JP2002520240A - 識別機能を有する、ウェハ取り扱い装置及び方法 - Google Patents
識別機能を有する、ウェハ取り扱い装置及び方法Info
- Publication number
- JP2002520240A JP2002520240A JP2000559579A JP2000559579A JP2002520240A JP 2002520240 A JP2002520240 A JP 2002520240A JP 2000559579 A JP2000559579 A JP 2000559579A JP 2000559579 A JP2000559579 A JP 2000559579A JP 2002520240 A JP2002520240 A JP 2002520240A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- post
- hand assembly
- finger
- solenoid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H10P72/50—
-
- H10P72/0606—
-
- H10P72/53—
-
- H10P72/7602—
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S294/00—Handling: hand and hoist-line implements
- Y10S294/907—Sensor controlled device
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/141—Associated with semiconductor wafer handling includes means for gripping wafer
Abstract
(57)【要約】
ディスク、特に、半導体ウェハを取り扱う装置が開示されている。ウェハの端縁、位置及びサイズを検知するために光ビームが採用される。ウェハ・ハンド・アセンブリ部材101は、ウェハ122の下方にて又は平行な積み重ねたウェハの間にて摺動し、1つ以上の指105を硬いハンド・アセンブリ部材の平面に対して垂直な位置まで90°回転させる。また、該ハンド・アセンブリは、該ハンド・アセンブリの表面に対して垂直に配置された1つ以上のポスト103も備えている。指及びポストは、その間にウェハを把持する3つの直立の突起を形成する。直動ソレノイド117は、固定ポストと可動の指との間にて制御された牽引力を加えて、他方の静止型指又はポストに向けて1つの指又はポストの横方向位置を制御する。牽引力は、直進ソレノイドに供給される駆動エネルギの量によって制御される。
Description
【0001】 本出願は、1998年7月10日付けで出願された、米国特許出願第09/1
13,857号の一部継続出願である。
13,857号の一部継続出願である。
【0002】
本出願は、集積回路ウェハ及び同様の材料のような、硬いが可撓性の材料で出
来たディスク形状の平坦なシートを取り扱い且つ局部的に搬送する装置に関する
。特に、本発明は、インテリジェント(識別機能を有する)、集積回路ウェハの
位置決め及び取り扱い装置並びに当該ウェハの両側部を選択的に位置決めし且つ
加工する方法に関する。
来たディスク形状の平坦なシートを取り扱い且つ局部的に搬送する装置に関する
。特に、本発明は、インテリジェント(識別機能を有する)、集積回路ウェハの
位置決め及び取り扱い装置並びに当該ウェハの両側部を選択的に位置決めし且つ
加工する方法に関する。
【0003】
半導体ウェハは、複雑な多数ステップの方法により製造される。100ステッ
プ以上を含むことがしばしばである工程中に、ウェハから高度に複雑な集積回路
型の電子チップがもたらされる。これらステップの多くは、チップを極めて正確
に位置決めすることを必要とし、それは、チップの製造時に使用されるミクロン
以下の範囲の技術では、エラーが生じやすく、極めて精密な検査を必要とするか
らである。また、ウェハは、加工前、極めて高価であり、また、加工後により価
値あるものとなる。このため、関連するウェハの加工及び取り扱い方法を特に制
御することが極めて必要となる。
プ以上を含むことがしばしばである工程中に、ウェハから高度に複雑な集積回路
型の電子チップがもたらされる。これらステップの多くは、チップを極めて正確
に位置決めすることを必要とし、それは、チップの製造時に使用されるミクロン
以下の範囲の技術では、エラーが生じやすく、極めて精密な検査を必要とするか
らである。また、ウェハは、加工前、極めて高価であり、また、加工後により価
値あるものとなる。このため、関連するウェハの加工及び取り扱い方法を特に制
御することが極めて必要となる。
【0004】 集積回路の製造に必要とされる大量生産は、個々の回路が配置されるウェハが
迅速にバッチ処理されることを必要とする。加工される典型的なウェハは、約1
0.16cm(約4インチ)乃至約30.48cm(約12インチ)の範囲の直
径を有する。かかるウェハは、全体として、処理のために、密に積み重ねた垂直
な配置状態にてカセット又はキャディ内に収容される。
迅速にバッチ処理されることを必要とする。加工される典型的なウェハは、約1
0.16cm(約4インチ)乃至約30.48cm(約12インチ)の範囲の直
径を有する。かかるウェハは、全体として、処理のために、密に積み重ねた垂直
な配置状態にてカセット又はキャディ内に収容される。
【0005】 加工は、全体として、当該ウェハの各々をそのハウジングカセットから除去し
且つそのウェハを利用される加工装置内に装填することを別個に行なうことを含
み、その後に、加工済みのウェハをカセット又はキャリアに戻す。受理するカセ
ットは第一のカセットと相違し、また、全体として、シリコン製であるウェハの
壊れ易い性質は更なる制約を課す。これら種々の寸法のウェハを除去し、加工し
且つ再位置決めするためには、これらウェハを加工するより効率的な装置及び方
法が永年の課題とされている。更に、ウェハは、薄く且つ弱体な材料にて製造さ
れているため、取り扱い装置によりウェハに付与される圧力は臨界的となり、取
り扱い中にウェハを落とすことを防止し得るように、ウェハを確実に把持するこ
とを保証しつつ、高価なウェハの曲がり、亀裂又は切損を最小にし得るように、
把持圧力を慎重に制御しなければならない。
且つそのウェハを利用される加工装置内に装填することを別個に行なうことを含
み、その後に、加工済みのウェハをカセット又はキャリアに戻す。受理するカセ
ットは第一のカセットと相違し、また、全体として、シリコン製であるウェハの
壊れ易い性質は更なる制約を課す。これら種々の寸法のウェハを除去し、加工し
且つ再位置決めするためには、これらウェハを加工するより効率的な装置及び方
法が永年の課題とされている。更に、ウェハは、薄く且つ弱体な材料にて製造さ
れているため、取り扱い装置によりウェハに付与される圧力は臨界的となり、取
り扱い中にウェハを落とすことを防止し得るように、ウェハを確実に把持するこ
とを保証しつつ、高価なウェハの曲がり、亀裂又は切損を最小にし得るように、
把持圧力を慎重に制御しなければならない。
【0006】 1992年4月14日付けの米国特許第5,105,147号(「カラシコフ
(Karasikov)」及びその他の者)の「ウェハ検査装置(WAFER
INSPECTION SYSTEM )」は、既存の技術の少なくとも1つの
特徴の状態を示すものである。開示された装置は、シリコンウェハ上におけるプ
リント回路を半自動的に検査するためのものである。カラシコフの特許には、ウ
ェハの整合及び位置決め用の高度に精密な光スキャナを含む、浮動テーブル、ロ
ボットアーム及び光学的検査装置の組合せが含まれる。
(Karasikov)」及びその他の者)の「ウェハ検査装置(WAFER
INSPECTION SYSTEM )」は、既存の技術の少なくとも1つの
特徴の状態を示すものである。開示された装置は、シリコンウェハ上におけるプ
リント回路を半自動的に検査するためのものである。カラシコフの特許には、ウ
ェハの整合及び位置決め用の高度に精密な光スキャナを含む、浮動テーブル、ロ
ボットアーム及び光学的検査装置の組合せが含まれる。
【0007】 カラシコフの特許は、ウェハの外周における狭小な領域にて負圧を加えること
により、該当するウェハを除去することを含む。カラシコフの特許の機構は、本
発明の教示により緩和される加工上の間違いの多くの原因になる問題点を対象と
する。
により、該当するウェハを除去することを含む。カラシコフの特許の機構は、本
発明の教示により緩和される加工上の間違いの多くの原因になる問題点を対象と
する。
【0008】 同様に、1996年4月2日付けで発行された、米国特許第5,504,34
5号(「バートネック(Bartunek)」及びその他の者)には、二重のビ
ームセンサ及び端縁検知装置並びにその方法が開示されている。該当するウェハ
のエッジを検知するために2つの光源、すなわち固体レーザが使用される。バー
トネックの特許は、例えば、ウェハ又は光学的ディスクの反射面を検知するため
にレーザが使用可能であることを基本的に示すものである。
5号(「バートネック(Bartunek)」及びその他の者)には、二重のビ
ームセンサ及び端縁検知装置並びにその方法が開示されている。該当するウェハ
のエッジを検知するために2つの光源、すなわち固体レーザが使用される。バー
トネックの特許は、例えば、ウェハ又は光学的ディスクの反射面を検知するため
にレーザが使用可能であることを基本的に示すものである。
【0009】 ウェハを取り扱うその他の公知の装置は、同様に、ウェハの位置決めの改良又
はウェハを取り扱う半自動の手段の改良の双方を対象とする。これら機能の双方
の性能を単一の装置内にて同時に向上させる能力を備えることは極めて好ましい
ことであろう。負圧利用の技術の欠点を伴うことなく、レーザの使用を活用する
ことは、永年に亙る多くの課題を解決することになろう。
はウェハを取り扱う半自動の手段の改良の双方を対象とする。これら機能の双方
の性能を単一の装置内にて同時に向上させる能力を備えることは極めて好ましい
ことであろう。負圧利用の技術の欠点を伴うことなく、レーザの使用を活用する
ことは、永年に亙る多くの課題を解決することになろう。
【0010】 一例として、現在の技術では、しばしば、カセット内の個々のウェハを除去し
又は交換するためロボットアームに取り付けた負圧チャックを使用する。各カセ
ットの位置、及びカセット内の各ウェハの位置は、ユニークであり、何らかの基
準点に対する3つの座標面(「X、Y、Z」)内での各ディスクの位置をウェハ
を取り扱うロボットを制御する装置を駆動するソフトウェアに入力しなければな
らない。
又は交換するためロボットアームに取り付けた負圧チャックを使用する。各カセ
ットの位置、及びカセット内の各ウェハの位置は、ユニークであり、何らかの基
準点に対する3つの座標面(「X、Y、Z」)内での各ディスクの位置をウェハ
を取り扱うロボットを制御する装置を駆動するソフトウェアに入力しなければな
らない。
【0011】 既存の方法は、各位置を機械的に測定し、その後に、利用されるソフトウェア
にデータを手動操作にて入力することを必要とする。これは、人間の間違う可能
性が大きいことで更に制限される、時間を消費する過程である。採用すべき各カ
セットを較正することが全体として必要とされるようにするのに十分な相違が公
知のカセット及びカセットホルダに存在する。
にデータを手動操作にて入力することを必要とする。これは、人間の間違う可能
性が大きいことで更に制限される、時間を消費する過程である。採用すべき各カ
セットを較正することが全体として必要とされるようにするのに十分な相違が公
知のカセット及びカセットホルダに存在する。
【0012】 更に、例えば、半持運び型の加工装置において、装置の任意の部品の位置を変
更するためには、新たな較正が必要とされることで、これらの制約は煩雑なもの
となる。
更するためには、新たな較正が必要とされることで、これらの制約は煩雑なもの
となる。
【0013】 従来の負圧チャックは、加工ステップに有害な人為的欠点を更に生じさせる。
これら人為的欠点の結果、生産効率が低下する可能性がある。採用した負圧チャ
ックのいかなる歪みは、空気が少し漏洩するため、作動不良の原因となる可能性
を引き起こす。負圧チャックは薄く且つ空気路を保持しなければならないから、
これら負圧チャックの製造は困難で且つコスト高である。更に、ウェハは、表面
によって保持されるため、ウェハは高速度加工時に必要とされる高加速度の下で
滑り易くなる。ディスクがアームに対して少しでも非整合状態となるならば、装
置がクラッシュする可能性がある。また、アーム自体による表面の汚染も警戒す
べき頻度にて生ずる。
これら人為的欠点の結果、生産効率が低下する可能性がある。採用した負圧チャ
ックのいかなる歪みは、空気が少し漏洩するため、作動不良の原因となる可能性
を引き起こす。負圧チャックは薄く且つ空気路を保持しなければならないから、
これら負圧チャックの製造は困難で且つコスト高である。更に、ウェハは、表面
によって保持されるため、ウェハは高速度加工時に必要とされる高加速度の下で
滑り易くなる。ディスクがアームに対して少しでも非整合状態となるならば、装
置がクラッシュする可能性がある。また、アーム自体による表面の汚染も警戒す
べき頻度にて生ずる。
【0014】 同様に、半導体ウェハの両側部に加工する方法が当然に必要となる。従来技術
において、関連する問題点に対する解決策の色々な試み及び加工すべくウェハを
取り扱う方法は、上述した制約を実際に課題とする特許が少ないことを示す。従
来技術は、本発明により教示されるような改良の必要性を明確に示す。
において、関連する問題点に対する解決策の色々な試み及び加工すべくウェハを
取り扱う方法は、上述した制約を実際に課題とする特許が少ないことを示す。従
来技術は、本発明により教示されるような改良の必要性を明確に示す。
【0015】 ウェハを持ち上げる別の方法は、機械的グリッパを使用するものであり、19
96年11月5日付けで発行された米国特許第5,570,920号(「クリス
マン(Crisman)」及びその他の者)は、ロボットの指を駆動するために
直流モータを利用する。本発明の教示と異なり、把持圧力を感知するため、また
、一度び作動させた後にモータを停止させるため、指の内面に設けられた歪み計
171、173、175を使用する。
96年11月5日付けで発行された米国特許第5,570,920号(「クリス
マン(Crisman)」及びその他の者)は、ロボットの指を駆動するために
直流モータを利用する。本発明の教示と異なり、把持圧力を感知するため、また
、一度び作動させた後にモータを停止させるため、指の内面に設けられた歪み計
171、173、175を使用する。
【0016】 更なる一例として、1995年6月13日付けで発行された米国特許第5,4
35,133号(「ヤスハラ(Yasuhara)及びその他の者」)は、位置
決め信号に基づいてロボットの指を駆動するサーボモータを使用する。しかし、
把持力を表示し又は制御するセンサは何ら設けられていない。同様に、手部分の
複雑な取り付け/取り外し部分がヤスハラの開示の主題であり、この点にて、こ
の特許は本発明の教示と相違する。
35,133号(「ヤスハラ(Yasuhara)及びその他の者」)は、位置
決め信号に基づいてロボットの指を駆動するサーボモータを使用する。しかし、
把持力を表示し又は制御するセンサは何ら設けられていない。同様に、手部分の
複雑な取り付け/取り外し部分がヤスハラの開示の主題であり、この点にて、こ
の特許は本発明の教示と相違する。
【0017】 更に、1995年1月3日付けで発行された米国特許第5,378,033号
(「グオ(Guo)」及びその他の者)は、把持した物体に均一な力を付与し得
るように関連する機械的指の全てに対し単一の駆動機構を利用する。グオの特許
は、純然たる機械的ロボットハンド又は補綴具的ハンドを教示する。しかし、駆
動機構を制御する方法は明らかではなく、この点にて、グオの特許は本発明の教
示と相違する。
(「グオ(Guo)」及びその他の者)は、把持した物体に均一な力を付与し得
るように関連する機械的指の全てに対し単一の駆動機構を利用する。グオの特許
は、純然たる機械的ロボットハンド又は補綴具的ハンドを教示する。しかし、駆
動機構を制御する方法は明らかではなく、この点にて、グオの特許は本発明の教
示と相違する。
【0018】 1994年1月25日付けで発行された米国特許第5,280,981号(「
シュルツ(Schulz)」)は、荷重に応答可能な2速度の駆動アセンブリ及
びスリップ・クラッチを使用する。コラム9、63行乃至コラム10、28行を
参照のこと。特に、シュルツの特許の指作動機構は、ソレノイドの使用、あるい
は、電流に直接的に比例する力が使用される電流発生手段の使用をも意図してい
ない。
シュルツ(Schulz)」)は、荷重に応答可能な2速度の駆動アセンブリ及
びスリップ・クラッチを使用する。コラム9、63行乃至コラム10、28行を
参照のこと。特に、シュルツの特許の指作動機構は、ソレノイドの使用、あるい
は、電流に直接的に比例する力が使用される電流発生手段の使用をも意図してい
ない。
【0019】 1992年2月23日付けで発行された米国特許第5,188,501号(「
トミタ(Tomita)」及びその他の者)は、ウェハの持ち上げプラットフォ
ームとして機能するようにウェハの下方にて回動する一組みの爪を使用するウェ
ハ搬送装置に関するものである。このように、トミタの特許は、把持力を付与せ
ずにウェハを支える持ち上げ力を発生させることにより作用する点にて本発明の
教示と相違する。
トミタ(Tomita)」及びその他の者)は、ウェハの持ち上げプラットフォ
ームとして機能するようにウェハの下方にて回動する一組みの爪を使用するウェ
ハ搬送装置に関するものである。このように、トミタの特許は、把持力を付与せ
ずにウェハを支える持ち上げ力を発生させることにより作用する点にて本発明の
教示と相違する。
【0020】 1992年12月22日付けで発行された(「ヤコブセン(Jacobsen
)」)の米国特許第5,172,951号は、張力を感知し又は制御する技術を
開示するものとは思われない。このロボット式把持装置(ROBOTIC GR
ASPING APPARATUS)は、3自由度にて作動するが、本発明の対
象物であるようなウェハに優しい使用方法は開示していない。
)」)の米国特許第5,172,951号は、張力を感知し又は制御する技術を
開示するものとは思われない。このロボット式把持装置(ROBOTIC GR
ASPING APPARATUS)は、3自由度にて作動するが、本発明の対
象物であるようなウェハに優しい使用方法は開示していない。
【0021】 1992年4月4日付けで発行された米国特許第5,108,140号(「バ
ースオレット(Bartholet)」)は、有効搭載量の位置を感知し又は制
御機構への入力を提供すべくその上面の上に触覚センサ又はその他のセンサを備
えるパーム・プレート及びグリッパを備える(コラム5、20乃至37行)。平
行な万力のような把持力が発生されるが、把持力を感知し又は制御する手段は何
ら提供されない。
ースオレット(Bartholet)」)は、有効搭載量の位置を感知し又は制
御機構への入力を提供すべくその上面の上に触覚センサ又はその他のセンサを備
えるパーム・プレート及びグリッパを備える(コラム5、20乃至37行)。平
行な万力のような把持力が発生されるが、把持力を感知し又は制御する手段は何
ら提供されない。
【0022】 同様に、「ウルリッヒ(Ulrich)」の米国特許第5,501,49号(
1996年3月26日付けで発行)及び米国特許第4,957,320号(19
90年9月18日付けで発行)の各々は、指及びパームのパーム表面に配置され
た触覚センサ200、210を使用する。
1996年3月26日付けで発行)及び米国特許第4,957,320号(19
90年9月18日付けで発行)の各々は、指及びパームのパーム表面に配置され
た触覚センサ200、210を使用する。
【0023】 1982年9月28日付けで発行された米国特許第4,354,553号(「
ロベッタ(Rovette)」及びその他の者)は、指により加えられた力が指
の内面に沿って牽引ケーブル42、43、44によって供給される3本の指によ
る把持装置が記載されており、指に加えられた張力により指は内方に回動し、保
持した物体に対して把持力を締め付ける。張力ケーブルに取り付けられた、ロベ
ッタの特許の図6に図示したセンサ84、85、86により、加えられた牽引力
を感知し、この点にて、ロベッタの特許は本発明の教示と相違する。
ロベッタ(Rovette)」及びその他の者)は、指により加えられた力が指
の内面に沿って牽引ケーブル42、43、44によって供給される3本の指によ
る把持装置が記載されており、指に加えられた張力により指は内方に回動し、保
持した物体に対して把持力を締め付ける。張力ケーブルに取り付けられた、ロベ
ッタの特許の図6に図示したセンサ84、85、86により、加えられた牽引力
を感知し、この点にて、ロベッタの特許は本発明の教示と相違する。
【0024】 最後に、米国特許第4,654,793号(「ギノット(Guinot)」)
は、指の上に歪み計26、28を備えるものである。 従って、本発明により緩和される永年に亙る課題を十分に対象とするものは従
来技術には存在しないため、これら必要性に適合すべく、識別機能を有する、集
積回路ウェハ取り扱い装置を提案するものである。
は、指の上に歪み計26、28を備えるものである。 従って、本発明により緩和される永年に亙る課題を十分に対象とするものは従
来技術には存在しないため、これら必要性に適合すべく、識別機能を有する、集
積回路ウェハ取り扱い装置を提案するものである。
【0025】
従って、本発明の1つの目的は、チップを保持する装置及び技術に対する従来
技術の欠点を解消する装置を提供することである。
技術の欠点を解消する装置を提供することである。
【0026】 簡単に説明すると、ウェハの両側部にて加工することを許容できる、硬いが可
撓性のディスク、特に、半導体ウェハの取り扱い装置が提供される。ウェハの端
縁を検知し且つウェハの位置を確認するため、光ビームが採用される。その他の
ロボット式位置決め装置に組み込まれる独得なロボット式ウェハハンド・アセン
ブリにより把持することが教示される。硬いウェハハンド・アセンブリ部材は、
該部材の長さに沿って中央に又は隔てて配置された1つ以上の作動ロッドを備え
ている。ウェハハンド・アセンブリ部材がウェハの下方にて摺動し又は平行に積
重ね且つ隔てたウェハの間にて摺動するとき、解放位置から開始する1つ以上の
回転指が90°回転して部材のエッジから隔てられる。アームを通じて作用する
直動ソレノイドが指又は別個のポストに対しウェハを把持するための横方向への
動きを付与する。ロータソレノイド109は指を90°回転させる。この組合せ
は、低い姿勢を提供し、このため、ウェハハンド・アセンブリ部材は、図8に図
示したトレー内で積み重ね且つ隔てたウェハの間にて頂部のウェハの下方に挿入
し又は180°回転させ、加工装置内に存在するウェハを取り上げることができ
る。ウェハの下方、上方又はウェハに並んで配置されたならば、指はロータソレ
ノイドにより垂直位置に回転させる。実施の形態に依存して、変換器ソレノイド
により指を引張り出し又はポストを押し込み、ウェハをポストと可動の指との間
に制御された牽引力にて把持する。また、本発明のシステムの装置を使用するた
めの方法も教示されている。
撓性のディスク、特に、半導体ウェハの取り扱い装置が提供される。ウェハの端
縁を検知し且つウェハの位置を確認するため、光ビームが採用される。その他の
ロボット式位置決め装置に組み込まれる独得なロボット式ウェハハンド・アセン
ブリにより把持することが教示される。硬いウェハハンド・アセンブリ部材は、
該部材の長さに沿って中央に又は隔てて配置された1つ以上の作動ロッドを備え
ている。ウェハハンド・アセンブリ部材がウェハの下方にて摺動し又は平行に積
重ね且つ隔てたウェハの間にて摺動するとき、解放位置から開始する1つ以上の
回転指が90°回転して部材のエッジから隔てられる。アームを通じて作用する
直動ソレノイドが指又は別個のポストに対しウェハを把持するための横方向への
動きを付与する。ロータソレノイド109は指を90°回転させる。この組合せ
は、低い姿勢を提供し、このため、ウェハハンド・アセンブリ部材は、図8に図
示したトレー内で積み重ね且つ隔てたウェハの間にて頂部のウェハの下方に挿入
し又は180°回転させ、加工装置内に存在するウェハを取り上げることができ
る。ウェハの下方、上方又はウェハに並んで配置されたならば、指はロータソレ
ノイドにより垂直位置に回転させる。実施の形態に依存して、変換器ソレノイド
により指を引張り出し又はポストを押し込み、ウェハをポストと可動の指との間
に制御された牽引力にて把持する。また、本発明のシステムの装置を使用するた
めの方法も教示されている。
【0027】 図8に概略図的に図示するように、ウェハは通常、トレーに入れて運ばれる。
トレー150の色々な異なる実施の形態において、円形のウェハは、トレーの側
部及びトレーの底部の双方又はその何れか一方に接触し且つ休止することができ
る。より具体的には、ウェハがトレー150内で休止するときのウェハの最下方
点は、トレー底部の中心の一点と接触する(図9参照)。1つの代替的なトレー
の設計において、ウェハはトレーの側部にのみ接触し、これにより、ウェハの底
部をトレーの底部から分離させる。更なる1つの代替例として、トレーの底部は
その長さに沿って1つの開口部を備えることができる。ウェハがトレー150の
底部から十分に分離したならば、又はトレーの底部に開放したスペースが存在す
るならば、中央に配置された回転可能な指を有する図1乃至図8のウェハ取り扱
い装置を使用することができる。しかしならが、ウェハがトレーの中心線に沿っ
てトレー150の底部に接触するならば、図9乃至図11、特に図9の実施の形
態に図示するように、回転可能な指を取り扱い装置の前端縁124の中心から分
離しなければならない。
トレー150の色々な異なる実施の形態において、円形のウェハは、トレーの側
部及びトレーの底部の双方又はその何れか一方に接触し且つ休止することができ
る。より具体的には、ウェハがトレー150内で休止するときのウェハの最下方
点は、トレー底部の中心の一点と接触する(図9参照)。1つの代替的なトレー
の設計において、ウェハはトレーの側部にのみ接触し、これにより、ウェハの底
部をトレーの底部から分離させる。更なる1つの代替例として、トレーの底部は
その長さに沿って1つの開口部を備えることができる。ウェハがトレー150の
底部から十分に分離したならば、又はトレーの底部に開放したスペースが存在す
るならば、中央に配置された回転可能な指を有する図1乃至図8のウェハ取り扱
い装置を使用することができる。しかしならが、ウェハがトレーの中心線に沿っ
てトレー150の底部に接触するならば、図9乃至図11、特に図9の実施の形
態に図示するように、回転可能な指を取り扱い装置の前端縁124の中心から分
離しなければならない。
【0028】 本発明の1つの特徴によれば、ハンド・アセンブリと、取り扱うべき基板手段
を把持し、搬送し且つ戻す手段と、所望の作動順序をプログラム化し且つ実行す
る少なくとも1つの制御手段とを組み合わせて備える、ウェハ及び同様の基板手
段を取り扱う装置が提供される。この装置は、また、取り扱うべき基板手段の局
部的な位置及び方向を検知する別個の又は一体的な光学手段を備えることができ
る。
を把持し、搬送し且つ戻す手段と、所望の作動順序をプログラム化し且つ実行す
る少なくとも1つの制御手段とを組み合わせて備える、ウェハ及び同様の基板手
段を取り扱う装置が提供される。この装置は、また、取り扱うべき基板手段の局
部的な位置及び方向を検知する別個の又は一体的な光学手段を備えることができ
る。
【0029】 この装置は、ウェハのサイズを決定し又は識別し、その後、可動の指の動作及
び位置決めを制御し且つ装置により把持されたウェハに付与される張力を制御す
るコンピュータ利用の識別較正及び制御手段と組み合わせて、光学的検知手段を
更に備えることができる。
び位置決めを制御し且つ装置により把持されたウェハに付与される張力を制御す
るコンピュータ利用の識別較正及び制御手段と組み合わせて、光学的検知手段を
更に備えることができる。
【0030】 本発明の別の特徴によれば、その表面の完全性を損うことなく、ウェハ及び関
連するコンパクトな平面状装置を取り扱う方法であって、 a)固定型又は可動とすることのできる少なくとも1つ又は2つ以上のポスト
と、回転指と、光学的感知手段とを備え、位置決めのため他のロボット装置に取
り付けられるロボット式ウェハハンド・アセンブリを提供するステップと、 b)複数のウェハの相対的位置及び方向に関する複数のデータを読み取るステ
ップと、 c)上記ロボットウェハの中央部分に配置された作動ロッドを使用することに
よりウェハを把持するステップと、 d)ウェハをポストと指との間にて係止するステップと、 e)ウェハの加工のためウェハを所望の位置に搬送するステップと、 f)上記ウェハを所望の位置に解放するステップ、及び g)その後のウェハに対し上記ステップの各々を繰り返すステップとを備える
方法が提供される。
連するコンパクトな平面状装置を取り扱う方法であって、 a)固定型又は可動とすることのできる少なくとも1つ又は2つ以上のポスト
と、回転指と、光学的感知手段とを備え、位置決めのため他のロボット装置に取
り付けられるロボット式ウェハハンド・アセンブリを提供するステップと、 b)複数のウェハの相対的位置及び方向に関する複数のデータを読み取るステ
ップと、 c)上記ロボットウェハの中央部分に配置された作動ロッドを使用することに
よりウェハを把持するステップと、 d)ウェハをポストと指との間にて係止するステップと、 e)ウェハの加工のためウェハを所望の位置に搬送するステップと、 f)上記ウェハを所望の位置に解放するステップ、及び g)その後のウェハに対し上記ステップの各々を繰り返すステップとを備える
方法が提供される。
【0031】 本発明の上記及びその他の特徴並びにそれら特徴を得る方法は、添付図面と共
に以下の説明を参照することにより、より明らかとなり且つ最も良く理解されよ
う。これら図面は、本発明の1つの典型的な実施の形態のみを示すものであり、
このため、その範囲を限定するものではない。これら図面は、具体的な特徴及び
詳細を明らかにする働きをする。
に以下の説明を参照することにより、より明らかとなり且つ最も良く理解されよ
う。これら図面は、本発明の1つの典型的な実施の形態のみを示すものであり、
このため、その範囲を限定するものではない。これら図面は、具体的な特徴及び
詳細を明らかにする働きをする。
【0032】 本発明は、その完全な範囲が特許請求の範囲に規定されており、その好ましい
実施の形態に関して以下に説明する。
実施の形態に関して以下に説明する。
【0033】
半導体ウェハのような、平坦で硬いが可撓性のディスクを取り扱う装置が開示
されており、該装置は、取り扱うウェハの両側部を加工することを許容すること
ができる。この装置は、ウェハの端縁を検知し、従って、ウェハの位置を検知す
るため、光ビームを採用することができる。この装置は、また、把持手段により
付与された圧力を制御する手段も内蔵している。次に、手の長軸線の周りの36
0°の回転、又は自然の手首の撓みと同程度の上下動又は手又は腕と同程度の回
転の角度動作を許容し得るような仕方にてユニークなロボット・ハンドがウェハ
を把持する。このロボット・ハンドの設計は、位置決めロボット内に挿入し又は
その他の方法で取り付けられるようなものとされている。このことは、迅速に形
態(例えば、サイズ)を相互に交換することを許容し且つメンテナンスのための
運転停止時間を最小にする。
されており、該装置は、取り扱うウェハの両側部を加工することを許容すること
ができる。この装置は、ウェハの端縁を検知し、従って、ウェハの位置を検知す
るため、光ビームを採用することができる。この装置は、また、把持手段により
付与された圧力を制御する手段も内蔵している。次に、手の長軸線の周りの36
0°の回転、又は自然の手首の撓みと同程度の上下動又は手又は腕と同程度の回
転の角度動作を許容し得るような仕方にてユニークなロボット・ハンドがウェハ
を把持する。このロボット・ハンドの設計は、位置決めロボット内に挿入し又は
その他の方法で取り付けられるようなものとされている。このことは、迅速に形
態(例えば、サイズ)を相互に交換することを許容し且つメンテナンスのための
運転停止時間を最小にする。
【0034】 この装置は、全ての位置決め機能を制御するため、同様に、現在の技術のロボ
ットを採用する。これは、コンピュータ技術及び特殊なエレクトロニクスを含む
。必要な用途に特徴的な装置を駆動するソフトウェアが必要であるが、このソフ
トウェアは、既存の商業的に利用可能なソフトウェアと適合可能な構造とされて
いる。データの出力は、今日使用されている一般的な技術の任意のもの又はその
全てを含み、又は当業者の技術的知識に属するものを含むことができる。
ットを採用する。これは、コンピュータ技術及び特殊なエレクトロニクスを含む
。必要な用途に特徴的な装置を駆動するソフトウェアが必要であるが、このソフ
トウェアは、既存の商業的に利用可能なソフトウェアと適合可能な構造とされて
いる。データの出力は、今日使用されている一般的な技術の任意のもの又はその
全てを含み、又は当業者の技術的知識に属するものを含むことができる。
【0035】 以下に詳細に説明するように、本発明の好ましい実施の形態において又は好ま
しい実施の形態と共に以下の少なくとも5つの主要な補助装置が使用される。 1)ウェハを把持し且つウェハの両側部を加工するため、ウェハ360°回転
させることを許容するロボット式「ハンド」と、 2)各ウェハの位置を正確に探知し、「ハンド」が、破損せずにウェハにアク
セスすることを可能にする光学的読み取り装置と、 3)ハンド及び関係した機構を制御し且つ光学的補助装置により供給されたデ
ータに基づいて作動し得るようにデータを処理し且つ制御する装置と、 4)ソフトウェアに付与される適正な圧力又は張力を選択する制御手段と、 5)装置を駆動するソフトウェア及びファームウェアとである。
しい実施の形態と共に以下の少なくとも5つの主要な補助装置が使用される。 1)ウェハを把持し且つウェハの両側部を加工するため、ウェハ360°回転
させることを許容するロボット式「ハンド」と、 2)各ウェハの位置を正確に探知し、「ハンド」が、破損せずにウェハにアク
セスすることを可能にする光学的読み取り装置と、 3)ハンド及び関係した機構を制御し且つ光学的補助装置により供給されたデ
ータに基づいて作動し得るようにデータを処理し且つ制御する装置と、 4)ソフトウェアに付与される適正な圧力又は張力を選択する制御手段と、 5)装置を駆動するソフトウェア及びファームウェアとである。
【0036】 本発明の装置は、ウェハの加工に使用されることに加えて、その他の用途にて
使用することもできる。これは、非限定的に、磁気ディスクの加工、CD RO
Mの加工及び全体として、これら特徴を備えるロボット式手を利用することので
きる任意の方法を含む。1つの部品を特徴的に位置決めし得る能力により、提案
された装置は、在庫管理、部品の追跡、アセンブリの数及び位置の追跡状態を保
つために必要とされ又は有益であるその他の全ての製造方法に例外的に且つ特徴
的に適用可能なものとなる。
使用することもできる。これは、非限定的に、磁気ディスクの加工、CD RO
Mの加工及び全体として、これら特徴を備えるロボット式手を利用することので
きる任意の方法を含む。1つの部品を特徴的に位置決めし得る能力により、提案
された装置は、在庫管理、部品の追跡、アセンブリの数及び位置の追跡状態を保
つために必要とされ又は有益であるその他の全ての製造方法に例外的に且つ特徴
的に適用可能なものとなる。
【0037】 本発明の好ましい実施の形態の用途の特別な例は、異なる加工ステップのため
ウェハを色々なカセット又はキャディ内に配置することである。これら一例とし
ての実施の形態は、以下に本発明の作用モデルの一例を示すものとして説明する
が、本発明の特許請求の範囲に記載した主題を限定することを意図するものでは
ない。従って、これらの実施の形態は、特許請求の範囲に記載した主題を表わす
一方、これらは、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。
ウェハを色々なカセット又はキャディ内に配置することである。これら一例とし
ての実施の形態は、以下に本発明の作用モデルの一例を示すものとして説明する
が、本発明の特許請求の範囲に記載した主題を限定することを意図するものでは
ない。従って、これらの実施の形態は、特許請求の範囲に記載した主題を表わす
一方、これらは、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。
【0038】 次に、図1を参照すると、ロボット式ウェハ・ハンド・アセンブリ101は、
製造が容易であるように用途に適した材料にて形成された、薄く硬い単一の部材
を形成し得るように共に固着された2つの薄く硬い部材から成るパドル100で
あって、該パドル上に配置された2つの固定圧力ポスト103と、ポスト103
と反対側のパドルの端部に設けられた回転する指105とを備えている。指10
5を回転させ且つ光学素子取付け部107を配置し且つ位置決めする作動機構が
ウェハ・ハンド・アセンブリ101に取り付けられている。
製造が容易であるように用途に適した材料にて形成された、薄く硬い単一の部材
を形成し得るように共に固着された2つの薄く硬い部材から成るパドル100で
あって、該パドル上に配置された2つの固定圧力ポスト103と、ポスト103
と反対側のパドルの端部に設けられた回転する指105とを備えている。指10
5を回転させ且つ光学素子取付け部107を配置し且つ位置決めする作動機構が
ウェハ・ハンド・アセンブリ101に取り付けられている。
【0039】 ウェハ・ハンド・アセンブリ101の設計は、ハンド取り付け部110又は業
界で一般的なその他の適当な取付け手段115又は接続手段を使用して、光学素
子の取付け部107に近接する第一の端部にてロボットアーム(図示せず)に挿
入し又はその他の方法で取り付けることが可能なようにされている。また、ハン
ドを制御装置に取り付けるために電気的手段及びデータ接続手段も含めてある。
このことは、修理のために迅速に取り外すことを許容する。また、例えば、寸法
が相違するような、ウェハ・ハンド・アセンブリ101の色々な形態を最小の時
間にて相互に交換することが可能である。公知の装置とのかかる組み合わせ及び
互換性は、かかる装置を使用する当業者に公知であり、このため、その装置に関
する更なる詳細は省略してある。
界で一般的なその他の適当な取付け手段115又は接続手段を使用して、光学素
子の取付け部107に近接する第一の端部にてロボットアーム(図示せず)に挿
入し又はその他の方法で取り付けることが可能なようにされている。また、ハン
ドを制御装置に取り付けるために電気的手段及びデータ接続手段も含めてある。
このことは、修理のために迅速に取り外すことを許容する。また、例えば、寸法
が相違するような、ウェハ・ハンド・アセンブリ101の色々な形態を最小の時
間にて相互に交換することが可能である。公知の装置とのかかる組み合わせ及び
互換性は、かかる装置を使用する当業者に公知であり、このため、その装置に関
する更なる詳細は省略してある。
【0040】 一度び所望の光学的測定値が得られ、実行すべき作動のプログラム化した順序
が確認されたならば、持ち上げハンド(ウエハ・ハンド・アセンブリ)101が
ディスクの3つの点にてウェハを把持する。これら3つの点のうちの2つの点1
03は、周方向線上の隔てた一定の位置にあり、その半径はウェハの半径に略等
しい。各点には、ウェハの端縁を保持する小さい溝120を有する小さいポスト
103がある。第三の持上げ点は、持ち上げるための締め付け動作を提供する可
動の指105である。
が確認されたならば、持ち上げハンド(ウエハ・ハンド・アセンブリ)101が
ディスクの3つの点にてウェハを把持する。これら3つの点のうちの2つの点1
03は、周方向線上の隔てた一定の位置にあり、その半径はウェハの半径に略等
しい。各点には、ウェハの端縁を保持する小さい溝120を有する小さいポスト
103がある。第三の持上げ点は、持ち上げるための締め付け動作を提供する可
動の指105である。
【0041】 ウェハ・ハンド・アセンブリ101は、指105が引っ込んだ状態にてウェハ
まで動く。引っ込んだ位置において、指105は90°回転し(このとき、指は
その他のポストと同一方向となる)、他の2つの保持点103に向けて後方に引
き出される。このことは、ウェハをポスト103と手105との間にて締め付け
ることになる。
まで動く。引っ込んだ位置において、指105は90°回転し(このとき、指は
その他のポストと同一方向となる)、他の2つの保持点103に向けて後方に引
き出される。このことは、ウェハをポスト103と手105との間にて締め付け
ることになる。
【0042】 指の回転はエレクトロメカニカル的に又は単に機械的にカムによって実現する
ことができる。カムの作動はエレクトロニクスを簡略化するが、磨耗、潤滑及び
汚染因子に曝される。更に、より多くの機械加工が必要となろう。指105は、
その引っ込んだ位置において、図2aに図示した軸線に対して垂直ではなくて、
ハンド101の軸線に沿って且つ手101の平面内にて方向決め可能であると考
えられる。
ことができる。カムの作動はエレクトロニクスを簡略化するが、磨耗、潤滑及び
汚染因子に曝される。更に、より多くの機械加工が必要となろう。指105は、
その引っ込んだ位置において、図2aに図示した軸線に対して垂直ではなくて、
ハンド101の軸線に沿って且つ手101の平面内にて方向決め可能であると考
えられる。
【0043】 次に、図2a、図2b、図2c及び図3を参照すると、本発明の実施の形態に
よる回転する指105及び2つの固定圧力ポスト103の一方の詳細図が図示さ
れている。ウェハ・ハンド・アセンブリ101の部材は、その中央部分に配置さ
れた作動ロッド111を備えている(図7参照)。アセンブリ101が2つの材
料シートにて形成される場合、作動ロッドは、外部に露出しないように、2つの
材料シートの間で通路内に配置することができる。図2aに図示したウェハ・ハ
ンド・アセンブリ101は、ウェハ122の下方にて摺動し又は積重ね体中の2
つのウェハ(図8)と回転する指105との間にて90°回転して、図2bに示
す位置となる。この箇所にて、指105は、ウェハのハンド・アセンブリ101
の前端縁124から隔てられる。次に、指は、図2cに図示するように、ウェハ
ハンド・アセンブリの端縁124に向けて駆動されて、図6に図示するように、
ウェハ122を指105とポスト103との間にて把持する。
よる回転する指105及び2つの固定圧力ポスト103の一方の詳細図が図示さ
れている。ウェハ・ハンド・アセンブリ101の部材は、その中央部分に配置さ
れた作動ロッド111を備えている(図7参照)。アセンブリ101が2つの材
料シートにて形成される場合、作動ロッドは、外部に露出しないように、2つの
材料シートの間で通路内に配置することができる。図2aに図示したウェハ・ハ
ンド・アセンブリ101は、ウェハ122の下方にて摺動し又は積重ね体中の2
つのウェハ(図8)と回転する指105との間にて90°回転して、図2bに示
す位置となる。この箇所にて、指105は、ウェハのハンド・アセンブリ101
の前端縁124から隔てられる。次に、指は、図2cに図示するように、ウェハ
ハンド・アセンブリの端縁124に向けて駆動されて、図6に図示するように、
ウェハ122を指105とポスト103との間にて把持する。
【0044】 図1及び図4乃至図7を参照すると、直動(並進)ソレノイド117は、アー
ム119を通じて、指105を外方に位置決めする一方、ロータソレノイド10
9、モータ又は同様の直進(並進)且つ/又は回転装置は指105を90°回転
させて、低い姿勢を提供し、これにより、ウェハハンド・アセンブリ101の部
材をウェハの間に挿入し又は180°回転させ、ウェハを頂部から取り上げる。
ウェハ122の下方、上方又はウェハ122の間に一度び配置されたならば、指
105をロータソレノイド109により垂直位置に回転させ(図2b参照)、次
に、直進ソレノイド117により引っ込ませる(図2C参照)。
ム119を通じて、指105を外方に位置決めする一方、ロータソレノイド10
9、モータ又は同様の直進(並進)且つ/又は回転装置は指105を90°回転
させて、低い姿勢を提供し、これにより、ウェハハンド・アセンブリ101の部
材をウェハの間に挿入し又は180°回転させ、ウェハを頂部から取り上げる。
ウェハ122の下方、上方又はウェハ122の間に一度び配置されたならば、指
105をロータソレノイド109により垂直位置に回転させ(図2b参照)、次
に、直進ソレノイド117により引っ込ませる(図2C参照)。
【0045】 指直動(並進)ソレノイド117、指回転ソレノイド119及び指作動ロッド
111は、以下に詳細に説明するように、協働可能に作動して、ウェハ(又は保
持すべき同様の基板部材の物品)を効果的に把持し且つ解放し、ウェハを破損又
は落下させ、又は許容可能な限界値以上に曲げることなく、1つの加工位置から
別の位置まで搬送し得るようにウェハを一定の位置に保持する。同様に、その解
放した位置から180°の位置にて基板の部材を解放し且つ取り上げることがで
きる。
111は、以下に詳細に説明するように、協働可能に作動して、ウェハ(又は保
持すべき同様の基板部材の物品)を効果的に把持し且つ解放し、ウェハを破損又
は落下させ、又は許容可能な限界値以上に曲げることなく、1つの加工位置から
別の位置まで搬送し得るようにウェハを一定の位置に保持する。同様に、その解
放した位置から180°の位置にて基板の部材を解放し且つ取り上げることがで
きる。
【0046】 指作動ロッド111は、以下に更に詳細に説明するように、指直動ソレノイド
117及び指回転ソレノイド119により励起され且つ制御された磁気コイルに
より駆動される。
117及び指回転ソレノイド119により励起され且つ制御された磁気コイルに
より駆動される。
【0047】 ウェハ・ハンド・アセンブリ101の部材は、その中央部分に配置された作動
ロッド111を備えている。直動ソレノイド117は、該ソレノイドに取り付け
られたアーム119を通じて指105を押して出し入れさせる一方、ロータソレ
ノイド109は、指105を90°回転させて、低い姿勢を提供し、これにより
、ウェハ・ハンド・アセンブリ101の部材をウェハ122の間に挿入し又は1
80°操作してウェハ122を頂部又は底部から取り上げることができる。一度
びウェハ122の下方に又はウェハの上方に或いはウェハ122に沿って配置さ
れたならば、指105は、ロータソレノイド1092より垂直位置(図2b)に
回転され、次に、直進ソレノイド117により引っ込ませ(図2c)、図6に図
示するように、ウェハ122を固定したポスト103と指105との間にて係止
する。
ロッド111を備えている。直動ソレノイド117は、該ソレノイドに取り付け
られたアーム119を通じて指105を押して出し入れさせる一方、ロータソレ
ノイド109は、指105を90°回転させて、低い姿勢を提供し、これにより
、ウェハ・ハンド・アセンブリ101の部材をウェハ122の間に挿入し又は1
80°操作してウェハ122を頂部又は底部から取り上げることができる。一度
びウェハ122の下方に又はウェハの上方に或いはウェハ122に沿って配置さ
れたならば、指105は、ロータソレノイド1092より垂直位置(図2b)に
回転され、次に、直進ソレノイド117により引っ込ませ(図2c)、図6に図
示するように、ウェハ122を固定したポスト103と指105との間にて係止
する。
【0048】 ウェハを固定ポスト103に対して押し付けるために、指105を使用して把
持動作が行なわれる。これは、指に対して保持された一つの物体に抵抗可能な親
指にて圧力を加えた状態で、人間の手による自然な把持動作と極めて類似してい
る。同様に、上述し且つ以下に詳細に説明するように、ウェハ・ハンド・アセン
ブリ101と人間の腕との類似点は、人間の腕の位置が頂側部が上向きの位置か
ら頂側部が下向きの位置まで変化するときの人間の手首の動作と同様であること
を特徴とし又はその動作と同様に制御される、180°の回転を含む。
持動作が行なわれる。これは、指に対して保持された一つの物体に抵抗可能な親
指にて圧力を加えた状態で、人間の手による自然な把持動作と極めて類似してい
る。同様に、上述し且つ以下に詳細に説明するように、ウェハ・ハンド・アセン
ブリ101と人間の腕との類似点は、人間の腕の位置が頂側部が上向きの位置か
ら頂側部が下向きの位置まで変化するときの人間の手首の動作と同様であること
を特徴とし又はその動作と同様に制御される、180°の回転を含む。
【0049】 解放モードにおいて、指105は、ハンド101の平面内にある。指105の
位置決めは、ハンド101の「手首」(又は基端)における制御機構を介して行
なわれる。特に、指105を位置決めするため、音声コイル又はモータ/エンコ
ーダの組合せ体が使用される。
位置決めは、ハンド101の「手首」(又は基端)における制御機構を介して行
なわれる。特に、指105を位置決めするため、音声コイル又はモータ/エンコ
ーダの組合せ体が使用される。
【0050】 ハンド101は、解放モードにある間に、参照番号117にて概略図的に示し
た光学系を通じて選択されたウェハの下方に配置される。この点にあるとき、表
面をウェハの端縁に対して取り付け得るように指105を回転させる。次に、制
御機構が指105をウェハの中心に向けて引っ張り、これにより、ウェハを直径
方向に対向した固定ポスト103に対して押し付ける。直動ソレノイド117を
駆動する駆動コイルに付与された電流を正確に制御することを通じて圧力が正確
に維持される一方、該ソレノイド117により、作動ロッド111はハンド10
1の長さに沿って移動する。制御装置への導線123が中央プロセッサ(図示せ
ず)からハンド101に情報を伝達する。モデルBLA13−12−00Aのソ
レノイドに対し約310mA乃至360mAの電流を供給すると、装置内に保持
された200nmg(約30.48cm(約12インチ))のウェハに対し適正
な把持圧力が付与されることが分かった。
た光学系を通じて選択されたウェハの下方に配置される。この点にあるとき、表
面をウェハの端縁に対して取り付け得るように指105を回転させる。次に、制
御機構が指105をウェハの中心に向けて引っ張り、これにより、ウェハを直径
方向に対向した固定ポスト103に対して押し付ける。直動ソレノイド117を
駆動する駆動コイルに付与された電流を正確に制御することを通じて圧力が正確
に維持される一方、該ソレノイド117により、作動ロッド111はハンド10
1の長さに沿って移動する。制御装置への導線123が中央プロセッサ(図示せ
ず)からハンド101に情報を伝達する。モデルBLA13−12−00Aのソ
レノイドに対し約310mA乃至360mAの電流を供給すると、装置内に保持
された200nmg(約30.48cm(約12インチ))のウェハに対し適正
な把持圧力が付与されることが分かった。
【0051】 典型的に、指直動(並進)ソレノイド117及び指回転ソレノイド105によ
り行なわれる指の動作は、1つの用途に特有の基礎に基づいてプログラム化され
る。同様に、この指の動作は、音声コイルを流れる電流を正確に制御し、且つ必
要な場合に、ストッパ及びカムを採用することにより行なうことができる。しか
し、適用可能である場合、動作の制御分野で使用される機構の任意のものを使用
することができる。一度びウェハを把持したならば、ハンド101は、そのウェ
ハをロボットが指定する任意の位置に搬送することができる。この把持方法の一
例としての特徴は、この方法が、ウェハを落下せずに、ハンドがウェハを完全に
360°回転させて、ウェハをキャリア機構の付近に配置することを許容するこ
とである。このように、回転する能力はウェハの両側部を加工することを許容す
る。更に、ウェハはポスト103と指105との間に捕捉されるため、該ウェハ
は、負圧ピックアップにて可能な場合よりも速い加速度及び速度にて動かし、こ
れにより、加工時間を短縮することができる。追加的な利点として、端縁のみが
手と接触するため、ウェハの表面は汚染されない。このことは、生産収率を向上
させることになろう。
り行なわれる指の動作は、1つの用途に特有の基礎に基づいてプログラム化され
る。同様に、この指の動作は、音声コイルを流れる電流を正確に制御し、且つ必
要な場合に、ストッパ及びカムを採用することにより行なうことができる。しか
し、適用可能である場合、動作の制御分野で使用される機構の任意のものを使用
することができる。一度びウェハを把持したならば、ハンド101は、そのウェ
ハをロボットが指定する任意の位置に搬送することができる。この把持方法の一
例としての特徴は、この方法が、ウェハを落下せずに、ハンドがウェハを完全に
360°回転させて、ウェハをキャリア機構の付近に配置することを許容するこ
とである。このように、回転する能力はウェハの両側部を加工することを許容す
る。更に、ウェハはポスト103と指105との間に捕捉されるため、該ウェハ
は、負圧ピックアップにて可能な場合よりも速い加速度及び速度にて動かし、こ
れにより、加工時間を短縮することができる。追加的な利点として、端縁のみが
手と接触するため、ウェハの表面は汚染されない。このことは、生産収率を向上
させることになろう。
【0052】 図9及び図10を参照すると、ウェハ取扱いアセンブリ201の更なる実施の
形態は、硬い部材すなわちパドル200を備えており、該パドル200は、パド
ル200の制御端部204の中央に配置された単一の可動ポスト203と、その
間にてウェハ222を把持し得るように三角形の3つの隅部を形成し得るように
パドルの他端に設けられた2つの回転可能な指205とを備えている。ウェハ取
扱いアセンブリ201には、各々が指205に接続された2つの回転コイル20
9と、直動コイルとが取り付けられている。該直進コイルは、ポスト203と指
205との間にてウェハ222を所望の張力にて把持し得るように、アセンブリ
201の中心軸線206に沿って十分な距離だけポスト203を駆動する。上述
の実施の形態におけるように、アセンブリ201は、配置及び位置決め光学素子
と関連する制御装置とを保持することもできる。
形態は、硬い部材すなわちパドル200を備えており、該パドル200は、パド
ル200の制御端部204の中央に配置された単一の可動ポスト203と、その
間にてウェハ222を把持し得るように三角形の3つの隅部を形成し得るように
パドルの他端に設けられた2つの回転可能な指205とを備えている。ウェハ取
扱いアセンブリ201には、各々が指205に接続された2つの回転コイル20
9と、直動コイルとが取り付けられている。該直進コイルは、ポスト203と指
205との間にてウェハ222を所望の張力にて把持し得るように、アセンブリ
201の中心軸線206に沿って十分な距離だけポスト203を駆動する。上述
の実施の形態におけるように、アセンブリ201は、配置及び位置決め光学素子
と関連する制御装置とを保持することもできる。
【0053】 以前の実施の形態と相違して、図9及び図10の実施の形態において、作動ロ
ッド211に回転力が加えられる結果、分離した2本の指205は、パドル20
0の平面からパドルの表面に対して垂直な位置まで回転する。しかし、該指は長
手方向には直進しない。その代わり、単一のポスト203はパドル200の中心
軸線206に沿って駆動され、ウェハを把持する。把持圧力をウェハ222に付
与すべくポスト203を駆動する直進ロッド218を介して作動する直進コイル
又はソレノイド217に印加される電流によってウェハ222の張力が制御され
る。その他の点にて、この実施の形態は上述した実施の形態と同様に機能する。
パドル200は、ウェハ222の隣の位置に配置される。作動ロッド211を介
して作動する回転可能なソレノイド209により指205はウェハが指205に
接触した状態にてその垂直位置まで移動する。直進ロッド218を介して作動す
る直進ソレノイド217は、ウェハ222を把持するポスト203を駆動する。
ッド211に回転力が加えられる結果、分離した2本の指205は、パドル20
0の平面からパドルの表面に対して垂直な位置まで回転する。しかし、該指は長
手方向には直進しない。その代わり、単一のポスト203はパドル200の中心
軸線206に沿って駆動され、ウェハを把持する。把持圧力をウェハ222に付
与すべくポスト203を駆動する直進ロッド218を介して作動する直進コイル
又はソレノイド217に印加される電流によってウェハ222の張力が制御され
る。その他の点にて、この実施の形態は上述した実施の形態と同様に機能する。
パドル200は、ウェハ222の隣の位置に配置される。作動ロッド211を介
して作動する回転可能なソレノイド209により指205はウェハが指205に
接触した状態にてその垂直位置まで移動する。直進ロッド218を介して作動す
る直進ソレノイド217は、ウェハ222を把持するポスト203を駆動する。
【0054】 当業者は、上記の説明に基づいて光学的検知装置及び位置決め装置を含む、最
初に説明した実施の形態の補助的な機能の全てが上述した更なる実施の形態にて
使用可能であることが理解されよう。
初に説明した実施の形態の補助的な機能の全てが上述した更なる実施の形態にて
使用可能であることが理解されよう。
【0055】 図11は、可撓性の作動ロッド311に付与された回転力に起因して指が回転
する、図9及び図10の実施の形態の1つの改変例のウェハ取り扱い装置301
の図である。図11に図示するように、ロッド311は、直線状ではなく、可撓
性であり、このため、回転可能なソレノイド209(図11に図示せず)から指
205まで等しい整合状態を保つことができる。その他の点にて、図11の改変
例は、図9の実施の形態と等しく機能する。
する、図9及び図10の実施の形態の1つの改変例のウェハ取り扱い装置301
の図である。図11に図示するように、ロッド311は、直線状ではなく、可撓
性であり、このため、回転可能なソレノイド209(図11に図示せず)から指
205まで等しい整合状態を保つことができる。その他の点にて、図11の改変
例は、図9の実施の形態と等しく機能する。
【0056】 ウェハは、通常、カセット又はキャディ内に装填されており、また、溝内に積
み重ねられ、該溝はウェハを側部にて保持する。本発明の装置は、ウェハの端縁
を検知すべく光ビーム及び光センサを採用することにより、各ウェハの位置を高
精度まで位置決めする。端縁からの反射光の変化が、光学的検知装置がウェハの
端縁を決定し、従って、ウェハに対する手の位置を決定することを可能にする。
キャディの全体を走査することができ、また、仕損じたウェハがあると、間隔順
序に異常が発生するため、その仕損じたウェハを含んで全ての位置が決定される 感知光学素子の取付け部107は、図1及び図4に図示するように、ハンド1
01の「手首」端部中央に取り付けられるか、又は図6に図示するように、一方
の側部にずらして取り付けられる。好ましい実施の形態における光学素子系は、
例えば、レーザ、IRダイオード等のような光学的トランスミッタと、例えば、
フォトダイオード、CCD’S、フォトトランジスタ等のような光学的レシーバ
と、ウェハの端縁にて照射ビームを向け且つ反射光を受け取るのに必要な関係す
る機械的装置とから成っている。ビームは、手の指端部から最適な距離に収束さ
れ、正確で且つ高信頼性の位置決定を可能にする。ビームはバックグランドノイ
ズの効果を少なくし且つ端縁の検知を向上させ得るように、強度及び位置が調節
可能である。位置決めに役立ち得るように、アセンブリの面の他端縁における同
様の位置に第二の装置(図示せず)を設けるといった、1つ以上の感知光学素子
取付け部107を使用することができる。また、ウェハ122のサイズを正確に
測定するのに役立ち得るようにハンド101の色々な位置に追加的な光センサ1
30を配置することができる。
み重ねられ、該溝はウェハを側部にて保持する。本発明の装置は、ウェハの端縁
を検知すべく光ビーム及び光センサを採用することにより、各ウェハの位置を高
精度まで位置決めする。端縁からの反射光の変化が、光学的検知装置がウェハの
端縁を決定し、従って、ウェハに対する手の位置を決定することを可能にする。
キャディの全体を走査することができ、また、仕損じたウェハがあると、間隔順
序に異常が発生するため、その仕損じたウェハを含んで全ての位置が決定される 感知光学素子の取付け部107は、図1及び図4に図示するように、ハンド1
01の「手首」端部中央に取り付けられるか、又は図6に図示するように、一方
の側部にずらして取り付けられる。好ましい実施の形態における光学素子系は、
例えば、レーザ、IRダイオード等のような光学的トランスミッタと、例えば、
フォトダイオード、CCD’S、フォトトランジスタ等のような光学的レシーバ
と、ウェハの端縁にて照射ビームを向け且つ反射光を受け取るのに必要な関係す
る機械的装置とから成っている。ビームは、手の指端部から最適な距離に収束さ
れ、正確で且つ高信頼性の位置決定を可能にする。ビームはバックグランドノイ
ズの効果を少なくし且つ端縁の検知を向上させ得るように、強度及び位置が調節
可能である。位置決めに役立ち得るように、アセンブリの面の他端縁における同
様の位置に第二の装置(図示せず)を設けるといった、1つ以上の感知光学素子
取付け部107を使用することができる。また、ウェハ122のサイズを正確に
測定するのに役立ち得るようにハンド101の色々な位置に追加的な光センサ1
30を配置することができる。
【0057】 端縁の表面を渡って小さい焦点をパニングすることは、端縁の頂点、従ってウ
ェハ自体を正確に位置決めすることを可能にする。ウェハの端縁は複合面を表す
ため、表面からの反射光は、レシーバに到達し又は到達しないこともある。ビー
ムを端縁に沿ってパニングすることは、検知の確率を増し且つ精度を向上させ、
それは、ハンドの長い軸線に沿って整合されたウェハの半径線は最大の反射光を
生ずるからである。この情報は、ロボットがウェハに対してハンドの最良の整合
状態とすることを可能にする。
ェハ自体を正確に位置決めすることを可能にする。ウェハの端縁は複合面を表す
ため、表面からの反射光は、レシーバに到達し又は到達しないこともある。ビー
ムを端縁に沿ってパニングすることは、検知の確率を増し且つ精度を向上させ、
それは、ハンドの長い軸線に沿って整合されたウェハの半径線は最大の反射光を
生ずるからである。この情報は、ロボットがウェハに対してハンドの最良の整合
状態とすることを可能にする。
【0058】 この装置は、用途に又は過程に必要な形態のロボットによって駆動される。位
置、速度、加速度及び全体として変位及び動作に関係する全てのパラメータを決
定するために使用されるデジタル/アナログ技術の任意のものを特定の過程に適
用可能なものとして使用することができる。本発明のこの装置は、過程に特定の
エレクトロメカニカル、空圧及び液圧装置と組み合わせてコンピュータ装置を使
用し、所望の作用を実現することを更に具体化する。
置、速度、加速度及び全体として変位及び動作に関係する全てのパラメータを決
定するために使用されるデジタル/アナログ技術の任意のものを特定の過程に適
用可能なものとして使用することができる。本発明のこの装置は、過程に特定の
エレクトロメカニカル、空圧及び液圧装置と組み合わせてコンピュータ装置を使
用し、所望の作用を実現することを更に具体化する。
【0059】 同様に、本発明の教示の範囲内で使用される制御装置は、光源を方向決めし且
つ調節し、光検出器を位置決めし、反射光の変化を表わす検知器からのデータを
分析し、所望に応じて装置を位置決めすべく処理したデータを使用して動作制御
装置を方向決めし、また、補正信号を決定するため、動作制御装置からのフィー
ドバックデータを処理する働きをする。
つ調節し、光検出器を位置決めし、反射光の変化を表わす検知器からのデータを
分析し、所望に応じて装置を位置決めすべく処理したデータを使用して動作制御
装置を方向決めし、また、補正信号を決定するため、動作制御装置からのフィー
ドバックデータを処理する働きをする。
【0060】 この装置と共に使用される更なる機構は、必要とされる任意の警報、信号及び
/又はベル音を発生させ、また、ビデオ、プリント、音響、電話、遠隔測定法又
はその他の必要な通信技術の任意のものとして必要なデータのフォーマットを形
成し且つ出力する。
/又はベル音を発生させ、また、ビデオ、プリント、音響、電話、遠隔測定法又
はその他の必要な通信技術の任意のものとして必要なデータのフォーマットを形
成し且つ出力する。
【0061】 本発明の装置は、広範囲な用途を有するため、この装置の製造に使用される材
料は当然に多岐に亙る。この材料は、非限定的に、金属、プラスチック、セラミ
ック、ガラス、木及び化合物及び混合体を含む、あらゆる各種の合金、等級、組
成、化合物及びそれらの色々な種類を含む。特定の用途及び環境が使用される実
際の材料を決定する。
料は当然に多岐に亙る。この材料は、非限定的に、金属、プラスチック、セラミ
ック、ガラス、木及び化合物及び混合体を含む、あらゆる各種の合金、等級、組
成、化合物及びそれらの色々な種類を含む。特定の用途及び環境が使用される実
際の材料を決定する。
【0062】 上述したように、本発明の教示により関連する改良点は、レーザ測定装置を採
用する動的な自動化装置により従来の教示技術を置換することを含む。同様に、
本発明により、負圧に頼らず且つ確実な持上げ及び保持装置を提供するエレクト
ロメカニカル又はガス作動装置により既存の「負圧チャック」技術を置換するこ
とも考えられる。
用する動的な自動化装置により従来の教示技術を置換することを含む。同様に、
本発明により、負圧に頼らず且つ確実な持上げ及び保持装置を提供するエレクト
ロメカニカル又はガス作動装置により既存の「負圧チャック」技術を置換するこ
とも考えられる。
【0063】 現代のレーザ距離測定装置は、極めて精密に測定することができる。適宜に位
置決めする1つ以上のレーザ読み取りヘッドが加工装置内でウェハを正確に位置
決めし且つサイズを設定するのに必要な全ての情報を提供する。典型的に、2軸
線の取付け部上に基準点として配置されたレーザヘッドは、カセット内の列状の
ウェハを掃引する。
置決めする1つ以上のレーザ読み取りヘッドが加工装置内でウェハを正確に位置
決めし且つサイズを設定するのに必要な全ての情報を提供する。典型的に、2軸
線の取付け部上に基準点として配置されたレーザヘッドは、カセット内の列状の
ウェハを掃引する。
【0064】 図示した位置は、光センサの位置又は数を制限することを意図するものではな
い。個々のディスクからの反射光は、基準点からの視線距離を提供する。更に、
ハンド101の中心線上に配置された第二の光センサ130からの測定値は、ポ
スト103の既知の位置と組み合わせたとき、円形のウェハディスクの端縁の正
確な位置を感知し、次に、緊張ソレノイドに供給される電流を設定すべく使用さ
れるディスクの正確な直径を決定するために使用することができる。
い。個々のディスクからの反射光は、基準点からの視線距離を提供する。更に、
ハンド101の中心線上に配置された第二の光センサ130からの測定値は、ポ
スト103の既知の位置と組み合わせたとき、円形のウェハディスクの端縁の正
確な位置を感知し、次に、緊張ソレノイドに供給される電流を設定すべく使用さ
れるディスクの正確な直径を決定するために使用することができる。
【0065】 軸線取付け部内のエンコーダは、同様に、当業者に公知であるように、方位角
の情報を提供する効果がある。中央プロセッサに送られた組み合わさった情報か
ら基準点に対する各ウェハの正確な位置を高精度にて決定することができる。こ
れと同一の方法は、各ウェハの目標位置に適用される。次に、プロセッサはその
情報を利用してカセット又はキャディ内で必要とされるようにウェハを正確に配
置する。
の情報を提供する効果がある。中央プロセッサに送られた組み合わさった情報か
ら基準点に対する各ウェハの正確な位置を高精度にて決定することができる。こ
れと同一の方法は、各ウェハの目標位置に適用される。次に、プロセッサはその
情報を利用してカセット又はキャディ内で必要とされるようにウェハを正確に配
置する。
【0066】 本発明の教示に従い、異なる金属及びプラスチックが使用される。環境が装置
を使用すべき場合を決定する。異なる型式のロボットに対する機械的相互接続面
により機械的設計は多数の異なるものとなる。これは、インテリジェントな集積
型ウェハ取り扱い装置の円滑な作動に何ら影響を与えることはない。
を使用すべき場合を決定する。異なる型式のロボットに対する機械的相互接続面
により機械的設計は多数の異なるものとなる。これは、インテリジェントな集積
型ウェハ取り扱い装置の円滑な作動に何ら影響を与えることはない。
【0067】 持ち上げるべきウェハの曲がり又は亀裂を防止するため、可動の指105によ
り付与される圧力程度を正確に制御しなければならない。上述した本発明の実施
の形態は、ディスク上に必要な程度の保持力を提供すべく音声コイル型のアクチ
ュエータを利用する。このことは、コイルを流れる電流を正確に制御することに
より行なわれる。この場合にも、特定の型式及びサイズのウェハに対する正確な
パラメータが中央制御装置に入力される。このことは、破損せずにウェハを極め
て正確に且つ反復可能に持ち上げる方法を提供する。更に、ウェハは2つのポス
ト及び指内に「捕捉」されるため、1つの加工点から別の加工点までウェハを搬
送する間、速い加速度に起因する動き何ら生じない。
り付与される圧力程度を正確に制御しなければならない。上述した本発明の実施
の形態は、ディスク上に必要な程度の保持力を提供すべく音声コイル型のアクチ
ュエータを利用する。このことは、コイルを流れる電流を正確に制御することに
より行なわれる。この場合にも、特定の型式及びサイズのウェハに対する正確な
パラメータが中央制御装置に入力される。このことは、破損せずにウェハを極め
て正確に且つ反復可能に持ち上げる方法を提供する。更に、ウェハは2つのポス
ト及び指内に「捕捉」されるため、1つの加工点から別の加工点までウェハを搬
送する間、速い加速度に起因する動き何ら生じない。
【0068】 同様に、本発明の教示に従い、この装置は、ガス(例えば、乾燥空気又は乾燥
窒素)又は液体被駆動機構と共に液圧を使用して具体化することもできる。指の
締め付け動作は、可変ニードル弁のような装置を使用して制御し且つ弁駆動体に
供給される電流を変化させ、又は弁の開放率を制御するといった、関連する弁作
用を介して制御することが可能である。
窒素)又は液体被駆動機構と共に液圧を使用して具体化することもできる。指の
締め付け動作は、可変ニードル弁のような装置を使用して制御し且つ弁駆動体に
供給される電流を変化させ、又は弁の開放率を制御するといった、関連する弁作
用を介して制御することが可能である。
【0069】 装置の全体的な制御は、行なわれる実際の作動を規定するソフトウェアを保持
する主中央処理装置(CPU)を介して行なわれる。CPUは、必要な機能にと
って最適とされた特別設計のインターフェース部を介して色々な取扱い及び処理
機構と相互に接続する。この装置は、全体として、色々な過程を表わす個々の部
分から成っている。該部分の各々は、取り扱い装置へのアクセスを許容し得るよ
うに配置されている。
する主中央処理装置(CPU)を介して行なわれる。CPUは、必要な機能にと
って最適とされた特別設計のインターフェース部を介して色々な取扱い及び処理
機構と相互に接続する。この装置は、全体として、色々な過程を表わす個々の部
分から成っている。該部分の各々は、取り扱い装置へのアクセスを許容し得るよ
うに配置されている。
【0070】 異なる環境は、当然に、色々な処理部分の異なる配置を必要とする。このこと
は、一方、異なるソフトウェアを必要とすることになろう。生じる可能性のある
ソフトウェアの多くの相違に対応するため、処理ステーションの各々は、全体的
な制御殻体内のサブプログラムとして作動する。次に、各部分により必要とされ
る特徴的なデータは、「較正データ」として入力される。この較正データは、個
々の部分と主要本体との間を容易に通る。このことは、各部分が他方に比して自
主的に作動するため、操作の完全な自由さ及び容易さを許容する。
は、一方、異なるソフトウェアを必要とすることになろう。生じる可能性のある
ソフトウェアの多くの相違に対応するため、処理ステーションの各々は、全体的
な制御殻体内のサブプログラムとして作動する。次に、各部分により必要とされ
る特徴的なデータは、「較正データ」として入力される。この較正データは、個
々の部分と主要本体との間を容易に通る。このことは、各部分が他方に比して自
主的に作動するため、操作の完全な自由さ及び容易さを許容する。
【0071】 上述した装置は、中央CPUにより制御される個々のウェハ加工部分を利用す
る。部分の各々は本体のソフトウェアの全ての監督の下、自主的に作動するため
、物理的な環境の必要性に対応し得るように装置を異なる配置とすることが許容
される。
る。部分の各々は本体のソフトウェアの全ての監督の下、自主的に作動するため
、物理的な環境の必要性に対応し得るように装置を異なる配置とすることが許容
される。
【0072】 上記の説明は、本発明の範囲を限定するものではなく説明することを意図する
ものである。実際上、当業者は、不必要な実験を行なうことなく、本明細書の教
示に基づいて更なる実施の形態を容易に案出し且つ形成することが可能である。
ものである。実際上、当業者は、不必要な実験を行なうことなく、本明細書の教
示に基づいて更なる実施の形態を容易に案出し且つ形成することが可能である。
【0073】 例えば、本発明の色々な構成要素をアセンブリの一側部に又はアセンブリの内
部に取り付けた状態で図示したが、本発明は、これら構成要素をアセンブリのロ
ボットアーム端部の一側部に配置し又はそのロボットアームの端部から伸びるよ
うにすることも考えられる。
部に取り付けた状態で図示したが、本発明は、これら構成要素をアセンブリのロ
ボットアーム端部の一側部に配置し又はそのロボットアームの端部から伸びるよ
うにすることも考えられる。
【0074】 また、上述したように、本発明は半導体ウェハに関連して説明したが、本発明
は、セラミック又はガラス皿又はプレート、培養媒質を保持するペトリ皿、CD
プレーヤのコンパクトディスク、コンピュータ装置の除去可能な記憶媒体又はデ
ィスク状製品の除去、搬送又は取り扱いを必要とする任意のその他の機械的装置
のような所定の寸法を有する平坦で、硬い板状の任意の構造体を取り扱うために
使用することができる。また、ウェハにおける把持圧力を制御するため、色々な
技術を使用することができる。しかし、指105及びポスト203の双方又はそ
の何れか一方への駆動力を変化させ且つ設定することにより張力は制御され、張
力は実際に付与される力を測定することを必要としない。
は、セラミック又はガラス皿又はプレート、培養媒質を保持するペトリ皿、CD
プレーヤのコンパクトディスク、コンピュータ装置の除去可能な記憶媒体又はデ
ィスク状製品の除去、搬送又は取り扱いを必要とする任意のその他の機械的装置
のような所定の寸法を有する平坦で、硬い板状の任意の構造体を取り扱うために
使用することができる。また、ウェハにおける把持圧力を制御するため、色々な
技術を使用することができる。しかし、指105及びポスト203の双方又はそ
の何れか一方への駆動力を変化させ且つ設定することにより張力は制御され、張
力は実際に付与される力を測定することを必要としない。
【0075】 本発明は、1つ又は2つの回転する指又は1つ又は2つの固定又は可動(直進
可能)のポストを有するものとして説明したが、その他の組み合わせ又は追加的
なポスト及び/又は指とすることも考えられる。
可能)のポストを有するものとして説明したが、その他の組み合わせ又は追加的
なポスト及び/又は指とすることも考えられる。
【0076】 本発明は、その必須の特徴から逸脱せずに他の特定の形態にて具体化すること
ができる。上述した実施の形態は、全ての点にて単に一例にしか過ぎず、限定的
なものではないと見なすべきである。このため、本発明の範囲は、上記の説明で
はなくて特許請求の範囲によって規定される。特許請求の範囲と均等の意義及び
範囲に属する全ての変更は、本発明の範囲に包含されるものである。
ができる。上述した実施の形態は、全ての点にて単に一例にしか過ぎず、限定的
なものではないと見なすべきである。このため、本発明の範囲は、上記の説明で
はなくて特許請求の範囲によって規定される。特許請求の範囲と均等の意義及び
範囲に属する全ての変更は、本発明の範囲に包含されるものである。
【図1】 本発明の一つの実施の形態によるロボット式ウェハハンド・アセンブリの第一
の型式の斜視図的な平面図である。
の型式の斜視図的な平面図である。
【図2】 2aは、回転する指を1つの位置にて示す、図1の拡張部分の詳細図である。 2bは、図2aと相違する位置にある回転する指を示す詳細図である。 2cは、図2aと相違する位置にある回転する指を示す詳細図である。
【図3】 固定した圧力ポストの1つを示す、図1の拡大詳細図である。
【図4】 指作動ロッドと、指直進ソレノイドと、指回転ソレノイドとを示す、図1に図
示した本発明の一つの実施の形態によるロボット式ウェハハンド・アセンブリの
更なる斜視図的な底面図である。
示した本発明の一つの実施の形態によるロボット式ウェハハンド・アセンブリの
更なる斜視図的な底面図である。
【図5】 特定の構成要素をアセンブリの頂部に再配置した、本発明の一つの実施の形態
による改変した型式のロボット式ウェハハンド・アセンブリの側面図である。
による改変した型式のロボット式ウェハハンド・アセンブリの側面図である。
【図6】 ウェハがその上に配置され、ウェハの下方の構造体を示す、本発明の一つの実
施の形態によるロボット式ウェハハンド・アセンブリを示す図5の実施の形態の
平面図である。
施の形態によるロボット式ウェハハンド・アセンブリを示す図5の実施の形態の
平面図である。
【図7】 パドルが透明であるかのように、パドル上方及び下方における説明し且つ特許
請求の範囲に加えた要素の各々の協働可能な相互作用を示す、本発明の一つの実
施の形態によるロボット式ウェハハンド・アセンブリの斜視図的な概略平面図で
ある。
請求の範囲に加えた要素の各々の協働可能な相互作用を示す、本発明の一つの実
施の形態によるロボット式ウェハハンド・アセンブリの斜視図的な概略平面図で
ある。
【図8】 キャリア内の一連のウェハの斜視図的な概略平面図である。
【図9】 2つの回転する指と、単一の可動のポストとを備える更なる実施の形態の平面
図である。
図である。
【図10】 図9の実施の形態の側面図である。
【図11】 可撓性の回転可能な作動ロッドを備える、図9の実施の形態の改変例の平面図
である。
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB ,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CZ,DE, DK,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,G M,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE ,KG,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT, LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,N O,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG ,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,UA, UG,UZ,VN,YU,ZA,ZW Fターム(参考) 5F031 CA01 CA02 DA01 FA01 FA07 FA11 FA19 FA20 FA21 GA06 GA10 GA14 GA15 GA36 GA38 JA01 JA02 JA06 JA13 JA17 JA23 JA32 JA36 JA40 KA02 KA11 LA11 LA15 PA20
Claims (23)
- 【請求項1】 ウェハの取り扱い装置において、 ハンド・アセンブリと、 取り扱うべき前記ウェハを把持し、搬送し且つ解放する前方及び後方伸長部で
あって、ハンド・アセンブリの平面に対して平行な位置と該平面に対して垂直な
位置との間にて前方把持手段が逆転可能に回転可能である、前方及び後方伸長部
と、 所望の作動順序をプログラム化し且つ実行する制御手段と、 前方及び後方伸長部の少なくとも一方に作用可能に接続された電子式作動のソ
レノイドにより制御される、前方及び後方伸長部によりウェハに付与される把持
圧力であって、ソレノイドに供給される電流を所定のレベルに設定することによ
り制御される把持圧力とを組み合わせて備える、ウェハの取り扱い装置。 - 【請求項2】 請求項1の装置において、取り扱うべきウェハの局部的な位
置及び方向を検知する光学的手段を更に備える、装置。 - 【請求項3】 請求項1の装置において、前方伸長部がハンド・アセンブリ
の平面に対して平行であるとき、該前方伸長部がハンド・アセンブリの平面内に
位置する、装置。 - 【請求項4】 請求項1の装置において、前記ウェハを把持し、搬送し且つ
解放する前記後方及び前方伸長部が、 各々がハンド・アセンブリに対して実質的に垂直な中心軸線を有する一対の後
方ポストと、 可動の指状の突出部材である前方伸長部と、 可動の指状突出部材の軸線を、ポストの軸線に対して垂直な位置から、ポスト
の軸線に対して平行な位置まで、逆転可能に位置決めする手段とを更に備える、
装置。 - 【請求項5】 請求項4の装置において、ウェハの寸法を決定する測定手段
を更に備える、装置。 - 【請求項6】 請求項4の装置において、指状突起の軸線を固定のポストの
軸線に対して平行に逆転可能に位置決めする前記手段が、指直動ソレノイドを備
える、装置。 - 【請求項7】 指状突起の軸線を逆転可能に位置決めする指回転ソレノイド
を備える請求項6の装置において、指状突起の軸線と、直動可能なソレノイド及
び指を作用可能に接続する作動ロッドを備えるポストの軸線との間の距離を短縮
する手段を更に備える、装置。 - 【請求項8】 請求項1の装置において、前記ウェハを把持し、搬送し且つ
解放する前記手段が、 ハンド・アセンブリに対して実質的に垂直な中心軸線を有する少なくとも1つ
の直動可能なポストと、 該直動ポストの前方に隔てられた少なくとも1つの回転可能な指状突出部材と
、 ハンド・アセンブリの表面に対して垂直な位置からハンド・アセンブリの表面
に対して平行な位置まで指状突出部材の軸線を位置決めする手段と、 前記ポストがその垂直な方向にあるとき、直進可能なポストの軸線を回転可能
なポストの間で且つ該回転可能なポストの軸線から隔たった点に向けて逆転可能
に駆動する手段とを備える、装置。 - 【請求項9】 請求項8の装置において、ウェハを光学的に位置決めする手
段を更に備える、装置。 - 【請求項10】 薄い平面状の装置を該装置の表面の完全性を損うことなく
取り扱う方法において、 ウェハ・ハンド・アセンブリの平面に対して垂直に配置された少なくとも3つ
のポストを有するロボット式ウェハ・ハンド・アセンブリであって、前記ポスト
の少なくとも前側がウェハハンド・アセンブリの平面に対して平行な位置からウ
ェハハンド・アセンブリの平面に対して垂直な位置まで回転可能であり、ポスト
の少なくとも1つが1つ以上の他のポストに向けて可動であり、その間にてウェ
ハの端縁を把持し、位置決めのためロボット装置に取り付け可能であるロボット
式ウェハ・ハンド・アセンブリを提供するステップと、 複数のウェハの相対位置及び方向に関する複数のデータを集めるステップと、 ウェハを前記ロボット式ウェハの中央位置にてポストの間で把持するステップ
と、 ウェハをポストの間にて係止するステップと、 ウェハを所望の位置まで搬送するステップと、 ウェハを加工するステップと、 ウェハを第二の位置まで駆動し且つ該ウェハを該第二の位置にて解放するステ
ップと、 後続のウェハに対し前記ステップの各々を繰り返すステップと、 ウェハの端縁に付与される把持圧力が、ソレノイドに対し所定の電流を印加す
ることにより制御されることと、 前記ソレノイドが少なくとも1つの可動のポストに作用可能に接続され、該可
動のポストを動かしてウェハの端縁と接触させ、該ウェハが前記把持圧力により
ポストの間に保持されるようにするステップとを備える、方法。 - 【請求項11】 請求項10の方法において、前記把持ステップが、 前記ロボット式ウェハ・ハンド・アセンブリをウェハの平面に対して平行に動
かすステップと、 ウェハ・ハンド・アセンブリの平面における1つの位置からウェハ・ハンド・
アセンブリの平面に対して実質的に垂直な位置まで前記ポストを動かし、ウェハ
がポストの間に位置決めされるようにするステップとを更に備える、方法。 - 【請求項12】 請求項10の方法において、前記係止するステップが、ロ
ータソレノイドを介して前側ポストを90°回転させるステップと、前記ロボッ
ト式ウェハ・ハンド・アセンブリをウェハに隣接する位置に配置するステップと
を更に備える、方法。 - 【請求項13】 請求項10の方法において、前記係止するステップが、少
なくとも1つの前側ポストを所定の位置に固定された他のポストに向けて移動さ
せるステップと、所定の位置に固定されたポストとウェハに所定の圧力が付与さ
れてた前側ポストとの間にてウェハが捕捉されるようにするステップとを更に備
える、方法。 - 【請求項14】 請求項10の方法において、前記係止するステップが、直
進可能なポストである1つのポストを回転ポストの間の中央に配置された1つの
箇所に向けて動かし、直進可能なポストとウェハに所定の張力が付与された回転
ポストとの間にてウェハが捕捉されるようにするステップを更に備える、方法。 - 【請求項15】 請求項10の方法において、前記係止するステップが前側
ポストを直進可能なソレノイドを介して動かすステップを更に備える、方法。 - 【請求項16】 請求項13の方法において、ウェハに付与された張力が、
直進ソレノイドに付与される電流を変化させることにより制御され、該電流が前
側ポストに取り付けられた作動ロッドの横方向への動きを制御する、方法。 - 【請求項17】 請求項14の方法において、ウェハに付与された張力が、
前記ソレノイドに供給される電流を変化させることにより制御され、前記ソレノ
イド内のロッドが直進可能なポストに取り付けられ且つ前側ポストに向けた該直
進可能なポストの横方向への動きを制御する、方法。 - 【請求項18】 ウェハ等の基板手段の取り扱い装置において、 ハンド・アセンブリと、 取り扱うべき前記基板手段を把持し、搬送し且つ解放する、把持手段と、 所望の作動順序を実行する少なくとも1つの制御手段と、 前記把持手段に作用可能に取り付けられた直動ソレノイドに供給された電流に
のみ依存する把持圧力の制御手段とを備え、前記把持手段が、ハンド・アセンブ
リに取り付けられた少なくとも3つのポストを備え、少なくとも前側ポストがハ
ンド・アセンブリの平面内のある位置からハンド・アセンブリの平面に対して垂
直な位置まで可動であり、残りのポストがハンド・アセンブリの平面に対して垂
直な方向に固定され、 該ポストの少なくとも1つがハンド・アセンブリの平面に沿って他のポストに
向けて直進可能に可動である、装置。 - 【請求項19】 平坦で薄いディスク状の媒質の外周の端縁に沿った少なく
とも3つの分離した箇所に圧力を加えることにより、該媒質を把持する装置にお
いて、 a)1つの平面を画定し、前側部分と、後側部分と、上面と、下面とを有する
ハンド・アセンブリと、 b)該ハンド・アセンブリの上面に取り付けられ且つ該上面の上方を伸び、更
に、該上面に対して垂直な少なくとも3つの伸長部であって、後端部分における
少なくとも1つのポストと、前側部分における少なくとも1本の可動の指とを備
える少なくとも3つの伸長部分と、 c)少なくとも1本の可動の指が、ハンド・アセンブリの平面内のある位置か
らハンド・アセンブリの上面に対して垂直で且つ該上面の上方を伸びる方向まで
回転可能であることと、 d)伸長部の少なくとも1つが横方向に可動の伸長部であり、該横方向に可動
の伸長部が他の伸長部の方向に全体として可動であり、少なくとも3つの伸長部
の全てがその間に配置された平坦で薄いディスク状媒質の外周に接触するように
することと、 横方向に可動の伸長部の前記動きが、該横方向に可動の伸長部に作用可能に接
続された駆動手段に対し電流を印加することにより行われ、平坦で薄いディスク
状媒質の外周に付与される圧力が、駆動手段に印加される電流の量によってのみ
制御されることとを備える、装置。 - 【請求項20】 請求項19の装置において、駆動手段がソレノイドであり
、該ソレノイドが電流を流すと磁石として機能する線コイルと、コイルにより取
り巻かれた中央開口部内に設けられた直進可能なロッドとを備え、該ロッドが横
方向に可動の伸長部に取り付けられ、コイルに印加された電流によりロッドがハ
ンド・アセンブリの平面内で移動し、コイルに印加された電流の量が、伸長部に
より平坦で薄いディスク状媒質の端縁に付与される圧力を決定する、装置。 - 【請求項21】 請求項19の装置において、可動の指が直進可能な伸長部
でもあり、該装置が、後側部分に設けられた2つのポストを有し、該ポストが上
面の後方部分に恒久的に取り付けられる、装置。 - 【請求項22】 請求項19の装置において、2本の可動の指と、後方部分
に設けられた1つの伸長部とを備え、後方部分に設けられた伸長部が直進可能な
ポストである、装置。 - 【請求項23】 請求項19の装置において、少なくとも1つのポストが直
進可能な伸長部である、装置。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US11385798A | 1998-07-10 | 1998-07-10 | |
| US09/113,857 | 1998-07-10 | ||
| US09/245,010 | 1999-02-04 | ||
| US09/245,010 US6167322A (en) | 1998-07-10 | 1999-02-04 | Intelligent wafer handling system and method |
| PCT/US1999/014865 WO2000003418A2 (en) | 1998-07-10 | 1999-07-09 | Intelligent wafer handling system and method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002520240A true JP2002520240A (ja) | 2002-07-09 |
Family
ID=26811558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000559579A Pending JP2002520240A (ja) | 1998-07-10 | 1999-07-09 | 識別機能を有する、ウェハ取り扱い装置及び方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US6167322A (ja) |
| EP (1) | EP1097096A2 (ja) |
| JP (1) | JP2002520240A (ja) |
| KR (1) | KR20010071806A (ja) |
| CN (1) | CN1308585A (ja) |
| AU (1) | AU744586B2 (ja) |
| TW (1) | TW440892B (ja) |
| WO (1) | WO2000003418A2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013030787A (ja) * | 2005-04-22 | 2013-02-07 | Applied Materials Inc | デカルトロボットクラスタツール構築 |
| KR101246333B1 (ko) | 2010-07-30 | 2013-03-21 | 한국과학기술연구원 | 웨이퍼 탑재 유지 제어장치 |
| JP2014116536A (ja) * | 2012-12-12 | 2014-06-26 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | エンドエフェクタ装置及び該エンドエフェクタ装置を用いた板状部材の位置決め方法 |
| JP2019033220A (ja) * | 2017-08-09 | 2019-02-28 | 株式会社テックインテック | 基板搬送装置 |
Families Citing this family (92)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999028220A1 (en) * | 1997-12-03 | 1999-06-10 | Nikon Corporation | Substrate transferring device and method |
| JP4404481B2 (ja) * | 1998-02-18 | 2010-01-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 真空処理システム、ウェーハハンドラーおよびエンドエフェクタ |
| US6167322A (en) * | 1998-07-10 | 2000-12-26 | Holbrooks; Orville Ray | Intelligent wafer handling system and method |
| EP1135795B1 (en) | 1998-12-02 | 2008-03-12 | Newport Corporation | Specimen holding robotic arm end effector |
| US6256555B1 (en) | 1998-12-02 | 2001-07-03 | Newport Corporation | Robot arm with specimen edge gripping end effector |
| US6322312B1 (en) | 1999-03-18 | 2001-11-27 | Applied Materials, Inc. | Mechanical gripper for wafer handling robots |
| US6425280B1 (en) * | 1999-07-30 | 2002-07-30 | International Business Machines Corporation | Wafer alignment jig for wafer-handling systems |
| JP2002184853A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-28 | Yaskawa Electric Corp | ウェハー把持装置 |
| KR100383260B1 (ko) * | 2001-03-08 | 2003-05-09 | 삼성전자주식회사 | 레티클 위치감지장치기능을 갖는 포크 암을 구비한 레이클이송장치 |
| US7281741B2 (en) * | 2001-07-13 | 2007-10-16 | Semitool, Inc. | End-effectors for handling microelectronic workpieces |
| US7334826B2 (en) * | 2001-07-13 | 2008-02-26 | Semitool, Inc. | End-effectors for handling microelectronic wafers |
| JP2005518655A (ja) | 2001-07-15 | 2005-06-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 処理システム |
| US7140655B2 (en) * | 2001-09-04 | 2006-11-28 | Multimetrixs Llc | Precision soft-touch gripping mechanism for flat objects |
| US20040102858A1 (en) * | 2001-09-04 | 2004-05-27 | Boris Kesil | Soft-touch gripping mechanism for flat objects |
| US7104578B2 (en) * | 2002-03-15 | 2006-09-12 | Asm International N.V. | Two level end effector |
| US6822413B2 (en) * | 2002-03-20 | 2004-11-23 | Fsi International, Inc. | Systems and methods incorporating an end effector with a rotatable and/or pivotable body and/or an optical sensor having a light path that extends along a length of the end effector |
| US20070014656A1 (en) * | 2002-07-11 | 2007-01-18 | Harris Randy A | End-effectors and associated control and guidance systems and methods |
| US20060043750A1 (en) * | 2004-07-09 | 2006-03-02 | Paul Wirth | End-effectors for handling microfeature workpieces |
| US20040013503A1 (en) * | 2002-07-22 | 2004-01-22 | Jaswant Sandhu | Robotic hand with multi-wafer end effector |
| US20040060186A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-01 | August Technology Corp. | Laser alignment tool |
| US6788991B2 (en) | 2002-10-09 | 2004-09-07 | Asm International N.V. | Devices and methods for detecting orientation and shape of an object |
| US7443115B2 (en) * | 2002-10-29 | 2008-10-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus and method for robot handling control |
| US6852644B2 (en) * | 2002-11-25 | 2005-02-08 | The Boc Group, Inc. | Atmospheric robot handling equipment |
| US6950774B2 (en) * | 2003-01-16 | 2005-09-27 | Asm America, Inc. | Out-of-pocket detection system using wafer rotation as an indicator |
| JP4137711B2 (ja) * | 2003-06-16 | 2008-08-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板搬送手段の位置合わせ方法 |
| US7654596B2 (en) | 2003-06-27 | 2010-02-02 | Mattson Technology, Inc. | Endeffectors for handling semiconductor wafers |
| US7181132B2 (en) | 2003-08-20 | 2007-02-20 | Asm International N.V. | Method and system for loading substrate supports into a substrate holder |
| US7458763B2 (en) | 2003-11-10 | 2008-12-02 | Blueshift Technologies, Inc. | Mid-entry load lock for semiconductor handling system |
| US20070269297A1 (en) | 2003-11-10 | 2007-11-22 | Meulen Peter V D | Semiconductor wafer handling and transport |
| US10086511B2 (en) | 2003-11-10 | 2018-10-02 | Brooks Automation, Inc. | Semiconductor manufacturing systems |
| SG132670A1 (en) * | 2003-11-10 | 2007-06-28 | Blueshift Technologies Inc | Methods and systems for handling workpieces in a vacuum-based semiconductor handling system |
| JP2005311306A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Tokyo Electron Ltd | 縦型熱処理装置及び被処理体移載方法 |
| KR101023725B1 (ko) * | 2004-06-29 | 2011-03-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 이재 로봇 |
| US20070020080A1 (en) * | 2004-07-09 | 2007-01-25 | Paul Wirth | Transfer devices and methods for handling microfeature workpieces within an environment of a processing machine |
| KR100576150B1 (ko) * | 2004-08-12 | 2006-05-03 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 장치 |
| US7993093B2 (en) * | 2004-09-15 | 2011-08-09 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for wafer translation |
| US7651306B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-01-26 | Applied Materials, Inc. | Cartesian robot cluster tool architecture |
| US7819079B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-10-26 | Applied Materials, Inc. | Cartesian cluster tool configuration for lithography type processes |
| US7371022B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-05-13 | Sokudo Co., Ltd. | Developer endpoint detection in a track lithography system |
| US7798764B2 (en) | 2005-12-22 | 2010-09-21 | Applied Materials, Inc. | Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool |
| US20060157998A1 (en) * | 2005-01-18 | 2006-07-20 | Elik Gershenzon | Contamination-free edge gripping mechanism and method for loading/unloading and transferring flat objects |
| US20060182561A1 (en) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Macronix International Co., Ltd. | Wafer transfer device and method thereof |
| CN1824592B (zh) * | 2005-02-25 | 2012-02-29 | 细美事有限公司 | 晶片传送装置 |
| US8167522B2 (en) * | 2005-03-30 | 2012-05-01 | Brooks Automation, Inc. | Substrate transport apparatus with active edge gripper |
| US7374391B2 (en) * | 2005-12-22 | 2008-05-20 | Applied Materials, Inc. | Substrate gripper for a substrate handling robot |
| US7694583B2 (en) * | 2005-05-05 | 2010-04-13 | Control Gaging, Inc. | Gripper gage assembly |
| CN1891591B (zh) * | 2005-07-06 | 2011-05-04 | 上海华虹Nec电子有限公司 | 一种机械手自动硅片取放系统及方法 |
| US20070018469A1 (en) * | 2005-07-25 | 2007-01-25 | Multimetrixs, Llc | Contamination-free edge gripping mechanism with withdrawable pads and method for loading/unloading and transferring flat objects |
| GB2434569B (en) * | 2006-01-25 | 2008-01-23 | Herbert R J Eng Ltd | Conveyor |
| US20070169700A1 (en) * | 2006-01-26 | 2007-07-26 | Gert-Jan Sniders | Sensing system and method for determining the alignment of a substrate holder in a batch reactor |
| KR100754245B1 (ko) * | 2006-02-06 | 2007-09-03 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조용 웨이퍼 이송로봇 및 그를 구비한 반도체제조설비 |
| US20080166210A1 (en) * | 2007-01-05 | 2008-07-10 | Applied Materials, Inc. | Supinating cartesian robot blade |
| US7694688B2 (en) | 2007-01-05 | 2010-04-13 | Applied Materials, Inc. | Wet clean system design |
| US20080181758A1 (en) * | 2007-01-29 | 2008-07-31 | Woodruff Daniel J | Microfeature workpiece transfer devices with rotational orientation sensors, and associated systems and methods |
| US20080213076A1 (en) * | 2007-03-02 | 2008-09-04 | Stephen Hanson | Edge grip end effector |
| JP4746003B2 (ja) * | 2007-05-07 | 2011-08-10 | リンテック株式会社 | 移載装置及び移載方法 |
| US8226142B2 (en) * | 2007-08-09 | 2012-07-24 | Axcelis Technologies, Inc. | Workpiece gripping integrity sensor |
| US8382180B2 (en) * | 2007-10-31 | 2013-02-26 | Applied Material, Inc. | Advanced FI blade for high temperature extraction |
| KR101489963B1 (ko) | 2007-12-13 | 2015-02-04 | 한국에이에스엠지니텍 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 증착 방법 |
| US8273178B2 (en) | 2008-02-28 | 2012-09-25 | Asm Genitech Korea Ltd. | Thin film deposition apparatus and method of maintaining the same |
| EP2324968B1 (en) * | 2008-07-10 | 2018-11-21 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Robot and its teaching method |
| JP5456287B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2014-03-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
| CN101767079B (zh) * | 2009-01-05 | 2011-11-16 | 富葵精密组件(深圳)有限公司 | 放板机、电路板生产系统以及制作基板的方法 |
| CN101633441B (zh) * | 2009-08-19 | 2012-05-23 | 友达光电股份有限公司 | 基板处理系统及其基板搬运装置 |
| CN102193505B (zh) * | 2010-03-05 | 2012-12-19 | 理想能源设备(上海)有限公司 | 玻璃基片自动化定量管理系统及其方法 |
| US8702142B2 (en) * | 2011-01-05 | 2014-04-22 | Electro Scientific Industries, Inc. | Apparatus and method for handling a substrate |
| USD674365S1 (en) * | 2011-01-20 | 2013-01-15 | Tokyo Electron Limited | Arm for wafer transportation for manufacturing semiconductor |
| USD673923S1 (en) * | 2011-01-20 | 2013-01-08 | Tokyo Electron Limited | Arm for wafer transportation for manufacturing semiconductor |
| US8657352B2 (en) | 2011-04-11 | 2014-02-25 | International Business Machines Corporation | Robotic device for substrate transfer applications |
| USD701498S1 (en) * | 2011-10-20 | 2014-03-25 | Tokyo Electron Limited | Arm for wafer transportation for manufacturing semiconductor |
| USD695240S1 (en) * | 2011-10-20 | 2013-12-10 | Tokyo Electron Limited | Arm for wafer transportation for manufacturing semiconductor |
| US8936293B2 (en) | 2011-12-21 | 2015-01-20 | International Business Machines Corporation | Robotic device for substrate transfer applications |
| JP5741959B2 (ja) * | 2012-05-11 | 2015-07-01 | 株式会社ダイフク | 基板検出装置 |
| WO2014165406A1 (en) * | 2013-04-01 | 2014-10-09 | Brewer Science Inc. | Apparatus and method for thin wafer transfer |
| CN103715128B (zh) * | 2013-12-30 | 2018-10-16 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 可调节式晶圆固定装置、方法及晶圆清洗平台 |
| CN104748676A (zh) * | 2013-12-31 | 2015-07-01 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 位置检测装置和传输系统 |
| CN104108605B (zh) * | 2014-07-08 | 2016-08-17 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种玻璃基板的取放装置 |
| US9536764B2 (en) | 2015-01-27 | 2017-01-03 | Lam Research Corporation | End effector for wafer transfer system and method of transferring wafers |
| CN106469668B (zh) * | 2015-08-21 | 2019-02-26 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种带孔方形基片的夹持传送装置 |
| KR102181121B1 (ko) * | 2016-09-20 | 2020-11-20 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판 이송 장치 및 기판 이송 장치의 제어 방법 |
| CN107564845B (zh) * | 2017-08-24 | 2019-12-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种机械手 |
| US11020852B2 (en) | 2017-10-05 | 2021-06-01 | Brooks Automation, Inc. | Substrate transport apparatus with independent accessory feedthrough |
| US10695915B2 (en) * | 2018-02-26 | 2020-06-30 | King Abdullah University Of Science And Technology | Gripper mechanism and method |
| US11433556B2 (en) * | 2019-01-24 | 2022-09-06 | Flexiv Ltd. | Gripper with high-precision pinching force sensor |
| USD911986S1 (en) * | 2019-05-03 | 2021-03-02 | Raytheon Company | Handheld semiconductor wafer handling tool |
| CN110883773B (zh) * | 2019-11-20 | 2020-10-27 | 清华大学 | 一种用于二指机械手抓取操作的自适应控制方法 |
| JP1665227S (ja) * | 2019-11-28 | 2020-08-03 | ||
| JP7413062B2 (ja) * | 2020-02-13 | 2024-01-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送装置の教示方法及び処理システム |
| CN111348427B (zh) * | 2020-03-13 | 2022-04-22 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 机械手 |
| WO2022002571A2 (de) * | 2020-07-02 | 2022-01-06 | Sew-Eurodrive Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum betreiben eines systems und system, aufweisend einen stapel von objekten, einen roboter, einen sensor und ein aufnahmemittel |
| CN112967963A (zh) * | 2021-02-26 | 2021-06-15 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种异形晶片上下片装置及其使用方法 |
| USD1077046S1 (en) * | 2022-12-01 | 2025-05-27 | Koninklijke Philips N.V. | Handle for nanoimprinting machine |
Family Cites Families (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3968885A (en) * | 1973-06-29 | 1976-07-13 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for handling workpieces |
| IT1123216B (it) * | 1979-09-19 | 1986-04-30 | Alberto Rovetta | Mano meccanica multiscopo |
| US4417757A (en) * | 1981-11-09 | 1983-11-29 | Morrison Thomas R | Recording disc handling device |
| US4410209A (en) * | 1982-03-11 | 1983-10-18 | Trapani Silvio P | Wafer-handling tool |
| FR2551389B1 (fr) * | 1983-09-02 | 1987-02-06 | Calhene | Prehenseur a patins de contact multiples |
| US4598942A (en) * | 1984-07-23 | 1986-07-08 | Westinghouse Electric Corp. | Force-controlled gripper with adaptive accommodation |
| US4813732A (en) * | 1985-03-07 | 1989-03-21 | Epsilon Technology, Inc. | Apparatus and method for automated wafer handling |
| US4735452A (en) * | 1986-12-19 | 1988-04-05 | Texas Instruments Incorporated | Article gripper assembly |
| US4808898A (en) * | 1987-09-30 | 1989-02-28 | Keith Pearson | Gripper assembly for robot arm |
| JP2508540B2 (ja) * | 1987-11-02 | 1996-06-19 | 三菱マテリアル株式会社 | ウェ―ハの位置検出装置 |
| KR900006017B1 (ko) * | 1987-12-18 | 1990-08-20 | 한국전기통신공사 | 가변직경형 웨이퍼운송장치 |
| US5108140A (en) * | 1988-04-18 | 1992-04-28 | Odetics, Inc. | Reconfigurable end effector |
| IL86514A0 (ja) * | 1988-05-26 | 1988-11-15 | ||
| US5501498A (en) * | 1988-08-31 | 1996-03-26 | The Trustees Of The University Of Pennsylvania | Methods and apparatus for mechanically intelligent grasping |
| US4957320A (en) * | 1988-08-31 | 1990-09-18 | Trustees Of The University Of Pennsylvania | Methods and apparatus for mechanically intelligent grasping |
| US5061144A (en) * | 1988-11-30 | 1991-10-29 | Tokyo Electron Limited | Resist process apparatus |
| US5022695A (en) * | 1989-01-30 | 1991-06-11 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor slice holder |
| US5425133A (en) * | 1990-01-24 | 1995-06-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Robot apparatus with an electrical driver for controlling a detachable rotor hand |
| CH680275A5 (ja) * | 1990-03-05 | 1992-07-31 | Tet Techno Investment Trust | |
| JPH0410529A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | サセプタ及びウエーハ自動脱着装置 |
| US5172951A (en) * | 1990-08-06 | 1992-12-22 | University Of Utah Research Foundation | Robotic grasping apparatus |
| US5280981A (en) * | 1991-02-01 | 1994-01-25 | Odetics, Inc. | End effector with load-sensitive digit actuation mechanisms |
| WO1994019821A1 (de) * | 1993-02-26 | 1994-09-01 | Mayer Herbert E | Vorrichtung und verfahren zum transportieren von flachen gegenständen, insbesondere von substraten |
| US5378033A (en) * | 1993-05-10 | 1995-01-03 | University Of Kentucky Research Foundation | Multi-function mechanical hand with shape adaptation |
| US5570920A (en) * | 1994-02-16 | 1996-11-05 | Northeastern University | Robot arm end effector |
| US5504345A (en) * | 1994-04-14 | 1996-04-02 | Hama Laboratories, Inc. | Dual beam sensor and edge detection system and method |
| US5711647A (en) * | 1994-10-17 | 1998-01-27 | Aesop, Inc. | Method of and apparatus for locating and orientating a part on a gripper and transferring it to a tool while maintaining location and orientation on the tool |
| KR0152324B1 (ko) * | 1994-12-06 | 1998-12-01 | 양승택 | 웨이퍼 측면파지 이송 반도체 제조장치 |
| US5543022A (en) * | 1995-01-17 | 1996-08-06 | Hmt Technology Corporation | Disc-handling apparatus |
| US6002109A (en) * | 1995-07-10 | 1999-12-14 | Mattson Technology, Inc. | System and method for thermal processing of a semiconductor substrate |
| US5825913A (en) * | 1995-07-18 | 1998-10-20 | Cognex Corporation | System for finding the orientation of a wafer |
| US5829811A (en) * | 1995-08-03 | 1998-11-03 | Skinner, Ii; Frank Raymand | Multiposition locking gripper assembly |
| US5700046A (en) * | 1995-09-13 | 1997-12-23 | Silicon Valley Group, Inc. | Wafer gripper |
| US5734629A (en) * | 1995-12-28 | 1998-03-31 | Rimage Corporation | CD transporter |
| US5980194A (en) * | 1996-07-15 | 1999-11-09 | Applied Materials, Inc. | Wafer position error detection and correction system |
| CH697146A5 (de) * | 1996-10-09 | 2008-05-15 | Tec Sem Ag | Greifvorrichtung zur Handhabung von Wafern. |
| AT405701B (de) * | 1997-06-18 | 1999-11-25 | Sez Semiconduct Equip Zubehoer | Greifer für halbleiterwafer und andere scheibenförmige gegenstände |
| US5988971A (en) * | 1997-07-09 | 1999-11-23 | Ade Optical Systems Corporation | Wafer transfer robot |
| US6167322A (en) * | 1998-07-10 | 2000-12-26 | Holbrooks; Orville Ray | Intelligent wafer handling system and method |
| US6216883B1 (en) * | 1998-07-24 | 2001-04-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Wafer holding hand |
| US5990650A (en) * | 1998-11-25 | 1999-11-23 | Lumonics Corporation | Method and apparatus for orienting a disk via edge contact |
| US6256555B1 (en) * | 1998-12-02 | 2001-07-03 | Newport Corporation | Robot arm with specimen edge gripping end effector |
| US6454332B1 (en) * | 1998-12-04 | 2002-09-24 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for handling a substrate |
-
1999
- 1999-02-04 US US09/245,010 patent/US6167322A/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-09 KR KR1020017000341A patent/KR20010071806A/ko not_active Withdrawn
- 1999-07-09 JP JP2000559579A patent/JP2002520240A/ja active Pending
- 1999-07-09 AU AU48499/99A patent/AU744586B2/en not_active Ceased
- 1999-07-09 WO PCT/US1999/014865 patent/WO2000003418A2/en not_active Ceased
- 1999-07-09 CN CN99808319A patent/CN1308585A/zh active Pending
- 1999-07-09 EP EP99932122A patent/EP1097096A2/en not_active Withdrawn
- 1999-07-12 TW TW088111790A patent/TW440892B/zh active
-
2000
- 2000-12-11 US US09/734,308 patent/US6692049B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-08-28 US US09/940,837 patent/US20030052498A1/en not_active Abandoned
-
2003
- 2003-01-02 US US10/336,352 patent/US20030151268A1/en not_active Abandoned
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013030787A (ja) * | 2005-04-22 | 2013-02-07 | Applied Materials Inc | デカルトロボットクラスタツール構築 |
| KR101246333B1 (ko) | 2010-07-30 | 2013-03-21 | 한국과학기술연구원 | 웨이퍼 탑재 유지 제어장치 |
| JP2014116536A (ja) * | 2012-12-12 | 2014-06-26 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | エンドエフェクタ装置及び該エンドエフェクタ装置を用いた板状部材の位置決め方法 |
| JP2019033220A (ja) * | 2017-08-09 | 2019-02-28 | 株式会社テックインテック | 基板搬送装置 |
| JP7088641B2 (ja) | 2017-08-09 | 2022-06-21 | 株式会社Screen Spe テック | 基板搬送装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1097096A2 (en) | 2001-05-09 |
| AU744586B2 (en) | 2002-02-28 |
| US6167322A (en) | 2000-12-26 |
| US20030052498A1 (en) | 2003-03-20 |
| TW440892B (en) | 2001-06-16 |
| US20030052497A1 (en) | 2003-03-20 |
| US20030151268A1 (en) | 2003-08-14 |
| KR20010071806A (ko) | 2001-07-31 |
| CN1308585A (zh) | 2001-08-15 |
| AU4849999A (en) | 2000-02-01 |
| WO2000003418A3 (en) | 2000-02-24 |
| US6692049B2 (en) | 2004-02-17 |
| WO2000003418A2 (en) | 2000-01-20 |
| WO2000003418B1 (en) | 2000-04-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002520240A (ja) | 識別機能を有する、ウェハ取り扱い装置及び方法 | |
| JP5518497B2 (ja) | エンドエフェクタと周縁を有する試料との整列を決定する方法およびエンドエフェクタを備える試料を移送する装置 | |
| US6468022B1 (en) | Edge-gripping pre-aligner | |
| US8016541B2 (en) | Substrate handling system for aligning and orienting substrates during a transfer operation | |
| US7140655B2 (en) | Precision soft-touch gripping mechanism for flat objects | |
| US6592324B2 (en) | Gripper mechanism | |
| JP2002531942A (ja) | 試料を保持するロボットアーム端部エフェクタ | |
| US10615068B2 (en) | Substrate handling system for aligning and orienting substrates during a transfer operation | |
| US6935830B2 (en) | Alignment of semiconductor wafers and other articles | |
| WO2004033158A2 (en) | Substrate handling system for aligning and orienting substrates during a transfer operation | |
| CN1479667A (zh) | 具有缓冲性能的边缘夹持校准器 | |
| US6638004B2 (en) | Article holders and article positioning methods | |
| KR20040031676A (ko) | 웨이퍼를 위치를 일치시키기 위한 장치 및 방법 | |
| US20040102858A1 (en) | Soft-touch gripping mechanism for flat objects | |
| JP2002133710A (ja) | 光ピックアップ装置の部品調整組立方法及び装置 | |
| JPH03133151A (ja) | 基板カセット用搬送車 | |
| JPH04289031A (ja) | フランジ付シャフトの把持装置 | |
| JPH04283091A (ja) | 円板体把持用ハンド |