JP2002006399A - 反射スクリーンおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 広視野角で、鮮明な画像が得られ、ハレーシ
ョンが少なく、さらにはマーカーなどによる描書および
消去が可能な反射スクリーンおよびその製造方法の提
供。 【解決手段】 金属基材の外表面に、酸化チタン被覆粒
子と白色釉薬を含有する表面琺瑯層を有し、好ましくは
表面粗さ：Raが2.5 μm 以上、もしくは、Raが1.5 μm
以上、2.5 μm 未満、光沢度：Gs（45°）が15〜25％で
ある反射スクリーン、および、冷延鋼板もしくはアルミ
ニウムめっき鋼板、Zn−Al合金めっき鋼板の外表面に、
(1) 酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色釉薬を
含有する琺瑯上釉薬、または(2) 酸化チタン被覆粒子で
構成され、平均粒径が異なる少なくとも２種類の粉末
と、白色釉薬と、好ましくはさらに透明釉薬とを含有す
る琺瑯上釉薬を塗布し、700 〜850 ℃もしくは400 〜60
0 ℃で焼成する反射スクリーンの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶プロジェクタ
ー、３管式プロジェクター、ＯＨＰ、スライドなどを用
いて文字、画像、映像などを投影するための反射スクリ
ーンおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、文字、画像、映像などを投影する
ための反射スクリーンは、反射面の特性によって、入射
光に対して図４に示す反射特性を有している。なお、図
４において、１は入射光、２は反射光、３は反射スクリ
ーン、４はビーズを示す。

【０００３】すなわち、反射スクリーンの反射特性は、
下記(1) 〜(3) に大別される。 (1) ：拡散反射型（完全拡散に近い反射） 〔図４(a)
〕 (2) ：回帰反射型（入射と同一方向に反射）〔図４(b)
〕 (3) ：正反射型（入射方向に対し正反射） 〔図４(c)
〕 上記した反射スクリーンは、基材として布、塩化ビニル
などを用い、表面に凹凸を付与するかビーズ４を配置し
反射角を調整しているが、下記の問題点を有している。

【０００４】(1) ：拡散反射型スクリーン〔図４(a) 〕
は視野角が広い特徴を有するが、全視野角において反射
輝度が低く、画像のシャープさ（解像度）に欠ける。 (2) ：回帰反射型スクリーン〔図４(b) 〕は、画像はシ
ャープであるが、視野角が狭く、ハレーションが起こり
易く、またビーズの脱落などによって取扱いに注意が必
要となる。

【０００５】(3) ：反射型スクリーン〔図４(c) 〕は、
ハレーションが起こり易い。 (4) ：いずれの型の反射スクリーンも、基材として布、
塩化ビニルなどを用いており、下記〜の問題を有し
ている。 表面硬度が小さく傷がつきやすい。 インクが浸透するため、ホワイトボード用マーカーな
どマーカーを使用する描書および消去ができない。

【０００６】しわが生じ易く、製造時の施工の際、ス
プリングなどを用いてテンションをかけることによって
しわを伸ばす必要があり、施工に工数を要する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した従
来技術の問題点を解決し、広視野角で、鮮明な画像が得
られ、ハレーションが少なく、さらにはマーカーなどに
よる描書および消去が可能で、取扱いが容易で、施工性
に優れた反射スクリーンおよびその製造方法を提供する
ことを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】第１の発明は、金属基材
の外表面に、酸化チタン被覆粒子と白色釉薬を含有する
表面琺瑯層を有することを特徴とする反射スクリーンで
ある。前記した第１の発明においては、前記表面琺瑯層
の表面粗さ：Ra（算術平均粗さ）が、好ましくは2.5 μ
m 以上、より好ましくは2.5 μm 以上、10μm 以下、さ
らには2.7 μm 以上、10μm 以下であることがより好ま
しい（第１の発明の第１の好適態様）。

【０００９】また、前記した第１の発明においては、前
記表面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術平均粗さ）が好まし
くは1.5 μm 以上、2.5 μm 未満、より好ましくは1.7
μm以上、2.0 μm 以下、さらに好ましくは1.70μm 以
上、1.95μm 以下、最も好ましくは1.70μm 以上、1.90
μm 以下で、かつ、光沢度：Gs（45°）が15〜25％であ
ることが好ましい（第１の発明の第２の好適態様）。

【００１０】なお、前記した第１の発明の第２の好適態
様においては、前記表面琺瑯層が、さらに透明釉薬を含
有することがより好ましい（第１の発明の第３の好適態
様）。また、前記した第１の発明、第１の発明の第１の
好適態様〜第３の好適態様においては、前記酸化チタン
被覆粒子の粒径が好ましくは100 μm 以下、さらには80
μm 以下であることがより好ましい（第１の発明の第４
の好適態様〜第７の好適態様）。

【００１１】また、前記した第１の発明、第１の発明の
第１の好適態様〜第７の好適態様においては、前記酸化
チタン被覆粒子が、雲母粒子の表面に酸化チタンを被覆
した粒子であることが好ましい（第１の発明の第８の好
適態様〜第15の好適態様）。また、前記した第１の発明
の第８の好適態様〜第15の好適態様においては、前記雲
母粒子が薄板状雲母粒子であることが好ましい（第１の
発明の第16の好適態様〜第23の好適態様）。

【００１２】また、前記した第１の発明、第１の発明の
第１の好適態様〜第23の好適態様においては、表面琺瑯
層の酸化チタン被覆粒子の含有量が、５〜40質量百分率
（以下、質量百分率を％と記す）で、前記した白色釉薬
が、酸化チタン含有釉薬で、表面琺瑯層の酸化チタンの
合計含有量が、TiO₂として10〜50％、より好ましくはTi
O₂として15〜40％であることが好ましい。

【００１３】また、前記した第１の発明、第１の発明の
第１の好適態様〜第23の好適態様においては、前記した
表面琺瑯層の白色釉薬としては、好ましくは酸化チタン
などの白色顔料であってもよい。また、前記した第１の
発明、第１の発明の第１の好適態様〜第23の好適態様に
おいては、前記した金属基材が、冷延鋼板またはアルミ
ニウムめっき鋼板またはZn−Al合金めっき鋼板であるこ
とが好ましく、金属基材として冷延鋼板を用いる場合
は、低炭素鋼板である冷延鋼板またはステンレス鋼板で
ある冷延鋼板を用いることが好ましく、さらにはニッケ
ルめっきを施した冷延鋼板を用いることがより好まし
い。

【００１４】第２の発明は、冷延鋼板の表面に琺瑯下釉
薬を塗布した後、焼成し、得られた下地琺瑯層の表面
に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色釉薬を
含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後700 〜850 ℃、よ
り好ましくは730 〜810 ℃で焼成することを特徴とする
反射スクリーンの製造方法である。第３の発明は、アル
ミニウムめっき鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板の表
面に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色釉薬
を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後400 〜600 ℃で
焼成することを特徴とする反射スクリーンの製造方法で
ある。

【００１５】前記した第２の発明、第３の発明において
は、前記した琺瑯上釉薬が、白色釉薬を含有する琺瑯用
フリットと水との混合物の粉砕で得られた泥状物に、酸
化チタン被覆粒子で構成される粉末を添加、混合して得
られた琺瑯上釉薬であることが好ましい（第２の発明の
第１の好適態様、第３の発明の第１の好適態様）。第４
の発明は、冷延鋼板の表面に琺瑯下釉薬を塗布した後、
焼成し、得られた下地琺瑯層の表面に、いずれもが酸化
チタン被覆粒子で構成され、それぞれの平均粒径が異な
る少なくとも２種類の粉末と、白色釉薬と、より好まし
くはさらに透明釉薬とを含有する琺瑯上釉薬を塗布し、
その後700 〜850 ℃、より好ましくは730 〜810 ℃で焼
成することを特徴とする反射スクリーンの製造方法であ
る。

【００１６】第５の発明は、アルミニウムめっき鋼板も
しくはZn−Al合金めっき鋼板の表面に、いずれもが酸化
チタン被覆粒子で構成され、それぞれの平均粒径が異な
る少なくとも２種類の粉末と、白色釉薬と、より好まし
くはさらに透明釉薬とを含有する琺瑯上釉薬を塗布し、
その後400 〜600 ℃で焼成することを特徴とする反射ス
クリーンの製造方法である。

【００１７】前記した第４の発明、第５の発明において
は、前記琺瑯上釉薬が、白色釉薬、より好ましくはさら
に透明釉薬を含有する琺瑯用フリットと、水との混合物
の粉砕で得られた泥状物に、いずれもが酸化チタン被覆
粒子で構成され、それぞれの平均粒径が異なる少なくと
も２種類の粉末を添加、混合して得られた琺瑯上釉薬で
あることが好ましい（第４の発明の第１の好適態様、第
５の発明の第１の好適態様）。

【００１８】また、前記した第２の発明、第２の発明の
第１の好適態様、第３の発明、第３の発明の第１の好適
態様、第４の発明、第４の発明の第１の好適態様、第５
の発明、第５の発明の第１の好適態様においては、前記
した酸化チタン被覆粒子の粒径が好ましくは100 μm 以
下、さらには80μm 以下であることがより好ましい（第
２の発明の第２の好適態様、第３の好適態様、第３の発
明の第２の好適態様、第３の好適態様、第４の発明の第
２の好適態様、第３の好適態様、第５の発明の第２の好
適態様、第３の好適態様）。

【００１９】また、前記した第２の発明、第２の発明の
第１の好適態様〜第３の好適態様、第３の発明、第３の
発明の第１の好適態様〜第３の好適態様、第４の発明、
第４の発明の第１の好適態様〜第３の好適態様、第５の
発明、第５の発明の第１の好適態様〜第３の好適態様に
おいては、前記した酸化チタン被覆粒子が、雲母粒子の
表面に酸化チタンを被覆した粒子であることが好ましい
（第２の発明の第４の好適態様〜第７の好適態様、第３
の発明の第４の好適態様〜第７の好適態様、第４の発明
の第４の好適態様〜第７の好適態様、第５の発明の第４
の好適態様〜第７の好適態様）。

【００２０】また、前記した第２の発明の第４の好適態
様〜第７の好適態様、第３の発明の第４の好適態様〜第
７の好適態様、第４の発明の第４の好適態様〜第７の好
適態様、第５の発明の第４の好適態様〜第７の好適態様
においては、前記雲母粒子が薄板状雲母粒子であること
が好ましい（第２の発明の第８の好適態様〜第11の好適
態様、第３の発明の第８の好適態様〜第11の好適態様、
第４の発明の第８の好適態様〜第11の好適態様、第５の
発明の第８の好適態様〜第11の好適態様）。

【００２１】また、前記した第２の発明〜第５の発明お
よび第２の発明〜第５の発明それぞれの第１の好適態様
〜第11の好適態様においては、前記した白色釉薬を含有
する琺瑯上釉薬が、好ましくは酸化チタンなどの白色顔
料を含有する琺瑯上釉薬であってもよい。また、前記し
た第２の発明の第１の好適態様、第３の発明の第１の好
適態様においては、前記した白色釉薬を含有する琺瑯用
フリットと水との混合物が、好ましくは酸化チタンなど
の白色顔料と琺瑯用フリットと水との混合物であっても
よい。

【００２２】さらに、前記した第４の発明の第１の好適
態様、第５の発明の第１の好適態様においては、前記し
た白色釉薬、より好ましくはさらに透明釉薬を含有する
琺瑯用フリットと、水との混合物が、好ましくは酸化チ
タンなどの白色顔料と、好ましくは透明釉薬を含有する
琺瑯用フリットと、水との混合物であってもよい。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明者らは、前記した課題を解決するために鋭
意検討した結果、下記知見を見出し、本発明に至った。 (1) 鮮映性機能向上型反射スクリーン（第１の発明）：
反射スクリーンの表面皮膜として、酸化チタン被覆粒子
と白色釉薬を含有する琺瑯層（以下、反射スクリーンの
表面皮膜としての琺瑯層を表面琺瑯層と記す）を形成す
ることによって、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反
射輝度および広い視野角を有し、しかもハレーションの
少ない鮮映性機能向上型反射スクリーンを得ることがで
きる。

【００２４】(2) 鮮映性・拡散反射性機能向上型反射ス
クリーン（第１の発明の第１の好適態様）：反射スクリ
ーンの表面皮膜として、酸化チタン被覆粒子と白色釉薬
を含有する琺瑯層（：表面琺瑯層）を形成すると共に、
該表面琺瑯層の表面に所定の表面粗さを付与することに
よって、拡散反射と正反射を高度に融合させ、さらに広
い視野角を有し、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反
射輝度を有し、しかもハレーションがほとんど見られな
い鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリーンを得る
ことができる。

【００２５】(3) 鮮映性・消去性機能向上型反射スクリ
ーン（第１の発明の第２の好適態様）：反射スクリーン
の表面皮膜として、酸化チタン被覆粒子と、白色釉薬
と、より好ましくはさらに透明釉薬とを含有する琺瑯層
（：表面琺瑯層）を形成すると共に、該表面琺瑯層の表
面粗さおよび光沢度の両者が特定範囲内となるように規
制することによって、マーカーなどによる描書の消去性
機能が向上すると共に、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十
分な反射輝度および広い視野角を有し、しかもハレーシ
ョンの少ない鮮映性・消去性機能向上型反射スクリーン
を得ることができる。

【００２６】(4) 鮮映性機能向上型反射スクリーン、鮮
映性・拡散反射性機能向上型反射スクリーンの製造方法
（第２の発明、第３の発明）：前記した表面琺瑯層形成
時に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色釉薬
を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後、金属基材が冷
延鋼板の場合は、700〜850 ℃、より好ましくは730 〜8
10 ℃で焼成し（第２の発明）、金属基材がアルミニウ
ムめっき鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板の場合は、
400 〜600 ℃で焼成する（第３の発明）。

【００２７】上記した製造方法によれば、琺瑯上釉薬塗
布層を上記温度範囲内で焼成することによって、従来の
スクリーンにはない表面硬度（モース硬度≧４）が得ら
れ、マーカーなどによる描写（書き込み）、マーカー専
用イレーザーなどによる消去が可能で、耐傷付き性、耐
衝撃性、防汚染性、洗浄回復性に優れた鮮映性機能向上
型反射スクリーン、鮮映性・拡散反射性機能向上型反射
スクリーンを得ることができる。

【００２８】上記した第２の発明、第３の発明において
は、上記した琺瑯上釉薬として、琺瑯用フリットと水と
の混合物の粉砕で得られた泥状物（以下、スリップとも
記す）に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末を添
加、混合して得られた琺瑯上釉薬を用いることによっ
て、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度を有す
る反射スクリーンを得ることができる（第２の発明の第
１の好適態様、第３の発明の第１の好適態様）。

【００２９】(5) 鮮映性・消去性機能向上型反射スクリ
ーンの製造方法（第４の発明、第５の発明）：前記した
表面琺瑯層形成に際して、いずれもが酸化チタン被覆粒
子で構成され、それぞれの平均粒径が異なる少なくとも
２種類の粉末と、白色釉薬と、より好ましくはさらに透
明釉薬とを含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後、金属
基材が冷延鋼板の場合は、700 〜850 ℃、より好ましく
は730 〜810 ℃で焼成し（第４の発明）、金属基材がア
ルミニウムめっき鋼板もしくはZn−Alめっき鋼板の場合
は、400 〜600 ℃で焼成する（第５の発明）。

【００３０】上記した製造方法によれば、スクリーン表
面の凹凸および光沢度の両者が特定範囲内に規制され、
マーカーなどによる描書の消去性機能が向上し、さらに
は、凹凸の規制に伴う相反する作用である鮮映性の低下
および視野角の低下を防止することができ、鮮映性に優
れ画像が鮮明で、十分な反射輝度および広い視野角を有
し、しかもハレーションの少ない鮮映性・消去性機能向
上型反射スクリーンを得ることができる。

【００３１】上記した第４の発明、第５の発明において
は、上記した琺瑯上釉薬として、琺瑯用フリットと水と
の混合物の粉砕で得られた泥状物（：スリップ）に、酸
化チタン被覆粒子で構成される平均粒径の異なる少なく
とも２種類の粉末を添加、混合して得られた琺瑯上釉薬
を用いることによって、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十
分な反射輝度を有する反射スクリーンを得ることができ
る（第４の発明の第１の好適態様、第５の発明の第１の
好適態様）。

【００３２】以下、本発明を、I.金属基材、II. 第１の
発明（反射スクリーン）、III.第２の発明〜第５の発明
（反射スクリーンの製造方法）の順に説明する。なお、
以下、本発明に係わる釉薬、酸化チタン被覆粒子で構成
される粉末などの原料、琺瑯層などにおける各元素の好
適含有量は、それぞれの元素の後記する酸化物換算の含
有量として示す。

【００３３】I.金属基材：本発明における金属基材とし
ては、特に制限を受けるものではないが、冷延鋼板が好
ましく、冷延鋼板としては低炭素鋼板、ステンレス鋼板
が好ましい。また、冷延鋼板としては、該鋼板と釉薬と
の密着性向上のために、ニッケルめっきを施した冷延鋼
板を用いることが好ましく、さらには、低炭素鋼板もし
くはステンレス鋼板にニッケルめっきを施した冷延鋼板
を用いることがより好ましい。

【００３４】なお、上記した低炭素鋼板としては、炭素
含有率が200mass-ppm 以下、より好ましくは炭素含有率
が100mass-ppm 以下、さらに好ましくは炭素含有率が50
mass-ppm以下の極低炭素鋼板を用いることが好ましい。
また、上記したニッケルめっきとしては、無電解ニッケ
ルめっき（ニッケルフラッシュめっき）が好ましい。

【００３５】また、無電解ニッケルめっきとしては、硫
酸ニッケル溶液などニッケル含有溶液に鋼板を浸漬する
浸漬法などを用いることができる。また、本発明におけ
る金属基材としては、アルミニウムめっき鋼板、Zn−Al
合金めっき鋼板を用いることも好ましい。なお、上記し
たZn−Al合金めっき鋼板としては、Zn−Al合金めっき層
中のアルミニウム含有率が４〜70質量百分率（％）で、
該Zn−Al合金めっき層中に残部として亜鉛および不可避
的不純物、あるいはさらにめっき皮膜の特性を向上させ
るための添加物質を含有するZn−Al合金めっき鋼板であ
ることが好ましい。

【００３６】II. 第１の発明（反射スクリーン）：第１
の発明は、金属基材の外表面に、酸化チタン被覆粒子と
白色釉薬を含有する表面琺瑯層を有する反射スクリーン
である。本発明によれば、反射スクリーンの表面皮膜と
して、酸化チタン被覆粒子と白色釉薬を含有する琺瑯層
（：表面琺瑯層）を形成することによって、鮮映性に優
れ画像が鮮明で、十分な反射輝度および広い視野角を有
し、しかもハレーションの少ない鮮映性機能向上型反射
スクリーンを得ることができる。

【００３７】これは、反射スクリーンの表面皮膜に酸化
チタン被覆粒子を含有せしめることによって、鮮映性が
向上すると共に、表面琺瑯層の表面に凹凸が形成され、
拡散反射性が向上し、ハレーションが抑制されるためで
ある。本発明においては、表面琺瑯層の酸化チタン被覆
粒子の含有量は、５〜40質量百分率（％）であることが
好ましく、さらには10〜40％であることがより好まし
い。

【００３８】表面琺瑯層の酸化チタン被覆粒子の含有量
が５％未満の場合は、鮮映性、拡散反射性向上効果が少
ない。これに対して、酸化チタン被覆粒子の含有量が５
％以上の場合、鮮映性が向上すると共に、表面の凹凸が
増し、拡散反射性が向上し、視野角に優れた反射スクリ
ーンを得ることができる。

【００３９】逆に、表面琺瑯層の酸化チタン被覆粒子の
含有量が40％を超える場合、表面粗さ：Raが過剰に大き
くなり、画像が不鮮明となる。なお、本発明において
は、前記した表面琺瑯層の白色釉薬としては、好ましく
は酸化チタンなどの白色顔料であってもよい。また、本
発明においては、前記した白色釉薬が、酸化チタン含有
釉薬であることが好ましく、さらには、表面琺瑯層の酸
化チタン含有量（：酸化チタン被覆粒子の酸化チタンを
含めた酸化チタンの合計含有量）が、TiO₂として10〜50
％、より好ましくはTiO₂として15〜40％であることが好
ましい。

【００４０】これは、表面琺瑯層の酸化チタン含有
量（：酸化チタン被覆粒子の酸化チタンを含めた酸化チ
タンの合計含有量、以下、酸化チタンの合計含有量とも
記す）をTiO₂として10％以上と規定することによって、
下地表面が隠蔽されると共に、表層が白色化され画像の
色調再現性に優れた反射スクリーンを得ることができ、
逆に、表面琺瑯層の酸化チタンの合計含有量がTiO₂とし
て50％を超える場合は、琺瑯層の密着性が低下するため
である。

【００４１】また、本発明においては、酸化チタン被覆
粒子の粒径が100 μm 以下であることが好ましく、さら
には80μm 以下であることがより好ましい。これは、酸
化チタン被覆粒子の粒径が100 μm を超える場合、前記
と同様に、表面琺瑯層の表面粗さ：Raが過剰に大きくな
り、画像が不鮮明となるためである。

【００４２】また、本発明においては、酸化チタン被覆
粒子の粒径が５μm 以上、80μm 以下であることがさら
に好ましい。これは、粒径の下限を規制することによっ
て、拡散反射性がさらに向上するためである。また、本
発明においては、酸化チタン被覆粒子が、雲母粒子の表
面に酸化チタンを被覆した粒子であることが好ましく、
さらに上記雲母粒子が薄板状雲母粒子であることがより
好ましい。

【００４３】これは、雲母粒子が無色であり酸化チタン
被覆雲母粒子の光の反射能が優れ、さらに雲母粒子とし
て薄板状雲母粒子を用いることによって、琺瑯層の光の
反射輝度が大きくなるためである。また、本第１の発明
においては、前記表面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術平均
粗さ、JIS B 0601-1994 ）が好ましくは2.5 μm 以上、
より好ましくは2.5 μm 以上、10μm 以下、さらには2.
7 μm 以上、10μm 以下であることがより好ましい（第
１の発明の第１の好適態様）。

【００４４】これは、表面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術
平均粗さ）を上記範囲とすることによって、拡散反射と
正反射を高度に融合させ、さらに広い視野角を有し鮮映
性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度を有し、しかも
ハレーションがほとんど見られない鮮映性・拡散反射性
機能向上型反射スクリーンを得ることができるためであ
る。

【００４５】表面琺瑯層の表面粗さ：Raが2.5 μm 未満
の場合は、拡散反射性が低下し、表面粗さ：Raが10μm
を超える場合は、鮮明な画像が得られない。なお、上記
した表面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術平均粗さ）は、琺
瑯層の酸化チタン被覆粒子の含有量、焼成温度を本発明
における好適範囲内で調整することによって制御でき
る。

【００４６】また、本第１の発明においては、表面琺瑯
層の表面粗さ：Ra（算術平均粗さ）が好ましくは1.5 μ
m 以上、2.5 μm 未満、より好ましくは1.7 μm 以上、
2.0μm 以下、さらに好ましくは1.70μm 以上、1.95μm
以下、最も好ましくは1.70μm 以上、1.90μm 以下
で、かつ、光沢度：Gs（45°）（JIS Z 8741-1983 ）が
15〜25％であることが好ましい（第１の発明の第２の好
適態様）。

【００４７】これは、表面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術
平均粗さ）および光沢度：Gs（45°）の両者を上記範囲
内に規制することによって、マーカーなどによる描書の
消去性機能が向上すると共に、鮮映性に優れ画像が鮮明
で、十分な反射輝度および広い視野角を有し、しかもハ
レーションの少ない鮮映性・消去性機能向上型反射スク
リーンを得ることができるためである。

【００４８】表面琺瑯層の表面粗さ：Raが1.5 μm 未満
の場合は、拡散反射性が低下し、表面粗さ：Raが2.5 μ
m 以上の場合は、消去性機能が低下する。また、光沢
度：Gs（45°）が15％未満の場合、消去性機能が低下
し、光沢度：Gs（45°）が25％を超える場合、ハレーシ
ョンが増加する。なお、上記した表面琺瑯層の表面粗
さ：Ra（算術平均粗さ）および光沢度：Gs（45°）は、
琺瑯層の酸化チタン被覆粒子の含有量、酸化チタン被覆
粒子の粒径分布および焼成温度を本発明における好適範
囲内で調整することによって制御することができる。

【００４９】また、上記した第１の発明の第２の好適態
様においては、表面琺瑯層が、白色釉薬に加えてさらに
透明釉薬を含有することがより好ましい。これは、表面
琺瑯層が透明釉薬を含有することによって、表面琺瑯層
内部に埋没した酸化チタン被覆粒子の鮮映性、拡散反射
性向上作用が発揮され、鮮映性に優れ、視野角が広く、
ハレーションの少ない反射スクリーンを得ることができ
るためである。

【００５０】なお、上記した第１の発明の第２の好適態
様における白色釉薬および透明釉薬を含有する表面琺瑯
層としては、前記したように酸化チタンの合計含有量
が、TiO₂として10〜50％、より好ましくはTiO₂として15
〜40％であり、かつ、B₂O₃を１〜25％含有する表面琺瑯
層であることが好ましい。上記した第１の発明の第２の
好適態様の反射スクリーンは、特に、後記する第４の発
明、第５の発明の反射スクリーンの製造方法によって容
易に製造することができる。

【００５１】本発明における反射スクリーンの表面皮膜
である酸化チタン被覆粒子と白色釉薬を含有する表面琺
瑯層の膜厚は、10〜 300μm であることが好ましい。こ
れは、表面琺瑯層の膜厚が10μm 未満の場合、下地の隠
蔽性が劣り、逆に 300μm を超える場合、そりが生じた
り、表面粗さの制御が困難となるためである。

【００５２】本発明における表面琺瑯層の白色釉薬とし
ては、白色でかつ下地表面が透けて見えない高隠蔽性釉
薬が好ましい。これは、上記した白色の高隠蔽性釉薬を
用いることによって、下地表面が隠蔽されると共に表層
が白色化され画像の色調再現性に優れた反射スクリーン
を得ることができるためである。

【００５３】前記した白色の高隠蔽性釉薬としては、反
射スクリーンの投影性、反射性の面から酸化チタン、酸
化ジルコニウム、酸化アンチモンおよび酸化亜鉛から選
ばれる１種または２種以上を含有する釉薬が好ましい。
なお、上記した白色の高隠蔽性釉薬としては、酸化チタ
ン、酸化ジルコニウム、酸化アンチモンおよび酸化亜鉛
から選ばれる１種または２種以上である白色顔料を含有
する釉薬であってもよい。

【００５４】また、前記した白色の高隠蔽性釉薬として
は、本発明における金属基材として冷延鋼板を用いる場
合は、反射スクリーンの投影性、反射性の面から、少な
くとも酸化チタンを含有する釉薬（以下、酸化チタン含
有釉薬とも記す）が特に好ましい。上記した酸化チタン
含有釉薬としては、TiO₂を10〜30％含有する釉薬が好ま
しい。

【００５５】また、酸化チタン含有釉薬としては、TiO₂
を10〜30％含有し、残部として、SiO₂： 0〜80％、 Al₂
O₃:0〜20％、 B₂O₃: 0〜25％、 Na₂O: 0〜20％、 K₂O:0
〜20％、 Li₂O: 0〜20％、P₂O₅： 0〜10％、ZrO₂: 0 〜
20％、 BaO:0〜15％、CaO:0〜15％、MgO:0 〜5 ％、 Pb
O:0〜40％、 ZnO:0〜50％、CaF₂： 0〜10％などを含有
するTiO₂系釉薬を用いることができる。

【００５６】また、本発明における金属基材としてアル
ミニウムめっき鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板を用
いる場合は、前記した白色の高隠蔽性釉薬としては、低
温焼き付け性および反射スクリーンの投影性、反射性の
面から、酸化リンを含有する釉薬（以下、リン酸系釉薬
とも記す）に、白色顔料として少なくとも酸化チタン、
酸化ジルコニウム、酸化アンチモンおよび酸化亜鉛から
選ばれる１種または２種以上を添加した釉薬が特に好ま
しい。

【００５７】上記したリン酸系釉薬としては、P₂O₅を40
〜70％含有する釉薬が好ましい。また、リン酸系釉薬と
しては、P₂O₅を40〜70％含有し、残部として、SiO₂： 0
〜40％、 Al₂O₃:0〜50％、 B₂O₃: 0〜25％、 Na₂O: 0〜
20％、 K₂O:0〜20％、 Li₂O: 0〜20％、TiO₂:0〜30％、
Sb₂O₃: 0〜25％、ZnO: 0〜20％、 BaO:0〜15％、CaO:0
〜15％、MgO: 0〜10％、 PbO:0〜10％、 SrO:0〜20％な
どを含有するP₂O₅系釉薬を用いることができる。

【００５８】また、前記した表面琺瑯層の透明釉薬とし
ては、特に制限されるものではないが、ほうけいさん系
ガラスを用いることが好ましい。ほうけいさん系ガラス
としては、SiO₂を40〜80％、B₂O₃を 5〜25％、 Na₂O 、
K₂OおよびLi₂Oから選ばれる１または２種以上を合計量
として 5〜25％含有し、残部として Al₂O₃:0〜10％、Ba
O: 0〜15％、CaO: 0〜15％、MgO: 0〜5 ％、Fe₂O ₃: 0〜
2 ％、ZnO: 0〜10％、P₂O₅： 0〜20％、TiO₂： 0〜30
％、CaF₂： 0〜10％などを含有するほうけいさん系ガラ
スが好ましい。

【００５９】以上、第１の発明およびそのさらに好適な
態様について述べたが、本第１の発明における表面琺瑯
層のさらに好適な組成は、下記の通りである。 (1) 金属基材として冷延鋼板を用いる場合： (1-1) 鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリーン
（第１の発明の第１の好適態様）：前記したように、表
面琺瑯層の白色釉薬が、酸化チタン含有釉薬で、表面琺
瑯層の酸化チタンの合計含有量（：酸化チタン被覆粒子
の酸化チタンを含めた酸化チタンの合計含有量）が、Ti
O₂として10〜50％、より好ましくはTiO₂として15〜40％
であり、Na₂O、K₂O およびLi₂Oから選ばれる１種または
２種以上を合計量で５〜25％、B₂O₃を１〜25％、SiO₂お
よび／またはAl₂O₃ を合計量で15〜50％含有する表面琺
瑯層であることが好ましい。

【００６０】(1-2) 鮮映性・消去性機能向上型反射スク
リーン（第１の発明の第２の好適態様）：前記したよう
に、表面琺瑯層の白色釉薬が、酸化チタン含有釉薬で、
表面琺瑯層の酸化チタンの合計含有量（：酸化チタン被
覆粒子の酸化チタンを含めた酸化チタンの合計含有量）
が、TiO₂として10〜50％、より好ましくはTiO₂として15
〜40％であり、Na₂O、K₂O およびLi₂Oから選ばれる１種
または２種以上を合計量で５〜30％、B₂O₃を１〜25％、
SiO₂および／またはAl₂O₃ を合計量で20〜55％含有する
表面琺瑯層であることが好ましい。

【００６１】(2) 金属基材としてアルミニウムめっき鋼
板もしくはZn−Al合金めっき鋼板を用いる場合： (2-1) 鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリーン
（第１の発明の第１の好適態様）：前記したように、表
面琺瑯層の白色釉薬が、酸化チタン含有釉薬で、表面琺
瑯層の酸化チタンの合計含有量（：酸化チタン被覆粒子
の酸化チタンを含めた酸化チタンの合計含有量）が、Ti
O₂として10〜50％、より好ましくはTiO₂として15〜40％
であり、P₂O₅を20〜60％、Na₂O、K₂O およびLi₂Oから選
ばれる１種または２種以上を合計量で２〜25％含有する
表面琺瑯層であることが好ましい。

【００６２】また、上記した表面琺瑯層は、上記組成に
おいて、さらにBaO および／またはCaO を合計量で２〜
15％含有する表面琺瑯層であることがより好ましく、さ
らには、上記組成において、さらにBaO および／または
CaO を合計量で２〜15％含有すると共に、Sb₂O₃ を２〜
15％、ZnO を１〜15％、B₂O₃を１〜25％含有する表面琺
瑯層であることが特に好ましい。

【００６３】(2-2) 鮮映性・消去性機能向上型反射スク
リーン（第１の発明の第２の好適態様）：前記したよう
に、表面琺瑯層の白色釉薬が、酸化チタン含有釉薬で、
表面琺瑯層の酸化チタンの合計含有量（：酸化チタン被
覆粒子の酸化チタンを含めた酸化チタンの合計含有量）
が、TiO₂として10〜50％、より好ましくはTiO₂として15
〜40％であり、P₂O₅を20〜60％、Na₂O、K₂O およびLi₂O
から選ばれる１種または２種以上を合計量で２〜25％、
B₂O₃を１〜25％含有する表面琺瑯層であることが好まし
い。

【００６４】また、上記した表面琺瑯層は、上記組成に
おいて、さらにBaO および／またはCaO を合計量で２〜
15％含有する表面琺瑯層であることがより好ましく、さ
らには、上記組成において、さらにBaO および／または
CaO を合計量で２〜15％含有すると共に、Sb₂O₃ を２〜
15％、ZnO を１〜15％含有する表面琺瑯層であることが
特に好ましい。

【００６５】なお、上記した(1) 、(2) の表面琺瑯層の
組成において、B₂O₃、Na₂O、K₂O 、Li₂O、BaO およびCa
O は、焼成時の溶融剤としての機能も有する。 III.第２の発明〜第５の発明（反射スクリーンの製造方
法）： III.−１．第２の発明、第３の発明（反射スクリーンの
製造方法）：第２の発明は、前記した第１の発明の反射
スクリーンの好適な製造方法であり、冷延鋼板の表面に
琺瑯下釉薬を塗布した後、焼成し、得られた下地琺瑯層
の表面に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色
釉薬を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後700 〜850
℃、より好ましくは730 〜810 ℃で焼成する反射スクリ
ーンの製造方法である。

【００６６】また、第３の発明は、同様に、前記した第
１の発明の反射スクリーンの好適な製造方法であり、ア
ルミニウムめっき鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板の
表面に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色釉
薬を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後400 〜600 ℃
で焼成する反射スクリーンの製造方法である。なお、上
記した第３の発明においては、めっき層の溶融防止の面
から、表面琺瑯層の釉薬として、好ましくは前記したリ
ン酸系釉薬などの低融点釉薬を用いる関係上、密着性が
向上し、琺瑯下釉薬の塗布は必ずしも必要ではない。

【００６７】本発明によれば、表面琺瑯層形成時に、琺
瑯上釉薬塗布層を、金属基材の種類および琺瑯上釉薬の
成分に応じて上記した温度範囲内で焼成することによっ
て、従来のスクリーンにはない表面硬度（モース硬度≧
４）が得られ、マーカーなどによる描写（書き込み）、
マーカー専用イレーザーなどによる消去が可能で、耐衝
撃性、防汚染性、洗浄回復性に優れた鮮映性機能向上型
反射スクリーンを得ることができる。

【００６８】金属基材が冷延鋼板で、琺瑯上釉薬を塗布
した後の焼成温度が700 ℃未満の場合は、得られる反射
スクリーンの表面粗さが大となり過ぎ、鮮明な画像が得
られない。金属基材が冷延鋼板で、焼成温度が850 ℃を
超える場合は、表面琺瑯層の表面の凹凸がなくなって光
沢が上がり、得られる反射スクリーンにハレーションが
生じる。

【００６９】また、金属基材がアルミニウムめっき鋼板
もしくはZn−Al合金めっき鋼板で、琺瑯上釉薬を塗布し
た後の焼成温度が400 ℃未満の場合は、琺瑯層の密着性
が低下する。金属基材がアルミニウムめっき鋼板もしく
はZn−Al合金めっき鋼板で、焼成温度が600 ℃を超える
場合は、めっき層が溶融する問題が生じる。

【００７０】また、上記した第２の発明、第３の発明に
おいては、表面琺瑯層を形成する琺瑯上釉薬が、白色釉
薬を含有する琺瑯用フリットと水との混合物の粉砕で得
られた泥状物（：スリップ）に、酸化チタン被覆粒子で
構成される粉末を添加、混合して得られた琺瑯上釉薬で
あることが好ましい（第２の発明の第１の好適態様、第
３の発明の第１の好適態様）。

【００７１】これは、スリップ形成後に酸化チタン被覆
粒子で構成される粉末を添加、混合することによって、
酸化チタン被覆粒子の粉砕が防止でき、所定粒径の酸化
チタン被覆粒子を含有する表面琺瑯層を形成することが
でき、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度を有
する反射スクリーンを得ることができるためである。第
２の発明における琺瑯下釉薬としては特に制限を受ける
ものではないが、SiO₂系釉薬、P₂O₅系釉薬などを含有す
る琺瑯下釉薬を用いることができる。

【００７２】SiO₂系釉薬としては、SiO₂を20〜80％含有
し、残部として、 TiO₂: 0〜15％、ZrO₂: 0〜20％、 B₂
O₃: 0〜25％、 Al₂O₃:0〜10％、 Na₂O: 0〜20％、 Li
₂O: 0〜20％、 K₂O:0〜20％、 PbO:0〜40％、 ZnO:0〜5
0％、 BaO:0〜15％、CaF₂： 0〜10％、 CoO:0〜20％、
NiO:0〜20％、 MnO:0〜20％などを含有するSiO₂系釉薬
が好ましい。

【００７３】また、P₂O₅系釉薬としては、P₂O₅を30〜70
％含有し、残部として、 TiO₂: 0〜15％、 ZrO₂: 0〜15
％、 B₂O₃: 0〜35％、 Al₂O₃:0〜15％、 Na₂O: 0〜20
％、 Li₂O: 0〜20％、 K₂O:0〜20％、 PbO:0〜50％、 Z
nO:0〜50％、 BaO:0〜15％、 CoO:0〜20％、 NiO:0〜20
％、 MnO:0〜20％などを含有するP₂O₅系釉薬が好まし
い。

【００７４】さらに、琺瑯下釉薬としては、スリップの
付着性の向上、琺瑯層内の泡組織の制御などの面から、
さらに粘土や珪石を含有することが好ましい。また、第
２の発明、第３の発明における琺瑯上釉薬中の酸化チタ
ン被覆粒子、白色釉薬としては前記した第１の発明にお
ける酸化チタン被覆粒子、白色釉薬を用いることが好ま
しい。

【００７５】なお、上記した白色釉薬としては、酸化チ
タン、酸化ジルコニウム、酸化アンチモンおよび酸化亜
鉛から選ばれる１種または２種以上である白色顔料であ
ってもよい。また、第２の発明、第３の発明における琺
瑯上釉薬の酸化チタン被覆粒子の含有量は、白色釉薬：
100 重量部に対して５〜50重量部であることが好まし
い。

【００７６】酸化チタン被覆粒子の含有量が５重量部未
満の場合は、鮮映性向上効果が少なく、逆に、50重量部
を超える場合、表面琺瑯層の表面粗さ：Raが過剰に大き
くなり、画像が不鮮明となる。以上、第２の発明、第３
の発明について述べたが、本第２の発明、第３の発明に
おいては、琺瑯上釉薬の酸化チタン被覆粒子の含有量お
よび表面上釉薬焼成時の焼成温度を、前記した好適範囲
内で調整し、表面琺瑯層の表面粗さ：Raを2.5μm 以上
とすることによって、前記した第１の発明の第１の好適
態様である鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリー
ンを製造することができる。

【００７７】なお、第２の発明、第３の発明によって製
造する反射スクリーンの表面琺瑯層の好適な組成は、前
記した第１の発明の反射スクリーンの表面琺瑯層の好適
な組成と同様である。また、第２の発明、第３の発明に
おける琺瑯下釉薬、琺瑯上釉薬の施釉法は、特に制限を
受けるものではなく、スプレー法、浸漬法、静電法、電
着法などを用いることができる。

【００７８】III.−２．第４の発明、第５の発明（反射
スクリーンの製造方法）：第４の発明は、前記した第１
の発明の第２の好適態様の鮮映性・消去性機能向上型反
射スクリーンの製造方法であり、冷延鋼板の表面に琺瑯
下釉薬を塗布した後、焼成し、得られた下地琺瑯層の表
面に、いずれもが酸化チタン被覆粒子で構成され平均粒
径が異なる少なくとも２種類の粉末と、白色釉薬と、好
ましくはさらに透明釉薬を含有する琺瑯上釉薬を塗布
し、その後700 〜850 ℃、より好ましくは730 〜810 ℃
で焼成する反射スクリーンの製造方法である。

【００７９】また、第５の発明は、同様に、前記した第
１の発明の第２の好適態様の鮮映性・消去性機能向上型
反射スクリーンの製造方法であり、アルミニウムめっき
鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板の表面に、いずれも
が酸化チタン被覆粒子で構成され、それぞれの平均粒径
が異なる少なくとも２種類の粉末と、白色釉薬と、好ま
しくはさらに透明釉薬を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、
その後400 〜600 ℃で焼成する反射スクリーンの製造方
法である。

【００８０】なお、上記した第５の発明においては、前
記した第３の発明と同様に、めっき層の溶融防止の面か
ら、表面琺瑯層の釉薬として、好ましくは前記したリン
酸系釉薬などの低融点釉薬を用いる関係上、密着性が向
上し、琺瑯下釉薬の塗布は必ずしも必要ではない。上記
した第４の発明、第５の発明は、前記した第１の発明の
第２の好適態様の鮮映性・消去性機能向上型反射スクリ
ーンの製造方法として好適に用いられる。

【００８１】すなわち、上記した第４の発明、第５の発
明によれば、表面琺瑯層に、平均粒径が異なる少なくと
も２種類の粒度分布を有する酸化チタン被覆粒子を含有
せしめることによって、表面琺瑯層の凹凸が規制され、
マーカーなどによる描書の消去性機能が向上する。上記
した酸化チタン被覆粒子で構成され平均粒径が異なる少
なくとも２種類の粉末としては、酸化チタン被覆粒子で
構成され平均粒径が10〜60μm の粉末および酸化チタン
被覆粒子で構成され平均粒径が５〜25μm の粉末の両者
を用いることが好ましい。

【００８２】なお、本発明においては、上記した範囲の
平均粒径であって、かつ平均粒径の差が５μm 以上であ
る少なくとも２種類の粉末を用いることがより好まし
い。上記した平均粒径が小さい粉末は、消去性機能向上
に寄与し、平均粒径が大きい粉末は、鮮映性機能向上に
寄与する。本発明においては、上記した平均粒径の差を
５μm 以上とすることによって、表面琺瑯層の凹凸がさ
らに規制され、消去性機能がさらに向上する。

【００８３】なお、上記した２種類の粉末の配合割合
は、平均粒径の大なる粉末：20〜80重量部に対して、平
均粒径が小なる粉末：80〜20重量部、より好ましくは平
均粒径の大なる粉末：35〜65重量部に対して、平均粒径
が小なる粉末：65〜35重量部であることが好ましい。本
発明においては、琺瑯上釉薬中に、さらに、透明釉薬を
配合することがより好ましい。

【００８４】これは、琺瑯上釉薬中に、さらに、透明釉
薬を配合することによって、表面琺瑯層内部に埋没した
酸化チタン被覆粒子の鮮映性、拡散反射性向上作用が発
揮され、上記した凹凸の規制に伴う相反する作用である
鮮映性の低下、拡散反射性の低下を防止でき、鮮映性に
優れ、視野角が広く、ハレーションの少ない反射スクリ
ーンを得ることができるためである。

【００８５】第４の発明における琺瑯下釉薬としては、
特に制限を受けるものではないが、前記した第２の発明
における琺瑯下釉薬を用いることが好ましい。また、第
４の発明、第５の発明における琺瑯上釉薬中の酸化チタ
ン被覆粒子、白色釉薬としては、前記した第１の発明に
おける酸化チタン被覆粒子、白色釉薬を用いることが好
ましい。

【００８６】なお、上記した白色釉薬としては、酸化チ
タン、酸化ジルコニウム、酸化アンチモンおよび酸化亜
鉛から選ばれる１種または２種以上である白色顔料であ
ってもよい。また、透明釉薬としては、特に制限される
ものではないが、ほうけいさん系ガラスを用いることが
好ましい。

【００８７】ほうけいさん系ガラスとしては、SiO₂を40
〜80％、B₂O₃を 5〜25％、 Na₂O 、K₂OおよびLi₂Oから
選ばれる１または２種以上を合計量として 5〜25％含有
し、残部として Al₂O₃:0〜10％、BaO: 0〜15％、CaO: 0
〜15％、MgO: 0〜5 ％、Fe₂O ₃: 0〜2 ％、ZnO: 0〜10
％、P₂O₅： 0〜20％、TiO₂：0 〜30％、CaF₂： 0〜10％
などを含有するほうけいさん系ガラスが好ましい。

【００８８】また、第４の発明、第５の発明における琺
瑯上釉薬の酸化チタン被覆粒子の含有量は、白色釉薬お
よび透明釉薬の合計量：100 重量部に対して５〜50重量
部であることが好ましい。酸化チタン被覆粒子の含有量
が５重量部未満の場合は、鮮映性向上効果が少なく、逆
に、50重量部を超える場合、表面琺瑯層の表面粗さ：Ra
が過剰に大きくなり、画像が不鮮明となる。

【００８９】また、上記琺瑯上釉薬の透明釉薬の含有量
は、白色釉薬および透明釉薬の合計量：100 重量部に対
して５〜50重量部であることが好ましい。透明釉薬の含
有量が５重量部未満の場合は、鮮映性、視野角向上効果
およびハレーション抑制効果が低下し、逆に、50重量部
を超える場合、下地の隠蔽性が劣り、画像の色調再現性
も低下する。

【００９０】なお、上記した各重量部は、琺瑯上釉薬焼
成後の重量部に換算した重量部を示す。さらに、上記し
た第４の発明、第５の発明によれば、表面琺瑯層形成時
に、琺瑯上釉薬塗布層を、金属基材の種類および琺瑯上
釉薬の成分に応じて前記した温度範囲内で焼成すること
によって、従来のスクリーンにはない表面硬度（モース
硬度≧４）が得られ、マーカーなどによる描写（書き込
み）、マーカー専用イレーザーなどによる消去が可能
で、耐衝撃性、防汚染性、洗浄回復性に優れた鮮映性・
消去性機能向上型反射スクリーンを得ることができる。

【００９１】金属基材が冷延鋼板で、琺瑯上釉薬を塗布
した後の焼成温度が700 ℃未満の場合は、得られる反射
スクリーンの表面粗さが大となり過ぎ、鮮明な画像が得
られず、さらには消去性機能が低下する。金属基材が冷
延鋼板で、焼成温度が850 ℃を超える場合は、表面琺瑯
層の表面の凹凸がなくなって光沢が上がり過ぎ、得られ
る反射スクリーンにハレーションが生じる。

【００９２】また、金属基材がアルミニウムめっき鋼板
もしくはZn−Al合金めっき鋼板で、琺瑯上釉薬を塗布し
た後の焼成温度が400 ℃未満の場合は、琺瑯層の密着性
が低下する。金属基材がアルミニウムめっき鋼板もしく
はZn−Al合金めっき鋼板で、焼成温度が600 ℃を超える
場合は、めっき層が溶融する問題が生じる。

【００９３】さらに、上記した第４の発明、第５の発明
においては、表面琺瑯層を形成する琺瑯上釉薬が、白色
釉薬、好ましくはさらに透明釉薬を含有する琺瑯用フリ
ットと水との混合物の粉砕で得られた泥状物（：スリッ
プ）に、いずれもが酸化チタン被覆粒子で構成され、そ
れぞれの平均粒径が異なる少なくとも２種類の粉末を添
加、混合して得られた琺瑯上釉薬であることが好ましい
（第４の発明の第１の好適態様、第５の発明の第１の好
適態様）。

【００９４】これは、スリップ形成後に酸化チタン被覆
粒子で構成される粉末を添加、混合することによって、
酸化チタン被覆粒子の粉砕が防止でき、所定粒径の酸化
チタン被覆粒子を含有する表面琺瑯層を形成することが
でき、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度を有
する反射スクリーンを得ることができるためである。な
お、上記した第４の発明、第５の発明によって製造する
反射スクリーンの表面琺瑯層の好適な組成は、前記した
第１の発明の反射スクリーンの表面琺瑯層の好適な組成
と同様である。

【００９５】また、第４の発明、第５の発明における琺
瑯下釉薬、琺瑯上釉薬の施釉法は、特に制限を受けるも
のではなく、スプレー法、浸漬法、静電法、電着法など
を用いることができる。以上、本発明について述べた
が、本発明によれば下記の優れた効果が得られる。

【００９６】〔第１の発明〕（鮮映性機能向上型反射ス
クリーン、鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリー
ンおよび鮮映性・消去性機能向上型反射スクリーン）： 鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度および広
い視野角を有し、しかもハレーションの少ない反射スク
リーンを得ることができる（第１の発明：鮮映性機能向
上型反射スクリーン）。

【００９７】拡散反射と正反射を高度に融合させ、さ
らに広い視野角を有し、しかもハレーションがほとんど
見られない反射スクリーンを得ることができる（第１の
発明の第１の好適態様：鮮映性・拡散反射性機能向上型
反射スクリーン）。 ホワイトボード用マーカーなどによる描書（書き込
み）が可能で、マーカー専用イレーザーなどで擦ると簡
単に消去でき、また水分を含ませた布で擦ることによっ
ても簡単に消去できる消去性機能に優れた反射スクリー
ンを得ることができる（第１の発明の第２の好適態様：
鮮映性・消去性機能向上型反射スクリーン）。

【００９８】〔第２の発明〜第５の発明〕（反射スクリ
ーンの製造方法）： 従来のスクリーンにはない表面硬度（モース硬度≧
４）が得られ、耐傷付き性、耐衝撃性、防汚染性、洗浄
回復性に優れた反射スクリーンを得ることができる。 酸化チタン被覆粒子で構成され平均粒径が異なる少な
くとも２種類の粉末と、白色釉薬と、さらには、透明釉
薬を含有する琺瑯上釉薬を用いることによって、鮮映性
・消去性機能向上型反射スクリーンを容易に製造するこ
とができる。

【００９９】表面琺瑯層を形成する琺瑯上釉薬とし
て、白色釉薬、あるいはさらに透明釉薬を含有する琺瑯
用フリットと水との混合物の粉砕で得られた泥状物（：
スリップ）に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末を
添加、混合して得られた琺瑯上釉薬を用いることによっ
て、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度および
広い視野角を有し、しかもハレーションの少ない反射ス
クリーンを得ることができる。

【０１００】さらに、本発明の反射スクリーンは、鋼板
など金属基材の加工品のため、布、塩化ビニル加工品の
ようにしわの発生がなく、製造時にテンション維持の必
要がなく加工工程が簡易化できる効果も有する。

【０１０１】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてさらに具体
的に説明する。なお、本実施例における反射スクリーン
の特性値の測定および性能評価は、下記方法に基づいて
行った。 （反射輝度：）図３に、反射輝度の測定方法を示す。

【０１０２】なお、図３において、１は入射光、２は反
射光、３_S は反射スクリーンのサンプル、10は光源、11
は輝度計、θは輝度計11の光源10に対する移動角度を示
す。図３に示すように、反射スクリーンのサンプル３_S
の中心に垂直方向から光源10によって光を照射し、輝度
計11を、同一円弧上においてサンプル３_S の中心に対し
て左右各75度の範囲で５度ずつ移動したポイントでの反
射光の強さを測定した。

【０１０３】（表面琺瑯層の表面粗さRa：）表面粗度計
を用い、反射スクリーンの表面琺瑯層の表面粗さ：Ra
（算術平均粗さ）（JIS B 0601-1994 ）を測定した。 （光沢度：）変角光沢度計を用い、JIS Z 8741-1983 に
基づいて45度鏡面光沢度〔：Gs（45°）〕を測定した。

【０１０４】（表面琺瑯層の硬度：）反射スクリーンの
表面琺瑯層のモース硬度を測定した。 （液晶プロジェクターによる画像の評価：）液晶プロジ
ェクターによって投影された反射スクリーン上の画像
を、目視で評価した。

【０１０５】なお、ハレーション抑制度を、下記基準で
評価した。 ◎：ハレーションがほとんど見られない。 ○：ハレーションが若干見られる。 ×：ハレーションが顕著に見られる。 （描書マーカーの消去性：）反射スクリーンに、下記２
種類のホワイトボード用マーカーで描書した。

【０１０６】ホワイトボード用マーカー： WBMV-L-B〔商品名、黒、（株）パイロット社製〕 PMB-102 〔商品名、黒、コクヨ（株）社製〕 次に、反射スクリーンの描書面上に、下記ホワイトボー
ド用マーカー専用イレーザーを当て、その上に500gの分
銅を載置し、荷重を負荷した状態で一定速度条件下、イ
レーザーを水平方向に引張る操作を所定回数行い、描書
マーカーが全て消えるまでの必要回数（：必要消去回
数）を測定した。

【０１０７】イレーザー：ブラシタイプイレーザー〔商
品名：WBE-L 、（株）パイロット社製〕 〔実施例１、実施例２〕（冷延鋼板を基材とした鮮映性
機能向上型反射スクリーン、鮮映性・拡散反射性機能向
上型反射スクリーン）： SiO₂系釉薬：100 重量部に、粘土：５重量部、硅石粉：
10重量部、ホウ砂：0.4 重量部、亜硝酸ソーダ：0.15重
量部、水：47重量部を添加した配合原料をボールミルに
投入し、混合、粉砕して泥状物（：スリップ）（琺瑯下
釉薬）を作製した。

【０１０８】また、表１に示す組成の白色釉薬（琺瑯用
フリット）：100 重量部に、粘土：５重量部、塩化カリ
ウム：0.20重量部、水：50重量部を添加した配合原料を
ボールミルに投入し、混合、粉砕して泥状物（：スリッ
プ）を作製した。次に、白色釉薬を用いて作製した上記
スリップ：100 重量部（焼成後の重量換算）に対して、
下記に示す酸化チタン被覆粒子で構成される粉末（：酸
化チタン被覆粒子粉末）を20重量部添加、混合し、琺瑯
上釉薬Ａを作製した。

【０１０９】（酸化チタン被覆粒子粉末：）薄板状雲母
粒子の表面に酸化チタンを被覆した酸化チタン被覆粒子
で構成される粉末 粒径 ：10〜60μm 平均粒径：19μm TiO₂被覆率（含有量）：30％ なお、上記した粒径は、レーザ回折式粒度分布測定装置
で測定し、平均粒径は50％累積粒子径を示す。

【０１１０】次に、前記で得られた琺瑯下釉薬を、反射
スクリーンの基板（金属基材）である鋼板の表面にスプ
レー法で施釉した後、800 ℃で焼成して鋼板表面に下地
琺瑯層を形成した。なお、鋼板としては、炭素含有率が
50mass-ppmである極低炭素鋼板を硫酸ニッケル水溶液に
浸漬して処理したニッケルめっき鋼板を用いた。

【０１１１】次に、上記で得られた下地琺瑯層の上に、
前記で得られた琺瑯上釉薬Ａをスプレー法で施釉した
後、750 ℃（実施例１）もしくは755 ℃（実施例２）で
焼成し、鋼板の外表面に膜厚：70μm で表２に示す組成
および酸化チタン被覆粒子含有量の表面琺瑯層を形成
し、反射スクリーンのサンプルを試作した。次に、得ら
れた反射スクリーンのサンプルの反射輝度、光沢度、表
面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術平均粗さ）およびモース
硬度を測定した。

【０１１２】また、液晶プロジェクターによる画像の評
価を行った。図１に、本発明の反射スクリーンの反射輝
度の測定結果を、従来の拡散反射型スクリーン（塩ビ
製）、回帰反射型スクリーン（ガラスビーズを被覆した
塩ビ製）の反射輝度と対比して示す。また、表３に、本
発明の反射スクリーンの画像の評価結果を、従来の拡散
反射型スクリーン、回帰反射型スクリーンと対比して示
す。

【０１１３】また、表４に、本発明の反射スクリーンの
表面琺瑯層の表面粗さ：Ra、光沢度：Gs（45°）、モー
ス硬度の測定結果を示す。図１に示されるように、本発
明の反射スクリーンが、広視野角でかつ鮮映性に優れ、
十分な反射輝度を有していることが分かった。また、表
３に示されるように、本発明の反射スクリーンが、広視
野角で画像が鮮明で明るい場所でも非常に見やすく、ハ
レーションが少ないことが分かった。

【０１１４】また、表４に示されるように、本発明の反
射スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬
度（モース硬度≧４）を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に
優れることが分かった。さらに、図１、表３および表４
の実施例１に示されるように、表面琺瑯層の表面に所定
の表面粗さ（：Ra≧2.5 μm ）を付与することによっ
て、特に広い視野角が得られると共に、ハレーションを
極めて効果的に抑制できることが分かった。

【０１１５】〔実施例３〕（冷延鋼板を基材とした鮮映
性・消去性機能向上型反射スクリーン）： SiO₂系釉薬：100 重量部に、粘土：５重量部、硅石粉：
10重量部、ホウ砂：0.4 重量部、亜硝酸ソーダ：0.15重
量部、水：47重量部を添加した配合原料をボールミルに
投入し、混合、粉砕して泥状物（：スリップ）（琺瑯下
釉薬）を作製した。

【０１１６】また、表１に示す組成の白色釉薬（琺瑯用
フリット）：80重量部に、表１に示す組成の透明釉薬
（琺瑯用フリット）：20重量部、粘土：５重量部、塩化
カリウム：0.20重量部、水：50重量部を添加した配合原
料をボールミルに投入し、混合、粉砕して泥状物（：ス
リップ）を作製した。次に、白色釉薬および透明釉薬を
用いて作製した上記スリップ：100 重量部（焼成後の重
量換算）に対して、下記に示す酸化チタン被覆粒子で構
成される粉末（：酸化チタン被覆粒子粉末）PAおよびPB
をそれぞれ10.5重量部、10.5重量部添加、混合し、琺瑯
上釉薬Ｂを作製した。

【０１１７】（酸化チタン被覆粒子粉末：）薄板状雲母
粒子の表面に酸化チタンを被覆した酸化チタン被覆粒子
で構成される粉末 （粉末PA；） 粒径 ：10〜60μm 平均粒径：19μm TiO₂被覆率（含有量）：30％ （粉末PB；） 粒径 ：５〜25μm 平均粒径：11μm TiO₂被覆率（含有量）：38％ なお、上記した粒径は、レーザ回折式粒度分布測定装置
で測定し、平均粒径は50％累積粒子径を示す。

【０１１８】次に、前記で得られた琺瑯下釉薬を、反射
スクリーンの基板（金属基材）である鋼板の表面にスプ
レー法で施釉した後、800 ℃で焼成して鋼板表面に下地
琺瑯層を形成した。なお、鋼板としては、前記した実施
例１、２と同じニッケルめっき極低炭素鋼板を用いた。

【０１１９】次に、上記で得られた下地琺瑯層の上に、
前記で得られた琺瑯上釉薬Ｂをスプレー法で施釉した
後、760 ℃で焼成し、鋼板の外表面に膜厚：70μm で表
５に示す組成および酸化チタン被覆粒子含有量の表面琺
瑯層を形成し、反射スクリーンのサンプルを試作した。
次に、得られた反射スクリーンのサンプルの反射輝度、
光沢度、表面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術平均粗さ）、
モース硬度および描書マーカーの消去性（必要消去回
数）を測定した。

【０１２０】また、液晶プロジェクターによる画像の評
価を行った。図２に、本発明の反射スクリーンの反射輝
度の測定結果を、従来の拡散反射型スクリーン（塩ビ
製）、回帰反射型スクリーン（ガラスビーズを被覆した
塩ビ製）の反射輝度と対比して示す。また、表６に、本
発明の反射スクリーンの画像の評価結果および描書マー
カーの消去性を、従来の拡散反射型スクリーン、回帰反
射型スクリーンと対比して示す。

【０１２１】また、表７に、本発明の反射スクリーンの
表面琺瑯層の表面粗さ：Ra、光沢度：Gs（45°）、モー
ス硬度の測定結果を示す。図２および表６に示されるよ
うに、本発明の反射スクリーンは、消去性機能に優れる
と共に、ハレーションの発生を抑制することができ、広
視野角で鮮映性に優れ、十分な反射輝度を有し、画像が
鮮明な反射スクリーンであることが分かった。

【０１２２】また、表７に示されるように、本発明の反
射スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬
度（モース硬度≧４）を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に
優れることが分かった。 〔実施例４〕（アルミニウムめっき鋼板を基材とした鮮
映性・拡散反射性機能向上型反射スクリーン）：表８に
示す組成のリン酸系釉薬（琺瑯用フリット）：100 重量
部に、硝酸ソーダ：0.20重量部、酸化チタン(TiO₂ 、白
色顔料）：30重量部、水：50重量部を添加した配合原料
をボールミルに投入し、混合、粉砕して泥状物（：スリ
ップ）を作製した。

【０１２３】次に、リン酸系釉薬および白色顔料を用い
て作製した上記スリップ：100 重量部（焼成後の重量換
算）に対して、前記した実施例１、実施例２で用いたと
同じ酸化チタン被覆粒子で構成される粉末（：酸化チタ
ン被覆粒子粉末）を20重量部添加、混合し、琺瑯上釉薬
Ｃを作製した。次に、上記で得られた琺瑯上釉薬Ｃを、
反射スクリーンの基板（金属基材）であるアルミニウム
めっき鋼板の表面にスプレー法で施釉した後、525 ℃で
焼成し、鋼板の外表面に膜厚：40μm で表９に示す組成
および酸化チタン被覆粒子含有量の表面琺瑯層を形成
し、反射スクリーンのサンプルを試作した。

【０１２４】次に、得られた反射スクリーンのサンプル
の光沢度、表面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術平均粗さ）
およびモース硬度を測定した。また、液晶プロジェクタ
ーによる画像の評価を行った。表10、表11に、本発明の
反射スクリーンの画像の評価結果、および本発明の反射
スクリーンの表面琺瑯層の表面粗さ：Ra、光沢度：Gs
（45°）、モース硬度の測定結果を示す。

【０１２５】表10に示されるように、本発明の反射スク
リーンが、広視野角で画像が鮮明で明るい場所でも非常
に見やすく、ハレーションがほとんど見られないことが
分かった。また、表11に示されるように、本発明の反射
スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬度
（モース硬度≧４）を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に優
れることが分かった。

【０１２６】〔実施例５〕（アルミニウムめっき鋼板を
基材とした鮮映性・消去性機能向上型反射スクリー
ン）：表８に示す組成のリン酸系釉薬（琺瑯用フリッ
ト）：90重量部に、表１に示す組成の透明釉薬（琺瑯用
フリット）：10重量部、硝酸ソーダ：0.20重量部、酸化
チタン(TiO₂ 、白色顔料）：30重量部、水：50重量部を
添加した配合原料をボールミルに投入し、混合、粉砕し
て泥状物（：スリップ）を作製した。

【０１２７】次に、リン酸系釉薬、透明釉薬および白色
顔料を用いて作製した上記スリップ：100 重量部（焼成
後の重量換算）に対して、前記した実施例３で用いたと
同じ酸化チタン被覆粒子で構成される粉末（：酸化チタ
ン被覆粒子粉末）PAおよびPBをそれぞれ10.5重量部、1
0.5重量部添加、混合し、琺瑯上釉薬Ｄを作製した。次
に、上記で得られた琺瑯上釉薬Ｄを、反射スクリーンの
基板（金属基材）であるアルミニウムめっき鋼板の表面
にスプレー法で施釉した後、525 ℃で焼成し、鋼板の外
表面に膜厚：40μm で表12に示す組成および酸化チタン
被覆粒子含有量の表面琺瑯層を形成し、反射スクリーン
のサンプルを試作した。

【０１２８】次に、得られた反射スクリーンのサンプル
の光沢度、表面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術平均粗
さ）、モース硬度および描書マーカーの消去性（必要消
去回数）を測定した。また、液晶プロジェクターによる
画像の評価を行った。表13、表14に、本発明の反射スク
リーンの画像の評価結果、描書マーカーの消去性、およ
び本発明の反射スクリーンの表面琺瑯層の表面粗さ：R
a、光沢度：Gs（45°）、モース硬度の測定結果を示
す。

【０１２９】表13に示されるように、本発明の反射スク
リーンは、消去性機能に優れると共に、ハレーションの
発生を抑制することができ、広視野角で画像が鮮明で明
るい場所でも非常に見やすい反射スクリーンであること
が分かった。また、表14に示されるように、本発明の反
射スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬
度（モース硬度≧４）を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に
優れることが分かった。

【０１３０】〔実施例６〕（Zn−Al合金めっき鋼板を基
材とした鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリー
ン）：前記した実施例４において、反射スクリーンの基
板（金属基材）として、Zn−Al合金めっき層中のアルミ
ニウム含有率が55％、Si含有率が1.6 ％、残部がZnおよ
び不可避的不純物であるZn−Al合金めっき鋼板を用い、
表面琺瑯層の焼成温度を510 ℃とした以外は、実施例４
と同様の方法、条件で反射スクリーンのサンプルを試作
した。

【０１３１】次に、前記した実施例４と同様の方法で、
得られた反射スクリーンの性能を評価した。表15、表16
に、得られた評価結果を示す。表15に示されるように、
本発明の反射スクリーンが、広視野角で画像が鮮明で明
るい場所でも非常に見やすく、ハレーションがほとんど
見られないことが分かった。

【０１３２】また、表16に示されるように、本発明の反
射スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬
度（モース硬度≧４）を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に
優れることが分かった。 〔実施例７〕（Zn−Al合金めっき鋼板を基材とした鮮映
性・消去性機能向上型反射スクリーン）：前記した実施
例５において、反射スクリーンの基板（金属基材）とし
て、Zn−Al合金めっき層中のアルミニウム含有率が55
％、Si含有率が1.6 ％、残部がZnおよび不可避的不純物
であるZn−Al合金めっき鋼板を用い、表面琺瑯層の焼成
温度を510 ℃とした以外は、実施例５と同様の方法、条
件で反射スクリーンのサンプルを試作した。

【０１３３】次に、前記した実施例５と同様の方法で、
得られた反射スクリーンの性能を評価した。表17、表18
に、得られた評価結果を示す。表17に示されるように、
本発明の反射スクリーンは、消去性機能に優れると共
に、ハレーションの発生を抑制することができ、広視野
角で画像が鮮明で明るい場所でも非常に見やすい反射ス
クリーンであることが分かった。

【０１３４】また、表18に示されるように、本発明の反
射スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬
度（モース硬度≧４）を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に
優れることが分かった。以上、実施例について述べた
が、本発明によれば、金属基材としてアルミニウムめっ
き鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板を用い、前記した
実施例４〜７に示すように単層の琺瑯層（表面琺瑯層）
を形成することによって、前記した優れた性能を有し、
しかも軽量で取扱いの容易な反射スクリーンを得ること
も可能になった。

【０１３５】

【表１】

【０１３６】

【表２】

【０１３７】

【表３】

【０１３８】

【表４】

【０１３９】

【表５】

【０１４０】

【表６】

【０１４１】

【表７】

【０１４２】

【表８】

【０１４３】

【表９】

【０１４４】

【表１０】

【０１４５】

【表１１】

【０１４６】

【表１２】

【０１４７】

【表１３】

【０１４８】

【表１４】

【０１４９】

【表１５】

【０１５０】

【表１６】

【０１５１】

【表１７】

【０１５２】

【表１８】

【０１５３】

【発明の効果】本発明によれば、広視野角で鮮明な画像
が得られ、ハレーションが少なく、さらにはマーカーな
どによる描書および消去が可能で、取扱いが容易で、施
工性に優れた反射スクリーンおよびその製造方法を提供
することが可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】反射スクリーンの反射輝度の測定結果を示すグ
ラフである。

【図２】反射スクリーンの反射輝度の測定結果を示すグ
ラフである。

【図３】反射輝度の測定方法を示す説明図（斜視図）で
ある。

【図４】反射スクリーンの反射特性を示す説明図（側面
図）である。

【符号の説明】

１ 入射光 ２ 反射光 ３ 反射スクリーン ３_S 反射スクリーンのサンプル ４ ビーズ 10 光源 11 輝度計

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H021 BA02 BA05 BA10 2H042 BA02 BA14 BA15 BA19 DA10 2H088 EA12 HA10 HA21 MA07 5C058 EA02 EA33

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 金属基材の外表面に、酸化チタン被覆粒
   子と白色釉薬を含有する表面琺瑯層を有することを特徴
   とする反射スクリーン。
2. 【請求項２】 前記表面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術平
   均粗さ）が2.5 μm以上であることを特徴とする請求項
   １記載の反射スクリーン。
3. 【請求項３】 前記表面琺瑯層の表面粗さ：Ra（算術平
   均粗さ）が1.5 μm以上、2.5 μm 未満で、光沢度：Gs
   （45°）が15〜25％であることを特徴とする請求項１記
   載の反射スクリーン。
4. 【請求項４】 前記表面琺瑯層が、さらに透明釉薬を含
   有することを特徴とする請求項３記載の反射スクリー
   ン。
5. 【請求項５】 前記酸化チタン被覆粒子が、雲母粒子の
   表面に酸化チタンを被覆した粒子であることを特徴とす
   る請求項１〜４いずれかに記載の反射スクリーン。
6. 【請求項６】 冷延鋼板の表面に琺瑯下釉薬を塗布した
   後、焼成し、得られた下地琺瑯層の表面に、酸化チタン
   被覆粒子で構成される粉末と白色釉薬を含有する琺瑯上
   釉薬を塗布し、その後700 〜850 ℃で焼成することを特
   徴とする反射スクリーンの製造方法。
7. 【請求項７】 アルミニウムめっき鋼板もしくはZn−Al
   合金めっき鋼板の表面に、酸化チタン被覆粒子で構成さ
   れる粉末と白色釉薬を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、そ
   の後400 〜600 ℃で焼成することを特徴とする反射スク
   リーンの製造方法。
8. 【請求項８】 前記した琺瑯上釉薬が、白色釉薬を含有
   する琺瑯用フリットと水との混合物の粉砕で得られた泥
   状物に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末を添加、
   混合して得られた琺瑯上釉薬であることを特徴とする請
   求項６または７記載の反射スクリーンの製造方法。
9. 【請求項９】 冷延鋼板の表面に琺瑯下釉薬を塗布した
   後、焼成し、得られた下地琺瑯層の表面に、いずれもが
   酸化チタン被覆粒子で構成され、それぞれの平均粒径が
   異なる少なくとも２種類の粉末と、白色釉薬と、あるい
   はさらに透明釉薬とを含有する琺瑯上釉薬を塗布し、そ
   の後700 〜850 ℃で焼成することを特徴とする反射スク
   リーンの製造方法。
10. 【請求項１０】 アルミニウムめっき鋼板もしくはZn−
    Al合金めっき鋼板の表面に、いずれもが酸化チタン被覆
    粒子で構成され、それぞれの平均粒径が異なる少なくと
    も２種類の粉末と、白色釉薬と、あるいはさらに透明釉
    薬とを含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後400 〜600
    ℃で焼成することを特徴とする反射スクリーンの製造方
    法。
11. 【請求項１１】 前記した琺瑯上釉薬が、白色釉薬、あ
    るいはさらに透明釉薬を含有する琺瑯用フリットと水と
    の混合物の粉砕で得られた泥状物に、いずれもが酸化チ
    タン被覆粒子で構成され、それぞれの平均粒径が異なる
    少なくとも２種類の粉末を添加、混合して得られた琺瑯
    上釉薬であることを特徴とする請求項９または10記載の
    反射スクリーンの製造方法。
12. 【請求項１２】 前記した酸化チタン被覆粒子が、雲母
    粒子の表面に酸化チタンを被覆した粒子であることを特
    徴とする請求項６〜11いずれかに記載の反射スクリーン
    の製造方法。