁性合金粉末、バリウムフェラ
イト、ストロンチウムフェライトなど公知の強磁性粉末
が使用できるが、α−Feを主成分とする強磁性合金粉
末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外
にAl、Si、S、Sc、Ca、Ti、V、Cr、C
u、Y、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、
Ba、Ta、W、Re、Au、Hg、Pb、Bi、L
a、Ce、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、
Sr、Bなどの原子を含んでもかまわない。これらの強
磁性粉末には後述する分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯
電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかま
わない。具体的には、特公昭44-14090号、特公昭45-183
72号、特公昭47-22062号、特公昭47-22513号、特公昭46
-28466号、特公昭46-38755号、特公昭47-4286号、特公
昭47-12422号、特公昭47-17284号、特公昭47-18509号、
特公昭47-18573号、特公昭39-10307号、特公昭48-39639
号、米国特許3026215号、同3031341号、同3100194号、
同3242005号、同3389014号などに記載されている。 【0024】上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末に
ついては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよ
い。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られた
ものを用いることができ、下記の方法を挙げることがで
きる。複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)と水素など
の還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元
性気体で還元してFeあるいはFe−Co粒子などを得
る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁
性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸
塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する
方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性合
金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬し
たのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含
有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥さ
せる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分
圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを
施したものでも用いることができる。 【0025】本発明の磁性層の強磁性粉末をBET法に
よる比表面積で表せば通常、25〜80m2/gであ
り、好ましくは40〜70m2/gである。25m2/g
未満ではノイズが高くなり、80m2/gを超えると表
面性が得にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性
粉末の結晶子サイズは通常、450〜100オングスト
ロ−ムであり、好ましくは350〜100オングストロ
−ムである。酸化鉄磁性粉末の飽和磁化(σs)は通
常、50〜90A・m2/kg、好ましくは70〜90
A・m2/kgであり、強磁性金属粉末の場合は100
〜200A・m2/kgが好ましく、さらに好ましくは
110〜170A・m2/kgである。抗磁力は1,1
00Oe(87.5kA/m)以上3,000Oe(23
8.7kA/m)以下が好ましく、更に好ましくは1,
400Oe(111.4kA/m)以上2,500Oe(1
98.9kA/m)以下である。強磁性粉末の針状比は
4以上18以下が好ましく、更に好ましくは5以上12
以下である。強磁性粉末の含水率は0.01〜2%とす
るのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含
水率は最適化するのが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度
は0.5〜1.5g/ml以上が好ましく、0.8〜1.2
g/mlがさらに好ましい。強磁性合金粉末のタップ密度は
0.2〜0.8g/mlが好ましく、0.8g/ml以上に使用
とすると強磁性粉末の圧密過程で酸化が進みやすく、充
分な飽和磁化σSを得ることが困難になる。タップ密度
が0.2g/ml以下では分散が不十分になりやすい。γ酸
化鉄を用いる場合、2価の鉄の3価の鉄に対する比は好
ましくは0〜20%でありさらに好ましくは5〜10%
である。また鉄原子に対するコバルト原子の量は0〜1
5%、好ましくは2〜8%である。 【0026】強磁性粉末のpHは、用いる結合剤との組
合せにより最適化することが好ましい。その範囲は4〜
12であるが、好ましくは6〜10である。強磁性粉末
は必要に応じ、Al、Si、Pまたはこれらの酸化物な
どで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉
末に対し0.1〜10%であり表面処理を施すと脂肪酸
などの潤滑剤の吸着が100mg/m2以下になり好ま
しい。強磁性粉末には可溶性のNa、Ca、Fe、N
i、Srなどの無機イオンを含む場合があるが500p
pm以下であれば特に特性に影響を与えない。 【0027】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は0〜20容量%、さ
らに好ましくは0〜5容量%である。また形状について
は先に示した平均粒径についての特性を満足すれば針
状、粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。針状強
磁性粉末の場合、針状比は4〜12が好ましい。この強
磁性粉末のSFDが0.1〜0.6を達成するために
は、強磁性粉末のHcの分布を小さくする必要がある。
そのためには、ゲ−タイトの粒度分布をよくする、γ−
ヘマタイトの焼結を防止する、コバルト変性の酸化鉄に
ついてはコバルトの被着速度を従来より遅くするなどの
方法がある。 【0028】本発明の磁性層に含まれる六方晶フェライ
トとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライ
ト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、
Co置換体等、六方晶Co粉末が使用できる。具体的に
はマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びス
トロンチウムフェライト、更に一部スピネル相を含有し
たマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びス
トロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原
子以外にAl、Si、S,Sc、Ca、Ti、V,C
r、Cu、Y、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、
Te、Ba、Ta、W、Re、Au、Hg、Pb、B
i、La、Ce、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、
Ni、Sr、B、Ge、Nbなどの原子を含んでもかま
わない。この中でAl、Si、Ca、Cr、Y、Ba、
Nd、Co、Mn、Zn、Ni、Bが好ましい。一般に
はCo−Ti、Co−Ti−Zr、Co−Ti−Zn、
Ni−Ti−Zn、Ir−Zn等の元素を添加した物を
使用することができるが、特に好ましいものはバリウム
フェライト、ストロンチウムフェライトの各Co置換体
である。上層磁性層の長手方向のSFDは0.01〜
0.3にすると抗磁力の分布が小さくなり好ましい。抗
磁力を制御するためには、平均粒径、粒子厚を均一にす
る、六方晶フェライトのスピネル相の厚みを一定にす
る、スピネル相の置換元素の量を一定にする、スピネル
相の置換サイトの場所を一定にする、などの方法があ
る。 【0029】上記六方晶フェライトは通常六角板状の粒
子であり、その平均粒径は六角板状の粒子の板の幅を意
味し電子顕微鏡を使用して測定することができるが、好
ましい平均粒径(板径)は0.01〜0.2μm、特に
0.03〜0.1μmの範囲である。また、該微粒子の
平均厚さ(板厚)は0.001〜0.2μm、特に0.
003〜0.05μmが好ましい。更に板状比(平均粒
径/板厚)は1〜15、好ましくは3〜7である。ま
た、これら六方晶フェライト微粉末のBET法による比
表面積(SBET)は25〜100m2/g、40〜70m2/g
が好ましい。25m 2/g以下ではノイズが高くなり、10
0m2/g以上では表面性が得にくく好ましくない。強磁性
粉末の抗磁力は500Oe(39.8kA/m)以上4,
000Oe(318.3kA/m)以下が好ましく、更に
好ましくは1,200Oe(95.5kA/m)以上3,
000Oe(238.7kA/m)以下である。500Oe
(39.8kA/m)以下では短波長出力が低下し、
4,000Oe(318.3kA/m)以上ではヘッドに
よる記録がしにくく好ましくない。σsは50〜90A
・m2/kg、好ましくは60〜90A・m2/kgであ
る。タップ密度は0.5〜1.5g/mlが好ましく、
0.8〜1.2g/mlがさらに好ましい。六方晶フェ
ライトの製法としてはガラス結晶化法・共沈法・水熱反
応法等があるが、本発明は製法を選ばない。 【0030】本発明は、支持体と磁性層の間に非磁性層
を設けることが好ましい。非磁性層に用いられる非磁性
粉末は、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒
化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から
選択することができる。具体的には、例えばα化率90
〜100%のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チ
タン、二酸化珪素、酸化スス゛、酸化マク゛ネシウム、
酸化タンク゛ステン、酸化シ゛ルコニウム、窒化ホウ
素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸
バリウム、二硫化モリフ゛テ゛ンなどが単独または組合
せで使用される。特に好ましいのは二酸化チタン、酸化
亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは
二酸化チタンである。これら非磁性粉末の平均粒径は
0.005〜2μmが好ましいが、必要に応じて平均粒
径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性
粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせること
もできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の平均粒径
は0.01μm〜0.2μmである。タップ密度は0.
05〜2g/ml、好ましくは0.2〜1.5g/ml
である。非磁性粉末の含水率は0.1〜5質量%、好ま
しくは0.2〜3質量%である。非磁性粉末のpHは2
〜11であるが、pHは6〜9の間が特に好ましい。非
磁性粉末の比表面積は1〜100m2/g、好ましくは
5〜50m2/g、更に好ましくは7〜40m2/gであ
る。非磁性粉末の結晶子サイス゛は0.01μm〜2μ
mが好ましい。DBPを用いた吸油量は5〜100ml/100
g、好ましくは10〜80ml/100g、更に好ましくは20
〜60ml/100gである。比重は1〜12、好ましくは3
〜6である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいず
れでも良い。 【0031】強熱減量は0〜20質量%であることが好
ましい。本発明に用いられる上記無機粉末のモース硬度
は4〜10のものが好ましい。これらの粉末表面のラフ
ネスファクターは0.8〜1.5が好ましく、更に好ま
しいラフネスファクターは0.9〜1.2である。無機
粉末のSA(ステアリン酸)吸着量は1〜20μmol/m
2、更に好ましくは2〜15μmol/m2である。非磁性粉
末の25℃での水への湿潤熱は200erg/cm2〜600e
rg/cm2の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱
の範囲にある溶媒を使用することができる。100〜4
00℃での表面の水分子の量は1〜10個/100Aが適当
である。水中での等電点のpHは3〜6の間にあること
が好ましい。 【0032】これらの非磁性粉末の表面にはAl2O3、SiO
2、TiO2、ZrO2,SnO2,Sb2O3,ZnOで表面処理すること
が好ましい。特に分散性に好ましいのはAl2O3、SiO2、T
iO2、ZrO2、であるが、更に好ましいのはAl2O3、SiO2
ZrO2である。これらは組み合わせて使用しても良いし、
単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈さ
せた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理
した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその
逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的
に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である
方が一般には好ましい。 【0033】また、非磁性粉末は市場からも入手でき、
例えば、昭和電工製ナノタイト、住友化学製HIT-100,ZA
-G1、戸田工業社製DPN-250,DPN-250BX、DPN-245,DPN-2
70BX石原産業製TTO-51B、TTO-55A,TTO-55B、TTO-55C、T
TO-55S、TTO-55D、SN-100,E270,E271 チタン工業製STT-
4D、STT-30D、STT-30、STT-65C、テイカ製MT-100S、MT-
100T、MT-150W、MT-500B、MT-600B、MT-100F、MT-500H
D。堺化学製FINEX-25,BF-1,BF-10,BF-20,ST-M、同和鉱
業製DEFIC-Y,DEFIC-R、日本アエロシ゛ル製AS2BM,TiO2P
25,宇部興産製100A,500A、チタン工業製Y-LOP及びそれ
を焼成したものが挙げられる。 【0034】特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンで
あるので、二酸化チタンを例に製法を詳しく記す。これ
らの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫
酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ti,F
eなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して
除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分
解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾
過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを
添加した後、80〜1000℃で焼成すれば粗酸化チタ
ンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添
加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタ
ンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素
法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱
石は高温還元状態で塩素化され、TiはTiCl4にF
eはFeCl2となり、冷却により固体となった酸化鉄
は液体のTiCl4と分離される。得られた粗TiCl4
は精留により精製した後核生成剤を添加し、1000℃
以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを
得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料
的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じであ
る。 【0035】表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれ
る。まず、所定量のAl,Si,Ti,Zr,Sb,S
n,Znなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、
またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チ
タン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカン
テーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリ
ーpHを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済
みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤー
で乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕
され、製品になる。また、水系ばかりでなく、酸化チタ
ン粉末にAlCl3,SiCl4の蒸気を通じ、その後水蒸気を流
入してAl,Si表面処理を施すことも可能である。その他
の顔料の製法については、G.D.Parfitt and K.S.W. Sin
g "Characterization of Powder Surfaces" Academic
Press,1976を参考にすることができる。 【0036】非磁性層にカ−ボンブラックを混合させて
公知の効果であるRsを下げることができるとともに、
所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。 こ
のためにはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−
用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることがで
きる。 【0037】カ−ボンブラックの比表面積は100〜5
00m2/g、好ましくは150〜400m2/g、DB
P吸油量は20〜400ml/100g、好ましくは30〜2
00ml/100gである。カ−ボンブラックの平均粒径は5
mμ〜80mμ、好ましく10〜50mμ、さらに好ま
しくは10〜40mμである。カ−ボンブラックのpH
は2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ密度は
0.1〜1g/mlが好ましい。本発明において使用可能
なカ−ボンブラックの具体的な例としては、例えばキャ
ボット社製BLACKPEARLS 2000、130
0、1000、900、800,880,700、VU
LCAN XC−72、三菱化成工業社製#3050
B,3150B,3250B、#3750B、#395
0B、#950、#650B,#970B、#850
B、MA−600、コンロンビアカ−ボン社製COND
UCTEX SC、同RAVEN 8800、8000、7000、5
750、5250、3500、2100、2000、1800、1500、1255、125
0、アクゾー社製ケッチェンブラックEC等が挙げられ
る。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、
樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラフ
ァイト化したものを使用してもかまわない。また、カ−
ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で
分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上
記無機質粉末に対して0〜50質量%の範囲、非磁性層
総質量の0〜40%の範囲で使用できる。これらのカ−
ボンブラックは単独、または組合せで使用することがで
きる。 【0038】本発明で使用できるカ−ボンブラックは例
えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会
編」を参考にすることができる。また、非磁性層には有
機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例え
ば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹
脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が
挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステ
ル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹
脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができ
る。その製法は特開昭62-18564号、特開昭60-255827号
に記されているようなものが使用できる。下塗層は一般
の磁気記録媒体において設けることが行われているが、
これは支持体と磁性層等の接着力を向上させるために設
けられるものであって、厚さも0.005〜0.5μm
が一般的で、0.01〜0.1μmが好ましい。 【0039】非磁性層は磁性層が均一な厚みで塗布する
ための手段である。ない方が好ましいが現実的には不可
能であるため、付与する場合でも薄層かつ非磁性である
ことが望ましい。磁性層の磁性体粒子の並びを良くする
ため非磁性層に針状の磁性体粒子を少量、意図的に含ま
せてもよい。実質的に非磁性層とは下層の残留磁束密度
が10mT以下または抗磁力が100エルステッド(≒
8kA/m)以下であることを示し、好ましくは残留磁
束密度と抗磁力をもたないことを示す。又、非磁性層に
磁性粉を含む場合は、下層の全無機粉末の1/2未満含
むことが好ましい。また、非磁性層に代えて軟磁性粉末
と結合剤を含む軟磁性層を形成してもよい。軟磁性層の
厚みは非磁性層と同様である。更に非磁性層に代えて磁
性層(下層磁性層という)としてもよい。下層磁性層の
磁性粉末としては、γ−Fe23、Co変性γ−Fe2
3、α−Feを主成分とする合金、CrO2等が用いら
れる。特に、Co変性γ−Fe23が好ましい。用いら
れる強磁性粉末は、磁性層に用いられる強磁性粉末と異
なる組成、性能が好ましい。例えば、長波長記録特性を
向上させるためには、下層磁性層のHcは磁性層(この
場合、上層磁性層)のそれより低く設定することが望ま
しく、また、下層磁性層のBrを上層磁性層のそれより
高くする事が有効である。それ以外にも、公知の重層構
成を採る事による利点を付与させることができる。 【0040】非磁性層のバインダー、潤滑剤、分散剤、
添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層のそれが適用で
きる。特に、バインダー量、種類、添加剤、分散剤の添
加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用で
きる。 【0041】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−100〜150℃、数平均分子量が1,0
00〜200,000、好ましくは10,000〜10
0,000、重合度が約50〜1,000程度のもので
ある。 【0042】このような樹脂の例としては、塩化ビニ
ル、酢酸ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アク
ルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリ
ロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、ス
チレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビ
ニルアセタ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として
含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴ
ム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂
としてはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、
アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−
ン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂
とイソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステル
ポリオ−ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタ
ンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これ
らの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハン
ドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子
線硬化型樹脂を下層塗布層、または上層磁性層に使用す
ることも可能である。 【0043】これらの樹脂とその製造方法については特
開昭62−256219号に詳細に記載されている。以
上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましい
ものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−ル樹脂、塩化
ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、中から選ば
れる少なくとも1種とポリウレタン樹脂の組合せ、また
はこれらにポリイソシアネ−トを組み合わせたものがあ
げられる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリ
ウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テルポ
リエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレタ
ン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリ
カプロラクトンポリウレタンポリオレフィンポリウレタ
ンなど公知のものが使用できる。ここに示した全ての結
合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るため
に、必要に応じ、−COOM、−SO3M、−OSO
3M、−P=O(OM)2、−O−P=O(OM)2(以
上につきMは水素原子、またはアルカリ金属塩基)、−
OH、−NR2、−N+3(Rは炭化水素基)エポキシ
基、−SH、−CN、スルフォベタイン、カルボキシベ
タイン、ホスホベタインなどから選ばれる少なくともひ
とつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したも
のを用いることが好ましい。このような極性基の量は1
-1〜10-8モル/gであり、好ましくは10-2〜10
-6モル/gである。 【0044】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製VAGH、VY
HH、VMCH、VAGF、VAGD,VROH,VY
ES,VYNC,VMCC,XYHL,XYSG,PK
HH,PKHJ,PKHC,PKFE,日信化学工業社
製MPR−TA、MPR−TA5,MPR−TAL,M
PR−TSN,MPR−TMF,MPR−TS、MPR
−TM、MPR−TAO、電気化学社製1000W、D
X80,DX81,DX82,DX83、100FD、
日本ゼオン社製MR−104、MR−105、MR11
0、MR100、400X−110A、日本ポリウレタ
ン社製ニッポランN2301、N2302、N230
4、大日本インキ社製パンデックスT−5105、T−
R3080、T−5201、バ−ノックD−400、D
−210−80、クリスボン6109,7209,東洋
紡社製バイロンUR8200、UR8300、UR−8
600、UR−5500、UR−4300、RV53
0、RV280、FB−84、大日精化社製ダイフェラ
ミン4020、5020、5100、5300、902
0、9022、7020、三菱化成社製MX5004、
三洋化成社製サンプレンSP−150、TIM−300
3、TIM−3005、旭化成社製サランF310、F
210などがあげられる。この中でMR−104、MR
110、UR8300、UR−8600、UR−550
0、UR−4300、TIM−3005が好ましい。 【0045】本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁
性粉末に対し、5〜50質量%の範囲、好ましくは10
〜30質量%の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を
用いる場合は5〜30質量%、ポリウレタン樹脂を用い
る場合は2〜20質量%、ポリイソシアネ−トは2〜2
0質量%の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好ま
しい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガ
ラス転移温度が−50〜100℃、破断伸びが100〜
2,000%、破断応力は通常、0.05〜10Kg/
mm2(0.49〜98MPa)、降伏点は0.05〜
10Kg/mm2(0.49〜98MPa)が好まし
い。 【0046】本発明の磁気記録媒体は二層以上としても
よい。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル
系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、ある
いはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分
子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性な
どを必要に応じ各層とで変えることはもちろん可能であ
り、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例え
ば、各層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の
擦傷を減らすためには磁性層のバインダー量を増量する
ことが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好
にする為には、例えば、磁性層以外の層のバインダー量
を多くして柔軟性を持たせること等の手段が挙げられ
る。 【0047】ポリイソシアネ−トとしては、トリレンジ
イソシアネ−ト、4,4'−ジフェニルメタンジイソシ
アネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、キシリレ
ンジイソシアネ−ト、ナフチレン−1,5−ジイソシア
ネ−ト、o−トルイジンジイソシアネ−ト、イソホロン
ジイソシアネ−ト、トリフェニルメタントリイソシアネ
−ト等のイソシアネ−ト類、また、これらのイソシアネ
−ト類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネ
ート類の縮合によって生成したポリイソシアネ−ト等を
使用することができる。これらのイソシアネート類の市
販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コ
ロネートL、コロネ−トHL,コロネ−ト2030、コ
ロネ−ト2031、ミリオネ−トMR、ミリオネ−トM
TL、武田薬品社製タケネ−トD−102,タケネ−ト
D−110N、タケネ−トD−200、タケネ−トD−
202、住友バイエル社製デスモジュ−ルL,デスモジ
ュ−ルIL、デスモジュ−ルN、デスモジュ−ルHL等
があり、これらを単独または硬化反応性の差を利用して
二つもしくはそれ以上の組合せで下層塗布層、上層磁性
層とも用いることができる。 【0048】カ−ボンブラックはゴム用ファ−ネス、ゴ
ム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック
等を用いることができる。比表面積は5〜500m2
g、DBP吸油量は10〜400ml/100g、平均
粒径は5mμ〜300mμ、pHは2〜10、含水率は
0.1〜10%、タップ密度は0.1〜1g/mlが好ま
しい。カ−ボンブラックの具体的な例としては、キャボ
ット社製BLACKPEARLS 2000、130
0、1000、900、800,700、VULCAN
XC−72、旭カ−ボン社製#80、#60,#5
5、#50、#35、三菱化成工業社製#2400B、
#2300、#900,#1000#30,#40、#
10B、コンロンビアカ−ボン社製CONDUCTEX
SC、RAVEN 150、50,40,15などがあ
げられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理し
たり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部を
グラファイト化したものを使用してもかまわない。 【0049】また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加
する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。こ
れらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用す
ることができる。カ−ボンブラックを使用する場合は強
磁性粉末に対する量の0.1〜30%で用いることが好
ましい。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係
数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、こ
れらは用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って、
本発明に使用されるこれらのカ−ボンブラックは磁性
層、非磁性層でその種類、量、組合せを変え、平均粒
径、吸油量、電導度、pHなどの先に示した諸特性をも
とに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
る。本発明の磁性層で使用できるカ−ボンブラックは例
えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会編
を参考にすることができる。 【0050】研磨剤としては、α化率90〜100%の
α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロ
ム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイ
アモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカ−バイト、酸化
チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス
硬度6〜10の公知の材料が単独または組合せで使用さ
れる。また、これらの研磨剤どうしの複合体(研磨剤を
他の研磨剤で表面処理したもの)を使用してもよい。こ
れらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含ま
れる場合もあるが主成分が90〜100%であれば効果
にかわりはない。これら研磨剤の平均粒径は0.01〜
2μmが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる研
磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広
くして同様の効果をもたせることもできる。タップ密度
は0.3〜2g/ml、含水率は0.1〜5%、pHは
2〜11、比表面積は1〜30m2/g、が好ましい。
本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコ
ロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するも
のが研磨性が高く好ましい。研磨剤の具体的な例として
は、住友化学社製AKP−20,AKP−30,AKP
−50、HIT−50、HIT−60,HiT−60
A、HIT−80,HIT−80G,HIT−100、
日本化学工業社製G5,G7,S−1、戸田工業社製T
F−100,TF−140などがあげられる。これらの
研磨剤は、予め結合剤で分散処理した後、磁性塗料中に
添加してもかまわない。本発明の磁気記録媒体におい
て、磁性層表面および磁性層端面に存在する研磨剤は5
〜130個/100μm2が好ましく、5〜90個/1
00μm2が特に好ましい。 【0051】本発明においては、潤滑効果、帯電防止効
果、分散効果、可塑効果、などをもつ添加剤を添加する
ことができる。二硫化モリブデン、二硫化タングステン
グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−ンオ
イル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ−
ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、フ
ッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−ル、
アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アル
キル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェ
ニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよび
そのアルカリ金属塩、炭素数10〜24の一塩基性脂肪
酸(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない)、および、これらの金属塩(Li、Na、K、C
uなど)または、炭素数12〜22の一価、二価、三
価、四価、五価、六価アルコ−ル、(不飽和結合を含ん
でも、また分岐していてもかまわない)、炭素数12〜
22のアルコキシアルコ−ル、炭素数10〜24の一塩
基性脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない)と炭素数2〜12の一価、二価、三価、
四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一つ(不飽和結
合を含んでも、また分岐していてもかまわない)とから
なるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたは
トリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノ
アルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素数8〜22の
脂肪酸アミド、炭素数8〜22の脂肪族アミン、などが
使用できる。 【0052】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステ
アレ−ト 、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、
オレイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ル、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」(産業図書株式会社発行)に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも100%
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は0〜30%が好ましく、さらに好
ましくは0〜10%である。 【0053】これらの潤滑剤、界面活性剤は非磁性層、
磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることがで
きる。例えば、非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸
を用い表面へのにじみ出しを制御すること、沸点や極性
の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御す
ること、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を
向上させること、潤滑剤の添加量を非磁性層で多くして
潤滑効果を向上させることなどが考えられ、無論ここに
示した例のみに限られるものではない。 【0054】また、上記の添加剤の全てまたはその一部
は、磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、
例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁
性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、
分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布
直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁
性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一
部または全部を塗布することにより目的が達成される場
合がある。また、目的によってはカレンダーした後、ま
たはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布するこ
ともできる。 【0055】また、これら潤滑剤の商品例としては、日
本油脂社製NAA−102,NAA−415,NAA−
312,NAA−160,NAA−180,NAA−1
74,NAA−175,NAA−222,NAA−3
4,NAA−35,NAA−171,NAA−122、
NAA−142、NAA−160、NAA−173K,
ヒマシ硬化脂肪酸、NAA−42,NAA−44、カチ
オンSA、カチオンMA、カチオンAB,カチオンB
B,ナイミ−ンL−201,ナイミ−ンL−202,ナ
イミ−ンS−202,ノニオンE−208,ノニオンP
−208,ノニオンS−207,ノニオンK−204,
ノニオンNS−202,ノニオンNS−210,ノニオ
ンHS−206,ノニオンL−2,ノニオンS−2,ノ
ニオンS−4,ノニオンO−2、ノニオンLP−20
R,ノニオンPP−40R,ノニオンSP−60R、ノ
ニオンOP−80R、ノニオンOP−85R,ノニオン
LT−221,ノニオンST−221,ノニオンOT−
221,モノグリMB,ノニオンDS−60,アノンB
F,アノンLG,ブチルステアレ−ト、ブチルラウレ−
ト、エルカ酸、関東化学社製オレイン酸、竹本油脂社製
FAL−205、FAL−123、新日本理化社製エヌ
ジェルブLO、エヌジョルブIPM,サンソサイザ−E
4030、信越化学社製TA−3、KF−96、KF−
96L、KF96H、KF410,KF420、KF9
65,KF54,KF50,KF56,KF907,K
F851,X−22−819,X−22−822,KF
905,KF700,KF393,KF−857,KF
−860,KF−865,X−22−980,KF−1
01,KF−102,KF−103,X−22−371
0,X−22−3715,KF−910,KF−393
5,ライオンア−マ−社製ア−マイドP、ア−マイド
C,ア−モスリップCP、ライオン油脂社製デユオミン
TDO、日清製油社製BA−41G、三洋化成社製プロ
ファン2012E、ニュ−ポ−ルPE61、イオネット
MS−400,イオネットMO−200、 イオネット
DL−200,イオネットDS−300、イオネットD
S−1000、イオネットDO−200などが挙げられ
る。 【0056】有機溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラ
ン、等のケトン類、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ
−ル、ブタノ−ル、イソブチルアルコ−ル、イソプロピ
ルアルコール、メチルシクロヘキサノール、などのアル
コ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、
酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコ−ル等のエ
ステル類、グリコ−ルジメチルエーテル、グリコールモ
ノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコールエー
テル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、
クロルベンゼン、などの芳香族炭化水素類、メチレンク
ロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホ
ルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、等
の塩素化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、
ヘキサン等を、任意の比率で使用できる。これら有機溶
媒は必ずしも100%純粋ではなく、主成分以外に異性
体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不
純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は0〜
30%が好ましく、さらに好ましくは0〜10%であ
る。また、有機溶媒は磁性層と非磁性層とでその種類は
同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかま
わない。非磁性層に表面張力の高い溶媒(シクロヘキサ
ノン、ジオキサンなど)を用いることにより、塗布の安
定性をあげる、具体的には磁性層溶剤組成の算術平均値
が,非磁性層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが
肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性
が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が15〜2
5の溶剤が50〜80%含まれることが好ましい。ま
た、溶解パラメ−タは8〜11であることが好ましい。 【0057】本発明の磁気記録媒体において、その厚み
構成は支持体が1〜10μmであるが、特に、1〜8μ
mの薄い支持体を用いる場合に有効である。磁性層と非
磁性層を合わせた厚みは、支持体の厚みの1/100〜
2倍の範囲で用いられる。また、支持体と非磁性層の間
に密着性向上のための接着層を設けてもよい。接着層の
厚みは0.01〜0.5μm、好ましくは0.02〜
0.3μmある。また、支持体の磁性層側と反対側に設
けるバック層の厚みは、通常、0.1〜2μm、好まし
くは0.3〜1.0μmである。これらの接着層、バッ
クコ−ト層は公知のものが使用できる。これらの接着
層、バック層の厚みも磁気記録媒体の層厚みに含める。 【0058】本発明に用いられる支持体は、マイクロビ
ッカース硬度が75〜100Kg/mm2(735〜9
80MPa)のものであり、二軸延伸を行ったポリエチ
レンナフタレート、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳
香族ポリアミド、脂肪族ポリアミド、ポリベンズオキシ
ダゾールなどの公知のフィルムが使用できる。特に、芳
香族ポリアミド(アラミド)樹脂を用いた支持体が好ま
しい。支持体のマイクロビッカース硬度が75〜100
Kg/mm2(735〜980MPa)にするためには
フイルム製膜時の加熱条件、弛緩条件、延伸条件等を調
整する事および素材を選択する事により行うことができ
る。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プ
ラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをお
こなっても良い。また、支持体は、その中心線平均表面
粗さが0.001〜0.03μm、好ましくは0.00
1〜0.02μm、さらに好ましくは0.001〜0.
01μmものを使用する必要がある。また、これらの支
持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、
1μm以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面
の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−
の大きさと量により自由にコントロ−ルされるものであ
る。これらのフィラ−としては一例としてはAl,C
a,Si、Tiなどの酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶質
を問わない他、アクリル系、メラミン系などの有機微粉
末があげられる。 【0059】また、支持体のテ−プ走行方向のF−5値
は好ましくは10〜50Kg/mm 2(98〜490M
Pa)、テ−プ幅方向のF−5値は好ましくは10〜3
0Kg/mm2(98〜294MPa)であり、テ−プ
の長手方向のF−5値がテ−プ幅方向のF−5値より高
いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必
要があるときはその限りでない。また、支持体のテ−プ
走行方向および幅方向の100℃、30分での熱収縮率
は好ましくは0〜3%、さらに好ましくは0〜1.5
%、80℃、30分での熱収縮率は好ましくは0〜1
%、さらに好ましくは0〜0.5%である。破断強度は
両方向とも5〜100Kg/mm2(49〜980MP
a)、弾性率は100〜2,000Kg/mm2(0.
98〜19.6GPa)が好ましい。 【0060】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ2段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を2つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成する
ためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用
いることができることはもちろんであるが、混練工程で
は連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど強い混練力をもつものを
使用することが好ましい。連続ニ−ダまたは加圧ニ−ダ
を用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその
一部(ただし全結合剤の30%以上が好ましい)および
強磁性粉末100部に対し15〜500部の範囲で混練
処理される。これらの混練処理の詳細については特開平
1−166338号、特開昭64−79274号に記載
されている。また、非磁性層用塗布液を調製する場合に
は高比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジル
コニアビーズが好適である。 【0061】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 1,磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず非磁性層を塗布し、非磁性層がウ
ェット状態にのうちに特公平1-46186号や特開昭60-2381
79号,特開平2-265672号に開示されている支持体加圧型
エクストルージョン塗布装置により磁性層を塗布する。 2,特開昭63-88080号、特開平2-17971号、特開平2-265
672号に開示されているような塗布液通液スリットを二
つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に
塗布する。 3,特開平2-174965号に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により、上下層を
ほぼ同時に塗布する。なお、磁性粒子の凝集による磁気
記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開
昭62-95174号や特開平1-236968号に開示されているよう
な方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与す
ることが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、
特開平3-8471号に開示されている数値範囲を満足する必
要がある。 【0062】本発明の磁気記録媒体を得るためには強力
な配向を行うことが好ましい。0.1T以上のソレノイ
ドと0.2T以上のコバルト磁石を同極対向で併用する
ことが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くな
るように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好
ましい。また、ディスク媒体として本発明を適用する場
合はむしろ配向をランダマイズするような配向法が必要
である。 【0063】さらに、カレンダ処理ロ−ルとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロ−ルを使用する。また、金属
ロ−ル同志で処理することも出来る。処理温度は、好ま
しくは70〜150℃、さらに好ましくは80〜150
℃である。線圧力は好ましくは200〜500Kg/c
m(196〜490kN/m)、さらに好ましくは30
0〜400Kg/cm(294〜392kN/m)であ
る。 【0064】本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびそ
の反対面のSUS420Jに対する摩擦係数は、好まし
くは0.1〜0.5、さらに0.15〜0.3、表面固
有抵抗は好ましくは104〜1012オ−ム/sq、磁性
層の0.5%伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好
ましくは100〜2,000Kg/mm2(980〜1
9600N/mm2)、破断強度は好ましくは1〜30
Kg/mm2(9.8〜294N/mm2)、磁気記録媒
体の弾性率は走行方向、長い方向とも好ましくは100
〜1,500Kg/mm2(980〜14700N/m
2)、残留伸びは好ましくは0〜0.5%、100℃
以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは0〜1
%、さらに好ましくは0〜0.5%、もっとも好ましく
は0〜0.1%である。磁性層のガラス転移温度(110Hz
で測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は5
0℃以上120℃以下が好ましく、下層塗布層のそれは
0℃〜100℃が好ましい。損失弾性率は1×103
1×104N/cm2の範囲にあることが好ましく、損失
正接は0.2以下であることが好ましい。損失正接が大
きすぎると粘着故障がでやすい。磁性層中に含まれる残
留溶媒は好ましくは0〜100mg/m2、さらに好ま
しくは0〜10mg/m2であり、磁性層に含まれる残
留溶媒が非磁性層に含まれる残留溶媒より少ないほうが
好ましい。磁性層及び非磁性層が有する空隙率はともに
好ましくは0〜30容量%、さらに好ましくは0〜20
容量%である。空隙率は高出力を果たすためには小さい
方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が
良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるデ
ータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐
久性は好ましいことが多い。 【0065】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場5
kOe(400kA/m)で測定した場合、テ−プ走行
方向の角形比は0.70〜1.00であり、好ましくは
0.80〜1.00であり、さらに好ましくは0.90
〜1.00である。テ−プ走行方向に直角な二つの方向
の角型比は走行方向の角型比の80%以下となることが
好ましい。磁性層のSFDは0.1〜0.6であること
が好ましい。 【0066】磁性層の中心線表面粗さRaは1nm〜1
0nmが好ましいが、その値は目的により適宜設定され
るべきである。電磁変換特性を良好にする為にはRaは
小さいほど好ましいが、走行耐久性を良好にするために
は逆に大きいほど好ましい。AFMによる評価で求めた
RMS表面粗さRRMSは2nm〜15nmの範囲にある
ことが好ましい 【0067】 【実施例】以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を
更に説明するが、本発明はこれにより何ら制限するもの
ではない。以下において、単位「部」は何れも質量部を
示す。 【0068】 [磁気記録媒体の作製] (磁性層形成用成分) ・強磁性金属微粉末 100部 組成:Fe/Co=90/10(原子比)、Hc:2500 Oe、 BET法による比表面積:58m2/g、結晶子サイズ:175Å、 σs:130A・m2/kg、pH:8.6、水溶性Na:70ppm、 水溶性Ca:10ppm、水溶性Fe:10ppm ・塩化ビニル系共重合体(日本ゼオン製MR−110) 11部 ・ポリエステルポリウレタン樹脂 6部 ネオペンチルグリコ−ル/カプロラクトンポリオ−ル/MDI =0.9/2.6/1(モル比)、−SO3Na基含有量:1×10-4eq/ g ・ポリイソシアネ−ト(日本ポリウレタン製コロネ−トL) 5部 ・α−アルミナ(平均粒径0.2μm) 5部 ・カ−ボンブラック(平均粒径0.1μm) 0.5部 ・ブチルステアレ−ト 1部 ・ステアリン酸 2部 ・メチルエチルケトン 150部 ・シクロヘキサノン 50部 (非磁性層形成用成分) ・無機質非磁性粉末 80部 組成:α―Fe23 ヘマタイト、平均長軸長:0.15μm、 BET法による比表面積:60m2/g、pH:6.0、 タップ密度:0.8、DBP吸油量:27〜38ml/100g、 表面処理剤:Al23、SiO2 ・カーボンブラック 20部 平均一次粒径:16μm、DBP吸油量:80ml/100g、 pH:8.0、BET法による比表面積:250m2/g、 揮発分:1.5% ・塩化ビニル系共重合体(日本ゼオン製MR−110) 12部 ・ポリエステルポリウレタン樹脂 5部 ネオペンチルグリコ−ル/カプロラクトンポリオ−ル/MDI =0.9/2.6/1(モル比)、−SO3Na基含有量: 1×10-4eq/g ・ポリイソシアネ−ト(日本ポリウレタン製コロネ−トL) 5部 ・α−アルミナ(平均粒径0.15μm) 1部 ・secブチルステアレ−ト 1.5部 ・ステアリン酸 1部 ・メチルエチルケトン 100部 ・シクロヘキサノン 100部 ・トルエン 50部 【0069】(磁性層塗布液及び非磁性層塗布液の調
製)上記の各成分を配合し、オ−プンニ−ダ−で混練し
た後、サンドミルを用いて分散させた。得られた磁性層
塗布液、非磁性層塗布液には、更にメチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン混合溶媒40部を加え、1μmの
平均孔径を有するフィルタ−を用いて濾過し、磁性層塗
布液及び非磁性層塗布液をそれぞれ調製した。 【0070】[バック層形成用塗布液の調製]実施例及
び比較例で使用したバック層形成用成分は下記の通りで
ある。尚、結合剤の部数は、表1に示した。 (バック層形成用塗布液の成分) 結合剤 ・ニトロセルロース樹脂 a部 ・ポリウレタン樹脂 日本ポリウレタン社製ニッポランN2301 b部 東洋紡社製バイロン500 c部 ・塩化ビニル系共重合体 日本ゼオン製MR−110 d部 ・ポリイソシアネ−ト 日本ポリウレタン製コロネ−トL e部 カーボンブラック ・微粒子状カーボンブラック粉末 50部 (キャボット社製、BP−800、平均粒子径:17nm) ・粗粒子カーボンブラック粉末 5部 (カーンカルブ社製、サーマルブラック、平均粒子径:230nm) 無機粉末 ・炭酸カルシウム 40部 (白石工業(株)製白艶華、平均粒子径:40nm) ・α−酸化鉄 7.5部 (戸田工業(株)製、TF100、平均粒子径:110nm、モース硬度:5. 5) 分散剤 ・オレイン酸銅 2.5部 ・銅フタロシアニン 2.5部 ・硫酸バリウム 2.5部 分散溶剤 ・メチルエチルケトン 1100部 ・酢酸ブチル 150部 ・トルエン 300部 【0071】上記成分を連続ニーダで混練した後、サン
ドミルを用いて分散させた。得られた分散液を1μmの
平均孔径を有するフイルターを用いて濾過し、バック層
形成用塗布液を調製した。 【0072】 【表1】 【0073】(磁気記録媒体の作製)上記非磁性層塗布
液を、乾燥後の厚さが2.2μmになるように、更にそ
の上に上記磁性層塗布液を乾燥後の磁性層の厚さが0.
25μmになるように、厚さ6μmで中心線表面粗さが
0.001μmのポリエチレンテレフタレ−ト支持体上
に同時重層塗布を行った。磁性層及び非磁性層を同時塗
布後、両層が湿潤状態にあるうちに0.6Tの磁力を持
つ希土類磁石と0.3Tのソレノイド磁石により配向さ
せ、乾燥させた後、支持体の反対側に前記バック層形成
用塗布液を用いて乾燥厚みが0.5μmになるようにバ
ック層を塗布した。バック層乾燥後、ロール構成がMM
Sのカレンダー処理機(温度80℃、速度150m/
分、線圧250kN/m(260Kg/cm)に通して
カレンダー処理をした。カレンダー処理後、ロ−ルに巻
かれた状態のまま、70℃、乾燥下で24時間サ−モ処
理して硬化を促進させた後、1/2吋幅にスリットし、
磁気テ−プを製造した。 【0074】[押し込み硬さとヤング率の測定]得られ
た磁気テープについて、バック層の押し込み硬さとヤン
グ率を測定した。 【0075】(測定装置)測定装置として、(株)エリ
オニクス製超微小押し込み硬さ試験機(型式ENT−1
100a)を用いた。主な装置仕様は下記の通りであ
る。 ・荷重発生方式:電磁力式 ・圧子:三角錐圧子、刃角度65°、稜間角115゜、
ダイヤモンド製 ・荷重範囲:2mgf〜100gf(19.6μN〜
0.98N) ・荷重分解能:0.2μN ・変位測定方式:圧子の動きを静電容量式に検知 ・変位範囲:〜20μm ・変位読取分解能:0.3nm 【0076】(測定条件)上記各磁気テープを5mm×
5mmにカットし、アルミニウム製の、専用の測定試料
台に接着剤で固定し、乾燥固定後、測定環境に約30分
放置して馴染ませた後測定した。測定条件は下記の通り
である。 ・試験荷重:6mgf ・分割数:100 ・ステップインタ−バル:100msec ・負荷のかけ方:10秒かけて6mgfまで連続的に増
加させた後、6mgfにて1秒間保持し、その後10秒
かけて除荷した。 ・測定環境:温度28±0.1℃ ・測定n数:バック層の7箇所について測定し、測定値
の中心からn=5の値を測定値として使用した。 【0077】押し込み硬さとヤング率の求め方は、前記
方法によった。結果を下記表2に示す。 (評価)また、各磁気テ−プについて、以下の性能評価
を行った。 (磁気記録再生システムの組立) (1)使用磁気ヘッド 記録ヘッド ・構造:2タ−ン薄膜コイルをCo系アモルファス磁性
薄膜ヨ−クで挟持したインダクティブヘッド ・トラック幅:66μm、ギャップ長:1.4μm 再生ヘッド ・構造:両シ−ルド型シャントバイアスMR(磁気抵抗
型)ヘッド(MR素子はFe/Ni(パ−マロイ)合金
薄膜) ・トラック幅:22μm、シ−ルド間隔:0.45μm (2)磁気記録再生システムの組立 上記記録再生ヘッドを富士通(株)製F613Aドライ
ブ(3480型1/2吋カ−トリッジ磁気テ−プ記録再
生装置)に装着し、テ−プスピ−ド40インチ/秒の磁
気記録再生システムを作成し、評価に用いた。 【0078】(評価−1:再生出力)上記磁気記録再生
システムに、実施例及び比較例の磁気テ−プを装着して
下記の条件で再生出力を測定した。トラック幅66μ
m、トラック数128、デ−タ−を0.5μmの記録波
長し、22μmの幅を持つ再生ヘッドで再生して出力を
測定した。 【0079】(評価−2:出力低下(走行耐久性))上
記の磁気記録再生システムに実施例及び比較例の磁気テ
−プを装着し、テ−プ全長50000パスの繰り返し走
行を行い評価した。その際、出力低下については磁気テ
−プの全長にわたって再生出力を測定し、初期の再生出
力に対する低下分を出力低下として評価した。 【0080】(評価−3:ヘッド汚れ)評価終了した
後、デッキよりヘッドを取り外し、実体顕微鏡下で、観
察倍率50倍でヘッド表面の付着物の状況を観察し、下
記3段階で評価した。 ×……付着物がやや多い ○……付着物が少し見られる ◎……付着物が殆どない 上記の各評価結果を下記表2に示す。 【0081】 【表2】 【0082】上表より、実施例は、ヘッド汚れ、再生出
力及び出力低下が改善されるが、押し込み硬さとヤング
率が本発明範囲を外れる比較例1及び2は、ヘッド汚れ
が改善されず、再生出力及び出力低下も改善されない。 【0083】 【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気記録
媒体ではバック層極表面の押し込み硬さとヤング率を制
御することにより、バック層からのデブリス発生が抑制
されるので、ヘッド汚れを改善することが出来、電磁変
換特性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明で用いる圧子の形状を説明するための図
である。 【図2】押し込み硬さとヤング率の定義を説明するため
の図である。
フロントページの続き Fターム(参考) 4J038 HA026 PB11 5D006 BA19 CC03 EA01 FA02 FA05 FA09

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 支持体の一方の面上に強磁性粉末と結合
    剤とを含む磁性層を設け、該支持体の他方の面上にバッ
    ク層を設けてなる磁気記録媒体において、三角錐状で、
    尖端部の曲率半径が100nm、刃角度が65°、稜間
    角が115°の形状を有するダイヤモンド圧子を、荷重
    6mgf(58.8μN)で前記バック層に押し込んだ
    ときの負荷徐荷曲線における下記(1)式で定義される
    押し込み硬さ(DH)が100〜200Kg/mm
    2(0.98〜1.96GPa)であり、かつ下記
    (2)式で定義されるヤング率(W)が1000〜20
    00Kg/mm2(9.8〜19.6GPa)であるこ
    とを特徴とする磁気記録媒体。 DH=3.7926×10-2{Pmax/(Hmax)2}(Kg/mm2) =0.37{Pmax/(Hmax)2}(MPa)・・・(1) (但し、Pmaxは最大荷重、Hmaxは圧子の最大変位量で
    ある) W=1.8129×10-11 -1(dP/dH)(Kg/mm2) =1.8H1 -1(dP/dH)(MPa)・・・(2) (但し、H1は徐荷曲線の最大変位における接線の荷重
    0での変位、dP/dHは徐荷曲線の最大変位における
    接線の傾きである。)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007018624A (ja) * 2005-07-08 2007-01-25 Fujifilm Holdings Corp 磁気記録媒体

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