JP2001351795A - 長尺成膜基体の静電気除去方法及び装置 - Google Patents
長尺成膜基体の静電気除去方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】長尺基体に形成される膜の種類にかかわらず静
電気を除去できる方法を提供すること及びその方法の実
施に適した装置を提供すること。 【解決手段】蒸着その他により成膜が施された長尺成膜
基体５に、プラズマを浴びせて該基体の静電気を除去す
る方法に於いて、極性が異なる１対のＤＣマグネトロン
放電電極７、８間に該長尺成膜基体を通過させてその表
裏両面の電位をゼロを含む同種の電位にする。該１対の
ＤＣマグネトロン放電電極の複数組を設け、長尺成膜基
体を各ＤＣマグネトロン放電電極間に順次に通過させ
る。導電体を成膜した場合には長尺成膜基体の片面に同
極のＤＣマグネトロン放電電極を対向させ、誘電体を成
膜した場合には該片面に交互に極性の異なるＤＣマグネ
トロン放電電極を対向させる。
電気を除去できる方法を提供すること及びその方法の実
施に適した装置を提供すること。 【解決手段】蒸着その他により成膜が施された長尺成膜
基体５に、プラズマを浴びせて該基体の静電気を除去す
る方法に於いて、極性が異なる１対のＤＣマグネトロン
放電電極７、８間に該長尺成膜基体を通過させてその表
裏両面の電位をゼロを含む同種の電位にする。該１対の
ＤＣマグネトロン放電電極の複数組を設け、長尺成膜基
体を各ＤＣマグネトロン放電電極間に順次に通過させ
る。導電体を成膜した場合には長尺成膜基体の片面に同
極のＤＣマグネトロン放電電極を対向させ、誘電体を成
膜した場合には該片面に交互に極性の異なるＤＣマグネ
トロン放電電極を対向させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、合成樹脂フィルム
や金属薄板などの長尺基体に薄膜を形成した長尺成膜基
体から静電気を除去する方法と装置に関する。
や金属薄板などの長尺基体に薄膜を形成した長尺成膜基
体から静電気を除去する方法と装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、合成樹脂等の長尺基体に、スパッ
タリングや真空蒸着などで誘電体或いは導電体の薄膜を
形成して長尺成膜基体を製造することは一般的に行われ
ている。また、長尺成膜基体には静電気が帯電し、これ
をロール状に巻き取るときやロールから解放するとき
に、基体の折れ曲がりや放電を生じ、製品に損傷をもた
らす不都合があるので、該長尺成膜基体にプラズマを浴
びせ、プラズマ中のイオンにより静電気を中和すること
も行われている。
タリングや真空蒸着などで誘電体或いは導電体の薄膜を
形成して長尺成膜基体を製造することは一般的に行われ
ている。また、長尺成膜基体には静電気が帯電し、これ
をロール状に巻き取るときやロールから解放するとき
に、基体の折れ曲がりや放電を生じ、製品に損傷をもた
らす不都合があるので、該長尺成膜基体にプラズマを浴
びせ、プラズマ中のイオンにより静電気を中和すること
も行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、プラズマを浴
びせても、誘電体の長尺基体に形成される膜が、アルミ
ニウムのような導電体である場合には静電気を十分に除
去することが困難で、基体のべた付きによる折れ曲がり
や放電の不都合は解消できない。
びせても、誘電体の長尺基体に形成される膜が、アルミ
ニウムのような導電体である場合には静電気を十分に除
去することが困難で、基体のべた付きによる折れ曲がり
や放電の不都合は解消できない。
【０００４】本発明は、長尺基体に形成される膜の種類
にかかわらず静電気を除去できる方法を提供すること及
びその方法の実施に適した装置を提供することを目的と
するものである。
にかかわらず静電気を除去できる方法を提供すること及
びその方法の実施に適した装置を提供することを目的と
するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記目的を
達成するため、蒸着その他により成膜が施された長尺成
膜基体に、プラズマを浴びせて該基体の静電気を除去す
る方法に於いて、極性が異なる１対のＤＣマグネトロン
放電電極間に該長尺成膜基体を通過させてその表裏両面
の電位をゼロを含む同種の電位にした。該極性が異なる
１対のＤＣマグネトロン放電電極は複数組を設けること
が好ましく、この場合、該長尺成膜基体の片面には同極
のＤＣマグネトロン放電電極を対向させると導電膜を形
成した長尺成膜基体の静電気を十分に除去でき、該長尺
成膜基体の片面に交互に極性の異なるＤＣマグネトロン
放電電極を対向させると誘電体を形成した長尺成膜基体
の静電気を十分に除去できる。これらの方法の実施に
は、請求項５に記載の装置構成により適切に実施でき
る。
達成するため、蒸着その他により成膜が施された長尺成
膜基体に、プラズマを浴びせて該基体の静電気を除去す
る方法に於いて、極性が異なる１対のＤＣマグネトロン
放電電極間に該長尺成膜基体を通過させてその表裏両面
の電位をゼロを含む同種の電位にした。該極性が異なる
１対のＤＣマグネトロン放電電極は複数組を設けること
が好ましく、この場合、該長尺成膜基体の片面には同極
のＤＣマグネトロン放電電極を対向させると導電膜を形
成した長尺成膜基体の静電気を十分に除去でき、該長尺
成膜基体の片面に交互に極性の異なるＤＣマグネトロン
放電電極を対向させると誘電体を形成した長尺成膜基体
の静電気を十分に除去できる。これらの方法の実施に
は、請求項５に記載の装置構成により適切に実施でき
る。
【０００６】
【発明の実施の形態】図面に基づき本発明の実施の形態
を説明すると、図１は真空蒸着装置に本発明を適用した
例を示し、同図の符号１は真空排気口２から真空排気さ
れた真空成膜室、符号３は該真空成膜室１内の下方に設
置された蒸発源で、該蒸発源３の上方をロール４ａから
引き出したポリエチレンテレフタレートフィルムや金属
薄板などの長尺基体４を移動させ、これに蒸発粒子の薄
膜を形成し、その形成を終えた長尺成膜基体５がロール
４ｂに巻き取られる。該蒸発源３には、ＡｌＯXなどの
誘電体やＡｌなどの導電物が蒸発物質６として用意され
る。
を説明すると、図１は真空蒸着装置に本発明を適用した
例を示し、同図の符号１は真空排気口２から真空排気さ
れた真空成膜室、符号３は該真空成膜室１内の下方に設
置された蒸発源で、該蒸発源３の上方をロール４ａから
引き出したポリエチレンテレフタレートフィルムや金属
薄板などの長尺基体４を移動させ、これに蒸発粒子の薄
膜を形成し、その形成を終えた長尺成膜基体５がロール
４ｂに巻き取られる。該蒸発源３には、ＡｌＯXなどの
誘電体やＡｌなどの導電物が蒸発物質６として用意され
る。
【０００７】こうした成膜方法は一般に行われており、
成膜された長尺成膜基体５には静電気が帯電して前記し
たような不都合をもたらすので、プラズマを浴びせてそ
のプラズマ中のイオンにより静電気を中和するが、本発
明では、該長尺成膜基体５の移動経路に沿って極性が異
なる１対のＤＣマグネトロン放電電極７、８を設け、こ
れらの放電電極７、８を放電作動させてその間に該長尺
成膜基体５を通過させることにより、その静電気を中和
するようにした。
成膜された長尺成膜基体５には静電気が帯電して前記し
たような不都合をもたらすので、プラズマを浴びせてそ
のプラズマ中のイオンにより静電気を中和するが、本発
明では、該長尺成膜基体５の移動経路に沿って極性が異
なる１対のＤＣマグネトロン放電電極７、８を設け、こ
れらの放電電極７、８を放電作動させてその間に該長尺
成膜基体５を通過させることにより、その静電気を中和
するようにした。
【０００８】該ＤＣマグネトロン放電電極７、８の構成
は図２に示す如くであり、スリット９を設けたケース１
０内に、２本の長手の水冷電極１１、１２を並行に設
け、各水冷電極の内部に軸線方向にＮＳ極が交互になる
ように複数個のドーナツ型の磁石１３を配置し、供給口
１４、１５から冷却水を水冷電極の内部に循環させてこ
れを冷却するようにしたもので、該水冷電極の一方を直
流電源１６の陽極に接続してプラス電位にすると共に他
方の電極を直流電源１７の陰極に接続してマイナス電位
とし、両電極間で放電を発生するようにした。該ケース
１０内に設けた多数の小孔を備えたノズル１８を介し
て、放電用のアルゴンガスが導入される。なお、これら
の水冷電極は、アース電位のケース１０との間で放電が
発生するようにしてもよい。
は図２に示す如くであり、スリット９を設けたケース１
０内に、２本の長手の水冷電極１１、１２を並行に設
け、各水冷電極の内部に軸線方向にＮＳ極が交互になる
ように複数個のドーナツ型の磁石１３を配置し、供給口
１４、１５から冷却水を水冷電極の内部に循環させてこ
れを冷却するようにしたもので、該水冷電極の一方を直
流電源１６の陽極に接続してプラス電位にすると共に他
方の電極を直流電源１７の陰極に接続してマイナス電位
とし、両電極間で放電を発生するようにした。該ケース
１０内に設けた多数の小孔を備えたノズル１８を介し
て、放電用のアルゴンガスが導入される。なお、これら
の水冷電極は、アース電位のケース１０との間で放電が
発生するようにしてもよい。
【０００９】各直流電源から水冷電極への通電によりプ
ラズマ放電を発生させると、磁石１３の磁界により電子
が拘束されて水冷電極の周囲のプラズマ密度が高まり、
プラス電位の放電電極の回りにはマイナスイオンが集ま
り、マイナス電位の放電電極の回りにはプラスイオンが
集まる。このような極性が異なる２本の放電電極間に、
成膜により静電気が帯電した長尺成膜基体５を、その表
面の帯電状態を考慮して通過させることで、帯電した静
電気をその後の処理に支障のない程度に十分に除去でき
る。
ラズマ放電を発生させると、磁石１３の磁界により電子
が拘束されて水冷電極の周囲のプラズマ密度が高まり、
プラス電位の放電電極の回りにはマイナスイオンが集ま
り、マイナス電位の放電電極の回りにはプラスイオンが
集まる。このような極性が異なる２本の放電電極間に、
成膜により静電気が帯電した長尺成膜基体５を、その表
面の帯電状態を考慮して通過させることで、帯電した静
電気をその後の処理に支障のない程度に十分に除去でき
る。
【００１０】該長尺成膜基体５の帯電状態を詳細に観察
すると、成膜した膜が誘電体であるか導電体であるかに
より相違し、例えばポリエチレンテレフタレートの長尺
成膜基体にＡｌＯXなどの誘電体を成膜した場合には、
その成膜面に正電位と負電位の静電気が混在した状態に
帯電し、Ａｌなどの導電体を成膜した場合には成膜面に
負電位の静電気が帯電すると共に裏面の基体側には正電
位に帯電することが知見され、かかる帯電状態を従来の
ような画一的なプラズマで除去することは難しく、本発
明のように異極のＤＣマグネトロン放電電極によりプラ
スイオン或いはマイナスイオンを個別に長尺成膜基体５
に照射することで、該長尺成膜基体５の表裏の電位をゼ
ロ電位を含む同電位となし得られ、かくすることにより
該長尺成膜基体５が静電気でべた付くことがなくなり、
これをロール状に巻き取るときに巻きがきつくなる不都
合や、ロールから解きほぐす際の基体間の吸着や放電の
不都合が解消される。
すると、成膜した膜が誘電体であるか導電体であるかに
より相違し、例えばポリエチレンテレフタレートの長尺
成膜基体にＡｌＯXなどの誘電体を成膜した場合には、
その成膜面に正電位と負電位の静電気が混在した状態に
帯電し、Ａｌなどの導電体を成膜した場合には成膜面に
負電位の静電気が帯電すると共に裏面の基体側には正電
位に帯電することが知見され、かかる帯電状態を従来の
ような画一的なプラズマで除去することは難しく、本発
明のように異極のＤＣマグネトロン放電電極によりプラ
スイオン或いはマイナスイオンを個別に長尺成膜基体５
に照射することで、該長尺成膜基体５の表裏の電位をゼ
ロ電位を含む同電位となし得られ、かくすることにより
該長尺成膜基体５が静電気でべた付くことがなくなり、
これをロール状に巻き取るときに巻きがきつくなる不都
合や、ロールから解きほぐす際の基体間の吸着や放電の
不都合が解消される。
【００１１】１対のＤＣマグネトロン放電電極７、８の
複数組を該長尺成膜基体５の移動経路に沿って設け、こ
れらを順次に通過させることで帯電量の大きな静電気を
除去でき、この場合、該長尺成膜基体５の片面に、図３
に示したように各組のＤＣマグネトロン放電電極の同極
が揃うように配置し、或いは図４に示したように該片面
に交互に異極が対向するように配置する。こうした電極
の極性の配置は、長尺基体４に成膜される膜の電気特性
により決定され、導電体の膜を形成した場合には、図３
の如く成膜面５ａに各ＣＤマグネトロン放電電極のうち
の陽極の方を対向させると共に陰極の方を長尺基体４の
面５ｂに対向させ、誘電体の膜を形成した場合には、図
４の如く成膜面５ａおよび長尺基体４の面５ｂへ各ＣＤ
マグネトロン放電電極の陽極と陰極とが夫々交互に対向
するように配置する。これにより、長尺成膜基体５の面
に帯電する静電気の種類すなわち正又は負の静電気と逆
の極性のイオンを照射して帯電電位を効率よく下げ、且
つ電位を同種類とすることができる。尚、成膜の方法は
スパッタリング法であってもよい。
複数組を該長尺成膜基体５の移動経路に沿って設け、こ
れらを順次に通過させることで帯電量の大きな静電気を
除去でき、この場合、該長尺成膜基体５の片面に、図３
に示したように各組のＤＣマグネトロン放電電極の同極
が揃うように配置し、或いは図４に示したように該片面
に交互に異極が対向するように配置する。こうした電極
の極性の配置は、長尺基体４に成膜される膜の電気特性
により決定され、導電体の膜を形成した場合には、図３
の如く成膜面５ａに各ＣＤマグネトロン放電電極のうち
の陽極の方を対向させると共に陰極の方を長尺基体４の
面５ｂに対向させ、誘電体の膜を形成した場合には、図
４の如く成膜面５ａおよび長尺基体４の面５ｂへ各ＣＤ
マグネトロン放電電極の陽極と陰極とが夫々交互に対向
するように配置する。これにより、長尺成膜基体５の面
に帯電する静電気の種類すなわち正又は負の静電気と逆
の極性のイオンを照射して帯電電位を効率よく下げ、且
つ電位を同種類とすることができる。尚、成膜の方法は
スパッタリング法であってもよい。
【００１２】
【実施例】［実施例１］真空蒸着室内に用意した厚さ１
２μｍ、幅１６５０ｍｍのポリエチレンテレフタレート
フィルムの長尺基体の片面に、Ａｌ膜を真空蒸着により
成膜して長尺成膜基体５を作製した。該成膜室内には直
流電源１６、１７により４００Ｖの正と負の極性が与え
られた１対のＤＣマグネトロン放電電極７、８を３組設
け、これらの間にロールに巻き取るまでの長尺成膜基体
５を通過させた。
２μｍ、幅１６５０ｍｍのポリエチレンテレフタレート
フィルムの長尺基体の片面に、Ａｌ膜を真空蒸着により
成膜して長尺成膜基体５を作製した。該成膜室内には直
流電源１６、１７により４００Ｖの正と負の極性が与え
られた１対のＤＣマグネトロン放電電極７、８を３組設
け、これらの間にロールに巻き取るまでの長尺成膜基体
５を通過させた。
【００１３】そして、各ＤＣマグネトロン放電電極の極
性が、図４のように該長尺成膜基体５の片面に於いて交
互になるように配置し、各放電電極のケース１０内に５
００SCCMのアルゴンガスを流すと共にボンバード電流を
６．０Ａとした。該長尺成膜基体５の移動速度は２００
ｍ／ｓｅｃ、Ａｌ膜の厚さは４８０Åである。これらの
放電電極を通過したときの該基板５の静電気電位を測定
したところ、Ａｌ膜を形成した成膜面５ａ側が２７０〜
２８０Ｖ、基体側の背面５ｂが−３００〜−３５０Ｖで
あった。この長尺成膜基体５をロール状に巻き取ったと
き、残存する静電気のため基体同士の吸着が著しかっ
た。
性が、図４のように該長尺成膜基体５の片面に於いて交
互になるように配置し、各放電電極のケース１０内に５
００SCCMのアルゴンガスを流すと共にボンバード電流を
６．０Ａとした。該長尺成膜基体５の移動速度は２００
ｍ／ｓｅｃ、Ａｌ膜の厚さは４８０Åである。これらの
放電電極を通過したときの該基板５の静電気電位を測定
したところ、Ａｌ膜を形成した成膜面５ａ側が２７０〜
２８０Ｖ、基体側の背面５ｂが−３００〜−３５０Ｖで
あった。この長尺成膜基体５をロール状に巻き取ったと
き、残存する静電気のため基体同士の吸着が著しかっ
た。
【００１４】次に、各ＤＣマグネトロン放電電極を２組
とし、各放電電極の極性が、図３のように該長尺成膜基
体５の片面に於いて同一になるように配置した。そして
各放電電極のケース１０内に５００SCCMのアルゴンガス
を流すと共にボンバード電流を８．０Ａとした。これら
放電電極の間を５３５Åの厚さでＡｌを形成した長尺成
膜基体５を２００ｍ／ｓｅｃで通過させ、該基体５の静
電気電位を測定したところ、Ａｌ膜を形成した成膜面５
ａ側が−４０〜４５Ｖ、基体側の背面５ｂが−１５〜−
３０Ｖであった。この長尺成膜基体５をロール状に巻き
取ったとき、基体同士の吸着は殆どなかった。
とし、各放電電極の極性が、図３のように該長尺成膜基
体５の片面に於いて同一になるように配置した。そして
各放電電極のケース１０内に５００SCCMのアルゴンガス
を流すと共にボンバード電流を８．０Ａとした。これら
放電電極の間を５３５Åの厚さでＡｌを形成した長尺成
膜基体５を２００ｍ／ｓｅｃで通過させ、該基体５の静
電気電位を測定したところ、Ａｌ膜を形成した成膜面５
ａ側が−４０〜４５Ｖ、基体側の背面５ｂが−１５〜−
３０Ｖであった。この長尺成膜基体５をロール状に巻き
取ったとき、基体同士の吸着は殆どなかった。
【００１５】更に、各ＤＣマグネトロン放電電極を３組
とし、各放電電極の極性が、図３のように該長尺成膜基
体５の片面に於いて同一になるように配置した。そして
各放電電極のケース１０内に５００SCCMのアルゴンガス
を流すと共にボンバード電流を６．０Ａとした。これら
の放電電極の間を４００Åの厚さでＡｌ膜を形成した長
尺成膜基体５を５００ｍ／ｓｅｃの高速で通過させ、該
基体５の静電気電位を測定したところ、Ａｌ膜を形成し
た成膜面５ａ側が−５〜１０Ｖ、基体側の背面５ｂが−
０〜−５Ｖであった。この長尺成膜基体５をロール状に
巻き取ったとき、基体同士の吸着は殆どなかった。
とし、各放電電極の極性が、図３のように該長尺成膜基
体５の片面に於いて同一になるように配置した。そして
各放電電極のケース１０内に５００SCCMのアルゴンガス
を流すと共にボンバード電流を６．０Ａとした。これら
の放電電極の間を４００Åの厚さでＡｌ膜を形成した長
尺成膜基体５を５００ｍ／ｓｅｃの高速で通過させ、該
基体５の静電気電位を測定したところ、Ａｌ膜を形成し
た成膜面５ａ側が−５〜１０Ｖ、基体側の背面５ｂが−
０〜−５Ｖであった。この長尺成膜基体５をロール状に
巻き取ったとき、基体同士の吸着は殆どなかった。
【００１６】［実施例２］２．８×１０-8Torrに排気し
た真空蒸着室内に用意した厚さ１２μｍ、幅１０００ｍ
ｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの長尺基体の
片面に、Ａｌ2Ｏ3の絶縁膜を真空蒸着により成膜して長
尺成膜基体５を作製した。該成膜室内には直流電源１
６、１７によりの正と負の極性が与えられた１対のＤＣ
マグネトロン放電電極７、８を３組設け、これらの間に
ロールに巻き取るまでの長尺成膜基体５を通過させた。
た真空蒸着室内に用意した厚さ１２μｍ、幅１０００ｍ
ｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの長尺基体の
片面に、Ａｌ2Ｏ3の絶縁膜を真空蒸着により成膜して長
尺成膜基体５を作製した。該成膜室内には直流電源１
６、１７によりの正と負の極性が与えられた１対のＤＣ
マグネトロン放電電極７、８を３組設け、これらの間に
ロールに巻き取るまでの長尺成膜基体５を通過させた。
【００１７】そして、各ＤＣマグネトロン放電電極の極
性が、図４のように該長尺成膜基体５の片面に於いて交
互になるように配置し、各放電電極のケース１０内に１
００SCCMのアルゴンガスを流すと共に、該基体５が最初
に通過するＤＣマグネトロン放電電極の電位を±３２６
Ｖ、ボンバード電流を０．６Ａ、２番目の放電電極の電
位を±４３７Ｖ、ボンバード電流を３．８Ａ、３番目の
放電電極の電位を±３２６Ｖ、ボンバード電流を１．５
Ａとした。該長尺成膜基体５の移動速度は１００ｍ／ｓ
ｅｃ、Ａｌ2Ｏ3膜の厚さは１２０Åである。これらの放
電電極を通過したときの該基板５の静電気電位を測定し
たところ、Ａｌ2Ｏ3膜を形成した成膜面５ａ側が５．３
Ｖ、基体側の背面５ｂが９．８Ｖであった。この長尺成
膜基体５をロール状に巻き取ったとき、静電気による基
体同士の吸着即ちべた付きはなかった。
性が、図４のように該長尺成膜基体５の片面に於いて交
互になるように配置し、各放電電極のケース１０内に１
００SCCMのアルゴンガスを流すと共に、該基体５が最初
に通過するＤＣマグネトロン放電電極の電位を±３２６
Ｖ、ボンバード電流を０．６Ａ、２番目の放電電極の電
位を±４３７Ｖ、ボンバード電流を３．８Ａ、３番目の
放電電極の電位を±３２６Ｖ、ボンバード電流を１．５
Ａとした。該長尺成膜基体５の移動速度は１００ｍ／ｓ
ｅｃ、Ａｌ2Ｏ3膜の厚さは１２０Åである。これらの放
電電極を通過したときの該基板５の静電気電位を測定し
たところ、Ａｌ2Ｏ3膜を形成した成膜面５ａ側が５．３
Ｖ、基体側の背面５ｂが９．８Ｖであった。この長尺成
膜基体５をロール状に巻き取ったとき、静電気による基
体同士の吸着即ちべた付きはなかった。
【００１８】次に、前記３組の各ＤＣマグネトロン放電
電極の極性が、図３のように該長尺成膜基体５の片面に
於いて同一になるように配置した。そして各放電電極の
ケース１０内に１００SCCMのアルゴンガスを流すと共
に、該基体５が最初に通過するＤＣマグネトロン放電電
極の電位を±３２７Ｖ、ボンバード電流を０．６Ａ、２
番目の放電電極の電位を±１４５Ｖ、ボンバード電流を
４．０Ａ、３番目の放電電極の電位を±３２７Ｖ、ボン
バード電流を０．６Ａとした。該長尺成膜基体５の移動
速度は１００ｍ／ｓｅｃ、Ａｌ2Ｏ3膜の厚さは１２０Å
である。これらの放電電極を通過したときの該基板５の
静電気電位を測定したところ、Ａｌ2Ｏ3膜を形成した成
膜面５ａ側が２５．４Ｖ、基体側の背面５ｂが−２６．
５Ｖであった。この長尺成膜基体５をロール状に巻き取
ったとき、静電気による基体同士の吸着即ちべた付きが
あった。
電極の極性が、図３のように該長尺成膜基体５の片面に
於いて同一になるように配置した。そして各放電電極の
ケース１０内に１００SCCMのアルゴンガスを流すと共
に、該基体５が最初に通過するＤＣマグネトロン放電電
極の電位を±３２７Ｖ、ボンバード電流を０．６Ａ、２
番目の放電電極の電位を±１４５Ｖ、ボンバード電流を
４．０Ａ、３番目の放電電極の電位を±３２７Ｖ、ボン
バード電流を０．６Ａとした。該長尺成膜基体５の移動
速度は１００ｍ／ｓｅｃ、Ａｌ2Ｏ3膜の厚さは１２０Å
である。これらの放電電極を通過したときの該基板５の
静電気電位を測定したところ、Ａｌ2Ｏ3膜を形成した成
膜面５ａ側が２５．４Ｖ、基体側の背面５ｂが−２６．
５Ｖであった。この長尺成膜基体５をロール状に巻き取
ったとき、静電気による基体同士の吸着即ちべた付きが
あった。
【００１９】
【発明の効果】以上のように本発明によるときは、成膜
された長尺成膜基体の静電気を、極性が異なる１対のＤ
Ｃマグネトロン放電電極間に該長尺成膜基体を通過させ
てその表裏両面の電位をゼロを含む同種の電位とするの
で、形成された膜の種類に応じてこれに帯電した静電気
を除去し、多少の静電気が残存してもその悪影響を被る
こと防止できる効果があり、該極性の異なるＤＣマグネ
トロン放電電極の複数組を設けておくことで帯電量の大
きい静電気を除去でき、長尺成膜基体の片面に同極のＤ
Ｃマグネトロン放電電極を対向させることにより導電体
の膜を形成した長尺成膜基体の除電を効率よく迅速に行
え、該片面に交互に極性の異なるＤＣマグネトロン放電
電極を対向させることで誘電体が成膜された長尺成膜基
体の除電を効率よく迅速に行える。また、請求項５の装
置構成とすることにより本発明の方法を適切に実施でき
る。
された長尺成膜基体の静電気を、極性が異なる１対のＤ
Ｃマグネトロン放電電極間に該長尺成膜基体を通過させ
てその表裏両面の電位をゼロを含む同種の電位とするの
で、形成された膜の種類に応じてこれに帯電した静電気
を除去し、多少の静電気が残存してもその悪影響を被る
こと防止できる効果があり、該極性の異なるＤＣマグネ
トロン放電電極の複数組を設けておくことで帯電量の大
きい静電気を除去でき、長尺成膜基体の片面に同極のＤ
Ｃマグネトロン放電電極を対向させることにより導電体
の膜を形成した長尺成膜基体の除電を効率よく迅速に行
え、該片面に交互に極性の異なるＤＣマグネトロン放電
電極を対向させることで誘電体が成膜された長尺成膜基
体の除電を効率よく迅速に行える。また、請求項５の装
置構成とすることにより本発明の方法を適切に実施でき
る。
【図１】本発明の実施に使用した装置の截断側面図
【図２】図１の要部の拡大断面図
【図３】本発明の方法を誘電体が成膜された長尺成膜基
体に適用した実施の形態を示す線図
体に適用した実施の形態を示す線図
【図４】本発明の方法を導電体が成膜された長尺成膜基
体に適用した実施の形態を示す線図
体に適用した実施の形態を示す線図
４ 長尺基体、５ 長尺成膜基体、５ａ 成膜面、７・
８ １対のＤＣマグネトロン放電電極、１６・１７ 直
流電源、
８ １対のＤＣマグネトロン放電電極、１６・１７ 直
流電源、
Claims (5)
- 【請求項１】蒸着その他により成膜が施された長尺成膜
基体に、プラズマを浴びせて該基体の静電気を除去する
方法に於いて、極性が異なる１対のＤＣマグネトロン放
電電極間に該長尺成膜基体を通過させてその表裏両面の
電位をゼロを含む同種の電位にすることを特徴とする長
尺成膜基体の静電気除去方法。 - 【請求項２】上記極性が異なる１対のＤＣマグネトロン
放電電極の複数組を設け、上記長尺成膜基体を各ＤＣマ
グネトロン放電電極間に順次に通過させることを特徴と
する請求項１に記載の長尺成膜基体の静電気除去方法。 - 【請求項３】上記長尺成膜基体の片面には同極のＤＣマ
グネトロン放電電極を対向させることを特徴とする請求
項２に記載の長尺成膜基体の静電気除去方法。 - 【請求項４】上記長尺成膜基体の片面には交互に極性の
異なるＤＣマグネトロン放電電極を対向させることを特
徴とする請求項２に記載の長尺成膜基体の静電気除去方
法。 - 【請求項５】蒸着その他により成膜が施された長尺成膜
基体の移動経路に沿って、極性が異なる１対のＤＣマグ
ネトロン放電電極を複数組を設けたことを特徴とする長
尺成膜基体の静電気除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000169113A JP4463942B2 (ja) | 2000-06-06 | 2000-06-06 | 長尺成膜基体の静電気除去方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000169113A JP4463942B2 (ja) | 2000-06-06 | 2000-06-06 | 長尺成膜基体の静電気除去方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001351795A true JP2001351795A (ja) | 2001-12-21 |
| JP4463942B2 JP4463942B2 (ja) | 2010-05-19 |
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|---|---|---|---|
| JP2000169113A Expired - Fee Related JP4463942B2 (ja) | 2000-06-06 | 2000-06-06 | 長尺成膜基体の静電気除去方法及び装置 |
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|---|---|
| JP (1) | JP4463942B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002246196A (ja) * | 2001-02-14 | 2002-08-30 | Takayanagi Kenkyusho:Kk | 除電装置 |
| JP2005222925A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-08-18 | Toray Ind Inc | 電気絶縁性シートの除電装置および除電方法、電気絶縁性シートの製造方法、ならびに、電気絶縁性シート |
| JP2006016593A (ja) * | 2004-05-31 | 2006-01-19 | Toray Ind Inc | 電気絶縁性シート、電気絶縁性シートの除電方法、除電装置および製造方法 |
| WO2006080283A1 (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-03 | Toray Industries, Inc. | 電気絶縁性シートの除電装置、除電方法および製造方法 |
| JP2006210160A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Toray Ind Inc | 電気絶縁性シート、その除電方法および製造方法 |
| JP2006236976A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-09-07 | Toray Ind Inc | 電気絶縁性シートの除電装置、除電方法および製造方法。 |
| JP2008012672A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Yushin Precision Equipment Co Ltd | 除電器 |
| US7388736B2 (en) | 2003-07-29 | 2008-06-17 | Toray Industries, Inc. | Static eliminator and a static eliminating method for an insulating sheet, a method for producing and insulating sheet, and an insulating sheet |
| CN110178238A (zh) * | 2017-01-11 | 2019-08-27 | 应用材料公司 | 用于处理基板的方法和设备 |
-
2000
- 2000-06-06 JP JP2000169113A patent/JP4463942B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002246196A (ja) * | 2001-02-14 | 2002-08-30 | Takayanagi Kenkyusho:Kk | 除電装置 |
| JP2005222925A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-08-18 | Toray Ind Inc | 電気絶縁性シートの除電装置および除電方法、電気絶縁性シートの製造方法、ならびに、電気絶縁性シート |
| US7388736B2 (en) | 2003-07-29 | 2008-06-17 | Toray Industries, Inc. | Static eliminator and a static eliminating method for an insulating sheet, a method for producing and insulating sheet, and an insulating sheet |
| JP2010287579A (ja) * | 2003-07-29 | 2010-12-24 | Toray Ind Inc | 電気絶縁性シートの除電方法、電気絶縁性シートの製造方法、ならびに、電気絶縁性シート |
| EP1503614A3 (en) * | 2003-07-29 | 2014-10-01 | Toray Industries, Inc. | A static eliminator and a static eliminating method for an insulating sheet |
| JP2006016593A (ja) * | 2004-05-31 | 2006-01-19 | Toray Ind Inc | 電気絶縁性シート、電気絶縁性シートの除電方法、除電装置および製造方法 |
| WO2006080283A1 (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-03 | Toray Industries, Inc. | 電気絶縁性シートの除電装置、除電方法および製造方法 |
| JP2006210160A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Toray Ind Inc | 電気絶縁性シート、その除電方法および製造方法 |
| JP2006236976A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-09-07 | Toray Ind Inc | 電気絶縁性シートの除電装置、除電方法および製造方法。 |
| JP2008012672A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Yushin Precision Equipment Co Ltd | 除電器 |
| CN110178238A (zh) * | 2017-01-11 | 2019-08-27 | 应用材料公司 | 用于处理基板的方法和设备 |
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