JP2002114781A - 置換縮合イミダゾール誘導体を含有する糖尿病の予防剤、治療剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】新規な構造の置換縮合複素環化合物を含有す
る、糖尿病の予防剤、治療剤を見出すこと。 【解決手段】式（Ｉ） 【化１】 ［上記式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は水素原
子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基等、Ｑ、Ｙは、酸素原子又は硫
黄原子、ＸはＣＨ₂、ＣＯ等、Ｚは、−ＣＨ＝又は窒素
原子、ｎ、ｑは1〜５、Ａは、下記式(II-a)、(II-b)、
(II-c)又は(II-d)で表される基。 【化２】 （式中、ｍは０〜８、Ｂは酸素原子、硫黄原子等、Ｒ⁷
は、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基等）］の化合物、そ
の塩又はそのエステルを含有する、糖尿病の予防剤、治
療剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、優れたインスリン
抵抗性改善作用、血糖低下作用、抗炎症作用、免疫調節
作用、アルドース還元酵素阻害作用、５−リポキシゲナ
ーゼ阻害作用、過酸化脂質生成抑制作用、ＰＰＡＲ活性
化作用、抗骨粗鬆症作用、ロイコトリエン拮抗作用、脂
肪細胞化促進作用、ガン細胞増殖抑制作用、カルシウム
拮抗作用を有する置換縮合イミダゾール誘導体、その薬
理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類
に関する。

【０００２】更に、本発明は、当該置換縮合イミダゾー
ル誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理上許容
されるエステル類を有効成分として含有する、上記作用
により改善される疾病、例えば、糖尿病、高脂血症、肥
満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪肝、糖尿病合併症
（例えば、網膜症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾患
等である。）、動脈硬化症、妊娠糖尿病、多嚢胞卵巣症
候群、心血管性疾患（例えば、虚血性心疾患等であ
る。）、アテローム性動脈硬化症又は虚血性心疾患によ
り惹起される細胞損傷（例えば、脳卒中により惹起され
る脳損傷等である。）、痛風、炎症性疾患（例えば、骨
関節炎、疼痛、発熱、リウマチ性関節炎、炎症性腸炎、
アクネ、日焼け、乾癬、湿疹、アレルギー性疾患、喘
息、ＧＩ潰瘍、悪液質、自己免疫疾患、膵炎等であ
る。）、ガン、骨粗鬆症、白内障等の予防剤及び／又は
治療剤に関する。

【０００３】更に、本発明は、上記置換縮合イミダゾー
ル誘導体、その薬理上許容される塩若しくはその薬理上
許容されるエステル類と、スルホニルウレア剤、α−グ
ルコシダーゼ阻害剤、アルドース還元酵素阻害剤、ビグ
アナイド剤、スタチン系化合物、スクアレン合成阻害
剤、フィブラート系化合物、ＬＤＬ異化促進剤、アンジ
オテンシンＩＩ拮抗剤、アンジオテンシン変換酵素阻害
剤及び抗腫瘍剤の少なくとも1種を組み合わせてなる医
薬組成物（特に好適には、糖尿病又は糖尿病合併症の予
防剤及び／又は治療剤である。）に関する。

【０００４】

【従来の技術】現在、チアゾリジン系化合物、オキサゾ
リジン系化合物等は、糖尿病、高脂血症のような様々な
疾病の予防剤又は治療剤として有用であることが報告さ
れている。

【０００５】例えば、数多くの血糖低下作用を有するチ
アゾリジン系化合物が、Chem. Pharm. Bull., 30, 3580
-3600(1982)、Prog.Clin. Biol. Res., 265, 177-192(1
988)、Diabetes, 37(11), 1549-1558(1988)、Arzneim.-
Forsch., 40(1), 37-42(1990)、EP0441605A号に開示さ
れている。

【０００６】高脂血症に対するチアゾリジン系化合物の
作用が、Diabetes, 40(12), 1669-1674(1991)、Am.J.Ph
ysiol., 267(1 Pt 1), E95-E101(1994)、Diabetes, 43
(10),1203-1210(1994)に報告されている。

【０００７】耐糖能不全、インスリン抵抗性に対するチ
アゾリジン系化合物の作用が、Arzneim.-Forsch., 40(2
Pt 1), 156-162 (1990)、Metabolism, 40(10), 1025-1
230(1991)、Diabetes, 43(2), 204-211(1994)で報告さ
れている。

【０００８】また、近年、耐糖能不全を伴わずに、イン
スリン抵抗性を有する正常人が糖尿病を発症すること及
びインスリン抵抗性を改善する医薬は上記のような正常
人の糖尿病発症の予防剤としても有用であることがN.En
gl.J.Med., 331(18), 1226-1227(1994)で報告されてい
る。

【０００９】高血圧症に対するチアゾリジン系化合物の
作用が、Metabolism, 42(1), 75-80(1993)、Am.J.Physi
ol., 265(4 Pt 2), R726-R732(1993)、Diabetes, 43
(2), 204-211 (1994)で報告されている。

【００１０】冠動脈疾患に対するチアゾリジン系化合物
の作用が、Am.J.Physiol., 265(4 Pt 2), R726-R732 (1
993)、Hypertension, 24(2), 170-175(1994)で報告され
ている。

【００１１】動脈硬化症に対するチアゾリジン系化合物
の作用が、Am.J.Physiol., 265(4 Pt 2), R726-R732(19
93)で報告されている。

【００１２】悪液質に対するチアゾリジン系化合物の作
用が、Endocrinology, 135(5), 2279-2282(1994)、Endr
ocrinology, 136(4), 1474-1481(1995)に報告されてい
る。

【００１３】更に、血糖低下作用を有するチアゾリジン
系化合物の中でも、複素環基を有する化合物が、WO92/0
7839A号、WO92/07850A号、EP0745600A号及びEP0676398A
号に、血糖低下作用を有するオキサゾリジン−２，４−
ジオン化合物が、WO92/02520A号に開示されている。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、長年に
亘り、一連の置換縮合複素環化合物の合成とそれらの薬
理活性について検討してきた結果、新規な構造を有する
置換縮合複素環化合物が、優れた、インスリン抵抗性改
善作用、血糖低下作用、抗炎症作用、免疫調節作用、ア
ルドース還元酵素阻害作用、５−リポキシゲナーゼ阻害
作用、過酸化脂質生成抑制作用、ＰＰＡＲ活性化作用、
抗骨粗鬆症作用、ロイコトリエン拮抗作用、脂肪細胞化
促進作用、ガン細胞増殖抑制作用、カルシウム拮抗作用
を有しており、副作用も少なく、更に、脂溶性が高いと
いう特徴を有していることを見出し、本発明を完成する
に至った。

【００１５】本発明の他の目的は、上記置換縮合複素環
化合物又はその薬理上許容される塩を有効成分として含
有する、上記作用により改善される疾病、例えば、糖尿
病、高脂血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪
肝、糖尿病合併症（例えば、網膜症、腎症、神経症、白
内障、冠動脈疾患等である。）、動脈硬化症、妊娠糖尿
病、多嚢胞卵巣症候群、心血管性疾患（例えば、虚血性
心疾患等である。）、アテローム性動脈硬化症又は虚血
性心疾患により惹起される細胞損傷（例えば、脳卒中に
より惹起される脳損傷等である。）、痛風、炎症性疾患
（例えば、骨関節炎、疼痛、発熱、リウマチ性関節炎、
炎症性腸炎、アクネ、日焼け、乾癬、湿疹、アレルギー
性疾患、喘息、ＧＩ潰瘍、悪液質、自己免疫疾患、膵炎
等である。）、ガン、骨粗鬆症、白内障等の予防剤及び
／又は治療剤を提供することである。

【００１６】更に、本発明の他の目的は、上記置換縮合
複素環化合物若しくはその薬理上許容される塩と、スル
ホニルウレア剤、α−グルコシダーゼ阻害剤、アルドー
ス還元酵素阻害剤、ビグアナイド剤、スタチン系化合
物、スクアレン合成阻害剤、フィブラート系化合物、Ｌ
ＤＬ異化促進剤、アンジオテンシンＩＩ拮抗剤、アンジ
オテンシン変換酵素阻害剤及び抗腫瘍剤の少なくとも1
種を組み合わせてなる医薬組成物（特に好適には、糖尿
病又は糖尿病合併症の予防剤及び／又は治療剤であ
る。）を提供することである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明は、 （１）下記一般式（Ｉ）

【００１８】

【化５】 ［上記式中、Ｒ¹は水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、置
換基群αから選択される基で１乃至３個置換されていて
もよいＣ₆−Ｃ₁₀アリール基、置換基群αから選択され
る基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₆アラ
ルキル基、水酸基、アシルオキシ基（該アシルオキシ基
のアシル基は、Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシル基、置換基群αか
ら選択される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₇
−Ｃ₁₁芳香族アシル基、置換基群αから選択される基で
１乃至３個置換されていてもよいＣ₈−Ｃ₁₂芳香脂肪族
アシル基、Ｃ₄−Ｃ₁₁シクロアルキルカルボニル基、又
は置換基群αから選択される基で１乃至５個置換されて
いてもよい酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群
から選択されるヘテロ原子を１乃至３個有する５乃至７
員複素芳香環カルボニル基を示す。）、Ｃ₁−Ｃ₆アルコ
キシ基、又は置換基群βから選択される基で１乃至２個
置換されていてもよいアミノ基（該アミノ基は、窒素原
子と一緒になって酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から
なる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個有する飽
和複素環基を形成していてもよい。）を示し、Ｒ²は水
素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、又は置換基群αから選択
される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₆
アラルキル基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は同一又は異な
って水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、又はＣ₁−Ｃ₆アル
コキシ基を示し、Ｒ⁶は水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル
基、置換基群αから選択される基で１乃至３個置換され
ていてもよいＣ₆−Ｃ₁₀アリール基、又は置換基群αか
ら選択される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₇
−Ｃ₁₆アラルキル基を示し、Ｑは、酸素原子又は硫黄原
子を示し、Ｘは結合手、ＣＨ₂、ＣＯ、ＣＨＯＲ⁹又はＣ
＝ＮＯＲ¹⁰（式中、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は、同一又は異なっ
て、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基（該アルキル基は、
同一又は異なった１乃至３個のＣ₁−Ｃ₆アルコキシカル
ボニル基で置換されていてもよい）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリー
ル基（該アリール基は、置換基群αから選択される同一
又は異なった１乃至３個の置換基で置換されていてもよ
い）、Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル基（該アラルキル基は、置
換基群αから選択される同一又は異なった１乃至３個の
置換基で置換されていてもよい）、又はアシル基（該ア
シル基は、Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシル基、置換基群αから選
択される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ
₁₁芳香族アシル基、置換基群αから選択される基で１乃
至３個置換されていてもよいＣ₈−Ｃ₁₂芳香脂肪族アシ
ル基、Ｃ₄−Ｃ₁₁シクロアルキルカルボニル基、置換基
群αから選択される基で１乃至５個置換されていてもよ
い酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択
されるヘテロ原子を１乃至３個有する５乃至７員複素芳
香環カルボニル基、又は置換基群βから選択される基で
１乃至２個置換されてもよいカルバモイル基を示す。）
を示し、Ａは、下記一般式(II-a)、(II-b)、(II-c)又は
(II-d)で表される基を示し、

【００１９】

【化６】 （上記式中、ｍは同一又は異なって０乃至８の整数を示
し、Ｂは酸素原子、硫黄原子又はＮ−Ｒ⁸で表される基
を示し、Ｒ⁷は、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、Ｃ₆−
Ｃ₁₀アリール基（該アリール基は、置換基群αから選択
される同一又は異なった１乃至３個の置換基で置換され
ていてもよい）、Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル基（該アラルキ
ル基は、置換基群αから選択される同一又は異なった１
乃至３個の置換基で置換されていてもよい）、又はハロ
ゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基を示し、Ｒ⁸は水素原子、Ｃ₁−
Ｃ₆アルキル基、置換基群αから選択される基で１乃至
３個置換されていてもよいＣ₆−Ｃ₁₀アリール基、Ｃ₃−
Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基群αから選択される基で
１乃至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₆アラルキル
基、アシル基（該アシル基は、Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシル
基、置換基群αから選択される基で１乃至３個置換され
ていてもよいＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、置換基群αか
ら選択される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₈
−Ｃ₁₂芳香脂肪族アシル基を示す。）、置換基群βから
選択される基で１乃至２個置換されていてもよいカルバ
モイル基、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルスルホニル基、ハロゲノＣ
₁−Ｃ₆アルキルスルホニル基、置換基群αから選択され
る基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₆−Ｃ₁₀アリ
ールスルホニル基、又は置換基群αから選択される基で
１乃至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₆アラルキル
スルホニル基を示し、あるいは、ＢがＮ（Ｒ⁸）を示す
場合は、窒素原子、Ｒ⁷及びＲ⁸が一緒になって飽和複素
環基を形成していてもよい。）、Ｙは酸素原子又は硫黄
原子を示し、Ｚは、−ＣＨ＝又は窒素原子を示し、ｎは
1乃至５の整数を示し、ｑは0乃至５の整数を示し、置換
基群αは、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル
基、ハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ
基、アミノ基（該アミノ基は、置換基群βから選択され
る同一又は異なった１乃至２個の置換基で置換されてい
てもよい。また、該アミノ基は、窒素原子と一緒になっ
て酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択
されるヘテロ原子を１乃至３個有する飽和複素環基を形
成していてもよい。）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、シアノ
基、及びニトロ基を示し、置換基群βは、Ｃ₁−Ｃ₁₀ア
ルキル基、置換基群γから選択される基で１乃至３個置
換されていてもよいＣ₆−Ｃ₁₀アリール基、置換基群γ
から選択される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ
₇−Ｃ₁₆アラルキル基及びアシル基（該アシル基は、Ｃ₁
−Ｃ₇脂肪族アシル基、置換基群γから選択される基で
１乃至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシ
ル基、置換基群γから選択される基で１乃至３個置換さ
れていてもよいＣ₈−Ｃ₁₂芳香脂肪族アシル基、Ｃ₄−Ｃ
₁₁シクロアルキルカルボニル基、及び置換基群γから選
択される基で１乃至５個置換されていてもよい酸素原
子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘ
テロ原子を１乃至３個有する５乃至７員複素芳香環カル
ボニル基を示す。）を示し、置換基群γは、ハロゲン原
子、水酸基、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、ハロゲノＣ₁−Ｃ₆ア
ルキル基、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ基、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチ
オ基、アミノ基及びニトロ基を示す。］を有する置換縮
合イミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はそ
の薬理学上許容されるエステル類である。

【００２０】これらのうち、好適な化合物としては、以
下のものを挙げることができる。 （２）下記一般式（Ｉ’）

【００２１】

【化７】 ［上記式中、Ｘ’は、ＣＨ₂、ＣＯ又はＣ＝ＮＯＲ
¹⁰（式中、Ｒ¹⁰は、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基（該
アルキル基は、同一又は異なった１乃至３個のＣ₁−Ｃ₆
アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい）又は
Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル基を示す。）を示し、Ａ’は、下
記式(II-b')又は(II-d')で表される基を示す。

【００２２】

【化８】 （上記式中、Ｂ’は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ⁷
は、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリー
ル基（該アリール基は、置換基群αから選択される同一
又は異なった１乃至３個の置換基で置換されていてもよ
い）、Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル基（該アラルキル基は、置
換基群αから選択される同一又は異なった１乃至３個の
置換基で置換されていてもよい）、又はハロゲノＣ₁−
Ｃ₆アルキル基を示す。）］を有する置換縮合イミダゾ
ール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理学上
許容されるエステル類。（置換基群α）ハロゲン原子、
水酸基、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、ハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキ
ル基、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ基、アミノ基（該アミノ基
は、置換基群βから選択される同一又は異なった１乃至
２個の置換基で置換されていてもよい。また、該アミノ
基は、窒素原子と一緒になって酸素原子、窒素原子及び
硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至
３個有する飽和複素環基を形成していてもよい。）、Ｃ
₆−Ｃ₁₀アリール基、シアノ基及びニトロ基。 （３）上記（２）において、Ｘ’がＣＨ₂である、置換
縮合イミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又は
その薬理学上許容されるエステル類。 （４）上記（２）又は（３）において、Ａ’が式(II-
b')で表される基である、置換縮合イミダゾール誘導
体、その薬理上許容される塩又はその薬理学上許容され
るエステル類。 （５）上記（２）又は（３）において、Ａ’が式(II-
d')で表される基であり、Ｂ’が酸素原子である、置換
縮合イミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又は
その薬理学上許容されるエステル類。 （６）上記（２）又は（３）において、Ａ’が式(II-
d')で表される基であり、Ｂ’が硫黄原子である、置換
縮合イミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又は
その薬理学上許容されるエステル類。 （７）上記（２）、（３）、（５）又は（６）におい
て、Ｒ⁷が水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、フェニル基
（該フェニル基は、置換基群αから選択される同一又は
異なった１乃至３個の置換基で置換されていてもよ
い）、ベンジル基（該ベンジル基は、置換基群αから選
択される同一又は異なった１乃至３個の置換基で置換さ
れていてもよい）又はハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基であ
る、置換縮合イミダゾール誘導体、その薬理上許容され
る塩又はその薬理学上許容されるエステル類。 （８）上記（２）、（３）、（５）又は（６）におい
て、Ｒ⁷がフェニル基（該フェニル基の４位は、置換基
群αから選択される１個の置換基で置換されていてもよ
い）、ベンジル基（該ベンジル基の４位は、置換基群α
から選択される１個の置換基で置換されていてもよい）
又はハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基である、置換縮合イミ
ダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理
学上許容されるエステル類。 （９）上記（１）乃至（８）より選択されるいずれか１
つにおける、置換縮合イミダゾール誘導体。 （１０）上記（１）乃至（８）より選択されるいずれか
１つにおける、置換縮合イミダゾール誘導体の薬理上許
容される塩。 （１１）上記（１）乃至（８）より選択されるいずれか
１つにおける、置換縮合イミダゾール誘導体の薬理上許
容される塩酸塩。 （１２）上記（１）乃至（８）より選択されるいずれか
１つにおける、置換縮合イミダゾール誘導体の薬理学上
許容されるエステル類。 （１３）上記（１）乃至（８）より選択されるいずれか
１つにおける、置換縮合イミダゾール誘導体のメチルエ
ステル。 （１４）上記（１）乃至（８）より選択されるいずれか
１つにおける、置換縮合イミダゾール誘導体のエチルエ
ステル。 （１５）下記より選択されるいずれか１つの化合物、そ
の薬理上許容される塩又はその薬理上許容されるエステ
ル類。

【００２３】５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝−２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）
プロピオン酸 ２−（４−フルオロベンジルチオ）―３−｛４−［６−
（６−ヒドロキシー２，５，７，８−テトラメチルクロ
マンー２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾ
イミダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオ
ン酸 ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝−２−フェニルチオプロピオン酸 ２−（４−フルオロベンジルオキシ）−３−｛４−［６
−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベン
ゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピ
オン酸また、本発明は、以下のものも包含する。 （１６）上記（１）乃至（１５）より選択されるいずれ
か１つに記載の化合物を有効成分として含有する医薬組
成物。 （１７）上記（１）乃至（１５）より選択されるいずれ
か１つに記載の化合物を有効成分として含有する、イン
スリン抵抗性改善剤、血糖低下剤、抗炎症剤、免疫調節
剤、アルドース還元酵素阻害剤、５−リポキシゲナーゼ
阻害剤、過酸化脂質生成抑制剤、ＰＰＡＲ活性化剤、抗
骨粗鬆症剤、ロイコトリエン拮抗剤、脂肪細胞化促進
剤、ガン細胞増殖抑制剤又はカルシウム拮抗剤。 （１８）上記（１）乃至（１５）より選択されるいずれ
か１つに記載の化合物を有効成分として含有する、イン
スリン抵抗性を改善するための医薬組成物。 （１９）上記（１）乃至（１５）より選択されるいずれ
か１つに記載の化合物を有効成分として含有する、血糖
を低下するための医薬組成物。 （２０）上記（１）乃至（１５）より選択されるいずれ
か１つに記載の化合物を有効成分として含有する、糖尿
病、高脂血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪
肝、糖尿病合併症、動脈硬化症、妊娠糖尿病、多嚢胞卵
巣症候群、心血管性疾患、アテローム性動脈硬化症によ
り惹起される細胞損傷、虚血性心疾患により惹起される
細胞損傷、痛風、骨関節炎、リウマチ性関節炎、アレル
ギー性疾患、喘息疾患、ＧＩ潰瘍、悪液質、自己免疫疾
患、膵炎、ガン、骨粗鬆症又は白内障の、予防剤又は治
療剤。 （２１）上記（１）乃至（１５）より選択されるいずれ
か１つに記載の化合物を有効成分として含有する、糖尿
病の予防又は治療のための医薬組成物。 （２２）インスリン抵抗性を改善するための医薬組成物
を製造するための、上記（１）乃至（１５）より選択さ
れるいずれか１つに記載の化合物の使用。 （２３）血糖を低下するための医薬組成物を製造するた
めの、上記（１）乃至（１５）より選択されるいずれか
１つに記載の化合物の使用。 （２４）糖尿病の予防又は治療のための医薬組成物を製
造するための、上記（１）乃至（１５）より選択される
いずれか１つに記載の化合物の使用。

【００２４】本発明において、「ハロゲン原子」は、弗
素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子である。好適
には、弗素原子又は塩素原子であり、更に好適には弗素
原子である。

【００２５】本発明において、「Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基」
は、炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示
し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチ
ル、１−エチルプロピル、ヘキシル、４−メチルペンチ
ル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メ
チルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメ
チルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチ
ルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチル
ブチル及び２−エチルブチル基を挙げることができる。
好適にはＣ₁−Ｃ₄アルキル基であり、更に好適にはメチ
ル又はエチルである。

【００２６】本発明において、「Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキル基」
は、炭素数1乃至１０個の直鎖又は分岐鎖アルキル基を
示し、例えば、前記Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、ヘプチル、１−
メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘキ
シル、４−メチルヘキシル、５−メチルヘキシル、１−
プロピルブチル、４，４−ジメチルペンチル、オクチ
ル、１−メチルヘプチル、２−メチルヘプチル、３−メ
チルヘプチル、４−メチルヘプチル、５−メチルヘプチ
ル、６−メチルヘプチル、１−プロピルペンチル、２−
エチルヘキシル、５，５−ジメチルヘキシル、ノニル、
３−メチルオクチル、４−メチルオクチル、５−メチル
オクチル、６−メチルオクチル、１−プロピルヘキシ
ル、２−エチルヘプチル、６，６−ジメチルヘプチル、
デシル、１−メチルノニル、３−メチルノニル、８−メ
チルノニル、３−エチルオクチル、３，７−ジメチルオ
クチル及び７，７−ジメチルオクチル基を挙げることが
できる。好適には、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基であり、更に好
適にはＣ₁−Ｃ₄アルキル基であり、最も好適にはメチル
又はエチルである。

【００２７】本発明において、「Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアル
キル」は、炭素数３乃至１０個の縮環していてもよい飽
和環状炭化水素基を示し、例えば、シクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、ノルボルニル及びアダマンチルを挙げること
ができる。好適にはＣ₃−Ｃ₆シクロアルキルである。

【００２８】本発明において、「ハロゲノＣ₁−Ｃ₆アル
キル基」は、前記Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基に１乃至３個の前
記ハロゲン原子が結合した基を示し、例えば、トリフル
オロメチル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、ジ
フルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フ
ルオロメチル、２，２，２−トリクロロエチル、２，
２，２−トリフルオロエチル、２−ブロモエチル、２−
クロロエチル、２−フルオロエチル、２−ヨードエチ
ル、３−クロロプロピル、４−フルオロブチル、４，４
−ジフルオロブチル、６−ヨードヘキシル、２，２−ジ
フルオロエチル及び２，２−ジブロモエチル基を挙げる
ことができる。好適にはハロゲノＣ₁−Ｃ₄アルキル基で
あり、更に好適にはハロゲノＣ₁−Ｃ₂アルキル基であ
る。

【００２９】本発明において、「Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ
基」は、前記Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基が酸素原子に結合した
基を示し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、２−
メチルブトキシ、ネオペントキシ、１−エチルプロポキ
シ、ヘキシルオキシ、４−メチルペントキシ、３−メチ
ルペントキシ、２−メチルペントキシ、３，３−ジメチ
ルブトキシ、２，２−ジメチルブトキシ、１，１−ジメ
チルブトキシ、１，２−ジメチルブトキシ、１，３−ジ
メチルブトキシ、２，３−ジメチルブトキシ及び２−エ
チルブトキシ基を挙げることができる。好適にはＣ₁−
Ｃ₄アルコキシ基であり、更に好適にはＣ₁−Ｃ₂アルコ
キシ基である。

【００３０】本発明において、「Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシル
基」は、水素原子又は飽和若しくは不飽和のＣ₁−Ｃ₆鎖
状炭化水素基がカルボニル基に結合した基を示し、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘ
キサノイル、アクリロイル、メタクリロイル及びクロト
ノイル基を挙げることができる。好適にはＣ₁−Ｃ₇脂肪
族アシル基であり、更に好適にはＣ₁−Ｃ₄脂肪族アシル
基であり、最も好適にはＣ₁−Ｃ₂脂肪族アシル基であ
る。

【００３１】本発明において、「Ｃ₄−Ｃ₁₁シクロアル
キルカルボニル」は、前述のＣ₃−Ｃ ₁₀シクロアルキル
基にカルボニル基が結合した基を示し、例えばシクロプ
ロピルカルボニル、シクロブチリルカルボニル、シクロ
ペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シク
ロヘプチルカルボニル、ノルボルニルカルボニル及びア
ダマンチルカルボニル基を挙げることができる。好適に
はＣ₆−Ｃ₁₁シクロアルキルカルボニルであり、更に好
適にはシクロヘキシルカルボニル又はアダマンチルカル
ボニル基である。

【００３２】本発明において、「Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ
基」は、前記Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基が硫黄原子に結合した
基を示し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピル
チオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチ
オ、ｓ−ブチルチオ、ｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、
イソペンチルチオ、２−メチルブチルチオ、ネオペンチ
ルチオ、１−エチルプロピルチオ、ヘキシルチオ、４−
メチルペンチルチオ、３−メチルペンチルチオ、２−メ
チルペンチルチオ、１−メチルペンチルチオ、３，３−
ジメチルブチルチオ、２，２−ジメチルブチルチオ、
１，１−ジメチルブチルチオ、１，２−ジメチルブチル
チオ、１，３−ジメチルブチルチオ、２，３−ジメチル
ブチルチオ及び２−エチルブチルチオ基を挙げることが
できる。好適にはＣ₁−Ｃ₄アルキルチオ基であり、更に
好適にはＣ₁−Ｃ₂アルキルチオ基である。

【００３３】本発明において、「Ｃ₁−Ｃ₆アルキルスル
ホニル基」は、前記Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基がスルホニルに
結合した基を示し、例えばメタンスルホニル、エタンス
ルホニル、プロパンスルホニル、イソプロパンスルホニ
ル、ブタンスルホニル、イソブタンスルホニル、ｓ−ブ
タンスルホニル、ｔ−ブタンスルホニル、ペンタンスル
ホニル、イソペンタンスルホニル、２−メチルブタンス
ルホニル、ネオペンタンスルホニル、１−エチルプロパ
ンスルホニル、ヘキサンスルホニル、４−メチルペンタ
ンスルホニル、３−メチルペンタンスルホニル、２−メ
チルペンタンスルホニル、３，３−ジメチルブタンスル
ホニル、２，２−ジメチルブタンスルホニル、１，１−
ジメチルブタンスルホニル、１，２−ジメチルブタンス
ルホニル、１，３−ジメチルブタンスルホニル、２，３
−ジメチルブタンスルホニル及び２−エチルブタンスル
ホニルを挙げることができる。好適にはＣ₁−Ｃ₄アルキ
ルスルホニル基であり、更に好適にはＣ₁−Ｃ₃アルキル
スルホニル基である。

【００３４】本発明において、「ハロゲノＣ₁−Ｃ₆アル
キルスルホニル基」は、前記ハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル
基がスルホニルに結合した基を示し、例えば、トリフル
オロメタンスルホニル、トリクロロメタンスルホニル、
ジフルオロメタンスルホニル、ジクロロメタンスルホニ
ル、ジブロモメタンスルホニル、フルオロメタンスルホ
ニル、２，２，２−トリフルオロエタンスルホニル、
２，２，２−トリクロロエタンスルホニル、２−ブロモ
エタンスルホニル、２−クロロエタンスルホニル、２−
フルオロエタンスルホニル、２−ヨードエタンスルホニ
ル、３−クロロプロパンスルホニル、４−フルオロブタ
ンスルホニル、４，４−ジフルオロブタンスルホニル、
６−ヨードヘキサンスルホニル、２，２−ジフルオロエ
タンスルホニル及び２，２−ジブロモエタンスルホニル
基をあげることができる。好適にはハロゲノＣ₁−Ｃ₄ア
ルキルスルホニル基であり、更に好適にはハロゲノＣ₁
−Ｃ₂アルキルスルホニル基である。

【００３５】本発明において、「Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール
基」は、炭素数６乃至１０個の芳香族炭化水素基を示
し、例えば、フェニル、インデニル及びナフチル基を挙
げることができる。好適にはフェニル機である。

【００３６】本発明において、「Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル
基」は、前記Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基が前記Ｃ₁−Ｃ₆アル
キル基に結合した基を示し、例えば、ベンジル、ナフチ
ルメチル、インデニルメチル、ジフェニルメチル、１−
フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルエチル、２
−ナフチルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニ
ルプロピル、３−フェニルプロピル、１−ナフチルプロ
ピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチルプロピル、
１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニ
ルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブチル、
２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−ナフチ
ルブチル、５−フェニルペンチル、５−ナフチルペンチ
ル、６−フェニルヘキシル及び６−ナフチルヘキシル基
を挙げることができる。好適にはベンジル基である。

【００３７】本発明において、「Ｃ₇−Ｃ₁₁芳香族アシ
ル基」は、前記Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基がカルボニル基に
結合した基を示し、例えば、ベンゾイル、１−インダン
カルボニル、２−インダンカルボニル並びに１−及び２
−ナフトイル基を挙げることができる。好適にはベンゾ
イル基である。

【００３８】本発明において、「Ｃ₈−Ｃ₁₂芳香脂肪族
アシル基」は、前記Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基がＣ₂−Ｃ₆脂
肪族アシル基（炭素数１乃至５個の直鎖又は分枝鎖アル
キル基がカルボニル基に結合した基を示す）に結合した
基を示し、例えば、フェニルアセチル、３−フェニルプ
ロピオニル、４−フェニルブチリル、５−フェニルペン
タノイル、６−フェニルヘキサノイル、ナフチルアセチ
ル、４−ナフチルブチリル及び６−ナフチルヘキサノイ
ル基を挙げることができる。

【００３９】本発明において、「酸素原子、窒素原子及
び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃
至３個有する５乃至７員複素芳香環カルボニル」は、例
えば、フリルカルボニル、チエニルカルボニル、ピロリ
ルカルボニル、ピラゾリルカルボニル、イミダゾリルカ
ルボニル、オキサゾリルカルボニル、イソオキサゾリル
カルボニル、チアゾリルカルボニル、イソチアゾリルカ
ルボニル、１，２，３−オキサジアゾリルカルボニル、
トリアゾリルカルボニル及びチアジアゾリルカルボニル
のような５員複素芳香環カルボニル、ピラニルカルボニ
ル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピリダジニルカ
ルボニル、ピリミジニルカルボニル及びピラジニルカル
ボニルのような６員複素芳香環カルボニル及びアゼピニ
ルカルボニルのような７員複素芳香環カルボニルを挙げ
ることができる。

【００４０】本発明において、「Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールス
ルホニル基」は、前記Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基がスルホニ
ルに結合した基を示し、例えばフェニルスルホニル、ナ
フチルスルホニル及びインデニルスルホニル基を挙げる
ことができる。

【００４１】本発明において、「Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル
スルホニル基」は、前記アラルキル基がスルホニルに結
合した基を示し、例えばベンジルスルホニル、ナフチル
メチルスルホニル、インデニルメチルスルホニル、１−
フェネチルスルホニル、２−フェネチルスルホニル、１
−ナフチルエチルスルホニル、２−ナフチルエチルスル
ホニル、１−フェニルプロピルスルホニル、２−フェニ
ルプロピルスルホニル、３−フェニルプロピルスルホニ
ル、１−ナフチルプロピルスルホニル、２−ナフチルプ
ロピルスルホニル、３−ナフチルプロピルスルホニル、
１−フェニルブチルスルホニル、２−フェニルブチルス
ルホニル、３−フェニルブチルスルホニル、４−フェニ
ルブチルスルホニル、１−ナフチルブチルスルホニル、
２−ナフチルブチルスルホニル、３−ナフチルブチルス
ルホニル、４−ナフチルブチルスルホニル、５−フェニ
ルペンチルスルホニル、５−ナフチルペンチルスルホニ
ル、６−フェニルヘキシルスルホニル及び６−ナフチル
ヘキシルスルホニル基を挙げることができる。

【００４２】本発明において、置換基群βの定義におけ
る「置換基群γから選択される基で１乃至３個置換され
ていてもよいＣ₆−Ｃ₁₀アリール基」とは、前述した置
換基を有しない基に加え、置換基を有する基として、例
えばメチルフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ジ
フルオロメチルフェニル、ヒドロキシフェニル、４−ヒ
ドロキシ−２，３，５−トリメチルフェニル、３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル、アダマンチ
ルフェニル、４−アミノ−３，５−ジメチルフェニル、
アセチルフェニル、メトキシフェニル、ベンゾイルフェ
ニル、フルオロフェニル、ジフルオロフェニル、クロロ
フェニル、ジクロロフェニル、ブロモフェニル、ジブロ
モフェニル、ニトロフェニル、（ジメチルアミノ）フェ
ニル、ビフェニリル、メチルビフェニリル、メチルナフ
チル、トリフルオロナフチル、ヒドロキシナフチル、メ
トキシナフチル、フルオロナフチル及びクロロナフチル
を挙げることができる。好適には置換分γを１乃至３個
有していてもよいフェニル基であり、更に好適には置換
分γを１若しくは２個有していてもよいフェニル基であ
り、最も好適には置換分γを１個有していてもよいフェ
ニル基である。

【００４３】本発明において、置換基群βの定義におけ
る「置換基群γから選択される基で１乃至３個置換され
ていてもよいＣ₇−Ｃ₁₆アラルキル基」とは、前述した
置換基を有しない基に加え、置換基を有する基として、
例えばメチルベンジル、トリフルオロメチルベンジル、
ヒドロキシベンジル、４−ヒドロキシ−２，３，５−ト
リメチルベンジル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル、アダマンチルベンジル、４−アミノ−
３，５−ジメチルベンジ、アセチルベンジル、メトキシ
ベンジル、ベンゾイルベンジル、フルオロベンジル、ジ
フルオロベンジル、クロロベンジル、ジクロロベンジ
ル、ブロモベンジル、ジブロモベンジル、ニトロベンジ
ル、アミノベンジル、（ジメチルアミノ）ベンジル、ビ
フェニリルメチル、メチルビフェニリルメチル、メチル
フェネチル、トリフルオロメチルフェネチル、ヒドロキ
シフェネチル、４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチ
ルフェネチル、３，５−ジｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェネチル、アダマンチルフェネチル、４−アミノ−
３，５−ジメチルフェネチル、アセチルフェネチル、メ
トキシフェネチル、ベンゾイルフェネチル、フルオロフ
ェネチル、ジフルオロフェネチル、クロロフェネチル、
ニトロフェネチル、（ジメチルアミノ）フェネチル、ビ
フェニリルエチル、メチルビフェニリルエチル、メチル
フェニルブチル、トリフルオロメチルフェニルブチル、
ヒドロキシフェニルブチル、４−ヒドロキシ−２，３，
５−トリメチルフェニルブチル、３，５−ジｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニルブチル、アダマンチルフェニ
ルブチル、４−アミノ−３，５−ジメチルフェニルブチ
ル、アセチルフェニルブチル、メトキシフェニルブチ
ル、フルオロフェニルブチル、クロロフェニルブチル、
ニトロフェニルブチル、（ジメチルアミノ）フェニルブ
チル、ビフェニリルブチル、メチルナフチルメチル、ト
リフルオロナフチルメチル、ヒドロキシナフチルメチ
ル、メトキシナフチルメチル、フルオロナフチルメチル
及びクロロナフチルメチルを挙げることができる。好適
には置換基群γから選択される基を１乃至３個有してい
てもよいフェニル及びＣ₁−Ｃ₆アルキルを有するフェニ
ルアルキル基であり、更に好適には置換基群γから選択
される基を１乃至３個有していてもよいフェニル及びＣ
₁−Ｃ₄アルキルを有するフェニルアルキル基であり、よ
り更に好適には置換基群γから選択される基を１乃至３
個有していてもよいフェニル及びＣ₁−Ｃ₂アルキルを有
するフェニルアルキル基であり、最も好適には置換分γ
を１個有していてもよいベンジル又はフェネチル基であ
る。

【００４４】本発明において、置換基群βの定義におけ
る「置換基群γから選択される基で１乃至３個置換され
ていてもよいＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基」とは、前述し
た置換基を有しない基に加えて、置換基を有する基とし
て、例えばメチルベンゾイル、トリフルオロメチルベン
ゾイル、ヒドロキシベンゾイル、４−ヒドロキシ−２，
３，５−トリメチルベンゾイル、３，５−ジｔ−ブチル
−４−ヒドロキシベンゾイル、アダマンチルベンゾイ
ル、４−アミノ−３，５−ジメチルベンゾイル、アセチ
ルベンゾイル、メトキシベンゾイル、フルオロベンゾイ
ル、ジフルオロベンゾイル、クロロベンゾイル、ジクロ
ロベンゾイル、ニトロベンゾイル、アミノベンゾイル、
（ジメチルアミノ）ベンゾイル、フェニルベンゾイル、
メチルナフチルカルボニル、トリフルオロナフチルカル
ボニル、ヒドロキシナフチルカルボニル、メトキシナフ
チルカルボニル、フルオロナフチルカルボニル及びクロ
ロナフチルカルボニルを挙げることができる。好適には
置換分γを１乃至３個有していてもよいベンゾイルであ
り、更に好適には置換分γを１若しくは２個有していて
もよいベンゾイルであり、最も好適には置換分γを１個
有していてもよいベンゾイルである。

【００４５】本発明において、置換基群βの定義におけ
る「置換基群γから選択される基で１乃至３個置換され
ていてもよいＣ₈−Ｃ₁₂芳香脂肪族アシル基」とは、前
述した置換基を有さない基に加え、置換基を有している
基として、例えばメチルフェニルアセチル、トリフルオ
ロメチルフェニルアセチル、ヒドロキシフェニルアセチ
ル、４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェニル
アセチル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルアセチル、アダマンチルフェニルアセチル、４−
アミノ−３，５−ジメチルフェニルアセチル、アセチル
フェニルアセチル、メトキシフェニルアセチル、ベンゾ
イルフェニルアセチル、フルオロフェニルアセチル、ジ
フルオロフェニルアセチル、クロロフェニルアセチル、
ジクロロフェニルアセチル、ニトロフェニルアセチル、
（ジメチルアミノ）フェニルアセチル、ビフェニリルア
セチル、４−（メチルフェニル）ブチリル、４−（トリ
フルオロメチルフェニル）ブチリル、４−（ヒドロキシ
フェニル）ブチリル、４−（４−ヒドロキシ−２，３，
５−トリメチルフェニル）ブチリル、４−（３，５−ジ
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチリル、４−
（アダマンチルフェニル）ブチリル、４−（４−アミノ
−３，５−ジメチルフェニル）ブチリル、４−（メトキ
シフェニル）ブチリル、４−（フルオロフェニル）ブチ
リル、４−（クロロフェニル）ブチリル、４−［（ジメ
チルアミノ）フェニル］ブチリル、メチルナフチルアセ
チル、トリフルオロナフチルアセチル、ヒドロキシナフ
チルアセチル、メトキシナフチルアセチル及びフルオロ
ナフチルアセチル又はクロロナフチルアセチルを挙げる
ことができる。好適には置換基群γから選択される基を
１乃至３個有していてもよいフェニルを有するフェニル
脂肪族アシルであり、更に好適には置換基群γから選択
される基を１個有していてもよいフェニルを有するフェ
ニル脂肪族アシルであり、最も好適には置換基群γから
選択される基を１個有していてもよいフェニルを有する
フェニルアセチルである。

【００４６】本発明において、置換基群βの定義におけ
る「置換基群γから選択される基で１乃至５個置換され
ていてもよい酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる
群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個有する５乃至
７員複素芳香環カルボニル」の置換基を有する基として
は、前述の置換基を有さない基に加えて、例えばフルオ
ロフリルカルボニル、フルオロチエニルカルボニル、フ
ルオロピロリルカルボニル、フルオロオキサゾリルカル
ボニル、フルオロチアゾリルカルボニル、フルオロトリ
アゾリルカルボニル、フルオロピラニルカルボニル、フ
ルオロニコチノイル、フルオロピリダジニルカルボニ
ル、フルオロピリミジニルカルボニル、メチルフリルカ
ルボニル、メチルチエニルカルボニル、メチルピロリル
カルボニル、メチルオキサゾリルカルボニル、メチルチ
アゾリルカルボニル、メチルニコチノイル、メトキシフ
リルカルボニル、メトキシチエニルカルボニル、メトキ
シピロリルカルボニル、メトキシオキサゾリルカルボニ
ル、メトキシチアゾリルカルボニル、メトキシニコチノ
イル、ジメチルアミノフリルカルボニル、ジメチルアミ
ノチエニルカルボニル、ジメチルアミノピロリルカルボ
ニル、ジメチルアミノオキサゾリルカルボニル、ジメチ
ルアミノチアゾリルカルボニル及びジメチルアミノニコ
チノイルを挙げることができる。好適には置換分γを１
若しくは３個有していてもよい酸素原子、窒素原子及び
硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至
３個有する５乃至７員複素芳香環カルボニル基であり、
更に好適には置換分γを１個有していてもよい酸素原
子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘ
テロ原子を１乃至３個有する５若しくは６員複素芳香環
カルボニル基であり、最も好適には置換分γを１個有し
ていてもよい窒素原子を１個有する５若しくは６員複素
芳香環カルボニル基である。

【００４７】本発明において、Ｒ¹及び置換基群αの定
義における「置換基群βから選択される基で１乃至２個
置換されていてもよいアミノ基（該アミノ基は、窒素原
子と一緒になって酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から
なる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個有する飽
和複素環基を形成していてもよい。）」及び「アミノ基
（該アミノ基は、置換基群βから選択される同一又は異
なった１乃至２個の置換基で置換されていてもよい。ま
た、該アミノ基は、窒素原子と一緒になって酸素原子、
窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ
原子を１乃至３個有する飽和複素環基を形成していても
よい。）」は、例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ−メ
チル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル
アミノ、エチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミ
ノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ
−フェニルアミノ、プロピルアミノ、Ｎ−プロピル−Ｎ
−ブチルアミノ、Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアミノ、
Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−プロピル−Ｎ
−オクチルアミノ、Ｎ−プロピル−Ｎ−ノニルアミノ、
Ｎ−プロピル−Ｎ−デシルアミノ、イソプロピルアミ
ノ、ブチルアミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘキシルアミノ、
ｓ−ブチルアミノ、ｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミ
ノ、ヘキシルアミノ、ヘプチルアミノ、オクチルアミ
ノ、ノニルアミノ、デシルアミノ、ジメチルアミノ、ジ
エチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジ
ペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、ジヘプチルアミ
ノ、ジオクチルアミノ、ジノニルアミノ、ジデシルアミ
ノ、フェニルアミノ、フルオロフェニルアミノ、クロロ
フェニルアミノ、ブロモフェニルアミノ、ジフルオロフ
ェニルアミノ、ジクロロフルオロフェニルアミノ、ジブ
ロモフェニルアミノ、インデニルアミノ、ナフチルアミ
ノ、ジフェニルアミノ、ベンジルアミノ、フルオロベン
ジルアミノ、クロロベンジルアミノ、ブロモベンジルア
ミノ、ジフルオロベンジルアミノ、ジフルオロベンジル
アミノ、ジクロロベンジルアミノ、ナフチルメチルアミ
ノ、インデニルメチルアミノ、フェネチルアミノ、フェ
ニルプロピルアミノ、フェニルブチルアミノ、フェニル
ブチルアミノ、フェニルペンチルアミノ、フェニルヘキ
シルアミノ、ジベンジルアミノ、ホルミルアミノ、アセ
チルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イ
ソブチリルアミノ、バレリルアミノ、イソバレリルアミ
ノ、ピバロイルアミノ、ヘキサノイルアミノ、アクリロ
イルアミノ、メタクリロイルアミノ、クロトイルアミ
ノ、ベンゾイルアミノ、インダンカルボニルアミノ、ナ
フトイルアミノ、フルオロベンゾイルアミノ、クロロベ
ンゾイルアミノ、ブロモベンゾイルアミノ、ジフルオロ
ベンゾイルアミノ、ジフルオロベンゾイルアミノ、ジク
ロロベンゾイルアミノ、ジイソプロピルベンゾイルアミ
ノ、トリフルオロメチルベンゾイルアミノ、４−ヒドロ
キシー３，５−ジメチルベンゾイルアミノ、４−ヒドロ
キシー３，５−ジｔ−ブチルベンゾイルアミノ、インダ
ンカルボニルアミノ、ナフトイルアミノ、フェニルアセ
チルアミノ、フェニルプロピオニルアミノ、フェニルブ
チリルアミノ、フェニルペンタノイルアミノ、フェニル
ヘキサノイルアミノ、フルオロフェニルアセチルアミ
ノ、クロロフェニルアセチルアミノ、ブロモフェニルア
セチルアミノ、ジフルオロフェニルアセチルアミノ、ジ
フルオロフェニルアセチルアミノ、ジクロロフェニルア
セチルアミノ、シクロプロピオニルアミノ、シクロブチ
リルアミノ、シクロペンタノイルアミノ、シクロヘキサ
ノイルアミノ、ピロリルカルボニルアミノ、イミダゾリ
ルカルボニルアミノ、ピラゾリルカルボニルアミノ、ト
リアゾリルカルボニルアミノ、テトラゾリルカルボニル
アミノ、ニコチノイルアミノ、イソニコチノイルアミ
ノ、ピラジニルカルボニルアミノ、ピリミジニルカルボ
ニルアミノ、ピリダジニルカルボニルアミノ、チアゾリ
ルカルボニルアミノ、オキサゾリルカルボニルアミノ、
オキサジアゾリルカルボニルアミノ、チアジアゾリルカ
ルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアセチルアミノ、Ｎ−ホル
ミル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル
アミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−アセチ
ル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ブチルア
ミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ペンチルアミノ、Ｎ−アセチ
ル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチル
アミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ベン
ゾイル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ブ
チルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ペンチルアミノ、Ｎ
−ベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−
Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−ベンゾイルア
ミノ、Ｎ−トリフルオロメチルベンジル−Ｎ−ジフルオ
ロベンゾイルアミノ、Ｎ−ジフルオロベンジル−Ｎ−ニ
コチノイルアミノ、Ｎ−クロロベンゾイル−Ｎ−メチル
アミノ、Ｎ−クロロベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ、
Ｎ−クロロベンジル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−ジフル
オロベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−ジフルオロ
ベンゾイル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ジフルオロベン
ゾイル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−トリフルオロメチル
ベンゾイル−Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−ジｔ−ブチル−ヒ
ドロキシベンゾイル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−ヘキシ
ル−Ｎ−ナフトイルアミノ、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−フェニ
ルアセチルアミノ、Ｎ−イソブチル−Ｎ−シクロヘプタ
ノイルアミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−ニコチノイルアミノ、
Ｎ−ヘキシル−Ｎ−ニコチノイルアミノ、Ｎ−イソニコ
チノイル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−トリ
フルオロメチルフェニルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−メト
キシフェニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミ
ノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フルオロベンジルアミノ、Ｎ−エ
チル−Ｎ−ベンジルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−メトキシ
フェニルアミノ、Ｎ−プロピル−Ｎ−フルオロベンジル
アミノ、Ｎ−フェニル−Ｎ−ベンジルアミノ、Ｎ−フェ
ニル−Ｎ−フルオロベンジルアミノ、ジメトキシベンジ
ルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−プロピオニルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ホルミ
ルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−フェ
ニル−Ｎ−ホルミルアミノ、Ｎ−フェニル−Ｎ−アセチ
ルアミノ、Ｎ−フェニル−Ｎ−ブチリルアミノ、Ｎ−ヘ
キサノイル−Ｎ−メトキシフェニルアミノ、Ｎ−ブチリ
ル−Ｎ−フルオロベンジルアミノ、Ｎ−ヘキサノイル−
Ｎ−ブロモベンジルアミノ、Ｎ−フェニル−Ｎ−アセチ
ルアミノ、ニトロベンゾイルアミノ、アミノベンゾイル
アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、４−ヒド
ロキシ−３，５−ジｔ−ブチルベンジルアミノ、４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジｔ−ブチルベンゾイルアミノ、Ｎ
−メチル−Ｎ−４−ヒドロキシ−３，５−ジｔ−ブチル
ベンゾイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−４−ヒドロキシ−
３，５−ジｔ−ブチルベンゾイルアミノ、Ｎ−プロピル
−Ｎ−４−ヒドロキシ−３，５−ジｔ−ブチルベンゾイ
ルアミノ、Ｎ−ブチル−Ｎ−４−ヒドロキシ−３，５−
ジｔ−ブチルベンゾイルアミノ、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−４
−ヒドロキシ−３，５−ジｔ−ブチルベンゾイルアミ
ノ、Ｎ−フェニル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、Ｎ−フルオ
ロフェニル−Ｎ−４−ヒドロキシ−３，５−ジｔ−ブチ
ルベンゾイルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−フルオロベン
ゾイルアミノ、Ｎ−フルオロベンジル−Ｎ−４−ヒドロ
キシ−３，５−ジｔ−ブチルベンゾイルアミノ、Ｎ−ト
リフルオロメチルベンゾイルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−
フルオロベンゾイルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−トリフル
オロメチルベンゾイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ベンゾ
イルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−フルオロベンゾイルアミ
ノ、Ｎ−エチル−Ｎ−トリフルオロメチルベンゾイルア
ミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−クロロベンゾイルアミノ、Ｎ−
ブチル−Ｎ−ベンジルアミノ、Ｎ−ル−Ｎ−ベンゾイル
アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ジクロロベンゾイルアミノ、
Ｎ−エチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、ジフルオロベンゾ
イルアミノ、ジメトキシベンゾイルアミノ、トリメトキ
シベンゾイルアミノ、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−ニトロベンゾ
イルアミノ及び４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベン
ゾイルアミノ基を挙げることができる。好適には置換分
としてＣ₁−Ｃ₁₀アルキル又はＣ₁−Ｃ₇脂肪族アシルを
１乃至２個有していてもよいアミノ基であり、更に好適
にはＣ₁−Ｃ₆アルキル、又はＣ₁−Ｃ₂脂肪族アシルを１
乃至２個有していてもよいアミノ基である。

【００４８】また、窒素原子と一緒になって酸素原子、
窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ
原子を１乃至３個有する飽和複素環基を形成する場合、
例えばアゼチジノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モ
ルホリノ基、チオモルホリノ基、オキサゾリジノ基、チ
アアゾリジノ基、イミダゾリジノ基、ピペラジノ基、ホ
モピペラジノ基、イソキサゾリジノ基及びイソチアゾリ
ジノ基を挙げることができる。

【００４９】本発明において、Ｒ¹及びＲ⁶乃至Ｒ¹⁰の定
義における「置換基群αから選択される基で１乃至３個
置換されていてもよいＣ₆−Ｃ₁₀アリール」及びＲ⁷の定
義における「Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基（該アリール基は、
置換基群αから選択される同一又は異なった１乃至３個
の置換基で置換されていてもよい）」とは、前述した置
換基を有しない基に加え、置換基を有する基としては、
例えばメチルフェニル、ジメチルフェニル、トリフルオ
ロメチルフェニル、ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキ
シ−２，３，５−トリメチルフェニル、３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル、アダマンチルフェ
ニル、４−アミノ−３，５−ジメチルフェニル、アセチ
ルフェニル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、
ベンゾイルフェニル、フルオロフェニル、ジフルオロフ
ェニル、クロロフェニル、ジクロロフェニル、ブロモフ
ェニル、ジブロモフェニル、ニトロフェニル、（ジメチ
ルアミノ）フェニル、ビフェニリル、メチルビフェニリ
ル、メチルナフチル、トリフルオロメチルナフチル、ヒ
ドロキシナフチル、メトキシナフチル、フルオロナフチ
ル、クロロナフチル及びブロモナフチル基を挙げること
ができる。好適には置換分αを１乃至３個有していても
よいフェニル基であり、更に好適には置換分αを１若し
くは２個有していてもよいフェニル基であり、最も好適
には置換分αを１個有していてもよいフェニル基であ
る。

【００５０】本発明において、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁶乃至Ｒ
¹⁰の定義における「置換基群αから選択される基で１乃
至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₆アラルキル」及
びＲ⁷の定義における「Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル基（該アラ
ルキル基は、置換基群αから選択される同一又は異なっ
た１乃至３個の置換基で置換されていてもよい）」と
は、前述した置換基を有しない基に加え、置換基を有す
る基としては、例えばメチルベンジル、トリフルオロメ
チルベンジル、ヒドロキシベンジル、３，４，５−トリ
メトキシベンジル、４−ヒドロキシ−３,５−ジメチル
ベンジル、４−ヒドロキシ−３，５−ジｔ−ブチルベン
ジル、アダマンチルベンジル、４−アミノ−３，５−ジ
メチルベンジル、アセチルベンジル、メトキシベンジ
ル、ベンゾイルベンジル、フルオロベンジル、ジフルオ
ロベンジル、クロロベンジル、ジクロロベンジル、ブロ
モベンジル、ジブロモベンジル、ニトロベンジル、（ジ
メチルアミノ）ベンジル、ビフェニリルメチル、メチル
ビフェニリルメチル、メチルフェネチル、トリフルオロ
メチルフェネチル、ヒドロキシフェネチル、４−ヒドロ
キシ−２，３，５−トリメチルフェネチル、３，５−ジ
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェネチル、アダマンチル
フェネチル、４−アミノ−３，５−ジメチルフェネチ
ル、アセチルフェネチル、メトキシフェネチル、ベンゾ
イルフェネチル、フルオロフェネチル、ジフルオロフェ
ネチル、クロロフェネチル、ニトロフェネチル、（ジメ
チルアミノ）フェネチル、ビフェニリルエチル、メチル
ビフェニリルエチル、メチルフェニルブチル、トリフル
オロメチルフェニルブチル、ヒドロキシフェニルブチ
ル、４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェニル
ブチル、３，５−ジｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ルブチル、アダマンチルフェニルブチル、４−アミノ−
３，５−ジメチルフェニルブチル、アセチルフェニルブ
チル、メトキシフェニルブチル、フルオロフェニルブチ
ル、クロロフェニルブチル、ニトロフェニルブチル、
（ジメチルアミノ）フェニルブチル、ビフェニリルブチ
ル、メチルナフチルメチル、トリフルオロナフチルメチ
ル、ヒドロキシナフチルメチル、メトキシナフチルメチ
ル、フルオロナフチルメチル及びクロロナフチルメチル
を挙げることができる。好適には置換分αを１乃至３個
有していてもよいフェニル及びＣ₁−Ｃ₆アルキルを有す
るフェニルアルキル基であり、更に好適には置換分αを
１個有していてもよいフェニル及びＣ₁−Ｃ₆アルキルを
有するフェニルアルキル基であり、より更に好適には置
換分αを１個有していてもよいフェニル及びＣ₁−Ｃ₄ア
ルキルを有するフェニルアルキル基であり、最も好適に
は置換分αを１個有していてもよいフェニル及びＣ₁−
Ｃ₂アルキルを有するフェニルアルキル基である。

【００５１】本発明において、Ｒ¹のアシルオキシ基及
びＲ⁸乃至Ｒ¹⁰の定義における「置換基群αから選択さ
れる基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₁芳
香族アシル」とは、前述した置換基を有しない基に加
え、置換基を有する基としては、例えばメチルベンゾイ
ル、ジメチルベンゾイル、イソプロピルベンゾイル、ｔ
−ブチルベンゾイル、トリフルオロメチルベンゾイル、
ヒドロキシベンゾイル、４−ヒドロキシ−３，５−ジｔ
−ブチルベンゾイル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメチ
ルベンゾイル、アダマンチルベンゾイル、４−アミノ−
３，５−ジメチルベンゾイル、アセチルベンゾイル、メ
トキシベンゾイル、３，４，５−トリメトキシベンゾイ
ル、フルオロベンゾイル、ジフルオロベンゾイル、２−
フルオロ−４−トリフルオロメチルベンゾイル、クロロ
ベンゾイル、ジクロロベンゾイル、ブロモベンゾイル、
ジブロモベンゾイル、ニトロベンゾイル、アミノベンゾ
イル、（ジメチルアミノ）ベンゾイル、フェニルベンゾ
イル、メチルナフチルカルボニル、トリフルオロナフチ
ルカルボニル、ヒドロキシナフチルカルボニル、メトキ
シナフチルカルボニル、フルオロナフチルカルボニル及
びクロロナフチルカルボニルを挙げることができる。好
適には置換分αを１乃至３個有していてもよいベンゾイ
ルであり、更に好適には置換分αを１若しくは２個有し
ていてもよいベンゾイルであり、最も好適には置換分α
を１個有していてもよいベンゾイルである。

【００５２】本発明において、Ｒ¹のアシルオキシ基及
びＲ⁸乃至Ｒ¹⁰の定義における「置換基群αから選択さ
れる基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₈−Ｃ₁₂芳
香脂肪族アシル」とは、前述した置換基を有しない基に
加え、置換基を有する基としては、例えばメチルフェニ
ルアセチル、トリフルオロメチルフェニルアセチル、ヒ
ドロキシフェニルアセチル、４−ヒドロキシ−３，５−
ジメチルフェニルアセチル、４−ヒドロキシ−３，５−
ジメトキシフェニルアセチル、４−ヒドロキシ−３，５
−ジｔ−ブチルフェニルアセチル、アダマンチルフェニ
ルアセチル、４−アミノ−３，５−ジメチルフェニルア
セチル、アセチルフェニルアセチル、メトキシフェニル
アセチル、ベンゾイルフェニルアセチル、フルオロフェ
ニルアセチル、ジフルオロフェニルアセチル、クロロフ
ェニルアセチル、ジクロロフェニルアセチル、ニトロフ
ェニルアセチル、（ジメチルアミノ）フェニルアセチ
ル、ビフェニリルアセチル、４−（メチルフェニル）ブ
チリル、４−（トリフルオロメチルフェニル）ブチリ
ル、４−（ヒドロキシフェニル）ブチリル、４−（４−
ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェニル）ブチリ
ル、４−（３，５−ジｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）ブチリル、４−（アダマンチルフェニル）ブチリ
ル、４−（４−アミノ−３，５−ジメチルフェニル）ブ
チリル、４−（メトキシフェニル）ブチリル、４−（フ
ルオロフェニル）ブチリル、４−（クロロフェニル）ブ
チリル、４−［（ジメチルアミノ）フェニル］ブチリ
ル、メチルナフチルアセチル、トリフルオロナフチルア
セチル、ヒドロキシナフチルアセチル、メトキシナフチ
ルアセチル、フルオロナフチルアセチル及びクロロナフ
チルアセチルを挙げることができる。好適には置換分α
を１乃至３個有していてもよいフェニルを有するＣ₈−
Ｃ₁₂フェニルアシル基であり、更に好適には置換分αを
１個有していてもよいフェニルを有するＣ₈−Ｃ₁₂フェ
ニルアシル基である。

【００５３】本発明において、Ｒ¹のアシルオキシ基及
びＲ⁹乃至Ｒ¹⁰の定義における「置換基群αから選択さ
れる基で１乃至５個置換されていてもよい酸素原子、窒
素原子及び硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原
子を１乃至３個有する５乃至７員複素芳香環カルボニ
ル」とは、前述した置換基を有しない基に加え、置換基
を有する基としては、例えばフルオロフリルカルボニ
ル、フルオロチエニルカルボニル、フルオロピロリルカ
ルボニル、フルオロオキサゾリルカルボニル、フルオロ
チアゾリルカルボニル、フルオロトリアゾリルカルボニ
ル、フルオロピラニルカルボニル、フルオロニコチノイ
ル、フルオロピリダジニルカルボニル、フルオロピリミ
ジニルカルボニル、メチルフリルカルボニル、メチルチ
エニルカルボニル、メチルピロリルカルボニル、メチル
オキサゾリルカルボニル、メチルチアゾリルカルボニ
ル、メチルニコチノイル、メトキシフリルカルボニル、
メトキシチエニルカルボニル、メトキシピロリルカルボ
ニル、メトキシオキサゾリルカルボニル、メトキシチア
ゾリルカルボニル、メトキシニコチノイル、ジメチルア
ミノフリルカルボニル、ジメチルアミノチエニルカルボ
ニル、ジメチルアミノピロリルカルボニル、ジメチルア
ミノオキサゾリルカルボニル、ジメチルアミノチアゾリ
ルカルボニル及びジメチルアミノニコチノイルを挙げる
ことができる。好適には置換分γを１若しくは３個有し
ていてもよい酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる
群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個有する５乃至
７員複素芳香環カルボニル基であり、更に好適には置換
分γを１個有していてもよい酸素原子、窒素原子及び硫
黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３
個有する５若しくは６員複素芳香環カルボニル基であ
り、最も好適には置換分γを１個有していてもよい窒素
原子を１個有する５若しくは６員複素芳香環カルボニル
基である。

【００５４】本発明において、Ｒ⁸における「置換基群
αから選択される基で１乃至３個置換されていてもよい
Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールスルホニル基」とは、前述した置換
基を有しない基に加え、置換基を有する基としては、例
えばメチルフェニルスルホニル、クロロフェニルスルホ
ニル、フルオロフェニルスルホニル、トリフルオロメチ
ルフェニルスルホニル、ニトロフェニルスルホニル、シ
アノフェニルスルホニル、アセチルフェニルスルホニ
ル、ベンゾイルフェニルスルホニル、ビフェニリルスル
ホニル、メチルビフェニリルスルホニル、メチルナフチ
ルスルホニル、アセチルナフチルスルホニル及びベンゾ
イルナフチルスルホニルを挙げることができる。好適に
は置換分αを１乃至３個有していてもよいフェニルスル
ホニル基であり、更に好適には置換分αを１個有してい
てもよいフェニルスルホニル基である。

【００５５】本発明において、Ｒ⁸における「置換基群
αから選択される基で１乃至３個置換されていてもよい
Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキルスルホニル基」とは、前述した置
換基を有しない基に加え、置換基を有する基としては、
例えばメチルベンジルスルホニル、クロロベンジルスル
ホニル、フルオロベンジルスルホニル、トリフルオロメ
チルベンジルスルホニル、ニトロフェニルスルホニル、
シアノフェニルスルホニル、アセチルベンジルスルホニ
ル、ベンゾイルベンジルスルホニル、ビフェニリルメチ
ルスルホニル、メチルビフェニリルメチルスルホニル、
メチルナフチルメチルスルホニル、アセチルナフチルメ
チルスルホニル、ベンゾイルナフチルメチルスルホニ
ル、メチルフェネチルスルホニル、クロロフェネチルス
ルホニル、フルオロフェネチルスルホニル、トリフルオ
ロメチルフェネチルスルホニル、ニトロフェネチルスル
ホニル、シアノフェネチルスルホニル、アセチルフェネ
チルスルホニル、メチルナフチルエチルスルホニル、ア
セチルナフチルエチルスルホニル、メチルフェニルブチ
ルスルホニル、アセチルフェニルブチルスルホニル、メ
チルナフチルブチルスルホニル及びアセチルナフチルブ
チルスルホニルを挙げることができる。好適には置換分
αを１乃至３個有していてもよいフェニル及びＣ₁−Ｃ₆
アルキルを有するフェニルアルキルスルホニル基であ
り、更に好適には置換分αを１個有していてもよいフェ
ニル及びＣ₁−Ｃ₄アルキルを有するフェニルアルキルス
ルホニル基であり、最も好適には置換分αを１個有して
いてもよいベンジルスルホニル基、又はフェネチルスル
ホニル基である。

【００５６】Ｒ⁸乃至Ｒ¹⁰が「置換基群βから選択され
る基で１乃至２個置換されていてもよいカルバモイル
基」を示す場合、当該基としては、例えばカルバモイ
ル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピ
ルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ブチルカ
ルバモイル、ｓ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカル
バモイル、ペンチルカルバモイル、ヘキシルカルバモイ
ル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、Ｎ
−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル、ジプロピルカルバ
モイル、ジブチルカルバモイル、ジペンチルカルバモイ
ル、ジヘキシルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニ
ルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルカルバ
モイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−
メチル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−イ
ソプロピルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルカ
ルバモイル、トリフルオロメチルフェニルカルバモイ
ル、Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−フェニルカルバモイル、４−
ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェニルカルバモ
イル、４−ヒドロキシ−３，５−ジｔ−ブチルフェニル
カルバモイル、Ｎ−フルオロフェニル−Ｎ−エチルカル
バモイル、アダマンチルフェニルカルバモイル、４−ア
ミノ−３，５−ジメチルフェニルカルバモイル、アセチ
ルフェニルカルバモイル、メトキシフェニルカルバモイ
ル、ベンゾイルフェニルカルバモイル、フルオロフェニ
ルカルバモイル、Ｎ−フルオロフェニル−Ｎ−エチルカ
ルバモイル、Ｎ−クロロフェニル−Ｎ−エチルカルバモ
イル、Ｎ−フルオロフェニル−Ｎ−メチルカルバモイ
ル、Ｎ−クロロフェニル−Ｎ−メチルカルバモイル、ク
ロロフェニルカルバモイル、ジフルオロフェニルカルバ
モイル、ジクロロフェニルカルバモイル、ジクロロフェ
ニルカルバモイル、ニトロフェニルカルバモイル、（ジ
メチルアミノ）フェニルカルバモイル、ビフェニリルカ
ルバモイル、メチルビフェニリルカルバモイル、メチル
ナフチルカルバモイル、トリフルオロナフチルカルバモ
イル、ヒドロキシナフチルカルバモイル、メトキシナフ
チルカルバモイル、フルオロナフチルカルバモイル、ク
ロロナフチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、フ
ルオロフェニルカルバモイル、１−若しくは２−インデ
ニルカルバモイル、１−若しくは２−ナフチルカルバモ
イル、ジフェニルカルバモイル、ホルミルカルバモイ
ル、アセチルカルバモイル、プロピオニルカルバモイ
ル、ブチリルカルバモイル、イソブチリルカルバモイ
ル、バレリルカルバモイル、イソバレリルカルバモイ
ル、ピバロイルカルバモイル、ヘキサノイルカルバモイ
ル、アクリロイルカルバモイル、メタクリロイルカルバ
モイル、クロトイルカルバモイル、ベンゾイルカルバモ
イル、１−インダンカルボニルカルバモイル、１−若し
くは２−ナフトイルカルバモイル、２，６−ジイソプロ
ピルベンゾイルカルバモイル、１−インダンカルボニル
カルバモイル、１−若しくは２−ナフトイルカルバモイ
ル、ジフェニルカルバモイル、フェニルアセチルカルバ
モイル、３−フェニルプロピオニルカルバモイル、４−
フェニルブチリルカルバモイル、５−フェニルペンタノ
イルカルバモイル、６−フェニルヘキサノイルカルバモ
イル、シクロプロピオニルカルバモイル、シクロブチリ
ルカルバモイル、シクロペンタノイルカルバモイル、シ
クロヘキサノイルカルバモイル、ピロリルカルボニルカ
ルバモイル、イミダゾリルカルボニルカルバモイル、ピ
ラゾリルカルボニルカルバモイル、トリアゾリルカルボ
ニルカルバモイル、テトラゾリルカルボニルカルバモイ
ル、ニコチノイルカルバモイル、イソニコチノイルカル
バモイル、ピラジニルカルボニルカルバモイル、ピリミ
ジニルカルボニルカルバモイル、ピリダジニルカルボニ
ルカルバモイル、チアゾリルカルボニルカルバモイル、
オキサゾリルカルボニルカルバモイル、オキサジアゾリ
ルカルボニルカルバモイル、チアジアゾリルカルボニル
カルバモイル、４−トリフルオロメチルフェニルカルバ
モイルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジアセチルカルバモイ
ル、Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヘキシルカルバモイル、Ｎ−ア
セチル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−アセチル−Ｎ−
エチルカルバモイル、Ｎ−アセチル−Ｎ−プロピルカル
バモイル、Ｎ−アセチル−Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ
−アセチル−Ｎ−ペンチルカルバモイル、Ｎ−アセチル
−Ｎ−ヘキシルカルバモイル、ベンゾイルカルバモイ
ル、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−ベ
ンゾイル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−ベンゾイル−
Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ブチ
ルカルバモイル、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ペンチルカルバ
モイル、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ヘキシルカルバモイル、
Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−ベン
ジル−Ｎ−ベンゾイルカルバモイル、ベンジルカルバモ
イル、フルオロベンジルカルバモイル、クロロベンジル
カルバモイル、トリフルオロメチルベンジルカルバモイ
ル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−ベン
ジル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−プ
ロピルカルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−イソプロピル
カルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−フェニルカルバモイ
ル、４−ヒドロキシ−３，５−ジｔ−ブチルベンジルカ
ルバモイル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−１−ナフトイルカルバ
モイル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−２−ナフトイルカルバモイ
ル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−フェニルアセチルカルバモイ
ル、Ｎ−イソブチル−Ｎ−シクロヘプタノイルカルバモ
イル、Ｎ−ブチル−Ｎ−ニコチノイルカルバモイル、Ｎ
−ヘキシル−Ｎ−ニコチノイルカルバモイル及びＮ−イ
ソニコチノイル−Ｎ−ヘキシルカルバモイルを挙げるこ
とができる。好適には置換分としてＣ ₁−Ｃ₆アルキル、
置換分βを１乃至３個有していてもよいＣ₆−Ｃ₁₀アリ
ール、置換分βを１乃至３個有していてもよいＣ₆−Ｃ
₁₀アリール及びＣ₁−Ｃ₆アルキルを有するアラルキル、
置換分βを１乃至３個有していてもよいＣ₇−Ｃ₁₁芳香
族アシル基を１乃至２個有していてもよいカルバモイル
基であり、更に好適にはＣ₁−Ｃ₆アルキル、置換分βを
１個有していてもよいフェニル、置換分βを１個有して
いてもよいフェニル及びＣ₁−Ｃ₄アルキルを有するフェ
ニルアルキル、置換分βを１個有していてもよいフェニ
ルカルボニルを１乃至２個有していてもよいカルバモイ
ル基であり、最も好適には置換分としてＣ₁−Ｃ₆アルキ
ル、若しくは置換分βを１個有していてもよいフェニル
を１個有していてもよいカルバモイル基であり、更に好
適には置換分として置換分βを１個有していてもよいフ
ェニルを１個有していてもよいカルバモイル基である。

【００５７】本発明において、Ｒ⁹及びＲ¹⁰の定義にお
ける「Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基（該アルキル基は、同一又は
異なった１乃至３個のＣ₁−Ｃ₆アルコキシカルボニル基
で置換されていてもよい）」とは、無置換の前記Ｃ₁−
Ｃ₆アルキル基又は前記Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基に同一又は
異なった１乃至３個のＣ₁−Ｃ₆アルコキシカルボニル基
（前記Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ基がカルボニル基と結合した
基を示す）が結合した基を示し、例えば、前記Ｃ₁−Ｃ₆
アルキル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカ
ルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イ
ソプロポキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシ
カルボニルエチル基、メトキシカルボニルプロピル基、
エトキシカルボニルプロピル基を挙げることができる。
好適には、メトキシカルボニルメチル基、メトキシカル
ボニルエチル基、エトキシカルボニルメチル基、エトキ
シカルボニルエチル基である。

【００５８】本発明の化合物（Ｉ）は、常法に従って塩
にすることができる。それらの塩も本願発明に包含され
る。そのような塩としては、例えば、ナトリウム塩、カ
リウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシ
ウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、
アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コ
バルト塩等の金属塩；アンモニウム塩のような無機塩、
ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリ
ン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエス
テル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン
塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミ
ン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジ
ルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイ
ン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−Ｎ−フェ
ネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニ
ウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩の
ような有機塩等のアミン塩；弗化水素酸塩、塩酸塩、臭
化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸
塩；硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸
塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン
酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルカンスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-トルエンスルホン酸
塩のようなアリ−ルスルホン酸塩、酢酸、りんご酸、フ
マ−ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸
塩、マレイン酸塩等の有機酸塩；及び、オルニチン酸
塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ
酸塩を挙げることができ、好適には、ハロゲン化水素酸
塩又は有機酸塩である。

【００５９】本発明の前記一般式（Ｉ）を有する置換縮
合イミダゾール誘導体は、常法に従って薬理上許容され
るエステルにすることができる。それらのエステルも本
願発明に包含される。前記一般式（Ｉ）を有する置換縮
合イミダゾール誘導体の薬理上許容されるエステルは、
前記一般式（Ｉ）を有する置換縮合イミダゾール誘導体
に比べて医学的に使用され、薬理上受け入れられるもの
であれば特に限定はない。

【００６０】本発明の前記一般式（Ｉ）の置換縮合イミ
ダゾール誘導体のエステルとしては、例えば炭素数１乃
至６個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル、炭
素数７乃至１９個を有するアラルキル、炭素数１乃至６
個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルカノイルオキ
シが置換した炭素数１乃至５個を有する直鎖状若しくは
分枝鎖状のアルキル、炭素数１乃至６個を有する直鎖状
若しくは分枝鎖状のアルキルオキシカルボニルオキシが
置換した炭素数１乃至５個を有する直鎖状若しくは分枝
鎖状のアルキル、炭素数５乃至７個を有するシクロアル
キルカルボニルオキシが置換した炭素数１乃至５個を有
する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル、炭素数５乃至
７個を有するシクロアルキルオキシカルボニルオキシが
置換した炭素数１乃至５個を有する直鎖状若しくは分枝
鎖状のアルキル、炭素数６乃至１０個を有するアリール
カルボニルオキシが置換した炭素数１乃至５個を有する
直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル、炭素数６乃至１０
個を有するアリールオキシカルボニルオキシが置換した
炭素数１乃至５個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のア
ルキル基及び５位に置換分として炭素数１乃至６個を有
する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキルを有する２−オ
キソ−１，３−ジオキソレン−４−イルメチル基を挙げ
ることができる。

【００６１】ここに、炭素数１乃至４個を有する直鎖状
若しくは分枝鎖状のアルキル基及び炭素数１乃至６個を
有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基は、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、メチル
ブチル、ジメチルプロピル、エチルプロピル、ヘキシ
ル、メチルペンチル、ジメチルブチル、エチルブチル、
又はトリメチルプロピルであり、好適には炭素数１乃至
４個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基であ
り、更に好適にはメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル又はイソブチルであり、最も好適にはメチ
ル又はエチルである。

【００６２】炭素数７乃至１９個を有するアラルキル基
は、例えばベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、
フェニルブチル、ナフチルメチル又はジベンジルであり
得、好適にはベンジルである。

【００６３】炭素数５乃至７個を有するシクロアルキル
基は、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチルであり、好適にはシクロヘキシルである。

【００６４】炭素数６乃至１０個を有するアリール基
は、例えばフェニル又はナフチルであり得、好適にはフ
ェニルである。

【００６５】好適なエステル残基（−ＣＯＯＲ）のＲの
具体例は、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ベンジル、ア
セトキシメチル、１−（アセトキシ）エチル、プロピオ
ニルオキシメチル、プロピオニルオキシエチル、ブチリ
ルオキシメチル、ブチリルオキシエチル、イソブチリル
オキシエチル、バレリルオキシメチル、バレリルオキシ
エチル、イソバレリルオキシメチル、イソバレリルオキ
シエチル、ピバロイルオキシメチル、ピバロイルオキシ
エチル、メトキシカルボニルオキシメチル、メトキシカ
ルボニルオキシエチル、エトキシカルボニルオキシメチ
ル、エトキシカルボニルオキシエチル、プロポキシカル
ボニルオキシメチル、プロポキシカルボニルオキシエチ
ル、イソプロポキシカルボニルオキシメチル、イソプロ
ポキシカルボニルオキシエチル、ブトキシカルボニルオ
キシメチル、ブトキシカルボニルオキシエチル、イソブ
トキシカルボニルオキシメチル、イソブトキシカルボニ
ルオキシエチル、ｔ−ブトキシカルボニルオキシメチ
ル、ｔ−ブトキシカルボニルオキシエチル、シクロペン
タンカルボニルオキシメチル、シクロペンタンカルボニ
ルオキシエチル、シクロヘキサンカルボニルオキシメチ
ル、シクロヘキサンカルボニルオキシエチル、シクロペ
ンチルオキシカルボニルオキシメチル、シクロペンチル
オキシカルボニルオキシエチル、シクロヘキシルオキシ
カルボニルオキシメチル、シクロヘキシルオキシカルボ
ニルオキシエチル、ベンゾイルオキシメチル、ベンゾイ
ルオキシエチル、フェノキシカルボニルオキシメチル、
フェノキシカルボニルオキシエチル又は５−メチル−２
−オキソ−１、３−ジオキソレン−４−イルメチルであ
り、更に好適にはメチル、エチルである。

【００６６】又、本発明の化合物（Ｉ）は、大気中に放
置しておいたり、再結晶することにより、水分を吸収
し、吸着水が付いたり、水和物となる場合があり、その
ような溶媒和物を形成する場合には、これら全て本発明
に包含される。

【００６７】更に、本発明の化合物（Ｉ）は、他のある
種の溶媒を吸収し、溶媒和物となる場合があるが、その
ようなものも本発明に包含される。

【００６８】更に、生体内において代謝されて本発明の
化合物（Ｉ）又はその薬理上許容される塩に変換される
化合物、いわゆるプロドラッグも全て含むものである。

【００６９】なお、本発明の化合物（Ｉ）は、種々の異
性体を有する。

【００７０】即ち、Ａが、２，４−ジオキソチアゾリジ
ン−５−イル基又は２，４−ジオキソオキサゾリジン−
５−イル基を含む場合、該チアゾリジン環又はオキサゾ
リジン環の５位は不斉炭素原子を有し、Ｒ配位、Ｓ配位
である立体異性体が存在する。その各々、或はそれらの
任意の割合の化合物いずれも本発明に包含される。その
ような立体異性体は、光学分割された原料化合物を用い
て化合物（Ｉ）を合成するか又は合成した化合物（Ｉ）
を所望により通常の光学分割法若しくは分離法を用いて
光学分割することができる。また、本発明の化合物
（Ｉ）において、Ａが、２，４−ジオキソチアゾリジン
−５−イル基又は２，４−ジオキソオキサゾリジン−５
−イル基を有する基である場合、種々の互変異性体の存
在が考えられ、その各々、あるいはそれらの任意の割合
の化合物いずれも本発明に含有される。

【００７１】また、本発明の化合物（Ｉ）、その薬理上
許容される塩又はその薬理上許容されるエステル類と組
み合わせて医薬組成物をなす薬剤としては、スルホニル
ウレア剤、α−グルコシダーゼ阻害剤、アルドース還元
酵素阻害剤、ビグアナイド剤、スタチン系化合物、スク
アレン合成阻害剤、フィブラート系化合物、ＬＤＬ異化
促進剤、アンジオテンシンＩＩ拮抗剤、アンジオテンシ
ン変換酵素阻害剤及び抗腫瘍剤を挙げることができる。

【００７２】本発明において、スルホニルウレア剤と
は、インシュリンの分泌を促進させる薬剤であり、例え
ば、トルブタミド、アセトヘキサミド、トラザミド、ク
ロルプロパミド等を挙げることができる。

【００７３】本発明において、α−グルコシダーゼ阻害
剤とは、アミラーゼ、マルターゼ、α−デキストリナー
ゼ、スクラーゼなどの消化酵素を阻害して、澱粉や蔗糖
の消化を遅延させる作用を有する薬剤であり、例えば、
アカルボース、Ｎ−（１，３−ジヒドロキシ−２−プロ
ピル）バリオールアミン（一般名：ボグリボース）、ミ
グリトール等を挙げることができる。

【００７４】本発明において、アルドース還元酵素阻害
剤とは、ポリオール経路の最初のステップの律速酵素を
阻害することにより糖尿病性合併症を阻止する薬剤であ
り、例えば、トルレスタット、エパルレスタット、２,
７−ジフルオロ−スピロ（９Ｈ−フルオレン−９,４'−
イミダゾリジン）−２',５'−ジオン（一般名：イミレ
スタット）、３−〔（４−ブロモ−２−フルオロフェニ
ル）メチル〕−７−クロロ−３,４−ジヒドロ−２,４−
ジオキソ−１（２Ｈ）−キナゾリン酢酸（一般名：ゼナ
レスタット）、６−フルオロ−２,３−ジヒドロ−２',
５'−ジオキソ−スピロ〔４Ｈ−１−ベンゾピラン−４,
４'−イミダゾリジン〕−２−カルボキサミド （ＳＮ
Ｋ−８６０）、ゾポルレスタット、ソルビニル、１−
〔（３−ブロモ−２−ベンゾフラニル）スルフォニル〕
−２,４−イミダゾリジンジオン（Ｍ−１６２０９）等
を挙げることができる。

【００７５】本発明において、ビグアナイド剤とは、嫌
気性解糖促進作用、抹消でのインスリン作用増強、腸管
からのグルコース吸収抑制、肝糖新生の抑制、脂肪酸酸
化阻害などの作用を有する薬剤であり、例えば、フェン
ホルミン、メトホルミン、ブホルミン等を挙げることが
できる。本発明において、スタチン系化合物とは、ヒド
ロキシメチルグルタリルＣｏＡ（ＨＭＧ−ＣｏＡ）リダ
クターゼを阻害することにより、血中コレステロールを
低下させる薬剤であり、例えば、プラバスタチン及びそ
のナトリウム塩、シンバスタチン、ロバスタチン、アト
ルバスタチン、フルバスタチン等を挙げることができ
る。

【００７６】本発明において、スクアレン合成阻害剤と
は、スクアレン合成を阻害することにより、血中コレス
テロールを低下させる薬剤であり、例えば、（Ｓ）−α
−〔ビス（２,２−ジメチル−１−オキソプロポキシ）
メトキシ〕ホスフィニル−３−フェノキシベンゼンブタ
ンスルホン酸モノカリウム塩（ＢＭＳ−１８８４９４）
等を挙げることができる。

【００７７】本発明において、フィブラート系化合物と
は、肝臓でのトリグリセリド合成及び分泌を抑制し、リ
ポタンパク質リパーゼを活性化することにより、血中ト
リグリセリドを低下させる薬剤であり、例えば、ベザフ
ィブラート、ベクロブラート、ビニフィブラート、シプ
ロフィブラート、クリノフィブラート、クロフィブラー
ト、クロフィブリン酸、エトフィブラート、フェノフィ
ブラート、ゲムフィブロジル、ニコフィブラート、ピリ
フィブラート、ロニフィブラート、シムフィブラート、
テオフィブラート等を挙げることができる。

【００７８】本発明において、ＬＤＬ異化促進剤とは、
ＬＤＬ（低密度リポタンパク質）受容体を増加すること
により血中コレステロールを低下させる薬剤であり、例
えば、特開平７−３１６１４４に記載された化合物又は
その塩、具体的にはＮ−〔２−〔４−ビス（４−フルオ
ロフェニル）メチル−１−ピペラジニル〕エチル〕−
７,７−ジフェニル−２,４,６−ヘプタトリエン酸アミ
ド等を挙げることができる。

【００７９】上記したスタチン系化合物、スクアレン合
成阻害剤、フィブラート系化合物及びＬＤＬ異化促進剤
は、血中のコレステロールやトリグリセリドを低下させ
る作用を有する他の薬剤と置き換えてもよい。このよう
な薬剤としては、例えばニコモールやニセリトロール等
のニコチン酸誘導体製剤；プロブコール等の抗酸化剤；
コレスチラミン等のイオン交換樹脂製剤などを挙げるこ
とができる。

【００８０】上記においてアンジオテンシンＩＩ拮抗剤
とは、アンジオテンシンＩＩによる血圧上昇を強く抑制
し、血圧を降下させる薬剤である。この様な薬剤として
は、例えばロサルタンカリウム、カンデサルタンシレキ
セチル、イルベサルタン、バルサルタン、テルミサルタ
ン、オルメサルタン等を挙げることができる。

【００８１】本発明において、アンジオテンシン変換酵
素阻害剤とは、アンジオテンシン変換酵素を阻害するこ
とにより、血圧を低下させると同時に糖尿病患者におい
て部分的に血糖を低下させる薬剤であり、例えば、カプ
トプリル、エナラプリル、アラセプリル、デラプリル、
ラミプリル、リジノプリル、イミダプリル、ベナゼプリ
ル、セロナプリル、シラザプリル、エナラプリラート、
フォシノプリル、モベルトプリル、ペリンドプリル、キ
ナプリル、スピラプリル、テモカプリル、トランドラプ
リル等を挙げることができる。一般式（Ｉ）で表される
化合物において、Ｒ¹は、好適には水酸基又はアシルオ
キシ基であり、最も好適には水酸基である。Ｒ²は、好
適にはＣ₁−Ｃ₆アルキル基であり、最も好適にはメチル
基である。Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は、好適にはＣ₁−Ｃ₆アルキ
ル基であり、最も好適にはメチル基である。Ｒ⁶は、好
適にはＣ₁−Ｃ₆アルキル基であり、最も好適にはメチル
基である。Ｙは、好適には酸素原子である。Ｚは、好適
にはＣＨである。ｎは、好適には１である。ｑは、好適
には１である。Ｑは、好適には酸素原子である。Ｘは、
好適にはＣＨ₂、ＣＯ又はＣ＝ＮＯＲ¹⁰で表される基で
あり、最も好適にはＣＨ₂である。Ｒ¹⁰は、好適には、
水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基（該アルキル基は、同一
又は異なった１乃至３個のＣ₁−Ｃ₆アルコキシカルボニ
ル基で置換されていてもよい）又はＣ₇−Ｃ₁₆アラルキ
ル基であり、最も好適には水素原子又はメチル基であ
る。Ａは、好適には一般式(II-b)又は(II-d)で表される
基である。ｍは、一般式(II-a)、(II-b)及び(II-c)にお
いては、好適には０であり、一般式(II-d)においては、
好適には１である。Ｂは、好適には酸素原子又は硫黄原
子である。Ｒ⁷は、好適には水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキ
ル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基（該アリール基は、置換基
群αから選択される同一又は異なった１乃至３個の置換
基で置換されていてもよい）、Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル基
（該アラルキル基は、置換基群αから選択される同一又
は異なった１乃至３個の置換基で置換されていてもよ
い）、又はハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基であり、更に好
適には水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、フェニル基（該
フェニル基は、置換基群αから選択される同一又は異な
った１乃至３個の置換基で置換されていてもよい）、ベ
ンジル基（該ベンジル基は、置換基群αから選択される
同一又は異なった１乃至３個の置換基で置換されていて
もよい）又はハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基であり、より
更に好適にはフェニル基（該フェニル基の４位は、置換
基群αから選択される１個の置換基で置換されていても
よい）、ベンジル基（該ベンジル基の４位は、置換基群
αから選択される１個の置換基で置換されていてもよ
い）又はハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基である。置換基群
αは、好適にはハロゲン原子、水酸基、Ｃ₁−Ｃ₆アルキ
ル基、ハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキ
シ基、シアノ基及びニトロ基であり、更に好適にはハロ
ゲン原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ
基、シアノ基及びニトロ基である。

【００８２】本発明の化合物としては、例えば、以下の
表に記載する化合物を挙げることができる。但し、本発
明はこれらの化合物に限定されるものではない。なお、
表中の略記の意味は以下の通りである。 Ac：アセチル基 Ada(1):１−アダマンチル基 Boz：ベンゾイル基 Bu：ブチル基 cBu ：シクロブチル基 iBu ：イソブチル基 tBu：３級ブチル基 Byr:ブチリル基 Bz：ベンジル基 Dc：デシル基 Et：エチル基 Hp：ヘプチル基 Hx：ヘキシル基 cHx：シクロヘキシル基 Hxn：ヘキサノイル基 Me：メチル基 Oc：オクチル基 Ph：フェニル基 Pn：ペンチル基 cPn：シクロペンチル基 iPn：イソペンチル基 Pnto:ペンタノイル基 Pr：プロピル基 cPr：シクロプロピル基 iPr ：イソプロピル基 Prn：プロピオニル基 Nn：ノニル基

【００８３】

【化９】

【００８４】

【表１】

【００８５】

【表２】

【００８６】

【表３】

【００８７】

【表４】

【００８８】

【表５】

【００８９】

【表６】

【００９０】

【表７】

【００９１】

【表８】

【００９２】

【表９】

【００９３】

【表１０】

【００９４】

【化１０】

【００９５】

【表１１】

【００９６】

【表１２】

【００９７】

【表１３】

【００９８】

【表１４】

【００９９】

【表１５】

【０１００】

【表１６】

【０１０１】

【表１７】

【０１０２】

【表１８】

【０１０３】

【表１９】

【０１０４】

【表２０】

【０１０５】

【化１１】

【０１０６】

【表２１】

【０１０７】

【表２２】

【０１０８】

【表２３】

【０１０９】

【表２４】

【０１１０】

【表２５】

【０１１１】

【表２６】

【０１１２】

【表２７】

【０１１３】

【表２８】

【０１１４】

【表２９】

【０１１５】

【表３０】

【０１１６】

【化１２】

【０１１７】

【表３１】

【０１１８】

【表３２】

【０１１９】

【表３３】

【０１２０】

【表３４】

【０１２１】

【表３５】

【０１２２】

【表３６】

【０１２３】

【表３７】

【０１２４】

【表３８】

【０１２５】

【表３９】

【０１２６】

【表４０】

【０１２７】

【表４１】

【０１２８】

【表４２】

【０１２９】

【化１３】

【０１３０】

【表４３】

【０１３１】

【表４４】

【０１３２】

【表４５】

【０１３３】

【表４６】

【０１３４】

【表４７】

【０１３５】

【表４８】

【０１３６】

【表４９】

【０１３７】

【表５０】

【０１３８】

【表５１】

【０１３９】

【表５２】

【０１４０】

【表５３】

【０１４１】

【表５４】

【０１４２】

【表５５】

【０１４３】

【化１４】

【０１４４】

【表５６】

【０１４５】

【化１５】

【０１４６】

【表５７】

【０１４７】

【表５８】

【０１４８】

【表５９】

【０１４９】

【表６０】

【０１５０】

【表６１】

【０１５１】

【発明の実施の形態】本発明の一般式（Ｉ）を有する化
合物は、以下の方法に従って容易に製造することができ
る。 （Ａ法）Ａ法は、化合物（Ｉ）を製造する方法である。

【０１５２】

【化１６】 上記式中、Ｒ¹乃至Ｒ⁶、Ｘ，Ｙ，Ｚ，Ａ、Ｑ，ｎ及びｑ
は、前述したものと同意義を示し、Ｒ^1aは、Ｒ¹の基の
定義に含まれるアミノ基及び／又は水酸基が、保護され
ていてもよいアミノ基及び／又は水酸基である他、Ｒ¹
の基の定義における基と同様の基を示し、Ｘ^aは、Ｘの
基の定義に含まれるヒドロキシイミノ基及び／又は水酸
基が、保護されていてもよいヒドロキシイミノ基及び／
又は水酸基である他、Ｘの基の定義における基と同様の
基を示し、Ａ^aは、式

【０１５３】

【化１７】 （上記式中、Ｔｒは、トリフェニルメチル基を示し、ｍ
は前述したものと同意義を示し、ＢおよびＲ^7aは前述し
たＢおよびＲ⁷が、後述する「保護されていてもよい水
酸基」、「保護されていてもよいチオール基」および
「保護されていてもよいアミノ基」であるほかＢおよび
Ｒ⁷基の定義における基と同意義を示し、Ｒ^{1 1}は後述す
る「カルボキシル基の保護基」を示す。）を示す。

【０１５４】上記において、Ｒ^1aならびにＢおよびＲ^7a
の定義における「保護されていてもよいアミノ基」の
「保護基」は、有機合成化学の分野で使用されるアミノ
基の保護基であれば特に限定はされないが、例えば、前
記Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシル基、クロロアセチル、ジクロロ
アセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル
のようなハロゲノＣ₂−Ｃ₇アルキルカルボニル基または
メトキシアセチルのようなＣ₁−Ｃ₆アルコキシで置換さ
れたＣ₂−Ｃ₇アルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル
類」；前記Ｃ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、２−ブロモベン
ゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノＣ₇−
Ｃ₁₁芳香族アシル基、２，４，６−トリメチルベンゾイ
ル、４−トルオイルのようなＣ₁−Ｃ₆アルキルで置換さ
れたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、４−アニソイルのよう
なＣ₁−Ｃ₆アルコキシで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族ア
シル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイル
のようなニトロで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル
基、２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのようなＣ
₂−Ｃ₇アルコキシカルボニルで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳
香族アシル基または４−フェニルベンゾイルのようなＣ
₆−Ｃ₁₀アリ−ルで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基
等の「芳香族アシル類」；前記Ｃ₂−Ｃ₇アルコキシカル
ボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのような
ハロゲンまたはトリＣ₁−Ｃ₆アルキルシリルで置換され
たＣ₂−Ｃ₇アルコキシカルボニル基等の「アルコキシカ
ルボニル類」；ビニルオキシカルボニルまたはアリルオ
キシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル
類」；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキ
シカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニルま
たは４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような、１
乃至２個のＣ₁−Ｃ₆アルコキシ又はニトロでアリ−ル環
が置換されていてもよい「アラルキルオキシカルボニル
類」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロ
ピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチ
ルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリ
ル、トリイソプロピルシリルのようなトリＣ₁−Ｃ₆アル
キルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブ
チルシリル、ジフェニルイソプロピルシリルまたはフェ
ニルジイソプロピルシリルのようなアリ−ル及びＣ₁−
Ｃ₆アルキルから選択された基で３個置換されたシリル
基等の「シリル類」；ベンジル、フェネチル、３−フェ
ニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチ
ル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフ
チルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような
１乃至３個のアリ−ル基で置換されたＣ₁−Ｃ₆アルキル
基、４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベン
ジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシ
ベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、２
−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベ
ンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジル、４
−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス（２−ニトロ
フェニル）メチルまたはピペロニルのようなＣ₁−Ｃ₆ア
ルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シア
ノでアリ−ル環が置換された１乃至３個のアリ−ル基で
置換されたＣ₁−Ｃ₆アルキル基等の「アラルキル類」；
又はＮ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン、ベンジリデン、
４−メトキシベンジリデン、４−ニトロベンジリデン、
サリシリデン、５−クロロサリシリデン、ジフェニルメ
チレンまたは（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）
フェニルメチレンのような「シッフ塩基を形成する置換
されたメチレン基」；であり、好適には、Ｃ₁−Ｃ₇脂肪
族アシル基、Ｃ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基又はＣ₂−Ｃ₇ア
ルコキシカルボニル基であり、更に好適にはＣ₂−Ｃ₇ア
ルコキシカルボニル基であり、特に好適にはｔ−ブトキ
シカルボニル基である。

【０１５５】上記において、Ｒ^1a、Ｘ^aならびにＢおよ
びＲ^7aにおける「保護されていてもよいヒドロキシイミ
ノ基及び／または水酸基」の「保護基」は、有機合成化
学の分野で使用される水酸基の保護基であれば特に限定
はされないが、例えば、前記Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシル基、
スクシノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカル
ボキシで置換されたＣ₂−Ｃ₇アルキルカルボニル基、ク
ロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノＣ₂−Ｃ₇ア
ルキルカルボニル基またはメトキシアセチルのようなＣ
₁−Ｃ₆アルコキシで置換されたＣ₂−Ｃ₇アルキルカルボ
ニル基等の「脂肪族アシル類」；前記Ｃ ₇−Ｃ₁₁芳香族
アシル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイ
ルのようなハロゲノＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、２，
４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのよう
なＣ₁−Ｃ₆アルキルで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシ
ル基、４−アニソイルのようなＣ₁−Ｃ₆アルコキシで置
換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、２−カルボキシベ
ンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシ
ベンゾイルのようなカルボキシで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁
芳香族アシル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベ
ンゾイルのようなニトロで置換されたＣ₇−Ｃ_{1 1}芳香族
アシル基、２−（メトキシカルボニル) ベンゾイルのよ
うなＣ₂−Ｃ₇アルコキシカルボニルで置換されたＣ₇−
Ｃ₁₁芳香族アシル基または４−フェニルベンゾイルのよ
うなＣ₆−Ｃ₁₀アリ−ルで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族ア
シル基等の「芳香族アシル類」；テトラヒドロピラン−
２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル、
４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒ
ドロチオピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロ
チオピラン−４−イルのような「テトラヒドロピラニル
又はテトラヒドロチオピラニル類」；テトラヒドロフラ
ン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２−イルのよ
うな「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラ
ニル類」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソ
プロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、
メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシ
リル、トリイソプロピルシリルのようなトリＣ₁−Ｃ₆ア
ルキルシリル基またはジフェニルメチルシリル、ジフェ
ニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フ
ェニルジイソプロピルシリルのようなアリ−ル及びＣ₁
−Ｃ₆アルキルから選択された基で３個置換されたシリ
ル基等の「シリル類」；メトキシメチル、１，１−ジメ
チル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキ
シメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、ｔ
−ブトキシメチルのような（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ）メチ
ル基、２−メトキシエトキシメチルのようなＣ₁−Ｃ₆ア
ルコキシで置換された（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ）メチル基
または２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス
（２−クロロエトキシ) メチルのようなハロゲノ（Ｃ₁
−Ｃ₆アルコキシ）メチル等の「アルコキシメチル
類」；１−エトキシエチル、１−( イソプロポキシ) エ
チルのような（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ）エチル基または
２，２，２−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチ
ル基等の「置換エチル類」；ベンジル、α−ナフチルメ
チル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフ
ェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−ア
ンスリルメチルのような１乃至３個のアリ−ル基で置換
されたＣ₁−Ｃ₆アルキル基または４−メチルベンジル、
２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメ
チルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフ
ェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニ
トロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジ
ル、４−シアノベンジル、メチル、ピペロニルのような
Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、ハロゲン、シ
アノでアリ−ル環が置換された１乃至３個のアリ−ル基
で置換されたＣ₁−Ｃ₆アルキル基等の「アラルキル
類」；前記Ｃ₂−Ｃ₇アルコキシカルボニル基、２，２，
２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシ
リルエトキシカルボニルのようなハロゲン又はトリＣ₁
−Ｃ₆アルキルシリル基で置換されたＣ₂−Ｃ₇アルコキ
シカルボニル基等の「アルコキシカルボニル類」；ビニ
ルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのような
「アルケニルオキシカルボニル類」；ベンジルオキシカ
ルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、
３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニ
トロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオ
キシカルボニルのような、１乃至２個のＣ₁−Ｃ₆アルコ
キシ又はニトロでアリ−ル環が置換されていてもよい
「アラルキルオキシカルボニル類」であり、好適には、
Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシル基、Ｃ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、
Ｃ₂−Ｃ₇アルコキシカルボニル基又は（Ｃ₁−Ｃ₆アルコ
キシ）メチル基であり、更に好適には、Ｃ ₇−Ｃ₁₁芳香
族アシル基又は（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ）メチル基であ
り、特に好適にはベンゾイル基又はメトキシメチル基で
ある。

【０１５６】上記において、ＢおよびＲ^7aにおける「保
護されていてもよいチオール基」の「保護基」は、有機
合成化学の分野で使用されるよいチオール基の保護基で
あれば特に限定はされないが、例えば、前記Ｃ₁−Ｃ₇脂
肪族アシル基、スクシノイル、グルタロイル、アジポイ
ルのようなカルボキシで置換されたＣ₂−Ｃ₇アルキルカ
ルボニル基またはメトキシアセチルのようなＣ₁−Ｃ₆ア
ルコキシで置換されたＣ₂−Ｃ₇アルキルカルボニル基等
の「脂肪族アシル類」；前記Ｃ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル
基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのよ
うなハロゲノＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、２，４，６−
トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのようなＣ₁−
Ｃ₆アルキルで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、４
−アニソイルのようなＣ₁−Ｃ₆アルコキシで置換された
Ｃ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、２−カルボキシベンゾイ
ル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾ
イルのようなカルボキシで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族
アシル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイ
ルのようなニトロで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル
基、２−（メトキシカルボニル) ベンゾイルのようなＣ
₂−Ｃ₇アルコキシカルボニルで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳
香族アシル基または４−フェニルベンゾイルのようなＣ
₆−Ｃ₁₀アリ−ルで置換されたＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基
等の「芳香族アシル類」；テトラヒドロピラン−２−イ
ル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル、４−メ
トキシテトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチ
オピラン−２−イルまたは４−メトキシテトラヒドロチ
オピラン−４−イルのような「テトラヒドロピラニル又
はテトラヒドロチオピラニル類」；テトラヒドロフラン
−２−イルまたはテトラヒドロチオフラン−２−イルの
ような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフ
ラニル類」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イ
ソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリ
ル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチ
ルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリＣ₁−
Ｃ₆アルキルシリル基またはジフェニルメチルシリル、
ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリ
ル、フェニルジイソプロピルシリルのようなアリ−ル及
びＣ₁−Ｃ₆アルキルから選択された基で３個置換された
シリル基等の「シリル類」；メトキシメチル、１，１−
ジメチル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロ
ポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチ
ル、ｔ−ブトキシメチルのような（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキ
シ）メチル基、２−メトキシエトキシメチルのようなＣ
₁−Ｃ₆アルコキシで置換された（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ）
メチル基または２，２，２−トリクロロエトキシメチ
ル、ビス（２−クロロエトキシ) メチルのようなハロゲ
ノ（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ）メチル等の「アルコキシメチ
ル類」；ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチル
メチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−
ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのよ
うな１乃至３個のアリ−ル基で置換されたＣ₁−Ｃ₆アル
キル基または４−メチルベンジル、２，４，６−トリメ
チルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−
メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメ
チル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−
クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベン
ジル、メチル、ピペロニルのようなＣ₁−Ｃ₆アルキル、
Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、ハロゲン、シアノでアリ−ル環が
置換された１乃至３個のアリ−ル基で置換されたＣ₁−
Ｃ₆アルキル基等の「アラルキル類」；前記Ｃ₂−Ｃ₇ア
ルコキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキ
シカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニ
ルのようなハロゲン又はトリＣ₁−Ｃ₆アルキルシリル基
で置換されたＣ₂−Ｃ₇アルコキシカルボニル基等の「ア
ルコキシカルボニル類」；ビニルオキシカルボニルまた
はアリルオキシカルボニルのような「アルケニルオキシ
カルボニル類」；ベンジルオキシカルボニル、４−メト
キシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルまたは４−ニトロベンジルオキシカルボニルの
ような、１乃至２個のＣ₁−Ｃ₆アルコキシ又はニトロで
アリ−ル環が置換されていてもよい「アラルキルオキシ
カルボニル類」であり、好適には、Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシ
ル基、Ｃ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、Ｃ₂−Ｃ₇アルコキシ
カルボニル基、ジフェニルメチル、トリフェニルメチ
ル、のような１乃至３個のアリ−ル基で置換されたＣ₁
−Ｃ₆アルキル基、又は（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ）メチル
基であり、更に好適には、Ｃ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、
１乃至３個のアリ−ル基で置換されたＣ₁−Ｃ₆アルキル
基又は（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ）メチル基であり、特に好
適にはベンゾイル基、ジフェニルメチル基、トリフェニ
ルメチル基又はメトキシメチル基である。

【０１５７】上記において、Ｒ¹¹の定義における「カル
ボキシル基の保護基」とは、有機合成化学の分野で使用
されるカルボキシル基の保護基であれば特に限定はされ
ないが、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ
プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、t−
ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチ
ル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシ
ル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペ
ンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、
３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、
１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、
１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２
−エチルブチルのような「アルキル基」；エテニル、１
−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル−２−プロ
ペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１
−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−エチ
ル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、１
−メチル−２−ブテニル、１−メチル−１−ブテニル、
３−メチル−２−ブテニル、１−エチル−２−ブテニ
ル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メ
チル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、１−
ペンテニル、２−ペンテニル、１−メチル−２−ペンテ
ニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペンテニル、
１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテ
ニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、
２−メチル−４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘ
キセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキ
セニルのような「アルケニル基」；エチニル、２−プロ
ピニル、１−メチル−２−プロピニル、２−メチル−２
−プロピニル、２−エチル−２−プロピニル、２−ブチ
ニル、１−メチル−２−ブチニル、２−メチル−２−ブ
チニル、１−エチル−２−ブチニル、３−ブチニル、１
−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３−ブチニル、
１−エチル−３−ブチニル、２−ペンチニル、１−メチ
ル−２−ペンチニル、２−メチル−２−ペンチニル、３
−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニル、２−メチ
ル−３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−メチル−４
−ペンチニル、２−メチル−４−ペンチニル、２−ヘキ
シニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシ
ニルのようなアルキニル基；トリフルオロメチル、トリ
クロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジ
ブロモメチル、フルオロメチル、２，２，２−トリフル
オロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２−ブロ
モエチル、２−クロロエチル、２−フルオロエチル、２
−ヨードエチル、３−クロロプロピル、４−フルオロブ
チル、６−ヨードヘキシル、２，２−ジブロモエチルの
ような「ハロゲノアルキル基」；２−ヒドロキシエチ
ル、２，３−ジヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプ
ロピル、３，４−ジヒドロキシブチル、４−ヒドロキシ
ブチルのような「ヒドロキシアルキル基」；アセチルメ
チルのような「脂肪族アシルアルキル基」；ベンジル、
フェネチル、３−フェニルプロピル、α−ナフチルメチ
ル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェ
ニルメチル、６−フェニルヘキシル、α−ナフチルジフ
ェニルメチル、９−アンスリルメチルのような「１乃至
３個のアリ−ル基で置換されたアルキル基」、４−メチ
ルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，
４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、
４−メトキシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベ
ンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４
−ブロモベンジル、４−シアノベンジル、４−シアノベ
ンジルジフェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）
メチル、ピペロニル、４−メトキシカルボニルベンジル
のようなアルキル、アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シ
アノ、アルコキシカルボニル基でアリ−ル環が置換され
た１乃至３個のアリ−ル基で置換されたアルキル基等の
「アラルキル基」；トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、イソプロピルジメチルシリル、t−ブチルジメチル
シリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジt−ブ
チルシリル、トリイソプロピルシリル、メチルジフェニ
ルシリル、イソプロピルジフェニルシリル、ブチルジフ
ェニルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのような
「シリル基」を挙げることができ、好適には、Ｃ₁−Ｃ₆
アルキル基、またはＣ₇−Ｃ₁₀アラルキル基であり、更
に好適にはＣ₁−Ｃ₆アルキル基であり、特に好適にはＣ
₁−Ｃ₄アルキル基である。

【０１５８】なお、上述または後述の置換基群α及び／
又は置換基群γから選択される基で置換された基を持つ
化合物においては、所望により上述の保護基等で保護
し、後述する方法にて保護基を除去する。

【０１５９】第Ａ１工程は、一般式（Ｖ）を有する化合
物を製造する工程であり、不活性溶媒中、ホスフィン類
（好適には、トリブチルホスフィン又はトリフェニルホ
スフィンである。）及びアゾジカルボン酸化合物類（好
適には、アゾジカルボン酸ジエチル又は１，１−アゾジ
カルボニルジピペリジンである。）の存在下、一般式
（ＩＩＩ）を有する化合物と一般式（ＩＶ）を有する化
合物を反応させることにより行われる。

【０１６０】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロ
メタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのような
アミド類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適に
は、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化
炭化水素類、エーテル類又は上記溶媒の混合溶媒（更に
好適には、芳香族炭化水素類又はエーテル類であり、特
に好適には、トルエン又はテトラヒドロフラン）であ
る。

【０１６１】反応温度は、原料化合物、溶媒等により異
なるが、通常、−２０℃乃至１５０℃（好適には、０℃
乃至６０℃）である。

【０１６２】反応時間は、原料化合物、溶媒、反応温度
等により異なるが、通常、３０分間乃至５日間（好適に
は、５時間乃至７２時間）である。

【０１６３】反応終了後、本反応の目的化合物（Ｖ）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、不
溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢
酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化合
物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウ
ム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結
晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用され
ている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用
し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製す
ることができる。

【０１６４】第Ａ２工程は、一般式（Ｉ）を有する化合
物を製造する工程であり、不活性溶媒の存在下又は非存
在下（好適には、存在下）、化合物（Ｖ）を酸と反応さ
せ、Ａ^aにおけるトリフェニルメチル基を除去した後、
所望によりＲ^1a、Ｘ^aならびにＢおよびＲ⁷におけるアミ
ノ基、ヒドロキシイミノ基、水酸基及び／又はチオール
基の保護基及び／またはカルボキシル基の保護基である
Ｒ¹¹を除去することにより行われる。

【０１６５】上記前段の反応に使用される酸は、通常の
反応において酸触媒として使用されるものであれば特に
限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩
素酸、燐酸のような無機酸；酢酸、蟻酸、蓚酸、メタン
スルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースル
ホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸のような有機酸等のブレンステッド酸；塩化亜鉛、
四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリ
ド、ボロントリブロミドのようなルイス酸；酸性イオン
交換樹脂；であり、好適には、無機酸又は有機酸（特に
好適には、塩酸、酢酸又はトリフルオロ酢酸）である。

【０１６６】上記前段の反応に使用される不活性溶媒
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされない
が、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホル
ム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化
炭素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよ
うなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよう
なエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ
−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ
−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチ
レングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘ
キサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド
類；水；或は水又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適
には、エーテル類、アルコ−ル類又は水（特に好適に
は、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エタノール又は
水）である。

【０１６７】反応温度は、原料化合物、使用される酸、
溶媒等により異なるが、通常、−２０℃乃至沸点温度
（好適には、０℃乃至１００℃）である。

【０１６８】反応時間は、原料化合物、使用される酸、
溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１５分間乃至
４８時間（好適には、３０分間乃至２０時間）である。

【０１６９】また、本工程は、不活性溶媒中、大気圧下
乃至加圧下（好適には、加圧下）化合物（Ｖ）に接触還
元反応を行い、Ａ^aにおけるトリフェニルメチル基を除
去した後、所望によりＲ^1a、Ｘ^aならびにＢおよびＲ⁷に
おけるアミノ基、ヒドロキシイミノ基、水酸基及び／又
はチオール基の保護基及び／又はカルボキシル基の保護
基であるＲ¹¹を除去することにより、目的化合物（Ｉ）
を製造することもできる。

【０１７０】上記接触還元反応に使用される触媒は、通
常の接触還元反応において使用されるものであれば特に
限定はされないが、例えば、パラジウム−炭素、ラネ−
ニッケル、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニル
ホスフィン−酸化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム黒、酸化白金、白金黒であり、好適に
は、パラジウム−炭素である。

【０１７１】上記接触還元反応に使用される不活性溶媒
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされない
が、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；クロロホル
ム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化
炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類；メタノ−ル、エタ
ノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミ
ルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オ
クタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブの
ようなアルコ−ル類；ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドのようなアミド類；酢酸、トリフルオロ酢酸のよ
うな有機酸類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適
には、エーテル類、アルコ−ル類又は有機酸類（特に好
適には、アルコ−ル類）である。

【０１７２】反応温度は、原料化合物、使用される触
媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃
（好適には、１０℃乃至５０℃）である。

【０１７３】反応時間は、原料化合物、使用される触
媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間
乃至４８時間（好適には、１時間乃至２４時間）であ
る。

【０１７４】アミノ基、水酸基及びチオール基の保護基
の除去はその種類によって異なるが、一般に有機合成化
学の技術において周知の方法、例えば、T.W.Green,（Pr
otective Groups in Organic Synthesis）,John Wiley
& Sons:J.F.W.McOmis,（Protective Groups in Organic
Chemistry）,Plenum Pressに記載の方法により以下のよ
うに行うことができる。

【０１７５】アミノ基の保護基が、シリル類である場合
には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素
酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素
アニオンを生成する化合物で処理することにより除去さ
れる。

【０１７６】上記反応に使用される溶媒は、反応を阻害
しないものであれば特に限定はないが、例えば、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテルのようなエ−テル類が好適であ
る。

【０１７７】反応温度及び反応時間は、特に限定はない
が、通常、０℃乃至５０℃で１０時間乃至１８時間実施
される。

【０１７８】アミノ基の保護基が、脂肪族アシル類、芳
香族アシル類、アルコキシカルボニル類又はシッフ塩基
を形成する置換されたメチレン基である場合には、水性
溶媒の存在下に、酸又は塩基で処理することにより除去
することができる。

【０１７９】上記反応に使用される酸としては、通常酸
として使用されるもので反応を阻害しないものであれば
特に限定はないが、例えば、臭化水素酸、塩酸、硫酸、
過塩素酸、燐酸、硝酸のような無機酸であり、好適には
塩酸である。

【０１８０】上記反応に使用される塩基としては、化合
物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定は
ないが、好適には、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアル
カリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブ
トキシドのような金属アルコキシド類；アンモニア水、
濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類；が用
いられる。

【０１８１】上記反応に使用される溶媒としては、通常
の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はな
いが、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ
−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ
−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチ
レングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘ
キサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；
水；水と上記有機溶媒との混合溶媒；であり、好適には
エーテル類（特に好適にはジオキサン）である。

【０１８２】反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶
媒及び使用される酸または塩基等により異なり、特に限
定はないが、副反応を抑制するために、通常、０℃乃至
１５０℃で、1 時間乃至１０時間反応させる。

【０１８３】アミノ基の保護基が、アラルキル類又はア
ラルキルオキシカルボニル類である場合には、通常、不
活性溶媒中、還元剤と接触させることにより（好適に
は、触媒下、常温にて接触還元）除去する方法又は酸化
剤を用いて除去する方法が好適である。

【０１８４】接触還元による除去に使用される溶媒とし
ては、本反応に不活性なものであれば特に限定はない
が、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル
のようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロ
パノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブ
タノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジ
エチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シク
ロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル
類；酢酸のような有機酸類；水；上記溶媒と水との混合
溶媒；であり、好適には、アルコ−ル類、エーテル類、
有機酸類又は水（特に好適には、アルコール類又は有機
酸類）である。

【０１８５】接触還元による除去に使用される使用され
る触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるもの
であれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム−
炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−
酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジ
ウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。

【０１８６】圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。

【０１８７】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触
媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃
で、５分間乃至２４時間実施される。

【０１８８】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。

【０１８９】このような有機溶媒としては、例えば、ク
ロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタ
ン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；アセト
ニトリルのようなニトリル類、ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエ−テル類；アセトンのようなケトン
類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなア
ミド類；及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類；スルホラン；であり、好適には、ハロゲン化炭化
水素類、エ−テル類又はスルホキシド類（特に好適に
は、ハロゲン化炭化水素類又はスルホキシド類）であ
る。

【０１９０】使用される酸化剤としては、酸化に使用さ
れる化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫
酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウム
ナイトレイト（ＣＡＮ）、２，３−ジクロロ−５，６−
ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）が用いられる。

【０１９１】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触
媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１５０℃
で、１０分間乃至２４時間実施される。

【０１９２】アミノ基の保護基がアルケニルオキシカル
ボニル類である場合は、通常、アミノ基の保護基が前記
の脂肪族アシル類、芳香族アシル類、アルコキシカルボ
ニル類又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基
である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理
することにより行われる。

【０１９３】尚、アリルオキシカルボニル基の場合は、
特に、パラジウム、及びトリフェニルホスフィン若しく
はニッケルテトラカルボニルを使用して除去する方法が
簡便で、副反応が少なく実施することができる。

【０１９４】ヒドロキシイミノ基、水酸基及びチオール
基の保護基として、シリル類を使用した場合には、通
常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素酸、弗化
水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素アニオン
を生成する化合物で処理するか、又は、塩酸、臭化水素
酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻
酸、蓚酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフ
ルオロメタンスルホン酸のような有機酸で処理すること
により除去できる。

【０１９５】尚、弗素アニオンにより除去する場合に、
蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えること
によって、反応が促進することがある。

【０１９６】上記反応に使用される不活性溶媒として
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされない
が、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類；酢酸のような有機酸；水；上記溶媒の
混合溶媒；である。

【０１９７】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触
媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃
（好適には、１０℃乃至５０℃）で、１時間乃至２４時
間実施される。

【０１９８】ヒドロキシイミノ基、水酸基の保護基及び
チオール基が、アラルキル類又はアラルキルオキシカル
ボニル類である場合には、通常、不活性溶媒中、還元剤
と接触させることにより（好適には、触媒下、常温にて
接触還元）除去する方法又は水酸基の保護基の場合には
酸化剤を用いて除去する方法が好適である。

【０１９９】接触還元による除去に使用される溶媒とし
ては、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；トルエン、ベンゼン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピ
ルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プ
ロパノール、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソ
ブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、
ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シ
クロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−
ル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメ
チルリン酸トリアミドのようなアミド類；蟻酸、酢酸の
ような脂肪酸類；水；上記溶媒の混合溶媒；であり、好
適にはアルコ−ル類（特に好適にはメタノール）であ
る。

【０２００】接触還元による除去に使用される触媒とし
ては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、
特に限定はないが、例えば、パラジウム−炭素、パラジ
ウム−黒、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウ
ム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化
ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムであり、好適には
パラジウム−炭素である。

【０２０１】圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。

【０２０２】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触
媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃
（好適には、２０℃乃至７０℃）、５分間乃至４８時間
（好適には、１時間乃至２４時間）である。

【０２０３】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。

【０２０４】このような有機溶媒として好適には、アセ
トンのようなケトン類、メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、アセト
ニトリルのようなニトリル類、ジエチルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドのようなアミド類及びジメチルスル
ホキシドのようなスルホキシド類を挙げることができ
る。

【０２０５】使用される酸化剤としては、酸化に使用さ
れる化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫
酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウム
ナイトレイト（ＣＡＮ）、２，３−ジクロロ−５，６−
ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）が用いられる。

【０２０６】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触
媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１５０℃
で、１０分間乃至２４時間実施される。

【０２０７】また、液体アンモニア中若しくはメタノ−
ル、エタノ−ル、ｎ−プロプアノール、イソプロパノ−
ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブのようなアルコ−ル類中において、−７８℃
乃至０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのようなア
ルカリ金属類を作用させることによっても除去できる。

【０２０８】更に、溶媒中、塩化アルミニウム−沃化ナ
トリウム又はトリメチルシリルイオダイドのようなアル
キルシリルハライド類を用いて除去することができる。

【０２０９】使用される溶媒としては、本反応に関与し
ないものであれば特に限定はないが、好適には、メチレ
ンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；
上記溶媒の混合溶媒；が挙げられる。

【０２１０】反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶
媒等により異なるが、通常は０℃乃至５０℃で、５分間
乃至７２時間実施される。

【０２１１】尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いら
れる。

【０２１２】ヒドロキシイミノ基、水酸基及びチオール
基の保護基が、脂肪族アシル類、芳香族アシル類又はア
ルコキシカルボニル基類である場合には、溶媒中、塩基
で処理することにより除去される。

【０２１３】上記反応において使用される塩基として
は、化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特
に限定はないが、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸
水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
のようなアルカリ金属重炭酸塩類；水酸化リチウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属
水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシド
のような金属アルコキシド類；アンモニア水、濃アンモ
ニア−メタノ−ルのようなアンモニア類；であり、好適
には、アルカリ金属水酸化物類、金属アルコキシド類又
はアンモニア類（特に好適には、アルカリ金属水酸化物
類又は金属アルコキシド類）である。

【０２１４】使用される溶媒としては、通常の加水分解
反応に使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソ
プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；水；上記
溶媒の混合溶媒が好適である。

【０２１５】反応温度及び反応時間は、原料化合物、使
用される塩基、溶媒等により異なり特に限定はないが、
副反応を抑制するために、通常、−２０℃乃至１５０℃
で、１時間乃至１０時間実施される。

【０２１６】ヒドロキシイミノ基、水酸基の保護基が、
アルコキシメチル類、テトラヒドロピラニル類、テトラ
ヒドロチオピラニル類、テトラヒドロフラニル類、テト
ラヒドロチオフラニル類又は置換されたエチル類である
場合には、通常、溶媒中、酸で処理することにより除去
される。

【０２１７】使用される酸としては、通常、ブレンステ
ッド酸又はルイス酸として使用されるものであれば特に
限定はなく、好適には、塩化水素；塩酸、硫酸、硝酸の
ような無機酸；又は酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸等の
ブレンステッド酸：三弗化ホウ素のようなルイス酸であ
るが、ダウエックス５０Ｗのような強酸性の陽イオン交
換樹脂も使用することができる。

【０２１８】上記反応に使用される溶媒としては、本反
応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、
ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのよう
な脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイ
ソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−
ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ
−ル、イソブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルア
ルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタ
ノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのよう
なアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンの
ようなケトン類；水；上記溶媒の混合溶媒；であり、好
適には、エ−テル類（特に好適には、テトラヒドロフラ
ン）又はアルコール類（特に好適には、メタノール）で
ある。

【０２１９】反応温度及び反応時間は、原料化合物、使
用される酸、溶媒等により異なるが、通常、−１０℃乃
至２００℃（好適には、０乃至１５０℃）で、５分間乃
至４８時間（好適には、３０分間乃至１０時間）であ
る。

【０２２０】ヒドロキシイミノ基、水酸基の保護基が、
アルケニルオキシカルボニル類である場合は、通常、水
酸基の保護基が前記の脂肪族アシル類、芳香族アシル類
又はアルコキシカルボニル類である場合の除去反応の条
件と同様にして、塩基と処理することにより達成され
る。

【０２２１】尚、アリルオキシカルボニル基の場合は、
特にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン、又はビ
ス（メチルジフェニルホスフィン）（１，５−シクロオ
クタジエン）イリジウム（Ｉ）・ヘキサフルオロホスフ
ェートを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少な
く実施することができる。

【０２２２】なお、前述された、化合物（Ｖ）と酸を接
触させる反応または化合物（Ｖ）に接触還元反応を行う
ことにより、アミノ基、ヒドロキシイミノ基、水酸基及
び／又はチオール基の保護基が同時に除去されることも
ある。

【０２２３】また、アミノ基、ヒドロキシイミノ基、水
酸基及び／又はチオール基の保護基の除去は、順不同で
希望する除去反応を順次実施することができる。

【０２２４】カルボキシル基の保護基は、水性溶媒の存
在下に、酸又は塩基で処理することにより除去すること
ができる。上記反応に使用される酸としては、通常酸と
して使用されるもので反応を阻害しないものであれば特
に限定はないが、例えば、臭化水素酸、塩酸、硫酸、過
塩素酸、燐酸、硝酸のような無機酸であり、好適には塩
酸である。

【０２２５】上記反応に使用される塩基としては、化合
物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定は
ないが、好適には、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアル
カリ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブ
トキシドのような金属アルコキシド類；アンモニア水、
濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類；が用
いられる。

【０２２６】上記反応に使用される溶媒としては、通常
の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はな
いが、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ
−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ
−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチ
レングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘ
キサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；
水；水と上記有機溶媒との混合溶媒；であり、好適には
エーテル類（特に好適にはジオキサン）である。

【０２２７】反応温度及び反応時間は、原料化合物、溶
媒及び使用される酸若しくは塩基等により異なり、特に
限定はないが、副反応を抑制するために、通常、０℃乃
至１５０℃で、1 時間乃至１０時間反応させる。反応終
了後、本反応の目的化合物（Ｉ）は常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加
え、目的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、
無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸
水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによっ
て得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製
に慣用されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィ
ーを応用し適切な溶離剤で溶出することによって分離、
精製することができる。 （Ｂ法）Ｂ法は、化合物（Ｉ）において、Ａが、式（Ｉ
Ｉ−ａ）、（ＩＩ−ｂ）又は（ＩＩ−ｃ）を有する基で
ある化合物（ＸＩＩＩ）、（ＸＩＶ）または（ＸＩＩ）
を製造する工程である。

【０２２８】

【化１８】 式中、Ｒ¹乃至Ｒ⁶、Ｒ^1a、Ｘ、Ｘ^a、Ｙ、Ｚ、Ｑ、ｎ、
ｑ及びｍは前述と同意義をしめし、Ｄはハロゲン原子を
示し、Ｅは酸素原子又は硫黄原子を示す。

【０２２９】第Ｂ１工程は、一般式（ＶＩＩＩ）を有す
る化合物を製造する工程であり、不活性溶媒の存在下又
は非存在下（好適には存在下）、化合物（ＶＩ）と塩基
を反応させた後、一般式（ＶＩＩ）を有する化合物と反
応させることにより行われる。

【０２３０】上記反応に使用される塩基は、例えば、炭
酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸
塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド類；トリエチル
アミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシク
ロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシ
クロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢ
Ｕ）のような有機アミン類；であり、好適にはアルカリ
金属水素化物類（特に好適には水素化ナトリウム）であ
る。

【０２３１】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド
のようなアミド類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、
好適には、アミド類（特に好適にはジメチルホルムアミ
ド）である。

【０２３２】化合物（ＶＩ）と塩基を反応させる際の反
応温度は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により
異なるが、通常、−５０℃乃至２００℃（好適には、０
℃乃至１２０℃）である。

【０２３３】化合物（ＶＩ）と塩基を反応させる際の反
応時間は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温
度等により異なるが、通常、１５分間乃至２４時間（好
適には、１時間分乃至１０時間）である。

【０２３４】化合物（ＶＩ）と化合物（ＶＩＩ）を反応
させる際の反応温度は、通常、−２０℃乃至２００℃
（好適には、０℃乃至１５０℃）である。

【０２３５】化合物（ＶＩ）と化合物（ＶＩＩ）を反応
させる際の反応時間は、通常、３０分間乃至４８時間
（好適には、１時間乃至２４時間）である。

【０２３６】反応終了後、本反応の目的化合物（ＶＩＩ
Ｉ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を
分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫
酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通
常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜
組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。

【０２３７】第Ｂ２工程は、一般式（Ｘ）を有する化合
物を製造する工程であり、不活性溶媒中、酢酸ナトリウ
ム、ピペリジニウムアセテート、ピペリジニウムベンゾ
エートのような触媒の存在下又は非存在下（好適には存
在下）、化合物（ＶＩＩＩ）と一般式（ＩＸ）を有する
化合物を反応させることにより行われる。

【０２３８】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロ
メタン、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、ｔ−
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブのようなアルコ−ル類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；
又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、アミド類
（特に好適には、ジメチルホルムアミド又はジメチルア
セトアミド）である。

【０２３９】反応温度は、原料化合物、使用される触
媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至２００℃
（好適には、１０℃乃至１５０℃）である。

【０２４０】反応時間は、原料化合物、使用される触
媒、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃
至５０時間（好適には、２時間乃至２４時間）である。

【０２４１】反応終了後、本反応の目的化合物（Ｘ）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反
応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には
濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和し
ない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離
し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナ
トリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合
せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出
することによって分離、精製することができる。

【０２４２】第Ｂ３工程は、一般式（ＸＩ）を有する化
合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物
（Ｘ）に接触還元反応を行うことにより行われる。接触
還元反応は、前記Ａ法第Ａ２工程と同様に行われる。

【０２４３】また、本工程は、化合物（Ｘ）と金属水素
化物を反応させることによっても行われる。化合物
（Ｘ）と金属水素化物を反応させる方法は、ＷＯ９３／
１３０９Ａに開示された方法に準じて行うことができ
る。

【０２４４】第Ｂ４工程は、一般式（ＸＩＩ）を有する
化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、アミノ
基、ヒドロキシイミノ基及び／又は水酸基の保護基を除
去する反応を行うことにより行われる。アミノ基、ヒド
ロキシイミノ基及び／又は水酸基の保護基を除去する反
応は前記Ａ法第Ａ２工程と同様に行われる。

【０２４５】第Ｂ５工程は、一般式（ＸＩＩＩ）を有す
る化合物を製造する工程であり、化合物（Ｘ）におい
て、Ｅが硫黄原子である化合物（Ｘ）のＲ^1a及びＸ^aに
おけるアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び／又は水酸基
の保護基を除去することにより行われ、本工程は、前記
Ａ法第Ａ２工程のアミノ基、ヒドロキシイミノ基及び／
又は水酸基の保護基を除去する方法と同様に行われる。

【０２４６】第Ｂ６工程は、一般式（ＸＩＶ）を有する
化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、化合物
（ＸＩＩＩ）に接触還元反応を行うことにより行われ
る。接触還元反応は、前記Ａ法第Ａ２工程と同様に行わ
れる。

【０２４７】また、本工程は、化合物（ＸＩＩＩ）と金
属水素化物を反応させることによっても行われる。化合
物（ＸＩＩＩ）と金属水素化物を反応させる方法は、Ｗ
Ｏ９３／１３０９Ａに開示された方法に準じて行うこと
ができる。 （Ｃ法）Ｃ法は、化合物（Ｉ）を合成する別法である。

【０２４８】

【化１９】 上記式中、Ｒ¹乃至Ｒ⁶、Ｒ^1a、Ｘ、Ｘ^a、Ｙ、Ｚ、Ａ、
Ａａ、Ｑ，ｎ及びｑは、前述したものと同意義を示し、
Ｂｏｃはｔ−ブトキシカルボニル基を示し、Ｇは「保護
されていてもよいホルミル基」または「保護されていて
もよいカルボキシル基」を意味する。

【０２４９】上記Ｇにおいて、「保護されていてもよい
ホルミル基」の「保護基」は、有機合成化学の分野で使
用されるホルミル基の保護基であれば特に限定はされな
いが、例えば、ジメトキシメチル、ジエトキシメチル、
ジプロポキシメチル、ジブトキシメチルのような前記Ｃ
₁−Ｃ₆アルコキシで置換されたメチル基、１，３−ジオ
キサン−２−イル、１、３−ジオキソラン−２−イル、
１，３−ジチアン−２−イル、１，３−ジチオラン−２
−イルであり、好適には、ジメトキシメチル、ジエトキ
シメチル、１、３−ジオキソラン−２−イル又は１，３
−ジチアン−２−イルである。

【０２５０】上記Ｇにおいて、「保護されていてもよい
カルボキシル基」の「保護基」は、有機合成化学の分野
で使用されるカルボキシル基の保護基であれば特に限定
はされないが、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチルのような
Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、ベンジル、フェネチル、３−フェ
ニルプロピル、１−ナフチルメチル、ジフェニルメチ
ル、トリフェニルメチル、４−メチルベンジル、４−メ
トキシベンジル、４−ニトロベンジル、４−フルオロベ
ンジル、４−シアノベンジルのようなＣ₁−Ｃ₆アルキ
ル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、ニトロ、ハロゲン若しくはシ
アノで置換されていてもよい１乃至３個のＣ ₆−Ｃ₁₀ア
リールで置換されたＣ₁−Ｃ₆アルキル基であり、好適に
は、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基又はベンジル基である。

【０２５１】第Ｃ１工程は、一般式（Ｖ）を有する化合
物を製造する工程であり、一般式（ＸＶ）を有する化合
物と一般式（ＸＶＩ）を有する化合物を反応させること
により行われる。

【０２５２】化合物（ＸＶ）においてＧがホルミル基で
ある場合、不活性溶媒中、化合物（ＸＶ）と化合物（Ｘ
ＶＩ）を反応させた後、アミノ基の保護基であるｔ−ブ
トキシカルボニル基を酸を用いて除去して閉環させ、更
に酸化剤と反応させることにより行われる。

【０２５３】また、本工程は、化合物（ＸＶ）と化合物
（ＸＶＩ）を反応させた後、アミノ基の保護基であるｔ
−ブトキシカルボニル基を酸を用いて除去して閉環させ
ることによって得られる中間体を単離精製した後、酸化
剤と接触させることによっても行うことができる。

【０２５４】化合物（ＸＶ）と化合物（ＸＶＩ）を反応
させる際に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性な
ものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよ
うなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパ
ノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタ
ノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエ
チレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロ
ヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル
類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなア
ミド類；酢酸、プロピオン酸のような酸類；ジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類；スルホラン；又は
上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、エーテル類
（特に好適にはテトラヒドロフラン）である。

【０２５５】化合物（ＸＶ）と化合物（ＸＶＩ）を反応
させる際の反応温度は、原料化合物、使用される塩基、
溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至２００℃（好適
には、１０℃乃至１２０℃）である。

【０２５６】化合物（ＸＶ）と化合物（ＸＶＩ）を反応
させる際の反応時間は、原料化合物、使用される塩基、
溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃至５
０時間（好適には、５時間乃至２４時間）である。

【０２５７】酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブ
トキシカルボニル基を除去する方法は、前記Ａ法第Ａ２
工程のアミノ基の保護基がアルコキシカルボキシ類であ
る場合の酸を用いて除去する方法と同様に行われる。

【０２５８】上記反応に使用される酸化剤としては、通
常、酸化反応に使用されるものであれば特に限定はない
が、例えば、過マンガン酸カリウム、二酸化マンガンの
ような酸化マンガン類；四酸化ルテニウムのような酸化
ルテニウム類；二酸化ゼレンのようなゼレン化合物；塩
化鉄のような鉄化合物；四酸化オスミウム、オスミン酸
カリウム・二水和物(K₂OsO₄・2H₂O) のようなオスミウム
化合物；酸化銀のような銀化合物；酢酸水銀のような水
銀化合物；酸化鉛、四酢酸鉛のような酸化鉛化合物；ク
ロム酸カリウム、クロム酸−硫酸錯体、クロム酸−ピリ
ジン錯体のようなクロム酸化合物、アンモニウムセリウ
ムナイトレイト（ＣＡＮ）のようなセリウム化合物等の
無機金属酸化剤；塩素分子、臭素分子、沃素分子のよう
なハロゲン分子；過沃素酸ナトリウムのような過沃素酸
類；オゾン；過酸化水素水；亜硝酸のような亜硝酸化合
物；亜塩素酸カリウム、亜塩素酸ナトリウムのような亜
塩素酸化合物；過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムのよ
うな過硫酸化合物等の無機酸化剤；ＤＭＳＯ酸化に使用
される試薬類（ジメチルスルホキシドとジシクロヘキシ
ルカルボジイミド、オキザリルクロリド、無水酢酸若し
くは五酸化燐との錯体又はピリジン−無水硫酸の錯
体）；ｔ−ブチルヒドロパーオキシドのようなパーオキ
シド類とバナジウム又はモリブデン錯体との組合せ；ト
リフェニルメチルカチオンのような安定なカチオン類；
Ｎ−ブロモコハク酸イミドのようなコハク酸イミド類と
アルカリの組合せ；ジメチルジオキシランのようなオキ
シラン類；次亜塩素酸ｔ−ブチルのような次亜塩素酸化
合物；アゾジカルボン酸エステルのようなアゾジカルボ
ン酸化合物；ｍ−クロロ過安息香酸、過フタル酸のよう
な過酸類；ジメチルジスルフィド、ジフェニルジスルフ
ィド、ジピリジルジスルフィドのようなジスルフィド類
とトリフェニルホスフィン；亜硝酸メチルのような亜硝
酸エステル類；四臭化メタンのようなテトラハロゲン化
炭素、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベン
ゾキノン（ＤＤＱ）のようなキノン化合物等の有機酸化
剤；であり、好適には、ハロゲン分子（特に好適には沃
素分子）である。

【０２５９】酸化剤と接触させる際に使用される溶媒
は、本反応に不活性なものであれば特に限定はされない
が、好適には、化合物（ＸＶ）と化合物（ＸＶＩ）を反
応させる際に使用される溶媒である。

【０２６０】酸化剤と接触させる際の反応温度及び反応
時間は、化合物（ＸＶ）と化合物（ＸＶＩ）を反応させ
る際の反応温度及び反応時間と同様である。

【０２６１】化合物（ＸＶ）においてＧがカルボキシル
基である場合、不活性溶媒中、一般式（ＸＶ）を有する
化合物またはその反応性誘導体（酸ハライド類、活性エ
ステル類または混合酸無水物類）と一般式（ＸＶＩ）を
有する化合物またはその酸付加塩（例えば、塩酸塩、硝
酸塩、硫酸塩のような鉱酸塩）を反応させた後、アミノ
基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を酸を用い
て除去し、閉環させることにより行われる。

【０２６２】また、本工程において、中間体となるアミ
ド化合物を単離精製した後、上記反応と同様にアミノ基
の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基と酸を用いて
除去し、次いで閉環させることによっても行われる。

【０２６３】酸ハライド法は、不活性溶媒中、化合物
（ＸＶ）をハロゲン化剤（例えば、塩化チオニル、臭化
チオニル、シュウ酸クロリド、シュウ酸ジクロリド、オ
キシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン等）と反応さ
せ、酸ハライド類を製造し、その酸ハライド類と化合物
（ＸＶＩ）またはその酸付加塩を、不活性溶媒中、塩基
の存在下又は非存在下（好適には存在下）、反応させる
ことにより行われる。

【０２６４】上記反応に使用される塩基は、例えば、炭
酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸
塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド類；トリエチル
アミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシク
ロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシ
クロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢ
Ｕ）のような有機アミン類であり、好適には、有機アミ
ン類（特に好適には、トリエチルアミン）である。

【０２６５】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、
ヘキサン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロ
ホルム、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
のようなエーテル類；アセトンのようなケトン類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；
ジメチルスルホキシドようなスルホキシド類；スルホラ
ン；であり、好適には、ハロゲン化炭化水素類、エーテ
ル類又はアミド類（特に好適には、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムア
ミド）である。

【０２６６】反応温度は、原料化合物、試薬等により異
なるが、ハロゲン化剤と化合物（ＸＶ）の反応および酸
ハライド類と化合物（ＸＶＩ）またはその酸付加塩との
反応とも、通常、−２０℃乃至１５０℃であり、好適に
は、ハロゲン化剤と化合物（ＸＶ）との反応は−１０℃
乃至１００℃であり、酸ハライド類と化合物（ＸＶＩ）
またはその酸付加塩との反応は−２０℃乃至１００℃で
ある。

【０２６７】反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度
等により異なるが、ハロゲン化剤と化合物（ＸＶ）の反
応および酸ハライド類と化合物（ＸＶＩ）またはその酸
付加塩との反応とも、通常、３０分間乃至８０時間（好
適には、１時間乃至４８時間）である。

【０２６８】活性エステル法は、不活性溶媒中、化合物
（ＸＶ）と活性エステル化剤を反応させ、活性エステル
類を製造した後、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存
在下（好適には存在下）、化合物（ＸＶＩ）またはその
酸付加塩と反応させることによって行われる。

【０２６９】上記反応に使用される活性エステル化剤
は、例えば、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド、１−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノル
ボルネン−２，３−ジカルボキシイミドのようなＮ−ヒ
ドロキシ化合物；ジピリジルジスルフィドのようなジス
ルフィド化合物；ジシクロヘキシルカルボジイミドのよ
うなカルボジイミド；カルボニルジイミダゾール；トリ
フェニルホスフィン；のような縮合剤の存在下に好適に
行われる。

【０２７０】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定はされないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テ
ルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、
１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン
化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エーテル類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミ
ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチ
ルスルホキシドのようなスルホキシド類；スルホラン；
であり、好適には、エーテル類又はアミド類（特に好適
には、ジオキサン、テトラヒドロフラン又はジメチルホ
ルムアミド）である。

【０２７１】上記反応に使用される塩基は、例えば、前
記酸ハライド法において使用されるものと同様の塩基を
挙げることができる。

【０２７２】反応温度は、原料化合物、試薬等により異
なるが、通常、活性エステル化反応では、−７０℃乃至
１５０℃（好適には、−１０℃乃至１００℃）であり、
活性エステル類と化合物（ＸＶ）またはその酸付加塩と
の反応では、−２０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃
至５０℃）である。

【０２７３】反応時間は、原料化合物、試薬、反応温度
等により異なるが、活性エステル化反応及び活性エステ
ル類と化合物（ＸＶＩ）またはその酸付加塩との反応と
もに、通常、３０分間乃至８０時間（好適には、１時間
乃至４８時間）である。

【０２７４】混合酸無水物法は、不活性溶媒中、塩基存
在下または非存在下（好適には、存在下）、化合物（Ｘ
Ｖ）と混合酸無水物化剤を反応させ、混合酸無水物類を
製造した後、不活性溶媒中、混合酸無水物類と化合物
（ＸＶＩ）またはその酸付加塩を反応させることにより
行われる。

【０２７５】上記反応に使用される塩基は、例えば、炭
酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸
塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド類；トリエチル
アミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシク
ロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシ
クロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢ
Ｕ）のような有機アミン類であり、好適には有機アミン
類（特に好適には、トリエチルアミン）である。

【０２７６】上記反応に使用される混合酸無水物化剤
は、例えば、クロル炭酸エチル、クロル炭酸イソブチル
のような炭酸Ｃ₁−Ｃ₄アルキルハライド；ピバロイルク
ロリドのようなＣ₁−Ｃ₅アルカノイルハライド；シアノ
ホスホン酸ジエチル、シアノホスホン酸ジフェニルのよ
うなジＣ₁−Ｃ₄アルキル若しくはジＣ₆−Ｃ₁₄アリール
シアノリン酸であり、好適には、ジＣ₁−Ｃ₄アルキル若
しくはジＣ₆−Ｃ₁₄アリールシアノリン酸（特に好適に
は、シアノホスホン酸ジエチル）である。

【０２７７】混合酸無水物類を製造する際に使用される
不活性溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶
解する物であれば特に限定はないが、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロインまたは石油エ−テルのような
脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素
類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類；アセトンのようなケトン類；ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
リン酸トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキ
シドのようなスルホキシド類；スルホラン；であり、好
適には、エーテル類又はアミド類（特に好適には、テト
ラヒドロフラン又はジメチルホルムアミド）である。

【０２７８】混合酸無水物類を製造する反応に於ける反
応温度は、原料化合物、試薬等により異なるが、通常、
−５０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃至６０℃）で
ある。

【０２７９】混合酸無水物類を製造する反応に於ける反
応時間は、原料化合物、試薬、反応温度等により異なる
が、通常、３０分間乃至７２時間（好適には、１時間乃
至２４時間）である。

【０２８０】混合酸無水物類と化合物（ＸＶＩ）または
その酸付加塩との反応は、不活性溶媒中、塩基の存在下
または非存在下（好適には、存在下）で行われ、使用さ
れる塩基および不活性溶媒は、前述された混合酸無水物
類を製造する反応において使用されるものと同様であ
る。

【０２８１】混合酸無水物類と化合物（ＸＶＩ）または
その酸付加塩の反応に於ける反応温度は、原料化合物、
試薬等により異なるが、通常、−３０℃乃至１００℃
（好適には、０℃乃至８０℃）である。

【０２８２】混合酸無水物類と化合物（ＸＶＩ）または
その酸付加塩の反応に於ける反応時間は、原料化合物、
試薬、反応温度等により異なるが、通常、５分間乃至２
４時間（好適には、３０分間乃至１６時間）である。

【０２８３】また、本反応において、ジＣ₁−Ｃ₄アルキ
ルシアノリン酸またはジＣ₆−Ｃ₁₄アリールシアノリン
酸を使用する場合には、塩基の存在下、化合物（ＸＶ）
と化合物（ＸＶＩ）を直接反応させることもできる。酸
を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニ
ル基を除去する方法は、前記Ａ法第Ａ２工程のアミノ基
の保護基がアルコキシカルボニル類である場合の酸を用
いて除去する方法と同様に行われる。

【０２８４】酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブ
トキシカルボニル基を除去し閉環させる方法は、前記Ａ
法第Ａ２工程のアミノ基の保護基がアルコキシカルボキ
シ類である場合の酸を用いて除去する方法と同様に行わ
れる。

【０２８５】化合物（ＸＶ）においてＧがＣ₂−Ｃ₇アル
コキシカルボニル基である場合、不活性溶媒の存在下又
は非存在下（好適には非存在下）、塩基の存在下又は非
存在下、化合物（ＸＶ）と化合物（ＸＶＩ）を反応させ
た後、酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシ
カルボニル基を除去し、閉環させることにより行われ
る。

【０２８６】また、本工程において、中間体となるアミ
ド化合物を単離精製した後、上記反応と同様にアミノ基
の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を酸を用いて
除去し、次いで閉環させることによっても行われる。

【０２８７】化合物（ＸＶ）と化合物（ＸＶＩ）を反応
させる反応において使用される塩基は、例えば、炭酸リ
チウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカ
リ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩
類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金
属水酸化物類；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド
のようなアルカリ金属アルコキシド類；トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ
［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシク
ロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢ
Ｕ）のような有機アミン類であり、好適には有機アミン
類（特に好適にはトリエチルアミン）である。

【０２８８】化合物（ＸＶ）と化合物（ＸＶＩ）を反応
させる反応に使用される不活性溶媒は、本反応に不活性
なものであれば特に限定はされないが、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよ
うなエーテル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパ
ノ−ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタ
ノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエ
チレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロ
ヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコ−ル
類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなア
ミド類；又は上記溶媒の混合溶媒；であり、好適には、
エーテル類又はアミド類（特に好適には、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン又はジメチルホルムアミド）であ
る。

【０２８９】反応温度は、原料化合物、使用される塩
基、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至２００℃
（好適には、５０℃乃至１５０℃）である。

【０２９０】反応時間は、原料化合物、使用される塩
基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、１時間乃
至５０時間（好適には、５時間乃至２４時間）である。

【０２９１】酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブ
トキシカルボニル基を除去し閉環させる方法は、前記Ａ
法第Ａ２工程のアミノ基の保護基がアルコキシカルボキ
シ類である場合の酸を用いて除去する方法と同様に行わ
れる。

【０２９２】反応終了後、本反応の目的化合物（Ｖ）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反
応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には
濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和し
ない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離
し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナ
トリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合
せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出
することによって分離、精製することができる。

【０２９３】第Ｃ２工程は、一般式（Ｉ）を有する化合
物を製造する工程であり、Ｒ^1a及びＸ^aにおけるアミノ
基、ヒドロキシイミノ基及び／又は水酸基の保護基及
び、Ａ^aにおけるアミノ基、チオール基及び／又は水酸
基の保護基を除去する方法は、前記Ａ法第Ａ２工程のア
ミノ基、ヒドロキシイミノ基、チオール基及び／又は水
酸基の保護基を除去する方法と同様に行われる。

【０２９４】反応終了後、本反応の目的化合物（Ｉ）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反
応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には
濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和し
ない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離
し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナ
トリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合
せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出
することによって分離、精製することができる。 （Ｄ法）Ｄ法は、化合物（Ｉ）において、Ａが（ＩＩ−
ｄ）を有し、ｍが１である化合物（ＸＸＩＩＩ）および
Ａが（ＩＩ−ｂ）を有し、ｍが０である化合物（ＸＩ
Ｖ）を製造する方法である。

【０２９５】

【化２０】 上記式中、Ｒ¹乃至Ｒ⁷、Ｒ¹¹、Ｒ^1a、Ｒ^7a、Ｘａ、Ｘ、
Ｙ、Ｚ、Ｂ、Ｄ、Ｑ、ｎおよびｑは前述したものと同意
義を示す。

【０２９６】第Ｄ１工程は、一般式（ＸＶＩＩＩ）を有
する化合物を製造する工程であり、不活性溶媒中、塩基
の存在下、一般式（ＶＩ）を有する化合物を一般式（Ｘ
ＶＩＩ）を有する化合物と反応させることにより行わ
れ、本工程は前記Ｂ法第Ｂ１工程と同様に行われる。

【０２９７】第Ｄ２工程は、一般式（ＸＩＸ）を有する
化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＶＩＩＩ）を
還元することにより行われる。本反応は、接触還元反応
又は一般的なニトロ基の還元法である亜鉛−酢酸法、錫
−アルコール法若しくは錫−塩酸法を用いることにより
行われる。

【０２９８】第Ｄ３工程は、一般式（ＸＸ）を有する化
合物を製造する工程であり、化合物（ＸＩＸ）にMeerwe
in Arylation反応を行うことにより、達成される。Meer
weinArylation反応は、特開昭５５−２２６５７号公報
（ＵＳＰ４２５８１９３）及びS.Oae らの方法［Bull.
Chem. Soc. Jpn., 53, 1065 (1980)等。］に記載された
方法に準じて行われる。

【０２９９】第Ｄ４工程は、化合物（ＸＸＩＩ）を製造
する工程であり、化合物（ＸＸ）と一般式（ＸＸＩ）を
有する化合物とを反応させることにより行われる。本工
程は、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式（ＸＸ）を
有する化合物を一般式（ＸＸＩ）を有する化合物と反応
させることにより行われ、本工程は前記Ｂ法第Ｂ１工程
と同様に行われる。

【０３００】第Ｄ５工程は、化合物（ＸＸＩＩＩ）を製
造する工程であり、アミノ基、ヒドロキシイミノ基、水
酸基及び／又はチオール基の保護基ならびにカルボキシ
ル基の保護基を除去することにより行われる。

【０３０１】第Ｄ６工程は、化合物（ＸＩＶ）を製造す
る工程であり、化合物（ＸＸ）とチオウレアとを反応さ
せた後、加水分解し、所望によりＸａ及びＲ^1aの保護基
を除去することにより行われる。

【０３０２】化合物（ＸＸ）とチオウレアとを反応させ
る反応は、特開昭５５−２２６３６号公報に記載された
方法に準じて行われる。

【０３０３】反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＸＩ
ＩＩ）および（ＸＩＶ）は常法に従って、反応混合物か
ら採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、
不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と
酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目的化
合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリ
ウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られ
る。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再
結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用さ
れている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用
し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製す
ることができる。

【０３０４】また、前記Ａ法、Ｂ法、Ｃ法およびＤ法に
より得られた化合物（Ｉ）、（ＸＩＩ）、（ＸＩＩ
Ｉ）、（ＸＩＶ）、及び（ＸＸＩＩＩ）がアミノ基を有
する場合、更に所望によりアミノ基に、アルキル化、ア
リール化、アラルキル化又はアシル化を行うことができ
る。これらの反応は、公知か、公知の方法又はそれに類
似した方法［The Chemistry of the Amino Group, chap
ter6, 1968，John Wiley &Sons、The Chemistry of the
Amino Group, chapter2, 1970，John Wiley & Sons
等。］に従って容易に製造される。即ち、アミノ基のア
ルキル化またはアラルキル化は、アミンの塩基性塩とハ
ロゲン化アルキルまたはハロゲン化アラルキルとを反応
させる合成法等、アリール化は、アミンとハロゲン化ア
リールとを塩基存在下に反応させる合成法等により行う
ことができる。

【０３０５】原料化合物（ＩＶ）、（ＶＩＩ）、（Ｉ
Ｘ）、（ＸＶＩＩ）及び（ＸＸＩ）は、公知か、公知の
方法又はそれに類似した方法に従って容易に製造され
る。

【０３０６】原料化合物（ＩＩＩ）、（ＶＩ）、（Ｘ
Ｖ）、（ＸＸＸＩ）、（ＸＸＸＩＩＩ）、（ＸＶＩ）お
よび（ＸＸＸＶ）は、例えば、以下の方法によっても製
造できる。 （Ｅ法）Ｅ法は、化合物（ＶＩ）またはＱが酸素原子で
ある時は化合物（ＩＩＩ）を製造する工程である。

【０３０７】

【化２１】 上記式中、Ｒ^1a、Ｒ²乃至Ｒ⁶、Ｘ^a、Ｙ，Ｚ、Ｇ、Ｑ、
ｎ、ｑ及びＢｏｃは前述したものと同意義を示す。

【０３０８】第Ｅ１工程は、化合物（ＶＩ）［（ＩＩ
Ｉ）；Ｑ＝Ｏの時］を製造する工程であり、一般式（Ｘ
ＸＩＶ）を有する化合物と化合物（ＸＶＩ）を反応さ
せ、酸を用いてアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカ
ルボニル基を除去し、閉環させることにより行われる。
本工程は、前記Ｃ法第Ｃ１工程において、化合物（Ｘ
Ｖ）と化合物（ＸＶＩ）を反応させ、酸を用いてアミノ
基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基を除去し、
閉環させる方法と同様に行われる。

【０３０９】特に、化合物（ＸＶＩ）においてＺが窒素
原子である場合、閉環させる方法において、好適には化
合物（ＸＸＩＶ）を大過剰に用いて溶媒の非存在下に行
われる。

【０３１０】反応終了後、本反応の目的化合物（ＶＩ）
［（ＩＩＩ）；Ｑ＝Ｏの時］は常法に従って、反応混合
物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、
又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、
水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目
的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫
酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナ
トリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば
再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用
されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応
用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製
することができる。 （Ｆ法）Ｆ法は、化合物（ＸＶ）を製造する方法であ
る。

【０３１１】

【化２２】 上記式中、Ｑ、Ａａ、Ｇ、Ｄ及びｑは前述したものと同
意義を示し、Ｇ^aは保護されたホルミル基又は保護され
たカルボキシル基（該「保護基」は、前記Ｃ法において
Ｇの説明として前述したものと同意義を示す。）を示
す。

【０３１２】第Ｆ１工程は、化合物（ＸＶ）を製造する
工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式（Ｉ
Ｖ）を有する化合物を一般式（ＸＸＶ）を有する化合物
と反応させた後、Ｇにおけるホルミル基又はカルボキシ
ル基が保護されたホルミル基又は保護されたカルボキシ
ル基である場合、所望によりその保護基を除去すること
により行われる。

【０３１３】一般式（ＩＶ）を有する化合物を一般式
（ＸＸＶ）を有する化合物と反応させる際に使用される
塩基は、前記Ｂ法第Ｂ１工程で使用されるものと同様で
あり、好適にはアルカリ金属水素化物（特に好適には水
素化ナトリウム）である。

【０３１４】一般式（ＩＶ）を有する化合物を一般式
（ＸＸＶ）を有する化合物と反応させる際に使用される
溶媒は、前記Ｂ法第Ｂ１工程で使用されるものと同様で
あり、好適には、アミド類又はアミド類と他の混合溶媒
（特に好適にはジメチルホルムアミド）である。

【０３１５】一般式（ＩＶ）を有する化合物を一般式
（ＸＸＶ）を有する化合物と反応させる際の反応温度
は、原料化合物、使用される塩基、溶媒等により異なる
が、通常、−５０℃乃至２００℃（好適には、０℃乃至
１２０℃）である。

【０３１６】一般式（ＩＶ）を有する化合物を一般式
（ＸＸＶ）を有する化合物と反応させる際の反応時間
は、原料化合物、使用される塩基、溶媒、反応温度等に
より異なるが、通常、３０分間乃至２４時間（好適に
は、１時間乃至１０時間）である。

【０３１７】所望によるホルミル基又はカルボキシ基の
保護基の除去はその種類によって異なるが、一般に有機
合成化学の技術において周知の方法、例えば、T.W.Gree
n,（Protective Groups in Organic Synthesis）, John
Wiley & Sons; J.F.W.Mcomie,（Protective Groups in
Organic Synthesis）, Plenum Pressに準じて行うこと
ができる。

【０３１８】また、化合物（ＸＶ）のＧ又は化合物（Ｘ
ＸＶ）のＧ^aがカルボキシル基、保護されたカルボキシ
ル基である化合物は、Ｇ又はＧ^aが、ホルミル基、保護
されたホルミル基である化合物から、常法に従って容易
に製造することができる。

【０３１９】反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＶ）
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合に
は濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和
しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を分離
し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナ
トリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜組合
せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で溶出
することによって分離、精製することができる。 （Ｇ法）Ｇ法は、化合物（ＸＶ）においてＡａが（ＩＩ
−ｂ‘）を有し、ｍが０である化合物（ＸＸＸＩＩＩ）
またはＡａが（ＩＩ−ｄ’）を有し、ｍが１である化合
物（ＸＸＸＩ）を製造する方法である。

【０３２０】

【化２３】 上記式中、Ｒ⁷、Ｒ¹¹、Ｒ^7a、Ｇ^a、Ｇ，Ｄ、Ｂ、Ｑ及び
ｑは前述したものと同意義を示す。第Ｇ１工程は、一般
式（ＸＸＶＩＩ）を有する化合物を製造する工程であ
り、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式（ＸＶＩＩ）
を有する化合物を一般式（ＸＸＶＩ）を有する化合物と
反応させることにより行われ、本工程は前記Ｆ法第Ｆ１
工程と同様に行われる。

【０３２１】第Ｇ２工程は、一般式（ＸＸＩＩＩ）を有
する化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＶＩ
Ｉ）を還元することにより行われる。本反応は、接触還
元反応又は一般的なニトロ基の還元法である亜鉛−酢酸
法、錫−アルコール法若しくは錫−塩酸法を用いること
により行われる。

【０３２２】第Ｇ３工程は、一般式（ＸＸＩＸ）を有す
る化合物を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＩＩ）
にMeerwein Arylation反応を行うことにより、達成され
る。Meerwein Arylation反応は、特開昭５５−２２６５
７号公報（ＵＳＰ４２５８１９３）及びS.Oae らの方法
［Bull. Chem. Soc. Jpn., 53, 1065 (1980)等。］に記
載された方法に準じて行われる。

【０３２３】第Ｇ４工程は、化合物（ＸＸＸ）を製造す
る工程であり、化合物（ＸＸＩＸ）と一般式（ＸＸＩ）
を有する化合物とを反応させることにより行われる。本
工程は、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式（ＸＸＩ
Ｘ）を有する化合物を一般式（ＸＸＩ）を有する化合物
と反応させることにより行われ、本工程は前記Ｄ法第Ｄ
４工程と同様に行われる。

【０３２４】第Ｇ５工程は、化合物（ＸＸＸＩ）を製造
する工程であり、保護されたホルミル基あるいは保護さ
れたカルボキシル基の保護基を除去することにより行わ
れる。Ｇ^aの基の定義におけるホルミル基又はカルボキ
シル基の保護基を除去する方法は、前記Ｆ法におけるホ
ルミル基又はカルボキシル基の保護基を除去する方法と
同様に行われる。

【０３２５】第Ｇ６工程は、化合物（ＸＸＸＩＩ）を製
造する工程であり、化合物（ＸＸＩＸ）とチオウレアを
反応させた後、加水分解する。

【０３２６】化合物（ＸＸＩＸ）とチオウレアとを反応
させた後、加水分解する反応は、特開昭５５−２２６５
７号公報（ＵＳＰ４２５８１９３）に記載された方法に
準じて行われる。

【０３２７】第Ｇ７工程における、Ｇ^aの基の定義にお
けるホルミル基又はカルボキシル基の保護基を除去する
方法は、前記Ｆ法におけるホルミル基又はカルボキシル
基の保護基を除去する方法と同様に行われる。

【０３２８】反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＸＸ
Ｉ）及び（ＸＸＸＩＩＩ）は常法に従って、反応混合物
から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、
又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、
水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、目
的化合物を含む有機層を分離し、水等で洗浄後、無水硫
酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナ
トリウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば
再結晶、再沈殿等の通常、有機化合物の分離精製に慣用
されている方法を適宜組合せ、クロマトグラフィーを応
用し、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製
することができる。 （Ｈ法）Ｈ法は、化合物（ＸＶＩ）を製造する方法であ
る。

【０３２９】

【化２４】 上記式中、Ｒ^1a、Ｒ²乃至Ｒ⁶、Ｘ^a、Ｙ、Ｚ、Ｄ、Ｂｏ
ｃ及びｎは前述したものと同意義を示す。

【０３３０】第Ｈ１工程は、一般式（ＸＸＸＶＩ）を製
造する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般
式（ＸＸＸＩＶ）を有する化合物を一般式（ＸＸＸＶ）
を有する化合物と反応させることにより行われ、本工程
は前記Ｄ法第Ｄ１工程と同様に行われる。

【０３３１】第Ｈ２工程は、化合物（ＸＶＩ）を製造す
る工程であり、化合物（ＸＸＸＶＩ）を還元することに
より行われ、本工程は、前記Ｄ法第Ｄ２工程と同様に行
われる。

【０３３２】反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＶ
Ｉ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を
分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫
酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通
常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜
組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。 （Ｉ法）Ｉ法は、化合物（ＸＸＸＶ）製造する方法であ
る。

【０３３３】

【化２５】 上記式中、Ｒ⁶、Ｚ、Ｄ及びＢｏｃは前述したものと同
意義を示す。

【０３３４】第Ｉ１工程は、一般式（ＸＸＸＶＩＩＩ）
を有する化合物を製造する工程であり、一般式（ＸＸＸ
ＶＩＩ）を有する化合物のアミノ基をｔ−ブトキシカル
ボニル基で保護することにより行われ、その方法は一般
に有機合成化学の技術において周知の方法、例えば、T.
W.Green,（Protective Groups in Organic Synthesi
s）, John Wiley & Sons; J.F.W.Mcomie,（Protective
Groups in Organic Synthesis）, Plenum Pressに準じ
て行うことができる。

【０３３５】第Ｉ２工程は、化合物（ＸＸＸＶ）を製造
する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、化合物
（ＸＸＸＶＩＩＩ）を一般式（ＸＸＸＩＸ）を有する化
合物と反応させることにより行われる。

【０３３６】上記反応において使用される塩基は、前記
Ｂ法第Ｂ１工程で使用されるものと同様であり、好適に
はアルカリ金属水素化物（特に好適には水素化ナトリウ
ム）である。

【０３３７】上記反応において使用される不活性溶媒
は、前記Ｂ法第Ｂ１工程で使用されるものと同様であ
り、好適には、エ−テル類又はアミド類（特に好適に
は、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はジメチルホル
ムアミド）である。

【０３３８】反応温度は、原料化合物、使用される塩
基、溶媒等により異なるが、通常、−５０℃乃至２００
℃（好適には、０℃乃至１２０℃）である。

【０３３９】反応時間は、原料化合物、使用される塩
基、溶媒、反応温度等により異なるが、通常、３０分間
乃至２４時間（好適には、１時間乃至１０時間）であ
る。

【０３４０】反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＸＸ
Ｖ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を
分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫
酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通
常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜
組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。 （Ｊ法）Ｊ法は、化合物（ＸＬＶＩ；化合物（ＸＸＸＶ
Ｉ）のうちＸａがカルボニル基であるもの）を製造する
別途合成方法である。

【０３４１】

【化２６】 上記式中、Ｒ^1a、Ｒ²乃至Ｒ⁶、Ｙ、Ｚ、Ｄ、ｎ及びＢ
ｏｃは前述したものと同意義を示しＨａｌｏは塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子のようなハロゲン原子を示
す。

【０３４２】第Ｊ１工程は、一般式（ＸＬＩ）を製造す
る工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式
（ＸＬ）を有する化合物を一般式（ＸＸＸＶ）を有する
化合物と反応させることにより行われ、本工程は前記Ｄ
法第Ｄ１工程と同様に行われる。

【０３４３】第Ｊ２工程は、化合物（ＸＬＩＩ）を製造
する工程であり、化合物（ＸＬＩ）の脱ベンジル化を施
すことにより行われ、Ｙが酸素原子である場合には酸化
的に行われ、Ｙが硫黄原子である場合には酸触媒により
行われる。

【０３４４】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
い。このような有機溶媒として好適には、アセトンのよ
うなケトン類、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩
化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル
のようなニトリル類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエ−テル類、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸
トリアミドのようなアミド類及びジメチルスルホキシド
のようなスルホキシド類を挙げることができる。

【０３４５】使用される酸化剤としては、酸化に使用さ
れる化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫
酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウム
ナイトレイト（ＣＡＮ）、２，３−ジクロロ−５，６−
ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）が用いられる。

【０３４６】反応温度及び反応時間は、原料化合物、触
媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１５０℃
で、１０分間乃至２４時間実施される。

【０３４７】酸触媒による除去において使用される溶媒
としては、本反応に関与しないものであれば特に限定は
ない。このような有機溶媒として好適には、アセトンの
ようなケトン類、メチレンクロリド、クロロホルム、四
塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、アセトニトリ
ルのようなニトリル類、ジエチルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン
酸トリアミドのようなアミド類及びジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類、ベンゼン、トルエンのよう
な芳香族炭化水素類を挙げることができる。

【０３４８】使用される酸としては、特に限定はない
が、好適には、硫酸、塩酸、臭素酸、トリフロロ酢酸、
トリフロロメタンスルフォン酸が用いられる。

【０３４９】反応温度及び反応時間は、原料化合物、酸
触媒、溶媒等により異なるが、通常、０℃乃至１５０℃
で、１０分間乃至２４時間実施される。

【０３５０】第Ｊ３工程は、一般式（ＸＬＩＶ）を製造
する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式
（ＸＬＩＩ）を有する化合物を一般式（ＸＬＩＩＩ）を
有する化合物と反応させることにより行われ、本工程は
前記Ｄ法第Ｄ１工程に準じて行われる。

【０３５１】第Ｊ４工程は、一般式（ＸＬＶＩ）を製造
する工程であり、不活性溶媒中、塩基の存在下、一般式
（ＸＬＩＶ）を有する化合物を一般式（ＸＬＶ）を有す
る化合物と反応させることにより行われ、本工程は特開
昭60-51189号公報に記載されたクロマノン誘導体の合成
法と同様に行われる。

【０３５２】反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＬＶ
Ｉ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機層を
分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無水硫
酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等の通
常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を適宜
組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。 （Ｋ法）Ｋ法は、化合物（ＸＬＶＩＩＩ；化合物（Ｉ）
のうちＸが結合及びカルボニル（＞ＣＯ）であるものを
除いたもの）を製造する別途合成方法である。

【０３５３】

【化２７】 上記式中、Ｒ^1a、Ｒ²乃至Ｒ⁶、Ａ、Ｑ、Ｙ、Ｚ及びｎは
前述したものと同意義を示しＸｂは前述したＸの定義の
うちＸが結合及びカルボニル（＞ＣＯ）であるものを除
いた基を示す。

【０３５４】第Ｋ１工程は、一般式（ＸＬＶＩＩＩ）を
製造する工程であり、不活性溶媒中、一般式（ＸＬＶＩ
Ｉ）を有する化合物に通常行われるケトンのオキシム化
反応或いはケトンの還元反応さらに得られたオキシム体
又はアルコール体は所望により通常行われるエーテル化
反応カルバモイル化反応或いはアシル化反応を施すこと
により行われる。又、還元により得られたアルコール体
は酸触媒脱水反応によりクロメン体とすることが出来、
次いで通常の接触水素添加反応によりクロマン体とする
ことができる。

【０３５５】反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＬＶ
ＩＩＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。
例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在す
る場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、目的化合物を含む有機
層を分離し、水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウム、無
水硫酸ナトリウム、無水炭酸水素ナトリウム等で乾燥
後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目
的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿等
の通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法を
適宜組合せ、クロマトグラフィーを応用し、適切な溶離
剤で溶出することによって分離、精製することができ
る。

【０３５６】本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合
物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容される
エステル類を、上記治療剤又は予防剤として使用する場
合には、それ自体或は適宜の薬理学的に許容される、賦
形剤、希釈剤等と混合し、例えば、錠剤、カプセル剤、
顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口的又は注
射剤若しくは坐剤等による非経口的に投与することがで
きる。

【０３５７】これらの製剤は、賦形剤（例えば、乳糖、
白糖、葡萄糖、マンニトール、ソルビトールのような糖
誘導体；トウモロコシデンプン、バレイショデンプン、
α澱粉、デキストリンのような澱粉誘導体；結晶セルロ
ースのようなセルロース誘導体；アラビアゴム；デキス
トラン；プルランのような有機系賦形剤：及び、軽質無
水珪酸、合成珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、メタ
珪酸アルミン酸マグネシウムのような珪酸塩誘導体；燐
酸水素カルシウムのような燐酸塩；炭酸カルシウムのよ
うな炭酸塩；硫酸カルシウムのような硫酸塩等の無機系
賦形剤を挙げることができる。）、滑沢剤（例えば、ス
テアリン酸、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マ
グネシウムのようなステアリン酸金属塩；タルク；コロ
イドシリカ；ビーガム、ゲイ蝋のようなワックス類；硼
酸；アジピン酸；硫酸ナトリウムのような硫酸塩；グリ
コール；フマル酸；安息香酸ナトリウム；ＤＬロイシ
ン；脂肪酸ナトリウム塩；ラウリル硫酸ナトリウム、ラ
ウリル硫酸マグネシウムのようなラウリル硫酸塩；無水
珪酸、珪酸水和物のような珪酸類；及び、上記澱粉誘導
体を挙げることができる。）、結合剤（例えば、ヒドロ
キシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロース、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及
び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができ
る。）、崩壊剤（例えば、低置換度ヒドロキシプロピル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロースカルシウム、内部架橋カルボキシメチ
ルセルロースナトリウムのようなセルロース誘導体；カ
ルボキシメチルスターチ、カルボキシメチルスターチナ
トリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学修飾
されたデンプン・セルロース類を挙げることができ
る。）、安定剤（メチルパラベン、プロピルパラベンの
ようなパラオキシ安息香酸エステル類；クロロブタノー
ル、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコールの
ようなアルコール類；塩化ベンザルコニウム；フェノー
ル、クレゾールのようなフェノール類；チメロサール；
デヒドロ酢酸；及び、ソルビン酸を挙げることができ
る。）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用される、甘味
料、酸味料、香料等を挙げることができる。）、希釈剤
等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。

【０３５８】その使用量は症状、年齢、投与方法等によ
り異なるが、例えば、経口投与の場合には、１回当り、
下限として０．００１mg/kg 体重（好ましくは、０．０
１mg/kg 体重）、上限として、５００mg/kg 体重（好ま
しくは、５０mg/kg 体重）を、静脈内投与の場合には、
１回当り、下限として０．００５mg/kg 体重（好ましく
は、０．０５mg/kg 体重）、上限として、５０mg/kg 体
重（好ましくは、５mg/kg 体重）を１日当り１乃至数回
症状に応じて投与することが望ましい。

【０３５９】以下に、実施例、参考例および試験例を示
し、本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこ
れらに限定するものではない。

【０３６０】

【実施例】実施例及び参考例の反応式を以下に示す。な
お、反応式中、「Ex.」は実施例を、「Ref.Ex.」は参考
例をそれぞれ示し、「t-Bu」はt-ブチル基を、「Ph」は
フェニル基をそれぞれ示し、化合物の隣に「HCl」また
は「HCl salt」とあるのは当該化合物の塩酸塩であるこ
とを示す。また、メチル基においては「CH₃」を省略し
ている場合がある。

【０３６１】

【化２８】

【０３６２】

【化２９】

【０３６３】

【化３０】

【０３６４】

【化３１】

【０３６５】

【化３２】

【０３６６】

【化３３】

【０３６７】

【化３４】

【０３６８】

【化３５】

【０３６９】

【化３６】

【０３７０】

【化３７】

【０３７１】

【化３８】

【０３７２】

【化３９】

【０３７３】

【化４０】

【０３７４】

【化４１】

【０３７５】

【実施例１】５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．２−１） Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５
−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチルエステル（参考例３の化合物）
０．７０ｇに４規定塩酸−ジオキサン１５ｍｌを加え、
室温で５時間攪拌した。反応終了後、反応混合物よりジ
オキサンを留去し、得られた残渣に酢酸エチルを加え、
結晶化すると、融点１６０℃〜１６２℃を有する目的化
合物０．３２ｇが得られた。

【０３７６】

【実施例２】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］フェニル｝−２−（２，２，２−トリフル
オロエトキシ）プロピオン酸メチルエステル（例示化合
物Ｎｏ．７−３４） Ｎ−｛２−［４−［２−（２，２，２−トリフルオロエ
トキシ）−２−メトキシカルボニルエチル］フェノキシ
アセチルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチルエ
ステル（参考例６の化合物）１．０ｇ、４規定塩酸−
１，４−ジオキサン１０ｍｌおよび１，４−ジオキサン
１０ｍｌを用い、実施例１に準じて、室温下７時間反応
させた。溶媒を留去し、残渣に水を加え、飽和炭酸水素
ナトリウムで中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ−（酢酸エチル：ｎ−へキサン＝１：１）に付し、
Ｒｆ値＝０．２８（シリカゲル薄層クロマトグラフィ
−；ｎ−へキサン：酢酸エチル１：１）を有する目的化
合物０．７２ｇが得られた。

【０３７７】

【実施例３】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］フェニル｝−２−（２，２，２−トリフル
オロエトキシ）プロピオン酸（例示化合物Ｎｏ．４−
７） ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝−２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）
−プロピオン酸メチルエステル（実施例２の化合物）
０．７０ｇ、無水テトラヒドロフラン７ｍｌの混合物中
に、室温下水酸化リチウム１水和物０．１３ｇの水溶液
７ｍｌを加え、２時間攪拌した。反応終了後、反応混合
物に水を加え、２規定塩酸で酸性とした後、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥した。抽出液より溶剤を留去し、得られた残渣を液
体クロマトグラフィ−［ＤＩＯＬ（充填剤商品名；メル
ク社製）；酢酸エチル］に付して精製すると、Ｒｆ値＝
０．５１（“HPTLC：DIOL F254S”（MERCK）；酢酸エ
チル）を有する目的化合物０．３４ｇが得られた。

【０３７８】

【実施例４】２−（４−フルオロベンジルチオ）―３−
｛４−［６−（６−ヒドロキシー２，５，７，８−テト
ラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−
１Ｈ−ベンゾイミダゾールー２−イルメトキシ］フェニ
ル｝プロピオン酸メチル（例示化合物Ｎｏ．７−５４） Ｎ−｛２−［４−［２−（４−フルオロベンジルチオ）
−２−メトキシカルボニルエチル］フェノキシメチルカ
ルボニルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）フェニル｝―Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチルエ
ステル（参考例１１の化合物）０．６７ｇ、１，４−ジ
オキサン５ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオキサン２ｍ
ｌを用い、実施例１に準じて反応を行った。反応混合物
より減圧下で溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ−（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：
１、２：１、３：１）に付すと、Ｒｆ＝０．３２（酢酸
エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）を有する黄色油状の目
的化合物０．１８ｇが得られた。

【０３７９】

【実施例５】２−（４−フルオロベンジルチオ）―３−
｛４−［６−（６−ヒドロキシー２，５，７，８−テト
ラメチルクロマンー２−イルメトキシ）−１−メチル−
１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニ
ル｝プロピオン酸（例示化合物Ｎｏ．４−２７） ２−（４−フルオロベンジルチオ）―３−｛４−［６−
（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロ
マン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾ
イミダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオ
ン酸メチル（実施例４の化合物）０．１５ｇ、１，４−
ジオキサン２ｍｌ及び１規定水酸化ナトリウム水溶液
２．６ｍｌを用い、実施例３に準じて反応を行った。反
応混合物より減圧下で溶媒を留去し、残査に水を加え、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を２規定塩酸及び飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出
液より酢酸エチルを留去し、残査を逆相系分取高速液体
クロマトグラフィ−（アセトニトリル：水＝１：１、
３：２、１１：７）に付した。溶離液より減圧下で溶媒
を濃縮し、析出した粉末を濾取すると、融点９７−１０
０℃を有する黄色粉末の目的化合物４５ｍｇが得られ
た。

【０３８０】

【実施例６】２−［ビス（４−フルオロフェニル）メト
キシ］−３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，
７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−
１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメト
キシ］フェニル｝プロピオン酸メチル（例示化合物Ｎ
ｏ．７−５７） Ｎ−｛２−［４−［２−［ビス（４−フルオロフェニ
ル）メトキシ］−２−メトキシカルボニルエチル］フェ
ノキシアセチルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ
−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメ
トキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチ
ル（参考例３３の化合物）０．９８ｇ、１，４−ジオキ
サン１５ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオキサン溶液５
ｍｌを用いて実施例１に準じて反応及び後処理を行い、
Ｒｆ値＝０．１５（シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）を有する黄褐
色油状の目的化合物０．２３ｇが得られた。

【０３８１】

【実施例７】２−［ビス（４−フルオロフェニル）メト
キシ］−３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，
７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−
１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメト
キシ］フェニル｝プロピオン酸（例示化合物Ｎｏ．７−
２） ２−［ビス（４−フルオロフェニル）メトキシ］−３−
｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テト
ラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−
１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニ
ル｝プロピオン酸メチル（実施例６の化合物）０．２１
ｇ、水酸化リチウム・１水和物０．０３４ｇ、蒸留水２
ｍｌ及びテトラヒドロフラン２ｍｌを用いて実施例３に
準じて反応及び後処理を行った後、液体クロマトグラフ
ィー（“LiChroprepDIOL”（MERCK社、登録商標）、酢
酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：１）に付し、更に酢酸エ
チル、ｎ−ヘキサン及びジイソプロピルエーテルを用い
て再結晶すると、融点１１６℃〜１２６℃を有する褐色
粉末状の目的化合物０．１０４ｇが得られた。

【０３８２】

【実施例８】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］フェニル｝−２−フェニルチオプロピオン
酸エチル（例示化合物Ｎｏ．７−１０６） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−フェ
ニルチオエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−
（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチ
ルクロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチ
ルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１６の化合物）０．
７３ｇ、エタノール１ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオ
キサン溶液５ｍｌを用いて実施例１に準じて反応及び後
処理を行い、Ｒｆ値＝０．３６（シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）を
有する白色ガラス状の目的化合物０．４８ｇが得られ
た。

【０３８３】

【実施例９】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］フェニル｝−２−フェニルチオプロピオン
酸・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．４−２４の塩酸塩） ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝−２−フェニルチオプロピオン酸エチル（実施
例８の化合物）０．４６ｇ、水酸化リチウム・１水和物
０．１２ｇ、蒸留水４ｍｌ、テトラヒドロフラン５ｍｌ
及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌを用いて実施
例３に準じて反応及び後処理を行った後、液体クロマト
グラフィー（”LiChroprepDIOL”（MERCK社、登録商
標）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：１）に付し、得
られたガラス状の生成物０．２５ｇをジエチルエーテル
１０ｍｌに溶解し４規定塩酸１，４−ジオキサン溶液３
ｍｌを室温で加え３０分間攪拌し、生じた析出物を濾取
すると融点１１６℃〜１２４℃（軟化点）を有する乳白
色粉末状の目的化合物０．１７ｇが得られた。

【０３８４】

【実施例１０】２−ヒドロキシ−３−｛４−［６−（６
−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン
−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミ
ダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオン酸
エチル（例示化合物Ｎｏ．７−８３） Ｎ−｛２−［４−（２−ヒドロキシ−２−エトキシカル
ボニルエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１５の化合物）０．７
ｇ、エタノール２ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオキサ
ン溶液５ｍｌを用いて実施例１に準じて反応及び後処理
を行い、Ｒｆ値＝０．０４（シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）を有す
る白色ガラス状の目的化合物０．４３ｇが得られた。

【０３８５】

【実施例１１】２−ヒドロキシ−３−｛４−［６−（６
−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン
−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミ
ダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオン酸
・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．４−１の塩酸塩） ２−ヒドロキシ−３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝プロピオン酸エチル（実施例
１０の化合物）０．４ｇ、水酸化リチウム・１水和物
０．１２ｇ、蒸留水４ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド１０ｍｌを用いて実施例３に準じて反応及び後処
理を行い得られた粉末状の粗生成物０．１４ｇを１，４
−ジオキサン５ｍｌに懸濁し、４規定塩酸１，４−ジオ
キサン溶液５ｍｌを室温で加え３０分間攪拌した。溶剤
を留去し得られた残渣をアセトニトリルで結晶化する
と、融点２００℃以上（分解点）を有する淡黄色粉末状
の目的化合物０．１３ｇが得られた。

【０３８６】

【実施例１２】２−エトキシ−３−｛４−［６−（６−
ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−
２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダ
ゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオン酸エ
チル（例示化合物Ｎｏ．７−８５） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシ−２−エトキシカルボ
ニルエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６−
メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロ
マン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカル
バミン酸ｔ−ブチル（参考例２３の化合物）０．６５
ｇ、エタノール２ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオキサ
ン溶液５ｍｌを用いて実施例１に準じて反応及び後処理
を行い、Ｒｆ値＝０．２８（シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）を有す
る淡黄色油状の目的化合物０．３７ｇが得られた。

【０３８７】

【実施例１３】２−エトキシ−３−｛４−［６−（６−
ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−
２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダ
ゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオン酸・
塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．４−３の塩酸塩） ２−エトキシ−３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝プロピオン酸エチル０．３５
ｇ、水酸化リチウム・１水和物０．０７６ｇ、蒸留水５
ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌを用い
て実施例３に準じて反応及び後処理を行った後、液体ク
ロマトグラフィー（“LiChroprepDIOL”（MERCK）、酢
酸エチル：ｎ−ヘキサン＝３：１）に付し、得られたガ
ラス状の生成物０．１４ｇを４規定塩酸１，４−ジオキ
サン溶液５ｍｌに溶解し、室温で１０分間放置した。溶
剤を留去し得られた残渣をジエチルエーテルで結晶化す
ると、融点１２２℃〜１３２℃（軟化点）を有する淡紅
色粉末状の目的化合物０．１５ｇが得られた。

【０３８８】

【実施例１４】２−（４−フルオロベンジルオキシ）−
３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝プロピオン酸エチル（例示化合物Ｎｏ．７−４
０） Ｎ−｛２−［４−［２−（４−フルオロベンジルオキ
シ）−２−エトキシカルボニルエチル］フェノキシアセ
チルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，
７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フ
ェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例
２４の化合物）０．６ｇ、エタノール２ｍｌ及び４規定
塩酸１，４−ジオキサン溶液５ｍｌを用いて実施例１に
準じて反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．３１（シリ
カゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン＝１：１）を有する淡黄色ガラス状の目的化合物
０．３５ｇが得られた。

【０３８９】

【実施例１５】２−（４−フルオロベンジルオキシ）−
３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝プロピオン酸・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．４−
１３の塩酸塩） ２−（４−フルオロベンジルオキシ）−３−｛４−［６
−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベン
ゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピ
オン酸エチル（実施例１４の化合物）０．３３ｇ、水酸
化リチウム・１水和物０．０６３ｇ、蒸留水５ｍｌ及び
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌを用いて実施例
３に準じて反応及び後処理を行った後、液体クロマトグ
ラフィー（“LiChroprepDIOL”（MERCK社、登録商
標）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝３：１）に付し、得
られたガラス状の生成物０．２ｇを４規定塩酸１，４−
ジオキサン溶液５ｍｌに溶解し、室温で１０分間放置し
た。溶剤を留去し得られた残渣をジエチルエーテルで結
晶化すると、融点１１０℃〜１２０℃（軟化点）を有す
る灰白色粉末状の目的化合物０．１６ｇが得られた。

【０３９０】

【実施例１６】２−エチルチオ−３−｛４−［６−（６
−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン
−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミ
ダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオン酸
メチル（例示化合物Ｎｏ．７−４４） Ｎ−［２−アミノ−５−（６−メトキシメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル
（参考例２の化合物）１．４５ｇ、３−（４−カルボキ
シメトキシフェニル）−２−エチルチオプロピオン酸メ
チル（参考例３５の化合物）０．８６ｇ、無水トリエチ
ルアミン０．３５ｇ、シアノリン酸ジエチル０．５７ｇ
及び無水テトラヒドロフラン５０ｍｌを用い、参考例３
に準じて反応及び後処理を行い得られた粗生成物をメタ
ノール３０ｍｌに溶解し、４規定塩酸１，４−ジオキサ
ン溶液３０ｍｌを室温で加え１８時間放置した。溶剤を
留去し、水で希釈した後に炭酸水素ナトリウムで中和し
て酢酸エチルで抽出した。抽出液は飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶剤を留去後、
残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エ
チル：ｎ−ヘキサン＝２：１）に付し、Ｒｆ値＝０．４
７（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エチル：
ｎ−ヘキサン＝２：１）を有する無色ガラス状の目的化
合物０．５３ｇが得られた。

【０３９１】

【実施例１７】２−エチルチオ−３−｛４−［６−（６
−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン
−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミ
ダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオン酸
・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．４−１７の塩酸塩） ２−エチルチオ−３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝プロピオン酸メチル（実施例
１７の化合物）０．５２ｇ、水酸化リチウム・１水和物
０．１０６ｇ、蒸留水２ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１０ｍｌを用いて実施例３に準じて反応及び後
処理を行った後、逆相系分取高速液体クロマトグラフィ
ー（ＯＤＳ、アセトニトリル：水＝２：１）に付し、得
られたガラス状の生成物を４規定塩酸酢酸エチル溶液に
溶解した後、溶剤を留去し、残渣にｎ−ヘキサンを加え
て不溶物を濾取すると、融点１７３℃〜１７７℃を有す
る白色粉末状の目的化合物０．１４ｇが得られた。

【０３９２】

【実施例１８】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝−２−（４−ニトロフェノキ
シ）プロピオン酸エチル（例示化合物Ｎｏ．７−１１
９） Ｎ−｛２−［４−（２−［４−ニトロフェノキシ］−２
−エトキシカルボニルエチル）フェノキシアセチルアミ
ノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝
−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例３０の化
合物）２．６４ｇ、１，４−ジオキサン２５ｍｌ及び４
規定塩酸１，４−ジオキサン溶液２５ｍｌを用いて実施
例１に準じて反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．１９
（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エチル：ｎ
−ヘキサン＝１：１）を有する黄色ガラス状の目的化合
物１．５８ｇが得られた。

【０３９３】

【実施例１９】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝−２−（４−ニトロフェノキ
シ）プロピオン酸（例示化合物Ｎｏ．７−９） ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝−２−（４−ニトロフェノキシ）プロピオン酸
エチル（実施例１８の化合物）１．５５ｇ、水酸化リチ
ウム・１水和物０．２７ｇ、蒸留水２５ｍｌ及びテトラ
ヒドロフラン２５ｍｌを用いて実施例３に準じて反応及
び後処理を行った後、カラムクロマトグラフィー（”Li
ChroprepDIOL”（MERCK社、登録商標）、酢酸エチル：
ｎ−ヘキサン＝４：１）に付し、融点１３５℃以上（軟
化点）を有する黄色ガラス状の目的化合物０．２５ｇが
得られた。

【０３９４】

【実施例２０】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝−２−（４−ニトロフェニル
チオ）プロピオン酸エチル（例示化合物Ｎｏ．７−１２
１） Ｎ−｛５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−２−［４
−［２−（４−ニトロフェニルチオ）−２−エトキシカ
ルボニルエチル］フェノキシアセチルアミノ］フェニ
ル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１７
の化合物）１ｇ、エタノール５ｍｌ及び４規定塩酸１，
４−ジオキサン溶液１０ｍｌを用いて実施例１に準じて
反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．２０（シリカゲル
薄層クロマトグラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝
２：３）を有する黄色ガラス状の目的化合物０．６ｇが
得られた。

【０３９５】

【実施例２１】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝−２−（４−ニトロフェニル
チオ）プロピオン酸・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．７−１
１の塩酸塩） ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝−２−（４−ニトロフェニルチオ）プロピオン
酸エチル（実施例２０の化合物）０．５８ｇ、水酸化リ
チウム・１水和物０．１１ｇ、蒸留水８ｍｌ及びＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド１５ｍｌを用いて実施例３に準
じて反応及び後処理を行った後、液体クロマトグラフィ
ー（”LiChroprepDIOL”（MERCK社、登録商標）、酢酸
エチル：ｎ−ヘキサン＝１０：１）に付し、得られたガ
ラス状の生成物０．３８ｇをテトラヒドロフラン５ｍｌ
に溶解し、４規定塩酸１，４−ジオキサン溶液５ｍｌを
加えて室温で１０分間放置した。溶剤を留去し得られた
残渣をジエチルエーテルで結晶化すると、融点１３０℃
〜１３８℃（軟化点）を有する黄色粉末状の目的化合物
０．３５ｇが得られた。

【０３９６】

【実施例２２】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝−２−フェノキシプロピオン
酸エチル（例示化合物Ｎｏ．７−９２） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−フェ
ノキシエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例２９の化合物）０．５８
ｇ、エタノール５ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオキサ
ン溶液１０ｍｌを用いて実施例１に準じて反応及び後処
理を行い、Ｒｆ値＝０．１３（シリカゲル薄層クロマト
グラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２）を有
する白色ガラス状の目的化合物０．３９ｇが得られた。

【０３９７】

【実施例２３】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝−２−フェノキシプロピオン
酸・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．４−１０の塩酸塩） ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝−２−フェノキシプロピオン酸エチル（実施例
２２の化合物）０．３７ｇ、水酸化リチウム・１水和物
０．０７６ｇ、蒸留水５ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１０ｍｌを用いて実施例３に準じて反応及び後
処理を行った後、液体クロマトグラフィー（”LiChropr
epDIOL”（MERCK社、登録商標）、酢酸エチル：ｎ−ヘ
キサン＝３：１）に付し、得られたガラス状の生成物を
４規定塩酸１，４−ジオキサン溶液５ｍｌに溶解し、室
温で１５分間放置した。溶剤を留去し得られた残渣をテ
トラヒドロフラン５ｍｌに溶解し、ジエチルエーテル２
５０ｍｌ中に攪拌しながら滴下した。更に２０分間攪拌
し、生じた析出物を濾取すると融点１２８℃〜１３５℃
（軟化点）を有する灰白色粉末状の目的化合物０．２２
ｇが得られた。

【０３９８】

【実施例２４】２−（４−シアノフェノキシ）−３−
｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テト
ラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−
１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニ
ル｝プロピオン酸エチル（例示化合物Ｎｏ．７−１２
２） Ｎ−｛２−［４−［２−（４−シアノフェノキシ）−２
−エトキシカルボニルエチル］フェノキシアセチルアミ
ノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝
−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１８の化
合物）０．５７ｇ、１，４−ジオキサン３ｍｌ及び４規
定塩酸１，４−ジオキサン溶液３ｍｌを用いて実施例１
に準じて反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．３８（"H
PTLC NH₂ F_254S"（MERCK）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン
＝３：２）を有する白色ガラス状の目的化合物０．２７
ｇが得られた。

【０３９９】

【実施例２５】２−（４−シアノフェノキシ）−３−
｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テト
ラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−
１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニ
ル｝プロピオン酸・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．７−１２
の塩酸塩） ２−（４−シアノフェノキシ）−３−｛４−［６−（６
−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン
−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミ
ダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオン酸
エチル（実施例２４の化合物）０．４８ｇ、水酸化リチ
ウム・１水和物０．０９ｇ、蒸留水５ｍｌ及びＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１０ｍｌを用いて実施例３に準じ
て反応及び後処理を行った後、液体クロマトグラフィー
（”LiChroprepDIOL”（MERCK社、登録商標）、酢酸エ
チル：ｎ−ヘキサン＝５：１）に付し、得られたガラス
状の生成物を１，４−ジオキサン５ｍｌに溶解し、４規
定塩酸１，４−ジオキサン溶液２ｍｌを室温で加え、１
０分間放置した。この溶液をジエチルエーテル１００ｍ
ｌ中に攪拌しながら滴下した。更に１５分間攪拌し、生
じた析出物を濾取すると融点１４２℃〜１４６℃（軟化
点）を有する淡紅色粉末状の目的化合物０．３３ｇが得
られた。

【０４００】

【実施例２６】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝−２−（４−メチルフェニル
チオ）プロピオン酸エチル（例示化合物Ｎｏ．７−１２
７） Ｎ−｛２−［４−［２−エトキシカルボニル−２−（４
−メチルフェニルチオ）エチル］フェノキシアセチルア
ミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニ
ル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１９
の化合物）０．９２ｇ、エタノール４ｍｌ及び４規定塩
酸１，４−ジオキサン溶液１０ｍｌを用いて実施例１に
準じて反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．３１（"HPT
LC NH₂ F_254S"（MERCK）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝
１：１）を有する白色ガラス状の目的化合物０．５７ｇ
が得られた。

【０４０１】

【実施例２７】２−（４−メチルフェニルチオ）−３−
｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テト
ラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−
１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニ
ル｝プロピオン酸・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．７−１
７） ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝−２−（４−メチルフェニルチオ）プロピオン
酸エチル（実施例２６の化合物）０．５５ｇ、水酸化リ
チウム・１水和物０．１ｇ、蒸留水５ｍｌ及びＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１０ｍｌを用いて実施例３に準じ
て反応及び後処理を行った後、液体クロマトグラフィー
（”LiChroprepDIOL”（MERCK社、登録商標）、酢酸エ
チル：ｎ−ヘキサン＝２：１）に付し、得られたガラス
状の生成物０．３ｇを１，４−ジオキサン５ｍｌに溶解
し、４規定塩酸１，４−ジオキサン溶液２ｍｌを室温で
加え、３０分間放置した。溶剤を留去し得られた残渣を
１，４−ジオキサン５ｍｌに溶解し、ジエチルエーテル
２００ｍｌ中に攪拌しながら滴下した。更に３０分間攪
拌し、生じた析出物を濾取すると融点１１８℃〜１２２
℃（軟化点）を有する灰白色粉末状の目的化合物０．２
６ｇが得られた。

【０４０２】

【実施例２８】２−（４−クロロフェニルチオ）−３−
｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テト
ラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−
１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニ
ル｝プロピオン酸エチル（例示化合物Ｎｏ．７−１３
０） Ｎ−｛２−［４−［２−（４−クロロフェニルチオ）−
２−エトキシカルボニルエチル］フェノキシアセチルア
ミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニ
ル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例２０
の化合物）０．７５ｇ、エタノール４ｍｌ及び４規定塩
酸１，４−ジオキサン溶液１０ｍｌを用いて実施例１に
準じて反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．３３（"HPT
LC NH₂ F_254S"（MERCK）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝
１：１）を有する白色ガラス状の目的化合物０．５１ｇ
が得られた。

【０４０３】

【実施例２９】２−（４−クロロフェニルチオ）−３−
｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テト
ラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−
１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニ
ル｝プロピオン酸・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．７−２０
の塩酸塩） ２−（４−クロロフェニルチオ）−３−｛４−［６−
（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロ
マン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾ
イミダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオ
ン酸エチル（実施例２８の化合物）０．４９ｇ、水酸化
リチウム・１水和物０．０９ｇ、蒸留水５ｍｌ及びＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌを用いて実施例３に
準じて反応及び後処理を行った後、液体クロマトグラフ
ィー（”LiChroprepDIOL”（MERCK社、登録商標）、酢
酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：１）に付し、得られたガ
ラス状の生成物０．２３ｇを１，４−ジオキサン５ｍｌ
に溶解し、４規定塩酸１，４−ジオキサン溶液２ｍｌを
室温で加え、３０分間放置した。溶剤を留去し得られた
残渣を１，４−ジオキサン５ｍｌに溶解し、ジエチルエ
ーテル２００ｍｌ中に攪拌しながら滴下した。更に３０
分間攪拌し、生じた析出物を濾取すると融点１２０℃〜
１２４℃（軟化点）を有する淡黄色粉末状の目的化合物
０．２ｇが得られた。

【０４０４】

【実施例３０】２−（４−ｔ−ブチルフェニルチオ）−
３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝プロピオン酸エチル（例示化合物Ｎｏ．７−１
３３） Ｎ−｛２−［４−［２−（４−ｔ−ブチルフェニルチ
オ）−２−エトキシカルボニルエチル］フェノキシアセ
チルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，
７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フ
ェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例
２１の化合物）０．７５ｇ、エタノール８ｍｌ及び４規
定塩酸１，４−ジオキサン溶液８ｍｌを用いて実施例１
に準じて反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．４２（"H
PTLC NH₂ F_254S"（MERCK）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン
＝１：１）を有する白色ガラス状の目的化合物０．５５
ｇが得られた。

【０４０５】

【実施例３１】２−（４−ｔ−ブチルフェニルチオ）−
３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝プロピオン酸・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．７−
２３の塩酸塩） ２−（４−ｔ−ブチルフェニルチオ）−３−｛４−［６
−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベン
ゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピ
オン酸エチル０．５３ｇ、水酸化リチウム・１水和物
０．１ｇ、蒸留水５ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド１５ｍｌを用いて実施例３に準じて反応及び後処理
を行った後、液体クロマトグラフィー（”LiChroprepDI
OL”（MERCK社、登録商標）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサ
ン＝２：１）に付し、得られたガラス状の生成物を１，
４−ジオキサン５ｍｌに溶解し、４規定塩酸１，４ジオ
キサン溶液２ｍｌを室温で加え、１５分間放置した。溶
剤を留去し得られた残渣を１，４−ジオキサン５ｍｌに
溶解し、ジエチルエーテル２００ｍｌ中に攪拌しながら
滴下した。更に１５分間攪拌し、生じた析出物を濾取す
ると融点１３４℃〜１３８℃（軟化点）を有する淡黄色
粉末状の目的化合物０．２４ｇが得られた。

【０４０６】

【実施例３２】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝−２−（４−メトキシフェニ
ルチオ）プロピオン酸エチル（例示化合物Ｎｏ．７−１
３６） Ｎ−｛５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−２−［４
−［２−（４−メトキシフェニルチオ）−２−エトキシ
カルボニルエチル］フェノキシアセチルアミノ］フェニ
ル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例２２
の化合物）０．７ｇ、エタノール８ｍｌ及び４規定塩酸
１，４−ジオキサン溶液８ｍｌを用いて実施例１に準じ
て反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．２６（"HPTLC N
H₂ F_254S"（MERCK）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：
１）を有する白色ガラス状の目的化合物０．５ｇが得ら
れた。

【０４０７】

【実施例３３】３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
イルメトキシ］フェニル｝−２−（４−メトキシフェニ
ルチオ）プロピオン酸・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．７−
２６の塩酸塩） ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
ェニル｝−２−（４−メトキシフェニルチオ）プロピオ
ン酸エチル（実施例３２の化合物）０．４８ｇ、水酸化
リチウム・１水和物０．１ｇ、蒸留水５ｍｌ及びＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド１５ｍｌを用いて実施例３に準
じて反応及び後処理を行った後、液体クロマトグラフィ
ー（”LiChroprepDIOL”（MERCK社、登録商標）、酢酸
エチル：ｎ−ヘキサン＝２：１）に付し、得られたガラ
ス状の生成物を１，４−ジオキサン５ｍｌに溶解し、４
規定塩酸１，４−ジオキサン溶液２ｍｌを室温で加え、
１５分間放置した。溶剤を留去し得られた残渣を１，４
−ジオキサン５ｍｌに溶解し、ジエチルエーテル２００
ｍｌ中に攪拌しながら滴下した。更に１５分間攪拌し、
生じた析出物を濾取すると融点１２２℃〜１２５℃（軟
化点）を有する淡紅色粉末状の目的化合物０．２２ｇが
得られた。

【０４０８】

【実施例３４】５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４
−オキソ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２
−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾ
ール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−
２，４−ジオン（例示化合物Ｎｏ．２−２０） Ｎ−｛５−（６−アセトキシ−４−オキソ−２，５，
７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−
２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシアセチルアミノ］フェニル｝−Ｎ−
メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例４１の化合物）
０．２５ｇ、蒸留水５ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオ
キサン溶液３０ｍｌの混合物を室温で５日間放置し、次
いで１時間加熱還流した。反応混合物より溶剤を留去
し、残渣に水を加え、炭酸水素ナトリウムで中和した
後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄
後無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶剤を留去し、
得られた残渣を逆相系分取高速液体クロマトグラフィー
（ＯＤＳ、アセトニトリル：（０．２％酢酸+０．２％
トリエチルアミン）水溶液＝１：１）に付し、Ｒｆ値＝
０．３２（“HPTLC DIOL F _254S”（MERK）、酢酸エチ
ル：n-ヘキサン＝３：１）を有する淡黄色ガラス状の目
的化合物０．１８ｇが得られた。

【０４０９】

【実施例３５】５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４
−オキソ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２
−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾ
ール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−
２，４−ジオン・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．２−２０の
塩酸塩） ５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４−オキソ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
（実施例３４の化合物）０．１７ｇ、酢酸エチル３ｍｌ
及び４規定塩酸酢酸エチル溶液２ｍｌの混合物を室温で
１０分間攪拌した。反応混合物にn-ヘキサン５０ｍｌを
加え、３０分間攪拌し、生じた析出物を濾取すると、融
点１５０℃〜１５４℃を有する淡黄色粉末状の目的化合
物０．１４ｇが得られた。

【０４１０】

【実施例３６】５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４
−メトキシイミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロ
マン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾ
イミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリ
ジン−２，４−ジオン（例示化合物Ｎｏ．２−２４） ５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４−オキソ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
（実施例３４の化合物）０．３ｇ、Ｏ−メチルヒドロキ
シルアミン 塩酸塩０．１３ｇ、ピリジン０．１２ｇ及
び無水メタノール１５ｍｌの混合物を室温で１時間攪拌
後、２日間放置した。更に４時間加熱還流し、一晩放置
した。溶剤を留去し、残渣を逆相系分取高速液体クロマ
トグラフィー（ＯＤＳ、アセトニトリル：（０．２％酢
酸+０．２％トリエチルアミン）水溶液＝６：４）に付
し、Ｒｆ値＝０．５６（“HPTLC DIOL F_254S”（MER
K）、酢酸エチル：n-ヘキサン＝３：１）を有する淡紅
色ガラス状の目的化合物０．２２ｇが得られた。

【０４１１】

【実施例３７】５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４
−メトキシイミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロ
マン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾ
イミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリ
ジン−２，４−ジオン・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．２−
２４の塩酸塩） ５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４−メトキシイミ
ノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）−１−メチル−１−Ｈ−ベンゾイミダゾール
−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４
−ジオン（実施例３６の化合物）０．２１ｇ、酢酸エチ
ル５ｍｌ及び４規定塩酸酢酸エチル溶液１０ｍｌの混合
物に超音波を１０分間照射した。溶剤を留去し、得られ
た残渣をジエチルエーテルで結晶化し、融点１４０℃〜
１４６℃（軟化点）を有する淡黄色粉末状の目的化合物
０．２ｇが得られた。

【０４１２】

【実施例３８】５−｛４−［６−（４−ベンジルオキシ
イミノ−６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチ
ルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−
ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チ
アゾリジン−２，４−ジオン（例示化合物Ｎｏ．２−２
５） ５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４−オキソ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
（実施例３４の化合物）０．３ｇ、Ｏ−ベンジルヒドロ
キシルアミン 塩酸塩０．２４ｇ、ピリジン０．１２ｇ
及び無水メタノール１５ｍｌを用いて実施例３６に準じ
て反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．５８（“HPTLC
DIOL F_254S”（MERK）、酢酸エチル：n-ヘキサン＝３：
１）を有する淡黄色ガラス状の目的化合物０．２４ｇが
得られた。

【０４１３】

【実施例３９】５−｛４−［６−（４−ベンジルオキシ
イミノ−６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチ
ルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−
ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チ
アゾリジン−２，４−ジオン・塩酸塩（例示化合物Ｎ
ｏ．２−２５の塩酸塩） ５−｛４−［６−（４−ベンジルオキシイミノ−６−ヒ
ドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２
−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾ
ール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−
２，４−ジオン（実施例３８の化合物）０．２３ｇ、酢
酸エチル５ｍｌ及び４規定塩酸酢酸エチル溶液１０ｍｌ
を用いて実施例３７に準じて反応及び後処理を行い、融
点１３５℃〜１４２℃（軟化点）を有する淡黄色粉末状
の目的化合物０．２ｇが得られた。

【０４１４】

【実施例４０】５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４
−ヒドロキシイミノ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベン
ゾイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾ
リジン−２，４−ジオン（例示化合物Ｎｏ．２−２３） ５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４−オキソ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
（実施例３４の化合物）０．６ｇ、ヒドロキシルアミン
塩酸塩０．２１ｇ、ピリジン０．２４ｇ及び無水メタ
ノール３０ｍｌの混合物を室温で１時間攪拌後、１．５
日間放置した。更に１日間加熱還流した後、ヒドロキシ
ルアミン 塩酸塩０．２１ｇ及びピリジン０．２４ｇを
加え、室温で２時間攪拌後、２日間放置した。溶剤を留
去し、残渣を逆相系分取高速液体クロマトグラフィー
（ＯＤＳ、アセトニトリル：（０．２％酢酸+０．２％
トリエチルアミン）水溶液＝１：１）に付し、Ｒｆ値＝
０．３６（“HPTLC DIOL F_254S”（MERK）、酢酸エチ
ル：n-ヘキサン＝３：１）を有する淡黄色ガラス状の目
的化合物０．３３ｇが得られた。

【０４１５】

【実施例４１】５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４
−ヒドロキシイミノ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベン
ゾイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾ
リジン−２，４−ジオン・塩酸塩（例示化合物Ｎｏ．２
−２３の塩酸塩） ５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４−ヒドロキシイ
ミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イ
ルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール
−２−イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４
−ジオン（実施例４０の化合物）０．３２ｇ、酢酸エチ
ル１０ｍｌ及び４規定塩酸酢酸エチル溶液１５ｍｌを用
いて実施例３７に準じて反応及び後処理を行い、融点１
５８℃〜１６２℃（軟化点）を有する黄色粉末状の目的
化合物０．３２ｇが得られた。

【０４１６】

【実施例４２】５−｛４−［６−（４−エトキシカルボ
ニルメトキシイミノ−６−ヒドロキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メ
チル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］
ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン（例示化合物
Ｎｏ．６−２） ５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−４−オキソ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イ
ルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン
（実施例３４の化合物）０．３ｇ、アミノオキシ酢酸ｔ
−ブチル ｐ−トルエンスルホン酸塩０．４８ｇ、ピリ
ジン０．１２ｇ及び無水メタノール１５ｍｌの混合物を
室温で１時間攪拌後、１．５日間放置した。更に３．５
時間加熱還流した後、一晩放置した。溶剤を留去し、残
渣をエタノール５ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオキサ
ン溶液１０ｍｌに溶解し２日間放置した。溶剤を留去
し、残渣を逆相系分取高速液体クロマトグラフィー（Ｏ
ＤＳ、アセトニトリル：（０．２％酢酸+０．２％トリ
エチルアミン）水溶液＝３：２）に付し、Ｒｆ値＝０．
３２（“HPTLC DIOL F_{25 4S}”（MERK）、酢酸エチル：n-
ヘキサン＝３：１）を有する淡黄色ガラス状の目的化合
物０．２５ｇが得られた。

【０４１７】

【実施例４３】５−｛４−［６−（４−エトキシカルボ
ニルメトキシイミノ−６−ヒドロキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メ
チル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］
ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオン・塩酸塩（例
示化合物Ｎｏ．６−２の塩酸塩） ５−｛４−［６−（４−エトキシカルボニルメトキシイ
ミノ−６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチル
クロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベ
ンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］ベンジル｝チア
ゾリジン−２，４−ジオン（実施例４２の化合物）０．
２４ｇ、酢酸エチル５ｍｌ及び４規定塩酸酢酸エチル溶
液１０ｍｌを用いて実施例３７に準じて反応及び後処理
を行い、融点１２７℃〜１３３℃（軟化点）を有する淡
黄色粉末状の目的化合物０．１９ｇが得られた。

【０４１８】

【参考例】

【０４１９】

【参考例１】Ｎ−［５−（６−メトキシメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸
ｔ−ブチルエステル（参考例２の原料） ６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル
クロマン−２−イルメタノール５．００ｇ、Ｎ−（５−
クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メチルカルバミン
酸ｔ−ブチルエステル５．１１ｇおよびジメチルホルム
アミド１００ｍｌの混合物中に、氷冷下、水素化ナトリ
ウム（５５重量％）０．７８ｇを加え、室温で３時間攪
拌した。反応混合物を一晩放置した後、反応混合物より
ジメチルホルムアミドを留去し、得られた残渣に水を加
え２Ｎ塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を
食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽
出液より溶剤を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（へキサン：酢酸エチル＝４：１）に付して精製
すると、Ｒｆ値＝０．３０（シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー；へキサン：酢酸エチル＝３：１）を有する目
的化合物８．１８ｇが得られた。

【０４２０】

【参考例２】Ｎ−［２−アミノ−５−（６−メトキシメ
トキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ
−ブチルエステル（参考例３の原料） Ｎ−［５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−２−ニト
ロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチルエス
テル（参考例１の化合物）４．００ｇ、１０％パラジウ
ム−炭素０．４０ｇおよびメタノール８０ｍｌの混合物
を水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応終了後、
反応混合物より触媒をろ別し、ろ液を濃縮すると、Ｒｆ
値＝０．１２（シリカゲル薄層クロマトグラフィー；へ
キサン：酢酸エチル＝３：１）を有する目的化合物３．
７７ｇが得られた。

【０４２１】

【参考例３】Ｎ−｛２−［４−（２，４−ジオキソチア
ゾリジン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミ
ノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝
−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチルエステル（実施例
１の原料） Ｎ−［２−アミノ−５−（６−メトキシメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチルエ
ステル（参考例２の化合物）０．６０ｇ、４−（２，４
−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ
酢酸０．３４ｇおよび無水テトラヒドロフラン１０ｍｌ
の混合物中に、氷冷下、トリエチルアミン０．２０ｍｌ
およびジエチルシアノフォスフォネート０．２２ｍｌを
滴下し、室温で３０分攪拌した。反応混合物を一晩放置
した後、反応混合物よりテトラヒドロフランを留去し、
得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。抽出液より溶剤を留去し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し
て精製すると、Ｒｆ値＝０．３０（シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）を有
する目的化合物０．８４ｇが得られた。

【０４２２】

【参考例４】３−［４−（ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシ）フェニル］−２−（２，２，２−トリフルオロエ
トキシ）プロピオン酸メチルエステル（参考例５の原
料） ３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，２，２−
トリフルオロエトキシ）プロピオン酸メチルエステル
３．４０ｇ、アセトン６０ｍｌの混合物中に、室温下、
炭酸セシウム５．９７ｇを加え、ブロモ酢酸ｔ−ブチル
エステル３．５８ｇを滴下し、室温で１時間３０分攪拌
した。反応終了後、反応混合物よりアセトンを留去し、
得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出
液に飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
した。抽出液より溶剤を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１
０：１）に付して精製すると、Ｒｆ値＝０．５０（シリ
カゲル薄層クロマトグラフィー；ｎ−ヘキサン・酢酸エ
チル＝３：１）を有する目的化合物４．１２ｇが得られ
た。

【０４２３】

【参考例５】３−（４−カルボキシメトキシフェニル）
−２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）プロピオ
ン酸メチルエステル（参考例６の原料） ３−［４−（ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）フェニ
ル］−２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）プロ
ピオン酸メチルエステル（参考例４の化合物）４．０５
ｇ、１，４−ジオキサン４０ｍｌの混合物中に、室温
下、４規定塩酸ジオキサン４０ｍｌを加え、室温で５日
間攪拌した。反応終了後、反応混合物より４規定塩酸−
１，４−ジオキサンを留去し、結晶化すると、融点７５
℃〜８１℃を有する目的化合物３．６３ｇが得られた。

【０４２４】

【参考例６】Ｎ−｛２−［４−［２−メトキシカルボニ
ル−２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）エチ
ル］フェノキシアセチルアミノ］−５−（６−メトキシ
メトキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２
−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸
ｔ−ブチルエステル（実施例２の原料） Ｎ−［２−アミノ−５−（６−メトキシメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチルエ
ステル（参考例２の化合物）０．８０ｇ、３−（４−カ
ルボキシメトキシフェニル）−２−（２，２，２−トリ
フルオロエトキシ）プロピオン酸メチルエステル（参考
例５の化合物）０．５９ｇ、トリエチルアミン０．１８
ｇ、ジエチルシアノフォスフォネート０．２９ｇおよび
無水テトラヒドロフラン２０ｍｌを用い、参考例３に準
じて反応および後処理を行なうと、Ｒｆ値＝０．５６
（シリカゲル薄層クロマトグラフィー；ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル＝１：１）を有する目的化合物１．０９ｇが
得られた。

【０４２５】

【参考例７】３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メ
ルカプトプロピオン酸メチル（参考例８の原料） ５−（４−アセトキシベンジル）−３−トリフェニルメ
チルチアゾリジン−２，４−ジオン８７９ｇのトルエン
１．５ｌ溶液に、２８％ナトリウムメトキシドメタノー
ル溶液３６８ｇを氷冷下で滴下した。室温で２時間撹拌
後、反応溶液にテトラヒドロフラン１ｌ、氷水．０．８
ｌ及び１０％塩酸を加え、ｐＨ＝２に調整した。この反
応溶液の有機層の不要物を濾去し、母液を５％クエン酸
水溶液と飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥した。濾液より溶媒を留去し、残査にイソプロピル
エーテルを加え、析出した不溶物を濾去した。濾液より
溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ−（１回目；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：６、
１：５、１：４、２回目；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝
１：６、１：５）に付すと、Ｒｆ＝０．３５（酢酸エチ
ル：ｎ−ヘキサン＝１：４）を有する橙色油状の目的化
合物０．３３ｇが得られた。

【０４２６】

【参考例８】２−（４−フルオロベンジルチオ）−３−
（４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸メチル（参考
例９の原料） ３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メルカプトプロ
ピオン酸メチル（参考例７の化合物）２００ｍｇの無水
テトラヒドロフラン４ｍｌ溶液にトリエチルアミン０．
１４ｍｌ及び４−フルオロベンジルブロミド０．１２ｍ
ｌを加え、室温で１時間撹拌した。４日間室温で放置
後、反応混合物より減圧下で溶媒を留去し、残査に水を
加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液より酢
酸エチルを留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ−（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２、１：
１）に付すと、Ｒｆ＝０．４４（酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン＝１：２）を有する無色油状のの目的化合物０．２
６ｇが得られた。

【０４２７】

【参考例９】３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキ
シフェニル）−２−（４−フルオロベンジルチオ）プロ
ピオン酸メチル（参考例１０の原料） ２−（４−フルオロベンジルチオ）−３−（４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸メチル（参考例８の化合
物）０．２０ｇ、ブロモ酢酸ｔ−ブチル０．１３ｍｌ、
無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌ及び水素化ナ
トリウム（５５％以上、油性）３１ｍｇを用い、参考例
４に準じて反応を行った。反応混合物より減圧下で溶媒
を留去し、残査に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥した。抽出液より酢酸エチルを留去し、残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン＝１：９、１：４）に付すと、Ｒｆ＝０．２１（酢
酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：９）を有する無色油状の
目的化合物０．２５ｇが得られた。

【０４２８】

【参考例１０】３−（４−カルボキシメトキシフェニ
ル）−２−（４−フルオロベンジルチオ）プロピオン酸
メチル（参考例１１の原料） ３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシフェニル）
−２−（４−フルオロベンジルチオ）プロピオン酸メチ
ル（参考例９の化合物）４．００ｇ、１，４―ジオキサ
ン１０ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオキサン４０ｍｌ
を用い、参考例５に準じて反応を行った。反応混合物よ
り減圧下で溶媒を留去すると、Ｒｆ＝０．１２（酢酸エ
チル：ｎ−ヘキサン＝１：２）を有する淡橙色油状の目
的化合物４．５３ｇ（１，４−ジオキサン混合物）が得
られた。

【０４２９】

【参考例１１】Ｎ−｛２−［４−［２−（４−フルオロ
ベンジルチオ）−２−メトキシカルボニルエチル］フェ
ノキシメチルカルボニルアミノ］−５−（６−メトキシ
メトキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２
−イルメトキシ）フェニル｝―Ｎ−メチルカルバミン酸
ｔ−ブチルエステル（実施例４の原料） ３−（４−カルボキシメトキシフェニル）−２−（４−
フルオロベンジルチオ）プロピオン酸メチル（参考例１
０の化合物）５８６ｍｇ、Ｎ−［２−アミノ−５−（６
−メトキシメトキシー２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル］―Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチルエステル（参考例２の化合物）５
００ｍｇ、トリエチルアミン０．４２ｍｌ、無水テトラ
ヒドロフラン１０ｍｌ及びシアノリン酸ジエチル０．２
３ｍｌを用い、参考例６に準じて反応を行った。反応混
合物より減圧下で溶媒を留去し、残査に水を加え、酢酸
エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液より酢酸エチルを
留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３、１：２、１：
１）に付すと、Ｒｆ＝０．６３（酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン＝１：１）を有する黄色油状の目的化合物０．６９
ｇが得られた。

【０４３０】

【参考例１２】４−ヒドロキシフェニル乳酸エチル（参
考例１３の原料） ４−ヒドロキシフェニル乳酸３０ｇ、無水エタノール５
０ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオキサン溶液１００ｍ
ｌの混合物を室温で一晩放置した。溶剤を留去後、水で
希釈し、炭酸水素ナトリウムで中和した。酢酸エチルで
抽出後、抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。溶剤を留去し、Ｒｆ値＝０．７８
（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エチル）を
有する淡黄色油状の目的化合物３５．７ｇが得られた。

【０４３１】

【参考例１３】３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシフェニル）−２−ヒドロキシプロピオン酸エチル
（参考例１４、２５の原料） ４−ヒドロキシフェニル乳酸エチル（参考例１２の化合
物）３５．６ｇ、ブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル５８．
２ｇ、炭酸セシウム８３ｇ及びアセトン７００ｍｌを用
いて参考例４に準じて反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝
０．３（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エチ
ル：ｎ−ヘキサン＝１：４）を有する淡黄色油状の目的
化合物２８ｇが得られた。

【０４３２】

【参考例１４】３−（４−カルボキシメトキシフェニ
ル）−２−ヒドロキシプロピオン酸エチル（参考例１５
の原料） ３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシフェニル）
−２−ヒドロキシプロピオン酸エチル（参考例１３の化
合物）１８ｇ及び４規定塩酸１，４−ジオキサン溶液１
５０ｍｌを用いて参考例５に準じて反応及び後処理を行
い、Ｒｆ値＝０．３５（“HPTLC DIOL F_254S”（MER
K）、酢酸エチル：n-ヘキサン＝１：２）を有する褐色
油状の目的化合物１７．５ｇが得られた。

【０４３３】

【参考例１５】Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボ
ニル−２−ヒドロキシエチル）フェノキシアセチルアミ
ノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝
−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（実施例１０、参
考例１６〜２４の原料） Ｎ−［２−アミノ−５−（６−メトキシメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル
（参考例２の化合物）１６ｇ、３−（４−カルボキシメ
トキシフェニル）−２−ヒドロキシプロピオン酸エチル
（参考例１４の化合物）１７．４ｇ、無水トリエチルア
ミン４．８６ｇ、シアノリン酸ジエチル７．８２ｇ及び
無水テトラヒドロフラン２５０ｍｌを用い、参考例３に
準じて反応及び後処理を行うと、Ｒｆ値＝０．１（シリ
カゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン＝２：１）を有する黄色ガラス状の目的化合物２
０．６ｇが得られた。

【０４３４】

【参考例１６】Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボ
ニル−２−フェニルチオエチル）フェノキシアセチルア
ミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニ
ル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（実施例８の
原料） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−ヒド
ロキシエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１５の化合物）１ｇ、チ
オフェノール０．２２ｇ、１，１’−（アゾジカルボニ
ル）ジピペリジン０．５３ｇ、トリ−ｎ−ブチルホスフ
ィン０．４２ｇ及び無水トルエン２０ｍｌの混合物を室
温で３時間攪拌後、一晩放置した。不溶物を濾去した
後、溶剤を留去し、得られた残渣を液体クロマトグラフ
ィー（シリカゲル、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：
２）に付し、Ｒｆ値＝０．７５（シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー、酢酸エチル：n-ヘキサン＝１：１）を有
する白色ガラス状の目的化合物０．７５ｇが得られた。

【０４３５】

【参考例１７】Ｎ−｛２−［４−［２−エトキシカルボ
ニル−２−（４−ニトロフェニルチオ）エチル］フェノ
キシアセチルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル
（実施例２０の原料） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−ヒド
ロキシエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１５の化合物）１．５
ｇ、４−ニトロチオフェノール０．７８ｇ、１，１’−
（アゾジカルボニル）ジピペリジン１．５ｇ、トリ−ｎ
−ブチルホスフィン１．４ｇ及び無水トルエン３０ｍｌ
を用いて参考例１６に準じて反応及び後処理を行い、Ｒ
ｆ値＝０．４７（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、
酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２）を有する淡黄色油
状の目的化合物０．４４ｇが得られた。

【０４３６】

【参考例１８】Ｎ−｛２−［４−［２−（４−シアノフ
ェノキシ）−２−エトキシカルボニルエチル］フェノキ
シアセチルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル
（実施例２４の原料） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−ヒド
ロキシエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１５の化合物）１ｇ、４
−シアノフェノール０．３６ｇ、１，１’−（アゾジカ
ルボニル）ジピペリジン０．７６ｇ、トリ−ｎ−ブチル
ホスフィン０．６１ｇ及び無水トルエン２０ｍｌを用い
て参考例１６に準じて反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝
０．２９（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エ
チル：ｎ−ヘキサン＝１：２）を有する白色ガラス状の
目的化合物０．５７ｇが得られた。

【０４３７】

【参考例１９】Ｎ−｛２−［４−［２−エトキシカルボ
ニル−２−（４−メチルフェニルチオ）−エチル］フェ
ノキシアセチルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ
−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメ
トキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチ
ル（実施例２６の原料） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−ヒド
ロキシエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１５の化合物）１．２
ｇ、４−メチルチオフェノール０．３７ｇ、１，１’−
（アゾジカルボニル）ジピペリジン０．８１ｇ、トリ−
ｎ−ブチルホスフィン０．６５ｇ及び無水トルエン２５
ｍｌを用いて参考例１６に準じて反応及び後処理を行
い、Ｒｆ値＝０．６１（シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２）を有する白
色ガラス状の目的化合物０．９４ｇが得られた。

【０４３８】

【参考例２０】Ｎ−｛２−［４−［２−（４−クロロフ
ェニルチオ）−２−エトキシカルボニルエチル］フェノ
キシアセチルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル
（実施例２８の原料） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−ヒド
ロキシエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１５の化合物）１．２
ｇ、４−クロロチオフェノール０．４３ｇ、１，１’−
（アゾジカルボニル）ジピペリジン０．８１ｇ、トリ−
ｎ−ブチルホスフィン０．６５ｇ及び無水トルエン２５
ｍｌを用いて参考例１６に準じて反応及び後処理を行
い、Ｒｆ値＝０．５４（シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２）を有する白
色ガラス状の目的化合物０．７７ｇが得られた。

【０４３９】

【参考例２１】Ｎ−｛２−［４−［２−（４−ｔ−ブチ
ルフェニルチオ）−２−エトキシカルボニルエチル］フ
ェノキシアセチルアミノ］−５−（６−メトキシメトキ
シ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブ
チル（実施例３０の原料） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−ヒド
ロキシエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１５の化合物）１．２
ｇ、４−ｔ−ブチルチオフェノール０．５ｇ、１，１’
−（アゾジカルボニル）ジピペリジン０．８１ｇ、トリ
−ｎ−ブチルホスフィン０．６５ｇ及び無水トルエン２
５ｍｌを用いて参考例１６に準じて反応及び後処理を行
い、Ｒｆ値＝０．６１（シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２）を有する白
色ガラス状の目的化合物０．７８ｇが得られた。

【０４４０】

【参考例２２】Ｎ−｛２−［４−［２−エトキシカルボ
ニル−２−（４−メトキシフェニルチオ）エチル］フェ
ノキシアセチルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ
−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメ
トキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチ
ル（実施例３２の原料） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−ヒド
ロキシエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１５の化合物）１．２
ｇ、４−メトキシチオフェノール０．４２ｇ、１，１’
−（アゾジカルボニル）ジピペリジン０．８１ｇ、トリ
−ｎ−ブチルホスフィン０．６５ｇ及び無水トルエン２
５ｍｌを用いて参考例１６に準じて反応及び後処理を行
い、Ｒｆ値＝０．４２（シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２）を有する白
色ガラス状の目的化合物０．７２ｇが得られた。

【０４４１】

【参考例２３】Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシ−２−
エトキシカルボニルエチル）フェノキシアセチルアミ
ノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝
−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（実施例１２の原
料） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−ヒド
ロキシエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１５の化合物）１ｇ、沃
化エチル１．２ｇ、酸化第一銀１．１ｇ及び無水トルエ
ン１５ｍｌの混合物を２時間加熱還流した。室温で一晩
放置後、更に７時間加熱還流した。不溶物を慮去し、溶
剤を留去し、残渣を液体クロマトグラフィー（シリカゲ
ル、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：５）に付し、Ｒｆ
値＝０．５１（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、酢
酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２）を有する淡黄色油状
の目的化合物０．４６ｇが得られた。

【０４４２】

【参考例２４】Ｎ−｛２−［４−［２−エトキシカルボ
ニル−２−（４−フルオロベンジルオキシ）エチル］フ
ェノキシアセチルアミノ］−５−（６−メトキシメトキ
シ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブ
チル（実施例１４の原料） Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボニル−２−ヒド
ロキシエチル）フェノキシアセチルアミノ］−５−（６
−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカ
ルバミン酸ｔ−ブチル（参考例１５の化合物）１．５
ｇ、４−フルオロベンジルブロミド２．２６ｇ、酸化第
一銀１．６３ｇ及び無水トルエン２０ｍｌを用いて参考
例２３に準じて反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．８
０（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エチル：
ｎ−ヘキサン＝１：２）を有する淡黄色油状の目的化合
物０．６２ｇが得られた。

【０４４３】

【参考例２５】３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシフェニル）−２−フェノキシプロピオン酸エチル
（参考例２７の原料） ３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシフェニル）
−２−ヒドロキシプロピオン酸エチル（参考例１３の化
合物）２ｇ、無水トリエチルアミン０．６９ｇ及び無水
テトラヒドロフラン２０ｍｌの混合物に氷冷下クロロメ
タンスルホン酸クロリド１ｇを加え１時間攪拌した。溶
剤を留去後、水で希釈して酢酸エチルで抽出した。抽出
液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾
燥した。溶剤を留去後、得られた残渣を１０ｍｌの無水
テトラヒドロフランに溶解した。この無水テトラヒドロ
フラン溶液にフェノール０．５８ｇ、水素化ナトリウム
（５５％、油状）０．２８ｇ及び無水Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１０ｍｌの混合物を室温で３０分攪拌した
ものを室温で滴下し、更に７時間攪拌した。一晩放置
後、溶剤を留去し、水で希釈して酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。溶剤を留去し、残渣を液体クロマトグ
ラフィー（゛LiChroprepNH₂"（MERCK）、酢酸エチル：
ｎ−ヘキサン＝１：６）に付し、Ｒｆ値＝０．８４（゛
HPTLC NH₂ F_254S"（MERCK）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサ
ン＝１：５）を有する無色油状の目的化合物０．４６ｇ
が得られた。

【０４４４】

【参考例２６】３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシフェニル）−２−（４−ニトロフェノキシ）プロピ
オン酸エチル（参考例２８の原料） ３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシフェニル）
−２−ヒドロキシプロピオン酸エチル１．８ｇ、クロロ
メタンスルホン酸クロリド０．９１ｇ、無水トリエチル
アミン０．６２ｇ、無水テトラヒドロフラン４０ｍｌ、
４−ニトロフェノール０．７７ｇ、水素化ナトリウム
（５５％、油状）０．２４ｇ及び無水Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド５５ｍｌを用いて参考例２５に準じて反応
及び後処理を行い、得られた粗生成物をカラムクロマト
グラフィー（シリカゲル、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝
１：４）に付し、Ｒｆ値＝０．５０（シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：
３）を有する淡黄色油状の目的化合物２．１５ｇが得ら
れた。

【０４４５】

【参考例２７】３−（４−カルボキシメトキシフェニ
ル）−２−フェノキシプロピオン酸エチル（参考例２９
の原料） ３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシフェニル）
−２−フェノキシプロピオン酸エチル（参考例２５の化
合物）０．４３ｇ及び４規定塩酸１，４−ジオキサン溶
液１０ｍｌを用いて参考例５に準じて反応及び後処理を
行い、Ｒｆ値＝０．４３（“HPTLC DIOL F_254S”（MER
K）、酢酸エチル：n-ヘキサン＝１：３）を有する淡黄
色油状の目的化合物０．３８ｇが得られた。

【０４４６】

【参考例２８】３−（４−カルボキシメトキシフェニ
ル）−２−（４−ニトロフェノキシ）プロピオン酸エチ
ル（参考例３０の原料） ３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシフェニル）
−２−（４−ニトロフェノキシ）プロピオン酸エチル
（参考例２６の化合物）１．８６ｇ、１，４−ジオキサ
ン２０ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジオキサン溶液６０
ｍｌを用いて参考例５に準じて反応及び後処理を行い、
赤褐色油状の目的化合物１．４４ｇが得られた。

【０４４７】

【参考例２９】Ｎ−｛２−［４−（２−エトキシカルボ
ニル−２−フェノキシエチル）フェノキシアセチルアミ
ノ］−５−（６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニル｝
−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（実施例２２の原
料） Ｎ−［２−アミノ−５−（６−メトキシメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル
（参考例２の化合物）０．４５ｇ、３−（４−カルボキ
シメトキシフェニル）−２−フェノキシプロピオン酸エ
チル（参考例２７の化合物）０．３７ｇ、無水トリエチ
ルアミン０．１５ｇ、シアノリン酸ジエチル０．２４ｇ
及び無水テトラヒドロフラン１０ｍｌを用い、参考例３
に準じて反応及び後処理を行うと、Ｒｆ値＝０．５３
（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エチル：ｎ
−ヘキサン＝１：２）を有する白色ガラス状の目的化合
物０．６ｇが得られた。

【０４４８】

【参考例３０】Ｎ−｛２−［４−（２−［４−ニトロフ
ェノキシ］−２−エトキシカルボニルエチル）フェノキ
シアセチルアミノ］−５−（６−メトキシメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル
（実施例１８の原料） Ｎ−［２−アミノ−５−（６−メトキシメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル
（参考例２の化合物）１．７２ｇ、３−（４−カルボキ
シメトキシフェニル）−２−（４−ニトロフェノキシ）
プロピオン酸エチル（参考例２８の化合物）１．３４
ｇ、無水トリエチルアミン０．３８ｇ、シアノリン酸ジ
エチル０．６２ｇ及び無水テトラヒドロフラン５０ｍｌ
を用い、参考例３に準じて反応及び後処理を行うと、Ｒ
ｆ値＝０．６１（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、
酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）を有する黄色ガラ
ス状の目的化合物２．７４ｇが得られた。

【０４４９】

【参考例３１】２−［ビス（４−フルオロフェニル）メ
トキシ］−３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ
フェニル）プロピオン酸メチル（参考例３２の原料） ３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシフェニル）
−２−ヒドロキシプロピオン酸メチル３ｇ、４，４’−
ジフルオロベンズヒドリルクロリド４．６１ｇ、酸化第
一銀８．９６ｇ及び無水トルエン６０ｍｌを用いて参考
例２３に準じて反応及び後処理を行い得られた粗生成物
をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチ
ル：ｎ−ヘキサン＝１：９）次いで逆相系分取高速液体
クロマトグラフィー（ＯＤＳ、アセトニトリル：水＝
３：１）に付し、Ｒｆ値＝０．３９（シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：
５）を有する無色油状の目的化合物２．４１ｇが得られ
た。

【０４５０】

【参考例３２】２−［ビス（４−フルオロフェニル）メ
トキシ］−３−（４−カルボキシメトキシフェニル）プ
ロピオン酸メチル（参考例３３の原料） ２−［ビス（４−フルオロフェニル）メトキシ］−３−
（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシフェニル）プロ
ピオン酸メチル（参考例３１の化合物）１．４６ｇ、
１，４−ジオキサン２０ｍｌ及び４規定塩酸１，４−ジ
オキサン溶液２０ｍｌを用いて参考例５に準じて反応及
び後処理を行い、無色油状の目的化合物１．６９ｇが得
られた。

【０４５１】

【参考例３３】Ｎ−｛２−［４−［２−［ビス（４−フ
ルオロフェニル）メトキシ］−２−メトキシカルボニル
エチル］フェノキシアセチルアミノ］−５−（６−メト
キシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン
−２−イルメトキシ）フェニル｝−Ｎ−メチルカルバミ
ン酸ｔ−ブチル（実施例６の原料） Ｎ−［２−アミノ−５−（６−メトキシメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）フェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル
（参考例２の化合物）１．３ｇ、２−［ビス（４−フル
オロフェニル）メトキシ］−３−（４−カルボキシメト
キシフェニル）プロピオン酸メチル１．３ｇ、無水トリ
エチルアミン０．２９ｇ、シアノリン酸ジエチル０．４
６ｇ及び無水テトラヒドロフラン２０ｍｌを用い、参考
例３に準じて反応及び後処理を行うと、Ｒｆ値＝０．３
１（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エチル：
ｎ−ヘキサン＝１：２）を有する黄色油状の目的化合物
１．０４ｇが得られた。

【０４５２】

【参考例３４】３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシフェニル）−２−エチルチオプロピオン酸メチル
（参考例３５の原料） ３−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メルカプトプロ
ピオン酸メチル１．２９ｇ、沃化エチル１．９ｇ、トリ
エチルアミン１．２３ｇ及び無水テトラヒドロフラン３
０ｍｌの混合物を室温で２０時間攪拌した。溶剤を留去
し、水で希釈して酢酸エチルで抽出した。抽出液は飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶
剤を留去し得られた残渣を無水アセトン２０ｍｌに溶解
し、炭酸セシウム２．９７ｇ及びブロモ酢酸ｔ−ブチル
１．７８ｇを室温で加えた後、参考例４準じて反応及び
後処理を行い、Ｒｆ値＝０．２１（シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：５）
を有する無色油状の目的化合物１．５３ｇが得られた。

【０４５３】

【参考例３５】３−（４−カルボキシメトキシフェニ
ル）−２−エチルチオプロピオン酸メチル（実施例１６
の原料） ３−（４−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシフェニル）
−２−エチルチオプロピオン酸メチル（参考例３５の化
合物）１．４９ｇ、濃塩酸水溶液２ｍｌ及び酢酸１０ｍ
ｌの混合物を８０℃で３．５時間攪拌した。溶剤を留去
し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、目的化合物０．８６
ｇが粗生成物として得られた。本粗生成物は直ちに実施
例１６で用いられた。

【０４５４】

【参考例３６】Ｎ−［５−（３，４−ジメトキシベンジ
ルオキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバ
ミン酸ｔ−ブチル（参考例３７の原料） 水素化ナトリウム（５５％、油性）２．６ｇの無水トル
エン１００ｍｌ懸濁液に３，４−ジメトキシベンジルア
ルコール１０ｇの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１
００ｍｌ溶液を室温で滴下し、４０分間攪拌した。次い
で、Ｎ−（５−クロロ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メ
チルカルバミン酸ｔ−ブチル１１．５ｇの無水Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１００ｍｌ溶液を氷冷下で滴下し
た。室温で１時間攪拌後、溶剤を留去し、水で希釈して
酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄後無
水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶剤を留去し、得ら
れた残渣にジイソプロピルエーテル２５０ｍｌとｎ−ヘ
キサン５００ｍｌを加え、１時間超音波を照射した。析
出物を濾取すると、融点９４℃〜９７℃を有する黄色粉
末状の目的化合物１１．６ｇが得られた。

【０４５５】

【参考例３７】Ｎ−（５−ヒドロキシ−２−ニトロフェ
ニル）−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例３
８の原料） Ｎ−［５−（３，４−ジメトキシベンジルオキシ）−２
−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチ
ル（参考例３６の化合物）１１ｇ、２，３−ジシアノ−
５，６−ジクロロ−１，４−ベンゾキノン９．１ｇ、蒸
留水５ｍｌ及び１，２−ジクロロエタン１５０ｍｌの混
合物を室温で７時間攪拌した。更に２，３−ジシアノ−
５，６−ジクロロ−１，４−ベンゾキノン５ｇを加え、
室温で２．５時間攪拌した。一晩放置後、反応混合物に
酢酸エチル３００ｍｌと５％炭酸水素ナトリウム水溶液
５００ｍｌを加え、１０分間攪拌した。不溶物を濾去
し、有機層を分取した。更に水層を酢酸エチルで抽出し
た後、抽出液を合わせて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥した。溶剤を留去し、得られた残
渣を液体クロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチ
ル：ｎ−ヘキサン＝１：２）に付し、融点１５３℃〜１
５４℃を有する黄色粉末状の目的化合物３．８５ｇが得
られた。

【０４５６】

【参考例３８】Ｎ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−
（２−オキソプロポキシ）フェニル］カルバミン酸ｔ−
ブチル（参考例３９の原料） Ｎ−（５−ヒドロキシ−２−ニトロフェニル）−Ｎ−メ
チルカルバミン酸ｔ−ブチル（参考例３７の化合物）
３．８ｇ、ブロモアセトン３．２ｇ、炭酸セシウム７ｇ
及びアセトン１００ｍｌの混合物を室温で１．５時間攪
拌した。溶剤を留去後、水で希釈して酢酸エチルで抽出
した。抽出液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。溶剤を留去し、Ｒｆ値＝０．１７（シリカゲル薄層
クロマトグラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：
３）を有する褐色油状の目的化合物４．６５ｇが得られ
た。

【０４５７】

【参考例３９】Ｎ−［５−（６−アセトキシ−４−オキ
ソ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）−２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバ
ミン酸ｔ−ブチル（参考例４０の原料） Ｎ−メチル−Ｎ−［２−ニトロ−５−（２−オキソプロ
ポキシ）フェニル］カルバミン酸ｔ−ブチル（参考例３
８の化合物）４．１ｇ、酢酸（３−アセチル−４−ヒド
ロキシ−２，５，６−トリメチル）フェニルエステル３
ｇ、ピロリジン０．９ｇ及び無水メタノール５０ｍｌの
混合物を氷冷下７時間攪拌した。一晩放置後、溶剤を留
去し、残渣に酢酸エチル２００ｍｌと２規定塩酸水溶液
１００ｍｌを加え、３０分間攪拌した。有機層を分取
し、水層をさらに酢酸エチルで抽出した。抽出液を合わ
せ、飽和食塩水で２回洗浄した後に無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。溶剤を留去し、得られた残渣を液体ク
ロマトグラフィー（゛LiChroprepNH₂"（MERCK）、酢酸
エチル：ｎ−ヘキサン＝２：５）次いで逆相系分取高速
液体クロマトグラフィー（ＯＤＳ、アセトニトリル：
（０．２％酢酸+０．２％トリエチルアミン）水溶液＝
１３：７）に付し、Ｒｆ値＝０．７１（シリカゲル薄層
クロマトグラフィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：
５）を有する褐色ガラス状の目的化合物１．６２ｇが得
られた。

【０４５８】

【参考例４０】Ｎ−［５−（６−アセトキシ−４−オキ
ソ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）−２−アミノフェニル］−Ｎ−メチルカルバ
ミン酸ｔ−ブチル（参考例４１の原料） Ｎ−［５−（６−アセトキシ−４−オキソ−２，５，
７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−
２−ニトロフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブ
チル（参考例３９の化合物）１．６ｇ、１０％パラジウ
ム炭素触媒０．２ｇ及びメタノール１５０ｍｌを用いて
参考例２に準じて反応及び後処理を行い、Ｒｆ値＝０．
２１（シリカゲル薄層クロマトグラフィー、酢酸エチ
ル：ｎ−ヘキサン＝２：３）を有する褐色ガラス状の目
的化合物１．５５ｇが得られた。

【０４５９】

【参考例４１】Ｎ−｛５−（６−アセトキシ−４−オキ
ソ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）−２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジ
ン−５−イルメチル）フェノキシアセチルアミノ］フェ
ニル｝−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブチル（実施例３
４の原料） Ｎ−［５−（６−アセトキシ−４−オキソ−２，５，
７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−
２−アミノフェニル］−Ｎ−メチルカルバミン酸ｔ−ブ
チル（参考例４０の化合物）１．５３ｇ、４−（２，４
−ジオキソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシ
酢酸１．３ｇ、１−エチル−３−（３’−ジメチルアミ
ノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣ
ｌ）０．９ｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・１
水和物０．７ｇ、無水テトラヒドロフラン５０ｍｌ及び
無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌの混合物を
室温で１．５時間攪拌した。一晩放置後、溶剤を留去
し、水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を１規
定塩酸水溶液、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２
回）、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。溶剤を留去し、得られた残渣を液体ク
ロマトグラフィー（”LiChroprepDIOL”（MERCK社、登
録商標）、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）に付
し、Ｒｆ値＝０．３５（シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝３：２）を有する白
色ガラス状の目的化合物１．９４ｇが得られた。

【０４６０】

【試験例】血糖降下作用 糖尿病を発症したＫＫマウス(４-５か月齢)の尾静脈よ
り血液を採取し、その血糖値を測定した。次に、各群の
マウスの血糖値の平均が同じになるようにマウスを群分
け(１群４匹)した後、試験化合物を０．０１％含むよう
に調整したマウス用粉末飼料(Ｆ-１，船橋農場)をマウ
スに３日間与えた。試験化合物を与えたマウス群を薬物
投与群とした。なお、試験化合物を含まない粉末飼料を
与えた群を対照群とした。３日後にマウスの尾静脈より
血液を採取し、遠心分離により得られた血漿中のグルコ
ース濃度を、グルコースアナライザー(グルコローダ
ー，Ａ＆Ｔ社)にて測定した。下記の式より、血糖低下
率を求めた。 血糖低下率(％)＝(対照群の平均血糖値-薬物投与群の平
均血糖値)×１００／対照群の血糖値 上記の結果から、本願発明の化合物は、優れた血糖低下
作用を示すことが明らかとなった。

【０４６１】

【発明の効果】本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合
物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容される
エステル類は、優れた、インスリン抵抗性改善作用、血
糖低下作用、抗炎症作用、免疫調節作用、アルドース還
元酵素阻害作用、５−リポキシゲナーゼ阻害作用、過酸
化脂質生成抑制作用、ＰＰＡＲ活性化作用、抗骨粗鬆症
作用、ロイコトリエン拮抗作用、脂肪細胞化促進作用、
ガン細胞増殖抑制作用、カルシウム拮抗作用を有し、糖
尿病、高脂血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪
肝、糖尿病合併症（例えば、網膜症、腎症、神経症、白
内障、冠動脈疾患等である。）、動脈硬化症、妊娠糖尿
病、多嚢胞卵巣症候群、心血管性疾患（例えば、虚血性
心疾患等である。）、非アテローム性動脈硬化症又は虚
血性心疾患により惹起される細胞損傷（例えば、脳卒中
により惹起される脳損傷等である。）、痛風、炎症性疾
患（例えば、骨関節炎、疼痛、発熱、リウマチ性関節
炎、炎症性腸炎、アクネ、日焼け、乾癬、湿疹、アレル
ギー性疾患、喘息、ＧＩ潰瘍、悪液質、自己免疫疾患、
膵炎である。）、ガン、骨粗鬆症、白内障等；の予防剤
及び／又は治療剤として有用である。

【０４６２】更に、本発明の前記一般式（Ｉ）を有する
化合物、その薬理上許容される塩及びその薬理上許容さ
れるエステル類と、α−グルコシダーゼ阻害剤、アルド
ース還元酵素阻害剤、ビグアナイド剤、スタチン系化合
物、スクアレン合成阻害剤、フィブラート系化合物、Ｌ
ＤＬ異化促進剤及びアンジオテンシン変換酵素阻害剤の
少なくとも1種を組み合わせてなる医薬組成物（特に好
適には、糖尿病又は糖尿病合併症の予防剤及び／又は治
療剤である。）も有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｐ 3/10 Ａ６１Ｐ 3/10 3/14 3/14 19/10 19/10 35/00 35/00 43/00 １１１ 43/00 １１１ Ｃ０７Ｄ 417/14 Ｃ０７Ｄ 417/14 471/04 １０７ 471/04 １０７Ｅ (72)発明者 小口 実 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 本間 英仁 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 藤原 俊彦 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 Ｆターム(参考） 4C063 AA01 AA03 BB08 CC79 DD26 EE01 4C065 AA04 BB06 CC01 DD03 EE02 HH01 JJ03 KK04 KK09 PP06 PP07 4C086 AA01 AA03 BC39 GA02 GA10 MA04 NA14 ZA97 ZB07 ZB26 ZC20 ZC33 ZC35 ZC50

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（Ｉ） 【化１】 ［上記式中、 Ｒ¹は水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、置換基群αから
   選択される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₆−
   Ｃ₁₀アリール基、置換基群αから選択される基で１乃至
   ３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₆アラルキル基、水
   酸基、アシルオキシ基（該アシルオキシ基のアシル基
   は、Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシル基、置換基群αから選択され
   る基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₁芳香
   族アシル基、置換基群αから選択される基で１乃至３個
   置換されていてもよいＣ₈−Ｃ₁₂芳香脂肪族アシル基、
   Ｃ₄−Ｃ₁₁シクロアルキルカルボニル基、又は置換基群
   αから選択される基で１乃至５個置換されていてもよい
   酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択さ
   れるヘテロ原子を１乃至３個有する５乃至７員複素芳香
   環カルボニル基を示す。）、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ基、又
   は置換基群βから選択される基で１乃至２個置換されて
   いてもよいアミノ基（該アミノ基は、窒素原子と一緒に
   なって酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から
   選択されるヘテロ原子を１乃至３個有する飽和複素環基
   を形成していてもよい。）を示し、 Ｒ²は水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、又は置換基群α
   から選択される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ
   ₇−Ｃ₁₆アラルキル基を示し、 Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は同一又は異なって水素原子、Ｃ₁−Ｃ
   ₆アルキル基、又はＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基を示し、 Ｒ⁶は水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、置換基群αから
   選択される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₆−
   Ｃ₁₀アリール基、又は置換基群αから選択される基で１
   乃至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₆アラルキル基
   を示し、 Ｑは、酸素原子又は硫黄原子を示し、 Ｘは結合手、ＣＨ₂、ＣＯ、ＣＨＯＲ⁹又はＣ＝ＮＯＲ¹⁰
   （式中、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル
   基（該アルキル基は、同一又は異なった１乃至３個のＣ
   ₁−Ｃ₆アルコキシカルボニル基で置換されていてもよ
   い）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基（該アリール基は、置換基
   群αから選択される同一又は異なった１乃至３個の置換
   基で置換されていてもよい）、Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル基
   （該アラルキル基は、置換基群αから選択される同一又
   は異なった１乃至３個の置換基で置換されていてもよ
   い）、又はアシル基（該アシル基は、Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族ア
   シル基、置換基群αから選択される基で１乃至３個置換
   されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、置換基群
   αから選択される基で１乃至３個置換されていてもよい
   Ｃ₈−Ｃ₁₂芳香脂肪族アシル基、Ｃ₄−Ｃ₁₁シクロアルキ
   ルカルボニル基、置換基群αから選択される基で１乃至
   ５個置換されていてもよい酸素原子、窒素原子及び硫黄
   原子からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個
   有する５乃至７員複素芳香環カルボニル基、又は置換基
   群βから選択される基で１乃至２個置換されてもよいカ
   ルバモイル基を示す。）を示し、Ａは、下記一般式(II-
   a)、(II-b)、(II-c)又は(II-d)で表される基を示し、 【化２】 （上記式中、ｍは同一又は異なって０乃至８の整数を示
   し、 Ｂは酸素原子、硫黄原子又はＮ−Ｒ⁸で表される基を示
   し、 Ｒ⁷は、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ
   ール基（該アリール基は、置換基群αから選択される同
   一又は異なった１乃至３個の置換基で置換されていても
   よい）、Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル基（該アラルキル基は、
   置換基群αから選択される同一又は異なった１乃至３個
   の置換基で置換されていてもよい）、又はハロゲノＣ₁
   −Ｃ₆アルキル基を示し、 Ｒ⁸は水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、置換基群αから
   選択される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₆−
   Ｃ₁₀アリール基、Ｃ₃−Ｃ₁₀シクロアルキル基、置換基
   群αから選択される基で１乃至３個置換されていてもよ
   いＣ₇−Ｃ₁₆アラルキル基、アシル基（該アシル基は、
   Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシル基、置換基群αから選択される基
   で１乃至３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₁芳香族ア
   シル基、置換基群αから選択される基で１乃至３個置換
   されていてもよいＣ₈−Ｃ₁₂芳香脂肪族アシル基を示
   す。）、置換基群βから選択される基で１乃至２個置換
   されていてもよいカルバモイル基、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルス
   ルホニル基、ハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキルスルホニル基、
   置換基群αから選択される基で１乃至３個置換されてい
   てもよいＣ₆−Ｃ₁₀アリールスルホニル基、又は置換基
   群αから選択される基で１乃至３個置換されていてもよ
   いＣ₇−Ｃ₁₆アラルキルスルホニル基を示し、 あるいは、ＢがＮ（Ｒ⁸）を示す場合は、窒素原子、Ｒ⁷
   及びＲ⁸が一緒になって飽和複素環基を形成していても
   よい。）、 Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、 Ｚは、−ＣＨ＝又は窒素原子を示し、 ｎは1乃至５の整数を示し、 ｑは0乃至５の整数を示し、 置換基群αは、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ₁−Ｃ₆アルキ
   ル基、ハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキ
   シ基、アミノ基（該アミノ基は、置換基群βから選択さ
   れる同一又は異なった１乃至２個の置換基で置換されて
   いてもよい。また、該アミノ基は、窒素原子と一緒にな
   って酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選
   択されるヘテロ原子を１乃至３個有する飽和複素環基を
   形成していてもよい。）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、シア
   ノ基、及びニトロ基を示し、 置換基群βは、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキル基、置換基群γから
   選択される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₆−
   Ｃ₁₀アリール基、置換基群γから選択される基で１乃至
   ３個置換されていてもよいＣ₇−Ｃ₁₆アラルキル基及び
   アシル基（該アシル基は、Ｃ₁−Ｃ₇脂肪族アシル基、置
   換基群γから選択される基で１乃至３個置換されていて
   もよいＣ₇−Ｃ₁₁芳香族アシル基、置換基群γから選択
   される基で１乃至３個置換されていてもよいＣ₈−Ｃ₁₂
   芳香脂肪族アシル基、Ｃ₄−Ｃ₁₁シクロアルキルカルボ
   ニル基、及び置換基群γから選択される基で１乃至５個
   置換されていてもよい酸素原子、窒素原子及び硫黄原子
   からなる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個有す
   る５乃至７員複素芳香環カルボニル基を示す。）を示
   し、 置換基群γは、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ₁−Ｃ₆アルキ
   ル基、ハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキ
   シ基、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ基、アミノ基及びニトロ基
   を示す。］を有する置換縮合イミダゾール誘導体、その
   薬理上許容される塩又はその薬理学上許容されるエステ
   ル類を含有する、糖尿病の予防剤又は治療剤。
2. 【請求項２】下記一般式（Ｉ’） 【化３】 ［上記式中、 Ｘ’は、ＣＨ₂、ＣＯ又はＣ＝ＮＯＲ¹⁰（式中、Ｒ
   ¹⁰は、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基（該アルキル基
   は、同一又は異なった１乃至３個のＣ₁−Ｃ₆アルコキシ
   カルボニル基で置換されていてもよい）又はＣ₇−Ｃ₁₆
   アラルキル基を示す。）を示し、 Ａ’は、下記式(II-b')又は(II-d')で表される基を示
   す。 【化４】 （上記式中、 Ｂ’は酸素原子又は硫黄原子を示し、 Ｒ⁷は、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ
   ール基（該アリール基は、置換基群αから選択される同
   一又は異なった１乃至３個の置換基で置換されていても
   よい）、Ｃ₇−Ｃ₁₆アラルキル基（該アラルキル基は、
   置換基群αから選択される同一又は異なった１乃至３個
   の置換基で置換されていてもよい）、又はハロゲノＣ₁
   −Ｃ₆アルキル基を示す。）］を有する置換縮合イミダ
   ゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその薬理学
   上許容されるエステル類を含有する、糖尿病の予防剤又
   は治療剤。（置換基群α）ハロゲン原子、水酸基、Ｃ₁
   −Ｃ₆アルキル基、ハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基、Ｃ₁−
   Ｃ₆アルコキシ基、アミノ基（該アミノ基は、置換基群
   βから選択される同一又は異なった１乃至２個の置換基
   で置換されていてもよい。また、該アミノ基は、窒素原
   子と一緒になって酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から
   なる群から選択されるヘテロ原子を１乃至３個有する飽
   和複素環基を形成していてもよい。）、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリ
   ール基、シアノ基及びニトロ基。
3. 【請求項３】請求項２において、Ｘ’がＣＨ₂である、
   置換縮合イミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩
   又はその薬理学上許容されるエステル類を含有する、糖
   尿病の予防剤又は治療剤。
4. 【請求項４】請求項2又は３において、Ａ’が式(II-b')
   で表される基である、置換縮合イミダゾール誘導体、そ
   の薬理上許容される塩又はその薬理学上許容されるエス
   テル類を含有する、糖尿病の予防剤又は治療剤。
5. 【請求項５】請求項2又は３において、Ａ’が式(II-d')
   で表される基であり、Ｂ’が酸素原子である、置換縮合
   イミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその
   薬理学上許容されるエステル類を含有する、糖尿病の予
   防剤又は治療剤。
6. 【請求項６】請求項2又は３において、Ａ’が式(II-d')
   で表される基であり、Ｂ’が硫黄原子である、置換縮合
   イミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその
   薬理学上許容されるエステル類を含有する、糖尿病の予
   防剤又は治療剤。
7. 【請求項７】請求項２、３、５又は６において、Ｒ⁷が
   水素原子、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基、フェニル基（該フェニ
   ル基は、置換基群αから選択される同一又は異なった１
   乃至３個の置換基で置換されていてもよい）、ベンジル
   基（該ベンジル基は、置換基群αから選択される同一又
   は異なった１乃至３個の置換基で置換されていてもよ
   い）又はハロゲノＣ₁−Ｃ₆アルキル基である、置換縮合
   イミダゾール誘導体、その薬理上許容される塩又はその
   薬理学上許容されるエステル類を含有する、糖尿病の予
   防剤又は治療剤。
8. 【請求項８】請求項２、３、５又は６において、Ｒ⁷が
   フェニル基（該フェニル基の４位は、置換基群αから選
   択される１個の置換基で置換されていてもよい）、ベン
   ジル基（該ベンジル基の４位は、置換基群αから選択さ
   れる１個の置換基で置換されていてもよい）又はハロゲ
   ノＣ₁−Ｃ₆アルキル基である、置換縮合イミダゾール誘
   導体、その薬理上許容される塩又はその薬理学上許容さ
   れるエステル類を含有する、糖尿病の予防剤又は治療
   剤。
9. 【請求項９】請求項１乃至８より選択されるいずれか１
   項における、置換縮合イミダゾール誘導体を含有する、
   糖尿病の予防剤又は治療剤。
10. 【請求項１０】請求項１乃至８より選択されるいずれか
    １項における、置換縮合イミダゾール誘導体の薬理上許
    容される塩を含有する、糖尿病の予防剤又は治療剤。
11. 【請求項１１】請求項１乃至８より選択されるいずれか
    １項における、置換縮合イミダゾール誘導体の薬理上許
    容される塩酸塩を含有する、糖尿病の予防剤又は治療
    剤。
12. 【請求項１２】請求項１乃至８より選択されるいずれか
    １項における、置換縮合イミダゾール誘導体の薬理学上
    許容されるエステル類を含有する、糖尿病の予防剤又は
    治療剤。
13. 【請求項１３】請求項１乃至８より選択されるいずれか
    １項における、置換縮合イミダゾール誘導体のメチルエ
    ステルを含有する、糖尿病の予防剤又は治療剤。
14. 【請求項１４】請求項１乃至８より選択されるいずれか
    １項における、置換縮合イミダゾール誘導体のエチルエ
    ステルを含有する、糖尿病の予防剤又は治療剤。
15. 【請求項１５】請求項１において、下記より選択される
    いずれか１つの化合物、その薬理上許容される塩又はそ
    の薬理上許容されるエステル類を含有する、糖尿病の予
    防剤又は治療剤。５−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−
    ２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
    キシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−
    イルメトキシ］ベンジル｝チアゾリジン−２，４−ジオ
    ン ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
    テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
    ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
    ェニル｝−２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）
    プロピオン酸 ２−（４−フルオロベンジルチオ）―３−｛４−［６−
    （６−ヒドロキシー２，５，７，８−テトラメチルクロ
    マンー２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベンゾ
    イミダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピオ
    ン酸 ３−｛４−［６−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
    テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）−１−メチ
    ル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フ
    ェニル｝−２−フェニルチオプロピオン酸 ２−（４−フルオロベンジルオキシ）−３−｛４−［６
    −（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
    ロマン−２−イルメトキシ）−１−メチル−１Ｈ−ベン
    ゾイミダゾール−２−イルメトキシ］フェニル｝プロピ
    オン酸
16. 【請求項１６】請求項１乃至１５より選択されるいずれ
    か１項に記載の化合物を有効成分として含有する、イン
    スリン抵抗性改善剤、血糖低下剤、抗炎症剤、免疫調節
    剤、アルドース還元酵素阻害剤、５−リポキシゲナーゼ
    阻害剤、過酸化脂質生成抑制剤、ＰＰＡＲ活性化剤、抗
    骨粗鬆症剤、ロイコトリエン拮抗剤、脂肪細胞化促進
    剤、ガン細胞増殖抑制剤又はカルシウム拮抗剤。
17. 【請求項１７】請求項１乃至１５より選択されるいずれ
    か１項に記載の化合物を有効成分として含有する、イン
    スリン抵抗性を改善するための医薬組成物。
18. 【請求項１８】請求項１乃至１５より選択されるいずれ
    か１項に記載の化合物を有効成分として含有する、血糖
    を低下するための医薬組成物。
19. 【請求項１９】請求項１乃至１５より選択されるいずれ
    か１項に記載の化合物を有効成分として含有する、高脂
    血症、肥満症、耐糖能不全、高血圧症、脂肪肝、糖尿病
    合併症、動脈硬化症、妊娠糖尿病、多嚢胞卵巣症候群、
    心血管性疾患、アテローム性動脈硬化症により惹起され
    る細胞損傷、虚血性心疾患により惹起される細胞損傷、
    痛風、骨関節炎、リウマチ性関節炎、アレルギー性疾
    患、喘息疾患、ＧＩ潰瘍、悪液質、自己免疫疾患、膵
    炎、ガン、骨粗鬆症又は白内障の、予防剤又は治療剤。
20. 【請求項２０】請求項１乃至１５より選択されるいずれ
    か１項に記載の化合物を有効成分として含有する、糖尿
    病の予防又は治療のための医薬組成物。
21. 【請求項２１】糖尿病の予防又は治療のための医薬組成
    物を製造するための、請求項１乃至１５より選択される
    いずれか１項に記載の化合物の使用。