JP2002006399A - Reflection screen and method for manufacturing the same - Google Patents
Reflection screen and method for manufacturing the sameInfo
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶プロジェクタ
ー、3管式プロジェクター、OHP、スライドなどを用
いて文字、画像、映像などを投影するための反射スクリ
ーンおよびその製造方法に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a reflection screen for projecting characters, images, images, and the like using a liquid crystal projector, a three-tube projector, an OHP, a slide, and the like, and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、文字、画像、映像などを投影する
ための反射スクリーンは、反射面の特性によって、入射
光に対して図4に示す反射特性を有している。なお、図
4において、1は入射光、2は反射光、3は反射スクリ
ーン、4はビーズを示す。2. Description of the Related Art Conventionally, a reflection screen for projecting characters, images, images and the like has a reflection characteristic shown in FIG. In FIG. 4, 1 indicates incident light, 2 indicates reflected light, 3 indicates a reflection screen, and 4 indicates beads.
【0003】すなわち、反射スクリーンの反射特性は、
下記(1) 〜(3) に大別される。 (1) :拡散反射型(完全拡散に近い反射) 〔図4(a)
〕 (2) :回帰反射型(入射と同一方向に反射)〔図4(b)
〕 (3) :正反射型(入射方向に対し正反射) 〔図4(c)
〕 上記した反射スクリーンは、基材として布、塩化ビニル
などを用い、表面に凹凸を付与するかビーズ4を配置し
反射角を調整しているが、下記の問題点を有している。That is, the reflection characteristics of the reflection screen are as follows:
They are roughly classified into the following (1) to (3). (1): Diffuse reflection type (reflection close to perfect diffusion) [Fig. 4 (a)
(2): Retro-reflective type (reflection in the same direction as incident light) [Fig. 4 (b)
(3): Regular reflection type (specular reflection in the incident direction) [Fig. 4 (c)
The above-described reflective screen uses cloth, vinyl chloride, or the like as a base material, and has irregularities on its surface or beads 4 arranged to adjust the reflection angle, but has the following problems.
【0004】(1) :拡散反射型スクリーン〔図4(a) 〕
は視野角が広い特徴を有するが、全視野角において反射
輝度が低く、画像のシャープさ(解像度)に欠ける。 (2) :回帰反射型スクリーン〔図4(b) 〕は、画像はシ
ャープであるが、視野角が狭く、ハレーションが起こり
易く、またビーズの脱落などによって取扱いに注意が必
要となる。(1): Diffuse reflection type screen [FIG. 4 (a)]
Has a wide viewing angle, but has low reflection luminance at all viewing angles and lacks sharpness (resolution) of an image. (2): The retroreflective screen (FIG. 4 (b)) has a sharp image, but has a narrow viewing angle, tends to cause halation, and requires careful handling due to falling off beads.
【0005】(3) :反射型スクリーン〔図4(c) 〕は、
ハレーションが起こり易い。 (4) :いずれの型の反射スクリーンも、基材として布、
塩化ビニルなどを用いており、下記〜の問題を有し
ている。 表面硬度が小さく傷がつきやすい。 インクが浸透するため、ホワイトボード用マーカーな
どマーカーを使用する描書および消去ができない。(3): The reflection type screen (FIG. 4 (c))
Halation easily occurs. (4): Both types of reflective screens are made of cloth,
The use of vinyl chloride or the like has the following problems. Surface hardness is small and easily scratched. Since ink penetrates, drawing and erasing using markers such as whiteboard markers cannot be performed.
【0006】しわが生じ易く、製造時の施工の際、ス
プリングなどを用いてテンションをかけることによって
しわを伸ばす必要があり、施工に工数を要する。[0006] Wrinkles are liable to occur, and it is necessary to extend wrinkles by applying tension using a spring or the like at the time of construction at the time of manufacturing, which requires man-hours for construction.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した従
来技術の問題点を解決し、広視野角で、鮮明な画像が得
られ、ハレーションが少なく、さらにはマーカーなどに
よる描書および消去が可能で、取扱いが容易で、施工性
に優れた反射スクリーンおよびその製造方法を提供する
ことを目的とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and provides a clear image with a wide viewing angle, little halation, and furthermore, writing and erasing with a marker or the like is not possible. It is an object of the present invention to provide a reflective screen that is possible, easy to handle, and excellent in workability, and a method for manufacturing the same.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】第1の発明は、金属基材
の外表面に、酸化チタン被覆粒子と白色釉薬を含有する
表面琺瑯層を有することを特徴とする反射スクリーンで
ある。前記した第1の発明においては、前記表面琺瑯層
の表面粗さ:Ra(算術平均粗さ)が、好ましくは2.5 μ
m 以上、より好ましくは2.5 μm 以上、10μm 以下、さ
らには2.7 μm 以上、10μm 以下であることがより好ま
しい(第1の発明の第1の好適態様)。A first aspect of the present invention is a reflection screen having a surface enamel layer containing titanium oxide-coated particles and a white glaze on an outer surface of a metal substrate. In the first invention, the surface enamel layer has a surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of preferably 2.5 μm.
m or more, more preferably 2.5 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 2.7 μm or more and 10 μm or less (a first preferred embodiment of the first invention).
【0009】また、前記した第1の発明においては、前
記表面琺瑯層の表面粗さ:Ra(算術平均粗さ)が好まし
くは1.5 μm 以上、2.5 μm 未満、より好ましくは1.7
μm以上、2.0 μm 以下、さらに好ましくは1.70μm 以
上、1.95μm 以下、最も好ましくは1.70μm 以上、1.90
μm 以下で、かつ、光沢度:Gs(45°)が15〜25%であ
ることが好ましい(第1の発明の第2の好適態様)。In the first invention, the surface enamel layer has a surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of preferably 1.5 μm or more and less than 2.5 μm, more preferably 1.7 μm or less.
μm or more, 2.0 μm or less, more preferably 1.70 μm or more, 1.95 μm or less, most preferably 1.70 μm or more, 1.90 μm or less.
It is preferable that the particle diameter is not more than μm and the glossiness: Gs (45 °) is 15 to 25% (a second preferred embodiment of the first invention).
【0010】なお、前記した第1の発明の第2の好適態
様においては、前記表面琺瑯層が、さらに透明釉薬を含
有することがより好ましい(第1の発明の第3の好適態
様)。また、前記した第1の発明、第1の発明の第1の
好適態様〜第3の好適態様においては、前記酸化チタン
被覆粒子の粒径が好ましくは100 μm 以下、さらには80
μm 以下であることがより好ましい(第1の発明の第4
の好適態様〜第7の好適態様)。[0010] In the second preferred embodiment of the first invention, it is more preferable that the surface enamel layer further contains a transparent glaze (third preferred embodiment of the first invention). In the first invention and the first to third preferred embodiments of the first invention, the particle diameter of the titanium oxide-coated particles is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less.
μm or less (the fourth aspect of the first invention).
Preferred embodiment to seventh preferred embodiment).
【0011】また、前記した第1の発明、第1の発明の
第1の好適態様〜第7の好適態様においては、前記酸化
チタン被覆粒子が、雲母粒子の表面に酸化チタンを被覆
した粒子であることが好ましい(第1の発明の第8の好
適態様〜第15の好適態様)。また、前記した第1の発明
の第8の好適態様〜第15の好適態様においては、前記雲
母粒子が薄板状雲母粒子であることが好ましい(第1の
発明の第16の好適態様〜第23の好適態様)。In the first invention and the first to seventh preferred embodiments of the first invention, the titanium oxide-coated particles are particles having titanium oxide coated on the surface of mica particles. It is preferable (the eighth preferred embodiment to the fifteenth preferred embodiment of the first invention). In the eighth preferred embodiment to the fifteenth preferred embodiment of the first invention, the mica particles are preferably lamellar mica particles (the sixteenth preferred embodiment to the twenty-third preferred embodiment of the first invention). Preferred embodiment).
【0012】また、前記した第1の発明、第1の発明の
第1の好適態様〜第23の好適態様においては、表面琺瑯
層の酸化チタン被覆粒子の含有量が、5〜40質量百分率
(以下、質量百分率を%と記す)で、前記した白色釉薬
が、酸化チタン含有釉薬で、表面琺瑯層の酸化チタンの
合計含有量が、TiO2として10〜50%、より好ましくはTi
O2として15〜40%であることが好ましい。Further, in the first invention and the first to twenty-third preferred embodiments of the first invention, the content of the titanium oxide-coated particles in the surface enamel layer is 5 to 40 mass% ( Hereinafter, the mass percentage is expressed as%), and the white glaze is a titanium oxide-containing glaze, and the total content of titanium oxide in the surface enamel layer is 10 to 50% as TiO 2 , more preferably Ti
It is preferable that O 2 be 15 to 40%.
【0013】また、前記した第1の発明、第1の発明の
第1の好適態様〜第23の好適態様においては、前記した
表面琺瑯層の白色釉薬としては、好ましくは酸化チタン
などの白色顔料であってもよい。また、前記した第1の
発明、第1の発明の第1の好適態様〜第23の好適態様に
おいては、前記した金属基材が、冷延鋼板またはアルミ
ニウムめっき鋼板またはZn−Al合金めっき鋼板であるこ
とが好ましく、金属基材として冷延鋼板を用いる場合
は、低炭素鋼板である冷延鋼板またはステンレス鋼板で
ある冷延鋼板を用いることが好ましく、さらにはニッケ
ルめっきを施した冷延鋼板を用いることがより好まし
い。In the above-mentioned first invention and the first to twenty-third preferred embodiments of the first invention, the white glaze of the surface enamel layer is preferably a white pigment such as titanium oxide. It may be. In the first invention and the first to twenty-third preferred embodiments of the first invention, the metal substrate is a cold-rolled steel plate, an aluminum-plated steel plate, or a Zn-Al alloy-plated steel plate. Preferably, when a cold-rolled steel sheet is used as the metal substrate, it is preferable to use a cold-rolled steel sheet that is a low-carbon steel sheet or a cold-rolled steel sheet that is a stainless steel sheet. It is more preferable to use.
【0014】第2の発明は、冷延鋼板の表面に琺瑯下釉
薬を塗布した後、焼成し、得られた下地琺瑯層の表面
に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色釉薬を
含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後700 〜850 ℃、よ
り好ましくは730 〜810 ℃で焼成することを特徴とする
反射スクリーンの製造方法である。第3の発明は、アル
ミニウムめっき鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板の表
面に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色釉薬
を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後400 〜600 ℃で
焼成することを特徴とする反射スクリーンの製造方法で
ある。In a second aspect of the present invention, a glaze under the enamel is applied to the surface of the cold-rolled steel sheet and then fired, and the surface of the resulting enamel layer contains a powder composed of particles coated with titanium oxide and a white glaze. A method of manufacturing a reflective screen, comprising applying a glaze on an enamel, followed by firing at 700 to 850 ° C, more preferably 730 to 810 ° C. A third invention is to apply a powder composed of titanium oxide-coated particles and a glaze on an enamel containing a white glaze to the surface of an aluminum-plated steel plate or a Zn-Al alloy-plated steel plate, and then fire at 400 to 600 ° C. A method for manufacturing a reflective screen, characterized in that:
【0015】前記した第2の発明、第3の発明において
は、前記した琺瑯上釉薬が、白色釉薬を含有する琺瑯用
フリットと水との混合物の粉砕で得られた泥状物に、酸
化チタン被覆粒子で構成される粉末を添加、混合して得
られた琺瑯上釉薬であることが好ましい(第2の発明の
第1の好適態様、第3の発明の第1の好適態様)。第4
の発明は、冷延鋼板の表面に琺瑯下釉薬を塗布した後、
焼成し、得られた下地琺瑯層の表面に、いずれもが酸化
チタン被覆粒子で構成され、それぞれの平均粒径が異な
る少なくとも2種類の粉末と、白色釉薬と、より好まし
くはさらに透明釉薬とを含有する琺瑯上釉薬を塗布し、
その後700 〜850 ℃、より好ましくは730 〜810 ℃で焼
成することを特徴とする反射スクリーンの製造方法であ
る。In the second and third aspects of the present invention, the above-mentioned enamel glaze may be coated with a titanium oxide on a mud obtained by pulverizing a mixture of an enamel frit containing white glaze and water. The enamel glaze is preferably obtained by adding and mixing a powder composed of coated particles (the first preferred embodiment of the second invention and the first preferred embodiment of the third invention). 4th
After applying the glaze under the enamel to the surface of the cold-rolled steel sheet,
After baking, on the surface of the obtained base enamel layer, at least two kinds of powders each composed of titanium oxide-coated particles, each having a different average particle size, a white glaze, and more preferably a transparent glaze. Apply enamel glaze to contain,
Thereafter, it is fired at 700 to 850 ° C, more preferably at 730 to 810 ° C, and is a method of manufacturing a reflective screen.
【0016】第5の発明は、アルミニウムめっき鋼板も
しくはZn−Al合金めっき鋼板の表面に、いずれもが酸化
チタン被覆粒子で構成され、それぞれの平均粒径が異な
る少なくとも2種類の粉末と、白色釉薬と、より好まし
くはさらに透明釉薬とを含有する琺瑯上釉薬を塗布し、
その後400 〜600 ℃で焼成することを特徴とする反射ス
クリーンの製造方法である。According to a fifth aspect of the present invention, at least two kinds of powders each composed of titanium oxide-coated particles, each having a different average particle diameter, and a white glaze are provided on the surface of an aluminum-plated steel sheet or a Zn-Al alloy-plated steel sheet. And, more preferably, a glaze over enamel containing a transparent glaze,
Thereafter, it is fired at 400 to 600 ° C. to produce a reflective screen.
【0017】前記した第4の発明、第5の発明において
は、前記琺瑯上釉薬が、白色釉薬、より好ましくはさら
に透明釉薬を含有する琺瑯用フリットと、水との混合物
の粉砕で得られた泥状物に、いずれもが酸化チタン被覆
粒子で構成され、それぞれの平均粒径が異なる少なくと
も2種類の粉末を添加、混合して得られた琺瑯上釉薬で
あることが好ましい(第4の発明の第1の好適態様、第
5の発明の第1の好適態様)。In the fourth and fifth aspects of the present invention, the glaze on the enamel is obtained by pulverizing a mixture of a white glaze, more preferably a frit for enamel containing a transparent glaze, and water. It is preferable to use an enamel glaze obtained by adding and mixing at least two kinds of powders, each of which is composed of titanium oxide-coated particles, each having a different average particle diameter, to the muddy material (the fourth invention) First preferred embodiment of the present invention, and the first preferred embodiment of the fifth invention).
【0018】また、前記した第2の発明、第2の発明の
第1の好適態様、第3の発明、第3の発明の第1の好適
態様、第4の発明、第4の発明の第1の好適態様、第5
の発明、第5の発明の第1の好適態様においては、前記
した酸化チタン被覆粒子の粒径が好ましくは100 μm 以
下、さらには80μm 以下であることがより好ましい(第
2の発明の第2の好適態様、第3の好適態様、第3の発
明の第2の好適態様、第3の好適態様、第4の発明の第
2の好適態様、第3の好適態様、第5の発明の第2の好
適態様、第3の好適態様)。Further, the second invention, the first preferred embodiment of the second invention, the third invention, the first preferred embodiment of the third invention, the fourth invention, and the fourth invention Preferred Embodiment 1 of Embodiment 5
In the first preferred embodiment of the fifth invention and the fifth invention, the particle diameter of the titanium oxide-coated particles is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less (the second invention of the second invention). Of the third aspect, the second aspect of the third aspect, the third aspect, the second aspect of the fourth aspect, the third aspect, and the fifth aspect of the invention. 2 preferred embodiment, 3rd preferred embodiment).
【0019】また、前記した第2の発明、第2の発明の
第1の好適態様〜第3の好適態様、第3の発明、第3の
発明の第1の好適態様〜第3の好適態様、第4の発明、
第4の発明の第1の好適態様〜第3の好適態様、第5の
発明、第5の発明の第1の好適態様〜第3の好適態様に
おいては、前記した酸化チタン被覆粒子が、雲母粒子の
表面に酸化チタンを被覆した粒子であることが好ましい
(第2の発明の第4の好適態様〜第7の好適態様、第3
の発明の第4の好適態様〜第7の好適態様、第4の発明
の第4の好適態様〜第7の好適態様、第5の発明の第4
の好適態様〜第7の好適態様)。Further, the first to third preferred embodiments of the second invention and the second invention described above, the first to third preferred embodiments of the third invention and the third invention, and the third preferred embodiment. , The fourth invention,
In the first preferred embodiment to the third preferred embodiment of the fourth invention, the fifth invention, and the first preferred embodiment to the third preferred embodiment of the fifth invention, the above-described titanium oxide-coated particles are preferably mica. It is preferable that the surface of the particle is a particle coated with titanium oxide (the fourth to seventh preferred embodiments of the second invention, the third to the seventh preferred embodiments).
Fourth preferred embodiment to seventh preferred embodiment of the invention, fourth preferred embodiment to seventh preferred embodiment of the fourth invention, fourth preferred embodiment of the fifth invention
Preferred embodiment to seventh preferred embodiment).
【0020】また、前記した第2の発明の第4の好適態
様〜第7の好適態様、第3の発明の第4の好適態様〜第
7の好適態様、第4の発明の第4の好適態様〜第7の好
適態様、第5の発明の第4の好適態様〜第7の好適態様
においては、前記雲母粒子が薄板状雲母粒子であること
が好ましい(第2の発明の第8の好適態様〜第11の好適
態様、第3の発明の第8の好適態様〜第11の好適態様、
第4の発明の第8の好適態様〜第11の好適態様、第5の
発明の第8の好適態様〜第11の好適態様)。Further, the fourth to seventh preferred embodiments of the second invention described above, the fourth to seventh preferred embodiments of the third invention, and the fourth preferred embodiment of the fourth invention. In the aspect to the seventh preferred aspect and the fourth to seventh preferred aspects of the fifth invention, the mica particles are preferably sheet-like mica particles (the eighth preferred aspect of the second invention). Aspects to eleventh preferred aspects, eighth preferred aspects to eleventh preferred aspects of the third invention,
Eighth to eleventh preferred aspects of the fourth invention, and eighth to eleventh preferred aspects of the fifth invention).
【0021】また、前記した第2の発明〜第5の発明お
よび第2の発明〜第5の発明それぞれの第1の好適態様
〜第11の好適態様においては、前記した白色釉薬を含有
する琺瑯上釉薬が、好ましくは酸化チタンなどの白色顔
料を含有する琺瑯上釉薬であってもよい。また、前記し
た第2の発明の第1の好適態様、第3の発明の第1の好
適態様においては、前記した白色釉薬を含有する琺瑯用
フリットと水との混合物が、好ましくは酸化チタンなど
の白色顔料と琺瑯用フリットと水との混合物であっても
よい。In the first to eleventh preferred embodiments of the second to fifth inventions and the second to fifth inventions, respectively, the enamel containing the white glaze described above may be used. The top glaze may be an enamel top glaze, preferably containing a white pigment such as titanium oxide. In the first preferred embodiment of the second invention and the first preferred embodiment of the third invention, the mixture of the enamel frit containing white glaze and water is preferably titanium oxide or the like. And a mixture of white pigment, enamel frit and water.
【0022】さらに、前記した第4の発明の第1の好適
態様、第5の発明の第1の好適態様においては、前記し
た白色釉薬、より好ましくはさらに透明釉薬を含有する
琺瑯用フリットと、水との混合物が、好ましくは酸化チ
タンなどの白色顔料と、好ましくは透明釉薬を含有する
琺瑯用フリットと、水との混合物であってもよい。Further, in the first preferred embodiment of the fourth invention and the first preferred embodiment of the fifth invention, an enamel frit containing the white glaze, more preferably a transparent glaze, The mixture with water may be a mixture of a white pigment, preferably titanium oxide, an enamel frit, preferably containing a transparent glaze, and water.
【0023】[0023]
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明者らは、前記した課題を解決するために鋭
意検討した結果、下記知見を見出し、本発明に至った。 (1) 鮮映性機能向上型反射スクリーン(第1の発明):
反射スクリーンの表面皮膜として、酸化チタン被覆粒子
と白色釉薬を含有する琺瑯層(以下、反射スクリーンの
表面皮膜としての琺瑯層を表面琺瑯層と記す)を形成す
ることによって、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反
射輝度および広い視野角を有し、しかもハレーションの
少ない鮮映性機能向上型反射スクリーンを得ることがで
きる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail. Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found the following findings, leading to the present invention. (1) Reflective screen with improved sharpness function (first invention):
By forming an enamel layer containing titanium oxide-coated particles and a white glaze as a surface film of the reflection screen (hereinafter, an enamel layer as a surface film of the reflection screen is referred to as a surface enamel layer), the image is excellent in sharpness. However, it is possible to obtain a reflection screen which is clear, has sufficient reflection luminance and a wide viewing angle, and has improved sharpness function with less halation.
【0024】(2) 鮮映性・拡散反射性機能向上型反射ス
クリーン(第1の発明の第1の好適態様):反射スクリ
ーンの表面皮膜として、酸化チタン被覆粒子と白色釉薬
を含有する琺瑯層(:表面琺瑯層)を形成すると共に、
該表面琺瑯層の表面に所定の表面粗さを付与することに
よって、拡散反射と正反射を高度に融合させ、さらに広
い視野角を有し、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反
射輝度を有し、しかもハレーションがほとんど見られな
い鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリーンを得る
ことができる。(2) Reflective screen with improved sharpness / diffuse reflective function (first preferred embodiment of the first invention): An enamel layer containing titanium oxide-coated particles and white glaze as a surface film of the reflective screen (: Surface enamel layer)
By imparting a predetermined surface roughness to the surface of the surface enamel layer, the diffuse reflection and the regular reflection are highly fused, having a wider viewing angle, excellent clarity, clear images, and sufficient reflection. It is possible to obtain a reflection screen having improved brightness and diffuse reflection function, which has luminance and hardly shows halation.
【0025】(3) 鮮映性・消去性機能向上型反射スクリ
ーン(第1の発明の第2の好適態様):反射スクリーン
の表面皮膜として、酸化チタン被覆粒子と、白色釉薬
と、より好ましくはさらに透明釉薬とを含有する琺瑯層
(:表面琺瑯層)を形成すると共に、該表面琺瑯層の表
面粗さおよび光沢度の両者が特定範囲内となるように規
制することによって、マーカーなどによる描書の消去性
機能が向上すると共に、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十
分な反射輝度および広い視野角を有し、しかもハレーシ
ョンの少ない鮮映性・消去性機能向上型反射スクリーン
を得ることができる。(3) Reflective screen with improved sharpness / erasability function (second preferred embodiment of the first invention): As the surface film of the reflective screen, titanium oxide-coated particles, white glaze, and more preferably Further, by forming an enamel layer containing transparent glaze (surface enamel layer) and regulating both the surface roughness and the glossiness of the surface enamel layer to be within a specific range, it is possible to draw with a marker or the like. To obtain a reflective screen with improved erasability function of writing, excellent clarity, clear image, sufficient reflection luminance and wide viewing angle, and improved clarity / erasability function with little halation Can be.
【0026】(4) 鮮映性機能向上型反射スクリーン、鮮
映性・拡散反射性機能向上型反射スクリーンの製造方法
(第2の発明、第3の発明):前記した表面琺瑯層形成
時に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色釉薬
を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後、金属基材が冷
延鋼板の場合は、700〜850 ℃、より好ましくは730 〜8
10 ℃で焼成し(第2の発明)、金属基材がアルミニウ
ムめっき鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板の場合は、
400 〜600 ℃で焼成する(第3の発明)。(4) Method for manufacturing reflective screen with improved sharpness function and reflective screen with improved sharpness / diffuse reflective function (second invention and third invention): A powder composed of titanium oxide-coated particles and an enamel glaze containing a white glaze are applied, and thereafter, when the metal substrate is a cold-rolled steel plate, 700 to 850 ° C., more preferably 730 to 850 ° C.
When baked at 10 ° C (second invention) and the metal substrate is an aluminum-plated steel plate or a Zn-Al alloy-plated steel plate,
Firing at 400-600 ° C. (third invention).
【0027】上記した製造方法によれば、琺瑯上釉薬塗
布層を上記温度範囲内で焼成することによって、従来の
スクリーンにはない表面硬度(モース硬度≧4)が得ら
れ、マーカーなどによる描写(書き込み)、マーカー専
用イレーザーなどによる消去が可能で、耐傷付き性、耐
衝撃性、防汚染性、洗浄回復性に優れた鮮映性機能向上
型反射スクリーン、鮮映性・拡散反射性機能向上型反射
スクリーンを得ることができる。According to the above-described manufacturing method, the surface hardness (Mohs hardness ≧ 4) which cannot be obtained by the conventional screen can be obtained by firing the enamel glaze coating layer within the above-mentioned temperature range. Writing), erasing by marker eraser, etc. is possible, reflective screen with improved scratch resistance, impact resistance, stain resistance, and recovery from cleaning, improved reflective screen function, improved reflective / diffuse reflective function A reflective screen can be obtained.
【0028】上記した第2の発明、第3の発明において
は、上記した琺瑯上釉薬として、琺瑯用フリットと水と
の混合物の粉砕で得られた泥状物(以下、スリップとも
記す)に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末を添
加、混合して得られた琺瑯上釉薬を用いることによっ
て、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度を有す
る反射スクリーンを得ることができる(第2の発明の第
1の好適態様、第3の発明の第1の好適態様)。In the second and third aspects of the present invention, as the above-mentioned enamel glaze, a mud (hereinafter also referred to as a slip) obtained by pulverizing a mixture of an enamel frit and water may be used. By using an enamel glaze obtained by adding and mixing a powder composed of titanium oxide-coated particles, it is possible to obtain a reflection screen having excellent clarity, a clear image, and sufficient reflection luminance ( First preferred embodiment of the second invention, first preferred embodiment of the third invention).
【0029】(5) 鮮映性・消去性機能向上型反射スクリ
ーンの製造方法(第4の発明、第5の発明):前記した
表面琺瑯層形成に際して、いずれもが酸化チタン被覆粒
子で構成され、それぞれの平均粒径が異なる少なくとも
2種類の粉末と、白色釉薬と、より好ましくはさらに透
明釉薬とを含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後、金属
基材が冷延鋼板の場合は、700 〜850 ℃、より好ましく
は730 〜810 ℃で焼成し(第4の発明)、金属基材がア
ルミニウムめっき鋼板もしくはZn−Alめっき鋼板の場合
は、400 〜600 ℃で焼成する(第5の発明)。(5) Method for producing reflective screen with improved sharpness / erasability function (fourth and fifth inventions): In the formation of the above-mentioned surface enamel layer, both are composed of titanium oxide-coated particles. Applying a glaze on enamel containing at least two kinds of powders each having a different average particle size, a white glaze, and more preferably a transparent glaze, and then, when the metal substrate is a cold-rolled steel plate, 700 g -850 ° C, more preferably 730-810 ° C (fourth invention), and when the metal substrate is an aluminum-plated steel plate or Zn-Al-plated steel plate, it is fired at 400-600 ° C (fifth invention). ).
【0030】上記した製造方法によれば、スクリーン表
面の凹凸および光沢度の両者が特定範囲内に規制され、
マーカーなどによる描書の消去性機能が向上し、さらに
は、凹凸の規制に伴う相反する作用である鮮映性の低下
および視野角の低下を防止することができ、鮮映性に優
れ画像が鮮明で、十分な反射輝度および広い視野角を有
し、しかもハレーションの少ない鮮映性・消去性機能向
上型反射スクリーンを得ることができる。According to the above-described manufacturing method, both the unevenness of the screen surface and the glossiness are regulated within a specific range,
The function of erasing the writing with markers etc. is improved, and furthermore, it is possible to prevent the reduction of sharpness and the viewing angle which are the contradictory effects due to the regulation of unevenness, and the image with excellent sharpness It is possible to obtain a reflection screen which is clear, has sufficient reflection luminance and a wide viewing angle, and has improved sharpness and erasability functions with little halation.
【0031】上記した第4の発明、第5の発明において
は、上記した琺瑯上釉薬として、琺瑯用フリットと水と
の混合物の粉砕で得られた泥状物(:スリップ)に、酸
化チタン被覆粒子で構成される平均粒径の異なる少なく
とも2種類の粉末を添加、混合して得られた琺瑯上釉薬
を用いることによって、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十
分な反射輝度を有する反射スクリーンを得ることができ
る(第4の発明の第1の好適態様、第5の発明の第1の
好適態様)。In the fourth and fifth aspects of the present invention, as the above-mentioned enamel glaze, a muddy substance (slip) obtained by pulverizing a mixture of an enamel frit and water is coated with titanium oxide. By using at least two kinds of powders having different average particle diameters composed of particles and adding and mixing, a reflective screen having excellent clarity, a clear image, and a sufficient reflection luminance is obtained by using an enamel glaze. (First preferred embodiment of the fourth invention, first preferred embodiment of the fifth invention).
【0032】以下、本発明を、I.金属基材、II. 第1の
発明(反射スクリーン)、III.第2の発明〜第5の発明
(反射スクリーンの製造方法)の順に説明する。なお、
以下、本発明に係わる釉薬、酸化チタン被覆粒子で構成
される粉末などの原料、琺瑯層などにおける各元素の好
適含有量は、それぞれの元素の後記する酸化物換算の含
有量として示す。Hereinafter, the present invention will be described in the order of I. metal base material, II. First invention (reflection screen), III. Second invention to fifth invention (reflection screen manufacturing method). In addition,
Hereinafter, the preferable content of each element in the glaze, the raw material such as the powder composed of the titanium oxide-coated particles, the enamel layer and the like according to the present invention is shown as the content of each element in terms of oxide described later.
【0033】I.金属基材:本発明における金属基材とし
ては、特に制限を受けるものではないが、冷延鋼板が好
ましく、冷延鋼板としては低炭素鋼板、ステンレス鋼板
が好ましい。また、冷延鋼板としては、該鋼板と釉薬と
の密着性向上のために、ニッケルめっきを施した冷延鋼
板を用いることが好ましく、さらには、低炭素鋼板もし
くはステンレス鋼板にニッケルめっきを施した冷延鋼板
を用いることがより好ましい。I. Metal substrate: The metal substrate in the present invention is not particularly limited, but a cold-rolled steel plate is preferable, and a low-carbon steel plate or a stainless steel plate is preferable as the cold-rolled steel plate. Further, as the cold-rolled steel sheet, it is preferable to use a nickel-plated cold-rolled steel sheet for improving the adhesion between the steel sheet and the glaze, and further, a nickel-plated low-carbon steel sheet or a stainless steel sheet is used. It is more preferable to use a cold-rolled steel sheet.
【0034】なお、上記した低炭素鋼板としては、炭素
含有率が200mass-ppm 以下、より好ましくは炭素含有率
が100mass-ppm 以下、さらに好ましくは炭素含有率が50
mass-ppm以下の極低炭素鋼板を用いることが好ましい。
また、上記したニッケルめっきとしては、無電解ニッケ
ルめっき(ニッケルフラッシュめっき)が好ましい。The low-carbon steel sheet has a carbon content of 200 mass-ppm or less, more preferably 100 mass-ppm or less, still more preferably 50 mass-ppm or less.
It is preferable to use an ultra-low carbon steel sheet having a mass-ppm or less.
Further, as the nickel plating, electroless nickel plating (nickel flash plating) is preferable.
【0035】また、無電解ニッケルめっきとしては、硫
酸ニッケル溶液などニッケル含有溶液に鋼板を浸漬する
浸漬法などを用いることができる。また、本発明におけ
る金属基材としては、アルミニウムめっき鋼板、Zn−Al
合金めっき鋼板を用いることも好ましい。なお、上記し
たZn−Al合金めっき鋼板としては、Zn−Al合金めっき層
中のアルミニウム含有率が4〜70質量百分率(%)で、
該Zn−Al合金めっき層中に残部として亜鉛および不可避
的不純物、あるいはさらにめっき皮膜の特性を向上させ
るための添加物質を含有するZn−Al合金めっき鋼板であ
ることが好ましい。As the electroless nickel plating, an immersion method in which a steel sheet is immersed in a nickel-containing solution such as a nickel sulfate solution can be used. Further, as the metal substrate in the present invention, aluminum-plated steel sheet, Zn-Al
It is also preferable to use an alloy plated steel sheet. In addition, as for the above-mentioned Zn-Al alloy plated steel sheet, the aluminum content in the Zn-Al alloy plated layer is 4 to 70% by mass (%),
It is preferable that the Zn—Al alloy plated steel sheet contains zinc and inevitable impurities as a balance in the Zn—Al alloy plated layer, or an additive substance for further improving the properties of the plated film.
【0036】II. 第1の発明(反射スクリーン):第1
の発明は、金属基材の外表面に、酸化チタン被覆粒子と
白色釉薬を含有する表面琺瑯層を有する反射スクリーン
である。本発明によれば、反射スクリーンの表面皮膜と
して、酸化チタン被覆粒子と白色釉薬を含有する琺瑯層
(:表面琺瑯層)を形成することによって、鮮映性に優
れ画像が鮮明で、十分な反射輝度および広い視野角を有
し、しかもハレーションの少ない鮮映性機能向上型反射
スクリーンを得ることができる。II. First Invention (Reflective Screen): First
The present invention is a reflective screen having a surface enamel layer containing titanium oxide-coated particles and white glaze on the outer surface of a metal substrate. According to the present invention, an enamel layer containing titanium oxide-coated particles and a white glaze (a surface enamel layer) is formed as a surface film of a reflective screen, so that the image is excellent in sharpness and the image is clear and sufficient reflection is achieved. It is possible to obtain a reflection screen having improved brightness and a reduced viewing angle, having a high brightness and a wide viewing angle.
【0037】これは、反射スクリーンの表面皮膜に酸化
チタン被覆粒子を含有せしめることによって、鮮映性が
向上すると共に、表面琺瑯層の表面に凹凸が形成され、
拡散反射性が向上し、ハレーションが抑制されるためで
ある。本発明においては、表面琺瑯層の酸化チタン被覆
粒子の含有量は、5〜40質量百分率(%)であることが
好ましく、さらには10〜40%であることがより好まし
い。This is because, by incorporating titanium oxide-coated particles in the surface film of the reflection screen, the sharpness is improved, and irregularities are formed on the surface of the surface enamel layer.
This is because the diffuse reflectivity is improved and halation is suppressed. In the present invention, the content of the titanium oxide-coated particles in the surface enamel layer is preferably 5 to 40% by mass (%), and more preferably 10 to 40%.
【0038】表面琺瑯層の酸化チタン被覆粒子の含有量
が5%未満の場合は、鮮映性、拡散反射性向上効果が少
ない。これに対して、酸化チタン被覆粒子の含有量が5
%以上の場合、鮮映性が向上すると共に、表面の凹凸が
増し、拡散反射性が向上し、視野角に優れた反射スクリ
ーンを得ることができる。When the content of the titanium oxide-coated particles in the surface enamel layer is less than 5%, the effect of improving sharpness and diffuse reflection is small. On the other hand, when the content of the titanium oxide-coated particles is 5
% Or more, not only the sharpness is improved, but also the unevenness of the surface is increased, the diffuse reflection property is improved, and a reflective screen having an excellent viewing angle can be obtained.
【0039】逆に、表面琺瑯層の酸化チタン被覆粒子の
含有量が40%を超える場合、表面粗さ:Raが過剰に大き
くなり、画像が不鮮明となる。なお、本発明において
は、前記した表面琺瑯層の白色釉薬としては、好ましく
は酸化チタンなどの白色顔料であってもよい。また、本
発明においては、前記した白色釉薬が、酸化チタン含有
釉薬であることが好ましく、さらには、表面琺瑯層の酸
化チタン含有量(:酸化チタン被覆粒子の酸化チタンを
含めた酸化チタンの合計含有量)が、TiO2として10〜50
%、より好ましくはTiO2として15〜40%であることが好
ましい。Conversely, when the content of the titanium oxide-coated particles in the surface enamel layer exceeds 40%, the surface roughness (Ra) becomes excessively large, and the image becomes unclear. In the present invention, a white pigment such as titanium oxide may be preferably used as the white glaze for the surface enamel layer. In the present invention, the above-mentioned white glaze is preferably a titanium oxide-containing glaze. Further, the titanium oxide content of the surface enamel layer (: the total amount of titanium oxide including titanium oxide of the titanium oxide-coated particles) Content) is 10 to 50 as TiO 2
%, And more preferably 15 to 40% as TiO 2.
【0040】これは、表面琺瑯層の酸化チタン含有
量(:酸化チタン被覆粒子の酸化チタンを含めた酸化チ
タンの合計含有量、以下、酸化チタンの合計含有量とも
記す)をTiO2として10%以上と規定することによって、
下地表面が隠蔽されると共に、表層が白色化され画像の
色調再現性に優れた反射スクリーンを得ることができ、
逆に、表面琺瑯層の酸化チタンの合計含有量がTiO2とし
て50%を超える場合は、琺瑯層の密着性が低下するため
である。This is because the content of titanium oxide in the surface enamel layer (: the total content of titanium oxide including titanium oxide in the titanium oxide-coated particles, hereinafter also referred to as the total content of titanium oxide) is 10% as TiO 2. By stipulating the above,
While the base surface is concealed, the surface layer can be whitened to obtain a reflective screen with excellent color tone reproducibility of the image,
Conversely, when the total content of titanium oxide in the surface enamel layer exceeds 50% as TiO 2 , the adhesion of the enamel layer is reduced.
【0041】また、本発明においては、酸化チタン被覆
粒子の粒径が100 μm 以下であることが好ましく、さら
には80μm 以下であることがより好ましい。これは、酸
化チタン被覆粒子の粒径が100 μm を超える場合、前記
と同様に、表面琺瑯層の表面粗さ:Raが過剰に大きくな
り、画像が不鮮明となるためである。In the present invention, the particle diameter of the titanium oxide-coated particles is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less. This is because, when the particle diameter of the titanium oxide-coated particles exceeds 100 μm, the surface roughness Ra of the surface enamel layer becomes excessively large and the image becomes unclear as described above.
【0042】また、本発明においては、酸化チタン被覆
粒子の粒径が5μm 以上、80μm 以下であることがさら
に好ましい。これは、粒径の下限を規制することによっ
て、拡散反射性がさらに向上するためである。また、本
発明においては、酸化チタン被覆粒子が、雲母粒子の表
面に酸化チタンを被覆した粒子であることが好ましく、
さらに上記雲母粒子が薄板状雲母粒子であることがより
好ましい。In the present invention, the particle diameter of the titanium oxide-coated particles is more preferably 5 μm or more and 80 μm or less. This is because by regulating the lower limit of the particle size, the diffuse reflectivity is further improved. Further, in the present invention, the titanium oxide-coated particles are preferably particles in which the surface of mica particles is coated with titanium oxide,
Further, it is more preferable that the mica particles are lamellar mica particles.
【0043】これは、雲母粒子が無色であり酸化チタン
被覆雲母粒子の光の反射能が優れ、さらに雲母粒子とし
て薄板状雲母粒子を用いることによって、琺瑯層の光の
反射輝度が大きくなるためである。また、本第1の発明
においては、前記表面琺瑯層の表面粗さ:Ra(算術平均
粗さ、JIS B 0601-1994 )が好ましくは2.5 μm 以上、
より好ましくは2.5 μm 以上、10μm 以下、さらには2.
7 μm 以上、10μm 以下であることがより好ましい(第
1の発明の第1の好適態様)。This is because the mica particles are colorless and the titanium oxide-coated mica particles have excellent light reflectivity, and the use of thin plate mica particles as the mica particles increases the light reflection luminance of the enamel layer. is there. In the first invention, the surface enamel layer has a surface roughness Ra (arithmetic mean roughness, JIS B 0601-1994) of preferably 2.5 μm or more,
More preferably 2.5 μm or more, 10 μm or less, and more preferably 2.
More preferably, it is 7 μm or more and 10 μm or less (a first preferred embodiment of the first invention).
【0044】これは、表面琺瑯層の表面粗さ:Ra(算術
平均粗さ)を上記範囲とすることによって、拡散反射と
正反射を高度に融合させ、さらに広い視野角を有し鮮映
性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度を有し、しかも
ハレーションがほとんど見られない鮮映性・拡散反射性
機能向上型反射スクリーンを得ることができるためであ
る。This is because, by setting the surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of the surface enamel layer to the above range, diffuse reflection and specular reflection are highly fused, and a wider viewing angle is obtained and sharpness is improved. This is because it is possible to obtain a reflection screen with improved sharpness / diffuse reflection function, which is excellent in image quality, has sufficient reflection luminance, and hardly shows halation.
【0045】表面琺瑯層の表面粗さ:Raが2.5 μm 未満
の場合は、拡散反射性が低下し、表面粗さ:Raが10μm
を超える場合は、鮮明な画像が得られない。なお、上記
した表面琺瑯層の表面粗さ:Ra(算術平均粗さ)は、琺
瑯層の酸化チタン被覆粒子の含有量、焼成温度を本発明
における好適範囲内で調整することによって制御でき
る。When the surface enamel layer has a surface roughness Ra of less than 2.5 μm, the diffuse reflectivity decreases, and the surface roughness Ra is 10 μm.
If it exceeds, a clear image cannot be obtained. The surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of the surface enamel layer can be controlled by adjusting the content of the titanium oxide-coated particles of the enamel layer and the sintering temperature within a preferable range in the present invention.
【0046】また、本第1の発明においては、表面琺瑯
層の表面粗さ:Ra(算術平均粗さ)が好ましくは1.5 μ
m 以上、2.5 μm 未満、より好ましくは1.7 μm 以上、
2.0μm 以下、さらに好ましくは1.70μm 以上、1.95μm
以下、最も好ましくは1.70μm 以上、1.90μm 以下
で、かつ、光沢度:Gs(45°)(JIS Z 8741-1983 )が
15〜25%であることが好ましい(第1の発明の第2の好
適態様)。In the first aspect of the present invention, the surface enamel layer preferably has a surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of 1.5 μm.
m or more, less than 2.5 μm, more preferably 1.7 μm or more,
2.0 μm or less, more preferably 1.70 μm or more, 1.95 μm
Or less, most preferably 1.70 μm or more and 1.90 μm or less, and glossiness: Gs (45 °) (JIS Z 8741-1983)
It is preferably 15 to 25% (second preferred embodiment of the first invention).
【0047】これは、表面琺瑯層の表面粗さ:Ra(算術
平均粗さ)および光沢度:Gs(45°)の両者を上記範囲
内に規制することによって、マーカーなどによる描書の
消去性機能が向上すると共に、鮮映性に優れ画像が鮮明
で、十分な反射輝度および広い視野角を有し、しかもハ
レーションの少ない鮮映性・消去性機能向上型反射スク
リーンを得ることができるためである。This is because the surface roughness of the surface enamel layer: Ra (arithmetic mean roughness) and the glossiness: Gs (45 °) are both controlled within the above ranges, so that the erasability of a picture by a marker or the like can be improved. It is possible to obtain a reflection screen with improved sharpness, excellent image clarity, sharp reflection, sufficient reflection luminance and wide viewing angle, and improved sharpness and erasability with less halation. is there.
【0048】表面琺瑯層の表面粗さ:Raが1.5 μm 未満
の場合は、拡散反射性が低下し、表面粗さ:Raが2.5 μ
m 以上の場合は、消去性機能が低下する。また、光沢
度:Gs(45°)が15%未満の場合、消去性機能が低下
し、光沢度:Gs(45°)が25%を超える場合、ハレーシ
ョンが増加する。なお、上記した表面琺瑯層の表面粗
さ:Ra(算術平均粗さ)および光沢度:Gs(45°)は、
琺瑯層の酸化チタン被覆粒子の含有量、酸化チタン被覆
粒子の粒径分布および焼成温度を本発明における好適範
囲内で調整することによって制御することができる。When the surface roughness of the surface enamel layer: Ra is less than 1.5 μm, the diffuse reflectivity decreases, and the surface roughness: Ra is 2.5 μm.
If it is more than m, the erasability function is reduced. Further, when the glossiness: Gs (45 °) is less than 15%, the erasability function decreases, and when the glossiness: Gs (45 °) exceeds 25%, halation increases. The surface roughness of the surface enamel layer described above: Ra (arithmetic mean roughness) and glossiness: Gs (45 °)
The content can be controlled by adjusting the content of the titanium oxide-coated particles in the enamel layer, the particle size distribution of the titanium oxide-coated particles, and the sintering temperature within the preferable ranges in the present invention.
【0049】また、上記した第1の発明の第2の好適態
様においては、表面琺瑯層が、白色釉薬に加えてさらに
透明釉薬を含有することがより好ましい。これは、表面
琺瑯層が透明釉薬を含有することによって、表面琺瑯層
内部に埋没した酸化チタン被覆粒子の鮮映性、拡散反射
性向上作用が発揮され、鮮映性に優れ、視野角が広く、
ハレーションの少ない反射スクリーンを得ることができ
るためである。In the second preferred embodiment of the first invention, it is more preferable that the surface enamel layer further contains a transparent glaze in addition to the white glaze. This is because the surface enamel layer contains a transparent glaze, which enhances the sharpness and diffuse reflection of the titanium oxide-coated particles buried inside the surface enamel layer, providing excellent sharpness and a wide viewing angle. ,
This is because a reflection screen with less halation can be obtained.
【0050】なお、上記した第1の発明の第2の好適態
様における白色釉薬および透明釉薬を含有する表面琺瑯
層としては、前記したように酸化チタンの合計含有量
が、TiO2として10〜50%、より好ましくはTiO2として15
〜40%であり、かつ、B2O3を1〜25%含有する表面琺瑯
層であることが好ましい。上記した第1の発明の第2の
好適態様の反射スクリーンは、特に、後記する第4の発
明、第5の発明の反射スクリーンの製造方法によって容
易に製造することができる。As described above, the surface enamel layer containing the white glaze and the transparent glaze in the second preferred embodiment of the first invention has a total content of titanium oxide of 10 to 50 as TiO 2 as described above. %, More preferably 15 as TiO 2
It is preferably a surface enamel layer containing 240% and B 2 O 3 1〜1-25%. The above-mentioned reflection screen of the second preferred embodiment of the first invention can be easily manufactured, in particular, by the method of manufacturing the reflection screen of the fourth invention or the fifth invention described later.
【0051】本発明における反射スクリーンの表面皮膜
である酸化チタン被覆粒子と白色釉薬を含有する表面琺
瑯層の膜厚は、10〜 300μm であることが好ましい。こ
れは、表面琺瑯層の膜厚が10μm 未満の場合、下地の隠
蔽性が劣り、逆に 300μm を超える場合、そりが生じた
り、表面粗さの制御が困難となるためである。The thickness of the surface enamel layer containing the titanium oxide-coated particles and the white glaze, which is the surface film of the reflection screen in the present invention, is preferably 10 to 300 μm. This is because when the film thickness of the surface enamel layer is less than 10 μm, the concealing property of the underlayer is inferior, and when it exceeds 300 μm, warpage occurs and it becomes difficult to control the surface roughness.
【0052】本発明における表面琺瑯層の白色釉薬とし
ては、白色でかつ下地表面が透けて見えない高隠蔽性釉
薬が好ましい。これは、上記した白色の高隠蔽性釉薬を
用いることによって、下地表面が隠蔽されると共に表層
が白色化され画像の色調再現性に優れた反射スクリーン
を得ることができるためである。As the white glaze for the surface enamel layer in the present invention, a high-concealment glaze which is white and whose base surface cannot be seen through is preferable. This is because, by using the above-mentioned white high-glazing glaze, the base surface is concealed and the surface layer is whitened, so that a reflective screen having excellent color tone reproducibility of an image can be obtained.
【0053】前記した白色の高隠蔽性釉薬としては、反
射スクリーンの投影性、反射性の面から酸化チタン、酸
化ジルコニウム、酸化アンチモンおよび酸化亜鉛から選
ばれる1種または2種以上を含有する釉薬が好ましい。
なお、上記した白色の高隠蔽性釉薬としては、酸化チタ
ン、酸化ジルコニウム、酸化アンチモンおよび酸化亜鉛
から選ばれる1種または2種以上である白色顔料を含有
する釉薬であってもよい。As the above-mentioned white highly concealable glaze, a glaze containing one or more selected from titanium oxide, zirconium oxide, antimony oxide and zinc oxide in view of the projecting and reflecting properties of the reflective screen. preferable.
The above-mentioned white high-concealment glaze may be a glaze containing one or more white pigments selected from titanium oxide, zirconium oxide, antimony oxide and zinc oxide.
【0054】また、前記した白色の高隠蔽性釉薬として
は、本発明における金属基材として冷延鋼板を用いる場
合は、反射スクリーンの投影性、反射性の面から、少な
くとも酸化チタンを含有する釉薬(以下、酸化チタン含
有釉薬とも記す)が特に好ましい。上記した酸化チタン
含有釉薬としては、TiO2を10〜30%含有する釉薬が好ま
しい。When a cold-rolled steel sheet is used as the metal substrate in the present invention, the glaze containing at least titanium oxide should be used in view of the projecting and reflecting properties of the reflective screen. (Hereinafter also referred to as a titanium oxide-containing glaze) is particularly preferred. The titanium oxide-containing glaze described above, glaze containing TiO 2 10 to 30% are preferred.
【0055】また、酸化チタン含有釉薬としては、TiO2
を10〜30%含有し、残部として、SiO2: 0〜80%、 Al2
O3:0〜20%、 B2O3: 0〜25%、 Na2O: 0〜20%、 K2O:0
〜20%、 Li2O: 0〜20%、P2O5: 0〜10%、ZrO2: 0 〜
20%、 BaO:0〜15%、CaO:0〜15%、MgO:0 〜5 %、 Pb
O:0〜40%、 ZnO:0〜50%、CaF2: 0〜10%などを含有
するTiO2系釉薬を用いることができる。As the glaze containing titanium oxide, TiO 2
10 to 30%, with the balance being SiO 2 : 0 to 80%, Al 2
O 3: 0~20%, B 2 O 3: 0~25%, Na 2 O: 0~20%, K 2 O: 0
~20%, Li 2 O: 0~20 %, P 2 O 5: 0~10%, ZrO 2: 0 ~
20%, BaO: 0-15%, CaO: 0-15%, MgO: 0-5%, Pb
O: 0~40%, ZnO: 0~50 %, CaF 2: can be used TiO 2 system glaze containing like 0-10%.
【0056】また、本発明における金属基材としてアル
ミニウムめっき鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板を用
いる場合は、前記した白色の高隠蔽性釉薬としては、低
温焼き付け性および反射スクリーンの投影性、反射性の
面から、酸化リンを含有する釉薬(以下、リン酸系釉薬
とも記す)に、白色顔料として少なくとも酸化チタン、
酸化ジルコニウム、酸化アンチモンおよび酸化亜鉛から
選ばれる1種または2種以上を添加した釉薬が特に好ま
しい。When an aluminum-plated steel sheet or a Zn—Al alloy-plated steel sheet is used as the metal substrate in the present invention, the above-mentioned white high-concealment glaze may be a low-temperature baking property and a projection or reflection property of a reflection screen. From the viewpoint of, a glaze containing phosphorus oxide (hereinafter also referred to as a phosphoric acid glaze), at least titanium oxide as a white pigment,
Glazes added with one or more selected from zirconium oxide, antimony oxide and zinc oxide are particularly preferred.
【0057】上記したリン酸系釉薬としては、P2O5を40
〜70%含有する釉薬が好ましい。また、リン酸系釉薬と
しては、P2O5を40〜70%含有し、残部として、SiO2: 0
〜40%、 Al2O3:0〜50%、 B2O3: 0〜25%、 Na2O: 0〜
20%、 K2O:0〜20%、 Li2O: 0〜20%、TiO2:0〜30%、
Sb2O3: 0〜25%、ZnO: 0〜20%、 BaO:0〜15%、CaO:0
〜15%、MgO: 0〜10%、 PbO:0〜10%、 SrO:0〜20%な
どを含有するP2O5系釉薬を用いることができる。As the above-mentioned phosphoric acid glaze, P 2 O 5
Glazes containing ~ 70% are preferred. The phosphoric acid glaze contains 40 to 70% of P 2 O 5 , and the balance is SiO 2 : 0.
~40%, Al 2 O 3: 0~50%, B 2 O 3: 0~25%, Na 2 O: 0~
20%, K 2 O: 0~20 %, Li 2 O: 0~20%, TiO 2: 0~30%,
Sb 2 O 3 : 0 to 25%, ZnO: 0 to 20%, BaO: 0 to 15%, CaO: 0
A P 2 O 5 glaze containing 1515%, MgO: 0 to 10%, PbO: 0 to 10%, SrO: 0 to 20% can be used.
【0058】また、前記した表面琺瑯層の透明釉薬とし
ては、特に制限されるものではないが、ほうけいさん系
ガラスを用いることが好ましい。ほうけいさん系ガラス
としては、SiO2を40〜80%、B2O3を 5〜25%、 Na2O 、
K2OおよびLi2Oから選ばれる1または2種以上を合計量
として 5〜25%含有し、残部として Al2O3:0〜10%、Ba
O: 0〜15%、CaO: 0〜15%、MgO: 0〜5 %、Fe2O 3: 0〜
2 %、ZnO: 0〜10%、P2O5: 0〜20%、TiO2: 0〜30
%、CaF2: 0〜10%などを含有するほうけいさん系ガラ
スが好ましい。Further, the above-mentioned transparent glaze for the surface enamel layer is used.
Although it is not particularly limited,
It is preferable to use glass. Hokei-based glass
As SiOTwoThe 40-80%, BTwoOThree5-25%, NaTwoO,
KTwoO and LiTwoTotal amount of one or more selected from O
5 to 25%, with the balance being AlTwoOThree: 0 to 10%, Ba
O: 0 to 15%, CaO: 0 to 15%, MgO: 0 to 5%, FeTwoO Three: 0-
2%, ZnO: 0 ~ 10%, PTwoOFive: 0-20%, TiOTwo: 0-30
%, CaFTwo: Hokei-based gala containing 0-10% etc.
Is preferred.
【0059】以上、第1の発明およびそのさらに好適な
態様について述べたが、本第1の発明における表面琺瑯
層のさらに好適な組成は、下記の通りである。 (1) 金属基材として冷延鋼板を用いる場合: (1-1) 鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリーン
(第1の発明の第1の好適態様):前記したように、表
面琺瑯層の白色釉薬が、酸化チタン含有釉薬で、表面琺
瑯層の酸化チタンの合計含有量(:酸化チタン被覆粒子
の酸化チタンを含めた酸化チタンの合計含有量)が、Ti
O2として10〜50%、より好ましくはTiO2として15〜40%
であり、Na2O、K2O およびLi2Oから選ばれる1種または
2種以上を合計量で5〜25%、B2O3を1〜25%、SiO2お
よび/またはAl2O3 を合計量で15〜50%含有する表面琺
瑯層であることが好ましい。The first invention and its more preferred embodiments have been described above. The more preferred composition of the surface enamel layer in the first invention is as follows. (1) When cold-rolled steel sheet is used as the metal substrate: (1-1) Reflective screen with improved sharpness and diffuse reflection function (first preferred embodiment of the first invention): As described above, the surface The white glaze in the enamel layer is a titanium oxide-containing glaze, and the total content of titanium oxide in the surface enamel layer (: the total content of titanium oxide including titanium oxide in the titanium oxide-coated particles) is Ti
O 2 as 10-50%, more preferably 15% to 40% as TiO 2
And one or more selected from Na 2 O, K 2 O and Li 2 O in a total amount of 5 to 25%, B 2 O 3 of 1 to 25%, SiO 2 and / or Al 2 O It is preferable that the surface enamel layer contains 15 to 50% in total of 3 .
【0060】(1-2) 鮮映性・消去性機能向上型反射スク
リーン(第1の発明の第2の好適態様):前記したよう
に、表面琺瑯層の白色釉薬が、酸化チタン含有釉薬で、
表面琺瑯層の酸化チタンの合計含有量(:酸化チタン被
覆粒子の酸化チタンを含めた酸化チタンの合計含有量)
が、TiO2として10〜50%、より好ましくはTiO2として15
〜40%であり、Na2O、K2O およびLi2Oから選ばれる1種
または2種以上を合計量で5〜30%、B2O3を1〜25%、
SiO2および/またはAl2O3 を合計量で20〜55%含有する
表面琺瑯層であることが好ましい。(1-2) Reflective screen with improved sharpness / erasability function (second preferred embodiment of the first invention): As described above, the white glaze of the surface enamel layer is a glaze containing titanium oxide. ,
Total content of titanium oxide in surface enamel layer (: Total content of titanium oxide including titanium oxide in titanium oxide-coated particles)
15 but 10-50% as TiO 2, more preferably a TiO 2
4040%, one or two or more selected from Na 2 O, K 2 O and Li 2 O in a total amount of 5 to 30%, B 2 O 3 of 1 to 25%,
The surface enamel layer preferably contains 20 to 55% of SiO 2 and / or Al 2 O 3 in total.
【0061】(2) 金属基材としてアルミニウムめっき鋼
板もしくはZn−Al合金めっき鋼板を用いる場合: (2-1) 鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリーン
(第1の発明の第1の好適態様):前記したように、表
面琺瑯層の白色釉薬が、酸化チタン含有釉薬で、表面琺
瑯層の酸化チタンの合計含有量(:酸化チタン被覆粒子
の酸化チタンを含めた酸化チタンの合計含有量)が、Ti
O2として10〜50%、より好ましくはTiO2として15〜40%
であり、P2O5を20〜60%、Na2O、K2O およびLi2Oから選
ばれる1種または2種以上を合計量で2〜25%含有する
表面琺瑯層であることが好ましい。(2) When using an aluminum-plated steel plate or a Zn-Al alloy-plated steel plate as the metal substrate: (2-1) Reflective screen with improved sharpness / diffuse reflection function (the first screen of the first invention) Preferred embodiment): As described above, the white glaze of the surface enamel layer is a titanium oxide-containing glaze, and the total content of titanium oxide in the surface enamel layer (: the total content of titanium oxide including titanium oxide in the titanium oxide-coated particles) Amount) but Ti
O 2 as 10-50%, more preferably 15% to 40% as TiO 2
And a surface enamel layer containing 20 to 60% of P 2 O 5 and 2 to 25% in total of one or more selected from Na 2 O, K 2 O and Li 2 O. preferable.
【0062】また、上記した表面琺瑯層は、上記組成に
おいて、さらにBaO および/またはCaO を合計量で2〜
15%含有する表面琺瑯層であることがより好ましく、さ
らには、上記組成において、さらにBaO および/または
CaO を合計量で2〜15%含有すると共に、Sb2O3 を2〜
15%、ZnO を1〜15%、B2O3を1〜25%含有する表面琺
瑯層であることが特に好ましい。Further, the above-mentioned surface enamel layer may further contain BaO and / or CaO in a total amount of 2 to 2 in the above composition.
A surface enamel layer containing 15% is more preferable, and further, in the above composition, BaO and / or
It contains 2 to 15% of CaO in total and 2 to 3% of Sb 2 O 3 .
It is particularly preferable that the surface enamel layer contains 15%, ZnO 1 to 15%, and B 2 O 3 1 to 25%.
【0063】(2-2) 鮮映性・消去性機能向上型反射スク
リーン(第1の発明の第2の好適態様):前記したよう
に、表面琺瑯層の白色釉薬が、酸化チタン含有釉薬で、
表面琺瑯層の酸化チタンの合計含有量(:酸化チタン被
覆粒子の酸化チタンを含めた酸化チタンの合計含有量)
が、TiO2として10〜50%、より好ましくはTiO2として15
〜40%であり、P2O5を20〜60%、Na2O、K2O およびLi2O
から選ばれる1種または2種以上を合計量で2〜25%、
B2O3を1〜25%含有する表面琺瑯層であることが好まし
い。(2-2) Reflective screen with improved sharpness / erasability function (second preferred embodiment of the first invention): As described above, the white glaze of the surface enamel layer is a glaze containing titanium oxide. ,
Total content of titanium oxide in surface enamel layer (: Total content of titanium oxide including titanium oxide in titanium oxide-coated particles)
15 but 10-50% as TiO 2, more preferably a TiO 2
4040%, P 2 O 5 from 20-60%, Na 2 O, K 2 O and Li 2 O
One or more selected from 2 to 25% in total amount,
The B 2 O 3 is preferably a surface enamel layer containing 1% to 25%.
【0064】また、上記した表面琺瑯層は、上記組成に
おいて、さらにBaO および/またはCaO を合計量で2〜
15%含有する表面琺瑯層であることがより好ましく、さ
らには、上記組成において、さらにBaO および/または
CaO を合計量で2〜15%含有すると共に、Sb2O3 を2〜
15%、ZnO を1〜15%含有する表面琺瑯層であることが
特に好ましい。Further, the above-mentioned surface enamel layer may further contain BaO and / or CaO in a total amount of 2 to 2 in the above composition.
A surface enamel layer containing 15% is more preferable, and further, in the above composition, BaO and / or
It contains 2 to 15% of CaO in total and 2 to 3% of Sb 2 O 3 .
It is particularly preferable that the surface enamel layer contains 15% of ZnO and 1 to 15% of ZnO.
【0065】なお、上記した(1) 、(2) の表面琺瑯層の
組成において、B2O3、Na2O、K2O 、Li2O、BaO およびCa
O は、焼成時の溶融剤としての機能も有する。 III.第2の発明〜第5の発明(反射スクリーンの製造方
法): III.−1.第2の発明、第3の発明(反射スクリーンの
製造方法):第2の発明は、前記した第1の発明の反射
スクリーンの好適な製造方法であり、冷延鋼板の表面に
琺瑯下釉薬を塗布した後、焼成し、得られた下地琺瑯層
の表面に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色
釉薬を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後700 〜850
℃、より好ましくは730 〜810 ℃で焼成する反射スクリ
ーンの製造方法である。In the composition of the surface enamel layer of (1) and (2), B 2 O 3 , Na 2 O, K 2 O, Li 2 O, BaO and Ca
O 2 also has a function as a melting agent during firing. III. Second to Fifth Inventions (Method of Manufacturing Reflective Screen): III.-1. 2nd invention, 3rd invention (method of manufacturing reflective screen): The 2nd invention is a preferred method of manufacturing the reflective screen of the above-mentioned 1st invention, in which a glaze under enamel is applied to the surface of a cold-rolled steel sheet. After the application, it is baked, and the surface of the obtained enamel layer is coated with an enamel glaze containing a powder composed of titanium oxide-coated particles and a white glaze, and then 700 to 850
C., more preferably 730-810.degree. C., for producing a reflective screen.
【0066】また、第3の発明は、同様に、前記した第
1の発明の反射スクリーンの好適な製造方法であり、ア
ルミニウムめっき鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板の
表面に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末と白色釉
薬を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後400 〜600 ℃
で焼成する反射スクリーンの製造方法である。なお、上
記した第3の発明においては、めっき層の溶融防止の面
から、表面琺瑯層の釉薬として、好ましくは前記したリ
ン酸系釉薬などの低融点釉薬を用いる関係上、密着性が
向上し、琺瑯下釉薬の塗布は必ずしも必要ではない。The third invention is also a preferred method of manufacturing the reflection screen according to the first invention, wherein the surface of an aluminum-plated steel plate or a Zn—Al alloy-plated steel plate is coated with titanium oxide-coated particles. Apply the glaze on the enamel containing the composed powder and white glaze, then 400-600 ℃
This is a method for manufacturing a reflective screen to be fired in the above. In the third aspect of the present invention, from the viewpoint of preventing the plating layer from melting, the adhesiveness is improved because a low melting point glaze such as the above-mentioned phosphoric acid type glaze is preferably used as the glaze for the surface enamel layer. However, it is not always necessary to apply an enamel glaze.
【0067】本発明によれば、表面琺瑯層形成時に、琺
瑯上釉薬塗布層を、金属基材の種類および琺瑯上釉薬の
成分に応じて上記した温度範囲内で焼成することによっ
て、従来のスクリーンにはない表面硬度(モース硬度≧
4)が得られ、マーカーなどによる描写(書き込み)、
マーカー専用イレーザーなどによる消去が可能で、耐衝
撃性、防汚染性、洗浄回復性に優れた鮮映性機能向上型
反射スクリーンを得ることができる。According to the present invention, at the time of forming the surface enamel layer, the conventional enamel glaze coating layer is fired within the above-mentioned temperature range according to the type of the metal base material and the components of the enamel glaze, thereby achieving the conventional screen. Surface hardness (Mohs hardness ≧
4) is obtained.
An erasing operation using a marker-dedicated eraser or the like is possible, and it is possible to obtain a reflection screen with improved sharpness and function, which is excellent in impact resistance, stain resistance, and recovery from washing.
【0068】金属基材が冷延鋼板で、琺瑯上釉薬を塗布
した後の焼成温度が700 ℃未満の場合は、得られる反射
スクリーンの表面粗さが大となり過ぎ、鮮明な画像が得
られない。金属基材が冷延鋼板で、焼成温度が850 ℃を
超える場合は、表面琺瑯層の表面の凹凸がなくなって光
沢が上がり、得られる反射スクリーンにハレーションが
生じる。When the metal substrate is a cold-rolled steel sheet and the firing temperature after applying the glaze on the enamel is less than 700 ° C., the surface roughness of the obtained reflection screen becomes too large, and a clear image cannot be obtained. . If the metal substrate is a cold-rolled steel sheet and the firing temperature is higher than 850 ° C., the surface of the surface enamel layer will have no irregularities, the gloss will increase, and the resulting reflective screen will have halation.
【0069】また、金属基材がアルミニウムめっき鋼板
もしくはZn−Al合金めっき鋼板で、琺瑯上釉薬を塗布し
た後の焼成温度が400 ℃未満の場合は、琺瑯層の密着性
が低下する。金属基材がアルミニウムめっき鋼板もしく
はZn−Al合金めっき鋼板で、焼成温度が600 ℃を超える
場合は、めっき層が溶融する問題が生じる。If the metal substrate is an aluminum-plated steel plate or a Zn-Al alloy-plated steel plate and the firing temperature after applying the glaze on the enamel is less than 400 ° C., the adhesion of the enamel layer is reduced. If the metal substrate is an aluminum-plated steel plate or a Zn-Al alloy-plated steel plate and the sintering temperature exceeds 600 ° C., there is a problem that the plating layer is melted.
【0070】また、上記した第2の発明、第3の発明に
おいては、表面琺瑯層を形成する琺瑯上釉薬が、白色釉
薬を含有する琺瑯用フリットと水との混合物の粉砕で得
られた泥状物(:スリップ)に、酸化チタン被覆粒子で
構成される粉末を添加、混合して得られた琺瑯上釉薬で
あることが好ましい(第2の発明の第1の好適態様、第
3の発明の第1の好適態様)。In the second and third aspects of the present invention, the enamel glaze forming the surface enamel layer is obtained by pulverizing a mixture of water and an enamel frit containing a white glaze. It is preferable to use a glaze on an enamel obtained by adding and mixing a powder composed of titanium oxide-coated particles to the substance (: slip) (the first preferred embodiment of the second invention, the third invention) First preferred embodiment).
【0071】これは、スリップ形成後に酸化チタン被覆
粒子で構成される粉末を添加、混合することによって、
酸化チタン被覆粒子の粉砕が防止でき、所定粒径の酸化
チタン被覆粒子を含有する表面琺瑯層を形成することが
でき、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度を有
する反射スクリーンを得ることができるためである。第
2の発明における琺瑯下釉薬としては特に制限を受ける
ものではないが、SiO2系釉薬、P2O5系釉薬などを含有す
る琺瑯下釉薬を用いることができる。This is achieved by adding and mixing a powder composed of titanium oxide-coated particles after forming the slip.
It is possible to prevent the pulverization of the titanium oxide-coated particles, to form a surface enamel layer containing the titanium oxide-coated particles of a predetermined particle size, to provide a reflection screen having excellent sharpness, clear images, and sufficient reflection luminance. This is because they can be obtained. The enamel underglaze in the second invention is not particularly limited, but an enamel underglaze containing a SiO 2 glaze, a P 2 O 5 glaze, or the like can be used.
【0072】SiO2系釉薬としては、SiO2を20〜80%含有
し、残部として、 TiO2: 0〜15%、ZrO2: 0〜20%、 B2
O3: 0〜25%、 Al2O3:0〜10%、 Na2O: 0〜20%、 Li
2O: 0〜20%、 K2O:0〜20%、 PbO:0〜40%、 ZnO:0〜5
0%、 BaO:0〜15%、CaF2: 0〜10%、 CoO:0〜20%、
NiO:0〜20%、 MnO:0〜20%などを含有するSiO2系釉薬
が好ましい。[0072] As the SiO 2 based glaze, the SiO 2 containing 20% to 80%, the balance, TiO 2: 0~15%, ZrO 2: 0~20%, B 2
O 3: 0~25%, Al 2 O 3: 0~10%, Na 2 O: 0~20%, Li
2 O: 0-20%, K 2 O: 0-20%, PbO: 0-40%, ZnO: 0-5
0%, BaO: 0~15%, CaF 2: 0~10%, CoO: 0~20%,
A SiO 2 glaze containing NiO: 0 to 20%, MnO: 0 to 20%, or the like is preferable.
【0073】また、P2O5系釉薬としては、P2O5を30〜70
%含有し、残部として、 TiO2: 0〜15%、 ZrO2: 0〜15
%、 B2O3: 0〜35%、 Al2O3:0〜15%、 Na2O: 0〜20
%、 Li2O: 0〜20%、 K2O:0〜20%、 PbO:0〜50%、 Z
nO:0〜50%、 BaO:0〜15%、 CoO:0〜20%、 NiO:0〜20
%、 MnO:0〜20%などを含有するP2O5系釉薬が好まし
い。As a P 2 O 5 glaze, P 2 O 5 is 30 to 70
%, The balance being TiO 2 : 0 to 15%, ZrO 2 : 0 to 15
%, B 2 O 3: 0~35 %, Al 2 O 3: 0~15%, Na 2 O: 0~20
%, Li 2 O: 0-20%, K 2 O: 0-20%, PbO: 0-50%, Z
nO: 0-50%, BaO: 0-15%, CoO: 0-20%, NiO: 0-20
%, MnO: preferably P 2 O 5 based glazes containing like 0-20%.
【0074】さらに、琺瑯下釉薬としては、スリップの
付着性の向上、琺瑯層内の泡組織の制御などの面から、
さらに粘土や珪石を含有することが好ましい。また、第
2の発明、第3の発明における琺瑯上釉薬中の酸化チタ
ン被覆粒子、白色釉薬としては前記した第1の発明にお
ける酸化チタン被覆粒子、白色釉薬を用いることが好ま
しい。Further, as the enamel underglaze, from the viewpoint of improving the adhesion of the slip and controlling the foam structure in the enamel layer,
Further, it is preferable to contain clay or silica stone. Further, as the titanium oxide-coated particles and the white glaze in the enamel glaze in the second and third inventions, it is preferable to use the titanium oxide-coated particles and the white glaze in the first invention described above.
【0075】なお、上記した白色釉薬としては、酸化チ
タン、酸化ジルコニウム、酸化アンチモンおよび酸化亜
鉛から選ばれる1種または2種以上である白色顔料であ
ってもよい。また、第2の発明、第3の発明における琺
瑯上釉薬の酸化チタン被覆粒子の含有量は、白色釉薬:
100 重量部に対して5〜50重量部であることが好まし
い。The above-mentioned white glaze may be one or more white pigments selected from titanium oxide, zirconium oxide, antimony oxide and zinc oxide. In the second and third aspects of the present invention, the content of the titanium oxide-coated particles of the glaze on the enamel is determined by a white glaze:
It is preferably 5 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight.
【0076】酸化チタン被覆粒子の含有量が5重量部未
満の場合は、鮮映性向上効果が少なく、逆に、50重量部
を超える場合、表面琺瑯層の表面粗さ:Raが過剰に大き
くなり、画像が不鮮明となる。以上、第2の発明、第3
の発明について述べたが、本第2の発明、第3の発明に
おいては、琺瑯上釉薬の酸化チタン被覆粒子の含有量お
よび表面上釉薬焼成時の焼成温度を、前記した好適範囲
内で調整し、表面琺瑯層の表面粗さ:Raを2.5μm 以上
とすることによって、前記した第1の発明の第1の好適
態様である鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリー
ンを製造することができる。When the content of the titanium oxide-coated particles is less than 5 parts by weight, the effect of improving sharpness is small, and when it exceeds 50 parts by weight, the surface roughness Ra of the surface enamel layer is excessively large. And the image becomes unclear. As described above, the second invention and the third invention
In the second and third aspects of the present invention, the content of the titanium oxide-coated particles of the glaze on the enamel and the firing temperature at the time of firing the glaze on the surface are adjusted within the preferred ranges described above. By setting the surface roughness Ra of the surface enamel layer to 2.5 μm or more, it is possible to manufacture the reflection screen with improved sharpness / diffuse reflection function which is the first preferred embodiment of the first invention. it can.
【0077】なお、第2の発明、第3の発明によって製
造する反射スクリーンの表面琺瑯層の好適な組成は、前
記した第1の発明の反射スクリーンの表面琺瑯層の好適
な組成と同様である。また、第2の発明、第3の発明に
おける琺瑯下釉薬、琺瑯上釉薬の施釉法は、特に制限を
受けるものではなく、スプレー法、浸漬法、静電法、電
着法などを用いることができる。The preferred composition of the surface enamel layer of the reflection screen manufactured according to the second and third inventions is the same as the preferred composition of the surface enamel layer of the reflection screen of the first invention. . Further, the glaze method of the lower enamel glaze and the upper enamel glaze in the second invention and the third invention is not particularly limited, and a spray method, a dipping method, an electrostatic method, an electrodeposition method, or the like may be used. it can.
【0078】III.−2.第4の発明、第5の発明(反射
スクリーンの製造方法):第4の発明は、前記した第1
の発明の第2の好適態様の鮮映性・消去性機能向上型反
射スクリーンの製造方法であり、冷延鋼板の表面に琺瑯
下釉薬を塗布した後、焼成し、得られた下地琺瑯層の表
面に、いずれもが酸化チタン被覆粒子で構成され平均粒
径が異なる少なくとも2種類の粉末と、白色釉薬と、好
ましくはさらに透明釉薬を含有する琺瑯上釉薬を塗布
し、その後700 〜850 ℃、より好ましくは730 〜810 ℃
で焼成する反射スクリーンの製造方法である。III.-2. Fourth invention, fifth invention (a method of manufacturing a reflective screen): The fourth invention is directed to the first invention.
The present invention is a method for producing a reflection screen with improved sharpness / erasability function according to the second preferred embodiment of the invention, in which a glaze under the enamel is applied to the surface of a cold-rolled steel sheet, and then baked. The surface is coated with at least two kinds of powders, both composed of titanium oxide-coated particles, having different average particle diameters, a white glaze, and preferably an enamel glaze containing a transparent glaze, and then at 700 to 850 ° C. More preferably 730 to 810 ° C
This is a method for manufacturing a reflective screen to be fired in the above.
【0079】また、第5の発明は、同様に、前記した第
1の発明の第2の好適態様の鮮映性・消去性機能向上型
反射スクリーンの製造方法であり、アルミニウムめっき
鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板の表面に、いずれも
が酸化チタン被覆粒子で構成され、それぞれの平均粒径
が異なる少なくとも2種類の粉末と、白色釉薬と、好ま
しくはさらに透明釉薬を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、
その後400 〜600 ℃で焼成する反射スクリーンの製造方
法である。A fifth invention is also a method for producing a reflection screen with improved sharpness / erasability function according to the second preferred embodiment of the first invention described above, and comprises an aluminum-plated steel sheet or a Zn-based reflection screen. On the surface of the Al alloy-plated steel sheet, apply at least two kinds of powders, each composed of titanium oxide-coated particles, each having a different average particle size, a white glaze, and preferably an enamel glaze containing a transparent glaze. And
After that, it is a method of manufacturing a reflection screen which is fired at 400 to 600 ° C.
【0080】なお、上記した第5の発明においては、前
記した第3の発明と同様に、めっき層の溶融防止の面か
ら、表面琺瑯層の釉薬として、好ましくは前記したリン
酸系釉薬などの低融点釉薬を用いる関係上、密着性が向
上し、琺瑯下釉薬の塗布は必ずしも必要ではない。上記
した第4の発明、第5の発明は、前記した第1の発明の
第2の好適態様の鮮映性・消去性機能向上型反射スクリ
ーンの製造方法として好適に用いられる。In the fifth aspect of the present invention, as in the third aspect of the invention, from the viewpoint of preventing the plating layer from melting, the above-mentioned phosphoric acid glaze is preferably used as the glaze for the surface enamel layer. Due to the use of the low melting point glaze, the adhesion is improved, and the application of the glaze under the enamel is not always necessary. The above-described fourth and fifth aspects of the invention are suitably used as a method of manufacturing the reflection screen with improved sharpness / erasability according to the second aspect of the first aspect of the invention.
【0081】すなわち、上記した第4の発明、第5の発
明によれば、表面琺瑯層に、平均粒径が異なる少なくと
も2種類の粒度分布を有する酸化チタン被覆粒子を含有
せしめることによって、表面琺瑯層の凹凸が規制され、
マーカーなどによる描書の消去性機能が向上する。上記
した酸化チタン被覆粒子で構成され平均粒径が異なる少
なくとも2種類の粉末としては、酸化チタン被覆粒子で
構成され平均粒径が10〜60μm の粉末および酸化チタン
被覆粒子で構成され平均粒径が5〜25μm の粉末の両者
を用いることが好ましい。That is, according to the fourth and fifth aspects of the present invention, the surface enamel layer is made to contain titanium oxide-coated particles having at least two kinds of particle size distributions having different average particle diameters, thereby obtaining the surface enamel. The unevenness of the layer is regulated,
The erasure function of a drawing by a marker etc. is improved. The at least two kinds of powders composed of the above-described titanium oxide-coated particles and having different average particle diameters include a powder composed of titanium oxide-coated particles and having an average particle diameter of 10 to 60 μm and an average particle diameter composed of titanium oxide-coated particles. It is preferred to use both powders of 5 to 25 μm.
【0082】なお、本発明においては、上記した範囲の
平均粒径であって、かつ平均粒径の差が5μm 以上であ
る少なくとも2種類の粉末を用いることがより好まし
い。上記した平均粒径が小さい粉末は、消去性機能向上
に寄与し、平均粒径が大きい粉末は、鮮映性機能向上に
寄与する。本発明においては、上記した平均粒径の差を
5μm 以上とすることによって、表面琺瑯層の凹凸がさ
らに規制され、消去性機能がさらに向上する。In the present invention, it is more preferable to use at least two kinds of powders having an average particle diameter in the above-mentioned range and having a difference of 5 μm or more. The powder having a small average particle diameter contributes to the improvement of the erasability function, and the powder having a large average particle diameter contributes to the improvement of the sharpness function. In the present invention, by setting the difference in the average particle diameter to 5 μm or more, the unevenness of the surface enamel layer is further restricted, and the erasability function is further improved.
【0083】なお、上記した2種類の粉末の配合割合
は、平均粒径の大なる粉末:20〜80重量部に対して、平
均粒径が小なる粉末:80〜20重量部、より好ましくは平
均粒径の大なる粉末:35〜65重量部に対して、平均粒径
が小なる粉末:65〜35重量部であることが好ましい。本
発明においては、琺瑯上釉薬中に、さらに、透明釉薬を
配合することがより好ましい。The mixing ratio of the above two types of powder is such that the powder having a small average particle size is 80 to 20 parts by weight, and the powder having a small average particle size is 20 to 80 parts by weight, more preferably 20 to 80 parts by weight. The powder having a small average particle diameter is preferably 65 to 35 parts by weight with respect to the powder having a large average particle diameter: 35 to 65 parts by weight. In the present invention, it is more preferable to blend a transparent glaze into the enamel glaze.
【0084】これは、琺瑯上釉薬中に、さらに、透明釉
薬を配合することによって、表面琺瑯層内部に埋没した
酸化チタン被覆粒子の鮮映性、拡散反射性向上作用が発
揮され、上記した凹凸の規制に伴う相反する作用である
鮮映性の低下、拡散反射性の低下を防止でき、鮮映性に
優れ、視野角が広く、ハレーションの少ない反射スクリ
ーンを得ることができるためである。This is because, by blending a transparent glaze in the enamel top glaze, the titanium oxide-coated particles buried in the surface enamel layer have the effect of improving the sharpness and diffuse reflection, and the above-described unevenness is obtained. This is because it is possible to prevent a reduction in image sharpness and a decrease in diffuse reflection which are contradictory effects due to the regulation, and to obtain a reflection screen having excellent image sharpness, a wide viewing angle, and little halation.
【0085】第4の発明における琺瑯下釉薬としては、
特に制限を受けるものではないが、前記した第2の発明
における琺瑯下釉薬を用いることが好ましい。また、第
4の発明、第5の発明における琺瑯上釉薬中の酸化チタ
ン被覆粒子、白色釉薬としては、前記した第1の発明に
おける酸化チタン被覆粒子、白色釉薬を用いることが好
ましい。The enamel under glaze in the fourth invention includes:
Although there is no particular limitation, it is preferable to use the glaze under the enamel according to the second invention. Further, as the titanium oxide-coated particles and the white glaze in the enamel glaze in the fourth and fifth inventions, it is preferable to use the titanium oxide-coated particles and the white glaze in the first invention described above.
【0086】なお、上記した白色釉薬としては、酸化チ
タン、酸化ジルコニウム、酸化アンチモンおよび酸化亜
鉛から選ばれる1種または2種以上である白色顔料であ
ってもよい。また、透明釉薬としては、特に制限される
ものではないが、ほうけいさん系ガラスを用いることが
好ましい。The above-mentioned white glaze may be a white pigment which is one or more selected from titanium oxide, zirconium oxide, antimony oxide and zinc oxide. Further, the transparent glaze is not particularly limited, but it is preferable to use Hokekei glass.
【0087】ほうけいさん系ガラスとしては、SiO2を40
〜80%、B2O3を 5〜25%、 Na2O 、K2OおよびLi2Oから
選ばれる1または2種以上を合計量として 5〜25%含有
し、残部として Al2O3:0〜10%、BaO: 0〜15%、CaO: 0
〜15%、MgO: 0〜5 %、Fe2O 3: 0〜2 %、ZnO: 0〜10
%、P2O5: 0〜20%、TiO2:0 〜30%、CaF2: 0〜10%
などを含有するほうけいさん系ガラスが好ましい。As the borosilicate glass, SiOTwoTo 40
~ 80%, BTwoOThree5-25%, NaTwoOKTwoO and LiTwoFrom O
Contains 5 to 25% in total of one or more selected types
And Al as the restTwoOThree: 0 to 10%, BaO: 0 to 15%, CaO: 0
~ 15%, MgO: 0 ~ 5%, FeTwoO Three: 0-2%, ZnO: 0-10
%, PTwoOFive: 0-20%, TiOTwo: 0 to 30%, CaFTwo: 0 ~ 10%
And the like are preferred.
【0088】また、第4の発明、第5の発明における琺
瑯上釉薬の酸化チタン被覆粒子の含有量は、白色釉薬お
よび透明釉薬の合計量:100 重量部に対して5〜50重量
部であることが好ましい。酸化チタン被覆粒子の含有量
が5重量部未満の場合は、鮮映性向上効果が少なく、逆
に、50重量部を超える場合、表面琺瑯層の表面粗さ:Ra
が過剰に大きくなり、画像が不鮮明となる。In the fourth and fifth inventions, the content of the titanium oxide-coated particles in the enamel glaze is 5 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the white glaze and the transparent glaze. Is preferred. When the content of the titanium oxide-coated particles is less than 5 parts by weight, the effect of improving the sharpness is small. Conversely, when the content exceeds 50 parts by weight, the surface roughness of the surface enamel layer: Ra
Becomes excessively large, and the image becomes unclear.
【0089】また、上記琺瑯上釉薬の透明釉薬の含有量
は、白色釉薬および透明釉薬の合計量:100 重量部に対
して5〜50重量部であることが好ましい。透明釉薬の含
有量が5重量部未満の場合は、鮮映性、視野角向上効果
およびハレーション抑制効果が低下し、逆に、50重量部
を超える場合、下地の隠蔽性が劣り、画像の色調再現性
も低下する。The content of the transparent glaze in the above-mentioned enamel glaze is preferably 5 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the white glaze and the transparent glaze. When the content of the transparent glaze is less than 5 parts by weight, the sharpness, the viewing angle improving effect and the halation suppressing effect are deteriorated, and when it exceeds 50 parts by weight, the concealing property of the base is inferior and the color tone of the image Reproducibility also decreases.
【0090】なお、上記した各重量部は、琺瑯上釉薬焼
成後の重量部に換算した重量部を示す。さらに、上記し
た第4の発明、第5の発明によれば、表面琺瑯層形成時
に、琺瑯上釉薬塗布層を、金属基材の種類および琺瑯上
釉薬の成分に応じて前記した温度範囲内で焼成すること
によって、従来のスクリーンにはない表面硬度(モース
硬度≧4)が得られ、マーカーなどによる描写(書き込
み)、マーカー専用イレーザーなどによる消去が可能
で、耐衝撃性、防汚染性、洗浄回復性に優れた鮮映性・
消去性機能向上型反射スクリーンを得ることができる。The above parts by weight are parts by weight converted into parts by weight after enamel glaze firing. Further, according to the fourth and fifth aspects of the present invention, when the surface enamel layer is formed, the enamel glaze coating layer is formed within the above-mentioned temperature range according to the type of the metal substrate and the component of the enamel glaze. By baking, surface hardness (Mohs hardness ≧ 4) not available in conventional screens can be obtained, and depiction (writing) with a marker or the like, erasing with a marker-dedicated eraser, etc. is possible, impact resistance, contamination resistance, and cleaning Excellent clarity with excellent recoverability
A reflective screen with improved erasability can be obtained.
【0091】金属基材が冷延鋼板で、琺瑯上釉薬を塗布
した後の焼成温度が700 ℃未満の場合は、得られる反射
スクリーンの表面粗さが大となり過ぎ、鮮明な画像が得
られず、さらには消去性機能が低下する。金属基材が冷
延鋼板で、焼成温度が850 ℃を超える場合は、表面琺瑯
層の表面の凹凸がなくなって光沢が上がり過ぎ、得られ
る反射スクリーンにハレーションが生じる。If the metal substrate is a cold-rolled steel sheet and the firing temperature after applying the glaze on the enamel is less than 700 ° C., the surface roughness of the obtained reflection screen becomes too large, and a clear image cannot be obtained. In addition, the erasability is reduced. If the metal substrate is a cold-rolled steel sheet and the firing temperature is higher than 850 ° C., the surface of the surface enamel layer will have no irregularities and the gloss will be too high, resulting in halation in the resulting reflective screen.
【0092】また、金属基材がアルミニウムめっき鋼板
もしくはZn−Al合金めっき鋼板で、琺瑯上釉薬を塗布し
た後の焼成温度が400 ℃未満の場合は、琺瑯層の密着性
が低下する。金属基材がアルミニウムめっき鋼板もしく
はZn−Al合金めっき鋼板で、焼成温度が600 ℃を超える
場合は、めっき層が溶融する問題が生じる。If the metal substrate is an aluminum-plated steel plate or a Zn-Al alloy-plated steel plate and the firing temperature after applying the glaze on the enamel is less than 400 ° C., the adhesion of the enamel layer is reduced. If the metal substrate is an aluminum-plated steel plate or a Zn-Al alloy-plated steel plate and the sintering temperature exceeds 600 ° C., there is a problem that the plating layer is melted.
【0093】さらに、上記した第4の発明、第5の発明
においては、表面琺瑯層を形成する琺瑯上釉薬が、白色
釉薬、好ましくはさらに透明釉薬を含有する琺瑯用フリ
ットと水との混合物の粉砕で得られた泥状物(:スリッ
プ)に、いずれもが酸化チタン被覆粒子で構成され、そ
れぞれの平均粒径が異なる少なくとも2種類の粉末を添
加、混合して得られた琺瑯上釉薬であることが好ましい
(第4の発明の第1の好適態様、第5の発明の第1の好
適態様)。Further, in the above fourth and fifth inventions, the glaze on the enamel which forms the surface enamel layer is a mixture of a white glaze, preferably a frit for enamel containing a transparent glaze, and water. To the mud (slip) obtained by the pulverization, at least two kinds of powders each composed of titanium oxide-coated particles and having different average particle diameters are added and mixed. It is preferable (the first preferred embodiment of the fourth invention, the first preferred embodiment of the fifth invention).
【0094】これは、スリップ形成後に酸化チタン被覆
粒子で構成される粉末を添加、混合することによって、
酸化チタン被覆粒子の粉砕が防止でき、所定粒径の酸化
チタン被覆粒子を含有する表面琺瑯層を形成することが
でき、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度を有
する反射スクリーンを得ることができるためである。な
お、上記した第4の発明、第5の発明によって製造する
反射スクリーンの表面琺瑯層の好適な組成は、前記した
第1の発明の反射スクリーンの表面琺瑯層の好適な組成
と同様である。This is accomplished by adding and mixing a powder composed of titanium oxide-coated particles after the slip formation.
It is possible to prevent the pulverization of the titanium oxide-coated particles, to form a surface enamel layer containing the titanium oxide-coated particles of a predetermined particle size, to provide a reflection screen having excellent sharpness, clear images, and sufficient reflection luminance. This is because they can be obtained. The preferred composition of the surface enamel layer of the reflective screen manufactured according to the fourth and fifth aspects is the same as the preferred composition of the surface enamel layer of the reflective screen of the first aspect.
【0095】また、第4の発明、第5の発明における琺
瑯下釉薬、琺瑯上釉薬の施釉法は、特に制限を受けるも
のではなく、スプレー法、浸漬法、静電法、電着法など
を用いることができる。以上、本発明について述べた
が、本発明によれば下記の優れた効果が得られる。Further, the method for applying the glaze under the enamel and the glaze on the enamel according to the fourth and fifth aspects of the present invention is not particularly limited, and includes a spray method, a dipping method, an electrostatic method, an electrodeposition method and the like. Can be used. As described above, the present invention has been described. According to the present invention, the following excellent effects can be obtained.
【0096】〔第1の発明〕(鮮映性機能向上型反射ス
クリーン、鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリー
ンおよび鮮映性・消去性機能向上型反射スクリーン): 鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度および広
い視野角を有し、しかもハレーションの少ない反射スク
リーンを得ることができる(第1の発明:鮮映性機能向
上型反射スクリーン)。[First invention] (Reflection screen with improved clarity function, reflection screen with improved clarity / diffuse reflection function and reflection screen with improved clarity / erasability function): Excellent clarity It is possible to obtain a reflection screen having a clear image, sufficient reflection luminance and a wide viewing angle, and having less halation (first invention: reflection screen with improved sharpness function).
【0097】拡散反射と正反射を高度に融合させ、さ
らに広い視野角を有し、しかもハレーションがほとんど
見られない反射スクリーンを得ることができる(第1の
発明の第1の好適態様:鮮映性・拡散反射性機能向上型
反射スクリーン)。 ホワイトボード用マーカーなどによる描書(書き込
み)が可能で、マーカー専用イレーザーなどで擦ると簡
単に消去でき、また水分を含ませた布で擦ることによっ
ても簡単に消去できる消去性機能に優れた反射スクリー
ンを得ることができる(第1の発明の第2の好適態様:
鮮映性・消去性機能向上型反射スクリーン)。By highly diffusing diffuse reflection and specular reflection, it is possible to obtain a reflection screen having a wider viewing angle and almost no halation (first preferred embodiment of the first invention: clear image) Reflective screen with improved diffuse / reflective function). A reflection with excellent erasability function that can be written (written) with a marker for whiteboard, etc., can be easily erased by rubbing with a marker eraser, etc., and easily erased by rubbing with a moist cloth. A screen can be obtained (second preferred embodiment of the first invention:
Reflective screen with improved sharpness and erasability).
【0098】〔第2の発明〜第5の発明〕(反射スクリ
ーンの製造方法): 従来のスクリーンにはない表面硬度(モース硬度≧
4)が得られ、耐傷付き性、耐衝撃性、防汚染性、洗浄
回復性に優れた反射スクリーンを得ることができる。 酸化チタン被覆粒子で構成され平均粒径が異なる少な
くとも2種類の粉末と、白色釉薬と、さらには、透明釉
薬を含有する琺瑯上釉薬を用いることによって、鮮映性
・消去性機能向上型反射スクリーンを容易に製造するこ
とができる。[Second to Fifth Inventions] (Method of Manufacturing Reflective Screen): Surface hardness not present in conventional screens (Mohs hardness ≧)
4) is obtained, and a reflective screen having excellent scratch resistance, impact resistance, stain resistance, and recovery from washing can be obtained. Reflective screen with improved sharpness / erasability by using at least two kinds of powders composed of titanium oxide-coated particles and having different average particle diameters, a white glaze, and a glaze on an enamel containing a transparent glaze Can be easily manufactured.
【0099】表面琺瑯層を形成する琺瑯上釉薬とし
て、白色釉薬、あるいはさらに透明釉薬を含有する琺瑯
用フリットと水との混合物の粉砕で得られた泥状物(:
スリップ)に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末を
添加、混合して得られた琺瑯上釉薬を用いることによっ
て、鮮映性に優れ画像が鮮明で、十分な反射輝度および
広い視野角を有し、しかもハレーションの少ない反射ス
クリーンを得ることができる。As a glaze on the enamel for forming the surface enamel layer, a mud obtained by grinding a mixture of a white glaze or a frit for enamel containing a transparent glaze and water (:
By adding and mixing a powder composed of titanium oxide-coated particles to the slip), an enamel glaze obtained by mixing is used to provide excellent sharpness, clear images, sufficient reflection luminance and a wide viewing angle. In addition, a reflection screen with less halation can be obtained.
【0100】さらに、本発明の反射スクリーンは、鋼板
など金属基材の加工品のため、布、塩化ビニル加工品の
ようにしわの発生がなく、製造時にテンション維持の必
要がなく加工工程が簡易化できる効果も有する。Further, since the reflective screen of the present invention is a processed product of a metal substrate such as a steel plate, it does not have wrinkles unlike fabrics and processed products of vinyl chloride, does not need to maintain tension during production, and can simplify the processing steps. It also has an effect that can be made.
【0101】[0101]
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてさらに具体
的に説明する。なお、本実施例における反射スクリーン
の特性値の測定および性能評価は、下記方法に基づいて
行った。 (反射輝度:)図3に、反射輝度の測定方法を示す。EXAMPLES The present invention will be described below more specifically based on examples. The measurement of the characteristic values and the performance evaluation of the reflection screen in this example were performed based on the following methods. (Reflection Luminance :) FIG. 3 shows a method of measuring reflection luminance.
【0102】なお、図3において、1は入射光、2は反
射光、3S は反射スクリーンのサンプル、10は光源、11
は輝度計、θは輝度計11の光源10に対する移動角度を示
す。図3に示すように、反射スクリーンのサンプル3S
の中心に垂直方向から光源10によって光を照射し、輝度
計11を、同一円弧上においてサンプル3S の中心に対し
て左右各75度の範囲で5度ずつ移動したポイントでの反
射光の強さを測定した。In FIG. 3, 1 is incident light, 2 is reflected light, 3S is a sample of a reflection screen, 10 is a light source, 11 is a light source,
Indicates a luminance meter, and θ indicates a moving angle of the luminance meter 11 with respect to the light source 10. As shown in FIG. 3, a reflective screen sample 3 S
Center is irradiated with light by the light source 10 from the vertical direction of the luminometer 11, the intensity of the reflected light at the point moved by 5 degrees in the range of each side 75 degrees with respect to the center of the sample 3 S on the same arc Was measured.
【0103】(表面琺瑯層の表面粗さRa:)表面粗度計
を用い、反射スクリーンの表面琺瑯層の表面粗さ:Ra
(算術平均粗さ)(JIS B 0601-1994 )を測定した。 (光沢度:)変角光沢度計を用い、JIS Z 8741-1983 に
基づいて45度鏡面光沢度〔:Gs(45°)〕を測定した。(Surface Roughness of Surface Enamel Layer: Using a Surface Roughness Meter)
(Arithmetic average roughness) (JIS B 0601-1994) was measured. (Glossiness) Using a variable-angle glossmeter, 45-degree specular glossiness [: Gs (45 °)] was measured based on JIS Z 8741-1983.
【0104】(表面琺瑯層の硬度:)反射スクリーンの
表面琺瑯層のモース硬度を測定した。 (液晶プロジェクターによる画像の評価:)液晶プロジ
ェクターによって投影された反射スクリーン上の画像
を、目視で評価した。(Hardness of Surface Enamel Layer) The Mohs hardness of the surface enamel layer of the reflection screen was measured. (Evaluation of image by liquid crystal projector :) The image on the reflection screen projected by the liquid crystal projector was visually evaluated.
【0105】なお、ハレーション抑制度を、下記基準で
評価した。 ◎:ハレーションがほとんど見られない。 ○:ハレーションが若干見られる。 ×:ハレーションが顕著に見られる。 (描書マーカーの消去性:)反射スクリーンに、下記2
種類のホワイトボード用マーカーで描書した。The degree of suppression of halation was evaluated according to the following criteria. :: Almost no halation was observed. :: Some halation is observed. X: Halation is remarkably observed. (Erasability of drawing marker :)
Painted with different whiteboard markers.
【0106】ホワイトボード用マーカー: WBMV-L-B〔商品名、黒、(株)パイロット社製〕 PMB-102 〔商品名、黒、コクヨ(株)社製〕 次に、反射スクリーンの描書面上に、下記ホワイトボー
ド用マーカー専用イレーザーを当て、その上に500gの分
銅を載置し、荷重を負荷した状態で一定速度条件下、イ
レーザーを水平方向に引張る操作を所定回数行い、描書
マーカーが全て消えるまでの必要回数(:必要消去回
数)を測定した。Whiteboard marker: WBMV-LB [trade name, black, manufactured by Pilot Corporation] PMB-102 [trade name, black, manufactured by KOKUYO Co., Ltd.] The following whiteboard marker dedicated eraser is applied, a 500g weight is placed on it, and the operation of pulling the eraser in the horizontal direction is performed a predetermined number of times under a constant speed under a load, and all the drawing markers are The required number of times until disappearance (the required number of erases) was measured.
【0107】イレーザー:ブラシタイプイレーザー〔商
品名:WBE-L 、(株)パイロット社製〕 〔実施例1、実施例2〕(冷延鋼板を基材とした鮮映性
機能向上型反射スクリーン、鮮映性・拡散反射性機能向
上型反射スクリーン): SiO2系釉薬:100 重量部に、粘土:5重量部、硅石粉:
10重量部、ホウ砂:0.4 重量部、亜硝酸ソーダ:0.15重
量部、水:47重量部を添加した配合原料をボールミルに
投入し、混合、粉砕して泥状物(:スリップ)(琺瑯下
釉薬)を作製した。Eraser: Brush type eraser [trade name: WBE-L, manufactured by Pilot Co., Ltd.] [Examples 1 and 2] (Reflection screen with improved sharpness function using cold-rolled steel sheet as a base material, Reflective screen with improved sharpness and diffuse reflection function): SiO 2 glaze: 100 parts by weight, clay: 5 parts by weight, silica powder:
10 parts by weight, borax: 0.4 parts by weight, sodium nitrite: 0.15 parts by weight, and water: 47 parts by weight are charged into a ball mill, mixed, pulverized, and a mud (: slip) (under an enamel) Glaze).
【0108】また、表1に示す組成の白色釉薬(琺瑯用
フリット):100 重量部に、粘土:5重量部、塩化カリ
ウム:0.20重量部、水:50重量部を添加した配合原料を
ボールミルに投入し、混合、粉砕して泥状物(:スリッ
プ)を作製した。次に、白色釉薬を用いて作製した上記
スリップ:100 重量部(焼成後の重量換算)に対して、
下記に示す酸化チタン被覆粒子で構成される粉末(:酸
化チタン被覆粒子粉末)を20重量部添加、混合し、琺瑯
上釉薬Aを作製した。A ball mill was prepared by adding a blending material obtained by adding 5 parts by weight of clay, 0.20 parts by weight of potassium chloride, and 50 parts by weight of water to 100 parts by weight of a white glaze (frit for enamel) having the composition shown in Table 1. It was charged, mixed and pulverized to produce a mud (: slip). Next, for the slip: 100 parts by weight (weight conversion after firing) produced using white glaze,
20 parts by weight of a powder composed of titanium oxide-coated particles shown below (: titanium oxide-coated particle powder) was added and mixed to prepare enamel glaze A.
【0109】(酸化チタン被覆粒子粉末:)薄板状雲母
粒子の表面に酸化チタンを被覆した酸化チタン被覆粒子
で構成される粉末 粒径 :10〜60μm 平均粒径:19μm TiO2被覆率(含有量):30% なお、上記した粒径は、レーザ回折式粒度分布測定装置
で測定し、平均粒径は50%累積粒子径を示す。(Titanium oxide coated particle powder) Powder composed of titanium oxide coated particles in which the surface of thin mica particles is coated with titanium oxide Particle size: 10 to 60 μm Average particle size: 19 μm TiO 2 coverage (content ): 30% The above particle size is measured by a laser diffraction type particle size distribution analyzer, and the average particle size indicates a 50% cumulative particle size.
【0110】次に、前記で得られた琺瑯下釉薬を、反射
スクリーンの基板(金属基材)である鋼板の表面にスプ
レー法で施釉した後、800 ℃で焼成して鋼板表面に下地
琺瑯層を形成した。なお、鋼板としては、炭素含有率が
50mass-ppmである極低炭素鋼板を硫酸ニッケル水溶液に
浸漬して処理したニッケルめっき鋼板を用いた。Next, the underglaze enamel obtained above was glazed on the surface of a steel plate as a substrate (metal substrate) of a reflection screen by a spray method, and then baked at 800 ° C. to form a base enamel layer on the steel plate surface. Was formed. In addition, as a steel sheet, the carbon content is
A nickel-plated steel sheet treated by immersing a very low carbon steel sheet of 50 mass-ppm in a nickel sulfate aqueous solution was used.
【0111】次に、上記で得られた下地琺瑯層の上に、
前記で得られた琺瑯上釉薬Aをスプレー法で施釉した
後、750 ℃(実施例1)もしくは755 ℃(実施例2)で
焼成し、鋼板の外表面に膜厚:70μm で表2に示す組成
および酸化チタン被覆粒子含有量の表面琺瑯層を形成
し、反射スクリーンのサンプルを試作した。次に、得ら
れた反射スクリーンのサンプルの反射輝度、光沢度、表
面琺瑯層の表面粗さ:Ra(算術平均粗さ)およびモース
硬度を測定した。Next, on the base enamel layer obtained above,
The enamel glaze A obtained above was glazed by a spray method and then fired at 750 ° C. (Example 1) or 755 ° C. (Example 2). A surface enamel layer having the composition and the content of the titanium oxide-coated particles was formed, and a sample of a reflection screen was produced as a trial. Next, the reflection luminance, glossiness, surface roughness of the surface enamel layer: Ra (arithmetic mean roughness) and Mohs hardness of the obtained reflection screen sample were measured.
【0112】また、液晶プロジェクターによる画像の評
価を行った。図1に、本発明の反射スクリーンの反射輝
度の測定結果を、従来の拡散反射型スクリーン(塩ビ
製)、回帰反射型スクリーン(ガラスビーズを被覆した
塩ビ製)の反射輝度と対比して示す。また、表3に、本
発明の反射スクリーンの画像の評価結果を、従来の拡散
反射型スクリーン、回帰反射型スクリーンと対比して示
す。Further, an image was evaluated by a liquid crystal projector. FIG. 1 shows the measurement results of the reflection luminance of the reflection screen of the present invention in comparison with the reflection luminance of a conventional diffuse reflection screen (made of PVC) and a retroreflective screen (made of PVC coated with glass beads). Table 3 shows the evaluation results of the image of the reflection screen of the present invention in comparison with the conventional diffuse reflection screen and the regression reflection screen.
【0113】また、表4に、本発明の反射スクリーンの
表面琺瑯層の表面粗さ:Ra、光沢度:Gs(45°)、モー
ス硬度の測定結果を示す。図1に示されるように、本発
明の反射スクリーンが、広視野角でかつ鮮映性に優れ、
十分な反射輝度を有していることが分かった。また、表
3に示されるように、本発明の反射スクリーンが、広視
野角で画像が鮮明で明るい場所でも非常に見やすく、ハ
レーションが少ないことが分かった。Table 4 shows the results of measurement of the surface roughness of the surface enamel layer of the reflection screen of the present invention: Ra, gloss: Gs (45 °), and Mohs hardness. As shown in FIG. 1, the reflective screen of the present invention has a wide viewing angle and excellent sharpness,
It turned out that it has sufficient reflection luminance. Further, as shown in Table 3, it was found that the reflective screen of the present invention was very easy to see even in a place where the image was clear and bright at a wide viewing angle, and there was little halation.
【0114】また、表4に示されるように、本発明の反
射スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬
度(モース硬度≧4)を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に
優れることが分かった。さらに、図1、表3および表4
の実施例1に示されるように、表面琺瑯層の表面に所定
の表面粗さ(:Ra≧2.5 μm )を付与することによっ
て、特に広い視野角が得られると共に、ハレーションを
極めて効果的に抑制できることが分かった。Further, as shown in Table 4, the reflective screen of the present invention has a surface hardness (Mohs hardness ≧ 4) which is not available in the conventional reflective screen, and is excellent in scratch resistance and impact resistance. Do you get it. Further, FIG. 1, Table 3 and Table 4
As shown in Example 1, by giving a predetermined surface roughness (: Ra ≧ 2.5 μm) to the surface of the surface enamel layer, a particularly wide viewing angle can be obtained and halation can be suppressed very effectively. I knew I could do it.
【0115】〔実施例3〕(冷延鋼板を基材とした鮮映
性・消去性機能向上型反射スクリーン): SiO2系釉薬:100 重量部に、粘土:5重量部、硅石粉:
10重量部、ホウ砂:0.4 重量部、亜硝酸ソーダ:0.15重
量部、水:47重量部を添加した配合原料をボールミルに
投入し、混合、粉砕して泥状物(:スリップ)(琺瑯下
釉薬)を作製した。[Example 3] (Reflection screen with improved sharpness / erasability function using cold rolled steel base material): SiO 2 glaze: 100 parts by weight, clay: 5 parts by weight, silica powder:
10 parts by weight, borax: 0.4 parts by weight, sodium nitrite: 0.15 parts by weight, and water: 47 parts by weight are charged into a ball mill, mixed, pulverized, and a mud (: slip) (under an enamel) Glaze).
【0116】また、表1に示す組成の白色釉薬(琺瑯用
フリット):80重量部に、表1に示す組成の透明釉薬
(琺瑯用フリット):20重量部、粘土:5重量部、塩化
カリウム:0.20重量部、水:50重量部を添加した配合原
料をボールミルに投入し、混合、粉砕して泥状物(:ス
リップ)を作製した。次に、白色釉薬および透明釉薬を
用いて作製した上記スリップ:100 重量部(焼成後の重
量換算)に対して、下記に示す酸化チタン被覆粒子で構
成される粉末(:酸化チタン被覆粒子粉末)PAおよびPB
をそれぞれ10.5重量部、10.5重量部添加、混合し、琺瑯
上釉薬Bを作製した。Further, 80 parts by weight of white glaze (frit for enamel) having the composition shown in Table 1, 20 parts by weight of transparent glaze (frit for enamel) having the composition shown in Table 1, 5 parts by weight of clay, potassium chloride : 0.20 parts by weight and 50 parts by weight of water were charged into a ball mill, mixed and pulverized to prepare a mud (: slip). Next, for the slip prepared using a white glaze and a transparent glaze: 100 parts by weight (in terms of weight after firing), a powder composed of the following titanium oxide-coated particles (: titanium oxide-coated particle powder) PA and PB
Was added and mixed in an amount of 10.5 parts by weight and 10.5 parts by weight, respectively, to prepare enamel glaze B.
【0117】(酸化チタン被覆粒子粉末:)薄板状雲母
粒子の表面に酸化チタンを被覆した酸化チタン被覆粒子
で構成される粉末 (粉末PA;) 粒径 :10〜60μm 平均粒径:19μm TiO2被覆率(含有量):30% (粉末PB;) 粒径 :5〜25μm 平均粒径:11μm TiO2被覆率(含有量):38% なお、上記した粒径は、レーザ回折式粒度分布測定装置
で測定し、平均粒径は50%累積粒子径を示す。(Titanium oxide-coated particle powder) Powder composed of titanium oxide-coated particles having titanium oxide coated on the surface of lamellar mica particles (powder PA;) Particle size: 10 to 60 μm Average particle size: 19 μm TiO 2 Coverage (content): 30% (powder PB;) Particle size: 5 to 25 μm Average particle size: 11 μm TiO 2 coverage (content): 38% The above particle size is measured by laser diffraction particle size distribution measurement. The average particle size is measured by an apparatus, and indicates the 50% cumulative particle size.
【0118】次に、前記で得られた琺瑯下釉薬を、反射
スクリーンの基板(金属基材)である鋼板の表面にスプ
レー法で施釉した後、800 ℃で焼成して鋼板表面に下地
琺瑯層を形成した。なお、鋼板としては、前記した実施
例1、2と同じニッケルめっき極低炭素鋼板を用いた。Next, the underglaze enamel obtained above was glazed on the surface of a steel plate as a substrate (metal substrate) of a reflection screen by a spray method, and then baked at 800 ° C. to form a base enamel layer on the surface of the steel plate. Was formed. Note that, as the steel sheet, the same nickel-plated ultra-low carbon steel sheet as in Examples 1 and 2 was used.
【0119】次に、上記で得られた下地琺瑯層の上に、
前記で得られた琺瑯上釉薬Bをスプレー法で施釉した
後、760 ℃で焼成し、鋼板の外表面に膜厚:70μm で表
5に示す組成および酸化チタン被覆粒子含有量の表面琺
瑯層を形成し、反射スクリーンのサンプルを試作した。
次に、得られた反射スクリーンのサンプルの反射輝度、
光沢度、表面琺瑯層の表面粗さ:Ra(算術平均粗さ)、
モース硬度および描書マーカーの消去性(必要消去回
数)を測定した。Next, on the base enamel layer obtained above,
The enamel glaze B obtained above was glazed by a spray method, and then baked at 760 ° C. to form a surface enamel layer having a thickness of 70 μm and a composition shown in Table 5 and a content of titanium oxide-coated particles on the outer surface of the steel sheet. Formed and prototyped reflective screen samples.
Next, the reflection luminance of the obtained reflection screen sample,
Gloss, surface roughness of surface enamel layer: Ra (arithmetic mean roughness),
The Mohs hardness and the erasability (required number of erasures) of the writing marker were measured.
【0120】また、液晶プロジェクターによる画像の評
価を行った。図2に、本発明の反射スクリーンの反射輝
度の測定結果を、従来の拡散反射型スクリーン(塩ビ
製)、回帰反射型スクリーン(ガラスビーズを被覆した
塩ビ製)の反射輝度と対比して示す。また、表6に、本
発明の反射スクリーンの画像の評価結果および描書マー
カーの消去性を、従来の拡散反射型スクリーン、回帰反
射型スクリーンと対比して示す。Further, an image was evaluated by a liquid crystal projector. FIG. 2 shows the measurement results of the reflection luminance of the reflection screen of the present invention in comparison with the reflection luminance of a conventional diffuse reflection screen (made of PVC) and a retroreflective screen (made of PVC coated with glass beads). Table 6 shows the evaluation results of the image of the reflective screen of the present invention and the erasability of the drawing marker in comparison with the conventional diffuse reflection screen and the regression reflection screen.
【0121】また、表7に、本発明の反射スクリーンの
表面琺瑯層の表面粗さ:Ra、光沢度:Gs(45°)、モー
ス硬度の測定結果を示す。図2および表6に示されるよ
うに、本発明の反射スクリーンは、消去性機能に優れる
と共に、ハレーションの発生を抑制することができ、広
視野角で鮮映性に優れ、十分な反射輝度を有し、画像が
鮮明な反射スクリーンであることが分かった。Table 7 shows the measurement results of the surface roughness of the surface enamel layer of the reflection screen of the present invention: Ra, gloss: Gs (45 °), and Mohs hardness. As shown in FIG. 2 and Table 6, the reflective screen of the present invention has an excellent erasability function, can suppress the occurrence of halation, is excellent in sharpness at a wide viewing angle, and has a sufficient reflection luminance. And the image was found to be a clear reflective screen.
【0122】また、表7に示されるように、本発明の反
射スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬
度(モース硬度≧4)を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に
優れることが分かった。 〔実施例4〕(アルミニウムめっき鋼板を基材とした鮮
映性・拡散反射性機能向上型反射スクリーン):表8に
示す組成のリン酸系釉薬(琺瑯用フリット):100 重量
部に、硝酸ソーダ:0.20重量部、酸化チタン(TiO2 、白
色顔料):30重量部、水:50重量部を添加した配合原料
をボールミルに投入し、混合、粉砕して泥状物(:スリ
ップ)を作製した。Further, as shown in Table 7, the reflective screen of the present invention has a surface hardness (Mohs hardness ≧ 4) which is not available in the conventional reflective screen, and is excellent in scratch resistance and impact resistance. Do you get it. [Example 4] (Reflection screen with improved clarity / diffuse reflection function using aluminum-plated steel sheet as base material): Phosphoric acid glaze (frit for enamel) having composition shown in Table 8: 100 parts by weight of nitric acid A blending material containing 0.20 parts by weight of soda, 30 parts by weight of titanium oxide (TiO 2 , white pigment) and 50 parts by weight of water is put into a ball mill, mixed and pulverized to produce a muddy substance (: slip). did.
【0123】次に、リン酸系釉薬および白色顔料を用い
て作製した上記スリップ:100 重量部(焼成後の重量換
算)に対して、前記した実施例1、実施例2で用いたと
同じ酸化チタン被覆粒子で構成される粉末(:酸化チタ
ン被覆粒子粉末)を20重量部添加、混合し、琺瑯上釉薬
Cを作製した。次に、上記で得られた琺瑯上釉薬Cを、
反射スクリーンの基板(金属基材)であるアルミニウム
めっき鋼板の表面にスプレー法で施釉した後、525 ℃で
焼成し、鋼板の外表面に膜厚:40μm で表9に示す組成
および酸化チタン被覆粒子含有量の表面琺瑯層を形成
し、反射スクリーンのサンプルを試作した。Next, with respect to 100 parts by weight (in terms of weight after firing) of the above slip produced using a phosphoric acid glaze and a white pigment, the same titanium oxide used in Examples 1 and 2 was used. 20 parts by weight of a powder composed of coated particles (: titanium oxide-coated particle powder) was added and mixed to prepare enamel glaze C. Next, the enamel glaze C obtained above is
The surface of an aluminum-plated steel plate, which is the substrate (metal substrate) of the reflection screen, is glazed by a spray method and then fired at 525 ° C., and the outer surface of the steel plate has a thickness of 40 μm and a composition shown in Table 9 and particles coated with titanium oxide. A surface enamel layer having a content was formed, and a sample of a reflection screen was prototyped.
【0124】次に、得られた反射スクリーンのサンプル
の光沢度、表面琺瑯層の表面粗さ:Ra(算術平均粗さ)
およびモース硬度を測定した。また、液晶プロジェクタ
ーによる画像の評価を行った。表10、表11に、本発明の
反射スクリーンの画像の評価結果、および本発明の反射
スクリーンの表面琺瑯層の表面粗さ:Ra、光沢度:Gs
(45°)、モース硬度の測定結果を示す。Next, the glossiness of the sample of the obtained reflection screen and the surface roughness of the surface enamel layer: Ra (arithmetic mean roughness)
And Mohs hardness were measured. In addition, an image was evaluated by a liquid crystal projector. Tables 10 and 11 show the evaluation results of the image of the reflective screen of the present invention, and the surface roughness of the surface enamel layer of the reflective screen of the present invention: Ra, and the glossiness: Gs.
(45 °) shows the measurement results of Mohs hardness.
【0125】表10に示されるように、本発明の反射スク
リーンが、広視野角で画像が鮮明で明るい場所でも非常
に見やすく、ハレーションがほとんど見られないことが
分かった。また、表11に示されるように、本発明の反射
スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬度
(モース硬度≧4)を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に優
れることが分かった。As shown in Table 10, it was found that the reflection screen of the present invention was very easy to see even in a place where the image was clear and bright at a wide viewing angle, and almost no halation was observed. Further, as shown in Table 11, it was found that the reflection screen of the present invention had a surface hardness (Mohs hardness ≧ 4) that was not found in the conventional reflection screen, and was excellent in scratch resistance and impact resistance.
【0126】〔実施例5〕(アルミニウムめっき鋼板を
基材とした鮮映性・消去性機能向上型反射スクリー
ン):表8に示す組成のリン酸系釉薬(琺瑯用フリッ
ト):90重量部に、表1に示す組成の透明釉薬(琺瑯用
フリット):10重量部、硝酸ソーダ:0.20重量部、酸化
チタン(TiO2 、白色顔料):30重量部、水:50重量部を
添加した配合原料をボールミルに投入し、混合、粉砕し
て泥状物(:スリップ)を作製した。[Example 5] (Reflection screen with improved clarity / erasability function using aluminum-plated steel sheet as base material): Phosphoric acid glaze (frit for enamel) having composition shown in Table 8: 90 parts by weight , A transparent glaze (frit for enamel) having the composition shown in Table 1: 10 parts by weight, sodium nitrate: 0.20 part by weight, titanium oxide (TiO 2 , white pigment): 30 parts by weight, and water: 50 parts by weight. Was put into a ball mill, mixed and pulverized to prepare a mud (: slip).
【0127】次に、リン酸系釉薬、透明釉薬および白色
顔料を用いて作製した上記スリップ:100 重量部(焼成
後の重量換算)に対して、前記した実施例3で用いたと
同じ酸化チタン被覆粒子で構成される粉末(:酸化チタ
ン被覆粒子粉末)PAおよびPBをそれぞれ10.5重量部、1
0.5重量部添加、混合し、琺瑯上釉薬Dを作製した。次
に、上記で得られた琺瑯上釉薬Dを、反射スクリーンの
基板(金属基材)であるアルミニウムめっき鋼板の表面
にスプレー法で施釉した後、525 ℃で焼成し、鋼板の外
表面に膜厚:40μm で表12に示す組成および酸化チタン
被覆粒子含有量の表面琺瑯層を形成し、反射スクリーン
のサンプルを試作した。Next, the same titanium oxide coating as used in Example 3 was applied to 100 parts by weight (in terms of weight after firing) of the above slip produced using a phosphoric acid glaze, a transparent glaze and a white pigment. Powder composed of particles (: titanium oxide-coated particle powder) 10.5 parts by weight of PA and 10.5 parts by weight of PB
0.5 part by weight was added and mixed to prepare enamel glaze D. Next, the enamel glaze D obtained above was glazed on the surface of an aluminum-plated steel plate as a substrate (metal substrate) of the reflection screen by a spray method, and then baked at 525 ° C. to form a film on the outer surface of the steel plate. A surface enamel layer having a thickness: 40 μm and a composition shown in Table 12 and a content of titanium oxide-coated particles was formed, and a sample of a reflection screen was prototyped.
【0128】次に、得られた反射スクリーンのサンプル
の光沢度、表面琺瑯層の表面粗さ:Ra(算術平均粗
さ)、モース硬度および描書マーカーの消去性(必要消
去回数)を測定した。また、液晶プロジェクターによる
画像の評価を行った。表13、表14に、本発明の反射スク
リーンの画像の評価結果、描書マーカーの消去性、およ
び本発明の反射スクリーンの表面琺瑯層の表面粗さ:R
a、光沢度:Gs(45°)、モース硬度の測定結果を示
す。Next, the glossiness of the sample of the obtained reflection screen, the surface roughness of the surface enamel layer: Ra (arithmetic mean roughness), Mohs hardness, and the erasability of the drawing marker (required number of erasures) were measured. . In addition, an image was evaluated by a liquid crystal projector. Tables 13 and 14 show the evaluation results of the image of the reflective screen of the present invention, the erasability of the drawing marker, and the surface roughness of the surface enamel layer of the reflective screen of the present invention: R
a, Gloss: The measurement results of Gs (45 °) and Mohs hardness are shown.
【0129】表13に示されるように、本発明の反射スク
リーンは、消去性機能に優れると共に、ハレーションの
発生を抑制することができ、広視野角で画像が鮮明で明
るい場所でも非常に見やすい反射スクリーンであること
が分かった。また、表14に示されるように、本発明の反
射スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬
度(モース硬度≧4)を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に
優れることが分かった。As shown in Table 13, the reflective screen of the present invention has an excellent erasability function and can suppress the occurrence of halation. It turned out to be a screen. Further, as shown in Table 14, it was found that the reflective screen of the present invention had a surface hardness (Mohs hardness ≧ 4) not found in the conventional reflective screen, and was excellent in scratch resistance and impact resistance.
【0130】〔実施例6〕(Zn−Al合金めっき鋼板を基
材とした鮮映性・拡散反射性機能向上型反射スクリー
ン):前記した実施例4において、反射スクリーンの基
板(金属基材)として、Zn−Al合金めっき層中のアルミ
ニウム含有率が55%、Si含有率が1.6 %、残部がZnおよ
び不可避的不純物であるZn−Al合金めっき鋼板を用い、
表面琺瑯層の焼成温度を510 ℃とした以外は、実施例4
と同様の方法、条件で反射スクリーンのサンプルを試作
した。[Example 6] (Reflection screen with improved sharpness / diffuse reflection function using Zn-Al alloy-plated steel sheet as a base material): In the above-mentioned Example 4, the substrate of the reflection screen (metal base material) As the Zn-Al alloy plated steel sheet, the aluminum content of the Zn-Al alloy plating layer is 55%, the Si content is 1.6%, and the balance is Zn and unavoidable impurities.
Example 4 except that the firing temperature of the surface enamel layer was 510 ° C.
A sample of a reflective screen was prototyped under the same method and conditions as described above.
【0131】次に、前記した実施例4と同様の方法で、
得られた反射スクリーンの性能を評価した。表15、表16
に、得られた評価結果を示す。表15に示されるように、
本発明の反射スクリーンが、広視野角で画像が鮮明で明
るい場所でも非常に見やすく、ハレーションがほとんど
見られないことが分かった。Next, in the same manner as in Embodiment 4 described above,
The performance of the obtained reflection screen was evaluated. Table 15, Table 16
Shows the obtained evaluation results. As shown in Table 15,
It was found that the reflective screen of the present invention was very easy to see even in a place where the image was clear and bright at a wide viewing angle, and almost no halation was observed.
【0132】また、表16に示されるように、本発明の反
射スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬
度(モース硬度≧4)を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に
優れることが分かった。 〔実施例7〕(Zn−Al合金めっき鋼板を基材とした鮮映
性・消去性機能向上型反射スクリーン):前記した実施
例5において、反射スクリーンの基板(金属基材)とし
て、Zn−Al合金めっき層中のアルミニウム含有率が55
%、Si含有率が1.6 %、残部がZnおよび不可避的不純物
であるZn−Al合金めっき鋼板を用い、表面琺瑯層の焼成
温度を510 ℃とした以外は、実施例5と同様の方法、条
件で反射スクリーンのサンプルを試作した。Further, as shown in Table 16, the reflective screen of the present invention has a surface hardness (Mohs hardness ≧ 4) not found in the conventional reflective screen, and is excellent in scratch resistance and impact resistance. Do you get it. [Example 7] (Reflection screen with improved sharpness / erasability function using Zn-Al alloy-plated steel sheet as a base material): In Example 5, Zn-Al alloy-plated steel sheet was used as a substrate (metal base material) of the reflection screen. Aluminum content in Al alloy plating layer is 55
%, The content of Si is 1.6%, the balance is Zn and Zn-Al alloy plated steel which is an unavoidable impurity, and the method and conditions are the same as in Example 5 except that the firing temperature of the surface enamel layer is 510 ° C. Made a sample of a reflective screen.
【0133】次に、前記した実施例5と同様の方法で、
得られた反射スクリーンの性能を評価した。表17、表18
に、得られた評価結果を示す。表17に示されるように、
本発明の反射スクリーンは、消去性機能に優れると共
に、ハレーションの発生を抑制することができ、広視野
角で画像が鮮明で明るい場所でも非常に見やすい反射ス
クリーンであることが分かった。Next, in the same manner as in the fifth embodiment,
The performance of the obtained reflection screen was evaluated. Table 17, Table 18
Shows the obtained evaluation results. As shown in Table 17,
The reflective screen of the present invention was found to be excellent in the erasing function and capable of suppressing the occurrence of halation, and was found to be a highly visible reflective screen with a wide viewing angle and a clear and bright image.
【0134】また、表18に示されるように、本発明の反
射スクリーンが、従来の反射スクリーンにはない表面硬
度(モース硬度≧4)を有し、耐傷付き性、耐衝撃性に
優れることが分かった。以上、実施例について述べた
が、本発明によれば、金属基材としてアルミニウムめっ
き鋼板もしくはZn−Al合金めっき鋼板を用い、前記した
実施例4〜7に示すように単層の琺瑯層(表面琺瑯層)
を形成することによって、前記した優れた性能を有し、
しかも軽量で取扱いの容易な反射スクリーンを得ること
も可能になった。Further, as shown in Table 18, the reflective screen of the present invention has a surface hardness (Mohs hardness ≧ 4) not found in the conventional reflective screen, and is excellent in scratch resistance and impact resistance. Do you get it. As described above, according to the present invention, according to the present invention, an aluminum-plated steel sheet or a Zn-Al alloy-plated steel sheet is used as a metal substrate, and as shown in the above-described Examples 4 to 7, a single enamel layer (surface Enamel layer)
By having the excellent performance described above,
In addition, it has become possible to obtain a reflective screen which is lightweight and easy to handle.
【0135】[0135]
【表1】 [Table 1]
【0136】[0136]
【表2】 [Table 2]
【0137】[0137]
【表3】 [Table 3]
【0138】[0138]
【表4】 [Table 4]
【0139】[0139]
【表5】 [Table 5]
【0140】[0140]
【表6】 [Table 6]
【0141】[0141]
【表7】 [Table 7]
【0142】[0142]
【表8】 [Table 8]
【0143】[0143]
【表9】 [Table 9]
【0144】[0144]
【表10】 [Table 10]
【0145】[0145]
【表11】 [Table 11]
【0146】[0146]
【表12】 [Table 12]
【0147】[0147]
【表13】 [Table 13]
【0148】[0148]
【表14】 [Table 14]
【0149】[0149]
【表15】 [Table 15]
【0150】[0150]
【表16】 [Table 16]
【0151】[0151]
【表17】 [Table 17]
【0152】[0152]
【表18】 [Table 18]
【0153】[0153]
【発明の効果】本発明によれば、広視野角で鮮明な画像
が得られ、ハレーションが少なく、さらにはマーカーな
どによる描書および消去が可能で、取扱いが容易で、施
工性に優れた反射スクリーンおよびその製造方法を提供
することが可能となった。According to the present invention, a clear image can be obtained with a wide viewing angle, there is little halation, and writing and erasing with a marker or the like are possible, handling is easy, and reflection is excellent in workability. It has become possible to provide a screen and a method for manufacturing the screen.
【図1】反射スクリーンの反射輝度の測定結果を示すグ
ラフである。FIG. 1 is a graph showing a measurement result of a reflection luminance of a reflection screen.
【図2】反射スクリーンの反射輝度の測定結果を示すグ
ラフである。FIG. 2 is a graph showing a measurement result of a reflection luminance of a reflection screen.
【図3】反射輝度の測定方法を示す説明図(斜視図)で
ある。FIG. 3 is an explanatory view (perspective view) showing a method of measuring reflected luminance.
【図4】反射スクリーンの反射特性を示す説明図(側面
図)である。FIG. 4 is an explanatory view (side view) showing the reflection characteristics of the reflection screen.
1 入射光 2 反射光 3 反射スクリーン 3S 反射スクリーンのサンプル 4 ビーズ 10 光源 11 輝度計DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Incident light 2 Reflected light 3 Reflective screen 3 Sample of S reflective screen 4 Beads 10 Light source 11 Luminance meter
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H021 BA02 BA05 BA10 2H042 BA02 BA14 BA15 BA19 DA10 2H088 EA12 HA10 HA21 MA07 5C058 EA02 EA33 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F term (reference) 2H021 BA02 BA05 BA10 2H042 BA02 BA14 BA15 BA19 DA10 2H088 EA12 HA10 HA21 MA07 5C058 EA02 EA33
Claims (12)
子と白色釉薬を含有する表面琺瑯層を有することを特徴
とする反射スクリーン。1. A reflective screen having a surface enamel layer containing titanium oxide-coated particles and white glaze on an outer surface of a metal substrate.
均粗さ)が2.5 μm以上であることを特徴とする請求項
1記載の反射スクリーン。2. The reflection screen according to claim 1, wherein the surface enamel layer has a surface roughness Ra (arithmetic average roughness) of 2.5 μm or more.
均粗さ)が1.5 μm以上、2.5 μm 未満で、光沢度:Gs
(45°)が15〜25%であることを特徴とする請求項1記
載の反射スクリーン。3. The surface enamel layer has a surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of 1.5 μm or more and less than 2.5 μm, and a glossiness of Gs.
The reflective screen according to claim 1, wherein (45 °) is 15 to 25%.
有することを特徴とする請求項3記載の反射スクリー
ン。4. The reflection screen according to claim 3, wherein the surface enamel layer further contains a transparent glaze.
表面に酸化チタンを被覆した粒子であることを特徴とす
る請求項1〜4いずれかに記載の反射スクリーン。5. The reflection screen according to claim 1, wherein the titanium oxide-coated particles are particles in which the surface of mica particles is coated with titanium oxide.
後、焼成し、得られた下地琺瑯層の表面に、酸化チタン
被覆粒子で構成される粉末と白色釉薬を含有する琺瑯上
釉薬を塗布し、その後700 〜850 ℃で焼成することを特
徴とする反射スクリーンの製造方法。6. An enamel glaze coated on the surface of a cold-rolled steel sheet and then fired, and the surface of the resulting enamel layer is coated on a surface of an enamel containing a powder composed of titanium oxide-coated particles and a white glaze. And then baking at 700 to 850 ° C.
合金めっき鋼板の表面に、酸化チタン被覆粒子で構成さ
れる粉末と白色釉薬を含有する琺瑯上釉薬を塗布し、そ
の後400 〜600 ℃で焼成することを特徴とする反射スク
リーンの製造方法。7. An aluminum-plated steel sheet or Zn-Al
A method of manufacturing a reflection screen, comprising applying a powder composed of titanium oxide-coated particles and a glaze on an enamel containing a white glaze to the surface of an alloy-plated steel sheet, followed by firing at 400 to 600 ° C.
する琺瑯用フリットと水との混合物の粉砕で得られた泥
状物に、酸化チタン被覆粒子で構成される粉末を添加、
混合して得られた琺瑯上釉薬であることを特徴とする請
求項6または7記載の反射スクリーンの製造方法。8. The above-mentioned enamel glaze is obtained by adding a powder composed of titanium oxide-coated particles to a mud obtained by pulverizing a mixture of enamel frit containing white glaze and water,
8. The method for producing a reflective screen according to claim 6, wherein the enamel is an enamel glaze obtained by mixing.
後、焼成し、得られた下地琺瑯層の表面に、いずれもが
酸化チタン被覆粒子で構成され、それぞれの平均粒径が
異なる少なくとも2種類の粉末と、白色釉薬と、あるい
はさらに透明釉薬とを含有する琺瑯上釉薬を塗布し、そ
の後700 〜850 ℃で焼成することを特徴とする反射スク
リーンの製造方法。9. An enamel glaze is applied to the surface of a cold-rolled steel sheet and then fired, and the surface of the base enamel layer obtained is composed of titanium oxide-coated particles, each having a different average particle diameter. A method of manufacturing a reflective screen, comprising applying an enamel glaze containing at least two kinds of powders, a white glaze, and further a transparent glaze, and thereafter firing at 700 to 850 ° C.
Al合金めっき鋼板の表面に、いずれもが酸化チタン被覆
粒子で構成され、それぞれの平均粒径が異なる少なくと
も2種類の粉末と、白色釉薬と、あるいはさらに透明釉
薬とを含有する琺瑯上釉薬を塗布し、その後400 〜600
℃で焼成することを特徴とする反射スクリーンの製造方
法。10. An aluminum-plated steel sheet or Zn-
On the surface of an Al alloy-plated steel sheet, a glaze on enamel containing at least two types of powder, each composed of titanium oxide-coated particles, each having a different average particle size, a white glaze, or a transparent glaze is applied. And then 400-600
B.
るいはさらに透明釉薬を含有する琺瑯用フリットと水と
の混合物の粉砕で得られた泥状物に、いずれもが酸化チ
タン被覆粒子で構成され、それぞれの平均粒径が異なる
少なくとも2種類の粉末を添加、混合して得られた琺瑯
上釉薬であることを特徴とする請求項9または10記載の
反射スクリーンの製造方法。11. The above-mentioned enamel glaze is formed of titanium oxide-coated particles, both in a white glaze or in a slurry obtained by pulverizing a mixture of enamel frit containing a transparent glaze and water. 11. The method for producing a reflective screen according to claim 9, wherein the glaze is obtained by adding and mixing at least two kinds of powders having different average particle diameters.
粒子の表面に酸化チタンを被覆した粒子であることを特
徴とする請求項6〜11いずれかに記載の反射スクリーン
の製造方法。12. The method of manufacturing a reflection screen according to claim 6, wherein said titanium oxide-coated particles are particles having a surface coated with titanium oxide on mica particles.
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|---|---|---|---|
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