[go: up one dir, main page]

JP2007229758A - Laser processing equipment - Google Patents

Laser processing equipment Download PDF

Info

Publication number
JP2007229758A
JP2007229758A JP2006053826A JP2006053826A JP2007229758A JP 2007229758 A JP2007229758 A JP 2007229758A JP 2006053826 A JP2006053826 A JP 2006053826A JP 2006053826 A JP2006053826 A JP 2006053826A JP 2007229758 A JP2007229758 A JP 2007229758A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
processing apparatus
laser processing
light
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006053826A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Fukami
昌司 深見
Hiroki Yoshida
弘樹 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FUKAMI SEISAKUSHO KK
Gifu University NUC
Original Assignee
FUKAMI SEISAKUSHO KK
Gifu University NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FUKAMI SEISAKUSHO KK, Gifu University NUC filed Critical FUKAMI SEISAKUSHO KK
Priority to JP2006053826A priority Critical patent/JP2007229758A/en
Publication of JP2007229758A publication Critical patent/JP2007229758A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

【課題】ワークの積層状態にある複数の透明板に対してレーザ加工を施すことができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ光Lを発生するレーザ光発生器16と、複数の透明板14a,14bを積層状態に配置してなるワーク14との間に、ビームスプリッタ19等よりなる分割装置18を設ける。レーザ光発生器16から発生されるレーザ光Lを分割装置18等により、ワーク14の各透明板14a,14bに焦点が合うように導光させて照射し、各透明板14a,14bに対して被処理部を形成する。
【選択図】図1
A laser processing apparatus capable of performing laser processing on a plurality of transparent plates in a stacked state of workpieces.
A splitter 18 including a beam splitter 19 is provided between a laser beam generator 16 that generates a laser beam L and a workpiece 14 in which a plurality of transparent plates 14a and 14b are arranged in a stacked state. . The laser beam L generated from the laser beam generator 16 is guided to the transparent plates 14a and 14b of the work 14 so as to be focused by the dividing device 18 and the like, and is irradiated to the transparent plates 14a and 14b. A processing target part is formed.
[Selection] Figure 1

Description

この発明は、ガラス等の複数の透明板を積層状態に配置してなるワークにレーザ光を照射して、複数の透明板に切断等のための被処理部を形成するようにしたレーザ加工装置に関するものである。   The present invention relates to a laser processing apparatus for irradiating a workpiece formed by arranging a plurality of transparent plates such as glass in a laminated state to form a processing target for cutting or the like on the plurality of transparent plates. It is about.

液晶パネルやプラズマディスプレイパネルは、2枚の透明ガラス板間に液晶や放電セル等を介在させて構成されている。そして、これらのパネルの製造に際しては、ワークとしての大面積の2枚のガラス製透明板を、ダイヤモンドや超硬チップ等よりなる切断具により所定の大きさに切り分けるという作業が行われていた。この場合、ダイヤモンド等による機械的切断方法では、切断予定ラインやその周囲に割れやひびが入りやすいため、ワークの切断端面が粗状になり、後工程において透明板の切断端面を研磨あるいは研削処理する必要があって、加工が面倒で手間がかかるという問題があった。   A liquid crystal panel or a plasma display panel is configured by interposing a liquid crystal or a discharge cell between two transparent glass plates. In manufacturing these panels, two large glass transparent plates as workpieces were cut into a predetermined size with a cutting tool made of diamond, cemented carbide chip or the like. In this case, the mechanical cutting method using diamond or the like tends to cause cracks and cracks in the planned cutting line and its surroundings, so the cut end surface of the workpiece becomes rough, and the cut end surface of the transparent plate is polished or ground in the subsequent process. There is a problem that the processing is cumbersome and time-consuming.

このような問題に対処するため、例えば、特許文献1に開示されるように、透明板の内部に焦点が合うようにレーザ光を照射して、透明板の切断予定ラインの位置に溶融処理領域等の被処理部を形成し、その被処理部に沿って透明板を切り分けることができるようにしたレーザ加工装置も従来から提案されている。
特開2002−192367号公報
In order to deal with such a problem, for example, as disclosed in Patent Document 1, a laser beam is irradiated so that the inside of the transparent plate is focused, and the melt processing region is located at the position of the cutting planned line of the transparent plate. Conventionally, a laser processing apparatus has also been proposed in which a portion to be processed is formed and a transparent plate can be cut along the portion to be processed.
JP 2002-192367 A

ところが、この従来のレーザ加工装置においては、1枚の透明板に対してのみレーザ光を照射するようになっているため、前記のように2枚の透明板を備えた液晶パネル等のワークを加工する場合には、2回の工程に分けてレーザ加工を施す必要がある。よって、やはり加工が面倒で時間がかかるものであった。   However, in this conventional laser processing apparatus, since the laser beam is irradiated only to one transparent plate, a work such as a liquid crystal panel having two transparent plates as described above is used. In the case of processing, it is necessary to perform laser processing in two steps. Therefore, the processing was troublesome and time consuming.

この発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的は、積層状態にある複数の透明板に対してレーザ加工を施すことができるレーザ加工装置を提供することにある。   The present invention has been made paying attention to such problems existing in the prior art. The purpose is to provide a laser processing apparatus capable of performing laser processing on a plurality of transparent plates in a laminated state.

上記の目的を達成するために、請求項1記載の発明においては、レーザ光源と、該レーザ光源から照射されるレーザ光を合焦するための合焦手段と、該合焦手段による合焦点を前記ワークを構成する透明板のうち2以上の透明板の内部に作るための導光手段とを備えており、前記導光手段及び合焦手段は、ワークを構成する透明板に対してレーザ光を同一側から照射させることを特徴とする。   In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a laser light source, focusing means for focusing laser light emitted from the laser light source, and focusing by the focusing means are performed. Light guide means for making the inside of two or more transparent plates among the transparent plates constituting the workpiece, and the light guide means and the focusing means are laser beams for the transparent plates constituting the workpiece. Are irradiated from the same side.

請求項2記載の発明においては、請求項1記載の発明において、レーザ光源が一つであることを特徴とする。
請求項3記載の発明においては、請求項1又は2に記載の発明において、導光手段は、レーザ光源からのレーザ光を透過光と反射光とに分割する分割手段と、該分割手段により分割された透過光及び反射光を偏光する偏光手段と、該偏光手段により偏光された透過光及び反射光を偏向する偏向手段とによって構成されていることを特徴とする。
The invention according to claim 2 is characterized in that in the invention according to claim 1, there is one laser light source.
In the invention described in claim 3, in the invention described in claim 1 or 2, the light guide means divides the laser light from the laser light source into transmitted light and reflected light, and is divided by the dividing means. It is characterized by comprising polarizing means for polarizing the transmitted light and reflected light and deflecting means for deflecting the transmitted light and reflected light polarized by the polarizing means.

請求項4記載の発明においては、請求項3記載の発明において、偏向手段による偏向向きを変更する変更手段を備えていることを特徴とする。
請求項5記載の発明においては、請求項1又は2に記載の発明において、導光手段は、合焦手段を操作することによって、各透明板に合焦点を作ることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, there is provided a changing means for changing a deflection direction by the deflecting means.
The invention according to claim 5 is characterized in that, in the invention according to claim 1 or 2, the light guiding means creates a focal point on each transparent plate by operating the focusing means.

請求項6記載の発明においては、請求項5に記載の発明において、合焦手段は、光軸上において各ワークに対して接近離間する方向に移動可能な凸レンズにより構成され、導光手段は、レーザ光の合焦対象を異なる透明板とするために、前記凸レンズを往復移動させる駆動機構とより構成されていることを特徴とする。   In the invention described in claim 6, in the invention described in claim 5, the focusing means is constituted by a convex lens movable in a direction approaching and separating from each workpiece on the optical axis, and the light guiding means is In order to make the object to be focused by the laser light different transparent plates, it is constituted by a drive mechanism for reciprocating the convex lens.

請求項7記載の発明においては、請求項1又は2に記載の発明において、導光手段は、合焦手段により構成されていることを特徴とする。
請求項8記載の発明においては、請求項7に記載の発明において、合焦手段は、一つの光軸上に配置された焦点距離の異なる複数の凸レンズよりなることを特徴とする。
The invention described in claim 7 is characterized in that, in the invention described in claim 1 or 2, the light guide means comprises a focusing means.
The invention according to claim 8 is the invention according to claim 7, wherein the focusing means comprises a plurality of convex lenses arranged on one optical axis and having different focal lengths.

請求項9記載の発明においては、請求項1から8のいずれか一項に記載の発明において、レーザ光源は、多光子吸収可能なレーザ光を照射するものである。
請求項10記載の発明においては、請求項9に記載の発明において、レーザ光は、パルス幅が0.003ps〜500nsであることを特徴とする。
According to a ninth aspect of the invention, in the invention according to any one of the first to eighth aspects, the laser light source irradiates a laser beam capable of absorbing multiphotons.
According to a tenth aspect of the present invention, in the invention according to the ninth aspect, the laser beam has a pulse width of 0.003 ps to 500 ns.

請求項11記載の発明においては、請求項9又は10に記載の発明において、レーザ光は、波長が0.2μm〜2.0μmであることを特徴とする。
請求項12記載の発明においては、請求項1から11のいずれか一項に記載の発明において、レーザ光の光軸方向におけるワークの位置を判別するための判別手段を設けたことを特徴とする。
According to an eleventh aspect of the present invention, in the invention according to the ninth or tenth aspect, the laser light has a wavelength of 0.2 μm to 2.0 μm.
According to a twelfth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to eleventh aspects, a discriminating means for discriminating the position of the workpiece in the optical axis direction of the laser beam is provided. .

以上のように、この発明によれば、積層状態にある複数の透明板に対して同時にレーザ加工を適切に施すことができ、透明板の切断作業能率を向上させることができる。   As described above, according to the present invention, laser processing can be appropriately performed simultaneously on a plurality of transparent plates in a laminated state, and the cutting efficiency of the transparent plates can be improved.

以下、本発明の好適な実施形態を図面に基づいて説明する。勿論、本発明の技術的範囲は、下記実施形態そのものに何ら限定されるものではない。
(第1実施形態)
まず、この発明の第1実施形態を、図1に基づいて説明する。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. Of course, the technical scope of the present invention is not limited to the following embodiments.
(First embodiment)
First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図1に示すように、この実施形態のレーザ加工装置においては、ワーク支持台11がX軸ステージ12及びY軸ステージ13を介して、水平面内でX軸方向及びY軸方向へ移動可能に配設されている。ワーク支持台11上には、ワーク14が高摩擦係数を有するワーク保持止用のテープ15を介して着脱可能に載置保持されている。なお、このテープ15を設けることなく、ワーク支持台11の上面に開口するエア吸引口(図示しない)からのエアの吸引によりワーク14を保持してもよい。このワーク14は、所定間隔をおいて積層状態に配置された表裏2枚のガラス製の透明板14a,14b(厚さ0.5〜1.7mm程度)と、それらの透明板14a,14b間に介装された液晶等の介在物14c(厚さ0.1mm以下)とを有している。   As shown in FIG. 1, in the laser processing apparatus of this embodiment, the work support 11 is arranged so as to be movable in the X axis direction and the Y axis direction within the horizontal plane via the X axis stage 12 and the Y axis stage 13. It is installed. A work 14 is detachably mounted on the work support 11 via a work holding stop tape 15 having a high friction coefficient. Note that the work 14 may be held by air suction from an air suction port (not shown) that opens to the upper surface of the work support 11 without providing the tape 15. The work 14 is composed of two transparent glass plates 14a and 14b (thickness of about 0.5 to 1.7 mm) arranged in a laminated state at a predetermined interval, and between the transparent plates 14a and 14b. And an inclusion 14c (thickness of 0.1 mm or less) such as a liquid crystal.

前記ワーク支持台11の上方にはレーザ光発生器16が配設され、このレーザ光発生器16からレーザ光Lが図1の横方向に発生される。レーザ光発生器16からのレーザ光Lの光軸上には凸レンズ17が配置されるとともに、その凸レンズ17を介してレーザ光発生器16の反対側には分割装置18が配設されている。この実施形態においては、分割装置18がビームスプリッタ19によって構成されている。そして、ビームスプリッタ19によりレーザ光発生器16からのレーザ光Lが透過光(レーザ光L1)と反射光(レーザ光L2)とに分割される。ここで、凸レンズ17は、本実施形態の必須の構成ではない。   A laser beam generator 16 is disposed above the workpiece support 11 and a laser beam L is generated from the laser beam generator 16 in the lateral direction of FIG. A convex lens 17 is disposed on the optical axis of the laser light L from the laser light generator 16, and a dividing device 18 is disposed on the opposite side of the laser light generator 16 via the convex lens 17. In this embodiment, the splitter 18 is constituted by a beam splitter 19. The beam splitter 19 splits the laser light L from the laser light generator 16 into transmitted light (laser light L1) and reflected light (laser light L2). Here, the convex lens 17 is not an essential component of the present embodiment.

前記ビームスプリッタ19のレーザ光発生器16と反対側には、フィルタ機能を有するλ/4板よりなる第1波長板20が配設されるとともに、この第1波長板20を介してビームスプリッタ19の反対側に第1ミラー21が第1焦点位置調整装置22により矢印Aで示すように透過光の光軸方向に沿って位置調整可能に配設されている。そして、ビームスプリッタ19からの透過光である一方のレーザ光L1が第1波長板20、第1ミラー21、ビームスプリッタ19及び凸レンズ23をそれぞれ反射又は透過して、ワーク14の表側の透明板14aに対してその厚さ方向の中間部において合焦される。   A first wavelength plate 20 made of a λ / 4 plate having a filter function is disposed on the opposite side of the beam splitter 19 from the laser light generator 16, and the beam splitter 19 is interposed via the first wavelength plate 20. The first mirror 21 is disposed on the opposite side of the first focal position adjusting device 22 so that the position of the first mirror 21 can be adjusted along the optical axis direction of the transmitted light as indicated by an arrow A. Then, one laser beam L1 that is transmitted light from the beam splitter 19 is reflected or transmitted through the first wavelength plate 20, the first mirror 21, the beam splitter 19, and the convex lens 23, respectively, and the transparent plate 14a on the front side of the workpiece 14 is transmitted. Is focused in the middle in the thickness direction.

前記ビームスプリッタ19のワーク14と反対側の上部には、フィルタ機能を有するλ/4板よりなる第2波長板24が配設されるとともに、その第2波長板24を介したビームスプリッタ19の反対側には第2ミラー25が第2焦点位置調整装置26により矢印Bで示すように反射光の光軸方向に沿って位置調整可能に配設されている。そして、ビームスプリッタ19により偏向された他方のレーザ光L2が第2波長板24、第2ミラー25、ビームスプリッタ19及び凸レンズ23をそれぞれ反射又は透過して、ワーク14の裏側の透明板14bにおいてその厚さ方向の中間部に対して合焦される。   A second wave plate 24 made of a λ / 4 plate having a filter function is disposed on the upper side of the beam splitter 19 opposite to the work 14, and the beam splitter 19 via the second wave plate 24 is disposed. On the opposite side, the second mirror 25 is arranged so that the position can be adjusted along the optical axis direction of the reflected light as indicated by the arrow B by the second focus position adjusting device 26. Then, the other laser beam L2 deflected by the beam splitter 19 is reflected or transmitted through the second wavelength plate 24, the second mirror 25, the beam splitter 19 and the convex lens 23, respectively, and is reflected on the transparent plate 14b on the back side of the workpiece 14. It is focused on the middle part in the thickness direction.

さて、このレーザ加工装置において、ワーク14にレーザ加工を施す場合には、ワーク支持台11上にテープ15を介してワーク14を位置決め固定する。この状態で、第1,第2焦点位置調整装置22,26によりレーザ光L1,L2の焦点距離が調節された状態で、レーザ加工装置が起動されると、X軸ステージ12及びY軸ステージ13の作動により、ワーク支持台11がX軸方向あるいはY軸方向、又はそれらの合成方向に移動される。それとともに、レーザ光発生器16からレーザ光Lが発生されて、そのレーザ光Lが分割装置18のビームスプリッタ19により2つのレーザ光L1,L2として分割される。   In this laser processing apparatus, when the workpiece 14 is subjected to laser processing, the workpiece 14 is positioned and fixed on the workpiece support 11 via the tape 15. In this state, when the laser processing apparatus is activated with the focal lengths of the laser beams L1 and L2 adjusted by the first and second focal position adjusting devices 22 and 26, the X-axis stage 12 and the Y-axis stage 13 are activated. By this operation, the work support 11 is moved in the X-axis direction, the Y-axis direction, or their combined direction. At the same time, a laser beam L is generated from the laser beam generator 16, and the laser beam L is split into two laser beams L 1 and L 2 by the beam splitter 19 of the splitter 18.

そして、分割された一方のレーザ光L1が第1波長板20、第1ミラー21、ビームスプリッタ19及び凸レンズ23を介して、ワーク14の表側の透明板14aの内部に対して合焦されるように照射される。それとともに、偏向された他方のレーザ光L2が第2波長板24、第2ミラー25、ビームスプリッタ19及び凸レンズ23を介して、ワーク14の裏側の透明板14bの内部に対して合焦されるように照射される。これにより、ワーク14の両透明板14a,14bに対して切断のための溶融処理領域等の被処理部が同時に形成される。この溶融処理は、溶融部が形成される場合と、溶融せずにひび割れが形成される場合(絶縁破壊が起こる場合)と、溶融部及びひび割れ部が近接して形成される場合とがある。   Then, one of the divided laser beams L1 is focused on the inside of the transparent plate 14a on the front side of the workpiece 14 via the first wavelength plate 20, the first mirror 21, the beam splitter 19, and the convex lens 23. Is irradiated. At the same time, the other deflected laser beam L2 is focused on the inside of the transparent plate 14b on the back side of the work 14 via the second wavelength plate 24, the second mirror 25, the beam splitter 19 and the convex lens 23. Irradiated as follows. Thereby, to-be-processed parts, such as a fusion processing area for cutting, are simultaneously formed on both transparent plates 14a and 14b of the work 14. In this melting process, there are a case where a melted part is formed, a case where a crack is formed without melting (when dielectric breakdown occurs), and a case where a melted part and a cracked part are formed close to each other.

以上ように、このレーザ加工装置においては、積層状態の透明板14a,14bを有するワーク14に対して、その一方向からレーザ光を照射することにより、両透明板14a,14bに対して同時にレーザ加工を施して、多光子吸収による溶融処理領域を形成することができる。よって、ワーク14の加工作業を容易かつ短時間に行うことができる。   As described above, in this laser processing apparatus, the laser beam is applied to both the transparent plates 14a and 14b simultaneously by irradiating the workpiece 14 having the laminated transparent plates 14a and 14b with laser light from one direction. Processing can be performed to form a melt processing region by multiphoton absorption. Therefore, the work of the workpiece 14 can be performed easily and in a short time.

また、ワーク14に対して表裏両面からレーザ光を同時に照射することなく、一方向からレーザ光を照射しているため、ワーク14に対するレーザ光の照射領域がワーク14の外周縁付近に限定されることはない。ちなみに、側面形横U持形の支持装置の先端(上下両端)にレーザ光照射部を設けて、ワークに対してその表裏両面からレーザ光を照射するようにすることも考えられるが、このようにした場合には、前記支持装置の奥行き寸法に制限を受け、ワークの外周部のみにしたレーザ光を照射できない。従って、ワーク14の任意の位置にレーザ加工を施すことができて、ワーク14を所望の大きさに容易に切り分けることができる。この場合、切り分け位置は多光子による溶融処理部であるため、ダイヤモンドによる機械的手法とは異なり、切断予定ラインやその周囲に割れやひびが入るようなことはなく、後工程を簡略化できる。   In addition, since the laser beam is irradiated from one direction without simultaneously irradiating the workpiece 14 from both the front and back surfaces, the irradiation region of the laser beam on the workpiece 14 is limited to the vicinity of the outer peripheral edge of the workpiece 14. There is nothing. Incidentally, it is also conceivable to provide a laser beam irradiation unit at the tip (upper and lower ends) of the side-shaped lateral U-held support device so that the workpiece is irradiated with the laser beam from both the front and back surfaces. In such a case, the depth of the support device is limited, and the laser beam only on the outer periphery of the workpiece cannot be irradiated. Accordingly, laser processing can be performed at an arbitrary position of the workpiece 14, and the workpiece 14 can be easily cut into a desired size. In this case, since the cutting position is a melt processing part using multiphotons, unlike the mechanical method using diamond, there is no occurrence of cracks or cracks in the planned cutting line and its surroundings, and the post-process can be simplified.

ここで、この第1実施形態においてレーザ光発生器は、Nd:YAG(ネオジウム:イットリウム・アルミニウム・ガーネット)加工機である。そして、この第1実施形態におけるレーザ光のパルス幅は0.003ps〜500nsの範囲内で、10ps〜0.1nsの範囲内がより好ましい。また、この第1実施形態におけるレーザ光の波長は0.2μm〜2.0μmの範囲内で、0.9μm〜1.5μmの範囲内がより好ましい。   Here, in the first embodiment, the laser light generator is an Nd: YAG (neodymium: yttrium, aluminum, garnet) processing machine. The pulse width of the laser light in the first embodiment is preferably within the range of 0.003 ps to 500 ns, and more preferably within the range of 10 ps to 0.1 ns. Further, the wavelength of the laser beam in the first embodiment is in the range of 0.2 μm to 2.0 μm, and more preferably in the range of 0.9 μm to 1.5 μm.

なお、レーザ光発生器16は、特許請求の範囲に記載のレーザ光源に対応し、分割装置18(ビームスプリッタ19)は、分割手段に対応し、第1ミラー21および第2ミラー25は、偏向手段に対応し、第1波長板20および第2波長板24は、偏光手段に対応し、凸レンズ17および凸レンズ23は、合焦手段に対応し、分割装置18、ビームスプリッタ19、第1ミラー21、第2ミラー25、第1波長板20および第2波長板は、導光手段にも対応する。   The laser light generator 16 corresponds to the laser light source described in the claims, the splitter 18 (beam splitter 19) corresponds to the splitter, and the first mirror 21 and the second mirror 25 are deflected. The first wave plate 20 and the second wave plate 24 correspond to the polarization means, and the convex lens 17 and the convex lens 23 correspond to the focusing means, and the splitter 18, the beam splitter 19, and the first mirror 21. The second mirror 25, the first wave plate 20, and the second wave plate also correspond to the light guide means.

(第2実施形態)
次に、この発明の第2実施形態を、前記第1実施形態と異なる部分を中心に説明する。なお、第2実施形態以降の各実施形態の説明においては、各実施形態の特徴的な構成及び作用を中心に説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with a focus on differences from the first embodiment. In the description of each embodiment after the second embodiment, the characteristic configuration and operation of each embodiment will be mainly described.

さて、第2実施形態においては、図2に示すように、第1ミラー21が第1焦点位置調整装置22により光軸方向へ位置調整可能に構成されるとともに、第1傾斜角度調整装置31により光軸方向に対して傾斜角度調整可能に構成されている。同様に、第2ミラー25が第2焦点位置調整装置26により光軸方向へ位置調整可能に構成されるとともに、第2傾斜角度調整装置32により光軸方向に対して傾斜角度調整可能に構成されている。   In the second embodiment, as shown in FIG. 2, the first mirror 21 is configured to be position-adjustable in the optical axis direction by the first focus position adjusting device 22, and by the first tilt angle adjusting device 31. The tilt angle can be adjusted with respect to the optical axis direction. Similarly, the second mirror 25 is configured to be position adjustable in the optical axis direction by the second focus position adjusting device 26 and is configured to be adjustable in tilt angle with respect to the optical axis direction by the second tilt angle adjusting device 32. ing.

従って、この第2実施形態においても、前記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。また、この第2実施形態においては、第1及び第2傾斜角度調整装置31,32にて第1及び第2ミラー21,25の傾斜角度を調整することにより、レーザ光L1,L2が異なる方向を導光するようにそのレーザ光の光軸角度が相互に異なり、ワーク14の各透明板14a,14bに対するレーザ光L1,L2の焦点位置を水平面内でX軸方向又はY軸方向に所望量だけ変位させることができる。従って、両透明板14a,14bに対して異なった位置に被処理部を形成したり、両透明板14a,14bの同一位置に対して時間差を設けて被処理部を形成したりする必要がある場合に有効である。   Therefore, also in the second embodiment, the same effect as in the first embodiment can be obtained. In the second embodiment, the first and second tilt angle adjusting devices 31 and 32 adjust the tilt angles of the first and second mirrors 21 and 25, so that the laser beams L1 and L2 are in different directions. The optical axis angles of the laser beams are different from each other so that the focal position of the laser beams L1 and L2 with respect to the transparent plates 14a and 14b of the workpiece 14 is a desired amount in the X axis direction or the Y axis direction in the horizontal plane. Can only be displaced. Accordingly, it is necessary to form the processing portion at different positions with respect to both the transparent plates 14a and 14b, or to form the processing portion with a time difference with respect to the same position of both the transparent plates 14a and 14b. It is effective in the case.

なお、第1及び第2ミラー21,25の一方のみに傾斜角度調整装置を設けても、レーザ光L1,L2の光軸角度を相互に異ならせることができる。
(第3,4実施形態)
次に、この発明の第3実施形態について説明する。
Even if the tilt angle adjusting device is provided only on one of the first and second mirrors 21 and 25, the optical axis angles of the laser beams L1 and L2 can be made different from each other.
(Third and fourth embodiments)
Next explained is the third embodiment of the invention.

第3実施形態においては、図3に示すように、レーザ光発生器16がビームスプリッタ19を介してワーク14の反対側に配置されるとともに、第1波長板20と第1ミラー21との間に凸レンズ27が配置されている。また、第2波長板24、第2ミラー25及び第2焦点位置調整装置26は、ビームスプリッタ19を介して第1波長板20等の反対側に配置されている。本実施形態のように、レーザ光発生器16からビームスプリッタ19までの距離が近い場合には、凸レンズ27は必須であり、この凸レンズ27は、特許請求の範囲に記載の合焦手段に対応する。   In the third embodiment, as shown in FIG. 3, the laser light generator 16 is disposed on the opposite side of the workpiece 14 via the beam splitter 19, and between the first wave plate 20 and the first mirror 21. A convex lens 27 is arranged on the front side. The second wavelength plate 24, the second mirror 25, and the second focal position adjusting device 26 are disposed on the opposite side of the first wavelength plate 20 and the like via the beam splitter 19. When the distance from the laser beam generator 16 to the beam splitter 19 is short as in this embodiment, the convex lens 27 is essential, and this convex lens 27 corresponds to the focusing means described in the claims. .

そして、レーザ光発生器16からのレーザ光Lは、ビームスプリッタ19により透過光であるレーザ光L1と反射光であるレーザ光L2とに分割される。その後、レーザ光L1はビームスプリッタ19を透過するとともに、凸レンズ23を通って、透明板14bに合焦され、レーザ光L2はビームスプリッタ19で反射されるとともに、第2ミラー25で反射され、次いで、第1ミラー21で反射され、そしてビームスプリッタ19で反射されて、凸レンズ27を通って透明板14aに合焦される。   The laser beam L from the laser beam generator 16 is split by the beam splitter 19 into a laser beam L1 that is transmitted light and a laser beam L2 that is reflected light. Thereafter, the laser beam L1 passes through the beam splitter 19, passes through the convex lens 23, and is focused on the transparent plate 14b. The laser beam L2 is reflected by the beam splitter 19, reflected by the second mirror 25, and then , Reflected by the first mirror 21, reflected by the beam splitter 19, passes through the convex lens 27, and is focused on the transparent plate 14 a.

第4実施形態においては、図4に示すように、第1焦点位置調整装置22に第2傾斜角度調整装置32が付設され、第1ミラー21を傾斜させて、レーザ光L1,L2の光軸に角度差を設け、透明板14a,14bに対する合焦位置を異ならせたものである。   In the fourth embodiment, as shown in FIG. 4, a second tilt angle adjusting device 32 is attached to the first focal position adjusting device 22, and the first mirror 21 is tilted so that the optical axes of the laser beams L <b> 1 and L <b> 2. Is provided with an angle difference, and the in-focus positions with respect to the transparent plates 14a and 14b are made different.

従って、この第3,4実施形態においては、それぞれ前記第1,2実施形態と同様な作用を有するばかりでなく、この第3,4実施形態においては、レーザ光発生器16がビームスプリッタ19を介してワーク14の反対側に配置され、その両側に第1及び第2ミラー21,25等が配置されるため、装置全体を小型化することが可能になる。   Therefore, the third and fourth embodiments not only have the same operation as the first and second embodiments, respectively, but also in the third and fourth embodiments, the laser light generator 16 causes the beam splitter 19 to be connected. Since the first and second mirrors 21 and 25 are disposed on both sides of the workpiece 14, the entire apparatus can be reduced in size.

なお、第4実施形態においては、傾斜角度調整装置を第2焦点位置調整装置26に付設したり、第1,第2焦点位置調整装置22,26の双方に付設したりしてもよい。
(第5,6実施形態)
次に、この発明の第5,6実施形態を説明する。
In the fourth embodiment, the tilt angle adjusting device may be attached to the second focal position adjusting device 26, or may be attached to both the first and second focal position adjusting devices 22, 26.
(5th and 6th embodiment)
Next, fifth and sixth embodiments of the present invention will be described.

これらの第5,6実施形態においては、図5及び図6に示すように、それぞれ前記第3、4実施形態において、凸レンズ27の代わりに、レーザ光発生器16とビームスプリッタ19との間に凹レンズ28を配置したものである。ここで、凹レンズ28は、特許請求の範囲に記載の合焦手段に対応する。   In these fifth and sixth embodiments, as shown in FIGS. 5 and 6, in the third and fourth embodiments, instead of the convex lens 27, between the laser light generator 16 and the beam splitter 19, respectively. A concave lens 28 is arranged. Here, the concave lens 28 corresponds to the focusing means described in the claims.

この第5,6実施形態の作用は、前記第3,4実施形態の作用と同様である。
(第7実施形態)
次に、この発明の第7実施形態を説明する。
The operation of the fifth and sixth embodiments is the same as the operation of the third and fourth embodiments.
(Seventh embodiment)
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described.

この第7実施形態においては、図7に示すように、ビームスプリッタ33とワーク14との間に第1凸レンズ34が配置されている。また、ビームスプリッタ33を介してレーザ光発生器16の反対側にミラー35が配置され、そのミラー35とワーク14との間に第2凸レンズ37が配置されている。第1凸レンズ34及び第2凸レンズ37は、それぞれ第1焦点位置調整装置22及び第2焦点位置調整装置26により透明板14a及び透明板14bに対する焦点距離が調節されるようになっている。ここで、ビームスプリッタ33は、特許請求の範囲に記載の分割手段に対応し、第1凸レンズ34および第2凸レンズ37は、合焦手段に対応し、ミラー35は、偏向手段に対応する。   In the seventh embodiment, as shown in FIG. 7, a first convex lens 34 is disposed between the beam splitter 33 and the work 14. A mirror 35 is disposed on the opposite side of the laser light generator 16 via the beam splitter 33, and a second convex lens 37 is disposed between the mirror 35 and the work 14. The focal lengths of the first convex lens 34 and the second convex lens 37 with respect to the transparent plate 14a and the transparent plate 14b are adjusted by the first focal position adjusting device 22 and the second focal position adjusting device 26, respectively. Here, the beam splitter 33 corresponds to the dividing means described in the claims, the first convex lens 34 and the second convex lens 37 correspond to the focusing means, and the mirror 35 corresponds to the deflecting means.

そして、レーザ光発生器16から発生されるレーザ光Lがビームスプリッタ33において異なる位置における2つの平行なレーザ光L1,L2に分割される。そして、それらのレーザ光L1,L2は、それぞれ透明板14a,14bに合焦される。   The laser beam L generated from the laser beam generator 16 is split into two parallel laser beams L1 and L2 at different positions in the beam splitter 33. The laser beams L1 and L2 are focused on the transparent plates 14a and 14b, respectively.

なお、ミラー35を傾斜角度調整装置36により傾斜角度調整可能に配設して、レーザ光L1,L2の光軸に角度差を持たせてもよい。
この第7実施形態においては、第1実施形態と同様な作用を得ることができる。
The mirror 35 may be arranged so that the tilt angle can be adjusted by the tilt angle adjusting device 36 so that the optical axes of the laser beams L1 and L2 have an angle difference.
In the seventh embodiment, the same operation as that of the first embodiment can be obtained.

(第8実施形態)
次に、この発明の第8実施形態を説明する。
この第8実施形態においては、図8及び図9に示すように、複合凸レンズ38を備えている。この複合凸レンズ38は凸レンズ本体39の両面に一対の付加凸レンズ40を貼着して一体に形成され、中心部38aと外周部38bとにおいて焦点距離が異なるように構成されている(付加凸レンズが中心部38aを構成し、凸レンズ本体39が外周部3bを構成する)。そして、レーザ光発生器16から発生されたレーザ光Lが複合凸レンズ38の中心部38a及び外周部38bを通過することにより、同軸上において焦点距離が異なる2つのレーザ光L1,L2に分けられる。一方のレーザ光L1はワーク14の表側の透明板14aの内部に対して合焦され、他方のレーザ光L2はワーク14の裏側の透明板14bの内部に対して合焦される。ここで、複合凸レンズ38は、特許請求の範囲に記載の導光手段および合焦手段に対応し、導光手段と合焦手段とが同一体で構成されたものである。
(Eighth embodiment)
Next, an eighth embodiment of the invention will be described.
In the eighth embodiment, as shown in FIGS. 8 and 9, a compound convex lens 38 is provided. The compound convex lens 38 is integrally formed by adhering a pair of additional convex lenses 40 on both surfaces of the convex lens body 39, and is configured such that the focal lengths of the central portion 38a and the outer peripheral portion 38b are different (the additional convex lens is the center). Part 38a, and the convex lens body 39 constitutes the outer peripheral part 3b). The laser light L generated from the laser light generator 16 passes through the central portion 38a and the outer peripheral portion 38b of the compound convex lens 38, so that it is divided into two laser beams L1 and L2 having different focal lengths on the same axis. One laser beam L1 is focused on the inside of the transparent plate 14a on the front side of the workpiece 14, and the other laser beam L2 is focused on the inside of the transparent plate 14b on the back side of the workpiece 14. Here, the compound convex lens 38 corresponds to the light guiding means and the focusing means described in the claims, and the light guiding means and the focusing means are formed of the same body.

なお、この実施形態においては、ワーク支持台11側に焦点位置調整装置41が設けられている。そして、この焦点位置調整装置41によりワーク支持台11上のワーク14がZ軸方向へ移動されることにより、ワーク14の透明板14a,14bに対するレーザ光L1,L2の焦点位置が調整される。   In this embodiment, a focal position adjusting device 41 is provided on the workpiece support base 11 side. Then, the focal position of the laser beams L1 and L2 with respect to the transparent plates 14a and 14b of the workpiece 14 is adjusted by moving the workpiece 14 on the workpiece support base 11 in the Z-axis direction by the focal position adjusting device 41.

従って、この第8実施形態においては、前記各実施形態におけるビームスプリッタ19,33や第1及び第2ミラー21,25等が不要になり、構成が簡単になる。
(第9実施形態)
次に、この発明の第9実施形態を説明する。
Therefore, in the eighth embodiment, the beam splitters 19 and 33 and the first and second mirrors 21 and 25 in the respective embodiments are not necessary, and the configuration is simplified.
(Ninth embodiment)
Next, a ninth embodiment of the invention will be described.

この第9実施形態においては、図10に示すように、同一光軸上に隣接配置された径の異なる大小2枚の凸レンズ44,45を備えている。そして、レーザ光発生器16から発生されたレーザ光Lが径の異なる2枚の凸レンズ44,45を通過することにより、レーザ光Lが同軸で同方向を導光する2つのレーザ光L1,L2に分けられる。一方のレーザ光L1はワーク14の表側の透明板14aの内部に対して合焦され、他方のレーザ光L2はワーク14の裏側の透明板14bの内部に対して合焦される。なお、図10に2点鎖線で示すように、前記両凸レンズ44,45の光軸方向における前後の配置は逆転してもよい。ここで、凸レンズ44,45は、特許請求の範囲に記載の導光手段および合焦手段に対応し、導光手段と合焦手段とが同一体で構成されたものである。   In the ninth embodiment, as shown in FIG. 10, two large and small convex lenses 44 and 45 having different diameters are provided adjacent to each other on the same optical axis. Then, when the laser light L generated from the laser light generator 16 passes through the two convex lenses 44 and 45 having different diameters, the two laser lights L1 and L2 are guided coaxially in the same direction. It is divided into. One laser beam L1 is focused on the inside of the transparent plate 14a on the front side of the workpiece 14, and the other laser beam L2 is focused on the inside of the transparent plate 14b on the back side of the workpiece 14. In addition, as shown by a two-dot chain line in FIG. 10, the front and rear arrangements of the biconvex lenses 44 and 45 in the optical axis direction may be reversed. Here, the convex lenses 44 and 45 correspond to the light guiding means and the focusing means described in the claims, and the light guiding means and the focusing means are formed of the same body.

従って、この第9実施形態においては、第8実施形態と同様な作用を有する。
(第10実施形態)
次に、この発明の第10実施形態を説明する。
Therefore, the ninth embodiment has the same operation as that of the eighth embodiment.
(10th Embodiment)
Next, a tenth embodiment of the invention is described.

この第10実施形態においては、図11に示すように、Z軸方向へ移動可能に配設された可動凸レンズ42と、移動装置43とを備えている。そして、可動凸レンズ42が移動装置43により、図6に実線で示す上方位置と鎖線で示す下方位置とに交互に移動される。これにより、レーザ光発生器16から発生されるレーザ光Lの合焦位置が変更される。   In the tenth embodiment, as shown in FIG. 11, a movable convex lens 42 movably arranged in the Z-axis direction and a moving device 43 are provided. Then, the movable convex lens 42 is alternately moved by the moving device 43 to an upper position indicated by a solid line and a lower position indicated by a chain line in FIG. Thereby, the focus position of the laser beam L generated from the laser beam generator 16 is changed.

可動凸レンズ42が上方位置に移動された場合のレーザ光L1は、ワーク14の表側の透明板14aの内部に対して合焦され、可動凸レンズ42が下方位置に移動された場合のレーザ光L2は、ワーク14の裏側の透明板14bの内部に対して合焦される。ここで、可動凸レンズ42は、特許請求の範囲に記載の合焦手段に対応し、移動装置43は、導光手段に対応する。   The laser light L1 when the movable convex lens 42 is moved to the upper position is focused on the inside of the transparent plate 14a on the front side of the work 14, and the laser light L2 when the movable convex lens 42 is moved to the lower position is The inner side of the transparent plate 14b on the back side of the work 14 is focused. Here, the movable convex lens 42 corresponds to the focusing means described in the claims, and the moving device 43 corresponds to the light guiding means.

従って、この第10実施形態においては、光学系の部品は可動凸レンズ42だけであるため、構成が簡単である。
(第11実施形態)
次に、この発明の第11実施形態について説明する。
Accordingly, in the tenth embodiment, the configuration of the optical system is simple because only the movable convex lens 42 is used.
(Eleventh embodiment)
Next, an eleventh embodiment of the present invention will be described.

この第11実施形態においては、図12に示すように、ワーク14のZ方向における位置,つまり、レーザ光発生器16に対するワーク14の位置をレーザ光軸上で検出するようにしたものである。すなわち、第1波長板20と第1ミラー21との間の光軸上においてミラー61が配置されるとともに、そのミラー61の近傍に半導体レーザ装置よりなるレーザ光発生器62が配置されている。また、ビームスプリッタ19と第2波長板24との間の光軸上にはミラー63が配置されるとともに、その近傍には判別手段を構成するセンサ64が配置されている。ここで、ミラー61、レーザ光発生器62、ミラー63、及びセンサ64は、特許請求の範囲に記載の判別手段に対応する。   In the eleventh embodiment, as shown in FIG. 12, the position of the work 14 in the Z direction, that is, the position of the work 14 with respect to the laser light generator 16 is detected on the laser optical axis. That is, a mirror 61 is disposed on the optical axis between the first wave plate 20 and the first mirror 21, and a laser light generator 62 made of a semiconductor laser device is disposed in the vicinity of the mirror 61. In addition, a mirror 63 is disposed on the optical axis between the beam splitter 19 and the second wave plate 24, and a sensor 64 constituting a determination unit is disposed in the vicinity thereof. Here, the mirror 61, the laser light generator 62, the mirror 63, and the sensor 64 correspond to the discrimination means described in the claims.

ここで、レーザ光発生器62から発生されたレーザ光L3がビームスプリッタ19で反射されて凸レンズ23を介してワーク14に照射される。センサ64は、ミラー63を介してワーク14上の合焦状態を監視する。ワーク14の上面に対してレーザ光L3が合焦状態のときには、その焦点は円形で小面積の焦点画像となってセンサ64により検出される。焦点がプラス側又はマイナス側にずれたときには、焦点画像がそれぞれ異なる方向に歪む。例えば、焦点が、プラス側にずれた場合は、楕円形になり、マイナス側にずれた場合は前記楕円形から90度変位した楕円形となる。また、焦点のずれ量に応じて、焦点画像の面積が広くなる。このため、センサ64で検出された焦点画像を解析処理することにより、合焦の有無,ずれの方向及びすれ量を判断でき、その判断結果からレーザ光発生器16に対するワーク14の光軸上における接近離間程度が判別される。   Here, the laser beam L 3 generated from the laser beam generator 62 is reflected by the beam splitter 19 and irradiated onto the workpiece 14 via the convex lens 23. The sensor 64 monitors the focused state on the work 14 via the mirror 63. When the laser beam L3 is in focus with respect to the upper surface of the workpiece 14, the focus is circular and a small area focus image is detected by the sensor 64. When the focus is shifted to the plus side or the minus side, the focus images are distorted in different directions. For example, when the focus is shifted to the plus side, it becomes an ellipse, and when it is shifted to the minus side, it becomes an ellipse displaced 90 degrees from the ellipse. Further, the area of the focus image is widened according to the amount of focus shift. Therefore, by analyzing the focus image detected by the sensor 64, it is possible to determine the presence / absence of focus, the direction of deviation, and the amount of blur, and the determination result on the optical axis of the work 14 with respect to the laser light generator 16 is determined. The approaching / separating degree is determined.

そして、センサ64の検出により判断されたワーク14の位置と、あらかじめ設定されているワーク14の透明板14a,14b及び介在物14cの厚さ等のデータとに応じて、第1,第2焦点位置調整装置22,26が動作され、レーザ光L,L1が透明板14a,14b上の適切位置に合焦されるように第1,第2ミラー21,25が移動調節される。   Then, depending on the position of the workpiece 14 determined by the detection of the sensor 64 and the data such as the thicknesses of the transparent plates 14a and 14b and inclusions 14c of the workpiece 14 set in advance, the first and second focal points. The position adjusting devices 22 and 26 are operated, and the first and second mirrors 21 and 25 are moved and adjusted so that the laser beams L and L1 are focused at appropriate positions on the transparent plates 14a and 14b.

従って、この第11実施形態においては、レーザ加工を行うための光路と同一の光路を使って、ワーク14の位置を判別すること(換言すれば、ワーク14の表面までの距離を測定すること)が可能となる。ひいては、ワーク14の位置(ワーク14と光学系部材(導光手段および合焦手段)との距離)を正確に判別(測定)することが可能となる。   Therefore, in the eleventh embodiment, the position of the workpiece 14 is determined using the same optical path as that for laser processing (in other words, the distance to the surface of the workpiece 14 is measured). Is possible. As a result, it is possible to accurately determine (measure) the position of the work 14 (the distance between the work 14 and the optical system member (light guide means and focusing means)).

(第12実施形態)
次に、この発明の第12実施形態を説明する。
この第12実施形態においては、図13及び図14に示すように、分割装置18にレーザ光の光路を阻害しない構造のブラケット71を介して判別手段としての検出装置72が支持されている。検出装置72は、半導体レーザ光発生器73と検出素子74とを備えている。このレーザ光発生器73からのレーザ光L3がレーザ光発生器73に内蔵された光学系の作用により、ワーク14上に合焦されるようになっている。ここで、検出装置72は、特許請求の範囲に記載の判別手段に対応する。
(Twelfth embodiment)
Next, a twelfth embodiment of the invention is described.
In the twelfth embodiment, as shown in FIGS. 13 and 14, a detection device 72 as a determination unit is supported by the dividing device 18 via a bracket 71 having a structure that does not obstruct the optical path of the laser light. The detection device 72 includes a semiconductor laser light generator 73 and a detection element 74. The laser beam L3 from the laser beam generator 73 is focused on the workpiece 14 by the action of an optical system built in the laser beam generator 73. Here, the detection device 72 corresponds to the determination means described in the claims.

そして、レーザ光発生器73からのレーザ光L3がワーク14の上面に照射され、その反射光が検出素子74で検出され、前記第12実施形態と同様に、ワーク14上の合焦の状態が判断され、合焦していない場合は、そのずれ量及びずれの方向が検出され、その検出結果に応じて、レーザ光発生器16に対するワーク14の光軸上における接近離間程度が判別される。従って、第12実施形態と同様に、レーザ光L,L1がワーク14の透明板14a,14b上の適切位置に合焦されるように第1,第2ミラー21,25が移動調節される。   Then, the laser beam L3 from the laser beam generator 73 is irradiated on the upper surface of the workpiece 14, and the reflected light is detected by the detection element 74. As in the twelfth embodiment, the focused state on the workpiece 14 is determined. If it is determined that the focus is not in focus, the amount of shift and the direction of the shift are detected, and the degree of approach and separation on the optical axis of the work 14 with respect to the laser light generator 16 is determined according to the detection result. Accordingly, similarly to the twelfth embodiment, the first and second mirrors 21 and 25 are moved and adjusted so that the laser beams L and L1 are focused at appropriate positions on the transparent plates 14a and 14b of the workpiece 14.

更に、この第13実施形態において、図15に示すように、検出装置72に対し、レーザ光発生器73及び検出素子74に光路を形成するための光ファイバ75を設けてもよい。この光ファイバ75は、撓曲により形状変形可能である。   Further, in the thirteenth embodiment, as shown in FIG. 15, an optical fiber 75 for forming an optical path in the laser light generator 73 and the detection element 74 may be provided for the detection device 72. The optical fiber 75 can be deformed by bending.

従って、この第12実施形態においては、レーザ加工のための光路を使用することなく、ワーク14の位置を判別することが可能となる。ひいては、判別のための機構を簡素化することができるとともに、レーザ加工のための光学系部材(導光手段)に対して容易に着脱できる。特に、光ファイバ75を使った場合には、光ファイバ75の変形により、検出用レーザ光L3の照射位置及び検出素子74への入射位置を自在に調節でき、検出装置72の取付位置のずれ等に対して簡単に対処することも可能となる。   Therefore, in the twelfth embodiment, the position of the workpiece 14 can be determined without using an optical path for laser processing. As a result, the mechanism for discrimination can be simplified, and it can be easily attached to and detached from the optical system member (light guide means) for laser processing. In particular, when the optical fiber 75 is used, the irradiation position of the detection laser light L3 and the incident position on the detection element 74 can be freely adjusted by the deformation of the optical fiber 75, the displacement of the mounting position of the detection device 72, etc. It is also possible to easily cope with this.

(変更例)
上記実施形態は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良変形をすることが可能である。以下、具体例を示す。
(Example of change)
The above embodiment can be variously improved and modified without departing from the gist of the present invention. Specific examples are shown below.

・ 前記各実施形態とは逆に、レーザ照射時に、光学系側をワーク14に対してX軸方向及びY軸方向に相対移動させて、レーザ光によるワーク14の加工部位を変化させるように構成すること。   Contrary to the above-described embodiments, at the time of laser irradiation, the optical system side is moved relative to the work 14 in the X-axis direction and the Y-axis direction to change the processing part of the work 14 by the laser light. To do.

・ 前記各実施形態において、レーザ光発生器16から発生されるレーザ光Lを3つ以上の複数のレーザ光に偏向させて、ワーク14の3枚以上の複数の透明板に対して照射するように構成すること。   In each of the above embodiments, the laser light L generated from the laser light generator 16 is deflected into three or more laser beams and irradiated to three or more transparent plates of the work 14. To be configured.

・ 前記各実施形態におけるYAGレーザ装置に代えて、パルスレーザ光を発生させる装置、例えば、エキシマレーザ装置等を用いること。
・ 前記第11及び第12実施形態において、焦点位置からの反射光をナイフエッジ等で2分割して、光のパワーバランスを判別し、そのパワーバランスの状態から光軸方向におけるワーク14の位置を判別すること。
In place of the YAG laser device in each of the above embodiments, a device that generates pulsed laser light, such as an excimer laser device, is used.
In the eleventh and twelfth embodiments, the reflected light from the focal position is divided into two by a knife edge or the like, the light power balance is determined, and the position of the work 14 in the optical axis direction is determined from the power balance state. To determine.

第1実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 1st Embodiment. 第2実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 2nd Embodiment. 第3実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 3rd Embodiment. 第4実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 4th Embodiment. 第5実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 5th Embodiment. 第6実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 6th Embodiment. 第7実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 7th Embodiment. 第8実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 8th Embodiment. 図8のレーザ加工装置の可動凸レンズを分解して示す構成図。The block diagram which decomposes | disassembles and shows the movable convex lens of the laser processing apparatus of FIG. 第9実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 9th Embodiment. 第10実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 10th Embodiment. 第11実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 11th Embodiment. 第12実施形態のレーザ加工装置を示す構成図。The block diagram which shows the laser processing apparatus of 12th Embodiment. 第12実施形態の検出装置を示す側面図。The side view which shows the detection apparatus of 12th Embodiment. 第12実施形態の検出装置の変形例を示す側面図。The side view which shows the modification of the detection apparatus of 12th Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

11…ワーク支持台、14…ワーク、14a,14b…透明板、16…レーザ光源、17…凸レンズ、18…分割装置、19…ビームスプリッタ、21…第1ミラー、22…第1焦点位置調整装置、23…凸レンズ、25…第2ミラー、26…第2焦点位置調整装置、27…凸レンズ、33…ビームスプリッタ、35…ミラー、38…複合凸レンズ、42…可動凸レンズ、44…凸レンズ、45…凸レンズ、L,L1,L2,L3…レーザ光,64…センサ、74…検出素子。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Work support stand, 14 ... Work, 14a, 14b ... Transparent plate, 16 ... Laser light source, 17 ... Convex lens, 18 ... Splitting device, 19 ... Beam splitter, 21 ... 1st mirror, 22 ... 1st focus position adjustment device , 23 ... convex lens, 25 ... second mirror, 26 ... second focus position adjusting device, 27 ... convex lens, 33 ... beam splitter, 35 ... mirror, 38 ... compound convex lens, 42 ... movable convex lens, 44 ... convex lens, 45 ... convex lens , L, L1, L2, L3... Laser light, 64... Sensor, 74.

Claims (12)

複数の透明板が積層されてなるワークをレーザ加工するレーザ加工装置において、
レーザ光源と、
該レーザ光源から照射されるレーザ光を合焦するための合焦手段と、
該合焦手段による合焦点を前記ワークを構成する透明板のうち2以上の透明板の内部に作るための導光手段とを備えており、
前記導光手段及び合焦手段は、ワークを構成する透明板に対してレーザ光を同一側から照射させることを特徴とするレーザ加工装置。
In a laser processing apparatus for laser processing a workpiece in which a plurality of transparent plates are laminated,
A laser light source;
Focusing means for focusing laser light emitted from the laser light source;
A light guide means for producing a focal point by the focusing means in two or more transparent plates among the transparent plates constituting the workpiece,
The laser processing apparatus, wherein the light guide unit and the focusing unit irradiate a transparent plate constituting the workpiece with laser light from the same side.
レーザ光源が一つであることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。 The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the number of laser light sources is one. 導光手段は、レーザ光源からのレーザ光を透過光と反射光とに分割する分割手段と、該分割手段により分割された透過光及び反射光を偏光する偏光手段と、該偏光手段により偏光された透過光及び反射光を偏向する偏向手段とによって構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。 The light guiding means includes a dividing means for dividing the laser light from the laser light source into transmitted light and reflected light, a polarizing means for polarizing the transmitted light and reflected light divided by the dividing means, and polarized by the polarizing means. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising: a deflecting unit that deflects the transmitted light and the reflected light. 偏向手段による偏向向きを変更する変更手段を備えていることを特徴とする請求項3に記載のレーザ加工装置。 4. The laser processing apparatus according to claim 3, further comprising changing means for changing a deflection direction by the deflecting means. 導光手段は、合焦手段を操作することによって、各透明板に合焦点を作ることを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。 3. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the light guiding unit creates a focal point on each transparent plate by operating the focusing unit. 4. 合焦手段は、光軸上において各ワークに対して接近離間する方向に移動可能な凸レンズにより構成され、
導光手段は、レーザ光の合焦対象を異なる透明板とするために、前記凸レンズを往復移動させる駆動機構とより構成されていることを特徴とする請求項5に記載のレーザ加工装置。
The focusing means is constituted by a convex lens that can move in a direction approaching and separating from each workpiece on the optical axis,
The laser processing apparatus according to claim 5, wherein the light guide means includes a drive mechanism that reciprocally moves the convex lens so that the laser light is focused on different transparent plates.
導光手段と合焦手段とが同一体により構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。 The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the light guide unit and the focusing unit are formed of the same body. 合焦手段は、一つの光軸上に配置された焦点距離の異なる複数の凸レンズよりなることを特徴とする請求項7に記載のレーザ加工装置。 The laser processing apparatus according to claim 7, wherein the focusing unit includes a plurality of convex lenses having different focal lengths arranged on one optical axis. レーザ光源は、多光子吸収可能なレーザ光を照射するものであることを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。 The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the laser light source irradiates laser light capable of absorbing multiphotons. レーザ光は、パルス幅が0.003ps〜500nsであることを特徴とする請求項9に記載のレーザ加工装置。 The laser processing apparatus according to claim 9, wherein the laser beam has a pulse width of 0.003 ps to 500 ns. レーザ光は、波長が0.2μm〜2.0μmであることを特徴とする請求項9又は10に記載のレーザ加工装置。 The laser processing apparatus according to claim 9 or 10, wherein the laser beam has a wavelength of 0.2 µm to 2.0 µm. レーザ光の光軸方向におけるワークの位置を判別するための判別手段を設けたことを特徴とする請求項1から11のいずれかに一項に記載のレーザ加工装置。 12. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising a discriminating unit configured to discriminate the position of the workpiece in the optical axis direction of the laser light.
JP2006053826A 2006-02-28 2006-02-28 Laser processing equipment Pending JP2007229758A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006053826A JP2007229758A (en) 2006-02-28 2006-02-28 Laser processing equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006053826A JP2007229758A (en) 2006-02-28 2006-02-28 Laser processing equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007229758A true JP2007229758A (en) 2007-09-13

Family

ID=38550874

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006053826A Pending JP2007229758A (en) 2006-02-28 2006-02-28 Laser processing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007229758A (en)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007059610A1 (en) * 2007-12-11 2009-06-18 Precitec Kg Sheet metal laser cutting head has first lens unit straddling entire laser beam and second lens unit intercepting part-beam
JP2010284712A (en) * 2009-06-15 2010-12-24 Hamamatsu Photonics Kk Laser beam machining apparatus
CN102152003A (en) * 2011-02-24 2011-08-17 华中科技大学 Method and device for separating optical crystal by using two laser beams
JP2011161491A (en) * 2010-02-10 2011-08-25 Disco Abrasive Syst Ltd Laser beam machining apparatus
CN102795767A (en) * 2011-05-24 2012-11-28 三星钻石工业股份有限公司 Marking device
CN102886609A (en) * 2012-08-27 2013-01-23 中国科学院半导体研究所 Multi-focus femtosecond laser scribing method applied to separation of light emitting diode (LED) device
JP2013033155A (en) * 2011-08-02 2013-02-14 Sumitomo Electric Hardmetal Corp Laser optical component
KR101262869B1 (en) * 2012-07-24 2013-05-09 (주)엘투케이플러스 Apparatus for making laser beam generate multi focus by using reflection mirror
JP2013189020A (en) * 2013-06-17 2013-09-26 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Scribing apparatus
KR20140017421A (en) * 2012-07-31 2014-02-11 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 Laminated-substrate processing method and processing apparatus
CN103964682A (en) * 2013-01-28 2014-08-06 深圳市大族激光科技股份有限公司 Method for cutting glass through laser
CN104339084A (en) * 2013-07-29 2015-02-11 Ap系统股份有限公司 Device for processing brittle substrate using aspherical lens having multi focuses
JP2016030294A (en) * 2014-07-29 2016-03-07 久元電子股▲ふん▼有限公司 Improved structure of laser device
KR20160114342A (en) * 2015-03-24 2016-10-05 주식회사 필옵틱스 Optical apparatus using interference beam
CN106825938A (en) * 2015-12-04 2017-06-13 彭翔 For being gone to lose the method and system of crisp and hard material by means of cold shock light radiation and heat shock light radiation
CN112166495A (en) * 2018-05-17 2021-01-01 信越工程株式会社 Workpiece separation device and workpiece separation method
DE102022204688B3 (en) 2022-05-13 2023-09-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Device for focusing a beam of photons into a material, corresponding method and computer program

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007059610A1 (en) * 2007-12-11 2009-06-18 Precitec Kg Sheet metal laser cutting head has first lens unit straddling entire laser beam and second lens unit intercepting part-beam
JP2010284712A (en) * 2009-06-15 2010-12-24 Hamamatsu Photonics Kk Laser beam machining apparatus
JP2011161491A (en) * 2010-02-10 2011-08-25 Disco Abrasive Syst Ltd Laser beam machining apparatus
CN102194658A (en) * 2010-02-10 2011-09-21 株式会社迪思科 Laser processing device
CN102152003A (en) * 2011-02-24 2011-08-17 华中科技大学 Method and device for separating optical crystal by using two laser beams
JP2012240902A (en) * 2011-05-24 2012-12-10 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Scribing apparatus
CN102795767A (en) * 2011-05-24 2012-11-28 三星钻石工业股份有限公司 Marking device
KR101341383B1 (en) 2011-05-24 2013-12-13 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 Scribing apparatus
JP2013033155A (en) * 2011-08-02 2013-02-14 Sumitomo Electric Hardmetal Corp Laser optical component
KR101262869B1 (en) * 2012-07-24 2013-05-09 (주)엘투케이플러스 Apparatus for making laser beam generate multi focus by using reflection mirror
KR101891341B1 (en) * 2012-07-31 2018-08-23 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 Laminated-substrate processing method and processing apparatus
KR20140017421A (en) * 2012-07-31 2014-02-11 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 Laminated-substrate processing method and processing apparatus
CN102886609A (en) * 2012-08-27 2013-01-23 中国科学院半导体研究所 Multi-focus femtosecond laser scribing method applied to separation of light emitting diode (LED) device
CN103964682A (en) * 2013-01-28 2014-08-06 深圳市大族激光科技股份有限公司 Method for cutting glass through laser
JP2013189020A (en) * 2013-06-17 2013-09-26 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Scribing apparatus
CN104339084A (en) * 2013-07-29 2015-02-11 Ap系统股份有限公司 Device for processing brittle substrate using aspherical lens having multi focuses
JP2016030294A (en) * 2014-07-29 2016-03-07 久元電子股▲ふん▼有限公司 Improved structure of laser device
KR20160114342A (en) * 2015-03-24 2016-10-05 주식회사 필옵틱스 Optical apparatus using interference beam
KR101667792B1 (en) 2015-03-24 2016-10-20 주식회사 필옵틱스 Optical apparatus using interference beam
CN106825938A (en) * 2015-12-04 2017-06-13 彭翔 For being gone to lose the method and system of crisp and hard material by means of cold shock light radiation and heat shock light radiation
CN112166495A (en) * 2018-05-17 2021-01-01 信越工程株式会社 Workpiece separation device and workpiece separation method
DE102022204688B3 (en) 2022-05-13 2023-09-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Device for focusing a beam of photons into a material, corresponding method and computer program

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007229758A (en) Laser processing equipment
KR101798172B1 (en) Laser beam working machine
JP4551086B2 (en) Partial machining with laser
US7423237B2 (en) Method of cutting laminated glass with laser beams
KR102230762B1 (en) Method of and device for the laser-based machining of sheet-like substrates using a laser beam focal line
US8536024B2 (en) Processing method for a workpiece, dividing method for a workpiece, and laser processing apparatus
JP2019064916A (en) Method and apparatus for cutting transparent and translucent substrate by laser
US20120111840A1 (en) Laser processing apparatus
WO2009102002A1 (en) Laser processing method and device for transparent substrate
JP2015519722A (en) Laser scribing with high depth action in the workpiece
KR20170003898A (en) Method and apparatus for performing laser filamentation within transparent materials
CN102348530A (en) Laser irradiation apparatus and laser processing method
KR101582455B1 (en) Multi modal laser machining system
CN107073645B (en) Laser material processing equipment with parallel dislocation unit
KR20010034366A (en) Laser marking method and apparatus, and marked member
JP2004528991A5 (en)
WO2017130111A1 (en) Laser material processing with multi-focus optics
KR101798174B1 (en) Laser beam working machine
JP2007167875A (en) Laser internal scribing method
JP2010026041A (en) Manufacturing method of display panel
WO2012063348A1 (en) Laser processing method and device
KR102050765B1 (en) Multi modal laser machining system
JP2016131997A (en) Laser cutting optical unit and laser cutting device
JP4835927B2 (en) Method of splitting hard and brittle plate
KR20080112691A (en) Workpiece processing device using laser