JP2002167390A - テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法 - Google Patents
テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法Info
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Abstract
オン性不純物の残存がないテトラキス(アシロキシ)ボ
レート(1−)の合成方法を提供する。 【解決手段】 ホウ酸、一般式2の無水カルボン酸及び
一般式3のアミンを反応させ一般式1のテトラキス(ア
シロキシ)ボレート(1−)の合成方法。 (R1はアルキル基、アリール基又はアラルキル基、R
2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3
つのうち2つ以上が環を形成する置換基) (R1はアルキル基、アリール基又はアラルキル基) (R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4
の3つのうち2つ以上が環を形成する基)
Description
エポキシ樹脂の硬化促進剤等に有用な置換オニウムテト
ラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及びその前駆体
であるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合
成方法に関するものである。
(1−)を合成する方法は、以下の2種類の方法が知ら
れている。 (1)無水酢酸存在下、トリアセテートボレートと酢酸
カリウムとを反応させる方法(I.G.ルイス、V.
N.プラホトニク 無機化学ジャーナル VOL.1
3,2050(1968))。 (2)テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートと分
子外に放出しうるプロトンを少なくとも1個以上分子内
に有するn(n≧1)価の有機酸とを反応させる方法
(特開平8−196911号公報)。
してアルカリ金属を使用しているため、合成プロセスに
おける有機溶媒への低溶解性や、電気・電子材料におい
て問題となるイオン性不純物の残存等が問題となる。一
方、前記(2)の方法は、反応の際に200℃以上の高
温で行うため、テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレ
ートのボレート置換基がアルキル基である場合、ボレー
ト側が大気中で不安定であり、取り扱いが困難である。
ボレート置換基が、フェニル基、その他のアリール基で
ある場合、コスト面で問題がある。特に、テトラ置換ホ
スホニウムテトラフェニルボレートを用いた場合、反応
時に副生成物として、人体に有害なベンゼンを生じるた
め望ましくない。
を解決するためなされたもので、合成における有機溶媒
への溶解性がよく、有害物質の発生もなく、イオン性不
純物の残存もなく、安定性に優れた置換オニウムテトラ
キス(アシロキシ)ボレート(1−)及びその前駆体で
あるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成
方法を提供するものである。
(1)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレート
(1−)が、ホウ酸、一般式(2)で表される無水カル
ボン酸、一般式(3)で表されるアミンとを反応させて
得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボ
レート(1−)の合成方法、
る群より選ばれる基、R2〜R4は、アルキル基、アリー
ル基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つ
の置換基が環を形成する置換基)
る群より選ばれる基)
の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形
成する基) (2)一般式(3)のR2〜R4が、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基からなる群より
選ばれる1種以上である第(1)項記載のテトラキス
(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法、(3)一
般式(4)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレー
ト(1−)が、ホウ酸、一般式(2)で表される無水カ
ルボン酸、一般式(5)で表されるアミジンとを反応さ
せて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキ
シ)ボレート(1−)の合成方法、
る群より選ばれる基、R 5〜R7はアルキル基、アリール
基又はR5〜R7の3つの置換基のうち少なくとも2つの
置換基が環を形成する基)
る群より選ばれる基)
3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成
する基) (4)第(1)〜(3)項のいずれかに記載の合成方法
により得られたテトラキス(アシロキシ)ボレート(1
−)と、テトラ置換ホスホニウム塩、テトラ置換アンモ
ニウム塩、トリ置換スルホニウム塩からなる群より選ば
れるオニウム塩とを反応させて得られることを特徴とす
る置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1
−)の合成方法、である。
は一般式(4)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボ
レート(1−)は、ホウ酸、一般式(2)で表される無
水カルボン酸、一般式(3)で表されるアミン又は一般
式(5)で表されるアミジンとの反応により合成する方
法により得られるが、本発明は、一般式(1)又は一般
式(4)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレート
(1−)のカチオン種が有機化合物であるアミン又はア
ミジンの塩であるため、溶媒への溶解性が良好であり、
極めて取り扱い性がよいことが特徴の一つである。本発
明に用いるホウ酸は、工業製品或いは試薬として入手す
ることが可能であり、いずれの形態を用いてもよい。
水カルボン酸は、式中のR1がアルキル基、アリール
基、アラルキル基からなる群より選ばれる基を示し、置
換基の具体例なR1としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、フェニル基、トリル基、アニシル基、ニトロ
フェニル基、ナフチル基、ベンジル基等が挙げられる。
又無水カルボン酸の例としては、無水酢酸、無水プロピ
オン酸、無水酪酸、無水安息香酸、無水メチル安息香
酸、無水メトキシ安息香酸、無水ニトロ安息香酸、無水
パラニトロ安息香酸、無水1−ナフトエ酸、無水1−フ
ェニル酢酸、無水トリフルオロ酢酸等が挙げられる。
式(5)で表されるアミジンについては、特に限定され
ないが、窒素原子に水素原子が結合している場合、副反
応としてアミドを形成するため、3級アミンが望まし
い。これらは、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリプロピルアミン、トリブチルアミン等のアルキル基
の置換した3級のアルキルアミン類、ジフェニルメチル
アミン等のアリール基置換3級アミン、1,8−ジアザ
ビシクロ[5,4,0]ウンセン−7(双環式アミジン
化合物)、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノン
−5−エン(双環式アミジン化合物)、或いは非環状ア
ミジン類等が例示される。
ト(1−)の合成方法の例としては、ホウ酸、一般式
(2)で表される無水カルボン酸、一般式(3)で表さ
れるアミン又は一般式(5)で表されるアミジンを反応
させることにより行われるが、本発明によれば、80〜
180℃程度の200℃未満の比較的穏和な条件下3〜
8時間で反応を完結させることができる。反応では、溶
媒を用いても用いなくとも、一般式(3)で表されるア
ミン又は一般式(5)で表されるアミジンを大過剰に用
いる場合、これらのアミン、アミジンを溶媒として使用
することができ、又一般式(3)で表されるアミン又は
一般式(5)で表されるアミジンと、一般式(2)で表
される無水カルボン酸を過剰に用いることにより、これ
らを溶媒として使用することも可能である。又反応物質
を溶解するが、不活性な溶媒、例えばジメトキシエタ
ン、ジメチルジグリコール、ジメチルトリグリコール等
を用いることができる。
塩、テトラ置換アンモニウム塩、トリ置換スルホニウム
塩は、それらのハライド塩を用いることができるが、塩
としては、特に限定されるものではなく、前述のテトラ
キス(アシロキシ)ボレート(1−)のカチオン側のア
ンモニウムイオン、又はアミジニウムイオンが対応する
テトラ置換ホスホニウム、テトラ置換アンモニウム、ト
リ置換スルホニウムに置換する反応が生じるものであれ
ば、対応するオニウム無機酸塩やオニウムカルボン酸
塩、オニウムフェノレートであってもよく、いかなるも
のでも差し支えない。本発明の置換オニウムテトラキス
(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法は、テトラ
置換ホスホニウムハライド、テトラ置換アンモニウムハ
ライド、トリ置換スルホニウムハライド等の汎用オニウ
ムハライドと前述テトラキス(アシロキシ)ボレート
(1−)とを接触させることにより行われるが、例えば
テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)を不活性で
溶解性が良好な非プロトン性溶媒に溶解し、汎用オニウ
ムハライドをメタノールや水等に溶解し、両者を混合す
れば、テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)のカ
チオン側のアンモニウムイオン又はアミジニウムイオン
が対応するテトラ置換ホスホニウム、テトラ置換アンモ
ニウム、トリ置換スルホニウムに置換し、対応する置換
オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)が
生成する。
テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及びその前
駆体であるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)
は、電気・電子材料用のエポキシ樹脂の硬化促進剤等と
して用いることができる。
て説明するが、本発明は実施例になんら制限されるもの
ではない。 [テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成] (実施例1)フラスコにホウ酸1.55g(25mmo
l)、1−ナフトエ酸無水物65.2g(200mmo
l)、1−ナフトエ酸4.3g(25mmol)、トリ
ブチルアミン12.1g(50mmol)を仕込み、1
60℃で4時間加熱攪拌した。これにより式(6)のト
リブチルアミンテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボ
レート(1−)が得られた。これをアセトンに溶解さ
せ、濾過を行い、過剰なトリブチルアミン、無水1−ナ
フトエ酸、1−ナフトエ酸を除去した後、濾液にヘキサ
ン添加による貧溶媒化で再結晶を行った。収量17.8
g(ホウ酸に対して収率85%)
(25mmol)に過剰の無水トリフルオロ酢酸42.
0g(200mmol)、1−ベンジル2−メチルイミ
ダゾール8.6g(50mmol)、ジメチルジグリコ
ール200gを仕込み、160℃で4時間加熱攪拌し
た。これにより式(7)の1−ベンジル2−メチルイミ
ダゾールのテトラキス(1−トリフルオロアセテート)
ボレート塩が得られた。これをアセトンに溶解させ、濾
過を行い、1−ベンジル2−メチルイミダゾール、フッ
素化水素塩を除去した後、濾液にヘキサン添加による貧
溶媒化で再結晶を行った。収量14.8g(ホウ酸に対
して収率78%)
水カルボン酸、アミン又はアミジンを用いて、実施例1
或いは実施例2と同様の操作により、テトラキス(アシ
ロキシ)ボレート(1−)を合成した。
(200mmol)と酢酸カリウム塩8.88g(25
mmol)と式(12)のトリアセテートボレート1
7.07g(25mmol)を仕込み、160℃で無水
酢酸を1時間還流を行い、室温で冷却することにより、
式(13)のカリウムテトラキスアセテートボレート
(1−)塩の結晶を得た。収量は19.2g(トリアセ
テートボレートに対して収率78%)(参考文献 無機
化学ジャーナル VOL.13,2050(1968)
ソ連)
(25mmol)、過剰の無水1−ナフトエ酸65.2
g(200mmol)、1−ナフトエ酸カリウム塩2
1.0g(100mmol)をフラスコに仕込み、16
0℃で15時間加熱攪拌を行ったが未反応であった。
ボレート(1−)の合成] (実施例7)実施例1のトリブチルアミンテトラキス
(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1−)塩(式
(6))のテトラハイドロフラン10重量%溶液を作成
した。この溶液を予め作成したテトラフェニルホスホニ
ウムブロマイドを10%重量含むイソプロパノール溶液
に室温で滴下した。滴下と同時に白色沈殿が生成した。
これを濾過し、メタノールで数回洗浄し、真空加熱乾燥
を行うことにより、式(14)のテトラフェニルホスホ
ニウムテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート
(1−)塩を得た。収量は22.0g(トリブチルアミ
ンテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1
−)塩(式(6))に対して収率85%)であった。得
られた置換オニウム塩であるテトラフェニルホスホニウ
ムテトラキス(1−ナフトイルオキシ)ボレート(1
−)塩を1.00g秤量し、純水50.0g中にてプレ
ッシャークッカー処理を125℃で20時間行ったが、
カリウムイオンは検出されなかった。
シロキシ)ボレート(1−)と置換オニウム塩を用い、
実施例7と同様の操作を繰り返し、置換オニウムテトラ
キス(アシロキシ)ボレート(1−)を合成した。これ
らの反応はすべて室温で可能であった。又カリウムイオ
ンの定量も実施例7と同様に行った結果、カリウムイオ
ンは検出されなかった。
スアセテートボレート(1−)塩(式(13))を10
重量%含むイソプロパノール溶液を作成した。この溶液
を予め作成したテトラフェニルホスホニウムブロマイド
を10重量%含むイソプロパノール溶液に室温で滴下し
た。滴下と同時に白色沈殿が生成した。これを濾過し、
メタノールで数回洗浄し、真空加熱乾燥を行うことによ
り、式(22)のテトラフェニルホスホニウムテトラキ
スアセテートボレート(1−)塩を得た。このテトラフ
ェニルホスホニウムテトラキスアセテートボレート(1
−)塩を、実施例7と同様な処理を行った結果、抽出さ
れたカリウムイオンは1500ppmであり、電気電子
機器用途に用いるには不適であった。
g(100mmol)とテトラフェニルホスホニウムテ
トラフェニルボレート塩16.45g(25mmol)
を仕込み、230℃で4時間加熱攪拌を行い、式(2
3)のテトラフェニルホスホニウムテトラキス(ベンゾ
イルオキシ)ボレート(1−)塩23mmol(テトラ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレート塩に対し
て収率92%)を得たが、この方法は有害なベンゼンが
発生するし、230℃という極めて高温で反応しなけれ
ば好ましくない。
比べて汎用性が高く、低温反応可能でベンゼン等の有害
な物質を生成することもなく、更にフリーのアルカリ金
属を含まず、かつ反応操作も簡便で高収率で目的物を得
ることができる。又テトラ置換ホスホニウムテトラ置換
ボレート、テトラ置換アンモニウムテトラ置換ボレー
ト、トリ置換スルホニウムテトラ置換ボレートはエポキ
シ樹脂等のアニオン重合の硬化触媒として有用である。
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式(1)で表されるテトラキス(ア
シロキシ)ボレート(1−)が、ホウ酸、一般式(2)
で表される無水カルボン酸、一般式(3)で表されるア
ミンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキ
ス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法。 【化1】 (R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基からな
る群より選ばれる基、R2〜R4は、アルキル基、アリー
ル基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つ
の置換基が環を形成する置換基) 【化2】 ( R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基からな
る群より選ばれる基) 【化3】 ( R2〜R4は、アルキル基、アリール基又はR2〜R4
の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形
成する基) - 【請求項2】 一般式(3)のR2〜R4が、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基からなる
群より選ばれる1種以上である請求項1記載のテトラキ
ス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法。 - 【請求項3】 一般式(4)で表されるテトラキス(ア
シロキシ)ボレート(1−)が、ホウ酸、一般式(2)
で表される無水カルボン酸、一般式(5)で表されるア
ミジンとを反応させて得られることを特徴とするテトラ
キス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法。 【化4】 ( R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基からな
る群より選ばれる基、R 5〜R7はアルキル基、アリール
基又はR5〜R7の3つの置換基のうち少なくとも2つの
置換基が環を形成する基) 【化5】 ( R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基からな
る群より選ばれる基) 【化6】 ( R5〜R7はアルキル基、アリール基又はR5〜R7の
3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成
する基) - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の合成方
法により得られたテトラキス(アシロキシ)ボレート
(1−)と、テトラ置換ホスホニウム塩、テトラ置換ア
ンモニウム塩、トリ置換スルホニウム塩からなる群より
選ばれるオニウム塩とを反応させて得られることを特徴
とする置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート
(1−)の合成方法。
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| JP2000364192A JP4876308B2 (ja) | 2000-11-30 | 2000-11-30 | テトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1−)の合成方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2008081470A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Adeka Corp | オニウム塩化合物、光酸発生剤、カチオン重合開始剤、レジスト組成物およびカチオン重合性組成物 |
| JP2013234272A (ja) * | 2012-05-09 | 2013-11-21 | Tosoh Corp | ポリウレタン樹脂製造用触媒組成物及びそれを用いたポリウレタン樹脂の製造方法 |
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| JPH11171981A (ja) * | 1997-12-10 | 1999-06-29 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂組成物 |
-
2000
- 2000-11-30 JP JP2000364192A patent/JP4876308B2/ja not_active Expired - Fee Related
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