[go: up one dir, main page]

JP2002228685A - Probe device - Google Patents

Probe device

Info

Publication number
JP2002228685A
JP2002228685A JP2001022045A JP2001022045A JP2002228685A JP 2002228685 A JP2002228685 A JP 2002228685A JP 2001022045 A JP2001022045 A JP 2001022045A JP 2001022045 A JP2001022045 A JP 2001022045A JP 2002228685 A JP2002228685 A JP 2002228685A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contact
spring layer
film
probe
tip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001022045A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshinori Ishii
利昇 石井
Shuji Fujimori
周司 藤森
Yoshiaki Kawakami
喜章 川上
Isato Sasaki
勇人 佐々木
Takao Iwakoshi
孝雄 岩越
Naoki Kato
直樹 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP2001022045A priority Critical patent/JP2002228685A/en
Publication of JP2002228685A publication Critical patent/JP2002228685A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 急激なオーバードライブの変化によってもコ
ンタクトピンの曲がりやバネ層の曲がりを防止する。 【解決手段】 コンタクトプローブ1において、そのフ
ィルム4の裏面にバネ層7を被着した。マウンティング
ベース23の先端に突出形成された剛体部21とバネ層
7の先端部との間の隙間tに、弾性体22を剛体部21
側に接着して設けた。弾性体22とバネ層7の先端部と
の間に隙間xを形成した。コンタクトピン2aをフィル
ム4の先端部から突出させずにフィルム4の表面に被着
した。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To prevent bending of a contact pin and bending of a spring layer even by a sudden change in overdrive. SOLUTION: In a contact probe 1, a spring layer 7 is applied to the back surface of a film 4 thereof. The elastic body 22 is attached to the rigid body 21 in a gap t between the rigid body 21 protruding from the tip of the mounting base 23 and the tip of the spring layer 7.
Adhered to the side. A gap x was formed between the elastic body 22 and the tip of the spring layer 7. The contact pins 2a were attached to the surface of the film 4 without protruding from the tip of the film 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップやL
CD(液晶表示体)等の各電極端子にコンタクトピンを
接触させて電気的なテストを行うためのコンタクトプロ
ーブを備えたプローブ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
The present invention relates to a probe device provided with a contact probe for performing an electrical test by bringing a contact pin into contact with each electrode terminal of a CD (liquid crystal display) or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ICチップやLSIチップ等の
半導体チップ、またはLCD(液晶表示体)等の被検査
部材の電気的なテストを行うために、コンタクトピンが
備えられたコンタクトプローブがメカニカルパーツによ
ってプリント基板に装着されたプローブ装置が用いられ
ている。
2. Description of the Related Art In general, a contact probe provided with contact pins is used for mechanically testing a semiconductor chip such as an IC chip or an LSI chip or a member to be inspected such as an LCD (liquid crystal display). A probe device mounted on a printed circuit board is used.

【0003】例えば、先行技術として、図3及び図4に
示すコンタクトプローブ1では、例えばNi合金等から
なる複数のパターン配線2が配列され、その上に接着剤
層3を介してフィルム4が被着されており、フィルム4
は例えばポリイミド樹脂等からなる樹脂フィルム層5と
例えばグラウンドをなすCu等の金属フィルム層6が積
層されている。さらに、フィルム4の裏面には、その略
全面に亘ってバネ層7が被着されている。パターン配線
2の各先端部分は狭ピッチで略平行に配列されてフィル
ム4の先端部に位置し、フィルム4から突出せずに、そ
れぞれコンタクトピン2aを構成している
For example, as a prior art, in a contact probe 1 shown in FIGS. 3 and 4, a plurality of pattern wirings 2 made of, for example, a Ni alloy or the like are arranged, and a film 4 is coated thereon with an adhesive layer 3 interposed therebetween. Wearing film 4
A resin film layer 5 made of, for example, a polyimide resin or the like and a metal film layer 6 made of, for example, Cu serving as a ground are laminated. Further, a spring layer 7 is applied to the back surface of the film 4 over substantially the entire surface. Each end of the pattern wiring 2 is arranged at a narrow pitch and substantially parallel to each other and is located at the end of the film 4, and does not protrude from the film 4 and constitutes a contact pin 2 a.

【0004】このコンタクトプローブ1は、例えば図3
に示すように平面視で略ホームベース形状とされ、漸次
幅が狭くなる狭幅部の先端にコンタクトピン2aが狭ピ
ッチに配列されている先端部1aと、先端部1aの反対
側端部の最大幅で形成される基部1bとを有しており、
基部1bにはパターン配線2に交差する方向に延びる略
長方形状の窓部1cが形成されている。この窓部1cで
パターン配線2の各配線引き出し部2bが後述のプリン
ト基板8の電極と接続される。
The contact probe 1 is, for example, shown in FIG.
As shown in a plan view, it has a substantially home base shape in a plan view, and a tip 1a in which contact pins 2a are arranged at a narrow pitch at a tip of a narrow portion whose width is gradually reduced, and a tip opposite to the tip 1a. And a base 1b formed with a maximum width.
A substantially rectangular window 1c extending in a direction crossing the pattern wiring 2 is formed in the base 1b. Each wiring lead-out portion 2b of the pattern wiring 2 is connected to an electrode of a printed circuit board 8 described later through the window 1c.

【0005】上記のような構成のコンタクトプローブ1
は図5及び図6に示すようにプリント基板8とともにメ
カニカルパーツ9に組み込まれてプローブ装置10とさ
れ、コンタクトピン2aに半導体ICチップやLCD等
の被検査部材の端子が接触させられることになる。
[0005] The contact probe 1 having the above configuration
As shown in FIGS. 5 and 6, the probe device 10 is incorporated into the mechanical parts 9 together with the printed circuit board 8, and the terminals of a member to be inspected such as a semiconductor IC chip or an LCD are brought into contact with the contact pins 2a. .

【0006】すなわち、図5及び図6に示すプローブ装
置10において、略円板形状をなし中央窓部8aを有す
るプリント基板8の上に、例えばトップクランプ12が
取り付けられ、コンタクトプローブ1をその下面に接着
剤等で貼り付けたマウンティングベース13を、トップ
クランプ12にボルト等で固定する。そして略額縁形状
のボトムクランプ15でコンタクトプローブ1の基部1
bを押さえつけることにより、基部1bはボトムクラン
プ15の弾性物質16でプリント基板8の下面に押しつ
けられ固定される。この状態で、コンタクトプローブ1
の先端部1aは図6で下方に向けて傾斜状態に保持され
る。
More specifically, in the probe device 10 shown in FIGS. 5 and 6, for example, a top clamp 12 is mounted on a printed circuit board 8 having a substantially disk shape and having a central window 8a, and the contact probe 1 is attached to the lower surface thereof. Is fixed to the top clamp 12 with bolts or the like. Then, the base 1 of the contact probe 1 is clamped by the bottom clamp 15 having a substantially frame shape.
By pressing down the base b, the base 1b is pressed and fixed to the lower surface of the printed circuit board 8 by the elastic substance 16 of the bottom clamp 15. In this state, contact probe 1
6 is held in a state of being inclined downward in FIG.

【0007】これによって、パターン配線2の配線引き
出し部2bが窓部1cを通してプリント基板8の下面の
基板側電極8bに押しつけられて接触状態に保持される
ことになる。このような状態で、半導体ICチップ18
等の被検査部材のパッドやバンプ等の端子18aがコン
タクトピン2aに押圧接触させられて電気的なテストが
行われることになる。一方、Al(アルミニウム)合金
等で形成されるICチップ18等のパッド18aは、そ
の表面が空気中で酸化して、薄いアルミニウムの表面酸
化膜で覆われた状態となっている。したがって、パッド
18aの電気的テストを行うには、アルミニウムの表面
酸化膜を剥離させ、内部のアルミニウムを露出させて、
導電性を確保する必要がある。
As a result, the wiring lead portion 2b of the pattern wiring 2 is pressed through the window 1c against the substrate-side electrode 8b on the lower surface of the printed circuit board 8 and is kept in contact. In this state, the semiconductor IC chip 18
The terminal 18a such as a pad or a bump of a member to be inspected is pressed into contact with the contact pin 2a to perform an electrical test. On the other hand, the surface of the pad 18a such as the IC chip 18 formed of an Al (aluminum) alloy or the like is oxidized in the air and is covered with a thin aluminum surface oxide film. Therefore, in order to conduct an electrical test of the pad 18a, the surface oxide film of aluminum is peeled off and the aluminum inside is exposed,
It is necessary to ensure conductivity.

【0008】そこで、上記コンタクトプローブ1におい
ては、コンタクトピン2aをパッド18aの表面に接触
させつつ、オーバードライブをかける(コンタクトピン
2aがパッド18aに接触してから、パッド18aをさ
らに上方に引き上げる)ことにより、コンタクトピン2
aの先端でパッド18a表面のアルミニウムの表面酸化
膜を擦り取り、内部のアルミニウムを露出させるように
している。上述した作業は、スクラブ(scrub)と呼ば
れ、電気的テストを確実に行う上で重要とされる。
Therefore, in the contact probe 1, overdrive is applied while the contact pin 2a is in contact with the surface of the pad 18a (the pad 18a is further pulled up after the contact pin 2a contacts the pad 18a). The contact pin 2
The tip of a is used to scrape the surface oxide film of aluminum on the surface of the pad 18a to expose the aluminum inside. The above-described operation is called scrub, and is important for reliably performing an electrical test.

【0009】また、別の先行技術として、特開平7−3
21170号公報に開示されているようなプローブ装置
がある。このようなプローブ装置は、プローブ翼体(コ
ンタクトプローブ)の板バネ部(コンタクトプローブの
先端部)を圧力抑制する調整手段としてのバネ把持体を
有しているものである。
As another prior art, Japanese Patent Laid-Open No. 7-3
There is a probe device as disclosed in Japanese Patent No. 21170. Such a probe device has a spring holding body as an adjusting means for suppressing the pressure of the leaf spring portion (tip portion of the contact probe) of the probe blade (contact probe).

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上記のようなプローブ
装置10においては、そのコンタクトプローブ1のフィ
ルム4の裏面に貼り付けられているバネ層7により、コ
ンタクトピン2aの強度を上げるとともに、オーバード
ライブ時にコンタクトピン2aが受ける応力を吸収し
て、コンタクトピン2aの曲がりによる破損を防止する
ことが狙われている。しかしながら、オペレータの操作
ミスなどによる急激なオーバードライブの変化が起きる
と、コンタクトピン2aの曲がりが生じるだけでなく、
このコンタクトピン2aが被着されているフィルム4の
裏側に位置するバネ層7までも変形して元に戻らなくな
ってしまうおそれがあり、その後のコンタクトピン2a
とパッド18aとのコンタクト性に支障をきたして、コ
ンタクトプローブ1の修理や再製作の必要が生じてしま
うおそれがあった。また、特開平7−321170号公
報に開示されているようなプローブ装置においても、そ
のコンタクトプローブはバネ層を備えているものではな
く、さらに、バネ把持体は単なるコンタクトピンの調整
用のために取り付けられたものであり、上記のような急
激なオーバードライブの変化に対応することはできなか
った。
In the probe device 10 as described above, the strength of the contact pins 2a is increased by the spring layer 7 attached to the back surface of the film 4 of the contact probe 1, and the overdrive is performed. It is aimed at absorbing the stress applied to the contact pin 2a sometimes and preventing the contact pin 2a from being damaged due to bending. However, when a sudden change in overdrive occurs due to an operator's operation error or the like, not only is the contact pin 2a bent, but also,
There is a possibility that even the spring layer 7 located on the back side of the film 4 on which the contact pins 2a are adhered is deformed and cannot be returned to its original state.
There is a possibility that the contact property between the contact probe 1 and the pad 18a may be impaired, and the contact probe 1 may need to be repaired or remanufactured. Also, in the probe device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-321170, the contact probe does not include a spring layer, and the spring holding body is used only for adjusting a contact pin. It was attached and could not cope with such a sudden change in overdrive.

【0011】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
で、急激なオーバードライブの変化によっても、コンタ
クトピンの曲がりやフィルムの裏面に被着されているバ
ネ層の変形を抑制することができるプローブ装置を提供
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to suppress the bending of a contact pin and the deformation of a spring layer attached to the back surface of a film even by a sudden change in overdrive. It is an object to provide a probe device.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決して、
このような目的を達成するために、本発明は、複数のパ
ターン配線がフィルムの表面上に被着され、これらのパ
ターン配線の各先端がコンタクトピンとされるコンタク
トプローブがメカニカルパーツに装着されてなるプロー
ブ装置において、前記コンタクトプローブは、前記フィ
ルムの裏面にバネ層が被着されたものであり、さらに、
前記メカニカルパーツにおける前記コンタクトプローブ
の保持部材と前記バネ層の先端部との間に、前記保持部
材と接着された弾性体を備え、かつ、前記弾性体と前記
バネ層の先端部との間には隙間が形成されていることを
特徴とする。このように、コンタクトプローブがそのフ
ィルムの裏面側にバネ層を有していることにより、オー
バードライブ時にコンタクトピンに加わる応力をバネ層
の弾性変形によって吸収できて、コンタクトピンの曲が
りを防止できる。しかも、バネ層の先端部の上方側に、
所定の隙間を介して弾性体が設けられていることから、
例えば、オペレータの操作ミス等により、オーバードラ
イブの急激な変化が生じて、コンタクトピンだけでなく
フィルムの裏面に被着されたバネ層にまで必要以上の応
力が加わったとしても、バネ層がその上方に位置する弾
性体に接触するまで弾性変形した後、それ以上の変形を
上記弾性体が吸収することとなって、コンタクトピンの
曲がりだけでなく、バネ層が変形して元に戻らなくなっ
てしまうことを防止できる。
Means for Solving the Problems To solve the above problems,
In order to achieve such an object, the present invention is configured such that a plurality of pattern wirings are attached on a surface of a film, and a contact probe having each of the ends of the pattern wirings as a contact pin is attached to a mechanical part. In the probe device, the contact probe is one in which a spring layer is attached to a back surface of the film,
An elastic body adhered to the holding member is provided between the holding member of the contact probe and the tip of the spring layer in the mechanical part, and between the elastic body and the tip of the spring layer. Is characterized in that a gap is formed. Since the contact probe has the spring layer on the back surface side of the film, the stress applied to the contact pin during overdrive can be absorbed by the elastic deformation of the spring layer, and the contact pin can be prevented from bending. Moreover, on the upper side of the tip of the spring layer,
Since the elastic body is provided through a predetermined gap,
For example, even if a sudden change in overdrive occurs due to an operator's operation error or the like, and even if excessive stress is applied not only to the contact pins but also to the spring layer attached to the back surface of the film, the spring layer is After being elastically deformed until it comes into contact with the elastic body located above, the elastic body absorbs further deformation, not only bending of the contact pins, but also the spring layer is deformed and cannot return to its original state. Can be prevented.

【0013】また、前記バネ層の先端部と前記弾性体と
の間に形成された前記隙間は、100μm〜500μm
の範囲に設定されているのが好ましく、このような範囲
に設定されていると、コンタクトピンの自由度を確保す
るとともに、バネ層の変形を防止することを両立でき
る。ここで、この隙間が100μmより小さいと、所定
のオーバードライブ量が確保できないおそれがあり、一
方、隙間が500μmより大きいと、バネ層が弾性体に
当接するまでに変形しなければならない距離が大きくな
り、バネ層の変形が弾性変形できる許容範囲を超えてし
まって元に戻らなくなるおそれが生じる。
The gap formed between the tip of the spring layer and the elastic body is 100 μm to 500 μm.
Is preferably set in such a range. When such a range is set, the degree of freedom of the contact pin can be ensured, and the deformation of the spring layer can be prevented. Here, if the gap is smaller than 100 μm, a predetermined overdrive amount may not be secured. On the other hand, if the gap is larger than 500 μm, the distance that the spring layer must deform before contacting the elastic body is large. Therefore, there is a possibility that the deformation of the spring layer exceeds the allowable range of elastic deformation and cannot be restored.

【0014】さらに、本発明によるプローブ装置におい
ては、オーバードライブ時に前記バネ層に必要以上の応
力が加えられた場合、該バネ層が前記弾性体に接触する
まで弾性変形した後の変形が前記弾性体によって吸収さ
れることになるが、この弾性体は、前記バネ層にかかる
応力を吸収するという働きのために、ある程度の固さを
もった弾性体であることが必要となる。そこで、この弾
性体がバネ層にかかる応力を吸収している状態における
ひずみ量(バネ層が弾性体に接触してから、弾性体の弾
性変形により支えられている状態になるまでの、上下方
向におけるバネ層の弾性体に対する相対的な移動量)は
10μm以下となるように設定されていることが好まし
い。この弾性体のひずみ量が10μmより大きくなる
と、バネ層の変形を弾性体によって吸収する効果が小さ
くなり、バネ層が変形して元に戻らなくなってしまうお
それが生じる。
Further, in the probe device according to the present invention, when an excessive stress is applied to the spring layer during overdrive, the spring layer is elastically deformed until it comes into contact with the elastic body. Although the elastic body is absorbed by the body, the elastic body needs to be an elastic body having a certain degree of hardness in order to absorb the stress applied to the spring layer. Therefore, the amount of strain in a state where the elastic body is absorbing the stress applied to the spring layer (the vertical direction from when the spring layer comes into contact with the elastic body to when it is supported by the elastic deformation of the elastic body) Is relatively set to 10 μm or less. When the amount of strain of the elastic body is larger than 10 μm, the effect of absorbing the deformation of the spring layer by the elastic body is reduced, and there is a possibility that the spring layer is deformed and cannot be restored.

【0015】また、前記コンタクトプローブは、前記フ
ィルムの表面に前記コンタクトピンが被着されているこ
とを特徴とする。このようなコンタクトピンの裏面側に
までフィルムが存在しているようなコンタクトプローブ
を本発明のプローブ装置に用いると、フィルムによって
コンタクトピンの強度を確保できて、その曲がりによる
破損を防止する効果をより高く保つことができる。
Further, the contact probe is characterized in that the contact pins are attached to a surface of the film. When a contact probe in which a film is present on the back surface side of such a contact pin is used in the probe device of the present invention, the strength of the contact pin can be secured by the film, and the effect of preventing damage due to bending can be obtained. Can be kept higher.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を添付図
面により説明するが、上述した先行技術と同様の部分に
は、同一の符号を用いてその説明を省略する。図1は本
実施形態によるプローブ装置の縦断面図、図2は図1に
おけるプローブ装置の要部拡大断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings, and the same parts as those in the above-mentioned prior art will be denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted. FIG. 1 is a longitudinal sectional view of the probe device according to the present embodiment, and FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of the probe device in FIG.

【0017】本実施形態によるプローブ装置20は、図
1及び図2に示されるように、コンタクトプローブ1が
プリント基板8とともにメカニカルパーツ9によって組
み込まれてなるものである。このコンタクトプローブ1
は、上述した図3及び図4における先行技術と同様の構
成をなすものであり、樹脂フィルム層5と金属フィルム
層6とが積層されてなるフィルム4の表面に複数のパタ
ーン配線2が被着され、さらにフィルム4の裏面には例
えばJIS G 4801に規定されるSUP材等のバ
ネ綱よりなる薄板状のバネ層7が略全面に被着されてい
る。フィルム4の先端部(コンタクトプローブ1の先端
部1a)において、パターン配線2の各先端が狭ピッチ
で略平行に配列されてコンタクトピン2aとされてお
り、このコンタクトピン2aはフィルム4に被着された
状態となっている。すなわち、コンタクトピン2aがフ
ィルム4の先端部から突出していない状態となってい
る。
As shown in FIGS. 1 and 2, the probe device 20 according to the present embodiment is one in which the contact probe 1 is incorporated together with the printed circuit board 8 by the mechanical parts 9. This contact probe 1
Has a configuration similar to that of the prior art in FIGS. 3 and 4 described above, and a plurality of pattern wirings 2 are adhered to the surface of a film 4 in which a resin film layer 5 and a metal film layer 6 are laminated. Further, a thin plate-like spring layer 7 made of a spring rope such as a SUP material specified in JIS G 4801 is adhered to almost the entire back surface of the film 4. At the leading end of the film 4 (the leading end 1a of the contact probe 1), the leading ends of the pattern wirings 2 are arranged almost in parallel at a narrow pitch to form contact pins 2a, and the contact pins 2a are attached to the film 4. It has been done. That is, the contact pins 2 a are in a state where they do not protrude from the leading end of the film 4.

【0018】上記のようなコンタクトプローブ1は、図
1及び図2に示されるように、上述の先行技術と同様に
してプリント基板8とともにメカニカルパーツ9によっ
て組み込まれてプローブ装置20とされる。ここで、そ
の下面23aに接着剤等によってコンタクトプローブ1
が貼り付けられたマウンティングベース23は、コンタ
クトプローブ1の保持部材としての働きをもつものであ
り、その先端部分(貼り付けられたコンタクトプローブ
1における先端方向に位置する部分)には、コンタクト
プローブ1の先端部1aの上方と隙間tを介して剛体部
21が突出形成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the contact probe 1 as described above is assembled with mechanical parts 9 together with a printed circuit board 8 in the same manner as in the above-mentioned prior art to form a probe device 20. Here, the contact probe 1 is attached to the lower surface 23a with an adhesive or the like.
The mounting base 23 to which the contact probe 1 is attached has a function as a holding member for the contact probe 1, and a tip portion (a portion located in the tip direction of the attached contact probe 1) is provided with the contact probe 1. A rigid body portion 21 is formed so as to protrude through a gap t from above the distal end portion 1a.

【0019】そして、この剛体部21とコンタクトプロ
ーブ1の先端部1a(バネ層7の先端部)との間の隙間
tには、例えばゴムやコイルバネ等からなる弾性体22
が、隙間tにおけるコンタクトプローブ1の先端側より
の位置に、剛体部21と接着されて設けられている。し
かも、弾性体22とバネ層7の先端部(コンタクトプロ
ーブ1の先端部1a)との間には、隙間xが形成されて
おり、この隙間xは、100μm≦x≦500μmの範
囲に設定されている。
An elastic body 22 made of, for example, rubber or a coil spring is provided in a gap t between the rigid body 21 and the tip 1a of the contact probe 1 (the tip of the spring layer 7).
Is provided at a position from the distal end side of the contact probe 1 in the gap t so as to be adhered to the rigid body portion 21. Moreover, a gap x is formed between the elastic body 22 and the tip of the spring layer 7 (the tip 1a of the contact probe 1), and the gap x is set in a range of 100 μm ≦ x ≦ 500 μm. ing.

【0020】このとき、弾性体22は、剛体部21とバ
ネ層7の先端部(コンタクトプローブ1の先端部1a)
とに挟まれるように位置しており、その位置関係でいう
と、弾性体22とバネ層7とがオーバードライブ時に受
ける応力の伝達方向に直列に配列されていることにな
る。さらに、弾性体22は、コンタクトプローブ1の先
端側よりの部分に設けられていることから、コンタクト
ピン2aの先端部分のすぐ上方に位置している。
At this time, the elastic body 22 includes the rigid body 21 and the tip of the spring layer 7 (the tip 1a of the contact probe 1).
The elastic body 22 and the spring layer 7 are arranged in series in the direction in which the stress applied during overdrive is transmitted. Furthermore, since the elastic body 22 is provided at a portion from the tip side of the contact probe 1, it is located immediately above the tip portion of the contact pin 2a.

【0021】上記のようなプローブ装置20によれば、
メカニカルパーツ9によって組み込まれているコンタク
トプローブ1のコンタクトピン2aまでフィルム4の表
面に被着されており、さらに、フィルム4の裏面には、
その略全面に亘ってバネ層7が被着されていることか
ら、フィルム4によるコンタクトピン2aの強度アップ
が図れるとともに、オーバードライブ時にバネ層7が弾
性変形することによって、コンタクトピン2aにかかる
応力を吸収し、コンタクトピン2aの曲がりを防止する
ことができるので、良好なコンタクト性を維持しつつ被
検査部材の電気的なテストを行うことができる。
According to the probe device 20 as described above,
The contact pins 2 a of the contact probe 1 incorporated by the mechanical parts 9 are attached to the surface of the film 4, and further,
Since the spring layer 7 is applied over substantially the entire surface, the strength of the contact pin 2a can be increased by the film 4, and the spring layer 7 is elastically deformed at the time of overdrive, so that the stress applied to the contact pin 2a is increased. And the bending of the contact pin 2a can be prevented, so that an electrical test of the member to be inspected can be performed while maintaining good contact properties.

【0022】さらに、バネ層7の先端部のすぐ上方に、
隙間xを介して弾性体22が配置されていることから、
例えば、オペレータの操作ミス等により、オーバードラ
イブの急激な変化が生じて、コンタクトピン2aの上方
に位置するバネ層7にまで必要以上の応力が加わったと
しても、バネ層7が弾性体22に当接するまで弾性変形
し、その後の変形を弾性体22が吸収することになるの
で、コンタクトピン2aの曲がりだけでなく、バネ層7
が変形して元に戻らなくなってしまうような事態を回避
することができ、コンタクトプローブの修理や再製作の
必要がなくなって、効率的に電気的なテストを行うこと
ができる。
Further, immediately above the tip of the spring layer 7,
Since the elastic body 22 is arranged via the gap x,
For example, even if a sudden change in overdrive occurs due to an operator's operation error or the like, and excessive stress is applied to the spring layer 7 located above the contact pin 2a, the spring layer 7 Since the elastic member 22 is elastically deformed until the contact is made, the elastic body 22 absorbs the subsequent deformation, so that not only the bending of the contact pin 2a but also the spring layer 7 is formed.
It is possible to avoid a situation in which the contact probe cannot be restored to its original state, and it is not necessary to repair or remanufacture the contact probe, so that an electrical test can be performed efficiently.

【0023】また、バネ層7の先端部と弾性体22との
間に形成された隙間xは、100μm≦x≦500μm
の範囲に設定されているため、コンタクトピン2aの自
由度を確保して良好なコンタクト性を得ることと、バネ
層7の変形を防止することを両立できる。ここで、この
隙間xが100μmより小さいと、所定のオーバードラ
イブ量が確保できないおそれがあり、一方、隙間xが5
00μmより大きいと、バネ層7が弾性体22に当接す
るまでに変形しなければならない距離が大きくなり、バ
ネ層7の変形が弾性変形できる許容範囲を超えてしまっ
て元に戻らなくなるおそれが生じてしまう。
The gap x formed between the tip of the spring layer 7 and the elastic body 22 is 100 μm ≦ x ≦ 500 μm
, The degree of freedom of the contact pin 2a can be ensured to obtain good contact performance, and the deformation of the spring layer 7 can be prevented. If the gap x is smaller than 100 μm, a predetermined overdrive amount may not be secured.
When the thickness is larger than 00 μm, the distance that the spring layer 7 must deform before contacting the elastic body 22 increases, and the deformation of the spring layer 7 may exceed the allowable range of elastic deformation and may not be restored. Would.

【0024】さらに、本発明によるプローブ装置20に
おいては、オーバードライブ時にバネ層7に必要以上の
応力が加えられた場合、バネ層7が弾性体22に接触す
るまで弾性変形してから、その後のバネ層7の変形が弾
性体22によって吸収されることになるが、このときの
弾性体22のひずみ量(バネ層7が弾性体22に接触し
てから、弾性体22の弾性変形により支えられている状
態になるまでの、上下方向におけるバネ層7の弾性体2
2に対する相対的な移動量)は10μm以下となるよう
に設定されていることが好ましい。この弾性体22のひ
ずみ量が10μmより大きくなると、バネ層7の変形を
弾性体22によって吸収する効果が小さくなり、バネ層
7が変形して元に戻らなくなってしまうおそれが生じて
しまう。
Further, in the probe device 20 according to the present invention, when an excessive stress is applied to the spring layer 7 during overdrive, the spring layer 7 is elastically deformed until it comes into contact with the elastic body 22, and thereafter, Although the deformation of the spring layer 7 is absorbed by the elastic body 22, the amount of distortion of the elastic body 22 at this time (after the spring layer 7 comes into contact with the elastic body 22 and is supported by the elastic deformation of the elastic body 22). Elastic body 2 of the spring layer 7 in the vertical direction until the state
2) is preferably set to be 10 μm or less. When the amount of strain of the elastic body 22 is larger than 10 μm, the effect of absorbing the deformation of the spring layer 7 by the elastic body 22 is reduced, and there is a possibility that the spring layer 7 is deformed and cannot be restored.

【0025】なお、本実施形態においては、パターン配
線2の先端に位置するコンタクトピン2aがフィルム4
の先端部から突出していないようなものについて説明し
たが、パターン配線2がフィルム4の先端部から突出状
態に配されて、この突出部分がコンタクトピン2aとさ
れていてもよい。このような場合、バネ層7をフィルム
4の先端部から突出状態として、コンタクトピン2aの
すぐ上方に位置させることにより、コンタクトピン2a
の必要以上の曲がりを、コンタクトピン2aがバネ層7
に当接することで抑制するのが好ましい。さらに、この
場合には、コンタクトピン2aとバネ層7とが導通しな
いように、例えば、バネ層7のフィルム4からの突出部
分のコンタクトピン2a側の面に絶縁材を貼り付けたり
するのが好ましい。
In the present embodiment, the contact pin 2a located at the tip of the pattern wiring 2 is
In the above description, the pattern wiring 2 does not protrude from the front end portion, but the pattern wiring 2 may be arranged in a protruding state from the front end portion of the film 4 and the protruding portion may be the contact pin 2a. In such a case, the spring layer 7 is made to protrude from the front end of the film 4 and is positioned immediately above the contact pin 2a, so that the contact pin 2a
The contact pin 2a is bent more than necessary.
It is preferable to suppress by contact with Further, in this case, for example, an insulating material may be attached to the surface of the spring layer 7 protruding from the film 4 on the contact pin 2a side so that the contact pin 2a and the spring layer 7 do not conduct. preferable.

【0026】また、本実施形態においては、剛体部21
とコンタクトプローブ1の先端部1a(バネ層7の先端
部)との隙間tにおいて、剛体部22の先端側よりの一
部分のみに接着して弾性体22を設けたが、これに限定
されることなく、隙間tに面している剛体部22の全面
に弾性体22を接着して設けてもよい。
In this embodiment, the rigid body 21
The elastic body 22 is provided by bonding only to a part of the rigid body portion 22 from the distal end side in a gap t between the contact probe 1 and the distal end portion 1a of the contact probe 1 (the distal end portion of the spring layer 7), but is not limited thereto. Alternatively, the elastic body 22 may be provided by bonding the entire surface of the rigid body portion 22 facing the gap t.

【0027】また、本実施形態においては、マウンティ
ングベース23の先端に剛体部21を突出形成して、こ
の剛体部21とバネ層7の先端部との間に弾性体22を
設けたが、これに限定されることなく、マウンティング
ベース23の先端に剛体部21を突出形成せずに、この
剛体部21に相当する部分をマウンティングベース23
と一体に形成するようにしてもよい。
In the present embodiment, the rigid body 21 is formed so as to protrude from the tip of the mounting base 23, and the elastic body 22 is provided between the rigid body 21 and the tip of the spring layer 7. The rigid part 21 is not formed at the tip of the mounting base 23 without being limited thereto, and a portion corresponding to the rigid part 21 is mounted on the mounting base 23.
And may be formed integrally.

【0028】さらに、本実施形態においては、IC用コ
ンタクトプローブに適用したが、他のものに採用しても
構わない。例えば、ICチップを内側に保持して保護
し、ICチップのバーンインテスト用装置等に搭載され
るICチップテスト用ソケットに用いるコンタクトプロ
ーブやLCDのテスト用プローブ装置用のコンタクトプ
ローブに適用してもよい。
Furthermore, in the present embodiment, the present invention is applied to an IC contact probe, but it may be applied to other devices. For example, the present invention can be applied to a contact probe used for an IC chip test socket mounted on an IC chip burn-in test device or the like or a contact probe used for an LCD test probe device for protecting the IC chip by holding it inside. Good.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、コンタクトプローブがそのフィルムの裏面側にバネ
層を有していることにより、オーバードライブ時にコン
タクトピンに加わる応力をバネ層の弾性変形によって吸
収できて、コンタクトピンの曲がりを防止できるので、
良好なコンタクト性を維持しつつ被検査部材の電気的な
テストを行うことができる。さらに、バネ層の先端部の
上方側に、所定の隙間を介して弾性体が設けられている
ことから、例えば、オペレータの操作ミス等により、オ
ーバードライブの急激な変化が生じて、コンタクトピン
だけでなくフィルムの裏面に被着されたバネ層にまで必
要以上の応力が加わったとしても、バネ層がその上方に
位置する弾性体に接触するまで弾性変形した後、それ以
上の変形を弾性体が吸収することとなって、コンタクト
ピンの曲がりだけでなく、バネ層が変形して元に戻らな
くなってしまうような事態を回避でき、コンタクトプロ
ーブの修理や再製作を行う必要が生じずに効率的に電気
的なテストを行うことができる。
As described above, according to the present invention, since the contact probe has the spring layer on the back side of the film, the stress applied to the contact pin during overdrive is reduced by the elasticity of the spring layer. As it can be absorbed by deformation and can prevent bending of the contact pin,
An electrical test of the inspected member can be performed while maintaining good contact properties. Further, since the elastic body is provided above the distal end portion of the spring layer via a predetermined gap, a sudden change in overdrive occurs due to, for example, an operator's operation error or the like, and only the contact pin Even if excessive stress is applied to the spring layer attached to the back side of the film instead of the film, after the spring layer elastically deforms until it contacts the elastic body located above it, This eliminates not only the bending of the contact pins but also the situation where the spring layer is deformed and cannot return to its original state, eliminating the need for repair or remanufacture of the contact probe. Electrical test can be performed.

【0030】また、フィルムの表面にコンタクトピンが
被着されて、コンタクトピンの裏面側にまでフィルムが
存在しているようなコンタクトプローブを本発明のプロ
ーブ装置に用いることで、フィルムによるコンタクトピ
ンの強度確保の効果を得ることができて、その曲がりに
よる破損を防止する効果をより高く保つことができる。
Further, by using a contact probe in which the contact pins are attached to the front surface of the film and the film is present on the back side of the contact pins in the probe device of the present invention, the contact pins of the film can be used. The effect of ensuring strength can be obtained, and the effect of preventing breakage due to bending can be kept higher.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施形態によるプローブ装置の縦
断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a probe device according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1におけるプローブ装置の要部拡大断面
図である。
FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of the probe device in FIG.

【図3】 従来のプローブ装置に装着されるコンタク
トプローブを示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a contact probe mounted on a conventional probe device.

【図4】 図3におけるコンタクトプローブのA−A
線断面図である。
FIG. 4 is a view of the contact probe AA in FIG. 3;
It is a line sectional view.

【図5】 従来のプローブ装置を示す分解斜視図であ
る。
FIG. 5 is an exploded perspective view showing a conventional probe device.

【図6】 図5におけるプローブ装置の縦断面図であ
る。
6 is a longitudinal sectional view of the probe device in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コンタクトプローブ 2 パターン配線 2a コンタクトピン 4 フィルム 7 バネ層 8 プリント基板 9 メカニカルパーツ 12 トップクランプ 15 ボトムクランプ 20 プローブ装置 21 剛体部 22 弾性体 23 マウンティングベース t 剛体部とバネ層の先端部との間の隙間 x 弾性体とバネ層の先端部との間の隙間 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Contact probe 2 Pattern wiring 2a Contact pin 4 Film 7 Spring layer 8 Printed circuit board 9 Mechanical parts 12 Top clamp 15 Bottom clamp 20 Probe device 21 Rigid part 22 Elastic body 23 Mounting base t Between rigid part and tip of spring layer X The gap between the elastic body and the tip of the spring layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川上 喜章 兵庫県三田市テクノパーク十二番地の六 三菱マテリアル株式会社三田工場内 (72)発明者 佐々木 勇人 兵庫県三田市テクノパーク十二番地の六 三菱マテリアル株式会社三田工場内 (72)発明者 岩越 孝雄 兵庫県三田市テクノパーク十二番地の六 三菱マテリアル株式会社三田工場内 (72)発明者 加藤 直樹 兵庫県三田市テクノパーク十二番地の六 三菱マテリアル株式会社三田工場内 Fターム(参考) 2G003 AA07 AG03 AG12 AH05 AH07 2G011 AA15 AA21 AB01 AB06 AB08 AC02 AC14 AE01 AE03 AF06 4M106 AA02 AA04 DD09 DD10 DD12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Yoshiaki Kawakami Twelve-six Techno Park, Mita-shi, Hyogo Mitsubishi Materials Corporation Mita Plant (72) Inventor Hayato Sasaki Twelve-six Techno Park, Mita-shi, Hyogo Inside the Mita Plant of Mitsubishi Materials Corporation (72) Inventor Takao Iwakoshi at 12-12 Techno Park, Mita City, Hyogo Prefecture Inside of the Mita Plant Mitsubishi Materials Corporation (72) Inventor Naoki Kato, 12-12 Techno Park, Mita City, Hyogo Prefecture Mitsubishi Materials Corporation Mita Plant F term (reference) 2G003 AA07 AG03 AG12 AH05 AH07 2G011 AA15 AA21 AB01 AB06 AB08 AC02 AC14 AE01 AE03 AF06 4M106 AA02 AA04 DD09 DD10 DD12

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のパターン配線がフィルムの表面
に被着され、これらのパターン配線の各先端がコンタク
トピンとされるコンタクトプローブがメカニカルパーツ
に装着されてなるプローブ装置において、 前記コンタクトプローブは、前記フィルムの裏面にバネ
層が被着されたものであり、 さらに、前記メカニカルパーツにおける前記コンタクト
プローブの保持部材と前記バネ層の先端部との間に、前
記保持部材と接着された弾性体を備え、かつ、前記弾性
体と前記バネ層の先端部との間には隙間が形成されてい
ることを特徴とするプローブ装置。
1. A probe device comprising a plurality of pattern wirings attached to a surface of a film, and contact probes each having a tip as a contact pin attached to a mechanical part. A spring layer is adhered to the back surface of the film, and further comprises an elastic body bonded to the holding member between the holding member of the contact probe and the tip of the spring layer in the mechanical part. And a gap is formed between the elastic body and the tip of the spring layer.
【請求項2】 請求項1に記載のプローブ装置におい
て、 前記コンタクトプローブは、前記フィルムの表面に前記
コンタクトピンが被着れていることを特徴とするプロー
ブ装置。
2. The probe device according to claim 1, wherein the contact probe has the contact pins attached to a surface of the film.
JP2001022045A 2001-01-30 2001-01-30 Probe device Pending JP2002228685A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001022045A JP2002228685A (en) 2001-01-30 2001-01-30 Probe device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001022045A JP2002228685A (en) 2001-01-30 2001-01-30 Probe device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002228685A true JP2002228685A (en) 2002-08-14

Family

ID=18887508

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001022045A Pending JP2002228685A (en) 2001-01-30 2001-01-30 Probe device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002228685A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006145514A (en) * 2004-10-19 2006-06-08 Micronics Japan Co Ltd Probe assembly
KR101212649B1 (en) * 2010-08-06 2013-01-09 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 Probe Unit and Inspection Apparatus
JP2015010980A (en) * 2013-07-01 2015-01-19 三菱電機株式会社 Probe device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006145514A (en) * 2004-10-19 2006-06-08 Micronics Japan Co Ltd Probe assembly
KR101212649B1 (en) * 2010-08-06 2013-01-09 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 Probe Unit and Inspection Apparatus
JP2015010980A (en) * 2013-07-01 2015-01-19 三菱電機株式会社 Probe device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4465995B2 (en) Probe sheet, probe card, semiconductor inspection apparatus, and semiconductor device manufacturing method
US6946860B2 (en) Modularized probe head
JP5008005B2 (en) Probe card
US7497006B2 (en) Method for releasably mounting a head slider to a disk drive head suspension
WO2004102207A1 (en) Probe for testing electric conduction
JP2000180506A (en) Contact device for inspecting semiconductor device
JP2002014115A (en) Contact probe and probe device
JP2012519869A (en) Probe card for testing film-type packages
JP2002228685A (en) Probe device
KR100825294B1 (en) probe
JP2009098153A (en) Method for manufacturing thin film probe
JP2000162238A (en) Split probe card
JP2000321303A (en) Probe card and contactor
JP3881543B2 (en) Contact probe and manufacturing method thereof
JP2000028642A (en) Contact probe
JP2001249144A (en) Contact probe, probe device, and contact probe manufacturing method
JP2001021586A (en) Contact probe and probe device
JP2002062314A (en) Contact probe
KR100386648B1 (en) Probe card including vertical type needle with a buffering means
JP2001194386A (en) Contact probe
JP2000277576A (en) Substrate for connection and contactor
JP3822683B2 (en) Contact probe and probe apparatus using the same
JPH10282143A (en) Probe unit for testing a flat object to be inspected and method of manufacturing the same
JP2003043067A (en) Contact probe
JP2002228686A (en) Contact probe and probe device having damage prevention function

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20040223

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20040223