JP2002367140A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】従来から使用されている、生産性に優れ、低価
格で提供可能な塗布型磁気記録媒体と、ＭＲヘッドとの
組合せにより、ＴＡの少ない高密度特性に優れた磁気記
録媒体を提供すること。 【解決手段】非磁性支持体上に実質的に非磁性である下
層と六方晶系フェライト粉末を結合剤中に分散してなる
磁性層とをこの順に設けた磁気記録媒体。前記磁性層
は、その表面に直径２〜１００μｍ、高さ１００ｎｍ以
上の突起を１０個／９００ｃｍ²未満有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度記録用の塗
布型磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピー（登録
商標）ディスクがパーソナルコンピュータに標準搭載さ
れている。しかし、扱うデータ容量が急激に増加してい
る今日において、その容量は十分とは言えなくなってき
ており、フロッピーディスクの大容量化、高密度化が望
まれている。

【０００３】また、磁気テープの分野においても、近年
パーソナルコンピュータ、ワークステーション等のオフ
ィスコンピュータの普及に伴って、外部記憶媒体とし
て、コンピュータデータを記録するための磁気テープ
（所謂バックアップテープ）の研究が盛んに行われてい
る。このような用途の磁気テープの実用化に際しては、
特にコンピュータの小型化、情報処理能力の増大と相ま
って、記録の大容量化、小型化を達成するため、記録容
量の向上、更なる高密度化が強く要求されている。

【０００４】高密度化実現のための１つの方向として、
磁気ヘッドの改良が進められている。従来使用されてい
る電磁誘導を動作原理とする磁気ヘッド（誘導型磁気ヘ
ッド）は、大きな再生出力を得るためには再生ヘッドの
コイル巻数を多くする必要がある。しかし、インダクタ
ンスが増加し高周波での抵抗が増加すると、その結果と
して再生出力が低下する問題があり、高密度記録再生に
限界が生じていた。

【０００５】これに対して、ＭＲ（磁気抵抗）を動作原
理とする再生ヘッドが提案され、ハードディスク等で使
用され始めている。磁気抵抗型磁気ヘッド（ＭＲヘッ
ド）は、誘導型磁気ヘッドに比較して数倍の再生出力が
得られ、かつ誘導コイルを用いないため、インピーダン
スノイズ等の機器ノイズが大幅に低下し、高密度記録再
生特性の向上が望めるものである。

【０００６】しかし、ＭＲヘッドを用いる場合の問題点
として、磁気記録媒体上に存在する突起と衝突したとき
に発生する熱エネルギーにより磁気抵抗が変化し、ＤＣ
レベルがスパイク状に変化する現象（サーマルアスペリ
ティ：ＴＡ）がある。ＴＡが頻繁に発生すると、エラー
の補正が不可能になるという問題が生じ、更には、ヘッ
ド自身が破壊される場合もある。そのため、ＴＡの発生
を極力低減させる必要がある。換言すれば、磁気記録媒
体上に存在する突起を少なくすれば、良好な記録再生が
行うことができ、高密度記録特性の飛躍的な向上が可能
になる。しかし、どのような形状のどのような大きさの
突起を減らせば、良好な記録再生が得られるのかは知ら
れていなかった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、従来から使用されている、生産性に優れ、低価格で
提供可能な塗布型磁気記録媒体と、ＭＲヘッドとの組合
せにより、ＴＡの少ない高密度特性に優れた磁気記録媒
体を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、電磁変換
特性が良好で、特に高密度記録領域でＴＡの発生を格段
に抑制した磁気記録媒体を得るために、ＴＡを起こした
サンプルについて鋭意検討を行った。その結果、ＴＡの
核となる突起の大きさは、いずれも直径（円相当径）が
２〜１００μｍΦの間であり、かつ高さが１００ｎｍ以
上であることを見出した。そこで、本発明者らは、上記
知見により、ＴＡの発生の原因となる突起の発生を抑止
することにより、上記目的を達成することができること
を見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明の
目的は、非磁性支持体上に実質的に非磁性である下層と
六方晶系フェライト粉末を結合剤中に分散してなる磁性
層とをこの順に設けた磁気記録媒体において、前記磁性
層が、その表面に直径２〜１００μｍ、高さ１００ｎｍ
以上の突起を１０個／９００ｃｍ²未満有することを特
徴とする磁気記録媒体によって達成される。

【０００９】本発明の好ましい態様は、以下の通りであ
る。 （１）磁気記録媒体は、ＭＲ再生ヘッド搭載のデジタル
信号記録用ディスク又はテープである。 （２）六方晶系フェライト粉末の平均板径は、０．０４
μｍ以下であり、かつ板比は３以上である。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体につ
いて更に詳細に説明する。 [磁性層]本発明の磁気記録媒体では、磁性層表面に存在
する突起の中で、直径が２〜１００μｍの範囲にある、
高さが１００ｎｍ以上である突起個数を、１０個／９０
０ｃｍ²未満とする。上記寸法の突起個数が１０個／９
００ｃｍ²以上であると、ＭＲヘッドで再生したときに
ＭＲヘッドが突起に衝突するチャンスが増え、サーマル
アスペリティの発生が増加してエラーが生じることがあ
り、場合によってはＭＲヘッドが破壊されてしまうこと
がある。上記寸法の突起個数は、１０個／９００ｃｍ²
未満であれば制限はなく、０個／９００ｃｍ²であって
も良い。

【００１１】本発明の磁性層の表面突起は、支持体起因
の突起と塗布層に関連する突起とに分類され、磁性層の
表面突起が上記条件を満たすように、支持体に起因する
突起及び塗布層に関連する突起を制御する。通常、支持
体表面には、所望の電磁変換特性と耐久性あるいは支持
体ハンドリング適性を得るため、微小な突起が形成され
ている。表面に微小な表面突起を形成するために、支持
体には微粒子の無機乃至有機フィラーが含有されてい
る。必要とする電磁変換特性、耐久性、ハンドリング性
を得るために、フィラーの粒子サイズや粒子サイズ分布
を変えたり、異なる粒子サイズのフィラーを混合する等
して表面突起を形成している。支持体に添加する微粒子
の粒子サイズが比較的大きかったり、粒子サイズ分布が
ブロードで大きな粒子が含まれていたり、フィラーの分
散が不十分で凝集体が存在していたり、分散できていて
も製膜機への送液や製膜中に凝集してしまったりする
と、所謂粗大突起が形成される。微粒子なフィラーほど
分散が困難であり、凝集が起こり易い。従って、磁性層
の突起の原因となる支持体表面の突起は、支持体に添加
するフィラーの種類、粒子サイズ、粒子サイズ分布、分
散条件、粗大粒子や凝集粒子を除去するためのフィルタ
ー条件によってコントロールすることができる。

【００１２】支持体表面の突起の影響は、塗布層の厚み
を厚くすることによって小さくなり、その結果、磁性層
表面の突起を減少させることができる。塗布層の突起
は、上層（磁性層）に含有される磁性体、研磨剤、カー
ボンブラック、下層（非磁性層）に含有される非磁性粉
体、研磨剤、カーボンブラック等の無機粉体の粒子サイ
ズ、それらを分散する結合剤や潤滑剤の種類、上層液、
下層液を調製するときの混練条件、分散条件、塗布層厚
み、塗布乾燥条件、カレンダー条件、磁性層表面の表面
処理条件等によってコントロールすることができる。上
記無機粉体の粒子サイズが小さくなると、結合剤に分散
しにくくなり突起を形成しやすくなる。結合剤との組み
合わせによっても分散状態が変化し、突起数が変化す
る。また混練条件に関しては、添加する溶剤量を少なく
して強練りすると、混練物を分散しずらくなり、突起数
が増える傾向がある。逆に、溶剤量を増して弱練りにす
ると突起数が減る傾向がある。分散条件としては、分散
時間は、サンドミル分散に用いる分散メディアの硬度、
比重等により適宜変化させることができる。分散時間が
短いと、突起数は増加する。一方、過度に分散時間を長
くしても、分散機や分散メディアの摩耗による不純物の
混入により粒子の凝集が起こり、突起数が増加する。カ
レンダー条件は、一般には強くする（カレンダー圧力、
温度、ロール硬度を高める、スピードを下げる）と突起
を少なくすることができる。

【００１３】磁性層表面処理の方法としては、フロッピ
ーディスクでは所謂バーニッシュ処理と呼ばれる公知の
処理方法を用いることができる。研磨テープを磁性層表
面に押しつけて研磨する方法で、研磨テープの番手や押
しつけ圧をコントロールすることにより、磁性層表面に
存在する直径２〜１００μｍ、高さ１００ｎｍ以上の突
起個数を１０個／９００ｃｍ²未満にコントロールする
ことができる。テープの場合、特開昭６３−２５９８３
０号報に開示されている、研磨テープを用いた研磨処理
法（ラッピングテープブレード法）、サファイヤブレー
ド法、ダイヤモンドホイール法等を用いることができ、
これらの方法の選択や、それぞれの処理条件の設定によ
り、磁性層表面に存在する直径２〜１００μｍ、高さ１
００ｎｍ以上の突起個数を１０個／９００ｃｍ²未満に
コントロールすることができる。支持体の表面突起や塗
布層の突起が多い場合でも、この表面処理を施せば、磁
性層表面の突起を減少させることができる。以上のよう
に、磁性層表面の突起をコントロールには様々な方法が
あり、本発明の磁気記録媒体で定義する表面状態を得る
ために、これらの手法を適宜組み合わせて用いることが
できる。

【００１４】本発明の磁気記録媒体の表面突起は次のよ
うにして求めることができる。磁気記録媒体表面を微分
干渉顕微鏡で観察し、突起物の部分をマーキングしてお
き、その後、ＷＹＫＯ社製ＨＤ−２０００（対物レンズ
５０倍、中間レンズ０．５倍、測定範囲 ２４２μｍｘ
１８４μｍ）を用いて突起の高さと幅を計測する。幅を
直径として、それが２〜１００μｍであり、かつ高さ１
００ｎｍ以上の個数をカウンすることにより、９００ｃ
ｍ²当たりの突起物の数を求めることができる。

【００１５】本発明の磁性層は、磁性体として六方晶系
フェライト粉末を含む。六方晶系フェライト粉末は、高
密度特性に優れているため、高密度記録に適している。
六方晶系フェライトとしては、バリウムフェライト、ス
トロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフ
ェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的には
マグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びスト
ロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆した
マグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル
相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェラ
イト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その
他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、
Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓ
ｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、
Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚ
ｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ等の原子を含んでもか
まわない。一般にはＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃ
ｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃ
ｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した
物を使用することができる。原料・製法によっては特有
の不純物を含有するものもある。

【００１６】本発明で用いる六方晶系フェライト粉末の
平均板径は、０．０４μｍ以下であることが好ましく、
より好ましくは、０．０１〜０．０３５μｍであり、更
に好ましくは０．０１５〜０．０３０μｍであることが
適当である。平均板径が０．０４μｍ以下であると、媒
体ノイズが低減でき、また、たとえ凝集体が生じても高
い突起となりにくいため好ましい。

【００１７】上記六方晶系フェライトの板比（板径／板
厚）は、３以上であることが好ましく、より好ましくは
３〜５であることが適当である。板状比が小さいと磁性
層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得
られない。上記範囲を超えると、粒子間のスタッキング
によりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥ
Ｔ法による比表面積は１０〜２００ｍ²／ｇを示す。比
表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号す
る。結晶子サイズは５０〜４５０Å、好ましくは１００
〜３５０Åである。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほ
ど好ましい。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より
５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は
正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに
対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．
０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生
成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子
に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸
溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られ
ている。磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは４０〜４００
ｋＡ／ｍ（５００〜５０００Ｏｅ）程度まで作成でき
る。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘ
ッドの能力で制限される。通常６４ｋＡ／ｍ（８００Ｏ
ｅ）から３１８ｋＡ／ｍ（４０００Ｏｅ）程度である
が、好ましくは１１９ｋＡ／ｍ（１５００Ｏｅ）以上、
２７９ｋＡ／ｍ（３５００Ｏｅ）以下である。ヘッドの
飽和磁化が１．４テスラーを越える場合は、１５９ｋＡ
／ｍ（２０００Ｏｅ）以上にすることが好ましい。Ｈｃ
は粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元
素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御でき
る。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ²／ｋｇ（４０〜
８０ｅｍｕ／ｇ）である。σｓは高い方が好ましいが微
粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のため
マグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライト
を複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良
く知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いるこ
とも可能である。

【００１８】六方晶系フェライトの製法としては、酸
化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス
形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成に
なるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、
次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェ
ライト結晶粉体を得るガラス結晶化法。バリウムフェ
ライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を
除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・
粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応
法。バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで
中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以下で
処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共
沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。

【００１９】六方晶系フェライトを分散する際に、磁性
体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理する
こともできる。表面処理材は無機化合物、有機化合物が
使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の
酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各
種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に
対して０．１〜１０％である。磁性体のｐＨも分散に重
要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより
最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜
１０程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に
影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常
０．０１〜２．０％が選ばれる。

【００２０】本発明の磁性層には、カーボンブラックを
添加することができ、カーボンブラックとしては、例え
ば、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラ
ック、アセチレンブラック等を用いることができる。比
表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４
００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは
２〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発明に用いられるカ
ーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製
ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１００
０、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７
２、旭カーボン社製＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、
＃３５、三菱化成工業社製＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃９００、＃１０００＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コロ
ンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶ
ＥＮ １５０、５０、４０、１５等が挙げられる。カー
ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグ
ラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化
したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラ
ックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散
してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、
または組合せで使用することができる。カーボンブラッ
クを使用する場合は、六方晶系フェライトに対する量の
０．１〜３０重量％で用いることが好ましい。

【００２１】カーボンブラックは、磁性層の帯電防止、
摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従
って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは磁
性層、下層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイ
ズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をも
とに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
る。本発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは例
えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会
編）を参考にすることができる。

【００２２】[非磁性層]次に、非磁性層（実質的に非磁
性である下層）に関する詳細な内容について説明する。
本発明の非磁性層は、非磁性粉末及び結合剤を含むもの
であることができ、非磁性粉末は、例えば、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物、等の無機化合物から選択することがで
きる。無機化合物としては、例えばα化率９０％以上の
α−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アル
ミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸
化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪
素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化
スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジル
コニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫
酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが
単独または組合せで使用される。特に好ましいものは、
粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、
二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであ
り、更に好ましいものは、二酸化チタン、α酸化鉄であ
る。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜０．
５μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる
非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒
径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。
とりわけ好ましくは、非磁性粉末の粒子サイズは０．０
１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金
属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が
好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長は０．
２μｍ以下、好ましくは０．１５μｍ以下、更に好まし
くは０．１μｍ以下であることが適当である。非磁性粉
末の針状比は２〜２０、好ましくは３〜１０であること
が適当である。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好
ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌであることが適当であ
る。非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量％、好ましく
は０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５重
量％であることが適当である。非磁性粉末のｐＨは２〜
１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好まし
い。これらは官能基に対する吸着性が高いので、分散が
良く、また塗膜の機械的な強度も高い。

【００２３】非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ²／
ｇ、好ましくは５〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０
〜７０ｍ²／ｇであることが適当である。非磁性粉末の
結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、
０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジ
ブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／
１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に
好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇであることが適当
である。比重は１〜１２、好ましくは３〜６であること
が適当である。形状は針状、球状、多面体状、板状のい
ずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下のものが
好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は
１〜２０μｍｏｌ／ｍ²、好ましくは２〜１５μｍｏｌ
／ｍ²、更に好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²であること
が適当である。ｐＨは３〜６の間にあることが好まし
い。これらの非磁性粉末の表面は表面処理されて、Ａｌ
₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ
₂Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ₃が存在することが好ましい。特に
分散性に好ましいものは、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｔｉ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂であり、更に好ましいものは Ａｌ₂Ｏ₃、
ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み合わせて使用し
ても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に
応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずア
ルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方
法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表
面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、
均質で密である方が一般には好ましい。

【００２４】本発明の非磁性層に用いられる非磁性粉末
の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化
学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマ
タイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−
２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、Ｄ
ＢＮ−ＳＡ１、ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタン
ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、Ｔ
ＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ
−１００、αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３０
０、Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、
ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘ
マタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１
００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６０
０Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製Ｆ
ＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、
ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−
Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇
部興産製１００Ａ、５００Ａ、及びそれを焼成したもの
が挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は、二酸化チタ
ンとα−酸化鉄である。

【００２５】非磁性層にカーボンブラックを混合させて
公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、及び
光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマ
イクロビッカース硬度を得る事ができる。カーボンブラ
ックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラ
ー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることがで
きる。非磁性層に用いるカーボンブラックの比表面積は
１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ²
／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好
ましくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇであることが適当
である。カーボンブラックの粒子径は５〜８０ｎｍ、好
ましく１ ０〜５０ｎｍ、更に好ましくは１０〜４０ｎ
ｍであることが適当である。カーボンブラックのｐＨは
２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．
１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発明に用いられるカーボ
ンブラックの具体的な例としては、キャボット社製 Ｂ
ＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１００
０、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、三菱化成工業社製 ＃３０５０Ｂ、＃３１
５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、
＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ
−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０、コ
ロンビアカーボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、Ｒ
ＡＶＥＮ ８８００、８０００、７０００、５７５０、
５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、
１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製 ケッチ
ェンブラックＥＣ等が挙げられる。カーボンブラックを
分散剤等で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用
しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用し
てもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加
する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。こ
れらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０
重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越え
ない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単
独、または組合せで使用することができる。本発明で使
用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック
便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることが
できる。

【００２６】また、非磁性層には、有機質粉末を目的に
応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチ
レン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン
系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポ
リオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポ
リアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ
化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特
開昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号
公報に記されているようなものが使用できる。非磁性層
の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方
法その他は以下に記載する磁性層のそれが適用できる。
特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加量、
種類に関しては、磁性層に関する公知技術が適用でき
る。

【００２７】［結合剤］本発明の磁性層と非磁性層、及
び使用する場合にはバックコート層の結合剤、潤滑剤、
分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層、非
磁性層、バックコート層の公知技術が適用できる。特
に、結合剤量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に
関しては、磁性層に関する公知技術が適用できる。本発
明に使用される結合剤としては、従来公知の熱可塑系樹
脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を挙げ
ることができる。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温
度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１,０００〜
２００,０００、好ましくは１０,０００〜１００,００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものであることが
適当である。

【００２８】このような結合剤の例としては、塩化ビニ
ル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アク
ルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリ
ロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、ス
チレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビ
ニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として
含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴ
ム系樹脂が挙げられる。また、熱硬化性樹脂または反応
型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド
樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステ
ル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエ
ステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリ
ウレタンとポリイソシアネートの混合物等が挙げられ
る。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチ
ックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公
知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能であ
る。これらの例とその製造方法については特開昭６２−
２５６２１９号公報に詳細に記載されている。以上の樹
脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものと
して、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体から選ば
れる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、また
はこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものが挙
げられる。

【００２９】ポリウレタン樹脂の構造は、ポリエステル
ポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテ
ルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウ
レタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、
ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用
できる。ここに示したすべての結合剤について、より優
れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯ
ＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、
−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂（以上の式中、Ｍは水素原子、
またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−Ｎ⁺Ｒ
₃（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ等
から選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合また
は付加反応で導入したものを用いることが好ましい。こ
のような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、
好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇであることが適当で
ある。

【００３０】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としては、ユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、Ｐ
ＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、
ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、
大日精化社製ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１
００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱
化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−
１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などが挙
げられる。

【００３１】本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結
合剤は、非磁性粉末または磁性粉末に対し、５〜５０％
の範囲、好ましくは１０〜３０％の範囲で用いることが
できる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０％、
ポリウレタン樹脂合を用いる場合は２〜２０％、ポリイ
ソシアネートは２〜２０％の範囲でこれらを組み合わせ
て用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によ
りヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみ、また
はポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも
可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場
合は、ガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは
０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断
応力は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ²（０．４９〜９８Ｍ
Ｐａ）、降伏点は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ²（０．４
９〜９８ＭＰａ）が好ましい。

【００３２】本発明の磁気記録媒体は、少なくとも、上
層の磁性層と下層の非磁性層を含む二層以上からなる。
従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいは
それ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ非磁性層、各磁性層とで変えることはもち
ろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多
層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層
で結合剤量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らす
ためには磁性層の結合剤量を増量することが有効であ
り、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするために
は、非磁性層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせるこ
とができる。

【００３３】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネー
ト２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、
ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモ
ジュールＨＬ等がありこれらを単独または硬化反応性の
差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも
用いることができる。

【００３４】本発明の磁性層及び非磁性層には、研磨剤
を用いることができ、研磨剤としては、α化率９０％以
上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化ク
ロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダ
イアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、
酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素等、主としてモー
ス硬度６以上の公知の材料を単独または組合せで使用す
ることができる。また、これらの研磨剤どうしの複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
も良い。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが、主成分が９０重量％以上
であれば効果に変わりはない。タップ密度は０．３〜２
ｇ／ｍｌ、含水率は０．１〜５重量％、ｐＨは２〜１
１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇが好ましい。本発明に
用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状のい
ずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性
が高く好ましい。本発明に用いられる研磨剤の具体的な
例としては、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３
０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−５５、ＨＩ
Ｔ−６０Ａ、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−１００、日本化学
工業社製Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、戸田工業社製ＴＦ−１０
０、ＴＦ−１４０等が挙げられる。本発明に用いられる
研磨剤は磁性層（上下層）、非磁性層で種類、量及び組
合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可
能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処
理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。

【００３５】本発明において添加剤としては、潤滑効
果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果等をもつものが
使用できる。二硫化モリブデン、二硫化タングステング
ラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイ
ル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、
フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素
含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アル
キル燐酸エステル及びそのアルカリ金属塩、アルキル硫
酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエー
テル、フッ素含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカ
リ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和
結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、及
びこれらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕ等）または、
炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六
価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐してい
てもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアル
コール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結
合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素
数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アル
コールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステ
ルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、
アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂
肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数
８〜２２の脂肪族アミン等が使用できる。

【００３６】これらの具体例としては、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、
ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレ
ン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸
オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソ
ルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジス
テアレート 、アンヒドロソルビタントリステアレー
ト、オレイルアルコール、ラウリルアルコールが挙げら
れる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、
グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイ
ド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エス
テルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘
導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型等の両性界面活性剤等も使用で
きる。

【００３７】これらの界面活性剤については、「界面活
性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載され
ている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１０
０％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物 等の不純分がふくまれてもか
まわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さ
らに好ましくは１０％以下である。

【００３８】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層、磁性上層でその種類、量を必要に応じ使
い分けることができる。例えば、下層、磁性上層で融点
の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、
沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出
しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安
定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多くし
て潤滑効果を向上させる等考えられ、無論ここに示した
例のみに限られるものではない。また本発明で用いられ
る添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製造のど
の工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に
強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤
による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場
合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合な
どがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同
時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布す
ることにより目的が達成される場合がある。また、目的
によってはカレンダーした後、またはスリット終了後、
磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００３９】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製ＮＡＡ−１０２、ＮＡＡ−４１
５、ＮＡＡ−３１２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１８
０、ＮＡＡ−１７４、ＮＡＡ−１７５、ＮＡＡ−２２
２、ＮＡＡ−３４、ＮＡＡ−３５、ＮＡＡ−１７１、Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ、ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ、カチオンＢＢ、ナイミーンＬ−２０１、ナイミーン
Ｌ−２０２、ナイミーンＳ−２０２、ノニオンＥ−２０
８、ノニオンＰ−２０８、ノニオンＳ−２０７、ノニオ
ンＫ−２０４、ノニオンＮＳ−２０２、ノニオンＮＳ−
２１０、ノニオンＨＳ−２０６、ノニオンＬ−２、ノニ
オンＳ−２、ノニオンＳ−４、ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ、ノニオンＰＰ−４０Ｒ、ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ、ノニオンＬＴ−２２１、ノニオンＳＴ−２２１、ノ
ニオンＯＴ−２２１、モノグリＭＢ、ノニオンＤＳ−６
０、アノンＢＦ、アノンＬＧ、ブチルステアレート、ブ
チルラウレート、エルカ酸、関東化学社製オレイン酸、
竹本油脂社製ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本
理化社製エヌジェルブＬＯ、エヌジェルブＩＰＭ、サン
ソサイザーＥ４０３０、信越化学社製ＴＡ−３、ＫＦ−
９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４１０、ＫＦ４
２０、ＫＦ９６５、ＫＦ５４、ＫＦ５０、ＫＦ５６、Ｋ
Ｆ９０７、ＫＦ８５１、Ｘ−２２−８１９、Ｘ−２２−
８２２、ＫＦ９０５、ＫＦ７００、ＫＦ３９３、ＫＦ−
８５７、ＫＦ−８６０、ＫＦ−８６５、Ｘ−２２−９８
０、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０３、Ｘ−
２２−３７１０、Ｘ−２２−３７１５、ＫＦ−９１０、
ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製アーマイドＰ、
アーマイドＣ、アーモスリップＣＰ、ライオン油脂社製
デュオミンＴＤＯ、日清製油社製ＢＡ−４１Ｇ、三洋化
成社製プロファン２０１２Ｅ、ニューポールＰＥ６１、
イオネットＭＳ−４００、イオネットＭＯ−２００イオ
ネットＤＬ−２００、イオネットＤＳ−３００、イオネ
ットＤＳ−１０００イオネットＤＯ−２００等が挙げら
れる。

【００４０】[層構成]本発明の磁気記録媒体の厚み構成
は、非磁性支持体の厚みが２〜１００μｍ、好ましくは
２〜８０μｍであることが適当である。フロッピーディ
スクの非磁性支持体の厚みは２０〜８００μｍ、好まし
くは２５〜７０μｍであることが適当である。コンピュ
ータテープの非磁性支持体の厚みは、３．０〜１０μ
ｍ、好ましくは、３．０〜８．０μｍ、更に好ましく
は、３．０〜５．５μｍの範囲であることが適当であ
る。磁性層の厚みは、０．０１〜０．５μｍが好まし
い。上層が薄すぎると均一な記録層が形成されず、厚す
ぎると表面が粗くなり電磁変換特性が低下する。磁性層
は、単一層でも複数でも、本発明の目的を達成すること
ができる。非磁性層の厚みは、０．５〜３μｍが好まし
い、薄すぎると耐久性が低下し、厚すぎると表面が粗く
なり電磁変換特性が低下する。上層と下層を合わせた厚
みは、非磁性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で
あることが適当である。

【００４１】また、非磁性支持体と非磁性層との間に密
着性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。本下
塗層厚みは０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０２〜
０．５μｍであることが適当である。下塗り層として
は、公知のものを使用することができる。

【００４２】［バックコート層］また、本発明で用いる
非磁性支持体の磁性層を設けた面と反対の面にバックコ
ート層が設けられていても良い。通常バックコート層
は、非磁性支持体の磁性層を設けた面と反対の面に、研
磨材、帯電防止剤などの粒状成分と結合剤とを有機溶剤
に分散したバックコート層形成塗料を塗布して設けられ
た層である。なお、非磁性支持体の磁性塗料及びバック
コート層形成塗料の塗布面に接着剤層が設けられていて
も良い。非磁性支持体の磁性層側と反対側にバックコー
ト層を設ける場合、バックコート層の厚みは０．１〜２
μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍであることが適当
である。

【００４３】一般に、コンピュータデータ記録用の磁気
テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較し
て、繰り返し走行性が強く要求される。このような高い
走行耐久性を維持させるために、バックコート層には、
カーボンブラックと無機粉末が含有されていることが好
ましい。カーボンブラックは、平均粒子サイズの異なる
二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。
この場合、平均粒子サイズが１０〜２０ｎｍの微粒子状
カーボンブラックと平均粒子サイズが２３０〜３００ｎ
ｍの粗粒子状カーボンブラックを組み合わせて使用する
ことが好ましい。一般に、上記のような微粒子状のカー
ボンブラックの添加により、バックコート層の表面電気
抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。
磁気記録装置によっては、テープの光透過率を利用し、
動作の信号に使用しているものが多くあるため、このよ
うな場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は
有効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に液
体潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低
減化に寄与する。一方、粒子サイズが２３０〜３００ｎ
ｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての
機能を有しており、またバック層の表面に微小突起を形
成し、接触面積を低減して、摩擦係数の低減化に寄与す
る。しかし粗粒子状カーボンブラックは、過酷な走行系
では、テープ摺動により、バックコート層からの脱落が
生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠点を有し
ている。

【００４４】微粒子状カーボンブラックの具体的な商品
としては、以下のものを挙げることができる。ＲＡＶＥ
Ｎ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１
７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８０
０（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ
９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、
ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５
（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６
ｎｍ）（三菱化成工業（株）製）。また粗粒子カーボン
ブラックの具体的な商品の例としては、サーマルブラッ
ク（２７０ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ
ＭＴＰ（２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙
げることができる。

【００４５】バックコート層において、平均粒子サイズ
の異なる二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍ
の微粒子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗
粒子状カーボンブラックの含有比率（重量比）は、前
者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好
ましく、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲
であることが適当である。バックコート層中のカーボン
ブラック（二種類のものを使用する場合には、その全
量）の含有量は、結合剤１００重量部に対して、通常３
０〜８０重量部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５
重量部の範囲であることが適当である。

【００４６】無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを
併用することが好ましい。具体的には、モース硬度３〜
４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉
末とを使用することが好ましい。モース硬度が３〜４．
５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行によ
る摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範
囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもな
い。またこの無機粉末の平均粒子サイズは、３０〜５０
ｎｍの範囲にあることが好ましい。モース硬度が３〜
４．５の軟質無機粉末としては、例えば、硫酸カルシウ
ム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸バリウム、
炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げるこ
とができる。これらは、単独で、あるいは二種以上を組
み合わせて使用することができる。これらの中では、特
に、炭酸カルシウムが好ましい。

【００４７】バックコート層内の軟質無機粉末の含有量
は、カーボンブラック１００重量部に対して１０〜１４
０重量部の範囲にあることが好ましく、更に好ましく
は、３５〜１００重量部であることが適当である。モー
ス硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加することにより、
バックコート層の強度が強化され、走行耐久性が向上す
る。これらの無機粉末をカーボンブラックや前記軟質無
機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対しても劣化
が少なく、強いバックコート層となる。またこの無機粉
末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープガイ
ドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質無機
粉末（中でも、炭酸カルシウム）と併用すると、表面の
粗いガイドポールに対しての摺動特性が向上し、バック
コート層の摩擦係数の安定化も図ることができる。硬質
無機粉末は、その平均粒子サイズが８０〜２５０ｎｍ
（更に好ましくは、１００〜２１０ｎｍ）の範囲にある
ことが好ましい。

【００４８】モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末とし
ては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化ク
ロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）を挙げることができる。これらの粉末
は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用して
も良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナ
が好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラッ
ク１００重量部に対して通常３〜３０重量部であり、好
ましくは、３〜２０重量部であることが適当である。バ
ックコート層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉末とを併
用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との硬さの差
が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特に、３以
上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末とを選択
して使用することが好ましい。バックコート層には、前
記それぞれ特定の平均粒子サイズを有するモース硬度の
異なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子サイズの異な
る二種類のカーボンブラックとが含有されていることが
好ましい。特に、この組み合わせにおいて、軟質無機粉
末として炭酸カルシウムが含有されていることが好まし
い。バックコート層には、潤滑剤を含有させることがで
きる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層に
使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選択
して使用できる。バックコート層において、潤滑剤は、
結合剤１００重量部に対して通常１〜５重量部の範囲で
添加することができる。

【００４９】［非磁性可撓性支持体］本発明に用いられ
る非磁性可撓性支持体は、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポ
リオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカー
ボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリスルフォン、アラミド、芳香族ポリアミド等の
公知のフィルムが使用できる。これらの支持体にはあら
かじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱
処理、除塵処理等を行っても良い。

【００５０】本発明の目的を達成するには、非磁性支持
体として表面の粗さ形状が、必要に応じて支持体に添加
されるフィラーの大きさと量により自由にコントロール
される。これらのフィラーとしては一例としてはＣａ、
Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系など
の有機粉末があげられる。支持体の最大高さＳＲｍａｘ
は１μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．５μｍ以下、
中心面山高さはＳＲｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さ
ＳＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒは１０％
以上、９０％以下、平均波長Ｓλａは５μｍ以上、３０
０μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を
得るため、これら支持体表面に微小な突起を形成させる
必要があり、通常平均粒径０．０１〜０．２μｍのフィ
ラーを０〜２００００個／ｍｍ²の範囲で支持体を形成
する樹脂に添加し分散させることでコントロールするこ
とができる。この場合、粒径分布中の粗大粒子や、凝集
した粒子が通常存在するために、それによって形成され
る粗大突起が存在する。本発明では、支持体が有する高
さが０．２７３μｍ以上の突起は、１００個／１００ｃ
ｍ²以下、さらには８０個／１００ｃｍ²以下が好まし
く、５０個／１００ｃｍ²以下であることが一層好まし
い。

【００５１】本発明に用いられる非磁性支持体のＦ−５
値は、好ましくは０．０４９〜０．４９ＧＰａ（５〜５
０ｋｇ／ｍｍ²）、また、支持体の１００℃、３０分で
の熱収縮率は好ましくは３％以下、更に好ましくは１．
５％以下、８０℃、３０分での熱収縮率は好ましくは１
％以下、更に好ましくは０．５％以下である。破断強度
は０．０４９〜０．９８ＧＰａ（５〜１００ｋｇ／ｍｍ
²）、弾性率は０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００〜２
０００ｋｇ／ｍｍ²）が好ましい。温度膨張係数は１０
^-4〜１０^-8／℃であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃
であることが適当である。湿度膨張係数は１０^-4／ＲＨ
％以下であり、好ましくは１０^-5／ＲＨ％以下であるこ
とが適当である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度
特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ
等しいことが好ましい。

【００５２】[磁気記録媒体の製造方法]本発明の磁気記
録媒体は、各層を形成するための塗料を塗布・乾燥等す
ることで製造することができる。塗料を製造する工程
は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工
程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々
の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわな
い。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カーボンブ
ラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべて
の原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわ
ない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添
加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工
程、分散工程、分散後に粘度調整をするための混合工程
で分割して投入してもよい。

【００５３】本発明の磁気記録媒体の製造方法で用いら
れる有機溶媒は、任意の比率でアセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラ
ン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のアルコー
ル類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸
イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステ
ル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベ
ンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エ
チレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレ
ンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水
素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等が使
用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋では
なく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。
これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好まし
くは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性
層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。
その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力
の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用
い塗布の安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成の算
術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らないこと
が好ましい。分散性を向上させるためにはある程度極性
が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上
の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶
解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

【００５４】本発明の磁気記録媒体を製造するために
は、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いるこ
とができることはもちろんであるが、混練工程では連続
ニーダや加圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用す
ることにより、高い残留磁束密度（Ｂｒ）を有する磁気
記録媒体を得ることもできる。連続ニーダまたは加圧ニ
ーダを用いる場合は、強磁性粉末と結合剤のすべてまた
はその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）
及び強磁性粉末１００重量部に対し１５〜５００重量部
の範囲で混練処理することができる。これらの混練処理
の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開
昭６４−７９２７４号公報に記載されている。また、下
層非磁性層液を調製する場合には高比重の分散メディア
を用いることが望ましく、ジルコニアビーズが好適であ
る。

【００５５】非磁性可撓性支持体上に、非磁性粉末と結
合剤を含有する非磁性層形成用塗布液及び強磁性粉末と
結合剤とを含む磁性層形成用塗布液を、非磁性層の上に
磁性層が形成されるように非磁性可撓性支持体上に同時
または逐次に塗布し、塗布層が湿潤状態にあるうちにス
ムージング処理と磁場配向とを行う方法を用いることが
できる。

【００５６】上記のような重層構成の磁気記録媒体を塗
布する装置、方法としては、例えば、以下のような方法
及び装置を挙げることができる。 （１）磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１―４６１８６号公報や特開昭６０−
２３８１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公報に
開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装
置により上層を塗布する。 （２）特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７
９７１号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示さ
れているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つ
の塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する。 （３）特開平２−１７４９６５号公報に開示されている
バックアップロール付きエクストルージョン塗布装置に
より上下層をほぼ同時に塗布する。

【００５７】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−
９５１７４号公報や特開平１−２３６９６８号公報に開
示されているような方法により、塗布ヘッド内部の塗布
液にせん断を付与することが望ましい。更に、塗布液の
粘度については、特開平３−８４７１号公報に開示され
ている数値範囲を満足することが適当である。更に、ス
ムージング処理は、例えば、ステンレス板をウェブ上の
塗布層表面に当てて行うことができる。これ以外に、特
公昭６０−５７３８７号公報に記載されているような固
体スムーザーによる方法、静止しているか、又はウェブ
走行方向と逆方向に回転しているロッドで塗布液を掻き
落とし計量する方法、塗布液膜の表面にフレキシブルな
シートを面接触させて平滑化する方法等を採用すること
もできる。また、磁場配向には、１００ｍＴ (１０００
Ｇ)以上のソレノイドと２００ｍＴ (２０００Ｇ)以上の
コバルト磁石を同極対向で併用することが好ましい。ま
た、ディスク媒体として本発明を適用する場合はむしろ
配向をランダマイズするような配向法が必要である。

【００５８】更に、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用することができ
る。また、金属ロール同志で処理することも出来る。処
理温度は、好ましくは７０℃以上、さらに好ましくは８
０℃以上であることが適当である。線圧力は、好ましく
は２００ｋｇ／ｃｍ、更に好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ
以上であることが適当である。本発明の磁気記録媒体の
磁性層面及びその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦
係数は、好ましくは０．５以下、更に好ましくは０．３
以下、表面固有抵抗は好ましくは１０⁴〜１０¹²オーム
／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、
幅方向とも好ましくは０．９８〜１９．６ＧＰａ (１０
０〜２０００ｋｇ／ｍｍ²)、破断強度は好ましくは０．
９８〜２９．４ＧＰａ (１〜３０ｋｇ／ｃｍ²)、磁気記
録媒体の弾性率は走行方向、長手方向とも好ましくは
０．９８〜１４．７ＧＰａ (１００〜１５００ｋｇ／ｍ
ｍ²)、残留伸びは好ましくは０．５％以下、１００℃以
下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、
さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは
０．１％以下であることがそれぞれ適当である。磁性層
のガラス転移温度(１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測
定の損失弾性率の極大点)は５０℃以上１２０℃以下が
好ましく、下層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損
失弾性率は１×１０⁷〜８×１０⁸Ｎ／ｃｍ²(１×１０⁸
〜８×１０⁹ｄｙｎ／ｃｍ²)の範囲にあることが好まし
く、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失
正接が大きすぎると粘着故障が出やすい。

【００５９】磁性層中に含まれる残留溶媒は、好ましく
は１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／
ｍ²以下であることが適当である。磁性層が有する空隙
率は下層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、更に
好ましくは２０容量％以下であることが適当である。空
隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、
目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。
例えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用磁気記
録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいこ
とが多い。本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５Ｋ
Ｏｅで測定した場合、テープ走行方向の角形比は０．７
０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好ましく
は０．９０以上であることが適当である。テープ走行方
向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の角型比の８
０％以下となることが好ましい。磁性層のＳＦＤ（Swit
ching Field Distribution）は０．６以下であること
が好ましい。

【００６０】本発明の磁気記録媒体は非磁性層と磁性層
を有するが、目的に応じ非磁性層と磁性層とでこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性
を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。２層以上の磁性層にそれぞれどのような物理特性
をもたらすかは、公知の磁性層重層に関する技術を参考
にすることができる。例えば磁性層のＨｃを非磁性層の
Ｈｃより高くすることは、特公昭３７−２２１８号公
報、特開昭５８−５６２２８号公報等を初め多くの発明
があるが、本発明のように磁性層を薄層にすることによ
り、より高いＨｃの磁性層でも記録が可能になる。

【００６１】

【実施例】以下に、本発明の実施例を示し、本発明を更
に詳細に説明する。以下に記載の「部」は、「重量部」
を示す。 [磁性塗料の作成]磁性塗料１（ディスク用） バリウムフェライト磁性粉 １００部 板径：０．０３μｍ 板比：３ Ｈｃ：１９５．８ｋＡ／ｍ（２４６０Ｏｅ） 塩化ビニル共重合体 ５部 ＭＲ５５５（日本ゼオン社製） ポリウレタン樹脂 ３部 ＵＲ８２００（東洋紡社製） α−アルミナ １０部 ＨＩＴ５５（住友化学社製） カーボンブラック １部 ♯５５（旭カーボン社製） フェニルホスホン酸 ２部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部

【００６２】磁性塗料２（テープ用） バリウムフェライト磁性粉 １００部 板径：０．０３μｍ 板比：３ Ｈｃ：１９５．８ｋＡ／ｍ（２４６０Ｏｅ） 塩化ビニル共重合体 ６部 ＭＲ５５５（日本ゼオン社製） ポリウレタン樹脂 ３部 ＵＲ８２００（東洋紡社製） α−アルミナ ２部 ＨＩＴ５５（住友化学社製） カーボンブラック ５部 ♯５５（旭カーボン社製） ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部

【００６３】 [非磁性塗料の作成]非磁性塗料１（ディスク用） 非磁性粉体 ＴｉＯ₂、結晶系ルチル ８０部 平均一次粒子径：０．０３５μｍ ＢＥＴ法による比表面積：４０ｍ²／ｇ ｐＨ：７ ＴｉＯ₂含有量：９０％以上 ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｇ／１００ｇ 表面処理剤：Ａｌ₂Ｏ₃（８重量％） カーボンブラック ２０部 コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアカーボン社製） 塩化ビニル共重合体 １２部 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） ポリウレタン樹脂 ５部 ＵＲ８２００（東洋紡社製） フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶媒）２５０部

【００６４】非磁性塗料（テープ用） 非磁性支持体 ＴｉＯ₂、結晶系ルチル ８０部 平均一次粒子径：０．０３５μｍ ＢＥＴ法による比表面積：４０ｍ²／ｇ ｐＨ：７ ＴｉＯ₂含有量：９０％以上 ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｇ／１００ｇ 表面処理剤：Ａｌ₂Ｏ₃（８重量％） カーボンブラック ２０部 コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアカーボン社製） 塩化ビニル共重合体 １２部 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） ポリウレタン樹脂 ５部 ＵＲ８２００（東洋紡社製） フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶媒）２５０部

【００６５】製法１：ディスクの作成 上記の磁性塗料１及び非磁性塗料１のそれぞれについ
て、各成分をニーダーで混練した後、サンドミルを用い
て分散させた。次いで、得られた非磁性層用分散液、磁
性層用分散液に、ポリイソシアネートをそれぞれ１０部
加え、更にそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加え、
１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、
非磁性層形成用塗布液及び磁性層形成用塗布液をそれぞ
れ調製した。得られた非磁性層形成用塗布液を、乾燥後
の厚さが２．２μｍになるように、更にその直後にその
上に、磁性層形成用塗布液を、乾燥後の厚さが０．１５
μｍになるように、厚さ６２μｍで中心面平均表面粗さ
が１１ｎｍのポリエチレンテレフタレート支持体に同時
重層塗布を行った。その後、両層がまだ湿潤状態にある
うちに、周波数５０Ｈｚ、磁場強度２５ｍＴ（２５０ガ
ウス）、又は周波数５０Ｈｚ、１２ｍＴ（１２０ガウ
ス）の２つの磁場強度交流磁場発生装置の中を通過さ
せ、ランダム配向処理を行い、乾燥後、７段のカレンダ
ーで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍにて処理を行
い、３．５インチに打ち抜きディスク媒体を得た。

【００６６】製法２：ディスクの作成 非磁性層形成用塗布液を、乾燥後の厚さが１．７μｍに
なるように塗布した以外は、製法１と同様に行い、ディ
スク媒体を得た。

【００６７】製法３：ディスクの作成 製法１で用いた支持体に比べて支持体の表面粗さを形成
するフィラーの凝集を抑制したベース（厚さ６２μｍで
中心線表面粗さが１１ｎｍのポリエチレンテレフタレー
ト支持体（フィラーの凝集は抑制され、粗大突起は低減
されているが、中心線表面粗さには影響がない））を用
い、非磁性層形成用塗布液を、乾燥後の厚さが１．７μ
ｍになるように塗布した以外は、製法１と同様に行い、
ディスク媒体を得た。

【００６８】製法４：ディスクの作成 非磁性層形成用塗布液を、乾燥後の厚さが１．７μｍに
なるように塗布し、３．５インチに打ち抜いた後、バー
ニッシュ処理を施した以外は、製法１と同様に行い、デ
ィスク媒体を得た。

【００６９】製法５：ディスクの作成 サンドミルの分散時間を１／２にした以外は、製法１と
同様に行い、ディスク媒体を得た。

【００７０】製法６：コンピュータテープの作成 上記の磁性塗料２及び非磁性塗料２について、各成分を
ニーダーで混練した後、サンドミルを用いて分散させ
た。次いで、ポリイソシアネートを、得られた非磁性層
用分散液には２．５部、磁性層用分散液には３部加え、
更にそれぞれにシクロヘキサノンを４０部加え、１μｍ
の平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性
層形成用塗布液及び磁性層形成用塗布液をそれぞれ調製
した。得られた非磁性層形成用塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．７μｍになるように、更にその直後にその上に、
磁性層形成用塗布液を乾燥後の厚さが０．１５μｍにな
るように、厚さ６μｍで中心面平均表面粗さが８ｎｍの
ＰＥＴ支持体上に同時重層塗布を行った。次いで、両層
がまだ湿潤状態にあるうちに、０．６Ｔ（６０００Ｇ）
の磁力を持つコバルト磁石と、０．６Ｔ（６０００Ｇ）
の磁力を持つソレノイドにより配向させた。乾燥後、金
属ロールのみから構成される７段のカレンダーで、温度
８５℃にて２００ｍ／ｍｉｎで処理を行い、その後、厚
み０．５μｍのバックコート層（カーボンブラック（平
均粒子サイズ：１７ｎｍ）１００部、炭酸カルシウム
（平均粒子サイズ：４０ｎｍ）８０部、α−アルミナ
（平均粒子サイズ：２００ｎｍ）５部を、ニトロセルロ
ース樹脂１１０部、ポリウレタン樹脂１６部、ポリイソ
シアネート５４部に分散させて作成した）を塗布した。
３．８ｍｍの幅にスリットし、スリット品の送り出し、
巻き取り装置を持った装置に、不織布とカミソリブレー
ドが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリー
ニング装置で磁性層のクリーニングを行い、テープ試料
を得た。

【００７１】製法７：コンピュータテープの作成 サンドミルの分散時間を１／２にした以外は、製法６と
同様に行い、テープ試料を得た。

【００７２】製法８：コンピュータテープの作成 支持体を、厚さ６μｍで中心面平均表面粗さが９ｎｍの
ＰＥＮ支持体に変えた以外は、製法６と同様に行い、テ
ープ試料を得た。

【００７３】製法９：コンピュータテープの作成 テープクリーニングを行わない以外は、製法６と同様に
行い、テープ試料を得た。

【００７４】測定方法 （１）磁気特性（Ｈｃ、Ｂｍ、ＳＱ） 振動試料型磁束計（東英工業社製）を用い、Ｈｍ ７９
６ｋＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）で測定した。 （２）ＴＡ（サーマルアスペリティ）カウント ディスク 共同電子社製のスピンスタンドＳＳ６０及びＧＵＺＩ社
製のＲＷＡ−１６０１を用い、ＳＡＬ−ＭＲヘッド（Ｗ
ＲＩＴＥ ＷＩＤＴＨ：２．４μｍ、ＧＡＰ：０．４μ
ｍ、ＲＥＡＤ ＷＩＤＴＨ：１．９μｍ、ＧＡＰ：０．
２４μｍ、ＡＢＳ Ｎｅｇａｔｉｖｅ ｐｒｅｓｓｕｒ
ｅ）を用いて、線記録密度１００ＫＦＣＩ、線速度６．
３ｍ／ｓｅｃの条件で測定した。ディスクを１０枚作成
し、両面について、再生出力をＥｐ、ＴＡピーク出力を
Ｈとしたときに、Ｈ／Ｅｐ＞２となるＴＡピーク個数を
求め、ＴＡ個数５個以下を良好とした。 テープ テープ走行系に固定ＭＲヘッド（８トラック）を取り付
け、相対送り速度１ｍ／ｓで走行させた。テープ６０ｍ
長を５本評価し、λ＝１μｍで記録再生したときの再生
出力をＥｐ、ＴＡピーク出力をＨとしたときに、Ｈ／Ｅ
ｐ＞２となるものの個数を求め、５個未満のものを良好
とした。 （３）媒体表面突起個数のカウント 微分干渉顕微鏡を用いて、媒体表面３０ｃｍ×３０ｃｍ
を観察して、突起を見つけマーキングする。その後、Ｗ
ＹＫＯ社製オプティカルプロファイラーＨＤ−２０００
を用いて、対物レンズ：５０倍、中間レンズ：０．５
倍、測定範囲：２４２μｍ×１８４μｍの条件で突起の
高さと幅を計測して、直径２〜１００μｍであり、かつ
高さ１００ｎｍ以上の突起個数をカウントした。

【００７５】

【表１】

【００７６】

【表２】

【００７７】磁性層表面に存在する直径２〜１００μ
ｍ、高さ１００ｎｍ以上の突起数が１０個／９００ｃｍ
²である実施例１〜４は、いずれもＴＡ個数が少なく、
ＴＡの発生が抑制されていた。それに対して本発明の範
囲を超える個数の突起を有する比較例１〜５の磁気記録
媒体は、実施例と比べてＴＡ個数が多く、ＴＡが顕著に
発生していた。

【００７８】

【発明の効果】本発明により、ＭＲヘッドとの組合せに
おいて、ＴＡの少ない高密度特性に優れた磁気記録媒体
を得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性支持体上に実質的に非磁性である下
   層と六方晶系フェライト粉末を結合剤中に分散してなる
   磁性層とをこの順に設けた磁気記録媒体において、 前記磁性層が、その表面に直径２〜１００μｍ、高さ１
   ００ｎｍ以上の突起を１０個／９００ｃｍ²未満有する
   ことを特徴とする磁気記録媒体。