JP2002244588A - Image display device - Google Patents
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- JP2002244588A JP2002244588A JP2001041995A JP2001041995A JP2002244588A JP 2002244588 A JP2002244588 A JP 2002244588A JP 2001041995 A JP2001041995 A JP 2001041995A JP 2001041995 A JP2001041995 A JP 2001041995A JP 2002244588 A JP2002244588 A JP 2002244588A
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Control Of El Displays (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
ックス方式の画像表示装置、特に、電子または正孔を注
入することにより発光する発光表示装置に関し、高精細
化、高輝度化、および発光材料の高寿命化を可能とする
技術に関する。本発明は、ELD(ElectroLuminescence
Display) やFED(Field Emission Display) への適
用が可能である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type image display, and more particularly to a light emitting display which emits light by injecting electrons or holes. The present invention relates to technology that can extend the life. The present invention relates to an ELD (ElectroLuminescence).
Display) and FED (Field Emission Display).
【0002】[0002]
【従来の技術】現在、フラットパネルディスプレイとし
ては、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、EL
ディスプレイ(ELD)、FEディスプレイ(FED)等が実用化
されている。この中で、ELDおよびFEDは自発光型
のディスプレイであり、しかも高精細化が可能なため、
CRTに代わる次世代のテレビ受像機として開発が進め
られている。しかし、これらのディスプレイを単純マト
リックスにより駆動を行なうと、表示が高精細になるに
従い、デューティ比が小さくなり、十分な輝度が得られ
ないという問題が生じていた。また十分な輝度を得るた
めに電流を増大させると、発光素子の劣化や発光材料
(蛍光体等)の劣化が生じるという問題があった。そこ
で、これらの問題点を改善するためにアクティブマトリ
ックス駆動のディスプレイが提案されている。アクティ
ブマトリックス駆動のディスプレイでは、一般にMIS
(Metal Insulator Semiconductor)電界効果トランジス
タが画素のスイッチング素子として用いられている。こ
こで、ゲート絶縁膜として酸化ケイ素が形成されたもの
は、MOS(Metal Oxide Semiconductor) 電界効果トラ
ンジスタと呼ばれる。2. Description of the Related Art Currently, flat panel displays include liquid crystal displays, plasma displays, and ELs.
Display (ELD), FE display (FED) and the like have been put to practical use. Among them, ELD and FED are self-luminous displays and can achieve high definition.
Development is underway as a next-generation television receiver replacing the CRT. However, when these displays are driven by a simple matrix, there has been a problem that as the display becomes higher definition, the duty ratio becomes smaller and sufficient luminance cannot be obtained. Further, when the current is increased to obtain a sufficient luminance, there is a problem that the light emitting element and the light emitting material (such as a phosphor) are deteriorated. Therefore, an active matrix driven display has been proposed to improve these problems. In active matrix driven displays, MIS
(Metal Insulator Semiconductor) A field effect transistor is used as a switching element of a pixel. Here, a device in which silicon oxide is formed as a gate insulating film is called a MOS (Metal Oxide Semiconductor) field effect transistor.
【0003】図6は、従来のFED(Field Emission Di
splay)の画素駆動回路であって、特許第2656843号公報
に記載されている回路における、i行j列の画素(i
j)13を例示したものである。この駆動回路は画素毎
に配置された、画素選択用のNMOSトランジスタ1
6、電流駆動用のNMOSトランジスタ17、及び信号
電圧保持用のキャパシタ15から構成されている。画素
選択用のNMOSトランジスタ16のゲートは、i行目
の走査線11に接続されている。11’は隣接する画素
用のi+1行目の走査線を示す。画素選択用NMOSト
ランジスタ16のソースまたはドレインの一方がj列目
の信号線12に接続され、ソースまたはドレインの他方
がキャパシタ15と電流駆動用NMOSトランジスタ1
7のゲートに接続されている。電流駆動用NMOSトラ
ンジスタ17のソースまたはドレインの一方は定電圧線
18に接続され、ソースまたはドレインの他方が画素電
極14に接続されている。FIG. 6 shows a conventional FED (Field Emission Diode).
splay) pixel driving circuit, and in a circuit described in Japanese Patent No. 2668443, a pixel (i
j) 13 is illustrated. This drive circuit is a pixel selection NMOS transistor 1 arranged for each pixel.
6, a current driving NMOS transistor 17 and a signal voltage holding capacitor 15. The gate of the pixel selecting NMOS transistor 16 is connected to the i-th scanning line 11. Reference numeral 11 'denotes a scanning line on the (i + 1) th row for an adjacent pixel. One of the source and the drain of the pixel selecting NMOS transistor 16 is connected to the signal line 12 in the j-th column, and the other of the source and the drain is connected to the capacitor 15 and the current driving NMOS transistor 1.
7 is connected to the gate. One of the source and the drain of the current driving NMOS transistor 17 is connected to the constant voltage line 18, and the other of the source and the drain is connected to the pixel electrode 14.
【0004】この構成によれば、画素選択用NMOSト
ランジスタ16がオフした後も、電流駆動用NMOSト
ランジスタ17が信号に応じた電流を流し続ける。従っ
て、画素が非選択の状態であっても発光を維持すること
が可能となり、輝度の高いディスプレイが形成できる。
この場合、単純マトリックス駆動のように、大電流のエ
ミッション電流を流さなくても十分な輝度が得られるた
め、エミッタの寿命および蛍光体の寿命が長くなる。According to this configuration, even after the pixel selecting NMOS transistor 16 is turned off, the current driving NMOS transistor 17 continues to supply a current corresponding to the signal. Therefore, it is possible to maintain light emission even when the pixels are not selected, and a display with high luminance can be formed.
In this case, sufficient luminance can be obtained without passing a large emission current as in the case of simple matrix driving, so that the lifetime of the emitter and the lifetime of the phosphor are prolonged.
【0005】図7は、従来の有機ELディスプレイの画
素駆動回路であって、特許第2784615号公報に記載され
た回路における、i行j列の画素(ij)23を例示し
たものである。この回路は、図6に示したFEDのアク
ティブマトリックス駆動方式と同様な駆動方法を用いて
いる。図7の駆動回路は、画素選択用のNMOSトラン
ジスタ26、電流駆動用のPMOSトランジスタ29、
及び信号電圧保持用のキャパシタ25から構成されてい
る。画素選択用のNMOSトランジスタ26のゲート
は、i行目の走査線21に接続されている。21’は隣
接する画素用のi+1行目の走査線を示す。画素選択用
NMOSトランジスタ26のソースまたはドレインの一
方がj列目の信号線22に接続され、ソースまたはドレ
インの他方がキャパシタ25と電流駆動用PMOSトラ
ンジスタ29のゲートに接続されている。電流駆動用P
MOSトランジスタ29のソースまたはドレインの一方
は電圧供給線28に接続され、ソースまたはドレインの
他方が画素電極24に接続されている。FIG. 7 shows a pixel driving circuit of a conventional organic EL display, which illustrates a pixel (ij) 23 at an i-th row and a j-th column in a circuit described in Japanese Patent No. 2784615. This circuit uses a driving method similar to the FED active matrix driving method shown in FIG. 7 includes an NMOS transistor 26 for selecting a pixel, a PMOS transistor 29 for driving a current,
And a capacitor 25 for holding a signal voltage. The gate of the pixel selection NMOS transistor 26 is connected to the scanning line 21 in the i-th row. Reference numeral 21 'denotes a scanning line on the (i + 1) th row for an adjacent pixel. One of the source and the drain of the pixel selecting NMOS transistor 26 is connected to the signal line 22 of the j-th column, and the other of the source and the drain is connected to the capacitor 25 and the gate of the current driving PMOS transistor 29. P for current drive
One of a source and a drain of the MOS transistor 29 is connected to the voltage supply line 28, and the other of the source and the drain is connected to the pixel electrode 24.
【0006】この構成によれば、NMOSトランジスタ
26がオフした後も、信号に応じた電流をPMOSトラ
ンジスタ29に流し続けることが可能となる。また、N
MOSトランジスタ26のソースまたはドレインの一方
にキャパシタ25を接続することによって、NMOSト
ランジスタ26のオフ電流に影響され難い、安定したP
MOSトランジスタ29の電流が得られる。従って画素
発光の安定化が可能となる。According to this configuration, even after the NMOS transistor 26 is turned off, a current corresponding to the signal can continue to flow through the PMOS transistor 29. Also, N
By connecting the capacitor 25 to one of the source and the drain of the MOS transistor 26, a stable P
The current of the MOS transistor 29 is obtained. Therefore, it is possible to stabilize pixel light emission.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記ア
クティブマトリックス駆動の場合には、トランジスタの
数と配線数が多いという問題が生じていた。従来のアク
ティブマトリックス駆動のFEDやELDの場合には、
走査線と信号線に加え定電圧線または電圧供給線が必要
となり、また画素選択用のトランジスタと信号電圧保持
用キャパシタ以外に電流駆動用のトランジスタが必要と
なる。従って、アクティブマトリックス駆動の場合に
は、トランジスタ数および配線数増大による、画素電極
面積の減少や開口率の低下が生じる問題があった。特
に、定電圧線は電流を流すための配線であるため、十分
に低抵抗化する必要があり、画素面積に占める割合が大
きかった。例えば、画素寸法が100μm×300μmの場合、
配線幅が10μmで配線長が300μmとすると、画素面積に
占める定電圧線の割合は10%と、非常に大きな割合を占
めることになる。その結果、有機ELDの場合には、開
口率が低下して暗い表示となり、またFEDの場合に
は、エミッタを形成する画素電極面積が小さくなること
による表示輝度の低下、およびエミッション電流の安定
性や画素間均一性が低下するという問題が生じていた。However, in the case of the active matrix drive, there is a problem that the number of transistors and the number of wirings are large. In the case of a conventional active matrix drive FED or ELD,
A constant voltage line or a voltage supply line is required in addition to a scanning line and a signal line, and a current driving transistor is required in addition to a pixel selection transistor and a signal voltage holding capacitor. Therefore, in the case of the active matrix driving, there is a problem that the pixel electrode area decreases and the aperture ratio decreases due to an increase in the number of transistors and the number of wirings. In particular, since the constant voltage line is a wiring for passing a current, it is necessary to sufficiently reduce the resistance, and the ratio of the constant voltage line to the pixel area is large. For example, if the pixel size is 100 μm × 300 μm,
Assuming that the wiring width is 10 μm and the wiring length is 300 μm, the ratio of the constant voltage line to the pixel area is 10%, which is a very large ratio. As a result, in the case of the organic ELD, the aperture ratio is reduced, resulting in a dark display. In the case of the FED, the display luminance is reduced due to the reduction in the area of the pixel electrode forming the emitter, and the stability of the emission current is reduced. And the problem that the uniformity between pixels is reduced.
【0008】本発明は、有機ELDやFED等のアクテ
ィブマトリックス型ディスプレイにおいて、開口率の低
下および画素電極面積の低下を最小限に抑えて、十分な
表示輝度が得られ、またエミッション電流の安定性や画
素間均一性に問題を生じることのない画像表示装置を提
供することを目的とする。According to the present invention, in an active matrix type display such as an organic ELD or FED, a sufficient display luminance can be obtained by minimizing a decrease in an aperture ratio and a decrease in a pixel electrode area, and a stability of an emission current. It is an object of the present invention to provide an image display device that does not cause a problem in uniformity between pixels or between pixels.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の画像表示装置
は、複数の画素と、複数の走査線と、複数の信号線を有
するアクティブマトリックス型の表示装置である。各画
素は1画素内に、画素選択用トランジスタ、画素電流制
御用トランジスタ、キャパシタ、および画素電極を有す
る。画素選択用トランジスタは、ゲートが走査線または
信号線に接続され、ソースまたはドレインの一方がゲー
トと接続されていない信号線または走査線に接続され、
ソースまたはドレインの他方がキャパシタの一方の電極
と画素電流制御用トランジスタのゲートに接続されてい
る。画素電流制御用トランジスタは、ドレインが画素電
極に接続され、ソースがキャパシタの他方の電極ととも
に、走査線に対して画素を挟んだ隣に位置する走査線に
接続されている。この構成によれば、信号線から入って
きた画像信号は、キャパシタと画素電流制御用トランジ
スタのゲート電圧として保持される。即ち、画素が非選
択状態となっても、信号に応じた画素電流を画素電流制
御用トランジスタを通じて流し続けることが可能とな
る。The image display device according to the present invention is an active matrix type display device having a plurality of pixels, a plurality of scanning lines, and a plurality of signal lines. Each pixel has a pixel selection transistor, a pixel current control transistor, a capacitor, and a pixel electrode in one pixel. The pixel selection transistor has a gate connected to a scanning line or a signal line, and one of a source or a drain connected to a signal line or a scanning line not connected to the gate,
The other of the source and the drain is connected to one electrode of the capacitor and the gate of the transistor for controlling pixel current. The pixel current control transistor has a drain connected to the pixel electrode, and a source connected to the other electrode of the capacitor to a scanning line located adjacent to the scanning line with the pixel interposed therebetween. According to this configuration, the image signal input from the signal line is held as the gate voltage of the capacitor and the pixel current control transistor. That is, even when the pixel is in the non-selection state, the pixel current corresponding to the signal can continue to flow through the pixel current control transistor.
【0010】ここで画素選択用トランジスタのソースま
たはドレインが信号線に接続されている場合には、電圧
の大きさを信号として入力し、画素選択用トランジスタ
のゲートが信号線に接続されている場合には、トランジ
スタのオン時間としての信号を入力し、信号に応じた画
素電流を画素電流制御用トランジスタにより制御するこ
とができる。このとき流れる電流経路は、従来のように
定電圧線または電圧供給線を通じて流すのではなく、画
素選択用トランジスタが接続されている走査線とは異な
る、画素を挟んだ隣の走査線を通じて電流を流す。その
ため、画素電流制御用トランジスタでは、ドレインを画
素電極に接続し、ソースおよびキャパシタの他方の電極
を、画素選択用トランジスタが接続された走査線に対し
て画素を挟んだ隣に位置する走査線に接続する。これに
より、画素電流を流すための定電圧線または電圧供給線
を設けることなく動作させることが可能となる。When the source or the drain of the pixel selection transistor is connected to the signal line, the magnitude of the voltage is input as a signal, and when the gate of the pixel selection transistor is connected to the signal line. , A signal as the ON time of the transistor is input, and the pixel current corresponding to the signal can be controlled by the pixel current controlling transistor. The current path flowing at this time does not flow through a constant voltage line or a voltage supply line as in the related art, but instead of flowing a current through a scanning line adjacent to a pixel, which is different from a scanning line to which a pixel selection transistor is connected. Shed. Therefore, in the pixel current control transistor, the drain is connected to the pixel electrode, and the other electrode of the source and the capacitor is connected to the scanning line located adjacent to the scanning line to which the pixel selection transistor is connected, with the pixel interposed therebetween. Connecting. Thereby, it is possible to operate without providing a constant voltage line or a voltage supply line for flowing a pixel current.
【0011】ここで線順次駆動の場合を考え、走査線数
をn本とすると、各走査線は1フレーム時間当たり1/
n時間だけ電圧が変動する。従って、画素電流制御用ト
ランジスタが接続されている走査線の電位も変動するた
め、画素電流制御用トランジスタのゲート電圧および画
素電極の電圧も容量結合により変動し、その結果、画素
電流も変動する。しかし、この電圧変動は1フレーム時
間当たり1/n時間だけであり、VGA以上の高精細パ
ネルでは、走査線の数がn=480本以上であるため、問
題とはならない。Here, considering the case of line-sequential driving, assuming that the number of scanning lines is n, each scanning line is 1 / frame / frame time.
The voltage fluctuates for n hours. Therefore, since the potential of the scanning line to which the pixel current control transistor is connected also changes, the gate voltage of the pixel current control transistor and the voltage of the pixel electrode also change due to capacitive coupling, and as a result, the pixel current also changes. However, this voltage fluctuation is only 1 / n hour per frame time, and there is no problem in a high-definition panel of VGA or higher because the number of scanning lines is n = 480 or more.
【0012】しかし、画素電流制御用トランジスタが接
続された走査線が選択されて電圧が上昇すると、画素電
流制御用トランジスタのゲート電圧が上昇するだけでな
く、画素選択用トランジスタのソースとドレイン間の電
圧も増大する。画素電流制御用トランジスタが接続され
た走査線が選択されている時には、画素選択用トランジ
スタが接続された走査線は非選択状態、即ち画素選択用
トランジスタはオフ状態であるが、ソースとドレイン間
の電圧が増大するとオフリーク電流が増大する。その結
果、信号線から入力されキャパシタに保持されている信
号電圧が変動してしまうという問題が発生する。However, when the scanning line connected to the pixel current control transistor is selected and the voltage rises, not only does the gate voltage of the pixel current control transistor rise, but also the source-drain potential of the pixel selection transistor increases. The voltage also increases. When the scanning line to which the pixel current control transistor is connected is selected, the scanning line to which the pixel selection transistor is connected is in a non-selected state, that is, the pixel selection transistor is in an off state, but the source and drain are not connected. As the voltage increases, the off-leak current increases. As a result, a problem occurs that the signal voltage input from the signal line and held in the capacitor fluctuates.
【0013】そこで本発明においては、1画素におけ
る、画素電流制御用トランジスタを接続した走査線か
ら、画素選択用トランジスタを接続した走査線の向きに
線順次走査することが好ましい。それにより、オフリー
ク電流による信号電圧変動の影響を1/nとし、画像表
示への影響を無視できる程度に低減できる。Therefore, in the present invention, it is preferable to perform line-sequential scanning in the direction from the scanning line connected to the pixel current control transistor to the scanning line connected to the pixel selection transistor in one pixel. Thus, the effect of the signal voltage fluctuation due to the off-leak current can be reduced to 1 / n, and the effect on the image display can be reduced to a negligible level.
【0014】また、画素選択用トランジスタをマルチゲ
ート構造とすることにより、更にオフリーク電流の低減
が可能となる。Further, by making the pixel selection transistor have a multi-gate structure, the off-leak current can be further reduced.
【0015】また、FEDのように画素電流制御用トラ
ンジスタのソースとドレイン間に10〜20Vの高電圧
が印加される場合には、画素電流制御用トランジスタも
マルチゲート構造とすることにより、オフリーク電流起
因の消費電力を低減できる。When a high voltage of 10 to 20 V is applied between the source and the drain of the pixel current control transistor as in the case of the FED, the pixel current control transistor also has a multi-gate structure, so that the off-leakage current is reduced. The resulting power consumption can be reduced.
【0016】以上のように本発明によれば、従来のよう
な定電圧線、または電圧供給線が不要となり、その結
果、開口率または画素電極面積が増大し、高精細パネル
の画像表示を明るくすることが可能となる。As described above, according to the present invention, the conventional constant voltage line or voltage supply line is not required, and as a result, the aperture ratio or the pixel electrode area increases, and the image display of the high definition panel becomes bright. It is possible to do.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0018】図1および図2に、本発明の実施の形態の
画像表示装置における画素部回路の構成を示す。図1
(a)、(b)の回路は、2個のNMOSトランジスタ
と1個のキャパシタおよび画素電極から構成され、画素
電極から電子を放出することにより発光素子または発光
材料を発光させる場合に用いる。具体的には、FEDに
用いることが可能である。また図2(a)、(b)の回
路は、2個のPMOSトランジスタと1個のキャパシタ
および画素電極から構成され、画素電極から正孔を放出
することにより発光素子または発光材料を発光させる場
合に用いる。具体的には、有機ELディスプレイに用い
ることが可能である。ここで、画素電極からの電荷の放
出は、異なる電荷との再結合の場合にも適用できる。FIGS. 1 and 2 show the configuration of a pixel circuit in an image display device according to an embodiment of the present invention. Figure 1
The circuits (a) and (b) include two NMOS transistors, one capacitor, and a pixel electrode, and are used when a light emitting element or a light emitting material emits light by emitting electrons from the pixel electrode. Specifically, it can be used for FED. The circuits shown in FIGS. 2A and 2B are composed of two PMOS transistors, one capacitor, and a pixel electrode, and emit light from a light emitting element or a light emitting material by emitting holes from the pixel electrode. Used for Specifically, it can be used for an organic EL display. Here, the release of the charge from the pixel electrode can be applied to the case of recombination with a different charge.
【0019】図1(a)あるいは図2(a)の回路と、
図1(b)あるいは図2(b)の回路とは、画素選択用
トランジスタの配線との接続方法が異なる。The circuit shown in FIG. 1A or FIG.
1B or FIG. 2B is different from the circuit of FIG. 1B in connection with the wiring of the pixel selection transistor.
【0020】図1(a)の回路では、画素選択用トラン
ジスタ6aのゲートがi行目の走査線1aに接続され、
ソースまたはドレインの一方がj列目の信号線2aに接
続されている。図2(a)の回路でも同様に、画素選択
用トランジスタ8cのゲートがi行目の走査線1cに接
続され、ソースまたはドレインの一方がj列目の信号線
2cに接続されている。この場合の画素信号は、画素電
流駆動用トランジスタ7a、9cのゲート電圧であって
もよいし、また、1フレーム中に画素に信号を書き込む
回数等による時間的な階調制御信号であってもよい。In the circuit of FIG. 1A, the gate of the pixel selecting transistor 6a is connected to the i-th scanning line 1a,
One of the source and the drain is connected to the signal line 2a in the j-th column. Similarly, in the circuit of FIG. 2A, the gate of the pixel selection transistor 8c is connected to the i-th scanning line 1c, and one of the source and the drain is connected to the j-th column signal line 2c. The pixel signal in this case may be a gate voltage of the pixel current driving transistors 7a and 9c, or may be a temporal gradation control signal based on the number of times a signal is written to a pixel in one frame. Good.
【0021】図1(b)の回路では、画素選択用トラン
ジスタ6bのゲートがj列目の信号線2bに接続され、
ソースまたはドレインの一方がi行目の走査線1bに接
続されている。図2(b)の回路でも同様に、画素選択
用トランジスタ8dのゲートがj列目の信号線2dに接
続され、ソースまたはドレインの一方がi行目の走査線
1dに接続されている。この場合の画素信号は、1フレ
ーム中に画素に信号を書き込む回数等による時間的な階
調制御信号であることが好ましい。In the circuit of FIG. 1B, the gate of the transistor 6b for pixel selection is connected to the signal line 2b of the j-th column.
One of the source and the drain is connected to the i-th scanning line 1b. Similarly, in the circuit of FIG. 2B, the gate of the pixel selection transistor 8d is connected to the signal line 2d in the j-th column, and one of the source and the drain is connected to the scanning line 1d in the i-th row. In this case, the pixel signal is preferably a temporal gradation control signal based on the number of times a signal is written to a pixel in one frame.
【0022】(実施の形態1)以下、FEDを駆動させ
る場合の実施の形態について、図1(a)を用いて説明
する。図1(a)はn行m列の画素から構成されるディ
スプレイのi行j列における画素部を示している。画素
(ij)3aは、画素選択用NMOSトランジスタ6a、
エミッション電流制御用NMOSトランジスタ7a、信
号電圧保持用キャパシタ5a、および画素電極4aから構
成される。画素電極4aには、蛍光体を発光させるため
の電子電流源となるエミッタ(図示せず)が形成されて
いる。(Embodiment 1) Hereinafter, an embodiment in which an FED is driven will be described with reference to FIG. FIG. 1A shows a pixel unit at an i-th row and a j-th column of a display composed of n rows and m columns of pixels. The pixel (ij) 3a includes a pixel selection NMOS transistor 6a,
It comprises an emission current control NMOS transistor 7a, a signal voltage holding capacitor 5a, and a pixel electrode 4a. An emitter (not shown) serving as an electron current source for causing the phosphor to emit light is formed in the pixel electrode 4a.
【0023】画素選択用NMOSトランジスタ6aは、
ゲートがi行目の走査線1aに接続され、ソースまたはド
レインの一方がj列目の信号線2aに接続され、ソースま
たはドレインの他方が、エミッション電流制御用NMO
Sトランジスタ7aのゲートと、キャパシタ5aの片側電
極に接続されている。ここで画素選択用NMOSトラン
ジスタ6aのソースとドレインは、j列目の信号線2aに
印加される電圧により入れ替わる。従って、トランジス
タ6aに関しては、ソースとドレインの区別がつかない
が、以下、トランジスタ6aのj列目の信号線2aに接続
された方をソース、キャパシタ5aに接続された方をド
レインと呼ぶことにする。エミッション電流制御用NM
OSトランジスタ7aのドレインは、エミッタが形成さ
れる画素電極4aに接続され、ソースはキャパシタ5aの
他方の電極とi−1行目の走査線1a' に接続されてい
る。The pixel selecting NMOS transistor 6a is
The gate is connected to the i-th scanning line 1a, one of the source and the drain is connected to the j-th signal line 2a, and the other of the source and the drain is connected to the emission current controlling NMO.
The gate of the S transistor 7a is connected to one electrode of the capacitor 5a. Here, the source and the drain of the pixel selection NMOS transistor 6a are switched by the voltage applied to the signal line 2a in the j-th column. Therefore, the source and the drain of the transistor 6a cannot be distinguished from each other, but the transistor 6a connected to the signal line 2a in the j-th column is referred to as a source, and the transistor 6a connected to the capacitor 5a is referred to as a drain. I do. NM for emission current control
The drain of the OS transistor 7a is connected to the pixel electrode 4a on which the emitter is formed, and the source is connected to the other electrode of the capacitor 5a and the (i-1) th scanning line 1a '.
【0024】線順次駆動を行なう場合、i行目の走査線
1aが選択され、例えば10Vの電圧が印加されると、i
行目の走査線1aに接続されたm個のトランジスタがオ
ン状態となる。図1(a)では、NMOSトランジスタ
6aがオン状態となり、外部駆動回路よりj列目の信号線
2aに出力されされた信号電圧が、キャパシタ5aとNM
OSトランジスタ7aのゲートに印加される。信号電圧
の大きさは、NMOSトランジスタ7aの飽和ドレイン
電流が、エミッタから放出すべき所望の電流値となるよ
うに調整される。例えば、エミッション電流が1μAで
蛍光体から所望の輝度が得られる場合には、トランジス
タ7aの飽和ドレイン電流が1μAとなるような信号電
圧を与えればよい。ここで各画素における階調は、信号
電圧を変化させることでトランジスタ7aの飽和ドレイ
ン電流値を変化させることにより制御することができ
る。また、信号電圧一定でトランジスタ7aの飽和ドレ
イン電流値を一定として、1フレーム期間における各画
素の選択回数または選択時間を変えることにより制御す
ることも可能である。画素の選択、非選択は、信号電圧
がトランジスタ7aの閾値電圧以上と0V、または閾値
電圧以上と負電圧等により行なう。In the case of performing the line-sequential driving, when the scanning line 1a of the i-th row is selected and a voltage of, for example, 10 V is applied,
The m transistors connected to the row scanning line 1a are turned on. In FIG. 1A, the NMOS transistor 6a is turned on, and the signal voltage output from the external drive circuit to the j-th signal line 2a is applied to the capacitor 5a and the NM.
The voltage is applied to the gate of the OS transistor 7a. The magnitude of the signal voltage is adjusted such that the saturation drain current of the NMOS transistor 7a has a desired current value to be emitted from the emitter. For example, when a desired luminance can be obtained from the phosphor at an emission current of 1 μA, a signal voltage such that the saturation drain current of the transistor 7a becomes 1 μA may be applied. Here, the gradation of each pixel can be controlled by changing the saturation drain current value of the transistor 7a by changing the signal voltage. Further, it is also possible to control the saturation drain current value of the transistor 7a at a constant signal voltage and to change the number of selections or the selection time of each pixel in one frame period. Selection or non-selection of a pixel is performed based on a signal voltage equal to or higher than the threshold voltage of the transistor 7a and 0 V, or a signal voltage equal to or higher than the threshold voltage and a negative voltage.
【0025】次に信号電圧に対応した電流を、約1フレ
ーム期間中、維持できる理由について説明する。i行目
の走査線1aが選択され正電圧が印加されている期間、
他の走査線は非選択状態である。即ち、i行目の走査線
1aが選択されている間、i−1行目の走査線1a' は0
Vまたは負電圧となっている。従って画素(ij)3a
が選択され、トランジスタ7aがオン状態の場合、エミ
ッション電流は画素電極4aからトランジスタ7aを経由
して、i−1行目の走査線1a' に流れる。i行目の走査
線1aが非選択状態となると、トランジスタ6aはオフ状
態となるため、キャパシタ5aに与えられた信号電圧は
保持される。従って、1フレーム後に次の信号がキャパ
シタ5aに入力されるまで、トランジスタ7aは保持され
た信号電圧に応じた電流を流し続けることができる。Next, the reason why the current corresponding to the signal voltage can be maintained for about one frame period will be described. While the i-th scanning line 1a is selected and a positive voltage is applied,
Other scanning lines are in a non-selected state. That is, while the i-th scanning line 1a is selected, the (i-1) -th scanning line 1a 'is set to 0.
V or negative voltage. Therefore, pixel (ij) 3a
Is selected and the transistor 7a is on, the emission current flows from the pixel electrode 4a to the (i-1) th scanning line 1a 'via the transistor 7a. When the i-th scanning line 1a is in the non-selected state, the transistor 6a is turned off, so that the signal voltage supplied to the capacitor 5a is held. Therefore, the transistor 7a can continue to flow a current corresponding to the held signal voltage until the next signal is input to the capacitor 5a after one frame.
【0026】ここで、i−1行目の走査線1a' が選択さ
れた場合の現象を図3、図4を用いて説明する。図3、
図4は、走査線の選択状態を10V、非選択状態を0V
とし、また、信号電圧4Vでエミッション電流が1.0
4μA流れる場合のシミュレーション結果を示す。図に
は示していないが、エミッタ先端の電界強度を強め、エ
ミッタからの電子放出を行い易くするための引出ゲート
電極の電圧を80V固定とし、またエミッション電流の
閾値電圧を60Vとしてシミュレーションを行なった。Here, the phenomenon in the case where the (i-1) th scanning line 1a 'is selected will be described with reference to FIGS. FIG.
FIG. 4 shows that the selected state of the scanning line is 10 V and the non-selected state is 0 V.
And an emission current of 1.0 at a signal voltage of 4V.
The simulation result when 4 μA flows is shown. Although not shown in the figure, the simulation was performed by increasing the electric field strength at the tip of the emitter, fixing the voltage of the extraction gate electrode to 80 V to facilitate electron emission from the emitter, and setting the threshold voltage of the emission current to 60 V. .
【0027】図3は、キャパシタ5aに4Vの信号電圧
が保持された状態の後、時間370μsから400μsに
i−1行目の走査線1a' が選択状態となって10V印加
された場合の、トランジスタ7aのゲートおよびキャパ
シタ5aの電圧Vcapaと、エミッタが形成された画素電
極4aの電圧Vemitterの変動を示している。ゲート側
キャパシタ電圧Vcapaの変動に引きずられてエミッタ電
圧Vemitterも9.8Vから11.2Vに変動する。この
結果、図4に示すように、エミッション電流が低下す
る。このようにi−1行目の走査線1a' の電圧変動によ
りエミッション電流も変動するが、この変動時間は、図
4に示す通りi−1行目の走査線1a' が選択される期間
のみであり、この期間は1フレームの1/n以下である
ため、VGA以上の高精細パネルでは1/480以下と
なり、画像への影響は非常に小さく、問題ないことがわ
かった。FIG. 3 shows that the time is changed from 370 μs to 400 μs after the signal voltage of 4 V is held in the capacitor 5a.
It shows the fluctuation of the voltage Vcapa of the gate of the transistor 7a and the capacitor 5a and the voltage Vemitter of the pixel electrode 4a on which the emitter is formed when the scanning line 1a 'in the (i-1) th row is in the selected state and 10 V is applied. ing. The emitter voltage Vemitter also fluctuates from 9.8V to 11.2V due to the fluctuation of the gate-side capacitor voltage Vcapa. As a result, as shown in FIG. 4, the emission current decreases. As described above, the emission current also fluctuates due to the voltage fluctuation of the (i-1) th scanning line 1a '. However, this fluctuation time is limited to the period during which the (i-1) th scanning line 1a' is selected as shown in FIG. Since this period is 1 / n or less of one frame, it is 1/480 or less for a high-definition panel of VGA or more, and the influence on an image is very small, and it is found that there is no problem.
【0028】これに対し、トランジスタ6aのドレイン
は、トランジスタ7aのゲート電圧Vcapaと同じである
ため、信号線2aの電圧が0Vの場合、トランジスタ6a
のソースとドレイン間電圧は14Vとなる。その結果、
トランジスタ6aはオフリーク電流が流れやすくなり、
Vcapaの電圧が変動する。トランジスタを薄膜トランジ
スタで形成する場合、単位チャネル幅あたり10〜10
0pA/μm程度のオフリーク電流が発生する場合があ
るため、Vcapaの電圧変動も0.1V程度の変動が起こ
りうる。この電圧変動は、2.56Vの電圧振幅で25
6階調を行なう場合、10階調分に相当するため問題と
なる。On the other hand, since the drain of the transistor 6a is equal to the gate voltage Vcapa of the transistor 7a, when the voltage of the signal line 2a is 0 V, the transistor 6a
Is 14 V between the source and the drain. as a result,
In the transistor 6a, an off-leak current easily flows,
The voltage of Vcapa fluctuates. In the case where a transistor is formed using a thin film transistor, 10 to 10
Since an off-leak current of about 0 pA / μm may occur, the voltage of Vcapa may fluctuate by about 0.1 V. This voltage fluctuation is 25 at a voltage amplitude of 2.56V.
When performing 6 gradations, this is a problem because it corresponds to 10 gradations.
【0029】そこで本発明では、上記のようなオフリー
ク電流の影響を小さくするため、走査線の選択順序を、
i−1行目の走査線1a' からi行目の走査線1aへ向かう
順に順次選択するように設定する。これにより、1フレ
ーム内の(n−1)/n期間中におけるトランジスタ6
aのソースとドレイン間電圧は、最大で信号電圧分、本
実施の形態の場合4Vであるので、オフリーク電流は1
0pA/μm以下に容易に制御でき、良好な階調制御が
可能となる。Therefore, in the present invention, in order to reduce the influence of the off-leak current as described above, the selection order of the scanning lines is changed as follows.
It is set so as to select sequentially from the (i-1) th scanning line 1a 'to the i-th scanning line 1a. Thereby, the transistor 6 during the (n-1) / n period in one frame
The source-drain voltage of a is a signal voltage at the maximum, which is 4 V in the present embodiment.
It can be easily controlled to 0 pA / μm or less, and good gradation control can be performed.
【0030】尚、前記オフリーク電流を抑制するため、
トランジスタ6aをマルチゲート構造とすることが有効
である。また、トランジスタ7aもFEDの場合には、
ソースとドレイン間の電圧が10〜20V程度となるた
め、オフリーク電流起因の消費電力を抑制する目的でマ
ルチゲート構造とすることが有効である。また、マルチ
ゲート構造に加え、トランジスタの拡散層をLDD(Lig
htly Doped Drain)構造とすることによって、更にオフ
リーク電流の抑制、およびホットキャリア劣化によるト
ランジスタ特性の変動が抑制できた。Incidentally, in order to suppress the off-leak current,
It is effective that the transistor 6a has a multi-gate structure. When the transistor 7a is also an FED,
Since the voltage between the source and the drain is about 10 to 20 V, it is effective to adopt a multi-gate structure in order to suppress power consumption due to off-leakage current. Further, in addition to the multi-gate structure, the diffusion layer of the transistor is formed by an LDD (Lig
By using an htly doped drain structure, it was possible to further suppress the off-leak current and suppress the variation in transistor characteristics due to hot carrier deterioration.
【0031】図5に本実施の形態における、FEDの1
画素分に対応するレイアウト図を示す。図中の引出ゲー
ト電極51は必ずしも必要ではないが、エミッタからの
電子の放出を行い易くするためのもので、全画素共通ま
たは複数画素共通となっている。また、引出ゲート電極
51はエミッタから1μm以下の距離に形成されてお
り、エミッタに対して自己整合的に形成されている。エ
ミッタおよび引出ゲート電極51の形成方法としては、
Spindt型の方式が適用できる。FIG. 5 shows an FED 1 according to the present embodiment.
FIG. 3 shows a layout diagram corresponding to pixels. Although the extraction gate electrode 51 in the figure is not always necessary, it is for facilitating the emission of electrons from the emitter, and is common to all pixels or a plurality of pixels. Further, the extraction gate electrode 51 is formed at a distance of 1 μm or less from the emitter, and is formed in a self-aligned manner with respect to the emitter. As a method of forming the emitter and the extraction gate electrode 51,
Spindt type method can be applied.
【0032】図5よりわかるように、従来のような定電
圧線または電圧供給線を配置する必要がなくなったた
め、エミッタ形成領域52を大きくとれるようになっ
た。トランジスタ寸法およびキャパシタ面積は、トラン
ジスタの特性によりかわるため、エミッタ形成領域52
もそれに伴い変更する必要はあるが、本実施の形態では
画素面積に対し36%の領域に形成できるようになっ
た。従来は、定電圧線または電圧供給線が画素面積の数
%〜10%を占めていたため、本実施の形態と同様なレ
イアウトを行なうと、エミッタ形成領域52は画素面積
の30%以下になっていた。本実施の形態に基づいて、
FEDパネルを形成することにより、エミッション電流
が安定し、かつ画面の輝度が向上することが確認され
た。As can be seen from FIG. 5, it is no longer necessary to arrange a constant voltage line or a voltage supply line as in the prior art, so that the emitter forming region 52 can be made large. The transistor dimensions and capacitor area depend on the characteristics of the transistor.
Although it is necessary to change it in accordance with it, in the present embodiment, it can be formed in a region of 36% of the pixel area. Conventionally, a constant voltage line or a voltage supply line occupies several% to 10% of a pixel area. Therefore, when a layout similar to that of the present embodiment is performed, the emitter formation region 52 becomes 30% or less of the pixel area. Was. Based on this embodiment,
It was confirmed that by forming the FED panel, the emission current was stabilized and the luminance of the screen was improved.
【0033】(実施の形態2)有機ELディスプレイを
駆動させる場合の実施の形態を図2(a)を用いて説明
する。図2(a)はn行m列の画素から構成されるディ
スプレイのi行j列における画素部を示している。画素
(ij)3cは、画素選択用PMOSトランジスタ8c、
画素電流制御用PMOSトランジスタ9c、信号電圧保
持用キャパシタ5c、そして有機発光層に正孔を注入す
るための画素電極4cから構成される。実施の形態1の
FED駆動に対し、トランジスタの極性が変わるだけ
で、駆動方法は全く同じである。走査線および信号線の
電圧をFEDの正電圧に対し、負電圧に変更するだけで
よい。(Embodiment 2) An embodiment in which an organic EL display is driven will be described with reference to FIG. FIG. 2A shows a pixel portion at the i-th row and the j-th column of the display composed of the pixels of the n-th row and the m-th column. The pixel (ij) 3c includes a pixel selection PMOS transistor 8c,
It comprises a pixel current control PMOS transistor 9c, a signal voltage holding capacitor 5c, and a pixel electrode 4c for injecting holes into the organic light emitting layer. The driving method is exactly the same as the FED driving of the first embodiment except that the polarity of the transistor is changed. It is only necessary to change the voltages of the scanning lines and the signal lines to the negative voltage with respect to the positive voltage of the FED.
【0034】ディスプレイ画素部は、ガラス基板上に形
成した薄膜トランジスタにより、画素選択用トランジス
タ8c、画素電流制御用トランジスタ9c、およびキャパ
シタ5cを形成した構成とする。画素電極4cはITO等
の透明電極で形成し、その上に発光層となる有機薄膜を
形成し、最上層に陰極を形成する。有機発光層からの発
光は、透明電極およびガラス基板を通して利用する。こ
の場合、画素の開口率が輝度に大きく影響する。本発明
では、電圧供給線をなくすことにより、開口率を数%〜
10%改善することができたので、高輝度の有機ELデ
ィスプレイを形成できるようになった。The display pixel portion has a structure in which a pixel selecting transistor 8c, a pixel current controlling transistor 9c, and a capacitor 5c are formed by thin film transistors formed on a glass substrate. The pixel electrode 4c is formed of a transparent electrode such as ITO, an organic thin film serving as a light emitting layer is formed thereon, and a cathode is formed on the uppermost layer. Light emitted from the organic light emitting layer is used through a transparent electrode and a glass substrate. In this case, the aperture ratio of the pixel greatly affects the luminance. In the present invention, by eliminating the voltage supply line, the aperture ratio can be reduced from several% to
The improvement was 10%, so that a high-luminance organic EL display could be formed.
【0035】[0035]
【発明の効果】本発明の画像表示装置によれば、画素選
択用トランジスタ、画素電流制御用トランジスタ、およ
び信号電圧保持用キャパシタを有する発光維持型のディ
スプレイであるにもかかわらず、電圧供給線の役割を走
査線にもたせて電圧供給線をなくしたため、開効率また
は画素電極形成領域が増大でき、従来方式に比べて高輝
度化が可能となる。According to the image display device of the present invention, the light emitting sustaining type display having the pixel selection transistor, the pixel current control transistor, and the signal voltage holding capacitor is provided, but the voltage supply line is not provided. Since the role is given to the scanning line and the voltage supply line is eliminated, the opening efficiency or the pixel electrode formation area can be increased, and higher brightness can be achieved as compared with the conventional method.
【0036】また、走査線の選択方法を、1つの画素か
ら見て、画素電流制御用トランジスタが接続された走査
線から、画素選択用トランジスタが接続された走査線へ
向かう向きに順次選択する構成とすることにより、電圧
供給線の役割を走査線にもたせることによって生じる、
信号電圧保持用キャパシタの電圧変動の影響をなくし、
良好な階調制御が可能となる。In addition, the method of selecting a scanning line is such that one pixel is sequentially selected in a direction from the scanning line to which the pixel current control transistor is connected to the scanning line to which the pixel selection transistor is connected, as viewed from one pixel. Is caused by giving the role of the voltage supply line to the scanning line,
Eliminates the effect of voltage fluctuations of the signal voltage holding capacitor,
Good gradation control becomes possible.
【0037】更に、画素選択用トランジスタをマルチゲ
ート構造とすることにより、信号電圧保持特性を改善す
ることが可能となり、良好な階調制御が可能となる。Further, by making the pixel selecting transistor have a multi-gate structure, it is possible to improve the signal voltage holding characteristic and to perform good gradation control.
【図1】 本発明の実施の形態1の画像表示装置におけ
る画素の回路図FIG. 1 is a circuit diagram of a pixel in an image display device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 本発明の実施の形態2の画像表示装置におけ
る画素の回路図FIG. 2 is a circuit diagram of a pixel in the image display device according to the second embodiment of the present invention;
【図3】 本発明の実施の形態のFEDにおける信号電
圧の変動特性図FIG. 3 is a diagram showing a variation characteristic of a signal voltage in the FED according to the embodiment of the present invention;
【図4】 本発明の実施の形態のFEDにおけるエミッ
ション電流の変動特性図FIG. 4 is a diagram showing a variation characteristic of an emission current in the FED according to the embodiment of the present invention.
【図5】 本発明の実施の形態のFEDにおける画素領
域のレイアウト図FIG. 5 is a layout diagram of a pixel region in the FED according to the embodiment of the present invention;
【図6】 従来例のFEDにおける画素の回路図FIG. 6 is a circuit diagram of a pixel in a conventional FED.
【図7】 他の従来例のELDにおける画素の回路図FIG. 7 is a circuit diagram of a pixel in another conventional ELD.
1a,1b,1c,1d,11,21 i行目の走査線 1a',1b',1c',1d' i−1行目の走査線 11',21' i+1行目の走査線 2a,2b,2c,2d,12,22 j列目の信号線 3a,3b,3c,3d,13,23 画素(ij) 4a,4b,4c,4d,14,24 画素電極 5a,5b,5c,5d,15,25 信号保持用キャ
パシタ 6a,6b,16,26 画素選択用NMOSトランジ
スタ 7a,7b,17 画素電流制御用NMOSトランジス
タ 8c,8d 画素選択用PMOSトランジスタ 9c,9d,29 画素電流制御用PMOSトランジス
タ 51 引出しゲート電極 52 エミッタ形成領域1a, 1b, 1c, 1d, 11, 21 i-th scanning line 1a ', 1b', 1c ', 1d' i-1th scanning line 11 ', 21' i + 1th scanning line 2a, 2b , 2c, 2d, 12, 22 signal lines 3a, 3b, 3c, 3d, 13, 23 pixels (ij) 4a, 4b, 4c, 4d, 14, 24 pixel electrodes 5a, 5b, 5c, 5d, 15, 25 Signal holding capacitor 6a, 6b, 16, 26 Pixel selecting NMOS transistor 7a, 7b, 17 Pixel current controlling NMOS transistor 8c, 8d Pixel selecting PMOS transistor 9c, 9d, 29 Pixel current controlling PMOS transistor 51 Extraction gate electrode 52 Emitter formation area
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 29/96 H01J 29/96 31/12 31/12 C Fターム(参考) 5C032 AA01 5C036 EE04 EE14 EF01 EF06 EF09 EG48 EH05 EH26 5C080 AA01 AA06 BB05 DD01 DD23 EE29 FF11 FF12 JJ03 JJ04 JJ05 JJ06 5C094 AA10 AA15 BA03 BA29 CA19 EA04 EA07 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme coat II (reference) H01J 29/96 H01J 29/96 31/12 31/12 CF term (reference) 5C032 AA01 5C036 EE04 EE14 EF01 EF06 EF09 EG48 EH05 EH26 5C080 AA01 AA06 BB05 DD01 DD23 EE29 FF11 FF12 JJ03 JJ04 JJ05 JJ06 5C094 AA10 AA15 BA03 BA29 CA19 EA04 EA07
Claims (5)
信号線とを有するアクティブマトリックス型の画像表示
装置において、 前記各画素は1画素内に、画素選択用トランジスタ、画
素電流制御用トランジスタ、キャパシタ、および画素電
極を有し、 前記画素選択用トランジスタは、ゲートが前記走査線ま
たは前記信号線に接続され、ソースまたはドレインの一
方が前記ゲートと接続されていない前記信号線または走
査線に接続され、ソースまたはドレインの他方が前記キ
ャパシタの一方の電極と前記画素電流制御用トランジス
タのゲートに接続され、 前記画素電流制御用トランジスタは、ドレインが前記画
素電極に接続され、ソースが前記キャパシタの他方の電
極とともに、前記走査線に対して前記画素を挟んだ隣に
位置する走査線に接続されていることを特徴とする画像
表示装置。1. An active matrix type image display device having a plurality of pixels, a plurality of scanning lines, and a plurality of signal lines, wherein each of the pixels includes a pixel selection transistor and a pixel current control A transistor, a capacitor, and a pixel electrode, wherein the pixel selection transistor has a gate connected to the scanning line or the signal line, and one of a source and a drain not connected to the gate. The other of the source or the drain is connected to one electrode of the capacitor and the gate of the pixel current control transistor. The pixel current control transistor has a drain connected to the pixel electrode, and a source connected to the capacitor. Connected to a scanning line located adjacent to the scanning line with the pixel in between with the other electrode of An image display device characterized in that:
電流制御用トランジスタの少なくとも一方が、マルチゲ
ート構造のトランジスタであることを特徴とする請求項
1記載の画像表示装置。2. The image display device according to claim 1, wherein at least one of the pixel selection transistor and the pixel current control transistor is a multi-gate transistor.
電流制御用トランジスタが共にN型MIS電界効果トランジ
スタで構成され、前記画素電極から電子を放出すること
により発光素子若しくは発光材料を発光させることを特
徴とする請求項1または2記載の画像表示装置。3. The pixel selection transistor and the pixel current control transistor are both N-type MIS field effect transistors, and emit light from a light emitting element or a light emitting material by emitting electrons from the pixel electrode. The image display device according to claim 1 or 2, wherein
電流制御用トランジスタが共にP型MIS電界効果トラン
ジスタで構成され、前記画素電極から正孔を放出するこ
とにより発光素子若しくは発光材料を発光させることを
特徴とする請求項1または2記載の画像表示装置。4. The method according to claim 1, wherein the pixel selection transistor and the pixel current control transistor are both P-type MIS field-effect transistors, and emit light from the pixel electrode by emitting holes from the pixel electrode. 3. The image display device according to claim 1, wherein:
法であって、1つの画素における、前記画素電流制御用
トランジスタのソースとキャパシタの片側の電極を接続
した走査線から、前記画素選択用トランジスタを接続し
た走査線へ向かう順に線順次走査することを特徴とする
画像表示装置の駆動方法。5. The method for driving an image display device according to claim 1, wherein the pixel selection is performed from a scanning line in one pixel, which connects a source of the pixel current control transistor and one electrode of a capacitor. A line-sequential scan in an order toward a scanning line to which a transistor for connection is connected.
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