JP2002280340A - ガラス基板の洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】節水ノズル型メガソニックユニットが設けられ
た枚葉式洗浄装置を用いたガラス基板の洗浄において、
搬送ロールの間隔を広げてユニット長の大きなユニット
を設けても、ガラス基板が蛇行することなく約１ｍ２
大のガラス基板にても処理能力を大幅に向上させるガラ
ス基板の洗浄方法を提供すること。 【解決手段】下部筐体の上部に、多数の小孔を有するス
テンレス板又は多孔質板を設け、洗浄水圧によってガラ
ス基板を支持し洗浄すること。下部筐体の上方に、搬送
ベルトを設けユニット内のガラス基板を支持・搬送しな
がら洗浄すること。下部筐体の上方に支持ロールを設け
ユニット内のガラス基板を支持し洗浄すること。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置など
に使用されるガラス基板の洗浄に関するものであり、特
に、超音波を用いた枚葉式洗浄装置において、その処理
能力を大幅に向上させることのできるガラス基板の洗浄
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置などの製造工程において
は、ガラス素板洗浄、レジスト塗布前洗浄、レジスト塗
布後洗浄、薄膜形成前洗浄など各処理の前後で洗浄が多
く行われれおり、洗浄は製造工程の歩留りと生産性を左
右する重要な工程である。液晶表示装置などに使用され
るガラス基板の洗浄に適用される湿式の物理洗浄には、
ブラシ・スクラビング洗浄、ジェットスプレイ洗浄、超
音波洗浄、極超音波（メガソニック）洗浄などがあげら
れる。

【０００３】超音波洗浄は、周波数約４００ｋＨｚ以下
の高周波振動に基づく液体中のキャビテーション（空洞
現象）を利用し、このキャビテーションが汚染物質を基
体から剥離し洗浄液中に溶解させるとされている。ま
た、メガソニック洗浄は、１ＭＨｚ程度の高周波振動に
基づくものであり、振動数の増加に伴い加速度が大きく
なり、この振動加速度により超微粒子の洗浄が可能とさ
れている。このメガソニック洗浄には、洗浄槽内にメガ
ソニックを照射するタイプのものと、流水膜（洗浄水シ
ャワー）にメガソニックを重畳させたメガソニックシャ
ワーと称されるタイプのものがある。

【０００４】図４は、メガソニックシャワーと称される
タイプの節水ノズル型メガソニックユニットの一例の概
念を示す断面図である。図４は、この節水ノズル型メガ
ソニックユニットが枚葉式洗浄装置に取り付けられた状
態を示している。枚葉式洗浄装置は、枚葉状のガラス基
板を搬送しながら一枚毎に洗浄処理、乾燥処理を一貫し
て連続で行うものであり、各種の製造工程にインライン
化でき洗浄装置の主流となっているものである。枚葉式
洗浄装置内で、ガラス基板は白太矢印で示すように、搬
送ロールによって節水ノズル型メガソニックユニットの
左方より右方へ搬送されながら、節水ノズル型メガソニ
ックユニットによって洗浄処理が行われるようになって
いる。

【０００５】図４に示すように、節水ノズル型メガソニ
ックユニットは、点線で示すガラス基板搬送線の上方
の、振動素子（４１）を内部に設けた上部筐体（４０
Ａ）、上部給水パイプ（４６Ａ）、上部排水パイプ（４
７Ａ）と、ガラス基板搬送線の下方の下部筐体（４０
Ｂ）、下部給水パイプ（４６Ｂ）、下部排水パイプ（４
７Ｂ）で構成されたものである。上部筐体（４０Ａ）
は、上部超音波照射面（４２Ａ）、側面（４３Ａ）、上
面（４４Ａ）、側底面（４５Ａ）で構成され、下部筐体
（４０Ｂ）は、下部超音波照射面（４２Ｂ）、側面（４
３Ｂ）、底面（４４Ｂ）、側上面（４５Ｂ）で構成され
ている。そして、上部筐体（４０Ａ）と下部筐体（４０
Ｂ）は、上部超音波照射面（４２Ａ）と下部超音波照射
面（４２Ｂ）が対向し、矢印で示す流水膜（洗浄水シャ
ワー）を挟むように位置して設けられている。

【０００６】上部給水パイプ（４６Ａ）及び下部給水パ
イプ（４６Ｂ）から供給される洗浄水は、上部超音波照
射面（４２Ａ）と下部超音波照射面（４２Ｂ）の間で流
水膜（洗浄水シャワー）を形成し、ポンプにより吸引さ
れる上部排水パイプ（４７Ａ）及び下部排水パイプ（４
７Ｂ）から排出されるが、供給量と排出量のバランスを
保ち側底面（４５Ａ）と側上面（４５Ｂ）間の端部から
の漏れだしを最小なものとしている。この流水膜（洗浄
水シャワー）に振動素子（４１）からの１ＭＨｚ程度の
メガソニックを重畳させるのであるが、流水膜（洗浄水
シャワー）の膜厚は、メガソニックの減衰を最小にする
ように設定し、メガソニックによる超微粒子の剥離洗浄
を効果的なものにしている。

【０００７】また、洗浄水の流量は、剥離した超微粒子
がガラス基板に再付着せぬように、超微粒子を排出させ
るのに必要な最小量とし、そのように上部超音波照射面
（４２Ａ）とガラス基板（１）、及び下部超音波照射面
（４２Ｂ）とガラス基板（１）の間隔を適切に保つ。す
なわち、超音波照射面とガラス基板との間隔、及び洗浄
水の供給・排出のバランス制御によって必要最低限の洗
浄水量でガラス基板を洗浄するものであり、節水ノズル
型のメガソニックシャワーと称されるように、洗浄水の
使用量は他方式に比較し著しく少ないものである。

【０００８】また、排出された洗浄水は、回収され再度
使用することも可能である。また、下部超音波照射面
（４２Ｂ）は、上方からのメガソニックを反射し、ガラ
ス基板（１）の裏面も洗浄するのであるが、その洗浄能
力はガラス基板（１）の表面よりは低いものとなるの
で、下部超音波照射面（４２Ｂ）の下方に別な振動素子
を設けることが好ましい。

【０００９】また、超純水に微量（５０ｐｐｍ以下）の
添加剤（ガス、薬液）を加えた溶液、例えば、水素水、
オゾン水、電解イオン水等は機能水と称されるが、水素
イオン濃度、酸化還元電位を制御した機能水を洗浄水と
して用いることにより、超微粒子を基板から剥離するこ
とに加え、有機物、金属、酸化膜などの汚染物質を除去
することが可能なものとなる。すなわち、図４に示す節
水ノズル型メガソニックユニットと機能水を併用するこ
とにより、このユニットのみで他のガラス基板洗浄装置
と同等以上の洗浄能力を具備することとなり、装置を小
型化にすることができるものである。

【００１０】さて、前述のように、洗浄装置の主流とな
っている枚葉式洗浄装置は、枚葉状のガラス基板を搬送
しながら一枚毎に洗浄処理、乾燥処理を一貫して連続で
行い、各種の製造工程にインライン化できるといった特
徴を有するが、枚葉式洗浄装置の搬送・処理速度が速く
ならず速度が同一のままでは、ガラス基板の大型化に伴
いガラス基板の枚数としての処理能力は低下してしまう
といった問題が発生する。現状の枚葉式洗浄装置の搬送
・処理速度は、約１．２ｍ／分程度のものであり、ガラ
ス基板の大きさが約１ｍ２ 程度と大型化した際には、
約１枚／分程度の処理能力のものとなる。この約１枚／
分程度の処理能力に対し、この処理能力を大幅に、例え
ば、約２．５枚／分以上に向上させたいといった強い要
望がある。

【００１１】単に、枚葉式洗浄装置の搬送速度を増加さ
せたのでは、洗浄効果を低下させることとなるので、そ
の対応として、節水ノズル型メガソニックユニットのユ
ニット長（Ａ４）を大きくして、洗浄処理長（処理時
間）を増加させ、搬送速度を増加させても洗浄効果を同
様に保つことが考えられるが、洗浄装置の構造上の制約
からユニット長（Ａ４）を大きくすることは困難なこと
である。すなわち、ガラス基板を搬送する搬送ロール
（４８）の間隔（Ｂ４）は約１３０ｍｍ程度、ユニット
長（Ａ４）は約９０ｍｍ程度のものであるが、ユニット
長（Ａ４）を大きなものとするために、搬送ロール（４
８）の間隔（Ｂ４）を約１３０ｍｍ以上に広げると、搬
送ロール（４８）の間でガラス基板が垂れ、蛇行するな
どの不具合なことが発生してしまう。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
解決するためになされたものであり、上記節水ノズル型
メガソニックユニットが搬送ロールの間に設けられた枚
葉式洗浄装置を用いたガラス基板の洗浄において、搬送
ロールの間隔を広げて、洗浄処理長（処理時間）を増加
させるためのユニット長の大きな節水ノズル型メガソニ
ックユニットを設けても、ガラス基板が搬送ロールの間
で垂れず、蛇行することなく洗浄処理をすることのでき
る、すなわち、洗浄装置の搬送速度を増加させても、洗
浄効果を低下させることなく洗浄することのできる、従
って、約１ｍ２ 大のガラス基板にても枚数としての処
理能力を大幅に、例えば、約２．５枚／分以上に向上さ
せることのできるガラス基板の洗浄方法を提供すること
を課題とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、超音波照射面
とガラス基板との間隔、及び洗浄水の給水・排水のバラ
ンス制御によって必要最低限の洗浄水量でガラス基板を
洗浄する節水ノズル型メガソニックユニットを設けた枚
葉式洗浄装置を用いたガラス基板の洗浄において、節水
ノズル型メガソニックユニットの下部筐体の上部に、多
数の小孔を有するステンレス板又は多孔質板を設け、小
孔又は多孔からの洗浄水圧によってユニット内のガラス
基板を支持し、搬送ロールによってガラス基板を搬送し
ながら洗浄することを特徴とするガラス基板の洗浄方法
である。

【００１４】また、本発明は、超音波照射面とガラス基
板との間隔、及び洗浄水の給水・排水のバランス制御に
よって必要最低限の洗浄水量でガラス基板を洗浄する節
水ノズル型メガソニックユニットを設けた枚葉式洗浄装
置を用いたガラス基板の洗浄において、節水ノズル型メ
ガソニックユニットの下部筐体の上方に、断面形状が円
形の複数の搬送ベルトを設け、搬送ベルトによってユニ
ット内のガラス基板を支持・搬送しながら洗浄すること
を特徴とするガラス基板の洗浄方法である。

【００１５】また、本発明は、超音波照射面とガラス基
板との間隔、及び洗浄水の給水・排水のバランス制御に
よって必要最低限の洗浄水量でガラス基板を洗浄する節
水ノズル型メガソニックユニットを設けた枚葉式洗浄装
置を用いたガラス基板の洗浄において、節水ノズル型メ
ガソニックユニットの下部筐体の上方に支持ロールを設
け、支持ロールによってユニット内のガラス基板を支持
し、搬送ロールによってガラス基板を搬送しながら洗浄
することを特徴とするガラス基板の洗浄方法である。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。図１は、本発明によるガラス基板の
洗浄方法において用いられる節水ノズル型メガソニック
ユニットを設けた枚葉式洗浄装置の一実施例の概念を示
した部分断面図である。図１に示す節水ノズル型メガソ
ニックユニットのユニット長（Ａ１）は、従来法におけ
る節水ノズル型メガソニックユニットのユニット長（Ａ
４）の約９０ｍｍ程度に対し、例えば、約２．５倍以上
の約２２５ｍｍ以上のものである。また、搬送ロール
（１８）の間隔（Ｂ１）は、従来法における搬送ロール
（４８）の間隔（Ｂ４）の約１３０ｍｍ程度に対し、例
えば、約２．５倍以上の約３２５ｍｍ以上のものであ
る。

【００１７】図１に示すように、節水ノズル型メガソニ
ックユニットは、点線で示すガラス基板搬送線の上方
の、振動素子（１１）を内部に設けた上部筐体（１０
Ａ）、上部給水パイプ（１６Ａ）、上部排水パイプ（１
７Ａ）と、ガラス基板搬送線の下方の下部筐体（１０
Ｂ）、下部給水パイプ（１６Ｂ）、下部排水パイプ（１
７Ｂ）で構成されたものである。上部筐体（１０Ａ）
は、上部超音波照射面（１２Ａ）、側面（１３Ａ）、上
面（１４Ａ）、側底面（１５Ａ）で構成され、下部筐体
（１０Ｂ）は、多数の小孔を有するステンレス板又は多
孔質板（１２Ｂ）、側面（１３Ｂ）、底面（１４Ｂ）、
側上面（１５Ｂ）で構成されている。そして、上部筐体
（１０Ａ）と下部筐体（１０Ｂ）は、上部超音波照射面
（１２Ａ）と多数の小孔を有するステンレス板又は多孔
質板（１２Ｂ）が対向し、矢印で示す流水膜（洗浄水シ
ャワー）を挟むように位置して設けられている。

【００１８】搬送ロール（１８）によってユニットの左
方から搬送されたガラス基板（１）は、上部超音波照射
面（１２Ａ）と多数の小孔を有するステンレス板又は多
孔質板（１２Ｂ）との間の流水膜（洗浄水シャワー）に
到ると、多数の小孔を有するステンレス板又は多孔質板
（１２Ｂ）の小孔又は多孔からの洗浄水圧によって支持
され、搬送ロール（１８）によって、ユニット内を搬送
されながら洗浄処理がなされ、右方へと搬出されるよう
になっている。

【００１９】従って、搬送ロール（１８）の間隔（Ｂ
１）が、例えば、約２．５倍以上の約３２５ｍｍ以上と
いった大きなものであっても、ガラス基板が搬送ロール
（１８）の間で垂れず、蛇行することなく洗浄処理が行
われるものとなる。搬送ロール（１８）の間に設けた節
水ノズル型メガソニックユニットのユニット長（Ａ１）
は、例えば、約２２５ｍｍ以上のものとなるので、搬送
速度を約２．５枚の約１．２ｍ×２．５＝３ｍ／分以上
に増加させても、洗浄効果を低下させることはない。

【００２０】すなわち、ガラス基板の枚数としての処理
能力は、ガラス基板の大きさが約１ｍ２ と大型化した
際にも、約２．５枚／分以上の処理能力をもつものとな
る。尚、図１に示す一実施例においては、節水ノズル型
メガソニックユニット内には搬送ロールは設けられてい
ないので、ユニット内において搬送ロールによるガラス
基板裏面への傷などの不具合なことは発生しない。

【００２１】図２は、請求項２に係わるガラス基板の洗
浄方法において用いられる節水ノズル型メガソニックユ
ニットを設けた枚葉式洗浄装置の一例の概念を示した部
分断面図である。図２に示す節水ノズル型メガソニック
ユニットのユニット長（Ａ２）は、従来法における節水
ノズル型メガソニックユニットのユニット長（Ａ４）の
約９０ｍｍ程度に対し、例えば、約２．５倍以上の約２
２５ｍｍ以上のものである。また、搬送ロール（２８）
の間隔（Ｂ２）は、従来法における搬送ロール（４８）
の間隔（Ｂ４）の約１３０ｍｍ程度に対し、例えば、約
２．５倍以上の十分な大きさのものである。

【００２２】図２に示すように、節水ノズル型メガソニ
ックユニットは、点線で示すガラス基板搬送線の上方
の、振動素子（２１）を内部に設けた上部筐体（２０
Ａ）、上部給水パイプ（２６Ａ）、上部排水パイプ（２
７Ａ）と、ガラス基板搬送線の下方の下部筐体（２０
Ｂ）、下部給水パイプ（２６Ｂ）、下部排水パイプ（２
７Ｂ）で構成されたものである。上部筐体（２０Ａ）
は、上部超音波照射面（２２Ａ）、側面（２３Ａ）、上
面（２４Ａ）、側底面（２５Ａ）で構成され、下部筐体
（２０Ｂ）は、下部超音波照射面（２２Ｂ）、側面（２
３Ｂ）、底面（２４Ｂ）、側上面（２５Ｂ）で構成され
ている。そして、上部筐体（２０Ａ）と下部筐体（２０
Ｂ）は、上部超音波照射面（２２Ａ）と下部超音波照射
面（２２Ｂ）が対向し、矢印で示す流水膜（洗浄水シャ
ワー）を挟むように位置して設けられている。

【００２３】下部筐体（２０Ｂ）の上方には、断面形状
が円形の複数の搬送ベルト（２９）が設けられており、
駆動ロール（８）によって、点線矢印で示すように、ガ
ラス基板の搬送方向に駆動されるようになっている。搬
送ロール（２８）によって、ユニットの左方から搬送さ
れたガラス基板（１）は、ユニットの手前で搬送ベルト
（２９）によって支持され、ユニット内を搬送されなが
ら洗浄処理がなされ、右方の搬送ロール（２８）へと搬
出されるようになっている。

【００２４】従って、搬送ロール（２８）の間隔（Ｂ
２）が、例えば、約２．５倍以上の十分に大きなもので
あっても、ガラス基板が搬送ロール（２８）の間で垂れ
ず、蛇行することなく洗浄処理が行われるものとなる。
搬送ロール（２８）の間に設けた節水ノズル型メガソニ
ックユニットのユニット長（Ａ２）は、例えば、約２２
５ｍｍ以上のものとなるので、搬送速度を約２．５枚の
約１．２ｍ×２．５＝３ｍ／分以上に増加させても、洗
浄効果を低下させることはない。

【００２５】すなわち、ガラス基板の枚数としての処理
能力は、ガラス基板の大きさが約１ｍ２ と大型化した
際にも、約２．５枚／分以上の処理能力をもつものとな
る。尚、図２に示す一例においては、搬送ベルト（２
９）の材料としてカルレッツ、クリスタルラバーなどを
用いることによって、ガラス基板裏面への汚れ付着など
の不具合なことは発生しない。

【００２６】図３は、請求項３に係わるガラス基板の洗
浄方法において用いられる節水ノズル型メガソニックユ
ニットを設けた枚葉式洗浄装置の一例の概念を示した部
分断面図である。図３に示す節水ノズル型メガソニック
ユニットのユニット長（Ａ３）は、従来法における節水
ノズル型メガソニックユニットのユニット長（Ａ４）の
約９０ｍｍ程度に対し、例えば、約２．５倍以上の約２
２５ｍｍ以上のものである。また、搬送ロール（３８）
の間隔（Ｂ３）は、従来法における搬送ロール（４８）
の間隔（Ｂ４）の約１３０ｍｍ程度に対し、例えば、約
２．５倍以上の約３２５ｍｍ以上のものである。

【００２７】図３に示すように、節水ノズル型メガソニ
ックユニットは、点線で示すガラス基板搬送線の上方
の、振動素子（３１）を内部に設けた上部筐体（３０
Ａ）、上部給水パイプ（３６Ａ）、上部排水パイプ（３
７Ａ）と、ガラス基板搬送線の下方の下部筐体（３０
Ｂ）、下部給水パイプ（３６Ｂ）、下部排水パイプ（３
７Ｂ）で構成されたものである。上部筐体（３０Ａ）
は、上部超音波照射面（３２Ａ）、側面（３３Ａ）、上
面（３４Ａ）、側底面（３５Ａ）で構成され、下部筐体
（３０Ｂ）は、下部超音波照射面（３２Ｂ）、側面（３
３Ｂ）、底面（３４Ｂ）、側上面（３５Ｂ）で構成され
ている。そして、上部筐体（３０Ａ）と下部筐体（３０
Ｂ）は、上部超音波照射面（３２Ａ）と下部超音波照射
面（３２Ｂ）が対向し、矢印で示す流水膜（洗浄水シャ
ワー）を挟むように位置して設けられている。

【００２８】下部筐体（３０Ｂ）の上方には、支持ロー
ル（３９）が設けられており、ユニット内のガラス基板
を支持するようになっている。支持ロール（３９）は搬
送ロール（３８）の間隔（Ｂ３）の大きさに従い複数本
を設けてもよい。流水膜（洗浄水シャワー）は、支持ロ
ール（３９）の下方を経て右方から左方へ流れるように
なっている。搬送ロール（３８）によって、ユニットの
左方から搬送されたガラス基板（１）は、ユニット内で
支持ロール（３９）によって支持され、ユニット内を搬
送されながら洗浄処理がなされ、右方へと搬出されるよ
うになっている。

【００２９】従って、搬送ロール（３８）の間隔（Ｂ
３）が、例えば、約２．５倍以上の約３２５ｍｍ以上と
いった大きなものであっても、ガラス基板が搬送ロール
（３８）の間で垂れず、蛇行することなく洗浄処理が行
われるものとなる。搬送ロール（３８）の間に設けた節
水ノズル型メガソニックユニットのユニット長（Ａ３）
は、例えば、約２２５ｍｍ以上のものとなるので、搬送
速度を約２．５枚の約１．２ｍ×２．５＝３ｍ／分以上
に増加させても、洗浄効果を低下させることはない。す
なわち、ガラス基板の枚数としての処理能力は、ガラス
基板の大きさが約１ｍ２ と大型化した際にも、約２．
５枚／分以上の処理能力をもつものとなる。

【００３０】上記のように、本発明は、搬送ロールの間
隔を広げて、ユニット長の大きな節水ノズル型メガソニ
ックユニットを設けても、ガラス基板を蛇行させること
なく、搬送速度を増加させて、洗浄装置の処理能力を大
幅に向上させるガラス基板の洗浄方法であるが、従来法
におけるように、搬送ロールの間隔を約１３０ｍｍ程度
に保ったまま、同様に洗浄装置の処理能力を大幅に向上
させる試みの洗浄方法を、本発明と比較する上で以下に
述べる。

【００３１】図５は、試みの洗浄方法の一例において用
いられる節水ノズル型メガソニックユニットを設けた枚
葉式洗浄装置を示す断面図である。図５に示す節水ノズ
ル型メガソニックユニットの下部筐体（５０Ｂ）の長さ
（ユニット長（Ａ５Ｂ））は、従来法におけるユニット
長（Ａ４）と同じ約９０ｍｍ程度であり、また、搬送ロ
ール（５８）の間隔（Ｂ５）は、従来法における搬送ロ
ール（４８）の間隔（Ｂ４）と同じ約１３０ｍｍ程度の
ものである。一方、節水ノズル型メガソニックユニット
の上部筐体（５０Ａ）の長さ（ユニット長（Ａ５Ａ））
は、例えば、約２２５ｍｍ程度のものである。

【００３２】この一例の枚葉式洗浄装置においては、搬
送ロールの間隔（Ｂ５）は約１３０ｍｍ程度あるので、
ガラス基板は搬送ロールの間で垂れず、蛇行することな
く搬送される。この上部筐体（５０Ａ）は、洗浄装置の
処理能力を大幅に向上させるために大きくしたものであ
るが、流水膜（洗浄水シャワー）は、対向した上部超音
波照射面（５２Ａ）と下部超音波照射面（５２Ｂ）によ
って挟まれる領域内には形成されるものの、その領域外
の上部超音波照射面（５２Ａ）の下部、下部筐体（５０
Ｂ）外の左右領域には形成されない。従って、この方法
によっては処理能力を大幅に向上させることはできな
い。

【００３３】また、この上部筐体（５０Ａ）を下部筐体
（５０Ｂ）に対し、図５の左方に移動し、下部筐体（５
０Ｂ）の右端と上部筐体（５０Ａ）の右端を揃えて位置
させても、或いは、この上部筐体（５０Ａ）を下部筐体
（５０Ｂ）に対し、図５の右方に移動し、下部筐体（５
０Ｂ）の左端と上部筐体（５０Ａ）の左端を揃えて位置
させても、流水膜（洗浄水シャワー）は、同様に、上部
超音波照射面（５２Ａ）と下部超音波照射面（５２Ｂ）
によって挟まれる領域外には形成されず、処理能力を大
幅に向上させることはできない。

【００３４】

【発明の効果】本発明は、節水ノズル型メガソニックユ
ニットを設けた枚葉式洗浄装置を用いたガラス基板の洗
浄において、下部筐体の上部に、多数の小孔を有するス
テンレス板又は多孔質板を設け、小孔又は多孔からの洗
浄水圧によってユニット内のガラス基板を支持し、搬送
ロールによってガラス基板を搬送しながら洗浄するの
で、搬送ロールの間隔を広げて、洗浄処理長（処理時
間）を増加させるためのユニット長の大きなユニットを
設けても、ガラス基板が搬送ロールの間で垂れず、蛇行
することなく洗浄処理をすることのでき、従って、洗浄
装置の搬送速度を増加させても、洗浄効果を低下させる
ことなく、約１ｍ２ 大のガラス基板にても枚数として
の処理能力を大幅に、例えば、約２．５枚／分以上に向
上させることのできるガラス基板の洗浄方法となる。

【００３５】また、本発明は、節水ノズル型メガソニッ
クユニットを設けた枚葉式洗浄装置を用いたガラス基板
の洗浄において、下部筐体の上方に、断面形状が円形の
複数の搬送ベルトを設け、搬送ベルトによってユニット
内のガラス基板を支持・搬送しながら洗浄するので、搬
送ロールの間隔を広げて、洗浄処理長（処理時間）を増
加させるためのユニット長の大きなユニットを設けて
も、ガラス基板が搬送ロールの間で垂れず、蛇行するこ
となく洗浄処理をすることのでき、従って、洗浄装置の
搬送速度を増加させても、洗浄効果を低下させることな
く、約１ｍ２ 大のガラス基板にても枚数としての処理
能力を大幅に、例えば、約２．５枚／分以上に向上させ
ることのできるガラス基板の洗浄方法となる。

【００３６】また、本発明は、節水ノズル型メガソニッ
クユニットを設けた枚葉式洗浄装置を用いたガラス基板
の洗浄において、下部筐体の上方に支持ロールを設け、
支持ロールによってユニット内のガラス基板を支持し、
搬送ロールによってガラス基板を搬送しながら洗浄する
ので、搬送ロールの間隔を広げて、洗浄処理長（処理時
間）を増加させるためのユニット長の大きなユニットを
設けても、ガラス基板が搬送ロールの間で垂れず、蛇行
することなく洗浄処理をすることのでき、従って、洗浄
装置の搬送速度を増加させても、洗浄効果を低下させる
ことなく、約１ｍ２ 大のガラス基板にても枚数として
の処理能力を大幅に、例えば、約２．５枚／分以上に向
上させることのできるガラス基板の洗浄方法となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるガラス基板の洗浄方法において用
いられる節水ノズル型メガソニックユニットを設けた枚
葉式洗浄装置の一実施例の概念を示した部分断面図であ
る。

【図２】請求項２に係わるガラス基板の洗浄方法におい
て用いられる節水ノズル型メガソニックユニットを設け
た枚葉式洗浄装置の一例の概念を示した部分断面図であ
る。

【図３】請求項３に係わるガラス基板の洗浄方法におい
て用いられる節水ノズル型メガソニックユニットを設け
た枚葉式洗浄装置の一例の概念を示した部分断面図であ
る。

【図４】節水ノズル型メガソニックユニットの一例の概
念を示す断面図である。

【図５】試みの洗浄方法の一例において用いられる節水
ノズル型メガソニックユニットを設けた枚葉式洗浄装置
を示す部分断面図である。

【符号の説明】

１・・・ガラス基板 ８・・・駆動ロール １０Ａ、２０Ａ、３０Ａ、４０Ａ、５０Ａ・・・上部筐
体 １０Ｂ、２０Ｂ、３０Ｂ、４０Ｂ、５０Ｂ・・・下部筐
体 １１、２１、３１、４１、５１・・・振動素子 １２Ａ、２２Ａ、３２Ａ、４２Ａ、５２Ａ・・・上部超
音波照射面 １２Ｂ・・・多数の小孔を有するステンレス板又は多孔
質板 １３Ａ、２３Ａ、３３Ａ、４３Ａ・・・側面 １３Ｂ、２３Ｂ、３３Ｂ、４３Ｂ・・・側面 １４Ａ、２４Ａ、３４Ａ、４４Ａ・・・上面 １４Ｂ、２４Ｂ、３４Ｂ、４４Ｂ・・・底面 １５Ａ、２５Ａ、３５Ａ、４５Ａ・・・側底面 １５Ｂ、２５Ｂ、３５Ｂ、４５Ｂ・・・側上面 １６Ａ、２６Ａ、３６Ａ、４６Ａ、５６Ａ・・・上部給
水パイプ １６Ｂ、２６Ｂ、３６Ｂ、４６Ｂ、５６Ｂ・・・下部給
水パイプ １７Ａ、２７Ａ、３７Ａ、４７Ａ、５７Ａ・・・上部排
水パイプ １７Ｂ、２７Ｂ、３７Ｂ、４７Ｂ、５７Ｂ・・・下部排
水パイプ １８、２８、３８、４８、５８・・・搬送ロール ２２Ｂ、３２Ｂ、４２Ｂ、５２Ｂ・・・下部超音波照射
面 ２９・・・搬送ベルト ３９・・・支持ロール Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４・・・ユニット長 Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４、Ｂ５・・・搬送ロールの間隔 Ａ５Ａ・・・試みのユニットの上部筐体の長さ Ａ５Ｂ・・・試みのユニットの下部筐体の長さ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三井田 淳 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 佐竹 順 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2H090 JB02 JC19 JD13 3B201 AA02 AB14 BB21 BB83 BB92 CD41

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】超音波照射面とガラス基板との間隔、及び
   洗浄水の給水・排水のバランス制御によって必要最低限
   の洗浄水量でガラス基板を洗浄する節水ノズル型メガソ
   ニックユニットを設けた枚葉式洗浄装置を用いたガラス
   基板の洗浄において、節水ノズル型メガソニックユニッ
   トの下部筐体の上部に、多数の小孔を有するステンレス
   板又は多孔質板を設け、小孔又は多孔からの洗浄水圧に
   よってユニット内のガラス基板を支持し、搬送ロールに
   よってガラス基板を搬送しながら洗浄することを特徴と
   するガラス基板の洗浄方法。
2. 【請求項２】超音波照射面とガラス基板との間隔、及び
   洗浄水の給水・排水のバランス制御によって必要最低限
   の洗浄水量でガラス基板を洗浄する節水ノズル型メガソ
   ニックユニットを設けた枚葉式洗浄装置を用いたガラス
   基板の洗浄において、節水ノズル型メガソニックユニッ
   トの下部筐体の上方に、断面形状が円形の複数の搬送ベ
   ルトを設け、搬送ベルトによってユニット内のガラス基
   板を支持・搬送しながら洗浄することを特徴とするガラ
   ス基板の洗浄方法。
3. 【請求項３】超音波照射面とガラス基板との間隔、及び
   洗浄水の給水・排水のバランス制御によって必要最低限
   の洗浄水量でガラス基板を洗浄する節水ノズル型メガソ
   ニックユニットを設けた枚葉式洗浄装置を用いたガラス
   基板の洗浄において、節水ノズル型メガソニックユニッ
   トの下部筐体の上方に支持ロールを設け、支持ロールに
   よってユニット内のガラス基板を支持し、搬送ロールに
   よってガラス基板を搬送しながら洗浄することを特徴と
   するガラス基板の洗浄方法。