JP2002021775A - ターボ分子ポンプ - Google Patents
ターボ分子ポンプInfo
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- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 50
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 51
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 14
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 9
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 9
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 19
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 14
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002470 thermal conductor Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical group [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
的に防止する。 【解決手段】 ロータ6が回転すると、動翼5及び静翼
4とねじ溝ポンプ段9の作用により、ガスは吸気口2か
ら吸引されガス流路を通って排気口3から排気される。
ガス流路のうち下流側には放熱板20が配置されてお
り、この放熱板20には、電気ヒータ14の熱が熱良導
体17を介して供給される。このため、放熱板20によ
りガス流路の下流側を加熱することができ、この部分で
の固化物の付着を防止している。更に、熱伝導部20a
により、放熱板20をスペーサ19に接触させて、下流
側の静翼4bを加熱して、下流側のガス流路を効果的に
加熱している。しかも、断熱スペーサ18a,18bを
介装することにより、ケーシング1を不要に加熱するこ
とを防止している。
Description
列された複数の動翼(回転翼)及び静翼(固定翼)によ
って、吸気口から吸引したガスを排気口へ真空排気する
ターボ分子ポンプに関するものである。特に本発明で
は、ガス分圧が高くなると固化が生じるガスを吸引する
場合であっても、ターボ分子ポンプ内での固化物の付着
を効果的に防止できるように工夫したものである。
面図を示すものである。同図に示すようにケーシング1
(ポンプ本体)には、ガスの吸気口2及び排気口3が設
けられ、その間には、静翼(固定翼)4がスペーサ19
によってその位置が固定されて取り付けられている。
ンプ段9が取付けられ、回転軸7によって回転される。
そして、複数の動翼5と複数の静翼4とが軸方向に交互
に配設されている。
れたステータ8との間には、ロータ6を高速回転させる
ために、上部の磁気軸受10と下部の磁気軸受11と軸
方向軸受としての磁気軸受12とモータ13が設けられ
ている。
は、加熱用電気ヒータ14によって加熱され、熱良導体
17を介して放熱板20へ熱を伝えている。
スペーサ18が介装され、ケーシング1及びステータ8
は、加熱部15,熱良導体17及び放熱板20から熱隔
離されている。また、放熱板20の外周面とケーシング
1の内側のスペーサ19との間の空間には、熱遮蔽板2
1が装設されており、この熱遮蔽板21により、放熱板
20からの放射熱をスペーサ19及びケーシング1側へ
伝えないように遮蔽している。
は、ガスがバイパスしないように、Oリング23により
シールがされている。
が設けられており、この冷却通路22を通過する冷却水
によってケーシング1が冷却され、アルミ合金材料によ
り構成されたロータ6の温度が許容温度以下に抑えられ
るようになっている。
転軸7とを持つロータ6がモータ13により高速回転す
ると、ガスは、ガス吸気口2から動翼5,静翼4及びね
じ溝ポンプ段9のガス流路を経て排気口3の方向へ流れ
て真空排気され、吸気口2が高真空になると共に排気口
3が低真空となる。
の加熱手段により加熱し、加熱部15の熱を熱良導体1
7を経て放熱板20に伝え、同放熱板20を加熱し、ね
じ溝ポンプ段9,回転体及びその周辺部のガス温度を上
げて固化物の付着を防止している。
る。このターボ分子ポンプは、例えば、半導体製造装置
を真空引きする場合に使用されており、この場合には、
塩化アルミガスを吸引することがある。この塩化アルミ
の昇華特性は、図4に示すようになっており、ガス圧が
高くなるにつれて昇華温度も高くなり、グラフ線から下
が固体になる範囲を示している。ターボ分子ポンプで
は、吸気口2側が高真空(分圧が低い)で排気口3側が
低真空(分圧が高い)となるため、排気口3側のねじ溝
ポンプ段9側において分圧が高くなり固化が発生し易
い。このため分圧の高い排気口3側において加熱して、
固化物の付着を防いでいるのである。
プは、ガスを排気する際、ポンプ内部の発熱により、回
転体が高温になるため、回転体材料に使用されているア
ルミ合金材料がクリープや強度低下を起こす原因になっ
ており、この対策としてケーシング(ポンプ本体)1が
冷却水等の冷却手段により冷却されている。
と、ケーシング1内の温度が、排気するガスの昇華温度
以下になり、ガス流路の内部に固化物が付着し、ポンプ
の性能低下や接触による故障等を引き起こすので、ねじ
溝ポンプ段9〜ガス出口周りのガス流路に放熱板20を
設けて電気ヒータ等の加熱手段によって加熱し、ガス温
度を固化温度以上に加熱していたが、加熱温度が十分に
届かない部分の排気口3に近い下流側の静翼4の近傍に
は、固化物が付着してしまう現象が起きていた。
テナンス作業が必要となり、ターボ分子ポンプの操業が
低下するという問題があった。
グ1内の温度が、排気するガスの昇華温度以下になり、
ガス流路の内部に固化物が付着し、ポンプの性能低下や
接触による故障等を引き起こすので、ねじ溝ポンプ段9
〜ガス出口周りのガス流路に放熱板20を設けて外部か
らの電気ヒータ等の加熱手段によって加熱し、ガス温度
を固化温度以上に加熱するためには、電気ヒータの容量
を大きくする必要があった。
ために提案するものであり、放熱板を下流側の静翼また
はスペーサに接触させることで、ガス温度を昇華温度以
上に加熱して固化物の付着を防止し、ケーシング内部の
洗浄等のメンテナンス作業を不要にできるターボ分子ポ
ンプを提供することを目的としている。
するために提案するものであり、放熱板にコイルを埋め
込んだ良熱伝導体を取付け、同コイルに高周波電流を流
すよう構成し、コイル及び良熱伝導体の発熱及び放熱板
自身の損失により直接放熱板を加熱させ、少ない電力で
放熱板をガスの昇華温度以上に加熱できるターボ分子ポ
ンプを提供することを目的としている。
明の構成は、ケーシング内に、軸方向に交互に配列され
た複数の動翼及び複数の静翼と、前記複数の静翼相互を
軸方向に離間しつつ位置固定するため軸方向に並んで配
置されたスペーサと、ガス流路のうち前記動翼及び前記
静翼よりも下流側に位置するガス流路を外部から供給さ
れた熱で加熱する放熱板とを備えたターボ分子ポンプに
おいて、前記放熱板から、前記静翼のうち少なくとも最
下流の静翼に熱を伝導する熱伝導部と、前記熱伝導部よ
りも下流側に配置されており、熱が前記ケーシングに伝
わるのを防止する下流側の断熱スペーサと、前記熱伝導
部よりも上流側に位置しつつ前記スペーサに介装された
上流側の断熱スペーサとを設けたことを特徴とする。
サの位置は、ケーシング内でのガス圧力とガス固化温度
と動翼温度により決定されていることを特徴とする。
方向に交互に配列された複数の動翼及び複数の静翼と、
前記複数の静翼相互を軸方向に離間しつつ位置固定する
ため軸方向に並んで配置されたスペーサと、ガス流路の
うち前記動翼及び前記静翼よりも下流側に位置するガス
流路を外部から供給された熱で加熱する放熱板とを備え
たターボ分子ポンプにおいて、前記放熱板を直接加熱す
る加熱手段を前記ケーシング内に設置したことを特徴と
する。
コイルを用いることを特徴とする。また前記コイルを密
閉したことを特徴とする。更に、前記コイルに高周波電
流を流すことを特徴とする。
に基づき詳細に説明する。なお従来技術と同一部分には
同一符号を付して説明をする。
1の実施の形態にかかるターボ分子ポンプの縦断面図を
示すものである。同図に示すようにケーシング1(ポン
プ本体)には、ガスの吸気口2及び排気口3が設けら
れ、その間には、静翼(固定翼)4がスペーサ19によ
ってその位置が固定されて取り付けられている。
ンプ段9が取付けられ、回転軸7によって回転される。
そして、複数の動翼5と複数の静翼4とが軸方向に交互
に配設されている。結局、吸気口2から排気口3に至る
ガス流路には、交互配置された複数の動翼5及び複数の
静翼4と、ねじ溝ポンプ段9が、ガスの流れ方向に沿い
順に設置されている。
れたステータ8との間には、ロータ6を高速回転させる
ために、上部の磁気軸受10と下部の磁気軸受11と軸
方向軸受としての磁気軸受12とモータ13が設けられ
ている。
は、加熱用電気ヒータ14によって加熱され、熱良導体
17を介して放熱板20へ熱を伝えている。この放熱板
20は、ねじ溝ポンプ段9が位置するガス流路を加熱す
る、即ち、ガス流路のうち動翼5及び静翼4よりも下流
側に位置するガス流路を加熱する。
スペーサ18が介装され、ケーシング1及びステータ8
は、加熱部15,熱良導体17及び放熱板20から熱隔
離されている。また、放熱板20の外周面とケーシング
1の内側のスペーサ19との間の空間には、熱遮蔽板2
1が装設されており、この熱遮蔽板21により、放熱板
20からの放射熱をスペーサ19及びケーシング1側へ
伝えないように遮蔽している。
は、ガスがバイパスしないように、Oリング23により
シールがされている。
が設けられており、この冷却通路22を通過する冷却水
によってケーシング1が冷却され、アルミ合金材料によ
り構成されたロータ6の温度が許容温度以下に抑えられ
るようになっている。
が、本実施の形態では更に、次の様な新規な構成が採用
されている。
4を軸方向に離間しつつ位置固定するため、軸方向に並
んで配置されている。放熱板20は、ねじ溝ポンプ段9
とスペーサ19の間のガス流路、即ち、ガス流路のうち
動翼5及び静翼4よりも下流側に位置するガス流路に装
設されると共に、排気口3に近い下流側の静翼4bに熱
を伝達させるため、熱伝導部20aを介して、複数のス
ペーサ19のうち下流側の静翼4bの下方に位置するス
ペーサ19に面接触している。なお、放熱板20を下流
側の静翼4bに接触させるように構成してもよい。
吸気口2に近い上流側の静翼4aとの間に断熱スペーサ
18aを設け、また、熱伝導部20aを介して放熱板2
0が接触しているスペーサ19と熱伝導部20aの直下
のケーシング1との間にも断熱スペーサ18bを設けて
熱隔離をしている。
ング1内でのガス圧力とガス固化温度と動翼5の温度を
考慮して決定している。具体的には、(1) ガス圧力が高
い場合には、断熱スペーサ18aの位置を、更に上流側
に設定することができ、(2) ガス固化温度が高い場合に
は、断熱スペーサ18aの位置を、更に下流側に設定す
ることができ、(3) 動翼温度が高い場合には、断熱スペ
ーサ18aの位置を、更に下流側に設定することができ
る。
転軸7とを持つロータ6がモータ13により高速回転す
ると、ガスは、ガス吸気口2から動翼5,静翼4及びね
じ溝ポンプ段9のガス流路を経て排気口3の方向へ流れ
て真空排気され、吸気口2が高真空になると共に排気口
3が低真空となる。
の加熱手段により加熱し、加熱部15の熱を熱良導体1
7を経て放熱板20に伝え、同放熱板20を加熱し、ね
じ溝ポンプ段9、回転体及びその周辺部のガス温度を上
げて固化物の付着を防止している。
アルミ合金材からなる回転体等の強度に影響しない範囲
で、ガスの昇華温度より高い温度となるように、加熱部
15を加熱する電気ヒータ14が制御されている。
上流側の静翼4a→スペーサ19→ケーシング1に伝わ
り、ケーシング1の対流で冷却される経路と、ロータ6
→ステータ8→ケーシング1に伝わり、冷却通路22の
冷却水で冷却される経路とで、回転体の温度上昇を許容
温度以下に抑えている。
らのガス圧力は、動翼5,静翼4及びねじ溝ポンプ段9
を経て次第に圧力が高くなり、排気口3から排気され
る。このガス圧力の変化に対応して、ガス圧力が高くな
り昇華温度も高くなる位置へ放熱板20を配置し、ガス
の昇華温度より高くなるように放熱温度が設定されてい
る。
たは下流側のスペーサ19に接触させているので、放熱
板20はねじ溝ポンプ段9及び下流側の静翼4bのガス
流路のガス温度を昇華温度以上に加熱して固化物の付着
を防止することができる。このため、ケーシング1内部
の洗浄等のメンテナンス作業を不要にでき、連続運転が
可能となる。
タ温度を冷却するための伝熱経路となる上流側の静翼4
aの間に断熱スペーサ18aを入れているのでロータの
全体温度を上昇させることなく昇華温度の高い下流側の
ガス流路のみを昇温することが可能となった。これによ
り回転体のクリープや強度低下することなくプロセスガ
スの固化付着を防止することができる。
板20によってガス流路の温度を上昇させて、アルミ合
金材料からなる回転体等の強度に影響しない温度範囲
で、かつ、ガスの昇華温度より高くしたので、ガス流路
への固化物の付着が防止される効果がある。なお第1の
実施の形態ではねじ溝ポンプ段のあるターボ分子ポンプ
を説明したが、本発明は、ねじ溝ポンプ段のないターボ
分子ポンプにも適用することができる。
2の実施の形態にかかるターボ分子ポンプの縦断面図を
示すものである。同図に示すようにケーシング1(ポン
プ本体)には、ガスの吸気口2及び排気口3が設けら
れ、その間には、静翼(固定翼)4がスペーサ19によ
ってその位置が固定されて取り付けられている。
ンプ段9が取付けられ、回転軸7によって回転される。
そして、複数の動翼5と複数の静翼4とが軸方向に交互
に配設されている。結局、吸気口2から排気口3に至る
ガス流路には、交互配置された複数の動翼5及び複数の
静翼4と、ねじ溝ポンプ段9が、ガスの流れ方向に沿い
順に設置されている。
れたステータ8との間には、ロータ6を高速回転させる
ために、上部の磁気軸受10と下部の磁気軸受11と軸
方向軸受としての磁気軸受12とモータ13が設けられ
ている。
は、加熱用電気ヒータ14によって加熱され、熱良導体
17を介して放熱板20へ熱を伝えている。この放熱板
20は、ねじ溝ポンプ段9が位置するガス流路を加熱す
る、即ち、ガス流路のうち動翼5及び静翼4よりも下流
側に位置するガス流路を加熱する。
スペーサ18が介装され、ケーシング1及びステータ8
は、加熱部15,熱良導体17及び放熱板20から熱隔
離されている。また、放熱板20の外周面とケーシング
1の内側のスペーサ19との間の空間には、熱遮蔽板2
1が装設されており、この熱遮蔽板21により、放熱板
20からの放射熱をスペーサ19及びケーシング1側へ
伝えないように遮蔽している。
は、ガスがバイパスしないように、Oリング23により
シールがされている。
が設けられており、この冷却通路22を通過する冷却水
によってケーシング1が冷却され、アルミ合金材料によ
り構成されたロータ6の温度が許容温度以下に抑えられ
るようになっている。
が、本実施の形態では更に、次の様な新規な構成が採用
されている。
体24が取付けられている。この良熱伝導体24の端面
(上端面)には、コイル25を埋め込むためのドーナツ
状の溝が形成されており、同溝にコイル25が埋め込ま
れている。また、同溝はコイルを埋め込んだ状態で腐食
性ガスの侵入を防ぐため耐蝕性,絶縁性および気密性に
優れた材料であるエポキシ系樹脂等でモールドされて密
閉されている。
周波電流を供給するものであり、ポンプ内部の真空を維
持できるよう気密性のすぐれたものを使用している。こ
のコネクタ26のピンにはコイル25につながるリード
線が接続されると共に、外部に配置したインバータ等の
高周波電源27が接続されている。このため、高周波電
源27から出力された高周波電流が、コネクタ26を介
してコイル25に供給されるようになっている。
転軸7とを持つロータ6がモータ13により高速回転す
ると、ガスは、ガス吸気口2から動翼5,静翼4及びね
じ溝ポンプ段9のガス流路を経て排気口3の方向へ流れ
て真空排気され、吸気口2が高真空になると共に排気口
3が低真空となる。
20に取付けられた良熱伝導体24に埋め込まれたコイ
ル25に、インバータ等の高周波電源27で高周波電流
を流すことにより、コイル25に発生する銅損、及び、
良熱伝導帯24で発生する鉄損により良熱伝導体24が
加熱され、良熱伝導体24に直結している放熱板20に
熱を伝え、同放熱板20を加熱する。このようにして加
熱された放熱板20はガス流路を加熱するため、ねじ溝
ポンプ段9、下流側静翼4b、回転体及びその周辺部へ
の固化物の付着を防止する。なお前述した「銅損」は、
コイル25のコイル巻数,高周波電流値及び高周波電流
の周波数に比例し、前述した「鉄損」は、コイル25の
巻数,高周波電流値に比例し及び高周波電流の周波数の
約2乗に比例する。
材からなる回転体等の強度に影響しない範囲で、ガスの
昇華温度より高い温度となるように、高周波電流値又は
周波数が制御されている。なお高周波電源27は、電流
値が2〜3Aで、周波数が2000〜3000Hzの高
周波電流をコイル25に供給する
るために、排気口3のポンプ外部に設けられた加熱部1
5を電気ヒータ14により加熱し、加熱部15の熱をポ
ンプ内部の熱良導体17を経て良熱伝導体24に伝え、
放熱板20を加熱する構造も併用することができる。図
2は本機構を併用した事例を示す。
転体等の強度に影響しない範囲で、ガスの昇華温度より
高い温度となるように、加熱部15を加熱する電気ヒー
タ14が制御されている。
らのガス圧力は、動翼5,静翼4及びねじ溝ポンプ段9
を経て次第に圧力が高くなり、排気口3から排気され
る。このガス圧力の変化に対応して、ガス圧力が高くな
り昇華温度も高くなる位置へ放熱板20を配置し、ガス
の昇華温度より高くなるように放熱温度が設定されてい
る。
放熱板20を直接加熱する方法としたので、従来のケー
シング1による伝熱損失を削除でき、低電力で目標温度
に昇温することが可能となった。つまり、ケーシング1
全体を加熱することなく、放熱板20をうず電流により
直接加熱するため、ガス流路のうち固化が生じやすい部
分のみをねらって効果的な加熱ができるのである。ま
た、コイル25に通電する高周波電流の周波数を高くす
れば更に小型化できる。
構造としたので加熱機構を簡素化でき、低電力化できる
ことでも加熱部の小型化に寄与できた。
板20によってガス流路の温度を上昇させて、アルミ合
金材料からなる回転体等の強度に影響しない温度範囲
で、かつ、低電力、小型、簡素機構でガス流路への固化
物の付着が防止される効果がある。なお第2の実施の形
態ではねじ溝ポンプ段のあるターボ分子ポンプを説明し
たが、本発明は、ねじ溝ポンプ段のないターボ分子ポン
プにも適用することができる。
ように本発明では、ケーシング内に、軸方向に交互に配
列された複数の動翼及び複数の静翼と、前記複数の静翼
相互を軸方向に離間しつつ位置固定するため軸方向に並
んで配置されたスペーサと、ガス流路のうち前記動翼及
び前記静翼よりも下流側に位置するガス流路を外部から
供給された熱で加熱する放熱板とを備えたターボ分子ポ
ンプにおいて、前記放熱板から、前記静翼のうち少なく
とも最下流の静翼に熱を伝導する熱伝導部と、前記熱伝
導部よりも下流側に配置されており、熱が前記ケーシン
グに伝わるのを防止する下流側の断熱スペーサと、前記
熱伝導部よりも上流側に位置しつつ前記スペーサに介装
された上流側の断熱スペーサとを設けた構成とした。ま
た本発明では、上流側の断熱スペーサの位置は、ケーシ
ング内でのガス圧力とガス固化温度と動翼温度により決
定されている構成とした。
溝ポンプ段及び下流側静翼のガス流路のガス温度を昇華
温度以上に加熱して固化物の付着を防止しケーシング内
部の洗浄等のメンテナンス作業を不要にでき、連続運転
が可能となるので、ターボ分子ポンプの操業度を一段と
高める効果を奏したものであり産業上極めて有益なもの
である。さらに、加熱したい下流側静翼とロータ温度を
冷却するための伝熱経路となる上流側静翼の間に断熱ス
ペーサを入れているのでロータの全体温度を上昇させる
ことなく昇華温度の高い下流側のガス流路のみを昇温す
ることが可能となった。これにより回転体のクリープや
強度低下することなくプロセスガスの固化付着を防止す
ることができる。
に交互に配列された複数の動翼及び複数の静翼と、前記
複数の静翼相互を軸方向に離間しつつ位置固定するため
軸方向に並んで配置されたスペーサと、ガス流路のうち
前記動翼及び前記静翼よりも下流側に位置するガス流路
を外部から供給された熱で加熱する放熱板とを備えたタ
ーボ分子ポンプにおいて、前記放熱板を直接加熱する加
熱手段を前記ケーシング内に設置した構成とした。また
本発明では、前記加熱手段としてコイルを用いたり、前
記コイルを密閉したり、前記コイルに高周波電流を流す
構成とした。
溝ポンプ段及び下流側静翼のガス流路のガス温度を昇華
温度以上に加熱して固化物の付着を防止しケーシング内
部の洗浄等のメンテナンス作業を不要にでき、連続運転
が可能となるので、ターボ分子ポンプの操業度を一段と
高める効果を奏したものであり産業上極めて有益なもの
である。更に、内部で放熱板を直接昇温させる構造とし
たので加熱機構を簡素化でき、低電力化できることでも
加熱部の小型化に寄与できることが可能となった。
ポンプを示す縦断面図。
ポンプを示す縦断面図。
関係を示すグラフ。
Claims (6)
- 【請求項1】 ケーシング内に、軸方向に交互に配列さ
れた複数の動翼及び複数の静翼と、前記複数の静翼相互
を軸方向に離間しつつ位置固定するため軸方向に並んで
配置されたスペーサと、ガス流路のうち前記動翼及び前
記静翼よりも下流側に位置するガス流路を外部から供給
された熱で加熱する放熱板とを備えたターボ分子ポンプ
において、 前記放熱板から、前記静翼のうち少なくとも最下流の静
翼に熱を伝導する熱伝導部と、 前記熱伝導部よりも下流側に配置されており、熱が前記
ケーシングに伝わるのを防止する下流側の断熱スペーサ
と、 前記熱伝導部よりも上流側に位置しつつ前記スペーサに
介装された上流側の断熱スペーサとを設けたことを特徴
とするターボ分子ポンプ。 - 【請求項2】 上流側の断熱スペーサの位置は、ケー
シング内でのガス圧力とガス固化温度と動翼温度により
決定されていることを特徴とする請求項1のターボ分子
ポンプ。 - 【請求項3】 ケーシング内に、軸方向に交互に配列さ
れた複数の動翼及び複数の静翼と、前記複数の静翼相互
を軸方向に離間しつつ位置固定するため軸方向に並んで
配置されたスペーサと、ガス流路のうち前記動翼及び前
記静翼よりも下流側に位置するガス流路を外部から供給
された熱で加熱する放熱板とを備えたターボ分子ポンプ
において、 前記放熱板を直接加熱する加熱手段を前記ケーシング内
に設置したことを特徴とするターボ分子ポンプ。 - 【請求項4】 前記加熱手段としてコイルを用いること
を特徴とする請求項3のターボ分子ポンプ。 - 【請求項5】 前記コイルを密閉したことを特徴とする
請求項4のターボ分子ポンプ。 - 【請求項6】 前記コイルに高周波電流を流すことを特
徴とする請求項4または請求項5のターボ分子ポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000200695A JP3912964B2 (ja) | 2000-07-03 | 2000-07-03 | ターボ分子ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000200695A JP3912964B2 (ja) | 2000-07-03 | 2000-07-03 | ターボ分子ポンプ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002021775A true JP2002021775A (ja) | 2002-01-23 |
| JP3912964B2 JP3912964B2 (ja) | 2007-05-09 |
Family
ID=18698525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000200695A Expired - Lifetime JP3912964B2 (ja) | 2000-07-03 | 2000-07-03 | ターボ分子ポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3912964B2 (ja) |
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Legal Events
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| A977 | Report on retrieval |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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