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JP2002038195A - 洗浄剤、この洗浄剤の製造方法、この洗浄剤の製造装置、及び、この洗浄剤を用いた洗浄方法 - Google Patents

洗浄剤、この洗浄剤の製造方法、この洗浄剤の製造装置、及び、この洗浄剤を用いた洗浄方法

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Publication number
JP2002038195A
JP2002038195A JP2000226433A JP2000226433A JP2002038195A JP 2002038195 A JP2002038195 A JP 2002038195A JP 2000226433 A JP2000226433 A JP 2000226433A JP 2000226433 A JP2000226433 A JP 2000226433A JP 2002038195 A JP2002038195 A JP 2002038195A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
cleaning agent
acid
cleaning
electrolysis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000226433A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Sotoe
浩司 外江
Akira Narita
章 成田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CLOSS CO Ltd
STARTACK KK
Original Assignee
CLOSS CO Ltd
STARTACK KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CLOSS CO Ltd, STARTACK KK filed Critical CLOSS CO Ltd
Priority to JP2000226433A priority Critical patent/JP2002038195A/ja
Publication of JP2002038195A publication Critical patent/JP2002038195A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/36Hydrogen production from non-carbon containing sources, e.g. by water electrolysis

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  • Detergent Compositions (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 工業用の洗浄剤において、高い安全性を確保
すると共に、洗浄能力の極めて優れた洗浄剤を提供す
る。 【解決手段】 本願発明に係る洗浄剤は、電解補助剤添
加装置15にて、純水にクエン酸を加えた後、電圧を掛
けて得た電解水を有することを特徴とする。これにて、
人体に対する安全性の面での問題が完全に払拭され、特
に、金属イオン(アルカリ金属)の混入を極端に嫌う半
導体の研磨装置などの洗浄においても、そのような影響
を完全に排除したものであり、その上で、極めて高い洗
浄力を獲得した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本願発明は、洗浄剤と、この
洗浄剤の製造方法と、この洗浄剤の製造装置と、この洗
浄剤を用いた洗浄方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば、高温で溶融金属を噴射さ
せる溶射装置の銅製のノズル部分は、循環冷却水と常に
接しており、この部分には作動時間と共に必ずカーボン
状の黒い皮膜が付着してくる。この皮膜がノズルの冷却
能力を低下させ、延いてはノズルの寿命を短くしてい
る。このカーボン状の皮膜は、通常の洗浄では落ちず、
その除去には労力と手間が掛かるものとなっていた。更
に、半導体の研磨装置などの洗浄に際して、研磨装置に
付着したスラリーの除去は、簡単に行えるものではな
く、従来多大な労力を要求されるものとなっていた。特
に、このような半導体を扱う装置については、ナトリウ
ムやカリウムなどの金属イオン(特にアルカリ金属)の
混入が嫌われ、洗浄に使用できる洗浄剤も制限された。
【0003】一方、強酸を洗浄液として、洗浄すること
も場合によっては行われるが、劇薬を使用することは、
作業者の安全面の確保や、洗浄後に生じる廃液の処理な
ど、環境保全の面で、大きな手間とコストを要求される
ものであった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の状況を鑑み、本
願発明は、上記の各洗浄に適した洗浄剤の提供を図り、
上記の課題の解決を図る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本願の第1の発明に係る
洗浄剤は、クエン酸、アスコルビン酸、シュウ酸、酢
酸、ギ酸、グリコール酸の少なくとも1つを含む電解補
助剤を加えた水に、電圧を掛けて得た電解水を有するこ
とを特徴とする。尚、ここでいう洗浄剤とは、洗剤を指
すことは勿論、洗浄の補助剤即ち洗剤と共に使用されそ
の洗浄効果を促進する洗浄促進剤を含む。この点につい
て以下同様である。
【0006】このような構成を採ることにより、本願第
1の発明に係る洗浄剤は、水に対して、人体に及ぼす影
響の少ないクエン酸、アスコルビン酸、シュウ酸、酢
酸、ギ酸、グリコール酸の少なくとも1つを含む電解補
助剤を加えると共に、電圧を掛けることにて、洗浄能力
を高めた。即ち、安全性の高い酸を用いると共に、この
ような酸を加えた水に電圧を掛けることにて、高い洗浄
能力を獲得した。
【0007】本願第2の発明に係る洗浄剤は、純水にク
エン酸を加えた後、電圧を掛けて得た電解水を有するこ
とを特徴とする。
【0008】本願第2の発明に係る洗浄剤は、とりわ
け、天然の果実などの食品などにも含まれ人体に入って
も害を及ぼすことないクエン酸を、純水に加えて、電圧
を掛けて得たものであるため、人体に対する安全性の面
での問題が完全に払拭された。特に、金属イオン(特に
アルカリ金属)の混入を極端に嫌う半導体の研磨装置な
どの洗浄においても、そのような影響を完全に排除した
ものであり、その上で、極めて高い洗浄力を発揮するも
のである。
【0009】本願第3の発明に係る洗浄剤の製造方法
は、水に、クエン酸、アスコルビン酸、シュウ酸、酢
酸、ギ酸、グリコール酸の少なくとも1つを含む電解補
助剤を添加し、電圧を掛けて電解水を得、少なくともこ
の電解水を成分として含有させることを特徴とする。
【0010】上記の構造を採る本願第3の発明に係る洗
浄剤の製造方法にて、本願第1の発明に係る洗浄剤を得
ることを可能とした。
【0011】本願第4の発明に係る洗浄剤の製造装置
は、水に対して、クエン酸、アスコルビン酸、シュウ
酸、酢酸、ギ酸、グリコール酸の少なくとも1つを含む
電解補助剤を添加する添加装置15と、電解補助剤添加
後の水に電解電圧を掛けることが可能な電力供給装置と
を備えたことを特徴とする。
【0012】上記の構成を採る本願第4の発明に係る洗
浄剤の製造装置は、上記本願第3の発明を実施する具体
的手段を提供し、且つ、上記本願第1の発明に係る洗浄
剤を得る具体的手段を提供したものである。
【0013】本願第5の発明に係る洗浄剤を用いた洗浄
方法は、被洗浄物に対して、洗浄剤を接触させた後、或
いは接触させると共に、物理的な力を加えるものであ
り、上記の洗浄剤は、水に、クエン酸、アスコルビン
酸、シュウ酸、酢酸、ギ酸、グリコール酸の少なくとも
1つを含む電解補助剤を添加し電圧を掛けて得た電解水
を含むものであることを特徴とする。
【0014】上記の構成を採る本願第5の発明に係る洗
浄剤を用いた洗浄方法は、上記本願第1の発明に係る洗
浄剤の効果をより好ましい方法にて、洗浄に適応せしめ
たものであり、高い洗浄効果を得ることを可能とした。
即ち、洗浄剤にて、除去使用とする対象物の付着能力を
低下させた上で、物理的な力を付与することにより、効
果的に洗浄を行うことを可能としたものである。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の
形態について説明する。この洗浄剤の製造方法は、水
に、クエン酸、アスコルビン酸、シュウ酸、酢酸、ギ
酸、グリコール酸の少なくとも1つを含む電解補助剤を
添加し、電圧を掛けて電解水を得、少なくともこの電解
水を成分として含有させるものである。ここでは、クエ
ン酸を電解補助剤として用いる場合を代表として、洗浄
剤の製造方法について説明する。
【0016】先ず、第1の工程において、前処理水を作
る。この前処理水は、純水に対して、クエン酸を、添加
することによって生成する。この添加にて、クエン酸の
濃度は、0.3〜0.8重量%とするのが好ましく、と
りわけ、0.5〜5重量%とするのが、望ましい(水2
リットルに対して、クエン酸10〜100g)。そし
て、第2の工程において、第1の工程でクエン酸を添加
することにて得た前処理水に、陰極と陽極の、2つの電
極を差込み、前処理水に電圧を加えて、電解を行う。陰
極と陽極の双方で生じる電解水の夫々は、そのまま単独
で使用しても洗浄剤としての効果が得られるが、陰極と
陽極の双方で生じる電解水を混合することによって、よ
り洗浄能力の高い洗浄剤を得ることができる。上記陰極
と陽極にて生じた電解水を同量混合することによって得
る洗浄剤として、pH値が1.5〜3.0であり、OR
P(酸化還元電位)が−100mV〜50mVの特性を
有するものが適当である。とりわけ、pH値1.9〜
2.7のものが、洗浄剤として好ましい。
【0017】半導体の研磨装置の洗浄剤として適したも
のを製造する場合、上記の通り、クエン酸を純水に加え
る必要があるが、このような用途以外に用いる場合は、
コスト面から、蒸留水や或いは、通常の水道水などを純
水に代えて用いることが可能である。また水道水などの
一般上水の他、地下水を用いることも可能である。
【0018】また、上記において、電解補助剤として、
クエン酸を用いるものとしたが、この他、アスコルビン
酸、シュウ酸、酢酸、ギ酸或いはグリコール酸を用いる
ことが可能である。但し、得られる洗浄剤の洗浄能力と
安全性の面について、クエン酸が電解補助剤として最も
効果的である。また、クエン酸と共に、アスコルビン
酸、シュウ酸、酢酸、ギ酸或いはグリコール酸の少なく
とも一種を含んだ水溶液を電解補助剤として用いること
も可能である。更には、アスコルビン酸、シュウ酸、酢
酸、ギ酸のいずれか二種以上を混合した水溶液を、電解
補助剤として用いることも可能である。
【0019】上記の電解処理は、電解装置を用いて行う
のが適当である。電解装置には、有隔膜電解装置と、無
隔膜電解装置とがある。有隔膜電解とは、陽極と陰極と
の間に隔膜を置くものであり、無隔膜電解とは、両極間
にそのような隔膜を置かないものである。また、上記の
いずれの装置にも、溜め置き式(バッチ式)と、連続式
の2種類の装置がある。溜め置き式は、電解を掛ける水
を槽に溜めて、洗浄剤を製造するものであり、生成の度
に前処理水を入れ換えるものである。連続式は、流水に
対して、電解処理を行うものであり、連続的に、目的の
洗浄剤を生成することができる。
【0020】以下、バッチ式有隔膜電解装置を用いて、
電解処理を行う場合について説明する。この装置は、図
1へ示す通り、前処理水を収容する槽1と、槽1内に配
された陽極2と陰極3の、2つの電極板と、両極2,3
に接続され直流電流を供給する電源装置4とを備える。
図1に示す通り、上記の槽1は、隔膜6によって、2つ
に区画されている。槽1の区画された一方は、陽極室1
aとして陽極2となる電極板を備え、区画された他方
は、陰極室1bとして陰極3となる電極板を備える。こ
の槽1の、陽極室1aと陰極室1bの夫々には、吐出口
7a,7bが設けられている。槽1の上部は開放されて
おり、槽1上方から、槽1内に所定量の前処理水を投入
することができる。電解によって、得られた電解水は、
この吐出口7a,7bから、槽1外へ吐出することがで
きる。図1の8a,8bは、夫々吐出口7a,7bの開
閉を行うバルブを示している。図1中5は、電解時間を
設定するタイマを示している。
【0021】このように、電解槽1内の2つの電極(陽
極2、陰極3)の間に隔膜を置き、上記の水に電解補助
剤を添加し、所定の条件により電気分解することによ
り、陽極側に酸性電解水が、また、陰極側にも酸性電解
水が生成される。この電解時間は3〜15分とするのが
好ましく、処理水2リットル(各極室に1リットル)当
たり電流0.5〜3A(好ましくは、0.8〜1.5
A)程度、電圧9〜20V程度で電解を行うのが適当で
ある。電解処理後は、上記のバルブ8a,8bを開い
て、吐出口7a,7bから、電解水を取り出せばよい。
【0022】上記の電極2,3には、白金被膜、フェラ
イト、炭素、ステンレス、チタンなどを用いるのが適当
である。特に、白金被膜電極が好ましく、またコスト面
では、炭素、ステンレスの電極が有利である。この白金
被膜電極は、チタン板に、白金やイリジウム、パラジウ
ム、ロジウムなどの白金族をめっき或いは焼成して被膜
を形成したもので、必要に応じて、金属酸化物を微量加
えたものである。隔膜6には、陶磁器、樹脂、ガラス繊
維膜にて、形成されたものを用いて実施することが可能
である。特に、基材にポリエステル、ガラス繊維の不織
布に、0.2〜200μmの孔径の樹脂被膜処理をし、
更に親水性を付加した、バッテリやメンブレンフィルタ
に用いられる一般的な素材にて実施することができる。
【0023】従来、一般的な、電解質としては、NaC
lや、KCl,HClを用いるのであるが、本願発明に
おいては、このような電解質に代えて、クエン酸を用い
る。電解補助剤に例えば食塩(NaCl)を用いる一般
的な電解の場合、上記の陽極には、強酸性電解水が生成
し、陰極には、強アルカリ性の電解水が生成する。一
方、電解補助剤としてクエン酸を用いる本願発明におい
ては、上記の陽極と陰極の何れにも酸性の電解水が生成
される(陽極室1aと陰極室1bの何れにおいても、酸
性の電解水が生成される)。このため、本願発明におい
て、陰陽両極において生成する電解水を洗浄剤として使
用することかでき、上記の一般的な食塩を用いる電解の
ように一方の電解水を破棄するといった無駄が生じず、
能率的に洗浄剤を生成することができる。
【0024】上記のバッチ式(溜め置き式)以外の電解
装置として、連続式電解装置を用いることが可能であ
る。これは、上記のバッチ式の装置と異なり、流水に対
して、電解を行うものである。この装置を用いる場合、
上記のように事前に前処理水を生成することは不要であ
る。
【0025】以下、図2を用いて、有隔膜連続式装置を
用いて電解処理を行う他の実施の形態について説明す
る。この装置は、一般水道水、または地下水やタンク内
の溜め置きした純水や蒸留水などの水を水源として、こ
のような水源に接続されて、電気分解する原水(処理前
の水)を得るものである。原水は、水源から圧送ポンプ
等にて一定量が自動供給される。従って、この装置によ
れば、毎時間一定量の電解水を生成することができる。
【0026】詳しくは、この電解装置は、陽極2と陰極
3が設けられた槽1と、槽1に接続され水源より水を槽
1へ導く導水路10と、上記両極に電解電圧を供給する
電源装置4と、導水路10より槽1へ水を圧送するポン
プ14と、調圧弁などの通水量調整装置11と、電解補
助剤添加装置15と、制御装置16と、各種センサとを
備える。この槽1内は、隔膜6にて、陽極2が配置され
る陽極2側と、陰極3が配置される陰極3側とが隔てら
れており、陽極2側と陰極3側の夫々に、入水口9a,
9bと、吐出口7a,7bが設けられている。上記の入
水口9a,9bは、電解しようとする水を槽1に導く上
記の導水路10に接続されている。導水路10の一端
は、2つに枝分かれし、枝分かれした夫々が、入水口9
a,9bに接続されているのである。そして、導水路1
0の他端13(以下接続端13という。)は、水道など
の水源に接続される。上記の通水量調整装置11は、こ
の導水路10に設けられたストレーナである。導水路1
0には、上記のポンプ14が設けられている。このポン
プ14を介して、導水路10には、電解補助剤添加装置
15が接続されている。この電解補助剤添加装置15
は、電解補助剤供給用のタンクである(クエン酸を供給
する場合、クエン酸水溶液供給タンクである。以下単に
タンク15という)。このタンク15内には、水位セン
サ18が設けられている。水位センサ18は、制御部1
6へ接続され、検知結果を制御部16に送る。また、導
水路10には、電気伝導度センサ、pHセンサなどの検
知センサ17が設けられている。この検知センサ17
は、制御部16へデータを送る。
【0027】上記の装置において、ポンプ14により、
水道などの水源から得た原水を、接続端13から導水路
10内へ導き、槽1に向けて原水を移動させる。導入す
る水量については、導水路10の途中にある通水量調整
装置11即ちストレーナの弁の開閉によって、調整する
ことができる。また、制御部16は、水位センサ18
と、上記の検知センサ17からの情報を得て、タンク1
5の弁(図示しない。)の開閉を制御して、水源からの
水に投入する電解補助剤(クエン酸)の量を調整するこ
とができる。導水路10内を圧送されて来る水は、上記
の入水口9a,9bにて、槽1内の陽極2側と陰極3側
の夫々に、連続的に導入される。そして、槽1内におい
て、陽極2側と陰極3側の夫々にて生成された電解水
は、吐出口7a,7bから他へ放出される。処理水量
は、毎分1リットル乃至30リットル(各両電極水0.
5〜15リットル)程度とするのが好ましく、この場
合、電解電力は処理水2リットル(各両極水1リット
ル)当たり電流5〜20A(好ましくは10〜20A)
程度、電圧12〜35V程度で電解を行うのが適当であ
る。
【0028】この図2へ示す装置において、電解する水
の供給の仕方や、上記の前処理水の事前の生成を不要と
する構成以外の構成については、上記図1に示す実施の
形態と同様である。但し、槽1については、図1のバッ
チ式のものでは、段階する水を溜める必要から、所定の
容量を備えていれば、特に形状については、制約がな
く、一方、上記の図2に示すものでは、水の移動を行い
易くするために、円筒形などの形状が好ましい。
【0029】上記の電解装置は、何れも、隔膜を備えた
ものであったが、この他、両極2,3間に隔壁6を置か
ずに電解を行う無隔膜電解装置を用いて実施することも
可能である(図示しない)。これは、無隔膜連続生成装
置の隔膜を無くし、陰極と陽極で作られた溶液が混ざっ
て生成されるものである。この場合、槽1内への水の入
口(入水口)と出口(吐出口)を夫々2つ設ける必要は
なく、いずれも1本にして実施すればよい。無隔膜電解
装置についても、バッチ式無隔膜電解装置と、連続式無
隔膜電解装置とがあり、何れを用いても実施することが
可能である。
【0030】図3(A)に上記のバッチ式無隔膜電解装
置の例を示す。これは、図1に示す実施の形態におい
て、隔膜6を排除し槽1を区画しないものであり、バル
ブ8を備えた1つの吐出口7にて、生成した電解水(洗
浄剤)を放出するものである。他の構成については、図
1に示す実施の形態と同様である。
【0031】また、図3(B)に、上記の連続式無隔膜
電解装置の例を示す。これは、図2の実施の形態におい
て、隔膜6を排除し槽1を区画しないものであり、入水
口9を1つとし、同様に、吐出口7を1つとしたもので
ある。図3(B)において、槽1のみ示すが、槽1以外
の他の構成については、図2に示す実施の形態と同様で
ある。
【0032】連続式の装置は、有隔膜・無隔膜のいずれ
の場合も、第2工程となる電解処理のみでなく、第1工
程を含めた、洗浄剤生成の全工程を連続して遂行するこ
とが可能な、洗浄剤の製造装置である。即ち、図2及び
図3(B)に示す装置は、水源の水に対して、クエン
酸、アスコルビン酸、シュウ酸、酢酸、ギ酸、グリコー
ル酸の少なくとも1つを含む電解補助剤を添加する添加
装置(電解補助剤添加装置15)と、電解補助剤添加後
の水に電解電圧を掛けることが可能な電力供給装置(陰
陽両電極2,3と電源装置4)とを備えた製造装置であ
る。
【0033】図1及び図2に示す、有隔膜の何れの装置
(バッチ式、連続式)を用いる場合も、生成された陰
極、陽極の電解水を同量混合することにより、最も洗浄
能力の高い洗浄液を生成することができる。有隔膜式の
電解装置で生成した陰極・陽極夫々の電解水を、洗浄を
行う直前に混合して、洗浄剤とすることができる。ま
た、上記図3に示す無隔膜の装置(バッチ式、連続式)
を用いる場合は、陰極と陽極で作られた溶液が混ざって
生成される。従って、混合を行う必要がなく、直接目的
とする洗浄液を生成することができる。
【0034】既述の通り、食塩を用いた従来の一般的な
電解水は、通常アルカリ性と酸性、+と−に分かれる
が、クエン酸を使用する場合、+と−に分かれるがどち
らも酸性水ができる。そこで、+側と−側の水を混ぜて
も酸性水として使用できる。特に、+側と−側に生じた
電解水を混合することによって、+側と−側の夫々の単
独の電解水よりも、より高い洗浄能力の電解水とするこ
とができる。これは、このような混合液は、+イオンと
−イオンが混合したラジカルで非常に不安定な液にとな
るため、この際に電気的に安定になろうとする力が、洗
浄能力をより高めるものであると考えられる。上記の混
合液をそのまま放置しておけば、時間がたつにつれ、イ
オンのバランスは安定してきて効果は薄くなる。しか
し、実験によれば、製造後3ヶ月でも、洗浄剤として、
十分な効果を得ることができる。従って、製造時に+側
と−側の水を混ぜることによって、洗浄剤を製造して
も、商品として十分な有効期間を確保することができ
る。また、+側と−側の液を独立して保管し、3ヶ月後
に混合液にした場合は、ほとんど製造直後の液と効果は
代わらない。従って、初期の効果を出すためには+側と
−側の液を独立して保管し使用直前で混合液にすること
が有効である。具体的には、上記の+側と−側の水を別
々に、収容したものをセットとして商品化(2液式洗浄
剤として販売)し、使用時に、需要者が混合するものと
すれば、最も高い洗浄能力を得ることができる。
【0035】上述の方法によって得られた洗浄剤を、配
管内部に付着した固着物(スケール)等を除去するのに
用いれば固着物の除去を効果的に行える。特に、付着し
た固着物(スケール)等により劣化した冷却水配管につ
いて、冷却水の循環にて生じた配管内付着物(スケー
ル)を除去し、その内表面性能を元の状態に復元するの
に効果的である。また、洗浄剤を、定期的に流すように
すれば、配管固着物(スケール)等の生成防止し、配管
の詰まりや劣化を防止することができる。
【0036】上記の配管の場合、固着物として、主なも
のは、酸化カルシウム、シリカ、酸化鉄などであり、本
願発明に係る洗浄剤を用いることにより、上記の通り、
固着物同士の結合、及び固着物と配管内表面との結合
を、引き離すことができるのである。
【0037】また研磨装置周辺について、研磨時に飛散
・固着したスラリー等についても、本願発明に係る上記
の洗浄剤を用いることにより、その除去を効果的に行う
ことができ、特に、この洗浄剤は、CMP(Chemical M
echanical Polishing )装置周辺に・固着したスラリー
等の除去に適する。ガラス研磨の場合、空気で固まる酸
化セリウムとガラス粉と研磨の摩擦により生じるスラリ
ー等の除去が必要になるが、このような除去にも、本願
発明に係る洗浄剤は、最適である。特に、半導体ウエハ
ーの製造過程で出るスラリー等の除去では、金属イオン
(特にアルカリ金属)の混入が嫌われるが、本願発明に
係る洗浄剤では、そのような問題がなく、高い洗浄効果
を得ることができる。
【0038】以下、種々の洗浄において、上記の洗浄水
を用いて洗浄を行うのに適した、実施の形態について説
明する。
【0039】上記の配管内のスケール等を除去する場合
に適した洗浄方法としては、配管などの被洗浄物に対し
て、上記の洗浄剤を接触させた後、或いは接触させると
共に、物理的な力を加えるのが好ましい。具体的には、
配管内に本願発明に係る洗浄剤を注入し、一定時間以上
配管内を洗浄剤で満たしておく。その後排水を行い、ジ
ェット流水洗浄装置のジェット噴流等を注入し物理力を
加えて付着物を剥離、流出させる。この他、配管内、タ
ンク等に、洗浄剤を注入し、循環ポンプ等にて一定時間
循環させてから排出する。この場合も、ポンプによる圧
送にて、物理的な力を加えることができる。上記のジェ
ット噴流等の注入や循環ポンプ等の利用が不可能な場合
は、発泡剤を加え泡による物理的な力を加えて、付着物
等を剥離させることができる。但し状況によって、上記
のいずれの物理的な力を加えることができない場合は、
洗浄剤を配管内に注入し(物理的な力を加える場合より
も)長時間配管内を洗浄剤で満たした後、排水して洗浄
を行えばよい。
【0040】CMPを始めとする、研磨装置周辺につい
て、研磨時に飛散・固着したスラリー等を除去する場
合、周知の一般的に洗浄剤と本願発明に係る洗浄剤とを
併用(混合)して、洗浄を行っても効果的である。この
ように一般的な洗浄剤と本願発明に係る洗浄剤とを併用
する場合も、本願発明に係る洗浄剤単独で用いる場合
も、洗浄剤を装置に流し、ヘラなどで擦ることにて物理
的な力を加えて、装置の洗浄を行うのが効果的である。
特に、溶射装置の銅製のノズル部分について、循環冷却
水との接触により、付着した皮膜は、この洗浄剤に約1
時間浸漬すると、歯ブラシで簡単に落とせるようにな
る。この場合、浸漬時間が長いほど皮膜の除去が簡単に
行える。また、対象物が小さい場合は、洗浄剤を溜めた
容器や槽などに、対象物を浸漬し、必要に応じて物理的
な力を加えて、洗浄を行えばよい。
【0041】
【実施例】以下、洗浄剤の好ましい実施例について、比
較例との対比において、説明する。但し、この実施例
は、本願発明に係る洗浄剤の効果(洗浄能力)につい
て、より理解を深めるために掲げるものであり、実施を
このような実施例に限定するものではない。表1に、実
施例1〜4と比較例1の、洗浄能力についての実験結果
を示す。実施例1〜4及び比較例の夫々は、図1に示す
バッチ式有隔膜電解装置を用い、処理時間をタイマ5に
て10分に設定し、電解電圧100V、電流0.7Aに
て得られたものである。実施例1は、クエン酸1%水溶
液に電解電圧を加えて得た、陽極側の電解水と陰極側の
電解水とを混合した洗浄剤である。実施例2は、クエン
酸1%水溶液に電解電圧を加えて得た、陽極側の電解水
を洗浄剤としたものである。実施例3は、クエン酸1%
水溶液に電解電圧を加えて得た、陰極側の電解水を洗浄
剤としたものである。実施例4は、アスコルビン酸1%
水溶液に電解電圧を加えて得た、陽極側の電解水と陰極
側の電解水とを混合した洗浄剤である。上記の比較例1
は、食塩1%水溶液に電解電圧を加えて得た、陽極側の
電解水である。テスト片として、空気中に置かれ表面が
完全に茶褐色の酸化皮膜に覆われた銅板を用いた。上記
の実施例1〜4及び比較例の夫々に対して、このテスト
片を浸漬し、テスト片表面の経時の変化を肉眼により観
察した。
【0042】
【表1】 経過時間 5分 10分 1時間 1日 実施例1 やや褐色 光沢 完全な金属光沢 完全な金属光沢 実施例2 褐色 やや褐色 光沢 完全な金属光沢 実施例3 褐色 褐色 光沢 完全な金属光沢 実施例4 褐色 褐色 やや褐色 やや褐色 比較例1 褐色 褐色 やや褐色 光沢
【0043】その結果、上記の表1に示す通り、実施例
1は、最もテスト片の酸化皮膜を除去する効果が顕著で
あり、1時間の浸漬で完全な金属光沢を取り戻した。実
施例1に次いで、高い除去能力を示したのが、実施例2
である。そして、実施例2に次いで、実施例3が高い除
去能力を示した。実施例1〜3については、比較例1に
比して、極めて高い除去能力が認められる。また、実施
例4についても、一定の除去能力が見られた。この結果
から、クエン酸水溶液の電解水について陰陽両極混合し
たものが最も高い洗浄効果を有し、次いでクエン酸水溶
液の陽極側の電解水が高い洗浄効果を有し、更にこれに
次いでクエン酸水溶液の陰極側の電解水が高い洗浄効果
を有し、アスコルビン酸水溶液の電解水について陰陽両
極混合したものも洗浄効果を有することが分かる。特
に、クエン酸水溶液の電解水の場合は、陽極側の電解水
単独、陰極側の電解水単独、両極混合した電解水のいず
れも、食塩水を電解したものに比して、高い洗浄能力を
有することが分かる。一方、食塩水の陽極側の電解水
も、洗浄能力が認められるが、金属イオン(特にアルカ
リ金属)を嫌う用途では、使用することができない。こ
の点、洗浄能力について食塩水を用いた電解水と同程度
であるアスコルビン酸水溶液を用いた電解水も、クエン
酸水溶液の電解水と共に、そのような問題がなく、食塩
水を用いた電解水に対し有利である。
【0044】上記の表1に示す実施例1は、電解してす
ぐ陰極側と陽両側の電解水とを混合し、直ちに実験を開
始したものである。次に、表2へ、このような製造直後
に使用された実施例1と、製造後(混合後)3ケ月経過
した実施例5と、電解して陽極・陰極側の夫々の電解水
を単独で保管し3カ月経過した後試験直前に両電解水を
混合した実施例6とに対し、テスト片を浸漬し、テスト
片表面の経時の変化を肉眼により観察した結果を示す。
実施例5,6のいずれも、図1の装置を用い表1の実験
と同じ条件で、クエン酸1%水溶液に電解電圧を加えて
得たものであり、テスト片についても、表1との実験と
同様の銅板を用いた。
【0045】
【表2】 経過時間 5分 10分 1時間 1日 実施例1 やや褐色 光沢 完全な金属光沢 完全な金属光沢 実施例5 褐色 やや褐色 光沢 完全な金属光沢 実施例6 やや褐色 光沢 完全な金属光沢 完全な金属光沢
【0046】この結果、実施例5は、実施例1に劣るも
のの、高い除去能力が認められた。また、実施例6は実
施例1とほぼ同様の効果を持つことが分かった。このこ
とから、電解して直ぐ陰極側と陽両側の電解水とを混合
したものを3ケ月経って使用しても十分な洗浄能力が得
られること、また、電解して3ケ月経過した後、陰極側
と陽両側の電解水を混合して使用したものについては、
電解して混合し直ちに使用したものとほぼ同じ洗浄効果
が得られることが分かる。
【0047】
【発明の効果】本願第1の発明の実施によって、人体に
対して安全性の高く、なお且つ、洗浄能力の極めて高
い、洗浄剤を提供し得た。従って、本願発明に係る洗浄
剤を用いることにより、工業製品などの洗浄において、
洗浄作業者の安全性の確保に腐心する必要なく、極めて
効果的な洗浄を行うことを可能とした。
【0048】本願第2の発明の実施によって、特に、体
内に入っても、安全性の高い洗浄剤を提供可能としたも
のであり、また、半導体の研磨装置などの、金属イオン
(特にアルカリ金属)の混入を極端に嫌う、工業製品の
洗浄においても、そのような影響を及ぼすことなく、極
めて高い洗浄能力を奏する洗浄剤を提供し得たものであ
る。
【0049】本願第3の発明の実施によって、本願第1
の発明に係る洗浄剤を得る、好ましい製造方法を提供し
得た。
【0050】本願第4の発明の実施によって、本願第3
の発明を実施する具体的手段を提供し得たものであり、
本願第1の洗浄剤を提供するに適した製造装置を提供可
能としたものである。
【0051】本願第5の発明の実施によって、本願第1
の発明に係る洗浄剤の、効果的な使用方法を、提供可能
としたものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明の一実施の形態に係る製造装置の説明
図である。
【図2】他の実施の形態に係る製造装置の説明図であ
る。
【図3】(A)は又他の実施の形態に係る製造装置の説
明図であり、(B)は更に他の実施の形態に係る製造装
置の説明図である。
【符号の説明】
1 槽 2 陽極 3 陰極 4 電源装置 5 タイマ 6 隔膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C02F 5/00 620 C02F 5/00 620C 620D C11D 7/60 C11D 7/60 11/00 11/00 17/08 17/08 C23G 1/02 C23G 1/02 C25B 1/04 C25B 1/04 H01L 21/304 622 H01L 21/304 622Q (72)発明者 成田 章 神戸市東灘区本庄町2丁目5番12−1104号 スタータック株式会社内 Fターム(参考) 3B201 AA03 AA13 AB51 BB05 BB21 BB88 BB89 BB90 BB92 BB93 BB96 CC21 4D061 DA03 DB07 EA02 EB01 EB04 EB12 EB14 EB37 EB39 EC01 EC02 ED12 GA22 GA23 GC02 4H003 BA12 CA15 DA09 DA15 DC04 EB07 EB08 ED02 FA01 FA03 4K021 AA01 AB25 BA02 BA19 DA09 DB05 DB12 DB18 DB28 DC15 4K053 PA06 QA01 RA07 RA45 RA46 RA47 RA48 SA05 TA15 YA11

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 クエン酸、アスコルビン酸、シュウ酸、
    酢酸、ギ酸、グリコール酸の少なくとも1つを含む電解
    補助剤を加えた水に、電圧を掛けて得た電解水を有する
    ことを特徴とする洗浄剤。
  2. 【請求項2】 純水にクエン酸を加えた後、電圧を掛け
    て得た電解水を有することを特徴とする洗浄剤。
  3. 【請求項3】 水に、クエン酸、アスコルビン酸、シュ
    ウ酸、酢酸、ギ酸、グリコール酸の少なくとも1つを含
    む電解補助剤を添加し、電圧を掛けて電解水を得、少な
    くともこの電解水を成分として含有させることを特徴と
    する洗浄剤の製造方法。
  4. 【請求項4】 水に対して、クエン酸、アスコルビン
    酸、シュウ酸、酢酸、ギ酸、グリコール酸の少なくとも
    1つを含む電解補助剤を添加する添加装置と、電解補助
    剤添加後の水に電解電圧を掛けることが可能な電力供給
    装置とを備えたことを特徴とする洗浄剤の製造装置。
  5. 【請求項5】 被洗浄物に対して、洗浄剤を接触させた
    後、或いは接触させると共に、物理的な力を加えるもの
    であり、 上記の洗浄剤は、水に、クエン酸、アスコルビン酸、シ
    ュウ酸、酢酸、ギ酸、グリコール酸の少なくとも1つを
    含む電解補助剤を添加し電圧を掛けて得た電解水を含む
    ものであることを特徴とする洗浄剤を用いた洗浄方法。
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