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JP2002200854A - 無処理平版印刷版 - Google Patents

無処理平版印刷版

Info

Publication number
JP2002200854A
JP2002200854A JP2001353251A JP2001353251A JP2002200854A JP 2002200854 A JP2002200854 A JP 2002200854A JP 2001353251 A JP2001353251 A JP 2001353251A JP 2001353251 A JP2001353251 A JP 2001353251A JP 2002200854 A JP2002200854 A JP 2002200854A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrophilic
layer
material according
lithographic
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001353251A
Other languages
English (en)
Inventor
Damme Marc Van
マルク・バン・ダメ
Wim Sap
ウイム・サプ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of JP2002200854A publication Critical patent/JP2002200854A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1033Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials by laser or spark ablation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ヒート−モードダイレクト−ツウ−プレート
記録に適しており、高い感度及び高い平版印刷の質を特
徴とし、外部ドラムレーザーレコーダーならびに内部ド
ラムレーザーレコーダーにおいて露出される時に高いラ
ンレングスを達成する無処理材料を提供すること。 【解決手段】 親水性表面を有する平版ベース、親油性
画像形成層及び架橋された親水性上層を示した順序で含
み、親油性画像形成層が有機酸の少なくとも1種の遷移
金属錯体を含むことを特徴とするダイレクト−ツウ−プ
レート記録により平版印刷版を作製するためのネガティ
ブ−作用性感熱材料を開示する。本発明に従う材料は向
上したランレングスを特徴とし、露出の直後に印刷版と
して用いることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の分野】本発明はダイレクト−ツウ−プレート
(direct−to−plate)記録により平版印
刷版を作製するために適するネガティブ−作用性感熱材
料ならびに赤外レーザーにより該ヒートモード記録材料
を画像形成するための方法に関する。
【0002】
【発明の背景】平版印刷は、インキを受容できる領域
(親油性領域)とインキを受容しないが水−受容性であ
る領域(親水性領域)から成る平版印刷画像を含有する
特別に作られた表面からの印刷の方法である。いわゆる
湿式平版印刷法の場合、水又は水性湿し液(aqueo
us dampening liquid)(湿し液
(fountain solution)とも呼ばれ
る)及びインキの両方が親水性及び親油性領域を含有す
る版表面に適用される。親水性領域には水又は湿し液が
浸み込み、それにより疎油性にされる。
【0003】脂性インキを用いる印刷のための平版印刷
マスターとして用いられ得る種々のヒート−モード版材
料は既知である。融蝕性版はいわゆる無処理版、すなわ
ち処理を必要とせず、従って露出の直後に印刷版として
用いられ得る版の最も良く知られている例である。その
ような融蝕性版の記録層において、レーザービームの光
吸収により発生する熱は親水性又は親油性トップコート
を除去し、下にあるそれぞれ親油性又は親水性表面を露
出し、それにより画像(印刷)領域と非−画像もしくは
背景(非−印刷)領域の間のインキ−受容性の必要な分
化(differentiation)が得られる。
【0004】例えば、DE−A−2 448 325
は、例えば親水性表面層が設けられたポリエステルフィ
ルム支持体を含むレーザーヒート−モード「直接ネガテ
ィブ」印刷版を開示している。開示されているヒート−
モード記録材料をアルゴンレーザーを用いて画像形成
し、それにより露出された領域を親油性とする。かくし
てさらなる処理なしで印刷機上で用いることができるオ
フセット印刷版が得られる。該版はレーザービームによ
る直接露出に適しているので(「ダイレクト刷版(co
mputer−to−plate)」、フィルムマスク
を必要としない)、且つレーザーに露出された記録材料
の領域がインキ−受容性とされ、画像領域、すなわち印
刷領域を区画するので、「直接ネガティブ」版と呼ばれ
る。
【0005】DE−A−2 448 325中の他の開
示は、例えば水溶性レーザー光(Argon−488n
m)吸収色素がコーティングされた、又は親水性ポリマ
ーとレーザー光吸収色素(Argon−488nm)の
混合物に基づくコーティングを有する親水性アルミニウ
ム支持体を含む「直接ネガティブ」印刷版に関する。
「直接ネガティブ」印刷版の作製のためのヒート−モー
ド記録材料についてのさらに別の例が、例えばDE−A
−2 607 207、DD−A−213 530、D
D−A−217 645及びDD−A−217 914
に開示されている。これらの文書は陽極酸化されたアル
ミニウム支持体及びその上に設けられた親水性記録層を
含有するヒート−モード記録材料を開示している。レー
ザー露出は露出された領域を不溶性且つインキ−受容性
とするが、非−露出領域は親水性且つ水溶性のままであ
る。非−露出領域が印刷の間に湿し液により除去され、
それにより陽極酸化されたアルミニウム支持体が露出さ
れるので、そのような版も処理なしで直接印刷機上で用
いることができる。
【0006】DD−A−155 407は、親水性酸化
アルミニウム層が直接レーザーヒート−モード画像形成
により親油性とされる無処理ヒート−モード「直接ネガ
ティブ」印刷版を開示している。
【0007】上記のヒート−モード「直接ネガティブ」
平版印刷版は、低い記録感度及び/又は得られる版が劣
った質及び耐久性のものであることを特徴としている。
【0008】EP−A−580 393は、レーザー放
電により直接画像形成可能な融蝕性平版印刷版を開示し
ており、該版は最上の第1層及び第1層の下にある第2
層を含み、ここで第1層は赤外線の有効な吸収を特徴と
し、第1層と第2層は少なくとも1種の印刷液に関して
異なる親和性を示す。
【0009】EP−A−683 728は、インキ受容
性表面を有するか、又はインキ受容性層がコーティング
されている支持体上に、光を熱に転換できる物質及び3
μm以下の厚さを有する硬膜された親水性表面層を含む
ヒート−モード記録材料を開示している。
【0010】US 4,034,183は、支持体上に
コーティングされた吸光性親水性上層を含み、それがレ
ーザービームに露出されて吸収物質をインキ反発状態か
らインキ受容状態に転換する無処理平版印刷版につき記
載している。実施例及び記載のすべては高出力レーザー
を必要とし、得られる平版印刷版のランレングスは限ら
れている。
【0011】US 3,832,948は、強い光によ
り疎水性支持体から融蝕され得る親水性層を有する印刷
版ならびにまた、親水性支持体から融蝕され得る疎水性
層を有する印刷版の両方につき記載している。しかしな
がら実施例は示されていない。
【0012】US 3,964,389は、材料のレー
ザー転写の原理に基づく無処理印刷版につき記載してい
る。この方法は転写欠陥(transfer defe
cts)に非常に敏感であり、追加のドナーシートを必
要とする。
【0013】US 4,054,094は、レーザービ
ームを用いてポリエステルベース上のポリケイ酸の薄い
トップコーティングをエッチングにより除去し、それに
より露出された領域をインキに対して受容性とする平版
印刷版の作製のための方法につき記載している。ランレ
ングス(run length)又はプリントの品質の
詳細は示されていないが、ポリケイ酸のような架橋され
ていないポリマーは急速に摩耗し、短いランレングスを
与えることが予測される。
【0014】US 4,081,572は、基質に親水
性ポリアミン酸(polyamicacid)をコーテ
ィングし、次いでフラッシュランプ又はレーザーからの
熱を用いてポリアミン酸を画像通りに親メラノ性(me
lanophilic)ポリイミドに転換することによ
り、基質上に印刷マスターを作製するための方法につき
記載している。ランレングス、画質又はインキ/水バラ
ンスの詳細は示されていない。
【0015】日本公開番号(Japanese Kok
ai No.)55/105560は、親メラノ性支持
体上にコーティングされた親水性層のレーザービーム除
去による平版印刷版の作製の方法につき記載しており、
ここで親水性層はコロイドシリカ、コロイドアルミナ、
カルボン酸又はカルボン酸の塩を含有する。示されてい
る唯一の実施例は架橋剤又は付加物なしでコロイドアル
ミナのみ、又は酢酸亜鉛のみを使用している。インキ/
水バランス又はランレングスの制限に関して詳細は示さ
れていない。
【0016】WO 92/09934は、フォト酸(p
hoto acid)生成物質ならびに酸に不安定なテ
トラヒドロピラニル基を有するポリマーを含有する感光
性組成物につき記載し、広く特許請求している。これは
疎水性/親水性スィッチング平版印刷版組成物を含むで
あろう。しかしながら、そのようなポリマー性スィッチ
は親水性領域と親油性領域の間の弱い分化を与えること
が知られている。
【0017】先行技術において挙げられてる実施例のす
べては、高い感度、優れた始動挙動を有し、高いランレ
ングスを与える無処理直接画像形成可能印刷版を作製す
ることに失敗している。
【0018】1999年6月29日に出願された公開さ
れていないEP−A no.99202109は、親水
性表面を有する平版ベース、親油性画像形成層及び架橋
された親水性上層を示した順序で含む平版印刷版の作製
のためのネガティブ−作用性感熱材料を開示している。
感光層において露出の間に発生する熱は融蝕により親水
性上層を除去する。親油性画像形成層は薄いコーティン
グ厚さを有し、それは高いランレングスを達成するため
に最適化される。しかしながら、そのような薄い親油性
層を用いる場合、薄い親油性層のすぐ下の親水性支持体
の影響の故に、画像領域のランレングスはまだ満足でき
るものではないことが見いだされた。これは特に、例え
ばCreo TrendSetter 3244(50
〜250rpmで回転するドラム)のような外部ドラム
レーザー記録装置上におけるもののような長い画素滞留
時間を用いる場合にそうである。
【0019】
【発明の概略】本発明の目的は、ヒート−モードダイレ
クト−ツウ−プレート記録(heat−mode di
rect−to−plate recording)に
適しており、且つ高い感度及び特にランレングスに関し
て高い平版印刷の質を特徴とする無処理材料を提供する
ことである。外部ドラムレーザーレコーダー(長い画素
滞留時間、低いレーザービーム強度)ならびに内部ドラ
ムレーザーレコーダー(短い画素滞留時間、高いレーザ
ービーム強度)で露出される場合に高いランレングスを
達成する材料を提供することもまた目的である。これら
の目的は請求項1で定義した材料により実現される。そ
の好ましい態様を従属クレイムにおいて定義する。
【0020】
【発明の詳細な記述】本発明の平版印刷版は、親水性表
面を有する平版ベース、親油性画像形成層及び架橋され
た親水性上層を示した順序で含む。驚くべきことに、親
油性画像形成層における有機酸の遷移金属錯体の非常に
少量の添加によってさえ、これらの版のランレングスが
実質的に増加することが見いだされた。遷移金属は一般
に原子番号21〜31、39〜49及び71〜81の元
素として定義される。クロムが非常に好ましい。これら
の有機酸のクロム錯体の例は、Quilon chro
me Complexes,Dupont Corpo
ration,April,1992に記載されてい
る、イソプロピルアルコール中の3価クロムとミリスチ
ン酸又はステアリン酸のウェルナー錯体(Werner
complex)の25〜30重量%溶液であるQU
ILON Cのように、Dupont Corpora
tionによりQUILONの商品名の下に販売されて
いる。
【0021】親油性画像形成層は結合剤及び光を熱に転
換できる化合物を含む。
【0022】光を熱に転換できる適した化合物は、好ま
しくは、画像通りの露出のために用いられる光源の波長
領域内に吸収を有する赤外吸収成分である。特に有用な
化合物は、例えば、染料、そして特にEP−A−908
307に開示されているような赤外染料及び顔料、そ
して特にカーボンブラック、金属炭化物、ホウ化物、窒
化物、炭化窒化物及びブロンズ−構造の酸化物のような
赤外顔料である。ポリピロール、ポリアニリン又はポリ
チオフェンに基づく導電性ポリマー分散液のような導電
性ポリマー分散液を用いることもできる。カーボンブラ
ック又はグラファイトは非常に優れ且つ好ましい結果を
与える。
【0023】親油性画像形成層の結合剤は、好ましく
は、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリウレタン、ノ
ボラック、ポリビニルカルバゾール又はそれらのコポリ
マーもしくは混合物より成る群から選ばれる。最も好ま
しい態様の場合、結合剤自身が感熱性である:例えばG
B−P−1 316 398及びDE−A− 2 51
2 038に開示されている硝酸エステル基を含有する
自己−酸化性ポリマー、例えば硝酸セルロース;カーボ
ネート基を含有するポリマー、例えばポリアルキレンカ
ーボネート;あるいは共有結合した塩素を含有するポリ
マー、例えばポリ塩化ビニリデン。加熱されるとN2
遊離させることができるアゾ又はアジド基を含有する物
質も好適に用いられる。
【0024】親油性画像形成層の乾燥コーティング重量
は好ましくは0.10〜0.75g/m2、より好まし
くは0.15〜0.50g/m2である。
【0025】架橋された親水性上層は、好ましくは、例
えば親水性有機チタン試薬、アルミノホルミルアセテー
ト、ジメチロールウレア、メラミン、アルデヒド、加水
分解されたテトラアルキルオルトシリケートなどを含む
適した架橋もしくは修飾剤と一緒に、例えばヒドロキシ
ル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロ
ピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボ
キシメチルなどを含む遊離の反応性基を有する親水性結
合剤を含有する水性組成物からコーティングされる。上
層において用いるのに適した親水性結合剤はアラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチ
ルセルロース及びそれらの塩、酢酸セルロース、アルギ
ン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー、
スチレン−マレイン酸コポリマー、ポリアクリル酸及び
それらの塩、ポリメタクリル酸及びそれらの塩、ヒドロ
キシエチレンポリマー、ポリエチレングリコール、ヒド
ロキシプロピレンポリマー、ポリビニルアルコール及び
少なくとも60重量%、そしてより好ましくは少なくと
も80重量%の加水分解度を有する加水分解されたポリ
酢酸ビニルより成る群から選ばれることができる。
【0026】例えばUS 3,476,937において
開示されているテトラアルキルオルトシリケート、例え
ばテトラエチルオルトシリケート又はテトラメチルオル
トシリケートを用いて硬膜されたポリビニルアルコール
又は少なくとも60重量%の程度まで加水分解されたポ
リ酢酸ビニルを含有する親水性層が特に好ましく、それ
は本ヒート−モード記録材料におけるそれらの使用が優
れた平版印刷性を生ずるからである。
【0027】さらに別の適した架橋された親水性層はE
P−A−514 990に開示されている。このEP−
出願において開示されている層は少なくとも1つの遊離
の水素を有するアミンもしくはアミド官能基を含有する
(コ)ポリマー(例えばアミノ修飾デキストラン)とア
ルデヒドの硬膜反応生成物を含む。
【0028】架橋された親水性上層は好ましくは層の機
械的強度及び多孔度を向上させる物質、例えば二酸化チ
タン又は他の金属酸化物の粒子である金属酸化物コロイ
ド粒子も含有する。これらの粒子の導入は、架橋された
親水性層の表面に顕微鏡的丘と谷から成る均一な粗いき
めを与える。これらの粒子は好ましくはベリリウム、マ
グネシウム、アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、ゲ
ルマニウム、ヒ素、インジウム、錫、アンチモン、テル
ル、鉛、ビスマス又は遷移金属の酸化物又は水酸化物で
ある。特に好ましいコロイド粒子はアルミニウム、ケイ
素、ジルコニウム及びチタンの酸化物又は水酸化物であ
り、親水性層の20〜95重量%、より好ましくは親水
性層の30〜90重量%で用いられる。
【0029】架橋された親水性上層は好ましくは0.3
〜5μmの乾燥厚さで、より好ましくは0.5〜3μm
の乾燥厚さでコーティングされる。
【0030】架橋された親水性上層はさらに追加の物
質、例えば可塑剤、顔料、染料などを含むことができ
る。架橋された親水性上層は、IR−感度を向上させる
ためにIR−吸収化合物を含有することもできる。本発
明に従って用いるための適した架橋された親水性層の特
定の例は、EP−A−601 240、GB−P−1
419 512、FR−P−2 300 354、US
−P−3 971 660及びUS−P−4 284
705に開示されている。
【0031】本発明に従うと、平版ベースは陽極酸化さ
れたアルミニウム支持体であることができる。特に好ま
しい平版ベースは電気化学的に研磨され、陽極酸化され
たアルミニウム支持体である。陽極酸化されたアルミニ
ウム支持体を処理してその表面の親水性を向上させるこ
とができる。例えば、アルミニウム支持体を高められた
温度で、例えば95℃でケイ酸ナトリウム溶液を用いて
その表面を処理することによりケイ酸塩化することがで
きる。あるいは又、リン酸塩処理を施すことができ、そ
れは酸化アルミニウム表面をリン酸塩溶液で処理するこ
とを含み、リン酸塩溶液はさらに無機フッ化物を含有し
ていることができる。さらに、酸化アルミニウム表面を
クエン酸又はクエン酸塩溶液で濯ぐことができる。この
処理は室温で行うことができるか、又は約30〜50℃
のわずかに高められた温度で行うことができる。さらに
興味深い処理は酸化アルミニウム表面を重炭酸塩溶液で
濯ぐことを含む。さらに、酸化アルミニウム表面をポリ
ビニルホスホン酸、ポリビニルメチルホスホン酸、ポリ
ビニルアルコールのリン酸エステル、ポリビニルスルホ
ン酸、ポリビニルベンゼンスルホン酸、ポリビニルアル
コールの硫酸エステル及びスルホン化脂肪族アルデヒド
との反応により生成するポリビニルアルコールのアセタ
ールを用いて処理することができる。これらの後処理の
1つ又はそれより多くを単独で又は組み合わせて行い得
ることはさらに明らかである。これらの処理のもっと詳
細な記載は、GB−A−1 084 070、DE−A
−4423 140、DE−A−4 417 907、
EP−A−659 909、EP−A−537 63
3、DE−A−4 001 466、EP−A−292
801、EP−A−291 760及びUS−P−4
458 005に示されている。
【0032】本発明と関連する他の様式に従うと、平版
ベースは、下記において「ベース層」と呼ばれる親水性
層が設けられた柔軟性支持体であることもできる。柔軟
性支持体は、例えば紙、プラスチックフィルム又はアル
ミニウムである。ベース層は好ましくは、ホルムアルデ
ヒド、グリオキサル、ポリイソシアナート又は加水分解
されたテトラ−アルキルオルトシリケートのような硬膜
剤を用いて架橋された親水性結合剤から得られる架橋さ
れた親水性層である。後者が特に好ましい。
【0033】ベース層において用いるための親水性結合
剤は、例えば親水性(コ)ポリマー、例えばビニルアル
コール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミド、
メチロールメタクリルアミド、アクリレート酸(acr
ylate acid)、メタクリレート酸(meth
acrylate acid)、ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリ
マー及びコポリマーあるいは無水マレイン酸/ビニルメ
チルエーテルコポリマーである。用いられる(コ)ポリ
マー又は(コ)ポリマー混合物の親水度は好ましくは、
少なくとも60重量%、好ましくは80重量%の程度ま
で加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水度と同じか又は
それより高い。
【0034】硬膜剤、特にテトラアルキルオルトシリケ
ートの量は好ましくは親水性結合剤の重量部当たり少な
くとも0.2重量部、より好ましくは0.5〜5重量
部、最も好ましくは1重量部〜3重量部である。
【0035】親水性ベース層は、層の機械的強度及び多
孔度を向上させる物質も含有することができる。この目
的でコロイドシリカを用いることができる。用いられる
コロイドシリカは例えば最高で40nm、例えば20n
mの平均粒度を有するコロイドシリカのいずれの商業的
に入手可能な水−分散液の形態にあることもできる。さ
らにコロイドシリカより大きな寸法の不活性粒子、例え
ばJ.Colloidand Interface S
ci.,Vol.26,1968,pages 62
to 69に記載されているようなStOeberに従
って調製されるシリカ又はアルミナ粒子又は二酸化チタ
ンもしくは他の重金属酸化物の粒子である少なくとも1
00nmの平均直径を有する粒子を加えることができ
る。これらの粒子の導入により、親水性ベース層の表面
に微視的丘と谷から成る均一な粗いきめが与えられ、そ
れは背景領域における水のための保存場所として働く。
【0036】親水性ベース層の厚さは0.2〜25μm
の範囲内で変化することができ、好ましくは1〜10μ
mである。
【0037】本発明に従って用いるために適した親水性
ベース層の特定の例は、EP−A−601 240、G
B−P−1 419 512、FR−P−2 300
354、US−P−3 971 660及びUS−P−
4 284 705に開示されている。
【0038】本態様と関連する平版ベースの柔軟性支持
体として、プラスチックフィルム、例えばポリエチレン
テレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフ
ィルム、酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィル
ム、ポリカーボネートフィルムなどを用いるのが特に好
ましい。プラスチックフィルム支持体は不透明又は透明
であることができる。
【0039】基質層とも呼ばれる接着促進層が設けられ
たフィルム支持体を用いるのが特に好ましい。本発明に
従って用いるのに特に適した接着促進層は、EP−A−
619 524、EP−A−620 502及びEP−
A−619 525に開示されているような親水性結合
剤及びコロイドシリカを含む。好ましくは接着促進層中
のシリカの量はm2当たり200mg〜m2当たり750
mgである。さらに、シリカ対親水性結合剤の比率は好
ましくは1より高く、コロイドシリカの表面積は好まし
くは少なくともグラム当たり300m2、より好ましく
は少なくともグラム当たり500m2である。
【0040】場合により感熱性画像形成材料を、上記で
議論した親水性上層の上に設けられる追加の親水性層で
覆うことができ、それは1999年6月29日に出願さ
れたEP−A no.99202110に記載されてい
るようなカチオン性基を含有する有機化合物を含む。
【0041】本発明の方法に従うと、画像形成材料は画
像通りに露出され、架橋された親水性上層の除去を引き
起こし、それにより露出された領域は親油性領域に転換
されるが、非露出領域は親水性のままである。これは、
短い画素滞留時間(例えば1〜100ns)を用いる
と、ほとんどの場合にそうである。しかしながら、比較
的長い画素滞留時間(例えば1〜20μs)を用いる
と、露出された時に親水性層が完全に除去され得ない。
その場合、親水性層の残りの部分を印刷機上で、湿し液
及びインキとの接触により、あるいはIR−レーザー露
出と印刷機の始動の間の追加の湿式もしくは乾式処理段
階により除去することができる。適した乾式処理段階
は、例えば、層を例えば綿パッドを用いてこするか又は
ブラッシングするような機械的処理である。好ましい追
加の湿式処理段階は、通常の版の場合に普通に用いられ
るようなゴム引き段階である。ゴム引き段階は通常処理
段階としてはみなされず、親水性領域を指紋又はこれら
の領域の水−受容性に影響し得る他の汚染から保護する
処理としてみなされる。ゴム引きすると、版上の残りの
融蝕屑が除去され、それにより印刷機の汚染が避けられ
る。同時に、親水性領域がゴム引き溶液の薄い層で覆わ
れ、より良い始動性能を生ずる。
【0042】本発明と関連する画像通りの露出は、好ま
しくはレーザー又はL.E.D.の使用を含む画像通り
の走査露出である。好ましくは赤外又は近−赤外、すな
わち700〜1500nmの波長領域で働くレーザーが
用いられる。最も好ましいのは0.1mW/μm2より
高い強度を有し、近−赤外で発光するレーザーダイオー
ドである。
【0043】本発明に従うと、これで版は追加の現像な
しで印刷の準備ができており、印刷機上に搭載され得
る。
【0044】さらに別の方法に従うと、最初に画像形成
材料を印刷機の印刷胴上に搭載し、次いで組み込まれた
画像記録装置により印刷機上で直接画像通りに露出す
る。露出に続き、画像形成材料は印刷の準備ができてい
る。
【0045】本発明の印刷版を印刷法においてシームレ
ススリーブ印刷版として用いることもできる。この選択
肢の場合、印刷版をレーザーを用いて円筒形にはんだ付
けすることができる。通常の印刷版を搭載する代わり
に、直径として印刷胴の直径を有するそのような円筒状
印刷版を印刷胴上で滑らせることができる。スリーブに
関するさらなる詳細は“Grafisch Nieuw
s”, 15,1995,page 4 to 6に示
されている。
【0046】以下の実施例は本発明をそれに制限するこ
となくそれを例示するものである。他にことわれなけれ
ば、すべての部及びパーセンテージは重量による。
【0047】
【実施例】実施例1(比較) 平版ベースの製造 厚さが0.30mmのアルミニウム箔を、50℃におい
て5g/lの水酸化ナトリウムを含有する水溶液中に箔
を沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで
35℃の温度及び1200A/m2の電流密度において
交流を用い、4g/lの塩酸、4g/lの硼酸及び5g
/lのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で箔を電
気化学的に研磨し、0.5μmの平均中心線粗さRaを
有する表面トポロジーを形成した。
【0048】脱イオン水で濯いだ後、300g/lの硫
酸を含有する水溶液を用い、60℃において180秒
間、アルミニウム箔をエッチングし、25℃において3
0秒間、脱イオン水で濯いだ。
【0049】続いて箔を200g/lの硫酸を含有する
水溶液中で、45℃の温度、約10Vの電圧及び150
A/m2の電流密度において約300秒間、陽極酸化に
供し、3.00g/m2のAl23の陽極酸化フィルム
を形成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホス
ホン酸を含有する溶液及び三塩化アルミニウムを含有す
る溶液を用いて後処理し、続いて脱イオン水を用いて2
0℃で120秒間濯ぎ、乾燥した。 親油性画像形成層の形成 以下の組成を有する溶液から20μmの湿潤コーティン
グ厚さで感光層を平版ベース上にコーティングした: 52.00gの以下の組成のカーボンブラック分散液: −6.50gのSpecial Schwarz(De
gussaからの商標) −0.65gのニトロセルロース E950(Wolf
Walsrodeからの商標) −0.78gの分散剤 −44.07gのメチルエチルケトン 15.70gの以下の組成のニトロセルロース溶液 −1.57gのニトロセルロース E950(Wolf
Walsrodeからの商標) −14.13gの酢酸エチル 2.12gの以下の組成のCymel溶液 −0.42gのCymel 301(Dyno Cyt
ecからの商標) −1.70gの酢酸エチル 0.76gの以下の組成のp−トルエンスルホン酸溶液 −0.076gのp−トルエンスルホン酸(ptsa) −0.684gの酢酸エチル 291.05gの酢酸エチル 205.04gの酢酸ブチル。 架橋された親水性上層の形成 感光層の乾燥後、以下の組成を有する溶液から20μm
の湿潤コーティング厚さまで親水性層をコーティングし
た。 70.0g ポリビオールWX 48TM(Wacker
からのポリビニルアルコール)で安定化された水中の
6.25%のTiO2−分散液;分散液はTiO2(平均
粒度0.3〜0.5μm)に対して10%のポリビニル
アルコールを含有した 30.0g 水/エタノール 90:10中の6.25
%の加水分解されたテトラメチルオルトシリケート 1.2g 水中の5%の湿潤剤。
【0050】この溶液のpHをコーティングの前に4に
調整した。コーティングの後、67℃/50%R.H.
において層を12時間硬膜させた。 実施例2〜6(本発明) 親油性層の溶液においてニトロセルロース溶液の一部を
Quilon C溶液(酢酸エチル/イソプロパノール
1:1中の5%の商業的に入手可能な溶液;DuPo
nt Corporationの商標)により置き換え
る相違のみを以て、上記に記載した比較材料と同じ方法
で材料2〜6を製造した。詳細を表1に示す。
【0051】得られる画像形成材料をCreo Tre
ndsetter 3244TTM上で2400dpiに
おいて、80rpmの走査速度及び16ワットのレーザ
ー出力で運転して画像形成した。画像形成の後、インキ
としてK+E 800 Skinnex及び湿し液とし
て4% Aqua aid+3% Tameを用いるS
akurai Oliver 52印刷機上に版を搭載
した。非−圧縮性ブランケットを用いた。続いて上に画
像形成材料が搭載された印刷胴を回転させることにより
印刷機を始動させた。最初に印刷機の湿し液ローラーを
画像形成材料上に降ろして画像形成材料に湿し液を供給
し、印刷胴の10回転の後にインキローラーを降ろして
インキを供給した。さらに10回転の後、紙の供給を開
始した。トーニング(toning)なしで、且つ有意
な画像の摩耗(wear)なしで印刷され得るシートの
数に基づいてランレングスを決定した。結果を表2にま
とめる。非常に少量の、すなわち0.75mg/m2
Quilon Cの添加がランレングスを有意に向上さ
せることは明らかである。
【0052】
【表1】
【0053】
【表2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/11 501 G03F 7/11 501 503 503 (72)発明者 ウイム・サプ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 Fターム(参考) 2H025 AA01 AB03 AC08 AD01 CB06 CB09 CB20 CB22 CB29 CC20 DA02 DA18 DA36 EA01 2H084 AA14 AA38 AE05 BB02 CC05 2H096 AA07 AA08 BA16 BA20 CA03 CA05 CA20 EA04 LA16 2H114 AA04 AA14 AA24 AA27 BA01 BA10 DA03 DA04 DA08 DA39 EA01 EA03 EA08 FA06 FA18 GA01 GA09

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 親水性表面を有する平版ベース、親油性
    画像形成層及び架橋された親水性上層を示した順序で含
    み、該親油性画像形成層が有機酸の少なくとも1種の遷
    移金属錯体を含むことを特徴とするダイレクト−ツウ−
    プレート記録により平版印刷版を作製するためのネガテ
    ィブ−作用性感熱材料。
  2. 【請求項2】 遷移金属がクロムである請求項1に従う
    材料。
  3. 【請求項3】 親油性画像形成層が0.1〜0.75g
    /m2の乾燥コーティング重量を有する請求項1及び2
    のいずれかに従う材料。
  4. 【請求項4】 親油性画像形成層が感熱性結合剤を含む
    請求項1〜3のいずれかに従う材料。
  5. 【請求項5】 親油性画像形成層がカーボンブラック又
    はグラファイトをIR−吸収化合物として含む請求項1
    〜4のいずれかに従う材料。
  6. 【請求項6】 架橋された親水性上層がベリリウム、マ
    グネシウム、アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、ゲ
    ルマニウム、ヒ素、インジウム、錫、アンチモン、テル
    ル、鉛、ビスマス、チタン又は遷移金属の酸化物又は水
    酸化物を含む請求項1〜5のいずれかに従う材料。
  7. 【請求項7】 平版ベースが研磨され、陽極酸化された
    アルミニウム支持体又は架橋された親水性ベース層が設
    けられた柔軟性支持体である請求項1〜6のいずれかに
    従う材料。
  8. 【請求項8】 架橋された親水性上層が0.3〜5μm
    の乾燥厚さを有する請求項1〜7のいずれかに従う材
    料。
  9. 【請求項9】 (i)請求項1〜8のいずれかに従う材
    料を準備し; (ii)材料を0.1mW/μm2より高い強度を有す
    る赤外レーザービームに画像通りに露出し; (iii)材料を湿し液及びインキと接触させる段階を
    含む平版印刷版の作製のダイレクト−ツウ−プレート
    法。
  10. 【請求項10】 段階(ii)の前又は後に材料を印刷
    機の胴上に搭載する請求項9に従う方法。
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