JP2001508398A - ニトロキシル含有化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は式（Ｉ） ただし、Ｔは１）ポリジエンが式（Ｉ）の化合物で停止するようにポリジエニルリチウムと反応するか、又は２）ポリジエニルアニオンによって置換してポリジエン鎖端上にＴに結合した分子を配置する、基であり、Ａｒは１〜２の芳香環をもつ芳香族基であり、Ｒ，Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に水素またはＣ_1-6アルキル基であり、そしてＲ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵，Ｒ⁶，Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれの場合独立にフェニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルであるか、あるいはまたＲ³−Ｒ⁸からえらばれた２つの基は、ニトロキシル基を含む５または６員の環が生成するように、結合していてもよい、で示される化合物である。

Description

【発明の詳細な説明】 ニトロキシル含有化合物 本発明はニトロキシル含有化合物、およびゴム変性ポリマーの製造におけるそ の使用、に関する。 ゴム変性ポリマーは、耐衝撃性の改良の目的で多数の方法によってビニル芳香 族モノマーから製造されている。代表的には、ゴムを重合したビニル芳香族モノ マーとブレンドするか、又はビニル芳香族モノマーをゴムの存在下で重合する。 後者の方法において、ビニル芳香族モノマーはゴム上に部分的にグラフト重合さ れる。然し、グラフト鎖のグラフト量および分子量は制御が困難であり、光沢お よび衝撃性に悪影響を及ぼすことがある。 ビニル芳香族モノマーのゴム変性コポリマーも製造されている。たとえばアク リロニトリル・ブタジエン・スチレン（ＡＢＳ）である。ＡＢＳコポリマーは、 バルク−懸濁、連続バルク、及び乳化のような重合法を使用して製造されている 。乳化重合法は典型的には光沢と衝撃強度の最良のバランスをもつ生成物を生ず るが、バルク法が低コストのために有利である。 他のゴムも光沢および／または衝撃性の改良のためにバルク重合法に使用され る。その例としてスチレン・ブタジエンブロックコポリマーゴムがあげられる。 然し、これらのゴムは典型的にみてより高価であり、通常のポリブタジエンゴム よりも多量に必要である。 それ故、ビニル芳香族モノマーから、光沢と衝撃性のすぐれたバランスをもつ ゴム変性ポリマーを製造するより有効でコスト的に効果のある方法の必要性が依 然としてある。また、透明ゴム変性ポリマーを製造する必要性もある。 従来技術に比べたときにより有効でありコスト的に有用である、ビニル芳香族 モノマーから光沢と衝撃強度のすぐれたバランスをもつゴム変性ポリマーのフリ ーラジカル製造法が、プリディらによって１９９６年３月２９日に出願された予 備出願番号６０／０１４，６１６に基づいて出願された対応するＵ．Ｓ．出願に 開示されている。プリディの方法は、ビニル芳香族モノマーを、少なくとも１の 安定フリーラジカル基で変性したジエンゴムの存在下に重合して、ビニル芳香族 ジエンおよび／またはグラフトコポリマーゴム粒子を生成し、ビニル芳香族ポリ マー内に分散させる方法である。ジエンゴムは典型的にはニトロキシル基を含む 化合物を使用して停止させる。然し、ポリジエン停止剤として働くニトロキシ含 有化合物はごくわずかに知られているだけである。 ソロモンらによるＵＳ−Ａ−４，５８１，４２９は、重合中に使用するニトロ キシ含有フリーラジカル開始剤に開示している。然し、開示された化合物はポリ ジエン停止剤として働いていない。それ故、ポリジエン開始剤として動く更なる ニトロキシル含有する化合物を開発する必要が残されている。 本発明はポリジエン停止剤として使用しうる新規なニトロオキシル含有化合物 に関する。 本発明は次式（Ｉ）の化合物である。 ただし、Ｔは１）ポリジエンが式Ｉの化合物で停止されるようにポリジエニル リチウムと反応するか又は２）ポリジエニルアニオンによって置換してポリジエ ン鎖端上にＴに結合した分子を置きかえる基であり；Ａｒは１又は２の芳香環を もつ芳香族基であり；Ｒ，Ｒ¹及びＲ³はそれぞの場合独立に水素またはＣ_1-6ア ルキル基であり；そしてＲ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵，Ｒ⁶，Ｒ⁷及びＲ⁸はそれぞれの場合独立 にフェニル又はＣ₁−Ｃ₆アルキルであるか、あるいはまたＲ³−Ｒ⁸からえらばれ た２つの基は一緒になってニトロキシル基のＮを含む５または６員環を生成する ように結合していてもよい。 これらの化合物はポリブタジエニルリチウムを停止させて、ビニル芳香族モノ マーの重合中その場でのブロック及び／又はグラフトコポリマーを製造するのに 使用することができ、高コストのブロック又は予備グラフト化ジエンゴムなしに ゴム補強ポリマーの製造を可能にする。 本発明は次式（Ｉ）の化合物である。 ただし、Ｔは１）ポリジエンが式Ｉの化合物で停止されるようにポリジエニル リチウムと反応するか、又は２）ポリジエニルアニオンによって置換してポリジ エン鎖端上にＴに結合した分子を置きかえる基である。ポリジエンが式Ｉの化合 物で停止するようにポリジエニルリチウムと反応する基の非限定的な例としては グリシジル基またはアルデヒド基があげられる。ポリジエニルリチウム（ ポリジエニルアニオンによって置換される基、すなわちポリジエン鎖端上にＴ に結合した分子をつける基としては、ブロム、塩素、トシレート、メシレート、 又はＳＮ₂置換反応に典型的な適宜の基があげられるが、これらに限定されない 。ポリジエンによるＴの置換を示す反応は次の反応式で例示される： Ｔはヒドロキシ、エーテル（Ｏ−Ｒ）又はエステル（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ）の ような基であり得ない。それはこれらの基はＳＮ₂置換反応用の良好な離脱基で はなく、ポリジエニル基と反応してポリジエンへのニトロキシル化合物の結合を もたらす基を生成しないからである。 Ａｒは１または２の芳香環をもつ芳香族基でありうる。芳香環は任意に追加の 置換基たとえばハロゲンおよびアルキル（たとえばメチルフェニルまたはｔ−ブ チルフェニル）を含むことができる。 Ｒ，Ｒ¹及びＲ²はそれぞれの場合独立に水素又はＣ₁−Ｃ₆アルキル基であり、 そしてＲ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵，Ｒ⁶，Ｒ⁷及びＲ⁸はそれぞれの場合独立に任意にハロゲン 、又はアルキル（たとえばメチルフェニル又はｔ−ブチルフェニル）、Ｃ_1-6ア ルキルのような追加の置換基を含むフェニル基；Ｃ_1-6アルキルであるか；又は Ｒ³−Ｒ⁸からえらばれた２つの基はニトロキシル基のＮを含む５または６員の環 が生成するように結合していてもよい。 好ましくはＴはＣｌであり、Ｒ，Ｒ¹及びＲ²はそれぞれＨであり、Ｒ³−Ｒ⁸か らえらばれた２つのＲ基は結合して６員環を形成し、そしてＲ³−Ｒ⁸からえらば れる残余のＲ基はそれぞれメチルである。 本発明の化合物はポリジエニルリチウムの停止剤として使用することができる 。この化合物はポリジエニルリチウムを停止させて移動性のニトロキシル基をポ リ ジエン鎖の端部に結合させる。 本発明の化合物の例として次のものがあげられる。 ニトロキシ含有化合物は、生成する炭素中心ラジカル中間体をトラップするニ トロキシ含有化合物の存在下に炭素中心ラジカルを生成させることによって、所 望の前駆体から製造することができる。炭素中心ラジカルの製造法は当業技術に おいて周知であり、例として例えば１）Ｉ．Ｌｉ，Ｂ．Ａ．Ｈｏｗｅｌｌ；Ａ． Ｆｌｌａｂｏｕｄｙ；Ｐ．Ｋａｓｔｌ；及びＤ．Ｂ．Ｐｒｉｄｄｙ；によるＡＣ Ｓ Ｐｏｌｙｍ．Ｐｒｅｐｒ．１９９５，３６，４６９に記載されている活性水 素化合物からのＨ引抜き；２）Ｍ．Ｋ．Ｇｅｏｒｇｅｓ，Ｒ．Ｐ．Ｎ．Ｖｅｒｅ ｇｉｎ，Ｐ．Ｋ．Ｋａｚｍａｉｅｒ，及びＧ．Ｋ．ＨａｍｅｒによるＭａｃｒｏ ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ １９９３，２６，２９８７に記載されている活性二重結合 へのラジカル付加；３）Ｇ．Ｍ．Ｗｈｉｔｅｓｉｄｅｓ及びＴ．Ｌ．Ｎｅｗｉｒ ｔｈによるＪ．Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ １９７５，４０，３４４ ８に記載の電子移動；及び４）ソロモンらによりＵＳ特許Ｎｏ．４，５８１，４ ２９に、ソロモンらによりＥＰ３０４７５６に、及びイー・ピザルドによりＣｈ ｅｍｉｓｔｒｙ ｉｎ Ａｕｓｔｒａｌｉａ，Ｊａｎ−Ｆｅｂ．１９８７，３２ に記載されている活性化アゾ化合物の熱分解、の技術があげられる。 化合物ＩＩ、Ｖ、及びＶＩは、スチレン（又は置換スチレン）にとかしたニト ロキシルラジカルの溶液を、ハロゲンラジカルがスチレンによりトラップされる ようにハロゲン（塩素または臭素）ラジカルにさらし、生成するスチリルラジカ ルをニトロキシラジカルでトラップすることによって製造することができる。 化合物ＩＩＩ、ＩＶ、ＶＩＩ及びＶＩＩＩは、２−フェニル−２−（２，２， ６，６−テトラメチル−ピペリジニル−１−オキシ）エタノール（Ｃ．Ｊ．Ｈａ ｗｋｅｒ及びＪ．Ｌ．Ｈｅｄｒｉｃｋ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１９９ ５，２８，２９９３）から、それぞれｐ−トルエンスルホニルクロリド、エピク ロロヒドリン、メシチルクロリド又はトリフロロメタンスルホニルクロリドとの 反応によって製造することができる。 これらの化合物を使用して、ゴム変性ポリマーの製造に有用なニトロキシル末 端ジエンゴムをビニル芳香族モノマーから製造することができる。好適なビニル 芳香族モノマーとして重合法に使用することの既に知られているビニル芳香族モ ノマーたとえばＵＳ−Ａ−４，６６６，９８７、ＵＳ−Ａ−４，５７２，８１９ 及びＵＳ−Ａ−４，５８５，８２５に記載されているモノマーがあげられるが、 これらに限定されない。 好ましくは、モノマーは次式のモノマーである。 ただしＲは水素またはメチルであり、Ａｒはアルキル、ハロ又はハロアルキル 置換基をもつ又はもたない１〜３の芳香環をもつ芳香環構造である。ただしすべ てのアルキル基は１〜６の炭素原子を含み、ハロアルキルとはハロ置換アルキル 基のことをいう。好ましくは、Ａｒはフェニル又はアルキルフェニルであり、フ ェニル基が最も好ましい。使用しうる代表的なビニル芳香族モノマーとしてはメ チルスチレン、ビニルトルエンのすべての異性体とくにパラビニルトルエン、エ チルスチレンのすべての異性体、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、又はビ ニルナフタレン、及びそれらの混合物があげられる。ビニル芳香族モノマーも他 の共重合性モノマーと結合しうる。このようなモノマーの例としてアクリルモノ マーたとえばアクリロニトリル、メタアクリロニトリル、メタアクリル酸、メチ ルメタアクリレート、アクリル酸、及びメチルメタアクリレート；マレイミド、 フェニルマレイミド、及び無水マレイン酸があげられるが、これらに限定されな い。 本発明の化合物を使用して製造されるニトロキシル末端ジエンゴムは、鎖端に 結合した少なくとも１のニトロキシル基をもつ。このゴムはジエンモノマー成分 から製造され、本発明のニトロキシル含有化合物を使用して停止される。典型的 には、ジエンモノマーはアニオン性の又はフリーラジカルの重合条件下に重合さ れ、ニトロキシル含有化合物の存在下に停止される。好ましくは、ジエンモノマ ー成分は１，３−共役ジエンたとえばブタジエン、イソプレン、ピペリレン、又 はクロロプレンである。最も好ましくは、ジエンモノマー成分は１，３−ブタジ エンである。本発明のニトロキシル含有化合物は、純粋な形体で貯蔵安定性であ る、すなわち１２０℃以下の温度でそれ自身安定性である、安定なフリーラジカ ルを形成することができる。 安定なフリーラジカルニトロキシル基は、ニトロキシル含有化合物が活性化し て、生成する。ニトロキシル含有化合物の活性化が起こるために、ニトロキシル 含有化合物のラジカル形成性原子は、典型的には活性化した炭素を介してジエン ゴムに結合する。ニトロキシル含有化合物−活性化炭素結合は、典型的には、５ ０℃以下の温度で安定である。活性化炭素原子は、芳香環に結合する炭素原子と して定義される。約６０℃以上の温度で、ニトロキシ含有化合物は活性化して安 定なフリーラジカルを形成する。たとえば、ニトロキシ含有化合物として 芳香環に結合している）は６０℃以上の温度で活性化されて 化がビニル芳香族モノマーの重合中に起こると、ビニル芳香族モノマーは炭素ラ ジカルと反応してニトロキシのＯと活性化炭素との間に挿入されて、ビニル芳香 族ポリマーゼメント、たとえば− ジエンを重合するアニオン重合法は当業技術において周知であり、すべての方 法を利用して本発明に使用するジエンゴムの製造に使用することができる。 ゴム補強ポリマーは、ニトロキシル基を含むジエンゴムをビニル芳香族モノマ ーにとかし、このゴム／モノマー混合物を重合することによって製造することが できる。この方法は、ゴム補強ポリマー製造について当業技術において知られる 通常の技術を使用して行うことができる。たとえばＵＳ−Ａ−２，６４６，４１ ８、ＵＳ−Ａ−４，３１１，８１９及びＵＳ−Ａ−４，４０９，３６９に記載さ れているような衝撃ポリスチレン（ＨＩＰＳ）およびＡＢＳの製造技術である。 ビニル芳香族モノマーに加えるゴムの量は、ビニル芳香族モノマーとゴムとの 合計重量を基準にして、代表的に３〜２０％、好ましくは５〜１５％、そして更 に好ましくは７〜１２％である。 ゴム／モノマー混合物の重合中に、ビニル芳香族モノマーが重合してマトリッ クス相を形成し、またジエンゴム上にもグラフトし、且つニトロキシル官能鎖端 部へもビニル芳香族ブロックを付加する。 ニトロキシ含有化合物と活性化炭素原子との間に挿入されるグラフト化ポリマ ーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、典型的にはマトリックス相のＭｗの半分以下、 好ましくは２５％以下、更に好ましくは２０％以下、そして最も好ましくは１５ ％以下である。典型的には、グラフト化ポリマーのＭｗは１５，０００〜１５０ ，０００、好ましくは２５，０００〜１００，０００、更に好ましくは２５，０ ００〜７５，０００、最も好ましくは３０，０００〜６０，０００である。 マトリックス相のＭｗはゴム変性ポリマーの用途に応じて非常に変化しうる。 典型的には、Ｍｗは５０，０００から３００，０００まで変化しうる。 本発明の化合物は、高衝撃ポリスチレン及びアクリロニトリル−ブタジエン・ スチレンポリマーの製造に特に有用である。ただし、ゴムは典型的にはポリスチ レン又はポリスチレン・アクリロニトリルのマトリックス相の中に均一に分布さ れている。これらのポリマーは、射出成形および冷凍機内張り、家庭用品、玩具 、および家具の熱成形を包含する多くの用途に使用することができる。 なお、本発明の化合物は透明ゴム補強ポリマーを製造するのに使用することも できる。これらのポリマーは代表的に０．１μ以下の容積平均粒径をもつ密なゴ ム粒子を含む。粒子のサイジングは当業者によって周知である。 次の実施例を与えて本発明を具体的に説明する。これらの実施例は本発明の範 囲を限定するものと解すべきでなく、またそれらをそのように解すべきではない 。 実施例 例 １ ２−フェニル−２−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル−１−オキ シ）エタノール（Ａ）を、ホーカーの方法（Ｃ．Ｊ．Ｈａｗｋｅｒ ａｎｄ Ｊ ．Ｌ．Ｈｅｄｒｉｃｋ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１９９５，２８，２９ ９３）により製造する。エピクロロヒドリン（２．８ｇ）を、５０％の水性水酸 化ナトリウム（４．３ｍｌ）とＢｕ₄ＮＨＳＯ₄（０．０８５ｇ）の混合物を含む １００ｍｌの丸底フラスコに滴下状に加え、混合物を約２５℃で２時間激しく攪 拌する。次いで化合物（Ａ）（１．７ｇ）を１時間にわたって滴下状に加え、攪 拌を１６時間続ける。水（３０ｍｌ）を加え、生成する混合物をメチレンクロリ ドで抽出する。メチレンクロリドを蒸発させて油状物を得る。これをメタノール から結晶化させて１．５ｇの白色結晶（ｍｐ＝３５〜３６℃）を得る。生成物は 、ＮＭＲスペクトルを使用して構造（Ｂ）をもつことが確認される。 例 ２ （Ｂ）で終結するポリブタジエンの製造 ブタジエンのアニオン重合を、２級ブチルリチウムを開始剤として使用し、ブ タジエン（１７．４ミリモル）を１０ｍｌのシクロヘキサンと２級ブチルリチウ ム（０．２９ミリモル）と混合することによって行う。混合物を乾燥窒素下に約 ２５℃で２４時間攪拌する。ポリブタジエニルリチウムを、２０ｍｌのシクロヘ キサンにとかした（Ｂ）（３．４ミリモル）の添加によって停止させる。攪拌を 更に２４時間続け、メタノールを加えてポリブタジエンを沈殿させる。ゲル透過 クロマトグラフを使用するポリマーの分析は、Ｍｗ＝３９３０、及びＭｎ＝３８ ４０であることを示す。¹Ｈ−ＮＭＲを使用するポリマーの分析は、＞９５％の ポリブタジエン鎖端部の１つが次のフラグメント（Ｃ）を有することを確認して いる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ， ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，Ｇ Ｅ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＲ，ＫＺ ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ， ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，Ｐ Ｔ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ， ＹＵ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．式 ただし、Ｔは１）ポリジエンが式１の化合物で停止するようにポリジエニルリ チウムと反応するか、又は２）ポリジエニルアニオンによって置換してポリジエ ン鎖端上にＴに結合した分子を配置する、基であり、Ａｒは１又は２の芳香環を もつ芳香族基であり、Ｒ，Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に水素またはＣ_1-6アル キル基であり、そしてＲ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵，Ｒ⁶，Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれの場合独立 にフェニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルであるか、あるいはまたＲ³−Ｒ⁸からえらばれた ２つの基は、ニトロキシル基のＮを含む５または６員の環を形成するように結合 していてもよい、 で示される化合物。 ２．ＴがＣｌ、Ｂｒ、トシレートおよびメシレートからなる群からえらばれる請 求項１の化合物。 ３．ＴがＣｌである請求項２の化合物。 ４．Ｔがグリシジル基である請求項１の化合物。 ５．Ａｒがフェニル基である請求項１の化合物。 ６．フェニル基がメチルフェニルまたはｔ−ブチルフェニル基である請求項５の 方法。 ７．Ｒ³−Ｒ⁸からえらばれた２つの基がニトロキシル基のＮを含む５または６員 環が生成するように結合している請求項１の化合物。 ８．Ｒ³−Ｒ⁸からえらばれた基の１つがフェニル基である請求項１の化合物。 ９．フェニル基がメチルフェニル基またはｔ−ブチルフェニル基である請求項８ の化合物。 １０．Ｔがグリジル基であり、Ａｒがフェニルであり、Ｒ，Ｒ¹およびＲ²がそ れぞれ水素であり；Ｒ³−Ｒ⁸からえらばれた２つの基がニトロキシル基のＮを含 む６員環を生成するように結合しており、そしてＲ³−Ｒ⁸基の残余のＲ基がそれ ぞれメチルである請求項１の化合物。 １１．ＴがＣｌであり；Ａｒがフェニルであり；Ｒ，Ｒ¹およびＲ²がそれぞれ水 素であり、Ｒ³−Ｒ⁸からえらばれた２つの基がニトロキシル基のＮを含む６員環 が生成するように結合しており、そしてＲ³−Ｒ⁸の残りのＲ基がそれぞれメチル である請求項１の化合物。 １２．Ｔがトシレートであり；Ａｒがフェニルであり；Ｒ，Ｒ¹およびＲ²がそれ ぞれ水素であり；そしてＲ³−Ｒ⁸からえらばれた２つの基がニトロキシル基のＮ を含む６員環が生成するように結合しており、そしてＲ³−Ｒ⁸の残りのＲ基がそ れぞれメチルである請求項１の化合物。 １３．ＴがＢｒであり；Ａｒがパラ−ｔ−ブチルフェニルであり；Ｒ，Ｒ¹およ びＲ²がそれぞれ水素であり；Ｒ³−Ｒ⁸からえらばれた２つの基がニトロキシル 基のＮを含む５員環が生成するように結合しており、そして残余のＲ基の１つが フェニルであり、Ｒ³−Ｒ⁸の残余のＲ基がそれぞれメチルである請求項１の化合 物。 １４．ＴがＣｌであり；Ａｒがパラトルエンであり；Ｒ，Ｒ¹およびＲ²がそれぞ れ水素であり、Ｒ³−Ｒ⁸からえらばれた２つの基がニトロキシル基のＮを含む５ 員環が生成するように結合しており、残余のＲ基の１つがフェニルであり、そし てＲ³−Ｒ⁸の残余のＲ基がそれぞれメチルである請求項１の化合物。 １５．Ｔがメシレートであり；Ａｒがフェニルであり；Ｒ，Ｒ¹およびＲ²がそれ ぞれ水素であり、そしてＲ³−Ｒ⁸からえらばれた２つの基がニトロキシル基のＮ を含む６員環が生成するように結合しており、そしてＲ³−Ｒ⁸の残余のＲ基がそ れぞれメチルである請求項１の化合物。 １６．Ｔがトリフレートであり；Ａｒがフェニルであり；Ｒ，Ｒ¹およびＲ²がそ れぞれ水素であり、そしてＲ³−Ｒ⁸からえらばれた２つの基がニトロキシル基の Ｎを含む６員環が生成するように結合しており、そしてＲ³−Ｒ⁸の残余のＲ基が それぞれメチルである請求項１の化合物。