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JP2002117765A - Method of manufacturing image display device and image display device manufactured using the same - Google Patents

Method of manufacturing image display device and image display device manufactured using the same

Info

Publication number
JP2002117765A
JP2002117765A JP2000310407A JP2000310407A JP2002117765A JP 2002117765 A JP2002117765 A JP 2002117765A JP 2000310407 A JP2000310407 A JP 2000310407A JP 2000310407 A JP2000310407 A JP 2000310407A JP 2002117765 A JP2002117765 A JP 2002117765A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
phosphor layer
image display
display device
plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000310407A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideaki Yasui
秀明 安井
Kazuhiko Sugimoto
和彦 杉本
Kazuyuki Hasegawa
和之 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2000310407A priority Critical patent/JP2002117765A/en
Publication of JP2002117765A publication Critical patent/JP2002117765A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aging technique for shortening the aging period. SOLUTION: This technique is characterized by exposing a phosphor layer of a substrate having the phosphor layer formed to plasma and thereafter sticking it to a substrate facing to it.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(PDP)に代表される蛍光体を用いた画像
表示装置の製造方法およびそれを用いて製造した画像表
示装置に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing an image display device using a phosphor represented by a plasma display panel (PDP) and an image display device manufactured using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル(PDP)
に代表されるガス放電パネルは、大画面化することが比
較的容易なフラットディスプレイパネル(FDP)であ
り、すでに50インチクラスのものが商品化されてい
る。このPDPは、2枚の薄いガラス板(フロントパネ
ルガラスとバックパネルガラス)を隔壁(リブ)を介し
て対向させ、隔壁の間に蛍光体層を形成し、両ガラス板
の間に放電ガスを封入して気密封着した構成を持つ。放
電ガス中で放電して紫外線を発生するための表示電極
は、フロントパネルガラスの表面に形成される。
2. Description of the Related Art Plasma display panels (PDPs)
Is a flat display panel (FDP) which is relatively easy to enlarge the screen, and a 50-inch class has already been commercialized. In this PDP, two thin glass plates (front panel glass and back panel glass) are opposed to each other via a partition (rib), a phosphor layer is formed between the partitions, and a discharge gas is sealed between the two glass plates. It has a hermetically sealed configuration. A display electrode for generating ultraviolet rays by discharging in a discharge gas is formed on the surface of the front panel glass.

【0003】図7は、一般的なPDPの概略構成図を示
す。フロントパネル20は、フロントパネルガラス21
上に互いに所定の間隔を保ちながら一対を形成するよう
配設された表示電極22、23、その上に、誘電体ガラ
ス層24、保護層25が形成されている。
FIG. 7 shows a schematic configuration diagram of a general PDP. The front panel 20 includes a front panel glass 21
Display electrodes 22 and 23 are formed on the display electrodes 22 and 23 so as to form a pair while maintaining a predetermined distance from each other, and a dielectric glass layer 24 and a protective layer 25 are formed thereon.

【0004】バックパネル26はバックパネルガラス2
7上にアドレス電極28、誘電体ガラス膜29、隔壁3
0、蛍光体層31、32、33が形成されている。
[0004] The back panel 26 is made of the back panel glass 2.
7, address electrode 28, dielectric glass film 29, partition 3
0, phosphor layers 31, 32, 33 are formed.

【0005】フロントパネル20とバックパネル26を
張り合わせ、内部に放電用ガスを封入する。
The front panel 20 and the back panel 26 are attached to each other, and a discharge gas is sealed therein.

【0006】各セルにおいて表示電極22、23で発生
した紫外線は、蛍光体層で可視光に変換されて発光表示
に供される。PDPでは、このようなセルが複数対の表
示電極22、23と隔壁30によってマトリックス状に
配列されている。
[0006] Ultraviolet light generated at the display electrodes 22 and 23 in each cell is converted into visible light by the phosphor layer and used for light emission display. In a PDP, such cells are arranged in a matrix by a plurality of pairs of display electrodes 22 and 23 and partition walls 30.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなPDPにおいて安定した放電特性、発光特性を得る
ためにはパネル化した後、放電を長時間行い放電特性、
発光特性を安定化させるエージング工程が必要であり、
そのために約30時間の放電を行うことが必要であり、
生産性の向上に大きな妨げになっていた。
However, in order to obtain stable discharge characteristics and light emission characteristics in such a PDP, after a panel is formed, discharge is performed for a long time, and discharge characteristics,
An aging step to stabilize the light emission characteristics is necessary,
It is necessary to discharge for about 30 hours for that,
This hindered productivity.

【0008】放電特性、発光特性が安定しないためエー
ジング工程が必要ではあるがエージング時に生じている
現象については解明されてない。しかし、エージング工
程はPDP製造において表面へ吸着した不純物ガス、ま
た熱処理工程等による変質層の形成によると考えられ、
長時間の放電により、不純物ガスおよび変質層を、放電
領域からたたきだし、放電に影響しない他の領域に付着
させるのに必要な時間と考えられる。
An aging step is necessary because the discharge characteristics and light emission characteristics are not stable, but the phenomenon occurring during aging has not been elucidated. However, it is considered that the aging process is due to the formation of the altered gas by the impurity gas adsorbed on the surface in the PDP production and the heat treatment process.
This is considered to be the time required for the prolonged discharge to strike out the impurity gas and the altered layer from the discharge region and adhere to another region which does not affect the discharge.

【0009】投入電力の増加によりエージングを短時間
にすることも考えられるが、投入電力の増加は、電圧の
増加および異常放電の増加を生じることで、誘電体の絶
縁破壊、蛍光体への異常放電跡が発生し、パネルとして
不良品となってしまう。
It is conceivable to shorten the aging time by increasing the input power. However, the increase in the input power causes an increase in voltage and an abnormal discharge, thereby causing dielectric breakdown of the dielectric material and abnormalities in the phosphor. Discharge traces are generated, resulting in a defective panel.

【0010】このような問題は、例えばディスプレイが
ハイビジョン方式のように微細セル構造になり、隔壁の
本数が多くなると、吸着面積が増加する為、さらに顕著
になるものと考えられる。
[0010] Such a problem is considered to become more remarkable when the display has a fine cell structure like a high-vision system and the number of partitions increases, so that the adsorption area increases.

【0011】以上のことから、短時間でエージング工程
を行うためには、未だ解決すべき課題がある。
From the above, there are still problems to be solved in order to perform the aging step in a short time.

【0012】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
ものであって、その目的はエージング時間を短縮でき
る、画像表示装置の製造方法、およびそれを用いて製造
した画像表示装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing an image display device capable of shortening the aging time, and an image display device manufactured using the same. It is in.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、蛍光体層が形成された基板を用いて作製さ
れる画像表示装置において、蛍光体層が形成された基板
の蛍光体形成面をプラズマに曝した後、相対する基板と
張り合わせ画像表示装置を形成することを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to an image display device manufactured by using a substrate having a phosphor layer formed thereon, wherein the phosphor of the substrate having the phosphor layer formed thereon is provided. After the formation surface is exposed to plasma, the image display device is formed by bonding the substrate to an opposing substrate.

【0014】また、プラズマを発生させるための電極等
が形成された基板と基板上に蛍光体層が形成された基板
を対向させ、プラズマを発生させるための電極等が形成
された基板によりプラズマを発生させ、蛍光体層が形成
された基板の蛍光体形成面をプラズマに曝した後、相対
する基板と張り合わせ画像表示装置を製造することを特
徴とする。
Further, a substrate on which an electrode or the like for generating plasma is formed is opposed to a substrate on which a phosphor layer is formed on the substrate, and plasma is generated by the substrate on which an electrode or the like for generating plasma is formed. The method is characterized in that after the phosphor layer is formed, the phosphor-formed surface of the substrate on which the phosphor layer is formed is exposed to plasma, and then the opposing substrate is bonded to the image display device.

【0015】また、プラズマを発生させるための電極等
が形成された基板を相対する基板として張り合わせ画像
表示装置を製造することを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that a laminated image display device is manufactured by using a substrate on which electrodes and the like for generating plasma are formed as a counter substrate.

【0016】また、蛍光体層が形成された基板の蛍光体
層をプラズマに曝す際、プラズマ発生用のガスを供給、
排気しながら行うことを特徴とする。
Further, when exposing the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed to plasma, a gas for generating plasma is supplied.
It is characterized by performing while exhausting.

【0017】また、酸素を含むプラズマ発生用ガス雰囲
気中でプラズマに曝すことを特徴とする。
Further, the method is characterized in that the substrate is exposed to plasma in a plasma generating gas atmosphere containing oxygen.

【0018】また、蛍光体層が形成された基板の蛍光体
層をプラズマに曝す際、雰囲気ガスもしくは排気された
ガスの成分を測定するガス分析装置を具備することを特
徴とする。
Further, when the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed is exposed to plasma, a gas analyzer for measuring a component of an atmospheric gas or an exhausted gas is provided.

【0019】また、蛍光体層が形成された基板の蛍光体
層をプラズマに曝す際、雰囲気ガスもしくは排気された
ガスの成分を測定するガス分析装置によりH2Oもしく
はOHもしくはカーボンを含む成分のスペクトルを評価
し、プラズマに曝す処理時間を決定することを特徴とす
る。
When exposing the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed to plasma, a gas analyzer for measuring a component of an atmospheric gas or an exhausted gas is used to measure a component containing H 2 O, OH or carbon. It is characterized in that the spectrum is evaluated and the processing time for exposing to plasma is determined.

【0020】また、蛍光体層が形成された基板の蛍光体
形成面をプラズマに曝した後、相対する基板として張り
合わせるまで、蛍光体層が形成された基板の少なくとも
蛍光体形成面を大気に曝さないことを特徴とする。
Further, after exposing the phosphor-forming surface of the substrate on which the phosphor layer is formed to plasma, at least the phosphor-forming surface of the substrate on which the phosphor layer is formed is exposed to the atmosphere until the substrate is bonded to the opposing substrate. It is characterized by not being exposed.

【0021】また、蛍光体層が形成された基板の蛍光体
形成面をプラズマに曝した後、相対する基板として張り
合わせるまで、蛍光体層が形成された基板の少なくとも
蛍光体形成面をドライエアー雰囲気、もしくは不活性ガ
ス雰囲気で保管することを特徴とする。
Further, after exposing the phosphor-forming surface of the substrate on which the phosphor layer is formed to plasma, at least the phosphor-forming surface of the substrate on which the phosphor layer is formed is dry air until the substrate is laminated as an opposing substrate. It is characterized by being stored in an atmosphere or an inert gas atmosphere.

【0022】また、蛍光体層が形成された基板を用いて
作製される画像表示装置において、蛍光体層が形成され
た基板の蛍光体形成面に紫外線照射を行った後、相対す
る基板と張り合わせ画像表示装置を形成することを特徴
とする。
Further, in an image display device manufactured using a substrate on which a phosphor layer is formed, an ultraviolet ray is irradiated on the phosphor-formed surface of the substrate on which the phosphor layer is formed, and then the substrate is bonded to an opposing substrate. An image display device is formed.

【0023】また、減圧雰囲気中で蛍光体層が形成され
た基板の蛍光体形成面に紫外線照射を行うことを特徴と
する。
[0023] Further, it is characterized in that the phosphor-formed surface of the substrate on which the phosphor layer is formed is irradiated with ultraviolet rays in a reduced pressure atmosphere.

【0024】また、蛍光体層が形成された基板の蛍光体
層に紫外線照射を行う際、雰囲気ガスの供給、排気をし
ながら行うことを特徴とする。
Further, when the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed is irradiated with ultraviolet rays, the irradiation is performed while supplying and exhausting an atmospheric gas.

【0025】また、酸素を含む雰囲気中で蛍光体層が形
成された基板の蛍光体形成面に紫外線照射を行うことを
特徴とする。
[0025] Further, the present invention is characterized in that the phosphor-formed surface of the substrate on which the phosphor layer is formed is irradiated with ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen.

【0026】また、蛍光体層が形成された基板の蛍光体
層に紫外線照射を行う際、雰囲気ガスもしくは排気され
たガスの成分を測定するガス分析装置を具備することを
特徴とする。
[0026] When irradiating the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed with ultraviolet rays, a gas analyzer for measuring a component of an atmospheric gas or an exhausted gas is provided.

【0027】また、蛍光体層が形成された基板の蛍光体
層に紫外線照射を行う際、雰囲気ガスもしくは排気され
たガスの成分を測定するガス分析装置によりH2Oもし
くはOHもしくはカーボンを含む成分のスペクトルを評
価し、プラズマに曝す処理時間を決定することを特徴と
する。
When irradiating the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed with ultraviolet rays, a component containing H 2 O, OH or carbon is measured by a gas analyzer for measuring the components of the atmospheric gas or the exhausted gas. Is characterized by evaluating the spectrum and determining the processing time of exposure to plasma.

【0028】本発明による画像表示装置の製造方法、製
造装置において、特に表面積が大きく吸着量が多いと考
えられる蛍光体層に吸着した不純物ガス、また蛍光体形
成時、熱処理が不十分で残留しているカーボン等の成分
を、相対する基板と張り合わせる前に除去することがで
きるため、後工程のエージング時にたたきだすための長
時間の処理を行う必要が無くなる。
In the method and apparatus for manufacturing an image display device according to the present invention, in particular, impurity gas adsorbed on the phosphor layer which is considered to have a large surface area and a large amount of adsorption, and insufficient heat treatment during the formation of the phosphor remain. Since the components such as carbon and the like can be removed before bonding to the opposing substrate, it is not necessary to perform a long-time treatment for knocking out during aging in a later step.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】(1.実施の形態1) (1−1.PDPの構成)図7は、本発明の実施の形態
1に係る交流面放電型プラズマディスプレイパネル10
(以下単に「PDP10」という)の主要構成を示す部
分的な断面斜視図である。当図中、z方向がPDP10
の厚み方向、xy平面がPDP10のパネル面に平行な
平面に相当する。PDP10は一例として42インチク
ラスのハイビジョン仕様に合わせたサイズ設定になって
いるが、本発明は勿論この他のサイズや規格に適用させ
てもよい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (1. First Embodiment) (1-1. Configuration of PDP) FIG. 7 shows an AC surface discharge type plasma display panel 10 according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a partial cross-sectional perspective view showing a main configuration of a PDP (hereinafter simply referred to as “PDP10”). In the figure, the z direction is PDP10
Xy plane corresponds to a plane parallel to the panel surface of PDP 10. The PDP 10 is sized, for example, in accordance with the high-definition specification of the 42-inch class. However, the present invention may, of course, be applied to other sizes and standards.

【0030】図7に示すように、PDP10の構成は互
いに主面を対向させて配設されたフロントパネル20お
よびバックパネル26に大別される。
As shown in FIG. 7, the structure of the PDP 10 is roughly divided into a front panel 20 and a back panel 26 arranged with their main surfaces facing each other.

【0031】フロントパネル20の基板となる透明プレ
ートのフロントパネルガラス21には、その片面に厚さ
4μm、幅95μmの表示電極22(23)(X電極2
3、Y電極22)が、y方向を長手方向としてx方向に
複数対並設され、各対の表示電極22、23との間隙
(一例として80μm)で面放電を行うようになってい
る。
On a front panel glass 21 of a transparent plate serving as a substrate of the front panel 20, a display electrode 22 (23) (X electrode 2) having a thickness of 4 μm and a width of 95 μm is formed on one surface.
3, a plurality of pairs of Y electrodes 22 are arranged in the x direction with the y direction as the longitudinal direction, and a surface discharge is performed in a gap (80 μm as an example) between each pair of display electrodes 22 and 23.

【0032】表示電極22、23を配設したフロントパ
ネルガラス21には、当該ガラス21の主面全体にわた
って厚さ約30μmの誘電体ガラス層24と厚さ約1.
0μmの保護層25が順次コートされている。
On the front panel glass 21 on which the display electrodes 22 and 23 are disposed, a dielectric glass layer 24 having a thickness of about 30 μm and a thickness of about 1.
A protective layer 25 of 0 μm is sequentially coated.

【0033】バックパネル26の基板となるバックパネ
ルガラス27には、その片面に厚さ5μm、幅60μm
の複数のアドレス電極28がx方向を長手方向としてy
方向に一定間隔毎(約140μm)でストライプ状に並
設され、このアドレス電極28を内包してバックパネル
ガラス27の全面にわたって厚さ30μmの誘電体ガラ
ス膜29がコートされている。誘電体ガラス膜29上に
は、隣接するアドレス電極28の間隙に合わせて高さ約
150μm、幅約40μmの隔壁30が配設され、そし
て隣接する隔壁30の側面とその間の誘電体ガラス膜2
9の面上には、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の
何れかに対応する蛍光体層31〜33が形成されてい
る。これらのRGB各蛍光体層31〜33はx方向に順
次配されている。
A back panel glass 27 serving as a substrate of the back panel 26 has a thickness of 5 μm and a width of 60 μm on one side thereof.
The plurality of address electrodes 28 have the x direction as a longitudinal direction and y
The dielectric glass film 29 having a thickness of 30 μm is coated on the entire surface of the back panel glass 27 so as to include the address electrodes 28 and to be arranged in stripes at regular intervals (about 140 μm) in the direction. A partition 30 having a height of about 150 μm and a width of about 40 μm is disposed on the dielectric glass film 29 in accordance with the gap between the adjacent address electrodes 28, and the side surfaces of the adjacent partition 30 and the dielectric glass film 2 therebetween.
On the surface of No. 9, phosphor layers 31 to 33 corresponding to any of red (R), green (G), and blue (B) are formed. These RGB phosphor layers 31 to 33 are sequentially arranged in the x direction.

【0034】このような構成を有するフロントパネル2
0とバックパネル26は、アドレス電極28と表示電極
22、23の互いの長手方向が直交するように対向させ
つつ、両パネル20、26の外周縁部にて接着し封止さ
れている。前記両パネル20、26間にはHe、Xe、
Neなどの希ガス成分からなる放電ガス(封入ガス)が
所定の圧力(従来は通常500〜760Torr(6
6.5〜101.08kPa)程度)で封入されてい
る。
The front panel 2 having such a configuration
0 and the back panel 26 are adhered and sealed at the outer peripheral edges of the panels 20 and 26 while the address electrodes 28 and the display electrodes 22 and 23 are opposed to each other so that their longitudinal directions are orthogonal to each other. He, Xe,
A discharge gas (filled gas) composed of a rare gas component such as Ne is applied to a predetermined pressure (conventionally, usually 500 to 760 Torr (6
6.5 to 101.08 kPa)).

【0035】隣接する隔壁30間は放電空間34とな
り、隣り合う一対の表示電極22、23と1本のアドレ
ス電極28が放電空間34を挟んで交叉する領域が、画
像表示にかかるセル34(図3を参照)に対応してい
る。ここで一例として、x方向のセルピッチは420μ
m、y方向のセルピッチは140μmである。
A discharge space 34 is formed between the adjacent partition walls 30, and a region where a pair of adjacent display electrodes 22 and 23 and one address electrode 28 intersect with the discharge space 34 interposed therebetween is a cell 34 for image display (see FIG. 3). Here, as an example, the cell pitch in the x direction is 420 μm.
The cell pitch in the m and y directions is 140 μm.

【0036】このPDPを駆動する時には不図示のパネ
ル駆動部によって、アドレス(走査)電極28と表示電
極22、23のいずれか(本実施の形態ではこれをX電
極23とする。なお一般に、当該X電極23はスキャン
電極、Y電極22はサステイン電極と称される)にパル
スを印加し、放電させることにより各セルに書き込み放
電(アドレス放電)を行った後、一対の表示電極22、
23間にパルスを印加し、放電させることによって短波
長の紫外線(波長約147nmを中心波長とする共鳴
線)を発生させ、蛍光体層31〜33を発光させて画像
表示をなす。
When driving this PDP, one of the address (scanning) electrode 28 and the display electrodes 22 and 23 (this is the X electrode 23 in the present embodiment. In general, this is the X electrode 23.) A pulse is applied to the X electrode 23 as a scan electrode and the Y electrode 22 is referred to as a sustain electrode) to cause a write discharge (address discharge) in each cell.
By applying a pulse between the electrodes 23 and discharging them, ultraviolet rays having a short wavelength (resonance lines having a center wavelength of about 147 nm) are generated, and the phosphor layers 31 to 33 emit light to display an image.

【0037】(1−2.本実施の形態のPDPの製造方
法)次に、上記したPDPの作製方法の一例を説明す
る。
(1-2. Method of Manufacturing PDP of the Present Embodiment) Next, an example of a method of manufacturing the above-described PDP will be described.

【0038】(1−2−1.フロントパネルの作製)ま
ずフロート法によって厚さ約2.6mmのソーダライム
ガラスからなるフロントパネルガラス21を作製する。
そしてこのガラス面上に表示電極22、23を作製す
る。
(1-2-1. Production of Front Panel) First, a front panel glass 21 made of soda lime glass having a thickness of about 2.6 mm is produced by a float method.
Then, display electrodes 22 and 23 are formed on the glass surface.

【0039】まず、フロントパネルガラス21面上に厚
さ3μmのCr/Cu/Crの積層構造からなる金属膜
を形成する。次に、エッチング処理により金属膜の不要
部分を除去し、フォトレジストを除去・洗浄することに
より、表示電極22、23を有するフロントパネルガラ
ス21が形成される。
First, a metal film having a 3 μm-thickness Cr / Cu / Cr laminated structure is formed on the front panel glass 21 surface. Next, unnecessary portions of the metal film are removed by an etching process, and the photoresist is removed and washed, thereby forming the front panel glass 21 having the display electrodes 22 and 23.

【0040】次に、表示電極22、23の上から粉末状
ガラス成分(例えばPbO系ガラス成分)と、有機バイ
ンダー溶液(分散剤のホモゲノールを0.2wt%と可
塑剤のフタル酸ジブチルを2.5wt%、さらにエチル
セルロースを45wt%混合したもの)を、55:45
の重量比で混合してペーストを作り、これをフロントパ
ネルガラス21の全面にわたってコートし焼成(520
℃で10分)して厚さ約30μmの誘電体ガラス層24
を形成する。
Next, a powdery glass component (for example, a PbO-based glass component) and an organic binder solution (0.2 wt% of a dispersant homogenol and a plasticizer of dibutyl phthalate) were added to the display electrodes 22 and 23 from above. 5 wt%, and a mixture of ethylcellulose and 45 wt%) was added to 55:45
To obtain a paste, which is coated over the entire surface of the front panel glass 21 and baked (520).
C. for 10 minutes) to form a dielectric glass layer 24 having a thickness of about 30 μm.
To form

【0041】誘電体ガラス層24が形成できたら、その
表面上に酸化マグネシウム(MgO)よりなる保護層2
5を厚さ約1.0μmで形成する。
After the dielectric glass layer 24 has been formed, a protective layer 2 made of magnesium oxide (MgO) is formed on the surface thereof.
5 is formed with a thickness of about 1.0 μm.

【0042】これでフロントパネル20が作製される。Thus, the front panel 20 is manufactured.

【0043】(1−2−2.バックパネルの作製)フロ
ート法で作製した厚さ約2.6mmのソーダライムガラ
スからなるバックパネルガラス27の表面上に、スクリ
ーン印刷法によりAgを主成分とする導電材料を一定間
隔でストライプ状に塗布し、厚さ約5μmのアドレス電
極28を形成する。
(1-2-2. Manufacture of Back Panel) On a surface of a back panel glass 27 made of soda lime glass having a thickness of about 2.6 mm manufactured by a float method, Ag was used as a main component by a screen printing method. The conductive material to be applied is applied in stripes at regular intervals to form address electrodes 28 having a thickness of about 5 μm.

【0044】続いて、アドレス電極28を形成したバッ
クパネルガラス27の面全体にわたって前記誘電体ガラ
ス層24と同様のペーストを厚さ約20μmで塗布して
焼成し、誘電体ガラス膜29を形成する。
Subsequently, the same paste as that of the dielectric glass layer 24 is applied to a thickness of about 20 μm over the entire surface of the back panel glass 27 on which the address electrodes 28 are formed and baked to form a dielectric glass film 29. .

【0045】次に、誘電体ガラス膜29と同じガラス材
料により、誘電体ガラス膜29の上に隣り合うアドレス
電極28の間隙(約140μm)毎に高さ約120μm
の隔壁30を形成する。この隔壁30は、例えば上記ガ
ラス材料を含むペーストを繰り返しスクリーン印刷し、
その後焼成すると形成できる。
Next, using the same glass material as the dielectric glass film 29, a height of about 120 μm is provided for each gap (about 140 μm) between the adjacent address electrodes 28 on the dielectric glass film 29.
Is formed. This partition 30 is screen-printed repeatedly with a paste containing the glass material, for example,
After firing, it can be formed.

【0046】隔壁30の形成後、隔壁30の壁面と、隣
接する隔壁30間で露出している誘電体ガラス膜29の
表面に、赤色(R)蛍光体、緑色(G)蛍光体、青色
(B)蛍光体のいずれかを含む蛍光インクを塗布し、こ
れを乾燥・焼成してそれぞれ蛍光体層31〜33とす
る。
After the partition 30 is formed, the red (R) phosphor, the green (G) phosphor, and the blue (R) phosphor are applied to the wall surface of the partition 30 and the surface of the dielectric glass film 29 exposed between the adjacent partitions 30. B) A fluorescent ink containing any of the phosphors is applied, and dried and fired to form phosphor layers 31 to 33, respectively.

【0047】ここで一般的な蛍光体材料の一例を以下に
列挙する。
Here, an example of a general phosphor material is listed below.

【0048】 赤色蛍光体;(YxGd1-x)BO3:Eu3+ 緑色蛍光体;Zn2SiO4:Mn 青色蛍光体;BaMgAl1017:Eu3+(或いはBa
MgAl1423:Eu 3+) 各蛍光体材料は、例えば平均粒径が約3μm程度の粉末
が使用できる。蛍光体インクの塗布法は幾つかの方法が
あるが、ここでは公知のメニスカス法と称される極細ノ
ズルからメニスカス(表面張力による架橋)を形成しな
がら蛍光体インクを吐出する方法を用いる。この方法は
蛍光体インクを目的の領域に均一に塗布するのに好都合
である。なお、本発明は当然ながらこの方法に限定する
ものではなく、スクリーン印刷法など他の方法も使用可
能である。
Red phosphor; (YxGd1-x) BOThree: Eu3+ Green phosphor; ZnTwoSiOFour: Mn blue phosphor; BaMgAlTenO17: Eu3+(Or Ba
MgAl14Otwenty three: Eu 3+Each phosphor material is, for example, a powder having an average particle size of about 3 μm.
Can be used. There are several methods for applying phosphor ink.
However, here, a very fine
Do not form meniscus (crosslinking due to surface tension) from
Then, a method of discharging phosphor ink is used. This method is
Convenient to apply phosphor ink evenly to target area
It is. Of course, the present invention is limited to this method.
Other methods such as screen printing can be used
Noh.

【0049】以上でバックパネル26が完成される。Thus, the back panel 26 is completed.

【0050】なおフロントパネルガラス21およびバッ
クパネルガラス27をソーダライムガラスからなるもの
としたが、これは材料の一例として挙げたものであっ
て、これ以外の材料でもよい。
Although the front panel glass 21 and the back panel glass 27 are made of soda lime glass, they are described as an example of a material, and other materials may be used.

【0051】(1−3.本実施の形態1とPDPのパネ
ル化)本発明の実施の形態1を図1を用いて説明する。
真空チャンバ35にはプラズマを発生させるためのRF
電極36、放電用のガスを導入するアルゴンガス導入系
37、酸素ガス導入系38、放電ガス用ノズル39、真
空排気系40を具備している。また、RF電極36には
RF電源41が、真空チャンバ35と真空排気系40の
配管途中にはガス分析装置42が接続されている。
(1-3. Embodiment 1 and Panelization of PDP) Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIG.
RF for generating plasma is provided in the vacuum chamber 35.
An electrode 36, an argon gas introduction system 37 for introducing a discharge gas, an oxygen gas introduction system 38, a discharge gas nozzle 39, and a vacuum exhaust system 40 are provided. An RF power supply 41 is connected to the RF electrode 36, and a gas analyzer 42 is connected in the middle of the piping between the vacuum chamber 35 and the vacuum exhaust system 40.

【0052】本装置により以下のように処理が行われ
る。蛍光体層が形成されたバックパネル26を基板ホル
ダとして兼用されるRF電極36上に設置する。真空チ
ャンバ35内を所定の真空度まで真空排気系40により
真空排気した後、真空チャンバ35内にアルゴンガス導
入系37と酸素ガス導入系38を用いて放電用ガスとし
てアルゴンガスに数%酸素を含有させたガスを放電ガス
用ノズル39より供給し、また同時に、真空排気系40
を調整することにより200〜600Torr(26.
6〜79.8kPa)前後の所定の圧力に設定する。こ
の状態でRF電極36に0.7W/cm2のRFパワー
をRF電源41より加え、バックパネル26上にプラズ
マを発生させ、蛍光体層表面をプラズマに曝す。
The following processing is performed by the present apparatus. The back panel 26 on which the phosphor layer is formed is placed on the RF electrode 36 which is also used as a substrate holder. After the inside of the vacuum chamber 35 is evacuated to a predetermined degree of vacuum by the evacuation system 40, several percent oxygen is supplied to the argon gas as a discharge gas using the argon gas introduction system 37 and the oxygen gas introduction system 38 in the vacuum chamber 35. The contained gas is supplied from a discharge gas nozzle 39, and at the same time, a vacuum exhaust system 40
Is adjusted to 200 to 600 Torr (26.
6 to 79.8 kPa). In this state, an RF power of 0.7 W / cm 2 is applied to the RF electrode 36 from the RF power supply 41 to generate plasma on the back panel 26 and expose the phosphor layer surface to the plasma.

【0053】プラズマに曝されることで蛍光体層に含有
する水分がスパッタされる、また、熱エネルギーが加わ
ることにより放出される。カーボン等は酸素と反応する
ことで、CO、CO2となり放出がより促進される。
The moisture contained in the phosphor layer is sputtered by being exposed to the plasma, and is released by applying thermal energy. Carbon and the like react with oxygen to become CO and CO 2 , and release is further promoted.

【0054】真空チャンバ35と真空排気系40に設け
られているガス分析装置42により、この不純物の放出
状況を検出することができる。これによりバックパネル
26形成工程において、形成条件、また形成後の保管状
態や保管時間が異なっていても、水分やカーボン等が除
去された清浄な状態に処理することができる。
The gas analyzer 42 provided in the vacuum chamber 35 and the vacuum evacuation system 40 can detect the state of release of the impurities. Thus, in the formation process of the back panel 26, even if the formation conditions and the storage state and storage time after the formation are different, the processing can be performed in a clean state from which moisture, carbon, and the like have been removed.

【0055】本処理を行った後、フロントパネル20と
バックパネル26を、封着用ガラスを用いて貼り合わせ
る。その後、放電空間34の内部を高真空(8×10-7
Torr(1064×10-7Pa))程度に排気し、こ
れに所定の圧力(500〜760Torr(66.5〜
101.08kPa))でNe−Xe系やHe−Ne−
Xe系、He−Ne−Xe−Ar系などの放電ガスを封
入する。以上で本実施の形態1に基づくパネル化は終了
する。
After performing this process, the front panel 20 and the back panel 26 are bonded together using sealing glass. After that, the inside of the discharge space 34 is made high vacuum (8 × 10 −7).
Torr (1064 × 10 −7 Pa)), and a predetermined pressure (500 to 760 Torr (66.5 to
101.08 kPa)) and Ne-Xe or He-Ne-
A discharge gas such as a Xe-based or He-Ne-Xe-Ar-based gas is sealed. Thus, the panelization based on the first embodiment is completed.

【0056】ガス封入後、放電特性や発光特性の安定化
を行うエージング工程を行った結果を示す。エージング
処理を行い、処理時間毎のパネルの電圧特性として全点
点灯電圧(PDPの全面が点灯する電圧)の変化を図2
に示す。同時に、従来の製造方法で作成した場合のデー
タも併記する。この結果よりも従来放電特性の安定化に
約30時間必要であったのが、約20時間で安定化して
おり、蛍光体層が形成された基板の蛍光体層面をプラズ
マに曝すことによる効果を奏していることがわかる。
The result of performing an aging step for stabilizing discharge characteristics and light emission characteristics after gas filling is shown. The aging process is performed, and the change in the all-point lighting voltage (the voltage at which the entire surface of the PDP is lit) is shown in FIG.
Shown in At the same time, data in the case of the conventional manufacturing method is also described. Compared to this result, the conventional method required about 30 hours for stabilization of the discharge characteristics, but stabilized in about 20 hours. The effect of exposing the phosphor layer surface of the substrate on which the phosphor layer was formed to plasma was reduced. You can see that it is playing.

【0057】なお、本実施の形態のプラズマに曝してか
ら、フロントパネル20とバックパネル26を張り合わ
せるのは短時間で行うのが好ましい。さらにいえば大気
解放せずに行うのが好ましく、さらにいえばドライエア
ー中でおこなうもしくは窒素等の不活性雰囲気中で取り
扱うことが望ましい。図2に実施の形態1を用いてドラ
イエア中で保管した後、相対する基板と張り合わせパネ
ル化したもののエージング工程の放電電圧特性を記して
いるが、約16時間で安定化していることがわかり。こ
れによりさらに短いエージング時間でパネルを作成する
ことが可能となる。これは大気解放した状態に処理した
基板を放置しておくと、時間と共に水分等の吸着が起こ
るためと推定される。
It is preferable that the bonding of the front panel 20 and the back panel 26 after exposure to the plasma of this embodiment is performed in a short time. Furthermore, it is preferable to carry out the treatment without opening to the atmosphere, and it is more desirable to carry out the treatment in dry air or in an inert atmosphere such as nitrogen. FIG. 2 shows the discharge voltage characteristics of the aging process of the substrate laminated with the opposing substrate after storage in dry air using the first embodiment. It can be seen that the discharge voltage characteristic was stabilized in about 16 hours. This makes it possible to produce a panel with a shorter aging time. This is presumed to be because if the treated substrate is left in the state of being released to the atmosphere, adsorption of moisture or the like occurs with time.

【0058】なお、本実施の形態においてはRF電極3
6を用いてプラズマを発生させたが、図3に示すように
RF電源43、RFコイル44、絶縁管45を用いてI
CP方式によりプラズマを発生させてもよく本実施の形
態に限定されるものではない。
In this embodiment, the RF electrode 3
The plasma was generated by using the RF power source 43, the RF coil 44, and the insulating tube 45 as shown in FIG.
Plasma may be generated by the CP method, and the present invention is not limited to this embodiment.

【0059】また、このとき、プラズマに対してバック
パネル26を搬送させながら処理をしてもよく本実施の
形態に限定されるものではない。
At this time, the processing may be performed while transporting the back panel 26 to the plasma, and the present invention is not limited to this embodiment.

【0060】(2.実施の形態2)次に、本発明の実施
の形態2について図4を用いて説明する。実施の形態1
ではプラズマを発生させるためのRF電極を用いたプラ
ズマ、ICP方式を用いたプラズマで処理したが、図3
に示すように、製品として製造する際に、バックパネル
26と張り合わせるフロントパネル20と同じ構成で、
電極、誘電体層、保護層が形成されたプラズマ発生用基
板46を用いている。この基板はフロントパネル20と
同じ工程、同じ材料で作製したものでよい。
(2. Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Embodiment 1
In FIG. 3, plasma was processed using a plasma using an RF electrode for generating plasma and a plasma using an ICP method.
As shown in the figure, when manufactured as a product, it has the same configuration as the front panel 20 attached to the back panel 26,
A plasma generating substrate 46 on which electrodes, dielectric layers, and protective layers are formed is used. This substrate may be made of the same process and the same material as the front panel 20.

【0061】蛍光体層が形成されたバックパネル26を
真空チャンバ35に投入し、プラズマ発生用基板45と
対向させ設置する。真空チャンバ35内を所定の真空度
まで真空排気系40により真空排気した後、真空チャン
バ35内にアルゴンガス導入系37と酸素ガス導入系3
8を用いて放電用ガスとしてアルゴンガスに数%酸素を
含有させたガスを放電ガス用ノズル39より連続的に供
給し、また同時に、真空排気系40を調整することによ
り200〜600Torr(26.6〜79.8kP
a)前後の所定の圧力に設定する。この状態でプラズマ
発生用基板46と接続されたプラズマ発生用電源47よ
り10KHz、360Vの電圧を印加することでプラズ
マ発生用基板46とバックパネル26間にプラズマを発
生させる。
The back panel 26 on which the phosphor layer is formed is put into a vacuum chamber 35, and is placed facing the plasma generating substrate 45. After the inside of the vacuum chamber 35 is evacuated to a predetermined degree of vacuum by the evacuation system 40, the argon gas introduction system 37 and the oxygen gas introduction system 3 enter the vacuum chamber 35.
8, a gas containing several percent oxygen in an argon gas as a discharge gas is continuously supplied from a discharge gas nozzle 39, and at the same time, the vacuum exhaust system 40 is adjusted to 200 to 600 Torr (26. 6-79.8 kP
a) Set to a predetermined pressure before and after. In this state, a voltage of 10 KHz and 360 V is applied from a plasma generation power supply 47 connected to the plasma generation substrate 46 to generate plasma between the plasma generation substrate 46 and the back panel 26.

【0062】プラズマに曝されることにより蛍光体層に
含有する水分がスパッタされる、また、熱エネルギーが
加わることにより放出される。カーボン等は酸素と反応
することで、CO、CO2となり放出がより促進され
る。
The moisture contained in the phosphor layer is sputtered by being exposed to the plasma, and is released by applying thermal energy. Carbon and the like react with oxygen to become CO and CO 2 , and release is further promoted.

【0063】この処理を行った後、相対するフロントパ
ネル20と張り合わせ、パネル化することで、その後工
程で放電特性、発光特性の安定化のために行うエージン
グ工程における処理時間を短縮することができる。
After performing this processing, by bonding the front panel 20 to the opposing front panel 20 to form a panel, it is possible to reduce the processing time in the aging step performed for stabilizing the discharge characteristics and the light emission characteristics in the subsequent steps. .

【0064】なお、本実施の形態においてフロントパネ
ル20と同じ構成のプラズマ発生用基板46を用いた
が、さらに好ましくは、このプラズマ発生用基板46を
実際にバックパネル26と張り合わせるフロントパネル
20を用いてもよい。これにより、フロントパネル20
からも同時に水分やカーボン等が除去され、パネル化し
た際、さらにエージング工程を短縮することができる。
Although the plasma generating substrate 46 having the same configuration as the front panel 20 is used in the present embodiment, it is more preferable that the front panel 20 for actually bonding the plasma generating substrate 46 to the back panel 26 be used. May be used. Thereby, the front panel 20
Therefore, the aging process can be further shortened when a panel is formed by removing moisture, carbon and the like at the same time.

【0065】なお、本実施の形態1で述べたと同様にプ
ラズマに曝してから、フロントパネル20とバックパネ
ル26を張り合わせるのは短時間で行うのが好ましい。
さらにいえば大気解放せずに行うのが好ましく、さらに
いえばドライエアー中でおこなうもしくは窒素等の不活
性雰囲気中で取り扱うことが望ましい。
Note that it is preferable to bond the front panel 20 and the back panel 26 in a short time after exposure to plasma in the same manner as described in the first embodiment.
Furthermore, it is preferable to carry out the treatment without opening to the atmosphere, and it is more desirable to carry out the treatment in dry air or in an inert atmosphere such as nitrogen.

【0066】(3.実施の形態3)次に、本発明の実施
の形態3について図5を用いて説明する。図5は本発明
の処理工程の概略断面図である。
(3. Third Embodiment) Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic sectional view of the processing step of the present invention.

【0067】真空チャンバ35には、ガスを導入するア
ルゴンガス導入系37、酸素ガス導入系38、ガス用ノ
ズル48、真空排気系40を具備している。また、真空
チャンバ35と真空排気系40の配管途中にはガス分析
装置42が接続されている。また、主に190〜210
nmの紫外線を照射するための紫外線照射ランプ49が
設置されている。
The vacuum chamber 35 is provided with an argon gas introduction system 37 for introducing a gas, an oxygen gas introduction system 38, a gas nozzle 48, and a vacuum exhaust system 40. A gas analyzer 42 is connected in the middle of the piping between the vacuum chamber 35 and the vacuum exhaust system 40. Also, mainly from 190 to 210
An ultraviolet irradiation lamp 49 for irradiating ultraviolet light of nm is provided.

【0068】本装置により以下のように処理が行われ
る。作製されたバックパネル26を真空チャンバ35内
に設置する。真空チャンバ35内を所定の真空度まで真
空排気系40により真空排気した後、真空チャンバ35
内にアルゴンガス導入系37と酸素ガス導入系38を用
いて放電用ガスとしてアルゴンガスに数%酸素を含有さ
せたガスをガス用ノズル48より連続的に供給し、また
同時に、真空排気系40を調整することにより600〜
700Torr(79.8〜93.1kPa)前後の所
定の圧力に設定する。紫外線照射ランプ49を点灯し、
蛍光体層が形成されているバックパネル26に紫外線を
照射する。また、このときバックパネル26を100℃
以上に加熱しておくことが、反応を促進するため好まし
い。
The following processing is performed by the present apparatus. The manufactured back panel 26 is set in the vacuum chamber 35. After the inside of the vacuum chamber 35 is evacuated to a predetermined degree of vacuum by the evacuation system 40, the vacuum chamber 35
A gas containing several percent oxygen in argon gas as a discharge gas is continuously supplied from a gas nozzle 48 using an argon gas introduction system 37 and an oxygen gas introduction system 38 therein, and at the same time, a vacuum exhaust system 40 is provided. By adjusting
The pressure is set to a predetermined pressure around 700 Torr (79.8 to 93.1 kPa). Turn on the ultraviolet irradiation lamp 49,
The back panel 26 on which the phosphor layer is formed is irradiated with ultraviolet rays. At this time, the back panel 26 is set at 100 ° C.
Heating as described above is preferable for promoting the reaction.

【0069】本処理による蛍光体層における詳細なプロ
セスは不明だが、紫外線照射により酸素分子がオゾンと
なり蛍光体層中のカーボン等の吸着含有物をCO、CO
2として除去していると考えられる。
Although the detailed process of the phosphor layer by this treatment is unknown, oxygen molecules are converted into ozone by irradiation of ultraviolet rays, and the adsorbed substances such as carbon in the phosphor layer are removed by CO, CO
It is thought that it was removed as 2 .

【0070】実施の形態1と同様に真空チャンバ35と
真空排気系40に設けられているガス分析装置42によ
り、この不純物の放出状況を検出することができる。こ
れによりバックパネル26形成工程において、形成条
件、また形成後の保管状態や保管時間が異なっていて
も、清浄な状態に処理することができる。
As in the first embodiment, the release state of the impurities can be detected by the gas analyzer 42 provided in the vacuum chamber 35 and the vacuum exhaust system 40. Thus, in the formation process of the back panel 26, even if the formation conditions, the storage state after the formation, and the storage time are different, the processing can be performed in a clean state.

【0071】本処理を行った後、フロントパネル20と
バックパネル26を、封着用ガラスを用いて貼り合わせ
る。その後、放電空間34の内部を高真空(8×10-7
Torr(1064×10-7Pa))程度に排気し、こ
れに所定の圧力(500〜760Torr(66.5〜
101.08kPa))でNe−Xe系やHe−Ne−
Xe系、He−Ne−Xe−Ar系などの放電ガスを封
入する。以上で本実施の形態3に基づくパネル化は終了
する。
After performing this process, the front panel 20 and the back panel 26 are bonded together using sealing glass. After that, the inside of the discharge space 34 is made high vacuum (8 × 10 −7).
Torr (1064 × 10 −7 Pa)), and a predetermined pressure (500 to 760 Torr (66.5 to
101.08 kPa)) and Ne-Xe or He-Ne-
A discharge gas such as a Xe-based or He-Ne-Xe-Ar-based gas is sealed. With the above, panelization based on the third embodiment is completed.

【0072】本処理を行うことにより放電特性や発光特
性の安定化を行うためのエージング工程における安定化
に必要な時間が従来約30時間必要であったのが、約2
0時間で安定化するようになった。
By performing this treatment, the time required for stabilization in the aging step for stabilizing the discharge characteristics and the light emission characteristics has been reduced from about 30 hours in the past to about 2 hours.
Stabilized at 0 hours.

【0073】また、実施の形態1と同様に、紫外線を照
射してから、フロントパネル20とバックパネル26を
張り合わせるのは短時間で行うのが好ましい。さらにい
えば大気解放せずに行うのが好ましく、さらにいえばド
ライエアー中でおこなうもしくは窒素等の不活性雰囲気
中で取り扱うことが望ましい。これによりさらに短いエ
ージング時間でパネルを作成することが可能となる。こ
れは大気解放した状態に処理した基板を放置しておく
と、時間と共に水分等の吸着が起こるためと推定され
る。
As in the first embodiment, it is preferable that the front panel 20 and the back panel 26 be bonded together in a short time after irradiation with ultraviolet rays. Furthermore, it is preferable to carry out the treatment without opening to the atmosphere, and it is more desirable to carry out the treatment in dry air or in an inert atmosphere such as nitrogen. This makes it possible to produce a panel with a shorter aging time. This is presumed to be because if the treated substrate is left in the state of being released to the atmosphere, adsorption of moisture or the like occurs with time.

【0074】また、本実施の形態においては190〜2
10nmの波長を主に照射する紫外線ランプを用いた。
190〜210nmの波長を主に照射する紫外線ランプ
が好ましいが、320〜390nmの波長を主に照射す
る紫外線ランプでもよく本実施の形態に限定されるもの
ではない。
Further, in this embodiment, 190 to 2
An ultraviolet lamp mainly irradiating a wavelength of 10 nm was used.
An ultraviolet lamp that mainly irradiates a wavelength of 190 to 210 nm is preferable, but an ultraviolet lamp that mainly irradiates a wavelength of 320 to 390 nm is not limited to the present embodiment.

【0075】また、図6に示すように、紫外線を照射す
る上記実施の形態3と前記プラズマに曝す実施の形態1
もしくは実施の形態2を組み合わせて用いてもよい。
As shown in FIG. 6, the third embodiment in which ultraviolet light is irradiated and the first embodiment in which the substrate is exposed to the plasma are used.
Alternatively, the second embodiment may be used in combination.

【0076】[0076]

【発明の効果】以上のことから明らかなように、本発明
は、従来に比べ短時間でエージング工程を終了させるこ
とができる。
As is apparent from the above, the aging process of the present invention can be completed in a shorter time than in the prior art.

【0077】以上の画像表示装置の製造方法を適用すれ
ば、生産性に優れた画像表示装置を得ることができる。
By applying the above method of manufacturing an image display device, an image display device having excellent productivity can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施の形態1に係る処理工程の概略を示す図FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a processing step according to a first embodiment;

【図2】実施の形態1に係わる処理工程を行った場合と
従来の場合のエージング処理時間と全点点灯電圧の関係
を示す図
FIG. 2 is a diagram showing a relationship between aging processing time and all-point lighting voltage in a case where a processing step according to the first embodiment is performed and in a conventional case.

【図3】実施の形態1に係る処理工程の概略を示す図FIG. 3 is a diagram schematically illustrating a processing step according to the first embodiment;

【図4】実施の形態2に係る処理工程の概略を示す図FIG. 4 is a view schematically showing a processing step according to a second embodiment.

【図5】実施の形態3に係る処理工程の概略を示す図FIG. 5 is a view schematically showing a processing step according to a third embodiment;

【図6】実施の形態3に係る処理工程の概略を示す図FIG. 6 is a view schematically showing a processing step according to a third embodiment;

【図7】PDPの主要構成を示す部分的な断面斜視図FIG. 7 is a partial cross-sectional perspective view showing a main configuration of a PDP.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 交流面放電型プラズマディスプレイパネル 20 フロントパネル 21 フロントパネルガラス 22,23 表示電極 24 誘電体ガラス層 25 保護層 26 バックパネル 27 バックパネルガラス 28 アドレス電極 29 誘電体ガラス膜 30 隔壁 31 蛍光体層(R) 32 蛍光体層(G) 33 蛍光体層(B) 34 放電空間 35 真空チャンバ 36 RF電源 37 アルゴンガス導入系 38 酸素ガス導入系 39 放電ガス用ノズル 40 真空排気系 41 RF電源 42 ガス分析装置 43 RF電源 44 RFコイル 45 絶縁管 46 プラズマ発生用基板 47 プラズマ発生用電源系 48 ガス用ノズル 49 紫外線照射ランプ Reference Signs List 10 AC surface discharge type plasma display panel 20 Front panel 21 Front panel glass 22, 23 Display electrode 24 Dielectric glass layer 25 Protective layer 26 Back panel 27 Back panel glass 28 Address electrode 29 Dielectric glass film 30 Partition wall 31 Phosphor layer ( R) 32 phosphor layer (G) 33 phosphor layer (B) 34 discharge space 35 vacuum chamber 36 RF power supply 37 argon gas introduction system 38 oxygen gas introduction system 39 discharge gas nozzle 40 evacuation system 41 RF power supply 42 gas analysis Device 43 RF power supply 44 RF coil 45 Insulation tube 46 Plasma generation substrate 47 Plasma generation power supply system 48 Gas nozzle 49 Ultraviolet irradiation lamp

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 11/02 H01J 11/02 B (72)発明者 長谷川 和之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C012 AA09 BE01 5C040 FA01 GG09 MA22 MA26 MA30 5C094 AA43 AA44 BA31 BA32 CA19 DA13 EB02 GB01 GB10 JA01 JA08 5G435 BB06 EE09 KK02 KK05 KK10──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01J 11/02 H01J 11/02 B (72) Inventor Kazuyuki Hasegawa 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma, Osaka Matsushita Electric F-term in Sangyo Co., Ltd. (reference) 5C012 AA09 BE01 5C040 FA01 GG09 MA22 MA26 MA30 5C094 AA43 AA44 BA31 BA32 CA19 DA13 EB02 GB01 GB10 JA01 JA08 5G435 BB06 EE09 KK02 KK05 KK10

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 蛍光体層が形成された基板を用いて作製
される画像表示装置において、前記蛍光体層が形成され
た基板の蛍光体形成面をプラズマに曝した後、相対する
基板と張り合わせ画像表示装置を製造することを特徴と
する画像表示装置の製造方法。
In an image display device manufactured using a substrate on which a phosphor layer is formed, a phosphor-formed surface of the substrate on which the phosphor layer is formed is exposed to plasma and then bonded to an opposing substrate. A method for manufacturing an image display device, comprising manufacturing the image display device.
【請求項2】 プラズマを発生させるための電極等が形
成された基板と基板上に蛍光体層が形成された基板を対
向させ、前記プラズマを発生させるための電極等が形成
された基板によりプラズマを発生させ、前記蛍光体層が
形成された基板の蛍光体形成面をプラズマに曝した後、
相対する基板と張り合わせ画像表示装置を製造すること
を特徴とする請求項1記載の画像表示装置の製造方法。
2. A substrate on which an electrode or the like for generating plasma is formed is opposed to a substrate on which a phosphor layer is formed on a substrate, and the substrate on which an electrode or the like for generating plasma is formed by a plasma. After exposing the phosphor-formed surface of the substrate on which the phosphor layer is formed to plasma,
2. The method for manufacturing an image display device according to claim 1, wherein the image display device is manufactured by laminating an opposing substrate.
【請求項3】 前記プラズマを発生させるための電極等
が形成された基板を相対する基板として張り合わせ画像
表示装置を製造することを特徴とする請求項1または2
記載の画像表示装置の製造方法。
3. The laminated image display device according to claim 1, wherein a substrate on which the electrodes and the like for generating plasma are formed is used as an opposite substrate.
A manufacturing method of the image display device described in the above.
【請求項4】 前記蛍光体層が形成された基板の蛍光体
層をプラズマに曝す際、プラズマ発生用のガスを供給、
排気しながら行うことを特徴とする請求項1〜3のいず
れかに記載の画像表示装置の製造方法。
4. When exposing the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed to plasma, supplying a gas for plasma generation;
The method for manufacturing an image display device according to claim 1, wherein the method is performed while exhausting air.
【請求項5】 酸素を含むプラズマ発生用ガス雰囲気中
でプラズマに曝すことを特徴とする請求項1から4のい
ずれかに記載の画像表示装置の製造方法。
5. The method for manufacturing an image display device according to claim 1, wherein the substrate is exposed to plasma in a gas atmosphere for generating plasma containing oxygen.
【請求項6】 蛍光体層が形成された基板の蛍光体層を
プラズマに曝す際、雰囲気ガスもしくは排気されたガス
の成分を測定するガス分析装置を具備することを特徴と
する請求項1から5のいずれかに記載の画像表示装置の
製造方法。
6. The apparatus according to claim 1, further comprising a gas analyzer for measuring a component of an atmospheric gas or an exhausted gas when exposing the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed to plasma. 5. The method for manufacturing an image display device according to any one of 5.
【請求項7】 前記蛍光体層が形成された基板の蛍光体
層をプラズマに曝す際、雰囲気ガスもしくは排気された
ガスの成分を測定するガス分析装置によりH2Oもしく
はOHもしくはカーボンを含む成分のスペクトルを評価
し、プラズマに曝す処理時間を決定することを特徴とす
る請求項6記載の画像表示装置の製造方法。
7. When the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed is exposed to plasma, a component containing H 2 O, OH, or carbon is measured by a gas analyzer that measures a component of an atmospheric gas or an exhausted gas. 7. The method for manufacturing an image display device according to claim 6, wherein a spectrum of the image is evaluated and a processing time for exposing to plasma is determined.
【請求項8】 前記蛍光体層が形成された基板の蛍光体
形成面をプラズマに曝した後、相対する基板として張り
合わせるまで、前記蛍光体層が形成された基板の少なく
とも蛍光体形成面を大気に曝さないことを特徴とする請
求項1〜5のいずれかに記載の画像表示装置の製造方
法。
8. After exposing the phosphor-forming surface of the substrate on which the phosphor layer is formed to plasma, at least the phosphor-forming surface of the substrate on which the phosphor layer is formed until the substrate is bonded as an opposing substrate. The method for manufacturing an image display device according to claim 1, wherein the image display device is not exposed to the atmosphere.
【請求項9】 前記蛍光体層が形成された基板の蛍光体
形成面をプラズマに曝した後、相対する基板として張り
合わせるまで、前記蛍光体層が形成された基板の少なく
とも蛍光体形成面をドライエア雰囲気、もしくは不活性
ガス雰囲気で保管することを特徴とする請求項1〜5記
載の画像表示装置の製造方法。
9. After exposing the phosphor-forming surface of the substrate on which the phosphor layer is formed to plasma, at least the phosphor-forming surface of the substrate on which the phosphor layer is formed until the substrate is bonded as an opposing substrate. The method according to claim 1, wherein the image display device is stored in a dry air atmosphere or an inert gas atmosphere.
【請求項10】 蛍光体層が形成された基板を用いて作
製される画像表示装置において、前記蛍光体層が形成さ
れた基板の蛍光体形成面に紫外線照射を行った後、相対
する基板と張り合わせ画像表示装置を形成することを特
徴とする画像表示装置の製造方法。
10. An image display device manufactured using a substrate on which a phosphor layer is formed, wherein the phosphor-formed surface of the substrate on which the phosphor layer is formed is irradiated with ultraviolet light, and then the opposite substrate and A method for manufacturing an image display device, comprising forming a laminated image display device.
【請求項11】 減圧雰囲気中で蛍光体層が形成された
基板の蛍光体形成面に紫外線照射を行うことを特徴とす
る請求項10記載の画像表示装置の製造方法。
11. The method according to claim 10, wherein the phosphor-formed surface of the substrate on which the phosphor layer is formed is irradiated with ultraviolet rays in a reduced-pressure atmosphere.
【請求項12】 前記蛍光体層が形成された基板の蛍光
体層に紫外線照射を行う際、雰囲気ガスの供給、排気を
しながら行うことを特徴とする請求項10または11に
記載の画像表示装置の製造方法。
12. The image display according to claim 10, wherein when irradiating the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed, ultraviolet irradiation is performed while supplying and exhausting an atmospheric gas. Device manufacturing method.
【請求項13】 酸素を含む雰囲気中で蛍光体層が形成
された基板の蛍光体形成面に紫外線照射を行うことを特
徴とする請求項10または11に記載の画像表示装置の
製造方法。
13. The method according to claim 10, wherein the phosphor-formed surface of the substrate on which the phosphor layer is formed is irradiated with ultraviolet rays in an atmosphere containing oxygen.
【請求項14】 前記蛍光体層が形成された基板の蛍光
体層に紫外線照射を行う際、雰囲気ガスもしくは排気さ
れたガスの成分を測定するガス分析装置を具備すること
を特徴とする請求項10〜12のいずれかに記載の画像
表示装置の製造方法。
14. A gas analyzer for measuring a component of an atmospheric gas or an exhausted gas when irradiating the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed with ultraviolet rays. 13. The method for manufacturing an image display device according to any one of 10 to 12.
【請求項15】 前記蛍光体層が形成された基板の蛍光
体層に紫外線照射を行う際、雰囲気ガスもしくは排気さ
れたガスの成分を測定するガス分析装置によりH2Oも
しくはOHもしくはカーボンを含む成分のスペクトルを
評価し、プラズマに曝す処理時間を決定することを特徴
とする請求項14記載の画像表示装置の製造方法。
15. When irradiating the phosphor layer of the substrate on which the phosphor layer is formed with ultraviolet rays, the phosphor layer contains H 2 O, OH, or carbon by a gas analyzer that measures a component of an atmospheric gas or an exhausted gas. The method for manufacturing an image display device according to claim 14, wherein a spectrum of the component is evaluated, and a processing time for exposing to plasma is determined.
【請求項16】 請求項1〜15のいずれかに記載の画
像表示装置の製造方法又は製造装置を用いて製造したこ
とを特徴とする画像表示装置。
16. An image display device manufactured by using the method or the apparatus for manufacturing an image display device according to claim 1. Description:
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