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JP2002107660A - Optical equipment and laser processing machine - Google Patents

Optical equipment and laser processing machine

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Publication number
JP2002107660A
JP2002107660A JP2000302377A JP2000302377A JP2002107660A JP 2002107660 A JP2002107660 A JP 2002107660A JP 2000302377 A JP2000302377 A JP 2000302377A JP 2000302377 A JP2000302377 A JP 2000302377A JP 2002107660 A JP2002107660 A JP 2002107660A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light beam
optical
optical element
light beams
reflecting surfaces
Prior art date
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Application number
JP2000302377A
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Japanese (ja)
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Inventor
Atsushi Katsunuma
淳 勝沼
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 投影倍率に異方性を生じさせることなく光束
の断面形状を円形から細長い形状に変換できるととも
に、集光NAに方向差を与えることができる光学装置の
提供。 【解決手段】 オプティカルファイバー2の端面から出
射された円錐状の光束L1は、コリメーター10により
平行光束L2とされた後に、第1光学素子M1に設けら
れた反射面M11〜M13により3つの部分光束L21
〜L23に分割される。反射面M11〜M13で反射さ
れた部分光束L21〜L23は、それぞれ第2光学素子
M2の対応する反射面M21〜M23に入射し、反射面
M21〜M23で反射されてx軸方向に一列に整列させ
られる。これらの部分光束L21〜L23は集光光学系
11により集光され、オプティカルファイバー端面像が
ワークWに結像される。
(57) Abstract: Provided is an optical device that can convert the cross-sectional shape of a light beam from a circular shape to an elongated shape without causing anisotropy in a projection magnification, and can give a direction difference to a focused NA. SOLUTION: A conical light beam L1 emitted from an end face of an optical fiber 2 is converted into a parallel light beam L2 by a collimator 10, and then reflected by three reflecting surfaces M11 to M13 provided on a first optical element M1. Luminous flux L21
~ L23. The partial light beams L21 to L23 reflected by the reflecting surfaces M11 to M13 respectively enter the corresponding reflecting surfaces M21 to M23 of the second optical element M2, are reflected by the reflecting surfaces M21 to M23, and are aligned in the x-axis direction. Let me do. These partial light beams L21 to L23 are condensed by the condensing optical system 11, and an optical fiber end face image is formed on the work W.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光束断面形状を変
換する光学装置および、その光学装置を備えたレーザー
加工機に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an optical device for converting a light beam cross-sectional shape and a laser beam machine equipped with the optical device.

【0002】[0002]

【従来の技術】多くのレーザー加工機では、安全性や機
能性を考慮して加工場所から離れた場所にレーザー発振
器を設置し、レーザー発振器から加工ヘッドへはオプテ
ィカルファイバーによってレーザー光を導くようにして
いる。このレーザー光を導くオプティカルファイバーが
ある程度以上の長さになると、オプティカルファイバー
から射出される光束のNA(開口数)は入射光束のNA
と同じにならず、オプティカルファイバーの臨界角度程
度まで広がってしまう。オプティカルファイバーの臨界
角度は、例えば、石英ファイバーの場合、NAで0.2
程度が普通である。
2. Description of the Related Art In many laser processing machines, a laser oscillator is installed at a place away from a processing place in consideration of safety and functionality, and a laser beam is guided from the laser oscillator to a processing head by an optical fiber. ing. If the optical fiber for guiding the laser beam becomes longer than a certain length, the NA (numerical aperture) of the light beam emitted from the optical fiber becomes the NA of the incident light beam.
And spread to about the critical angle of the optical fiber. The critical angle of the optical fiber is, for example, 0.2 in NA for quartz fiber.
The degree is normal.

【0003】このように、オプティカルファイバーから
は臨界角度いっぱいに円錐状に広がった光束が出射され
る。加工ヘッドには集光光学系が設けられており、オプ
ティカルファイバーから出射されたレーザー光は集光光
学系により集光され、ワークの加工部分にオプティカル
ファイバーの射出面像が形成される。この集光光束も円
錐状に集光され、その集光NAは加工部に形成された射
出面像の投影倍率によって決まる。例えば、NA=0.
2のオプティカルファイバーにより等倍投影すると、集
光NAは0.2となる。このような円錐状に集光された
レーザー光をワークに照射すると、加工部はレーザー光
照射中心について回転対称状に溶融され、また、円錐状
光束のために射出面像よりも大きな領域が溶融されてし
まうことになる。
[0003] As described above, a light beam that spreads in a conical shape over the entire critical angle is emitted from the optical fiber. The processing head is provided with a condensing optical system, and the laser light emitted from the optical fiber is condensed by the condensing optical system, and an emission surface image of the optical fiber is formed on a processed portion of the work. This condensed light beam is also condensed in a conical shape, and the converged NA is determined by the projection magnification of the exit plane image formed in the processing section. For example, NA = 0.
When the same magnification is projected by the two optical fibers, the focused NA becomes 0.2. When the workpiece is irradiated with such conical laser light, the processed part is melted in a rotationally symmetric manner with respect to the laser light irradiation center, and the area larger than the exit plane image is melted due to the conical light flux. Will be done.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、鋼板などを
直線上に切断するような場合に、切断部の溶融幅をなる
べく狭くシャープにしたいという要求がある。しかし、
上述したようにワークに照射される光束は下方にすぼま
るような円錐状をしているため、溶融幅は投影像の直径
より大きくなり、板厚が厚くなるほどその傾向が大きく
なる。
In the case where a steel plate or the like is cut along a straight line, there is a demand for making the melting width of the cut portion as narrow and sharp as possible. But,
As described above, the luminous flux applied to the workpiece has a conical shape that narrows downward, so that the fusion width is larger than the diameter of the projected image, and the tendency increases as the plate thickness increases.

【0005】本発明の目的は、投影倍率に異方性を生じ
させることなく光束の断面形状を円形から細長い形状に
変換できるとともに、集光NAに異方性を与えることが
できる光学装置、およびその光学装置を備えるレーザー
加工機を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an optical device capable of converting the cross-sectional shape of a light beam from a circular shape to an elongated shape without causing anisotropy in the projection magnification, and giving anisotropy to the converging NA. An object of the present invention is to provide a laser beam machine provided with the optical device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】発明の実施の形態を示す
図1〜4に対応付けて説明する。 (1)図2に対応付けて説明すると、請求項1の発明に
よる光学装置4は、投影倍率の等方性を維持しつつ、等
方的入射NAを有する光束L2を異方的集光NAを有す
る光束L21,L22,L23に変換することにより上
述の目的を達成する。 (2)請求項2の発明による光学装置4は、有限の大き
さの光源から出射された光束L1を平行光束L2に変換
するコリメーター10と、光束断面が複数に分割される
ように平行光束L2を複数の部分光束L21〜L23に
分割する複数の反射面M11〜M13を有する第1の光
学素子M1と、複数の部分光束L21〜L23の進行方
向を同一方向(y軸負方向)にそろえるとともに、それ
らの部分光束L21〜L23を前記進行方向に直交する
方向(x軸方向)に一列に並べる複数の反射面M21〜
M23を有する第2の光学素子M2と、第2の光学素子
M2により一列に並べられた複数の部分光束L21〜L
23を集光して前記光源の像を結像させる異方性NAを
有する集光光学系11とを備えて上述の目的を達成す
る。 (3)図3及び図4に対応付けて説明すると、請求項3
の発明は、請求項1に記載の光学装置4において、第1
の光学素子M1は、平行光束L2の進行方向(x軸方
向)に所定間隔x1で配設されるとともに前記進行方向
と直交する方向(z軸方向)に階段状にずらして配設さ
れ、平行光束L2の異なる部分を部分光束L21〜L2
3として前記進行方向と異なる方向(y軸負方向)に反
射する互いに平行な複数の第1反射面M11〜M13を
備え、第2の光学素子M2は、部分光束L21〜L23
を受光する位置に複数の第1反射面M11〜M13の各
々と対応して設けられ、受光した部分光束L21〜L2
3を集光光学系11へそれぞれ反射する互いに平行な複
数の第2反射面M21〜M23を備えるものである。 (4)図1に対応付けて説明すると、請求項4の発明に
よるレーザー加工機は、請求項1〜3のいずれかに記載
の光学装置4を備え、レーザー光源1からのレーザー光
を光学装置4を介して被加工物W上に照射するものであ
る。
An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. (1) Explaining in association with FIG. 2, the optical device 4 according to the first aspect of the present invention maintains the isotropy of the projection magnification and converts the light beam L2 having the isotropic incidence NA into the anisotropic focusing NA. The above object is achieved by converting the light beams into light beams L21, L22, and L23 having the following. (2) The optical device 4 according to the second aspect of the present invention includes a collimator 10 that converts a light beam L1 emitted from a light source having a finite size into a parallel light beam L2, and a parallel light beam such that the light beam cross section is divided into a plurality. The first optical element M1 having a plurality of reflection surfaces M11 to M13 that divide L2 into a plurality of partial light beams L21 to L23, and the traveling directions of the plurality of partial light beams L21 to L23 are aligned in the same direction (y-axis negative direction). At the same time, a plurality of reflecting surfaces M21 to L21 which arrange the partial light beams L21 to L23 in a line in a direction (x-axis direction) orthogonal to the traveling direction.
A second optical element M2 having M23, and a plurality of partial light beams L21 to L arranged in a line by the second optical element M2.
The above-mentioned object is achieved by providing a light-collecting optical system 11 having an anisotropic NA for converging light from the light source 23 to form an image of the light source. (3) In connection with FIG. 3 and FIG.
The present invention provides the optical device 4 according to claim 1, wherein
Are arranged at a predetermined interval x1 in the traveling direction (x-axis direction) of the parallel light beam L2 and are displaced stepwise in a direction (z-axis direction) perpendicular to the traveling direction. Different portions of the light beam L2 are divided into partial light beams L21 and L2.
3 includes a plurality of first reflection surfaces M11 to M13 parallel to each other that reflect in a direction different from the traveling direction (y-axis negative direction), and the second optical element M2 includes partial light beams L21 to L23.
Are provided corresponding to each of the plurality of first reflecting surfaces M11 to M13 at the position where the light is received, and the received partial light fluxes L21 to L2.
3 is provided with a plurality of parallel second reflecting surfaces M21 to M23 that reflect the light to the condensing optical system 11, respectively. (4) Explaining in association with FIG. 1, a laser processing machine according to a fourth aspect of the present invention includes the optical device 4 according to any one of the first to third aspects, and transmits laser light from the laser light source 1 to the optical device. Irradiation is performed on the workpiece W via the reference numeral 4.

【0007】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が発明の実施の形態に限定されるものではない。
[0007] In the section of the means for solving the above-mentioned problems, which explains the configuration of the present invention, the drawings of the embodiments of the present invention are used to make the present invention easy to understand. However, the present invention is not limited to the embodiment.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、図1〜図9を参照して本発
明の実施の形態を説明する。図1は本発明によるレーザ
ー加工機の一実施の形態を示す図であり、レーザー加工
機の光学系の概略構成を模式的に示した図である。1は
レーザー発振器であり、レーザー加工機にはCO2レー
ザーやYAGレーザーなどが一般的に用いられる。レー
ザー発振器1で発生したレーザー光はオプティカルファ
イバー2により加工機の加工ヘッド部3に導かれ、加工
ヘッド部3に設けられた光学装置4を介してワークW上
に照射される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a view showing one embodiment of a laser beam machine according to the present invention, and is a view schematically showing a schematic configuration of an optical system of the laser beam machine. 1 is a laser oscillator, the laser processing machine such as a CO 2 laser or a YAG laser is generally used. The laser light generated by the laser oscillator 1 is guided to the processing head 3 of the processing machine by the optical fiber 2 and is irradiated on the work W via the optical device 4 provided in the processing head 3.

【0009】図2は光学装置4の概略図であり、(a)
は正面図、(b)は平面図、(c)はオプティカルファ
イバー2方向から見た左側面図である。光学装置4は、
コリメーター10、第1光学素子M1、第2光学素子M
2および集光光学系11で構成される。オプティカルフ
ァイバー2から出射されるレーザー光は円錐状光束L1
となっているが、この光束L1はコリメーター10によ
って円形断面形状を有する平行光束L2に変換される。
なお、本実施の形態では、光学装置4は等倍の倍率を有
しており、オプティカルファイバー2の出射端面像がワ
ークW上に結像される。
FIG. 2 is a schematic view of the optical device 4, and FIG.
Is a front view, (b) is a plan view, and (c) is a left side view as seen from the optical fiber 2 direction. The optical device 4
Collimator 10, first optical element M1, second optical element M
2 and a condensing optical system 11. The laser light emitted from the optical fiber 2 is a conical light beam L1.
The light beam L1 is converted by the collimator 10 into a parallel light beam L2 having a circular cross-sectional shape.
In the present embodiment, the optical device 4 has the same magnification, and an exit end face image of the optical fiber 2 is formed on the work W.

【0010】図3は第1光学素子M1の詳細を示す図で
あり、(a)は斜視図、(b)はy軸負方向(コリメー
ター10方向)から見た図である。第1光学素子M1に
は、互いに平行な位置関係にある3つの反射面M11,
M12,M13が形成されている。各反射面M11,M
12,M13の法線は、それぞれx軸(負方向)、y軸
(負方向)に対して45度の角度を成している。また、
各反射面M12,M13は、反射面M11に対してそれ
ぞれx方向にx1,2・x1、y方向にy1,2・y1
だけずらして形成されている。
FIGS. 3A and 3B show the details of the first optical element M1. FIG. 3A is a perspective view, and FIG. 3B is a view as seen from the y-axis negative direction (the collimator 10 direction). The first optical element M1 has three reflecting surfaces M11,
M12 and M13 are formed. Each reflection surface M11, M
The normal lines 12 and M13 form an angle of 45 degrees with the x-axis (negative direction) and the y-axis (negative direction), respectively. Also,
The reflecting surfaces M12 and M13 are respectively x1, x2 in the x direction and y1, y1 in the y direction with respect to the reflecting surface M11.
It is formed shifted only.

【0011】図3(b)の斜線部分は、第1光学素子M
1に入射する平行光束L2の断面を示したものである。
第1光学素子M1に入射した平行光束L2は、L21で
示す部分光束が反射面M11で反射され、L22で示す
部分光束が反射面M12で反射され、L23で示す部分
光束が反射面M13で反射される。図3(a)に示すよ
うに、各反射面M11〜M13で反射された部分光束L
21〜23は、それぞれJ1〜J3で示すように光路が
y軸正方向に90度曲げられて図2に示す第2光学素子
M2に入射する。
The hatched portion in FIG. 3B indicates the first optical element M
2 shows a cross section of a parallel light beam L2 incident on the light beam L1.
In the parallel light beam L2 incident on the first optical element M1, the partial light beam indicated by L21 is reflected by the reflecting surface M11, the partial light beam indicated by L22 is reflected by the reflecting surface M12, and the partial light beam indicated by L23 is reflected by the reflecting surface M13. Is done. As shown in FIG. 3A, the partial luminous flux L reflected by each of the reflection surfaces M11 to M13
As indicated by J1 to J3, the optical paths of the optical elements 21 to 23 are bent by 90 degrees in the positive y-axis direction, and enter the second optical element M2 shown in FIG.

【0012】上述したように、反射面M11に対して、
反射面M12はx方向にx1、反射面M13はx方向に
2・x1だけそれぞれずらして形成されているので、反
射後の光路J2,J3は、反射後の光路J2に対してx
方向にx1および2・x1だけそれぞれずれている。な
お、反射面M11〜M13は互いに平行なので、分割さ
れた部分光束L21,L22,L23も互いに平行とな
っている。このように、平行光束L2は、3つの反射面
M11〜M13を有する第1光学素子M1により3つの
部分光束L21,L22,L23に分割され、第2光学
素子M2に入射する。
As described above, with respect to the reflecting surface M11,
Since the reflecting surface M12 is formed so as to be shifted by x1 in the x direction and the reflecting surface M13 is formed so as to be shifted by 2 · x1 in the x direction, the optical paths J2 and J3 after reflection are shifted by x with respect to the optical path J2 after reflection.
In the direction by x1 and 2 · x1 respectively. Since the reflection surfaces M11 to M13 are parallel to each other, the divided partial light beams L21, L22, and L23 are also parallel to each other. As described above, the parallel light beam L2 is divided into three partial light beams L21, L22, and L23 by the first optical element M1 having the three reflection surfaces M11 to M13, and is incident on the second optical element M2.

【0013】図4は第2光学素子M2の詳細を示す図で
あり、(a)は第2光学素子M2の斜視図、(b)は第
2光学素子M2をz方向から見た平面図である。第2光
学素子M2には、互いに平行な位置関係にある3つの反
射面M21,M22,M23が形成されている。各反射
面M21,M22,M23の法線は、それぞれy軸(正
方向)、z軸(負方向)に対して45度の角度を成して
いる。また、各反射面M22,M23は、反射面M21
に対してそれぞれx方向にx1,2・x1、y方向にy
1,2・y1だけずらして形成されている。
FIGS. 4A and 4B are diagrams showing details of the second optical element M2. FIG. 4A is a perspective view of the second optical element M2, and FIG. 4B is a plan view of the second optical element M2 viewed from the z direction. is there. In the second optical element M2, three reflecting surfaces M21, M22, M23 having a positional relationship parallel to each other are formed. The normal line of each reflection surface M21, M22, M23 forms an angle of 45 degrees with respect to the y-axis (positive direction) and the z-axis (negative direction), respectively. Further, each of the reflection surfaces M22 and M23 is a reflection surface M21.
X1, x2 in the x direction and y in the y direction, respectively.
It is formed shifted by 1,2 · y1.

【0014】そのため、第1光学素子M1の反射面M1
1により反射分割されてy軸負方向に進行する部分光束
L21は、反射面M21によりz軸負方向に反射され
る。同様に、部分光束L22,L23も、それぞれ反射
面M22,M23によりz軸負方向に反射される。な
お、図4の斜線部は、反射面M21,M22,M23で
反射された部分光束L21,L22,L23の光束断面
を示したものである。第2光学素子M2の反射面M21
〜M23はx軸方向に一列に並んでいるので、反射面M
21〜M23で反射された部分光束L21〜L23も図
4(b)に示すようにx軸方向に一列に並ぶことにな
る。
Therefore, the reflecting surface M1 of the first optical element M1
The partial light beam L21 that is reflected and split by 1 and travels in the negative y-axis direction is reflected by the reflection surface M21 in the negative z-axis direction. Similarly, the partial light beams L22 and L23 are also reflected in the negative direction of the z-axis by the reflecting surfaces M22 and M23, respectively. The hatched portions in FIG. 4 show the light beam cross sections of the partial light beams L21, L22, L23 reflected by the reflecting surfaces M21, M22, M23. Reflection surface M21 of second optical element M2
To M23 are arranged in a line in the x-axis direction.
The partial light beams L21 to L23 reflected by 21 to M23 are also arranged in a line in the x-axis direction as shown in FIG. 4B.

【0015】すなわち、コリメーター10から射出され
た平行光束L2の断面は図3(b)に示すように円形で
あったが、平行光束L2が第1光学素子M1で3分割さ
れた後に第2光学素子M2で再配置されることにより、
図4(b)に示すような細長い形状の断面を有する光束
(部分光束L21〜L23を合わせたもの)に変換され
る。この場合、レーザー光による加工方向は図2(a)
に示すようにx軸方向であり、部分光束L21〜L22
は加工方向に一列に配列される。その後、第2光学素子
M2からz軸負方向に出射された各部分光束L21,L
22,L23は、図2(a)に示すように集光光学系1
1によってワークWの加工部に集光され、オプティカル
ファイバー1の出射端面像が結像される。集光光学系1
1としては、屈折式、反射式、屈折式と反射式の複合な
ど種々のものが可能である。
That is, the cross section of the parallel light beam L2 emitted from the collimator 10 is circular as shown in FIG. 3B, but after the parallel light beam L2 is divided into three by the first optical element M1, the second By being rearranged by the optical element M2,
The light is converted into a light flux having an elongated cross section as shown in FIG. 4B (a combination of the partial light fluxes L21 to L23). In this case, the processing direction by the laser beam is as shown in FIG.
Are in the x-axis direction, and the partial luminous fluxes L21 to L22
Are arranged in a line in the processing direction. Thereafter, the respective partial light beams L21, L emitted from the second optical element M2 in the negative z-axis direction
Reference numerals 22 and L23 denote the condensing optical system 1 as shown in FIG.
The light is condensed on the processed portion of the workpiece W by the light source 1, and an emission end face image of the optical fiber 1 is formed. Condensing optical system 1
As 1, various types such as a refraction type, a reflection type, and a combination of a refraction type and a reflection type are possible.

【0016】次に、ワークW上に集光されるレーザー光
の集光NAについて述べる。ここでは、平行光束L2を
断面分割幅が等しくなるようにN分割する場合について
説明する。N分割された部分光束L21〜L23は加工
方向(x方向)に一列に配列され、NAが最大になる方
向はx方向であり、これをNAxと記す。一方、y方向
ではNAが最小となり、これをNAyと記す。これらN
Ax、NAyの値は集光光学系11の具体的な方式によ
って若干異なるが、大まかな目安は次式(1)、(2)
で与えられる。なお、NA0はオプティカルファイバー
1からの射出NAであり、MはワークW上に結像された
オプティカルファイバー1の出射端面像の投影倍率であ
る。
Next, the focusing NA of the laser beam focused on the workpiece W will be described. Here, a case will be described in which the parallel light beam L2 is divided into N parts so that the sectional division widths are equal. The N-divided partial light beams L21 to L23 are arranged in a line in the processing direction (x direction), and the direction in which the NA becomes maximum is the x direction, which is referred to as NAx. On the other hand, NA becomes minimum in the y direction, and this is described as NAy. These N
The values of Ax and NAy are slightly different depending on the specific system of the light condensing optical system 11, but the rough guide is given by the following equations (1) and (2).
Given by NA0 is the emission NA from the optical fiber 1, and M is the projection magnification of the exit end face image of the optical fiber 1 formed on the work W.

【数1】 NAx=NA0×N/M …(1) NAy=NA0×(1/N)/M …(2)NAx = NA0 × N / M (1) NAy = NA0 × (1 / N) / M (2)

【0017】例えば、上述した3分割の例で等倍の場合
には、加工方向のNAxは従来の3倍となり、加工方向
に直行する方向のNAyは従来の1/3となる。図5は
NAと加工断面との関係を示す図であり、(a)は切断
幅方向の断面図、(b)は切断方向に沿った断面図であ
る。図5において、破線はNA0の光束を、実線はNA
x,NAyの光束を示している。図5(a)に示したよ
うに、本実施の形態ではNAyがNA0のほぼ1/3と
小さくなるため、切断幅方向(y方向)の溶融幅を従来
より小さくできるとともに、切断切り口をより垂直に鋭
くすることができる。
For example, in the case of the same size in the above-described example of three divisions, NAx in the processing direction is three times as large as the conventional one, and NAy in the direction perpendicular to the processing direction is one third of the conventional one. 5A and 5B are diagrams showing a relationship between NA and a processing cross section, wherein FIG. 5A is a cross sectional view in a cutting width direction, and FIG. 5B is a cross sectional view along a cutting direction. In FIG. 5, the dashed line indicates the luminous flux of NA0, and the solid line indicates the luminous flux of NA.
The luminous flux of x, NAy is shown. As shown in FIG. 5 (a), in this embodiment, the NAy is reduced to approximately 1/3 of NA0, so that the melting width in the cutting width direction (y direction) can be made smaller than before and the cutting edge can be made smaller. Can be sharpened vertically.

【0018】従来、シリンドリカルレンズなどを組み合
わせたアナモルフィック光学系(anamorphic optical s
ystem)を用いることによって、集光NAに異方性を持
たせることができることが知られているが、このような
光学系を用いた場合、ワーク上に投影されたオプティカ
ルファイバーコア像にも異方性が生ずる。図6の
(a)、(b)はシリンドリカルレンズ51,52を用
いた光学系の一例を概念的に示す図であり、(a)はレ
ーザー光の走査方向(x軸方向)から光学系を見た断面
図、(b)は(a)のA方向から見た断面図であり、
(c)はワークW上のビームスポットの形状を示す図
で、(d)は本実施の形態の場合のビームスポット形状
を示す図である。
Conventionally, an anamorphic optical system combining a cylindrical lens and the like is used.
It is known that the use of an optical system can provide anisotropy to the converging NA. However, when such an optical system is used, the optical fiber core image projected on the workpiece will differ. Anisotropy occurs. FIGS. 6A and 6B are diagrams conceptually showing an example of an optical system using the cylindrical lenses 51 and 52, and FIG. 6A shows the optical system from the scanning direction (x-axis direction) of the laser beam. (B) is a cross-sectional view as viewed from the direction A in FIG.
(C) is a diagram showing the shape of the beam spot on the workpiece W, and (d) is a diagram showing the beam spot shape in the case of the present embodiment.

【0019】このような光学系を用いると、オプティカ
ルファイバー2からの出射NA0に対して、集光NAx
をNA0に等しくしたまま、集光NAyをNA0より小
さくすることができる。ところで、光学系の投影倍率は
集光NAにほぼ反比例するので、NAy方向の投影倍率
は最大になり、NAx方向の投影倍率は最小になる。そ
の結果、ワークW上のビームスポットの形状は、図6
(c)に示すように切断幅方向(y方向)に最長となる
ような長円形状になってしまい、集光NAを小さくした
効果が低減または打ち消されてしまうという欠点があっ
た。
When such an optical system is used, the converging NAx
Can be made smaller than NA0 while keeping the same as NA0. By the way, since the projection magnification of the optical system is almost inversely proportional to the converging NA, the projection magnification in the NAy direction becomes maximum and the projection magnification in the NAx direction becomes minimum. As a result, the shape of the beam spot on the workpiece W is as shown in FIG.
As shown in (c), the shape becomes an oval shape that is the longest in the cutting width direction (y direction), and there is a disadvantage that the effect of reducing the converging NA is reduced or negated.

【0020】しかし、本実施の形態では、光束断面形状
の変換を平面反射面を有する光学素子M1,M2により
行っているので、オプティカルファイバー出射端面像の
ワークWへの投影倍率に異方性は発生しない。すなわ
ち、集光NAが異方性を有するように変換しても、ワー
クW上のビームスポット形状は図6(d)のような円形
となる。そのため、上述したような溶融幅が拡大するの
を防止できる。
However, in the present embodiment, since the conversion of the light beam cross-sectional shape is performed by the optical elements M1 and M2 having a plane reflecting surface, the anisotropy in the projection magnification of the optical fiber exit end image onto the workpiece W is small. Does not occur. That is, even if the converging NA is converted to have anisotropy, the beam spot shape on the work W becomes a circle as shown in FIG. Therefore, it is possible to prevent the melting width from expanding as described above.

【0021】上述した実施の形態では、レーザー加工機
に関して説明したが、光学装置4は光束断面を変換する
光学装置としてレーザー加工機以外にも用いることがで
きる。また、上述した光学装置4を逆の光路で用いる
と、細長い断面を有する光束を円錐状の光束に変換する
ことができる。なお、光学素子M1,M2の反射面M1
1〜M13,M21〜M23は反射鏡で構成しても、全
反射プリズムを用いて構成しても良い。
In the above-described embodiment, the laser processing machine has been described. However, the optical device 4 can be used as an optical device for converting a light beam cross section other than the laser processing machine. Further, when the above-described optical device 4 is used in the reverse optical path, it is possible to convert a light beam having an elongated cross section into a conical light beam. In addition, the reflection surface M1 of the optical elements M1 and M2
Each of 1 to M13 and M21 to M23 may be configured by a reflecting mirror or may be configured by using a total reflection prism.

【0022】《光学素子M1,M2の説明》図7は光学
素子M1,M2にプリズムを用いた場合の具体例を示す
図であり、プリズムP11,P12,P13が光学素子
M1を構成し、プリズムP21,P22,P23が光学
素子M2を構成している。図8は光学素子M1,M2の
分解斜視図であり、(a)は光学素子M1に関するもの
で、(b)は光学素子M2に関するものである。
<< Explanation of Optical Elements M1 and M2 >> FIG. 7 is a view showing a specific example in which a prism is used for the optical elements M1 and M2. The prisms P11, P12 and P13 constitute the optical element M1. P21, P22 and P23 constitute the optical element M2. FIG. 8 is an exploded perspective view of the optical elements M1 and M2. FIG. 8A is related to the optical element M1, and FIG. 8B is related to the optical element M2.

【0023】光学素子M1を構成する各プリズムP11
〜P13は、それぞれ図8(a)に示すような形状を有
している。プリズムP11の反射面M11は、互いに直
交する端面S11,S14のそれぞれと45度の角度を
成している。同様に、プリズムP12の反射面M12は
互いに直交する端面S12,S15に対して45度の角
度を成しており、プリズムP13の反射面M13は互い
に直交する端面S13,S16に対して45度の角度を
成している。このようなプリズムP11〜P13を、平
行光束L2の入射面である端面S11,S12,S13
が同一平面となるように貼り合わせて一体の光学素子M
1を形成する。
Each prism P11 constituting the optical element M1
To P13 each have a shape as shown in FIG. The reflection surface M11 of the prism P11 forms an angle of 45 degrees with each of the end surfaces S11 and S14 orthogonal to each other. Similarly, the reflection surface M12 of the prism P12 forms an angle of 45 degrees with the end surfaces S12 and S15 orthogonal to each other, and the reflection surface M13 of the prism P13 forms an angle of 45 degrees with respect to the end surfaces S13 and S16 orthogonal to each other. Make an angle. Such prisms P11 to P13 are connected to end surfaces S11, S12, S13, which are incident surfaces of the parallel light flux L2.
Are bonded together so that they are on the same plane.
Form one.

【0024】一方、光学素子M2を構成するプリズムP
21,P22,P23は、図8(b)に示すような形状
を有している。プリズムP21の反射面M21は、互い
に直交する端面S21,S24のそれぞれと45度の角
度を成している。同様に、プリズムP22の反射面M2
2は互いに直交する端面S22,S25に対して45度
の角度を成しており、プリズムP23の反射面M23は
互いに直交する端面S23,S26に対して45度の角
度を成している。そして、各プリズムP21〜P23の
各端面S24,S25,S26を光学素子M1の端面S
14〜S16に貼り合わせることにより、光学素子M2
が形成される。
On the other hand, the prism P constituting the optical element M2
21, P22 and P23 have shapes as shown in FIG. The reflection surface M21 of the prism P21 forms an angle of 45 degrees with each of the end surfaces S21 and S24 orthogonal to each other. Similarly, the reflection surface M2 of the prism P22
2 has an angle of 45 degrees with respect to the end faces S22 and S25 that are orthogonal to each other, and the reflection surface M23 of the prism P23 has an angle of 45 degrees with respect to the end faces S23 and S26 that are orthogonal to each other. Then, each end face S24, S25, S26 of each prism P21 to P23 is connected to the end face S of the optical element M1.
14 to S16, the optical element M2
Is formed.

【0025】光学素子M1,M2は、端面S11〜S1
3がx軸と直交し、端面S21〜S23がz軸と直交す
るように配設される。平行光束L2は図7に示すように
端面S11〜S13に垂直に入射し、反射面M11〜M
13で反射されることにより部分光束L21〜L23に
3分割される。部分光束L21〜L23はそれぞれ異な
るプリズムP21〜P23に入射して反射面M21〜M
23で反射され、部分光束L21は端面S21から、部
分光束L22は端面S22から、部分光束L23は端面
L23からそれぞれ出射される。出射された部分光束L
21〜L23は図2に示す集光光学系11に入射する。
The optical elements M1 and M2 have end faces S11 to S1.
3 are arranged so as to be orthogonal to the x-axis, and the end faces S21 to S23 are orthogonal to the z-axis. The parallel light beam L2 is perpendicularly incident on the end faces S11 to S13 as shown in FIG.
The reflected light 13 is divided into three light beams L21 to L23. The partial light beams L21 to L23 are incident on different prisms P21 to P23, respectively, and are reflected by the reflection surfaces M21 to M23.
The partial light beam L21 is reflected from the end surface S21, the partial light beam L22 is emitted from the end surface S22, and the partial light beam L23 is emitted from the end surface L23. Emitted partial light beam L
21 to L23 enter the condensing optical system 11 shown in FIG.

【0026】《集光光学系11の説明》次に、集光光学
系11について説明する。図9は集光光学系11の一例
を示す図であり、(a)は集光光学系11をy軸負方向
から見た断面図であり、(b)は(a)のB方向から見
た断面図である。集光光学系11はレンズ111〜11
6と防塵窓ガラス117とを有している。例えば、波長
=1064nmのYAGレーザーを使用し、オプティカ
ルファイバー2にはコア径φ0.8mm、NA=0.2
のものを用いるとともに、コリメーター10および集光
光学系11の焦点距離をf=80mmとする。
<< Explanation of Condensing Optical System 11 >> Next, the condensing optical system 11 will be described. 9A and 9B are diagrams illustrating an example of the light collecting optical system 11, wherein FIG. 9A is a cross-sectional view of the light collecting optical system 11 viewed from the negative direction of the y-axis, and FIG. FIG. The condenser optical system 11 includes lenses 111 to 11
6 and a dustproof window glass 117. For example, a YAG laser having a wavelength of 1064 nm is used, and the optical fiber 2 has a core diameter of 0.8 mm and an NA of 0.2.
And the focal length of the collimator 10 and the condensing optical system 11 is f = 80 mm.

【0027】このとき、コリメーター10から出射され
る平行光束L2の径はφ32.7mmとなり、ワークW
上のオプティカルファイバーコア像はφ0.8mmの円
形スポットとなる。なお、防塵窓ガラス117からワー
クWまでの距離、すなわち、集光光学系11のワーキン
グディスタンスは100mmとした。また、レンズ11
1〜116および防塵窓ガラス117の材質は石英ガラ
スとした。図9においてL201は光軸上の光束を、L
202およびL203は周辺光束を示したものである。
At this time, the diameter of the parallel light beam L2 emitted from the collimator 10 becomes φ32.7 mm, and the work W
The upper optical fiber core image is a circular spot of φ0.8 mm. The distance from the dust-proof window glass 117 to the work W, that is, the working distance of the condensing optical system 11 was set to 100 mm. Also, the lens 11
Quartz glass was used as the material of the glass windows 1-116 and the dustproof window glass 117. In FIG. 9, L201 denotes a light beam on the optical axis, L201
Reference numerals 202 and L203 denote peripheral light beams.

【0028】上述した実施の形態では、光学素子M1,
M2に反射鏡を用いたもの、およびプリズムを用いたも
のについて説明した。光学素子M1,M2にプリズムを
用いた場合、プリズムP11〜P13,P21〜P23
は接着等により貼り合わされ、光学素子M1と光学素子
M2とは一体となる。そのため、光学素子M1,M2全
体を小型化できるという利点を有する。また、光学素子
M1,M2が一体とされるため、組立後に光学素子M
1,M2同士がずれたりすることが無く、精度低下を防
止できる。一方、光学素子M1,M2に反射鏡を用いた
場合、レーザー光の光量減衰を非常に低く抑えることが
できるとともに、高エネルギーレーザーを用いたときで
もプリズムを用いる場合に比べて熱的負荷が小さいとい
う利点がある。
In the above embodiment, the optical elements M1,
M2 using a reflecting mirror and using a prism have been described. When prisms are used for the optical elements M1 and M2, the prisms P11 to P13, P21 to P23
Are bonded by bonding or the like, and the optical element M1 and the optical element M2 are integrated. Therefore, there is an advantage that the entire optical elements M1 and M2 can be reduced in size. Further, since the optical elements M1 and M2 are integrated, the optical element M
1 and M2 do not shift from each other, and a decrease in accuracy can be prevented. On the other hand, when the reflecting mirrors are used for the optical elements M1 and M2, the attenuation of the light quantity of the laser beam can be suppressed to a very low level, and the thermal load is small even when a high energy laser is used as compared with the case where a prism is used. There is an advantage.

【0029】以上説明した実施の形態と特許請求の範囲
の要素との対応において、反射面M11〜M13は第1
反射面を、反射面M21〜M23は第2反射面を、レー
ザー発振器1はレーザー光源を、ワークWは被加工物を
それぞれ構成する。
In the correspondence between the embodiment described above and the elements in the claims, the reflecting surfaces M11 to M13 are the first
The reflecting surfaces, the reflecting surfaces M21 to M23 form the second reflecting surface, the laser oscillator 1 forms the laser light source, and the work W forms the workpiece.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、投影倍率が等方的で異方的集光NAを有する光
束を得ることができる。請求項2および3の発明によれ
ば、コリメーターに入射する光束の入射NAが等方的な
ものであっても、コリメーターから出射される平行光束
を第1の光学素子で複数の部分光束に分割するととも
に、複数の部分光束を第2の光学素子により一列に並べ
たものを集光光学系で集光することによって、細長い断
面を有し、かつ、断面幅の狭い方向の集光NAが小さな
光束を得ることができる。請求項4の発明では、光学素
子から出射されるレーザー光束は細長い断面形状を有し
ており、その断面の長手方向を加工方向とすることによ
り加工部の溶融幅を小さくすることができる。また、断
面幅の小さい方向の集光NAを小さくできるので、切り
口断面が鋭くなるように加工することができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, it is possible to obtain a light beam having an isotropic focusing NA with an isotropic projection magnification. According to the second and third aspects of the present invention, even if the incident NA of the light beam incident on the collimator is isotropic, the first optical element converts the parallel light beam emitted from the collimator into a plurality of partial light beams. And a plurality of partial luminous fluxes arranged in a line by the second optical element are condensed by a condensing optical system to form a condensing NA having an elongated cross section and a narrow cross section width. Can obtain a small luminous flux. According to the fourth aspect of the present invention, the laser beam emitted from the optical element has an elongated cross-sectional shape, and the melt width of the processed portion can be reduced by setting the longitudinal direction of the cross section as the processing direction. Further, since the light converging NA in the direction in which the cross-section width is small can be reduced, it is possible to perform processing so that the cut cross-section becomes sharp.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるレーザー加工機の一実施の形態を
示す図であり、加工機の光学系の概略構成を模式的に示
した図である。
FIG. 1 is a view showing one embodiment of a laser processing machine according to the present invention, and is a view schematically showing a schematic configuration of an optical system of the processing machine.

【図2】光学装置4の概略図であり、(a)は正面図、
(b)は平面図、(c)はオプティカルファイバー2方
向から見た左側面図である。
FIGS. 2A and 2B are schematic diagrams of an optical device 4, wherein FIG.
(B) is a plan view, and (c) is a left side view as seen from the optical fiber 2 direction.

【図3】第1光学素子M1の詳細を示す図であり、
(a)は斜視図、(b)はx軸負方向から見た図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing details of a first optical element M1,
(A) is a perspective view, (b) is the figure seen from the x-axis negative direction.

【図4】第2光学素子M2の詳細を示す図であり、
(a)は斜視図、(b)は平面図である。
FIG. 4 is a diagram showing details of a second optical element M2;
(A) is a perspective view, (b) is a plan view.

【図5】NAと加工断面のとの関係を示す図であり、
(a)は切断幅方向の断面図、(b)は切断方向に沿っ
た断面図である。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between NA and a processing cross section,
(A) is a sectional view in the cutting width direction, and (b) is a sectional view along the cutting direction.

【図6】アナモルフィック光学系の一例を説明する図で
あり、(a)は光学系をx軸方向から見た断面図、
(b)は(a)のA方向から見た断面図であり、(c)
はビームスポットの形状を示し、(d)は本実施の形態
の場合のビームスポット形状を示す図である。
6A and 6B are diagrams illustrating an example of an anamorphic optical system. FIG. 6A is a cross-sectional view of the optical system as viewed from an x-axis direction.
(B) is a cross-sectional view as viewed from the direction A in (a), and (c)
FIG. 4 shows a beam spot shape, and FIG. 4D shows a beam spot shape in the case of the present embodiment.

【図7】プリズムを用いた光学素子M1,M2を示す図
である。
FIG. 7 is a diagram showing optical elements M1 and M2 using a prism.

【図8】図7に示す光学素子M1,M2の分解斜視図で
あり、(a)は光学素子M1に関するもので、(b)は
光学素子M2に関するものである。
8 is an exploded perspective view of the optical elements M1 and M2 shown in FIG. 7, where (a) relates to the optical element M1 and (b) relates to the optical element M2.

【図9】集光光学系11の一例を示す図であり、(a)
は集光光学系11をy軸負方向から見た断面図であり、
(b)は(a)のB方向から見た断面図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating an example of a light collecting optical system 11;
Is a cross-sectional view of the condensing optical system 11 as viewed from the y-axis negative direction.
(B) is sectional drawing seen from B direction of (a).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザー発振器 2 オプティカルファイバー 3 加工ヘッド部 4 光学装置 10 コリメーター 11 集光光学系 L2 平行光束 L21〜L23 部分光束 M1,M2 光学素子 M11〜M13,M21〜M23 反射面 W ワーク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser oscillator 2 Optical fiber 3 Processing head part 4 Optical device 10 Collimator 11 Condensing optical system L2 Parallel light flux L21-L23 Partial light flux M1, M2 Optical element M11-M13, M21-M23 Reflection surface W Work

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 13/14 G02B 27/00 E ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02B 13/14 G02B 27/00 E

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 投影倍率の等方性を維持しつつ、等方的
入射NAを有する光束を異方的集光NAを有する光束に
変換することを特徴とする光学装置。
1. An optical device, wherein a light beam having an isotropic incident NA is converted into a light beam having an anisotropic convergent NA while maintaining isotropic projection magnification.
【請求項2】 有限の大きさの光源から出射された光束
を平行光束に変換するコリメーターと、 光束断面が複数に分割されるように前記平行光束を複数
の部分光束に分割する複数の反射面を有する第1の光学
素子と、 前記複数の部分光束の進行方向を同一方向にそろえると
ともに、それらの部分光束を前記進行方向に直交する方
向に一列に並べる複数の反射面を有する第2の光学素子
と、 前記第2の光学素子により一列に並べられた前記複数の
部分光束を集光して前記光源の像を結像させる異方性N
Aを有する集光光学系とを備えることを特徴とする光学
装置。
2. A collimator for converting a light beam emitted from a light source having a finite size into a parallel light beam, and a plurality of reflections for dividing the parallel light beam into a plurality of partial light beams so that a light beam cross section is divided into a plurality of light beams. A first optical element having a surface, and a second reflecting surface having a plurality of reflecting surfaces for aligning the traveling directions of the plurality of partial light beams in the same direction and arranging the partial light beams in a line in a direction orthogonal to the traveling direction. An optical element; and an anisotropy N for condensing the plurality of partial light beams arranged in a line by the second optical element to form an image of the light source.
An optical device comprising: a condensing optical system having A.
【請求項3】 請求項2に記載の光学装置において、 前記第1の光学素子は、前記平行光束の進行方向に所定
間隔で配設されるとともに前記進行方向と直交する方向
に階段状にずらして配設され、前記平行光束の異なる部
分を前記部分光束として前記進行方向と異なる方向に反
射する互いに平行な複数の第1反射面を備え、 前記第2の光学素子は、前記部分光束を受光する位置に
前記複数の第1反射面の各々と対応して設けられ、受光
した部分光束を前記集光光学系へそれぞれ反射する互い
に平行な複数の第2反射面を備えることを特徴とする光
学装置。
3. The optical device according to claim 2, wherein the first optical elements are arranged at predetermined intervals in a traveling direction of the parallel light beam and are shifted stepwise in a direction orthogonal to the traveling direction. And a plurality of parallel first reflecting surfaces that reflect different portions of the parallel light beam as the partial light beams in a direction different from the traveling direction, wherein the second optical element receives the partial light beams And a plurality of parallel second reflecting surfaces that are provided at positions corresponding to the plurality of first reflecting surfaces, respectively, and reflect the received partial light beams to the condensing optical system, respectively. apparatus.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の光学装
置を備え、レーザー光源からのレーザー光を前記光学装
置を介して被加工物上に照射することを特徴とするレー
ザー加工機。
4. A laser processing machine comprising the optical device according to claim 1, wherein a laser beam from a laser light source is irradiated onto a workpiece through the optical device.
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