JP2001347220A - 高分子フィルムシートの製造方法、製造装置、及び光学用高分子フィルムシート - Google Patents
高分子フィルムシートの製造方法、製造装置、及び光学用高分子フィルムシートInfo
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Landscapes
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面に凹凸を持つ高分子シートの連続製造
法、製造装置及びこれを用いた光学用高分子シートを提
供すること。 【解決手段】 高分子フィルムシート原反上に紫外線硬
化性樹脂組成物を塗布またはラミネートし、該紫外線硬
化性樹脂組成物が軟化した状態で凹凸の形状を有するロ
ールに密着させて紫外線を照射し、ロール凹凸面を転
写、成形する高分子フィルムシートの製造方法。
法、製造装置及びこれを用いた光学用高分子シートを提
供すること。 【解決手段】 高分子フィルムシート原反上に紫外線硬
化性樹脂組成物を塗布またはラミネートし、該紫外線硬
化性樹脂組成物が軟化した状態で凹凸の形状を有するロ
ールに密着させて紫外線を照射し、ロール凹凸面を転
写、成形する高分子フィルムシートの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高分子フィルムシ
ートの製造方法に於いて、任意の凹凸面を成形した高分
子フィルムシートを効率良く製造する方法と、これを製
造する装置、並びにこれを用いて製造した光学用高分子
フィルムシートに関するものである。
ートの製造方法に於いて、任意の凹凸面を成形した高分
子フィルムシートを効率良く製造する方法と、これを製
造する装置、並びにこれを用いて製造した光学用高分子
フィルムシートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】薄型軽量な表示装置として、液晶表示素
子が種々の機器に使用されている。液晶表示素子には、
偏光フィルム、位相差フィルム、マイクロプリズムシー
ト等の種々の高分子フィルムシートが使用されている。
さらに最近では、より軽量で割れにくい液晶表示素子を
製造するために、透明電極基板に光学用高分子フィルム
シートを用いて液晶表示素子を作製することも行われて
いる。これらのうち、マイクロプリズムシートには、プ
リズムの役となる微細な凹凸が設けられている。また、
偏光板においても微細なプリズム状の形状を形成して偏
光の分離を行う方法が提案されている。さらに、透明電
極基板についても、微細な凹凸形状を形成して液晶の配
向を制御することが提案されている。
子が種々の機器に使用されている。液晶表示素子には、
偏光フィルム、位相差フィルム、マイクロプリズムシー
ト等の種々の高分子フィルムシートが使用されている。
さらに最近では、より軽量で割れにくい液晶表示素子を
製造するために、透明電極基板に光学用高分子フィルム
シートを用いて液晶表示素子を作製することも行われて
いる。これらのうち、マイクロプリズムシートには、プ
リズムの役となる微細な凹凸が設けられている。また、
偏光板においても微細なプリズム状の形状を形成して偏
光の分離を行う方法が提案されている。さらに、透明電
極基板についても、微細な凹凸形状を形成して液晶の配
向を制御することが提案されている。
【０００３】上記のような微細な凹凸を成形する方法と
しては凹凸を有する金型に液状の紫外線硬化性樹脂組成
物を流延し紫外線を照射することや、液状の熱硬化性樹
脂を基材上に塗布した後に凹凸を有する金型を圧着しな
がら加熱硬化する方法が用いられている。しかし、この
ような枚葉処理の方法は生産性が低いという問題があ
る。
しては凹凸を有する金型に液状の紫外線硬化性樹脂組成
物を流延し紫外線を照射することや、液状の熱硬化性樹
脂を基材上に塗布した後に凹凸を有する金型を圧着しな
がら加熱硬化する方法が用いられている。しかし、この
ような枚葉処理の方法は生産性が低いという問題があ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、微細な凹凸を有する、液晶表示素子用基板等の
光学用高分子フィルムシートとして優れた特性を持つ高
分子フィルムシートを効率よく連続生産可能である製造
方法、製造装置と、本方法に適した樹脂を用いることに
より前記特性の良好な光学用高分子フィルムシートおよ
び液晶表示素子向け透明電極基板用高分子フィルムシー
トを提供することにある。
ころは、微細な凹凸を有する、液晶表示素子用基板等の
光学用高分子フィルムシートとして優れた特性を持つ高
分子フィルムシートを効率よく連続生産可能である製造
方法、製造装置と、本方法に適した樹脂を用いることに
より前記特性の良好な光学用高分子フィルムシートおよ
び液晶表示素子向け透明電極基板用高分子フィルムシー
トを提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、（１）高分子
フィルムシート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布
またはラミネートし、該紫外線硬化性樹脂組成物が軟化
した状態で凹凸の形状を有するロールに密着させて紫外
線を照射し、ロール凹凸面を転写、成形する高分子フィ
ルムシートの製造方法、（２）該平滑面を有するロール
が中空の紫外線を透過する透明ロールであり、ロール中
に紫外線光源を有するものである第（１）項記載の高分
子フィルムシートの製造方法、（３）該高分子フィルム
シート原反が紫外線を透過する透明なフィルムシート原
反であり、ロールに密着させた状態で高分子フィルムシ
ート原反のロール接触面の反対側から紫外線を照射する
第（１）項記載の高分子フィルムシートの製造方法、
（４）凹凸面を有し中空である紫外線を透過する透明ロ
ールと、該透明ロール中空部に紫外線光源が設置されて
いる紫外線露光部を有する高分子フィルムシートの製造
装置、（５）第（１）〜（３）いずれか記載の高分子フ
ィルムシートの製造方法を用いて製造した光学用高分子
フィルムシート、（６）高分子がポリエーテルスルホン
である第（５）項記載の光学用高分子フィルムシート、
（７）第（５）項記載の光学用高分子フィルムシートを
用いた透明電極基板用高分子フィルムシート、（８）高
分子がポリエーテルスルホンである第（７）項記載の透
明電極基板用高分子フィルムシート、である。
フィルムシート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布
またはラミネートし、該紫外線硬化性樹脂組成物が軟化
した状態で凹凸の形状を有するロールに密着させて紫外
線を照射し、ロール凹凸面を転写、成形する高分子フィ
ルムシートの製造方法、（２）該平滑面を有するロール
が中空の紫外線を透過する透明ロールであり、ロール中
に紫外線光源を有するものである第（１）項記載の高分
子フィルムシートの製造方法、（３）該高分子フィルム
シート原反が紫外線を透過する透明なフィルムシート原
反であり、ロールに密着させた状態で高分子フィルムシ
ート原反のロール接触面の反対側から紫外線を照射する
第（１）項記載の高分子フィルムシートの製造方法、
（４）凹凸面を有し中空である紫外線を透過する透明ロ
ールと、該透明ロール中空部に紫外線光源が設置されて
いる紫外線露光部を有する高分子フィルムシートの製造
装置、（５）第（１）〜（３）いずれか記載の高分子フ
ィルムシートの製造方法を用いて製造した光学用高分子
フィルムシート、（６）高分子がポリエーテルスルホン
である第（５）項記載の光学用高分子フィルムシート、
（７）第（５）項記載の光学用高分子フィルムシートを
用いた透明電極基板用高分子フィルムシート、（８）高
分子がポリエーテルスルホンである第（７）項記載の透
明電極基板用高分子フィルムシート、である。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法および製造装置
を用いることにより、高分子フィルムシートに連続的に
微細な凹凸を成形することにより、効率的に光学用高分
子フィルムシートを製造することが可能である。特に液
晶表示素子向け透明電極基板を高分子フィルムシートで
作る場合は、枚葉処理で作らざるを得ないガラス製基板
に対して、ロール・ツー・ロールでの連続加工が可能で
あるという高分子フィルムの特徴を活かすことができ
る。さらに、透明電極基板とプリズムシートを１枚で兼
用する高分子フィルムシートを製造することも可能にな
り、結果として高分子フィルムシートを透明電極基板に
用いた液晶表示素子を、より効率よく製造することがで
きる。
を用いることにより、高分子フィルムシートに連続的に
微細な凹凸を成形することにより、効率的に光学用高分
子フィルムシートを製造することが可能である。特に液
晶表示素子向け透明電極基板を高分子フィルムシートで
作る場合は、枚葉処理で作らざるを得ないガラス製基板
に対して、ロール・ツー・ロールでの連続加工が可能で
あるという高分子フィルムの特徴を活かすことができ
る。さらに、透明電極基板とプリズムシートを１枚で兼
用する高分子フィルムシートを製造することも可能にな
り、結果として高分子フィルムシートを透明電極基板に
用いた液晶表示素子を、より効率よく製造することがで
きる。
【０００７】本発明中の高分子フィルムシート原反とし
て使用される高分子の例を挙げると、ポリエステル、ポ
リスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケト
ン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドした
樹脂等をあげることができるがこれらに限定されるもの
ではない。中でも液晶表示素子製造上、透明性、耐熱
性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエーテルス
ルホンが特に好ましい。高分子フィルムシート原反の厚
みは、１０μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、更に好
ましくは５０μｍ以上４００μｍ以下である。高分子フ
ィルムシートの厚みが１０μｍ未満であると切れやすく
取り扱いが困難であり、又、液晶表示素子の基板間隔の
保持が難しく、５００μｍを越えるとロールへの密着が
困難となる。
て使用される高分子の例を挙げると、ポリエステル、ポ
リスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケト
ン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドした
樹脂等をあげることができるがこれらに限定されるもの
ではない。中でも液晶表示素子製造上、透明性、耐熱
性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエーテルス
ルホンが特に好ましい。高分子フィルムシート原反の厚
みは、１０μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、更に好
ましくは５０μｍ以上４００μｍ以下である。高分子フ
ィルムシートの厚みが１０μｍ未満であると切れやすく
取り扱いが困難であり、又、液晶表示素子の基板間隔の
保持が難しく、５００μｍを越えるとロールへの密着が
困難となる。
【０００８】本発明で用いられる紫外線硬化性樹脂組成
物の例を挙げると、アクリレート化合物等を主成分とし
た液状の紫外線硬化性樹脂組成物やエポキシ樹脂や不飽
和ポリエステル樹脂を主成分としたシート状の紫外線硬
化性樹脂組成物等である。前者の場合は塗布装置により
高分子フィルムシート原反上に塗布し、溶剤を含む場合
には乾燥装置により溶剤を揮発させ、後者の場合には高
分子フィルムシート原反上にラミネートする。
物の例を挙げると、アクリレート化合物等を主成分とし
た液状の紫外線硬化性樹脂組成物やエポキシ樹脂や不飽
和ポリエステル樹脂を主成分としたシート状の紫外線硬
化性樹脂組成物等である。前者の場合は塗布装置により
高分子フィルムシート原反上に塗布し、溶剤を含む場合
には乾燥装置により溶剤を揮発させ、後者の場合には高
分子フィルムシート原反上にラミネートする。
【０００９】本発明において表面に紫外線硬化性樹脂組
成物を有した高分子フィルムシートを表面に凹凸の形状
を有するロールに密着させる際には、その凹凸が十分に
紫外線硬化性樹脂組成物表面に転写されるよう、紫外線
硬化性樹脂組成物は軟化または液化していなければなら
ない。紫外線硬化性樹脂組成物には、溶剤を含まなくて
も室温で軟化しているものや液状のものも有るが、そう
でない場合は密着する前にヒーター等により加熱を行う
か、平滑面を有するロールを加熱しておき密着と同時に
軟化させることが必要である。密着させる方法として
は、ニップロールや帯電固定等の方法が挙げられるがこ
れらに限定されるものではない。
成物を有した高分子フィルムシートを表面に凹凸の形状
を有するロールに密着させる際には、その凹凸が十分に
紫外線硬化性樹脂組成物表面に転写されるよう、紫外線
硬化性樹脂組成物は軟化または液化していなければなら
ない。紫外線硬化性樹脂組成物には、溶剤を含まなくて
も室温で軟化しているものや液状のものも有るが、そう
でない場合は密着する前にヒーター等により加熱を行う
か、平滑面を有するロールを加熱しておき密着と同時に
軟化させることが必要である。密着させる方法として
は、ニップロールや帯電固定等の方法が挙げられるがこ
れらに限定されるものではない。
【００１０】本発明において表面に紫外線硬化性樹脂組
成物を有した高分子フィルムシートを密着させる表面に
凹凸の形状を有するロールは、製品として得る高分子フ
ィルムシートの凸部に対応する凹部を形成したものであ
る。凹部を形成したロールは石英ガラス管や金属ロール
の表面にフォトリソグラフィー等によりパターンをエッ
チングすることで製造できる。
成物を有した高分子フィルムシートを密着させる表面に
凹凸の形状を有するロールは、製品として得る高分子フ
ィルムシートの凸部に対応する凹部を形成したものであ
る。凹部を形成したロールは石英ガラス管や金属ロール
の表面にフォトリソグラフィー等によりパターンをエッ
チングすることで製造できる。
【００１１】本発明において表面に凹凸の形状を有する
ロールとして石英ガラス管等のように紫外線を透過する
透明な中空ロールを用いることにより、ロール内部に高
圧水銀灯等の紫外線光源を設置することにより紫外線硬
化性樹脂組成物を硬化させることができ、これによりロ
ール凹凸面を転写した状態で高分子フィルムシート原反
上の紫外線硬化性樹脂層を硬化して凹凸面を成形した高
分子フィルムシートを製造することができる。
ロールとして石英ガラス管等のように紫外線を透過する
透明な中空ロールを用いることにより、ロール内部に高
圧水銀灯等の紫外線光源を設置することにより紫外線硬
化性樹脂組成物を硬化させることができ、これによりロ
ール凹凸面を転写した状態で高分子フィルムシート原反
上の紫外線硬化性樹脂層を硬化して凹凸面を成形した高
分子フィルムシートを製造することができる。
【００１２】本発明において表面に凹凸の形状を有する
ロールとしてクロムメッキロール、ステンレスロール等
の不透明なものを用いる場合、高分子フィルムシート原
反として紫外線を透過するものを用い、紫外線硬化性樹
脂組成物を有した面と反対の面から紫外線を照射するこ
とにより、前記と同様に表面が平滑な高分子シートを製
造することができる。この場合、高分子シート原反に使
用できるものは透明性を有するものに限られるが、多く
の高分子シートは透明性を有するものであり、この方法
についても産業上極めて有用なものである。以上のよう
にして製造される光学用高分子フィルムシートは、液晶
表示素子向け透明基板用やプリズムシート等として有用
なものである。
ロールとしてクロムメッキロール、ステンレスロール等
の不透明なものを用いる場合、高分子フィルムシート原
反として紫外線を透過するものを用い、紫外線硬化性樹
脂組成物を有した面と反対の面から紫外線を照射するこ
とにより、前記と同様に表面が平滑な高分子シートを製
造することができる。この場合、高分子シート原反に使
用できるものは透明性を有するものに限られるが、多く
の高分子シートは透明性を有するものであり、この方法
についても産業上極めて有用なものである。以上のよう
にして製造される光学用高分子フィルムシートは、液晶
表示素子向け透明基板用やプリズムシート等として有用
なものである。
【００１３】
【実施例】以下本発明を実施例、比較例、図面によって
説明するが、本発明は実施例により何ら限定されるもの
ではない。 高分子フィルムシートの光学的物性は次の方法により評
価した。 （１）厚み 接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に２０ｍ
ｍ間隔で測定した平均値。 （２）高分子フィルムシートの表面の形状 非接触式３次元表面形状解析顕微鏡（Zygo製、New View
5030）によりフィルムシート幅方向に中央部および左
右に１００ｍｍ離れた点の計３点を、１．５ｍｍ×１．
０ｍｍの視野で観察。 （３）ロール面の形状 （株）ミツトヨ製接触式表面粗さ計により、ロールの幅
方向に中央部および左右に１００ｍｍ離れた点の計３点
を長さ１．０ｍｍにて測定したときの測定チャートを観
察。
説明するが、本発明は実施例により何ら限定されるもの
ではない。 高分子フィルムシートの光学的物性は次の方法により評
価した。 （１）厚み 接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に２０ｍ
ｍ間隔で測定した平均値。 （２）高分子フィルムシートの表面の形状 非接触式３次元表面形状解析顕微鏡（Zygo製、New View
5030）によりフィルムシート幅方向に中央部および左
右に１００ｍｍ離れた点の計３点を、１．５ｍｍ×１．
０ｍｍの視野で観察。 （３）ロール面の形状 （株）ミツトヨ製接触式表面粗さ計により、ロールの幅
方向に中央部および左右に１００ｍｍ離れた点の計３点
を長さ１．０ｍｍにて測定したときの測定チャートを観
察。
【００１４】《実施例１》厚さ２００μｍ幅４００ｍｍ
のポリエーテルスルホンを高分子フィルムシート原反と
して用い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、内
部に高圧水銀灯を有する表面に凹凸を有する中空石英ガ
ラスロール、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加
工を行った。まず、紫外線硬化性樹脂組成物として分子
量１５４０融点７０℃のエポキシアクリレートプレポリ
マー（昭和高分子製、ＶＲ−６０）１００重量部、酢酸
ブチル３００重量部，セロソルブアセテート１００重量
部，ベンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃にて撹
拌、溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラ
ビヤロールコーターで乾燥前膜厚２０μｍで塗布し、加
熱乾燥ゾーン中１５０℃で５分間加熱して溶媒を除去し
た。溶媒除去後の紫外線硬化性樹脂組成物はペースト状
の軟化状態であった。続いて図１に示したように、ゴム
製ニップロール（１）を用いて、直径３００ｍｍで、表
面に周方向に幅０．３μｍ深さ０．２μｍである溝を全
面に成形した内部に８０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯（３）を
有する中空石英ガラスロール（２）に密着させて紫外線
を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、巻取装
置で巻き取って高分子シート（６）を連続的に得た。紫
外線の照射時間は４０秒間であった。得られた高分子フ
ィルムのロール面に接した面の形状を観察したところ、
ロール表面形状を転写したものであった。次に、この高
分子フィルムを５０ｃｍ×５０ｃｍのシートに切断し、
ロール表面形状を転写した側に、ＤＣマグネトロン法に
より、初期真空度３×１０-4Ｐａの状態から酸素／アル
ゴンガス９％の混合ガスを導入して３×１０-1Ｐａの条
件下においてスパッタリングを行い５００Å厚のＳｉＯ
２を得た。続いて、透明導電膜として、同じくＤＣマグ
ネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａの状態から
酸素／アルゴンガス４％の混合ガスを導入して１×１０
-1Ｐａの条件下においてスパッタリングを行いＩｎ／
（Ｉｎ＋Ｓｎ）の原子比が０．９８である酸化インジウ
ム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得た。測定の結
果、膜厚は１６００Å、非抵抗は４×１０-4Ω−ｃｍで
あった。ＩＴＯを成膜後、レジストを塗布して現像し、
エッチング液として１０ｖｏｌ％ＨＣＬ、液温４０℃中
でパターンエッチングし、対角長さ３インチ、Ｌ／Ｓ＝
１５０／５０μｍの表示パターンを形成した。パターン
形成後、短絡防止のトップコートを塗布・硬化して成膜
した。配向膜は成膜せずに、一方の基板にはスペーサー
を散布し、他方にはシール材を塗布し、基板の凹凸パタ
ーンが直交するようにはり合わせて１３０℃でシール材
を硬化させてセル化し、ＴＮ用液晶組成物を加熱して等
方性状態で注入した。室温まで徐冷後、偏光板をコント
ラストの最大となる位置に貼り合わせて液晶表示素子を
作製した。この液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖ
で点灯試験を行ったところ、液晶の配向異常による表示
ムラは見られず良好な表示を示した。
のポリエーテルスルホンを高分子フィルムシート原反と
して用い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、内
部に高圧水銀灯を有する表面に凹凸を有する中空石英ガ
ラスロール、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加
工を行った。まず、紫外線硬化性樹脂組成物として分子
量１５４０融点７０℃のエポキシアクリレートプレポリ
マー（昭和高分子製、ＶＲ−６０）１００重量部、酢酸
ブチル３００重量部，セロソルブアセテート１００重量
部，ベンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃にて撹
拌、溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラ
ビヤロールコーターで乾燥前膜厚２０μｍで塗布し、加
熱乾燥ゾーン中１５０℃で５分間加熱して溶媒を除去し
た。溶媒除去後の紫外線硬化性樹脂組成物はペースト状
の軟化状態であった。続いて図１に示したように、ゴム
製ニップロール（１）を用いて、直径３００ｍｍで、表
面に周方向に幅０．３μｍ深さ０．２μｍである溝を全
面に成形した内部に８０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯（３）を
有する中空石英ガラスロール（２）に密着させて紫外線
を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、巻取装
置で巻き取って高分子シート（６）を連続的に得た。紫
外線の照射時間は４０秒間であった。得られた高分子フ
ィルムのロール面に接した面の形状を観察したところ、
ロール表面形状を転写したものであった。次に、この高
分子フィルムを５０ｃｍ×５０ｃｍのシートに切断し、
ロール表面形状を転写した側に、ＤＣマグネトロン法に
より、初期真空度３×１０-4Ｐａの状態から酸素／アル
ゴンガス９％の混合ガスを導入して３×１０-1Ｐａの条
件下においてスパッタリングを行い５００Å厚のＳｉＯ
２を得た。続いて、透明導電膜として、同じくＤＣマグ
ネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａの状態から
酸素／アルゴンガス４％の混合ガスを導入して１×１０
-1Ｐａの条件下においてスパッタリングを行いＩｎ／
（Ｉｎ＋Ｓｎ）の原子比が０．９８である酸化インジウ
ム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得た。測定の結
果、膜厚は１６００Å、非抵抗は４×１０-4Ω−ｃｍで
あった。ＩＴＯを成膜後、レジストを塗布して現像し、
エッチング液として１０ｖｏｌ％ＨＣＬ、液温４０℃中
でパターンエッチングし、対角長さ３インチ、Ｌ／Ｓ＝
１５０／５０μｍの表示パターンを形成した。パターン
形成後、短絡防止のトップコートを塗布・硬化して成膜
した。配向膜は成膜せずに、一方の基板にはスペーサー
を散布し、他方にはシール材を塗布し、基板の凹凸パタ
ーンが直交するようにはり合わせて１３０℃でシール材
を硬化させてセル化し、ＴＮ用液晶組成物を加熱して等
方性状態で注入した。室温まで徐冷後、偏光板をコント
ラストの最大となる位置に貼り合わせて液晶表示素子を
作製した。この液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖ
で点灯試験を行ったところ、液晶の配向異常による表示
ムラは見られず良好な表示を示した。
【００１５】《実施例２》厚さ１００μｍ幅４００ｍｍ
のポリカーボネートを用い、巻出装置、コーター部、加
熱乾燥ゾーン、直径４００ｍｍの表面に凹凸を有するク
ロムメッキロールとこのロール面に向けて照射を行う８
０ｗ／ｃｍの出力の高圧水銀灯、巻取装置を有する製造
装置を用いて次の加工を行った。まず、実施例１と同様
にして紫外線硬化性樹脂組成物の塗布〜乾燥を行った。
続いてゴム製ニップロールを用いて温度を５０℃に制御
した表面に周方向に５０μｍ×５０μｍ×深さ２０μｍ
である四角錐型の溝を全面に成形した直径４００ｍｍの
クロムメッキロール面に密着させて８０ｗ／ｃｍの出力
の高圧水銀灯で紫外線硬化性樹脂組成物の塗布面と逆の
面から紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化
させ、巻取装置で巻き取って高分子シートを連続的に得
た。紫外線の照射時間は３０秒間であった。得られた高
分子フィルムのロール面に接した面の形状を観察したと
ころ、ロール表面形状を転写したものであった。この高
分子フィルムを透過型液晶表示素子の裏面に組み込んだ
所、正面から見たときの表示が、高分子フィルムを組み
込まないときより明るくなった。
のポリカーボネートを用い、巻出装置、コーター部、加
熱乾燥ゾーン、直径４００ｍｍの表面に凹凸を有するク
ロムメッキロールとこのロール面に向けて照射を行う８
０ｗ／ｃｍの出力の高圧水銀灯、巻取装置を有する製造
装置を用いて次の加工を行った。まず、実施例１と同様
にして紫外線硬化性樹脂組成物の塗布〜乾燥を行った。
続いてゴム製ニップロールを用いて温度を５０℃に制御
した表面に周方向に５０μｍ×５０μｍ×深さ２０μｍ
である四角錐型の溝を全面に成形した直径４００ｍｍの
クロムメッキロール面に密着させて８０ｗ／ｃｍの出力
の高圧水銀灯で紫外線硬化性樹脂組成物の塗布面と逆の
面から紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化
させ、巻取装置で巻き取って高分子シートを連続的に得
た。紫外線の照射時間は３０秒間であった。得られた高
分子フィルムのロール面に接した面の形状を観察したと
ころ、ロール表面形状を転写したものであった。この高
分子フィルムを透過型液晶表示素子の裏面に組み込んだ
所、正面から見たときの表示が、高分子フィルムを組み
込まないときより明るくなった。
【００１６】《比較例１》実施例１において、巻出装
置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、内部に高圧水銀灯を
有する中空石英ガラスロール、巻取装置を有する製造装
置の代わりに、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾー
ン、塗布を行う側の面に紫外線を照射する高圧水銀灯、
巻取装置を有する製造装置を用い、内部に高圧水銀灯を
有する中空石英ガラスロールに密着させずに紫外線硬化
性樹脂組成物の塗布面側から８０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯
で４０秒間紫外線を照射した以外は実施例１と同様に加
工を行い高分子シートを連続的に得た。得られた高分子
シートの紫外線硬化性樹脂組成物塗布面を観察したとこ
ろ、Ｒｍａｘ０．２μｍ程度の表面粗さを持つ平坦面で
あった。以下実施例と同様にして液晶表示素子を作成し
た。この液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖで点灯
試験を行ったところ、電圧が０Ｖに近い側で液晶の配向
異常による表示ムラが見られた。
置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、内部に高圧水銀灯を
有する中空石英ガラスロール、巻取装置を有する製造装
置の代わりに、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾー
ン、塗布を行う側の面に紫外線を照射する高圧水銀灯、
巻取装置を有する製造装置を用い、内部に高圧水銀灯を
有する中空石英ガラスロールに密着させずに紫外線硬化
性樹脂組成物の塗布面側から８０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯
で４０秒間紫外線を照射した以外は実施例１と同様に加
工を行い高分子シートを連続的に得た。得られた高分子
シートの紫外線硬化性樹脂組成物塗布面を観察したとこ
ろ、Ｒｍａｘ０．２μｍ程度の表面粗さを持つ平坦面で
あった。以下実施例と同様にして液晶表示素子を作成し
た。この液晶表示素子を駆動電圧０Ｖから±５Ｖで点灯
試験を行ったところ、電圧が０Ｖに近い側で液晶の配向
異常による表示ムラが見られた。
【００１７】実施例１および２で製造した高分子シート
を用いて作製した液晶表示素子はいずれも良好な表示を
示した。即ち、実施例１および２では平滑性の良好な光
学用高分子シートを得ることができた。これに対して比
較例では凹凸面を有するロールに密着させずに紫外線を
照射して紫外線硬化性樹脂を硬化したために通常の平坦
面を持つ高分子シートしか得られなかったため、配向制
御を行うことができずに液晶表示素子を作製した場合に
は表示ムラを発生した。
を用いて作製した液晶表示素子はいずれも良好な表示を
示した。即ち、実施例１および２では平滑性の良好な光
学用高分子シートを得ることができた。これに対して比
較例では凹凸面を有するロールに密着させずに紫外線を
照射して紫外線硬化性樹脂を硬化したために通常の平坦
面を持つ高分子シートしか得られなかったため、配向制
御を行うことができずに液晶表示素子を作製した場合に
は表示ムラを発生した。
【００１８】
【発明の効果】本発明の製造方法及び製造装置を用いる
ことにより、凹凸により機能を発揮する光学用高分子フ
ィルムシートを安定して、効率よく連続製造することが
できる。また、本発明により得られたフィルムシートは
光学用高分子フィルムシートとして最適で、液晶表示素
子用透明電極基板として液晶表示素子を作製した場合、
ガラス基板に比べて軽く割れにくいだけでなく製造工程
を短縮可能であり、さらに表示ムラのない良好な表示を
示した。
ことにより、凹凸により機能を発揮する光学用高分子フ
ィルムシートを安定して、効率よく連続製造することが
できる。また、本発明により得られたフィルムシートは
光学用高分子フィルムシートとして最適で、液晶表示素
子用透明電極基板として液晶表示素子を作製した場合、
ガラス基板に比べて軽く割れにくいだけでなく製造工程
を短縮可能であり、さらに表示ムラのない良好な表示を
示した。
【図１】実施例１で用いた製造装置の一部の断面の概略
図
図
１．・・・ゴム製ニップロール ２．・・・表面に凹凸を有する中空石英ガラスロール ３．・・・高圧水銀灯（ウォータージャケット付） ４．・・・反射板 ５．・・・剥離用ロール ６．・・・高分子シート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＥＺ Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＥＺＺ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ // Ｂ２９Ｋ 81:00 Ｂ２９Ｋ 81:00 101:10 101:10 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 11:00 11:00 Ｃ０８Ｌ 81:06 Ｃ０８Ｌ 81:06 Ｆターム(参考） 2H090 JA02 JB03 JC03 JC07 KA05 LA01 LA02 4D075 AC43 BB06X BB46Z CA47 DA04 DB44 DC22 EA05 EA21 4F006 AA40 AB34 AB42 AB43 BA15 CA05 DA04 EA03 4F204 AA44 AD05 AD08 AG03 AH33 EA03 EB02 EB13 EF23 EK03 EK17 EK18
Claims (8)
- 【請求項１】高分子フィルムシート原反上に紫外線硬化
性樹脂組成物を塗布またはラミネートし、該紫外線硬化
性樹脂組成物が軟化した状態で凹凸の形状を有するロー
ルに密着させて紫外線を照射し、ロール凹凸面を転写、
成形することを特徴とする高分子フィルムシートの製造
方法。 - 【請求項２】該平滑面を有するロールが中空の紫外線を
透過する透明ロールであり、ロール中に紫外線光源を有
するものである請求項１記載の高分子フィルムシートの
製造方法。 - 【請求項３】該高分子フィルムシート原反が紫外線を透
過する透明なフィルムシート原反であり、ロールに密着
させた状態で高分子フィルムシート原反のロール接触面
の反対側から紫外線を照射する請求項１記載の高分子フ
ィルムシートの製造方法。 - 【請求項４】凹凸面を有し中空である紫外線を透過する
透明ロールと、該透明ロール中空部に紫外線光源が設置
されている紫外線露光部を有する高分子フィルムシート
の製造装置。 - 【請求項５】請求項１〜３いずれか記載の高分子フィル
ムシートの製造方法を用いて製造した光学用高分子フィ
ルムシート。 - 【請求項６】高分子がポリエーテルスルホンである請求
項５記載の光学用高分子フィルムシート。 - 【請求項７】請求項５記載の光学用高分子フィルムシー
トを用いた透明電極基板用高分子フィルムシート。 - 【請求項８】高分子がポリエーテルスルホンである請求
項７記載の透明電極基板用高分子フィルムシート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000168019A JP2001347220A (ja) | 2000-06-05 | 2000-06-05 | 高分子フィルムシートの製造方法、製造装置、及び光学用高分子フィルムシート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000168019A JP2001347220A (ja) | 2000-06-05 | 2000-06-05 | 高分子フィルムシートの製造方法、製造装置、及び光学用高分子フィルムシート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001347220A true JP2001347220A (ja) | 2001-12-18 |
Family
ID=18671088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000168019A Pending JP2001347220A (ja) | 2000-06-05 | 2000-06-05 | 高分子フィルムシートの製造方法、製造装置、及び光学用高分子フィルムシート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001347220A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007034643A1 (ja) * | 2005-09-20 | 2007-03-29 | Konica Minolta Opto, Inc. | 凹凸パターンフィルムの形成方法 |
| JP2007083447A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Fujifilm Corp | 凹凸状シートの製造方法及び装置 |
| WO2007040023A1 (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-12 | Konica Minolta Opto, Inc. | 凹凸パターンフイルムの製造方法及び製造装置 |
| JP2007098742A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Konica Minolta Opto Inc | 凹凸パターンフイルムの製造方法 |
| JP2007106025A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Fujifilm Corp | 凹凸状シートの製造方法及び装置 |
| JP2009208282A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プラスチックシート |
| CN102331592A (zh) * | 2010-07-14 | 2012-01-25 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 光学膜制造装置和制造方法 |
| JP2013010901A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Hitachi Chemical Co Ltd | ロール状に巻かれた形状付きフィルム及びその製造方法 |
| CN111356665A (zh) * | 2017-11-24 | 2020-06-30 | 日本电气硝子株式会社 | 带透明导电膜的玻璃片材、带透明导电膜的玻璃卷及其制造方法 |
-
2000
- 2000-06-05 JP JP2000168019A patent/JP2001347220A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007034643A1 (ja) * | 2005-09-20 | 2007-03-29 | Konica Minolta Opto, Inc. | 凹凸パターンフィルムの形成方法 |
| JP2007083447A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Fujifilm Corp | 凹凸状シートの製造方法及び装置 |
| JP4888392B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2012-02-29 | コニカミノルタオプト株式会社 | 防眩性反射防止フィルムの形成方法及び防眩性反射防止フィルム |
| WO2007040023A1 (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-12 | Konica Minolta Opto, Inc. | 凹凸パターンフイルムの製造方法及び製造装置 |
| JP2007098742A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Konica Minolta Opto Inc | 凹凸パターンフイルムの製造方法 |
| JP2007106025A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Fujifilm Corp | 凹凸状シートの製造方法及び装置 |
| JP2009208282A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プラスチックシート |
| CN102331592A (zh) * | 2010-07-14 | 2012-01-25 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 光学膜制造装置和制造方法 |
| JP2013010901A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Hitachi Chemical Co Ltd | ロール状に巻かれた形状付きフィルム及びその製造方法 |
| CN111356665A (zh) * | 2017-11-24 | 2020-06-30 | 日本电气硝子株式会社 | 带透明导电膜的玻璃片材、带透明导电膜的玻璃卷及其制造方法 |
| CN111356665B (zh) * | 2017-11-24 | 2022-09-20 | 日本电气硝子株式会社 | 带透明导电膜的玻璃片材、带透明导电膜的玻璃卷及其制造方法 |
| US12145876B2 (en) | 2017-11-24 | 2024-11-19 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Transparent conductive film-attached glass sheet, transparent conductive film-attached glass roll, and manufacturing method therefor |
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